CN204183374U - 一种获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备 - Google Patents

Abstract

一种获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其包括沿砖坯传送方向上依次排布的使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机、使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机和使用抛光片作为抛光磨具的抛光机；所述弹性模块的抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述研磨擦上设有用于抛磨的刷毛；所述刷毛是由硬质塑料和磨料构成，所述抛光片的抛光介质为与纤维结合的磨料；所述弹性模块的磨料细度为100-150目；所述研磨擦的磨料细度为150-250目；所述抛光片的磨料细度为200-300目。本实用新型是通过研磨擦和抛光片处理，能够将砖面在前段抛光工序中产生划痕很好的去除，达到一个较好的防污效果，采用在砖坯表面涂覆防污蜡的装置，使产品的防污性能更好，从而获得具有良好耐污效果的哑光抛釉砖产品。

Description

一种获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷制品加工机械领域，尤其涉及一种获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备。

背景技术

全抛釉砖集抛光砖和仿古砖优点于一体，即可实现釉面如抛光砖的表面一般光滑亮洁，又可实现釉面装饰效果如仿古砖般图案丰富、色彩绚丽。目前现有技术的抛釉砖的光泽度一般在80度以上，传统的全抛釉抛光工艺流程一般为：原料球磨除铁-干燥造粒-布料成形-干燥-施底釉（通常是白度高遮盖力好，而且对色彩装饰层发色无影响的釉料）-印花装饰-施面釉（通常是透明或半透明釉）-烧制-抛光-磨边；当然有的会进行后续的防污处理。经过以上生产工序就可以得到抛釉砖产品。在以上工艺流程中抛光工序包括多个抛磨工段，通常是经过粗磨工段、细磨工段和精磨工段三个阶段，粗磨工段所使用的磨具细度为120目-180目，细磨工段所使用的磨具细度为180目-800目，精磨工段所使用的磨具细度为1000目-5000目。

而哑光效果的砖面因其光泽度柔和，装饰典雅，是人们喜欢的高档建材。现有技术制备的抛釉砖光泽度很高，而没有哑光制品；这是因为，按照传统的方式，制备哑光制品，只需将抛磨工段中的精磨去掉，即降低磨具细度即可，但是通过这种方式虽然降低了表面光泽度，可以得到哑光制品，但因表面划痕严重，这些划痕影响装饰，而且特别容易吸污，不利于使用后的保洁服务。因此需要对现有工艺进行改良，才能获得具有装饰效果好而且耐污的哑光抛釉砖产品。

发明内容

为解决现有技术中存在的问题，本发明提供一种防污性能好具有哑光效果的抛釉砖抛磨设备，通过此抛磨设备制备出来的抛釉砖产品具有哑光效果，而且没有划痕，耐污效果好。

为达此目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其包括沿砖坯传送方向上依次排布的使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机、使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机和使用抛光片作为抛光磨具的抛光机；

所述抛光机由多个抛光机头组成，所述抛光机头包括电机和安装在电机下端输出轴上的磨盘，所述磨盘底部沿圆周方向交错且均匀的设置多个卡爪，所述抛光磨具安装在所述卡爪上；

所述弹性模块的抛光介质为使用树脂粘结的磨料；所述研磨擦上设有作为抛光介质的刷毛，所述刷毛是由硬质塑料和磨料构成；所述抛光片的抛光介质为与纤维结合的磨料；所述弹性模块的磨料细度为100-150目；所述研磨擦的磨料细度为150-250目；所述抛光片的磨料细度为200-300目。

优选的，其还包括使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机，所述使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机位于所述使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机与所述使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机之间；所述的哑光模块的抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述使用哑光模块的磨料细度为150-240目。

优选的，所述使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机由10个抛光机头组成，其中3个使用磨料细度为100目的弹性模块，4个使用磨料细度为120目的弹性模块，3个使用磨料细度为150的弹性模块；所述使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机由10个抛光机头组成，其中2个使用磨料细度为150目的研磨擦，2个使用磨料细度为200目的研磨擦，6个使用磨料细度为250的研磨擦；所述使用抛光片作为抛光磨具的抛光机由10个抛光机头组成，其中3个使用磨料细度为200目的抛光片，3个使用磨料细度为250目的抛光片，4个使用磨料细度为300目的抛光片。

优选的，所述使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机由10个抛光机头组成，其中3个使用磨料细度为180目的哑光模块，3个使用190目的哑光模块，4个使用200目的哑光模块。

优选的，所述磨料为碳化硅、金刚砂和氧化铝中的一种或两种组合。以上三种磨料具有很高的硬度，具有良好的抛磨效果。

优选的，所述刷毛的截面直径为0.5-2mm。

优选的，所述刷毛的截面直径为0.75-1.2mm。这样的细度可以较好的修复砖面的划痕。

优选的，所述树脂为高温树脂。高温树脂能够保证在抛磨时的对磨料的粘结强度。 

优选的，在磨边设备后，还包括在砖坯表面涂覆防污蜡的装置。

优选的，在所述涂覆防污蜡的装置后，还设置有对砖坯加热干燥的装置。

本实用新型提供的组合抛磨设备，通过研磨擦和抛光片处理，能够将砖面在前段抛光工序中产生划痕很好的去除，同时达到一个较好的防污效果，同时采用在砖坯表面涂覆防污蜡的装置，使产品的防污性能更好，从而获得具有良好耐污效果的哑光抛釉砖产品。

附图说明

图1为本实用新型一个具体实施例的示意图；

图2为本实用新型中抛光机机头的结构示意图；

图3为模块安装在磨盘上的俯视示意图；

图4为弹性模块的俯视示意图；

图5为研磨擦模块的俯视示意图；

图6为抛光片模块的俯视示意图；

图7为哑光模块的俯视示意图；

其中，1为使用弹性模块作为抛光磨具的装置，2为使用哑光模块作为抛光磨具的装置，3为使用研磨擦作为抛光磨具的装置，4为使用抛光片作为抛光磨具的装置，5为防污处理装置，6为干燥装置，7为进砖线，8为机头，10为磨盘，20为模块，30为卡爪，81为电机， 100为弹性模块，200为哑光模块，300为研磨擦模块，400为抛光片模块。

具体实施方式

为了更好的说明本实用新型的技术方案，结合附图，提供如下具体实施例，通过以下描述，本领域技术人员可以很好的理解本方案，并且更容易理解其优点。需要说明的是为了节约说明书篇幅，本实施例中不提供全抛釉砖的整个工艺过程，所有的全抛釉产品都是应用与本抛磨设备，不构成对本实用新型的限制。

实施例1

本实施例提供一种哑光效果抛釉类瓷质砖，包括坯体及其表面的底釉，底釉上有印花装饰层及印花层上的全抛釉层。

以下是适合抛釉砖生产的坯料配方，如表1所示。

表1、坯体配方组成（wt%）

按调试的坯料配方进行准确配料，送入球磨机细碎，细度控制在磨至泥浆细度1.0-1.2%。合格的泥浆经过过筛、除铁送入喷雾干燥塔制备成型粉料。粉料水份控制在6.3-6.9%，粒度级配控制在：≥20目，0.1-0.5%；20目-40目，25-35%；﹤100目，﹤3%。经过过筛、除铁、喷雾造粒成粉料，合格粉料送到自动液压机成型。成型比压力为280MPa生坯四角厚度差≤0.5毫米，生坯抗折强度≥1.3MPa，成型生坯确保无夹层无裂纹等缺陷，产品规格为600mm×600mm，通过160℃干燥窑烘干，烘干时间55min，烘干后的干坯进入釉线。

以下是适合抛釉砖生产的底釉配方组成如表2所示。

表2、底釉配方组成（wt%） 

名称	钾长石	钠长石	茂名高岭土	煅烧滑石	石英	氧化铝	硅酸锆
								质量比	30	22	10	8	25	5	12

按表2底釉配方配置釉料，（以3吨为一批次），送入球磨机细碎，磨至釉浆细度0.2-0.4%，比重1.88-1.93，流速25-35秒，合格的釉浆经过过筛、除铁送入浆池，陈腐24小时均具备上线生产条。釉线生产工艺，素坯温度控制（76-82度），底釉量（30*45托盘）78-82克，装饰层可采用印花、丝网、喷墨打印技术，产品花样繁多。

以下是适合抛釉砖生产的全抛釉配方组成如表3所示。

表3、全抛釉配方组成（wt%）

按表3全抛釉配方分别配置釉料，送入球磨机细碎，磨至釉浆细度0.2-0.4%，比重1.88-1.90，流速28-33秒，合格的釉浆经过过筛、除铁送入浆池，陈腐24小时均具备上线生产条，全抛釉（30*45托盘）72-76克，用淋釉工艺装饰一层全抛釉后入釉烧窑烧成。

根据全抛釉的烧成特点，在烧成过程中，要经过升温、保温、降温阶段，全抛釉的始熔温度控制在1000±10℃较为合适，烧成温度为1200-1220℃，烧成周期为55-60min。

瓷砖釉烧之后通过进砖线7就开始进入抛光工序，本实施例采用三道抛光处理，每道抛光工序都是由10个抛光机头8组成,所述抛光机头8（如图2所示）包括电机81和安装在电机下端输出轴上的磨盘10，所述磨盘10底部沿圆周方向交错且均匀的设置多个卡爪30，所述抛光磨具安装在所述卡爪30上；每个机头8控制一个磨盘10，每个磨盘10底部沿圆周方向交错且均匀的设置六个卡爪30，每个卡爪30对应安装一个模块20，模块20安装在磨盘10上的示意图如图3所示，

第一道抛光工序是使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机1，其中所述弹性模块100的示意图如图4所示，抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述磨料的细度为100-150目，所述使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机1由10个抛光机头8组成，其中3个使用磨料细度为100目的弹性模块，4个使用磨料细度为120目的弹性模块和3个使用磨料细度为150的弹性模块依次排列过去,带动皮带电机的频率为46.0-46.1HZ，磨盘的摆动频率为35.8-35.9HZ；

第二道抛光工序是使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机3，其中所述研磨擦模块300的俯视示意图如图5所示，研磨擦上设有用于抛磨的刷毛，刷毛的直径为1mm，所述刷毛是由硬质塑料和磨料构成，所述磨料的细度为150-250目，所述使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机3由10个抛光机头8组成，其中2个使用磨料细度为150目的研磨擦，2个使用磨料细度为200目的研磨擦，6个使用磨料细度为250的研磨擦依次排列过去，带动皮带电机的频率为45.9-46.0HZ，磨盘的摆动频率为38.5-38.6HZ；

第三道抛光工序是使用抛光片作为抛光磨具的抛光机4，其中所述抛光片模块400的结构示意图如图6所示，抛光介质为与纤维结合的磨料，所述磨料的细度为200-300目，所述使用抛光片作为抛光磨具的抛光机4由10个抛光机头8组成，其中3个使用磨料细度为200目的抛光片，3个使用磨料细度为250目的抛光片，4个使用磨料细度为300目的抛光片依次排列过去，带动皮带电机的频率为45.8-45.9HZ，磨盘的摆动频率为39.8-39.9HZ。

本抛光工序所制备得的哑光抛釉砖可以通过光泽度仪器来测试其产品的光泽度，在产品表面涂上蓝墨水，干了以后通过滑石粉擦拭后留下的痕迹来判断产品的防污性能。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为20-30°，产品表面划痕基本没有，防污性能一般。本实施例中，磨料选择为金刚砂。

这里需要说明，在实际应用中，弹性模块上的抛磨介质可以为一整块，也可以是由分散开的几小块构成，在使用时，通常是在前段使用抛磨介质为一整块的弹性模块，在后段使用抛磨介质为分散几块的弹性模块，进一步优选，所使用抛磨介质为分散几块的弹性模块中磨料细度为100—150目，而且其中的树脂含量高于抛磨介质为一整块的弹性模块，这样其具有更好的弹性，更适合釉面产品后期抛光处理，以获得哑光效果。这也是本实施例采用的方案。

弹性模块属于建筑陶瓷产品抛光中常用的耗材，也是本领域技术人员熟知的，可以在磨料生产企业购买获得，这里就不再过多赘述。

对比实施例1

本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是：本实施例只采用一道抛光处理，使用一道由弹性模块组成的抛光组对烧结的抛釉砖产品进行抛光，其中所述弹性模块的抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述磨料的细度为100-200目。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为15-20°，但是产品表面划痕严重，防污性能非常差。

对比实施例2

本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是：本实施例采用两道抛光处理，第一道由弹性模块组成的抛光组，其中所述弹性模块的抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述磨料的细度为100-200目；第二道由研磨擦组成的抛光组，其中所述研磨擦上设有用于抛磨的刷毛，所述刷毛是由硬质塑料和磨料构成，所述磨料的细度为150-250目。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为15-20°但是表面光泽度质感不够均匀；产品表面划痕有所缓解，同时防污性能还是较差。

实施例2

本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是，本实施例的第一道抛光工序是使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机1，所述使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机1由12个抛光机头8组成，分别使用3个磨料细度为110目的弹性模块，4个磨料细度为130目的弹性模块和5个磨料细度为140的弹性模块依次排列过去,带动皮带电机的频率为46.0-46.1HZ，磨盘的摆动频率为35.8-35.9HZ；

第二道抛光工序是使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机3，所述使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机3由12个抛光机头组成，分别使用4个磨料细度为160目的研磨擦和4个磨料细度为180目的研磨擦和4个磨料细度为230的研磨擦依次排列过去，带动皮带电机的频率为45.9-46.0HZ，磨盘的摆动频率为38.5-38.6HZ；

第三道抛光工序是使用抛光片作为抛光磨具的抛光机4，所述使用抛光片作为抛光磨具的抛光机4是由12个抛光机头8组成，分别使用4个磨料细度为220目的抛光片，3个磨料细度为270目的抛光片和5个磨料细度为290目的抛光片依次排列过去，带动皮带电机的频率为45.8-45.9HZ，磨盘的摆动频率为39.8-39.9HZ。

另外，在本实施例中磨料选择为碳化硅。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为15-20°，产品表面划痕基本没有，防污性能一般。

实施例3

本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是，本实施例的第一道抛光工序是使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机1，所述使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机1是由9个抛光机头8组成，分别使用2个磨料细度为100目的弹性模块，4个磨料细度为120目的弹性模块和3个磨料细度为150的弹性模块依次排列过去,带动皮带电机的频率为46.0-46.1HZ，磨盘的摆动频率为35.8-35.9HZ；

第二道抛光工序是使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机3，所述使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机3是是由9个抛光机头8组成，分别使用3个磨料细度为150目的研磨擦，3个磨料细度为190目的研磨擦和3个磨料细度为240的研磨擦依次排列过去，带动皮带电机的频率为45.9-46.0HZ，磨盘的摆动频率为38.5-38.6HZ；

第三道抛光工序是使用抛光片作为抛光磨具的抛光机4，所述使用抛光片作为抛光磨具的抛光机4是由9个抛光机头8组成，分别使用3个磨料细度为250目的抛光片，3个磨料细度为280目的抛光片和3个磨料细度为300目的抛光片依次排列过去，带动皮带电机的频率为45.8-45.9HZ，磨盘的摆动频率为39.8-39.9HZ。

另外，在本实施例中磨料选择为氧化铝。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为15-25°，产品表面划痕基本没有，防污性能一般。

实施例4

本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是，本实施例的第一道抛光工序是使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机1，所述使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机1是由11个抛光机头8组成，分别使用3个磨料细度为100目的弹性模块，3个磨料细度为130目的弹性模块和5个磨料细度为150的弹性模块依次排列过去,带动皮带电机的频率为46.0-46.1HZ，磨盘的摆动频率为35.8-35.9HZ；

第二道抛光工序是使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机3，所述使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机3是由11个抛光机头8组成，分别使用3个磨料细度为170目的研磨擦，4个磨料细度为210目的研磨擦和4个磨料细度为250的研磨擦依次排列过去，带动皮带电机的频率为45.9-46.0HZ，磨盘的摆动频率为38.5-38.6HZ；

第三道抛光工序是使用抛光片作为抛光磨具的抛光机4，所述使用抛光片作为抛光磨具的抛光机4是由11个抛光机头8组成，分别使用3个磨料细度为260目的抛光片，3个磨料细度为280目的抛光片和5个磨料细度为300目的抛光片依次排列过去，带动皮带电机的频率为45.8-45.9HZ，磨盘的摆动频率为39.8-39.9HZ。

另外，在本实施例中磨料选择为金刚砂和碳化硅。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为25-36°，产品表面划痕基本没有，防污性能一般。

实施例5

如图1所示，本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是，本实施例在第一道抛光工序与第二道抛光工序之间加入一道使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机2，其中所述的哑光模块200的俯视示意图如图7所示，抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述磨料细度为150-240目，所述使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机1由10个抛光机头8组成，其中3个使用磨料细度为150目的哑光模块，3个使用180目的哑光模块，4个使用240目的哑光模块依次排列过去，带动皮带电机的频率为46.1-46.2HZ，磨盘的摆动频率为37.9-38.0HZ。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为20-30°，产品表面划痕基本没有，防污性能一般。

另外，在本实施例中磨料选择为碳化硅和氧化铝。抛光片是将磨料嵌入纤维中，通过压实或粘结压实获得。

实施例6

如图1所示，本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是，本实施例在第一道抛光工序与第二道抛光工序之间加入一道使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机2，其中所述的哑光模块200的俯视示意图如图7所示，抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述磨料细度为150-240目，所述使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机2由11个抛光机头8组成，其中3个使用磨料细度为150目的哑光模块，2个使用220目的哑光模块，6个使用240目的哑光模块依次排列过去，带动皮带电机的频率为46.1-46.2HZ，磨盘的摆动频率为37.9-38.0HZ。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为20-30°，产品表面划痕基本没有，防污性能一般。

另外，在本实施例中磨料选择为金刚砂和碳化硅。抛光片是将磨料嵌入纤维中，通过压实或粘结压实获得。

实施例7

如图1所示，本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是，本实施例在第一道抛光工序与第二道抛光工序之间加入一道使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机2，其中所述的哑光模块200的俯视示意图如图7所示，抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述磨料细度为150-240目，所述使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机2由12个抛光机头8组成，其中3个使用磨料细度为180目的哑光模块，4个使用220目的哑光模块，5个使用240目的哑光模块依次排列过去，带动皮带电机的频率为46.1-46.2HZ，磨盘的摆动频率为37.9-38.0HZ。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为20-30°，产品表面划痕基本没有，防污性能一般。

另外，在本实施例中磨料选择为氧化铝。抛光片是将磨料嵌入纤维中，通过压实或粘结压实获得。

实施例8

本实施例制备方法基本如实施例1，所不同的是：本实施例所使用的磨料为金刚砂和碳化硅，在抛光、磨边工序后，添加了防污处理工序，主要通过打蜡机涂上防污蜡；然后经过风干设备在150℃下干燥。本实施例所提供的产品，经过测试光泽度为20-30°，产品表面划痕基本没有，防污性能非常好。通过涂覆防污蜡，可以对表面划痕进行覆盖，提高防污性能。其中防污蜡的主要成分包括聚乙烯、珠光粉、石蜡。防污蜡属于陶瓷产品常用防护剂，可以在市面购买获得，例如在本实施例中选择的是市售地卡露牌防污蜡。

通过本发明提供的抛光方案，解决了现有技术制备哑光效果抛釉砖不耐污的问题，通过研磨擦和抛光片的使用，对抛磨产生的划痕进行修复。其中具有刷毛的研磨擦更具有弹性，能对划痕进行初步修复，抛光片上的纤维和磨料进一步对划痕进一步修复，而且还能让哑光效果更柔和。

以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：其包括沿砖坯传送方向上依次排布的使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机、使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机和使用抛光片作为抛光磨具的抛光机；

所述抛光机由多个抛光机头组成，所述抛光机头包括电机和安装在电机下端输出轴上的磨盘，所述磨盘底部沿圆周方向交错且均匀的设置多个卡爪，所述抛光磨具安装在所述卡爪上；

所述弹性模块的抛光介质为使用树脂粘结的磨料；所述研磨擦上设有作为抛光介质的刷毛，所述刷毛是由硬质塑料和磨料构成；所述抛光片的抛光介质为与纤维结合的磨料；所述弹性模块的磨料细度为100-150目；所述研磨擦的磨料细度为150-250目；所述抛光片的磨料细度为200-300目。

2.根据权利要求1所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：其还包括使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机，所述使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机位于所述使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机与所述使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机之间；所述的哑光模块的抛光介质为使用树脂粘结的磨料，所述使用哑光模块的磨料细度为150-240目。

3.根据权利要求1所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：所述使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机由10个抛光机头组成，其中3个使用磨料细度为100目的弹性模块，4个使用磨料细度为120目的弹性模块，3个使用磨料细度为150的弹性模块；所述使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机由10个抛光机头组成，其中2个使用磨料细度为150目的研磨擦，2个使用磨料细度为200目的研磨擦，6个使用磨料细度为250的研磨擦；所述使用抛光片作为抛光磨具的抛光机由10个抛光机头组成，其中3个使用磨料细度为200目的抛光片，3个使用磨料细度为250目的抛光片，4个使用磨料细度为300目的抛光片。

4.根据权利要求2所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：所述使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机由10个抛光机头组成，其中3个使用磨料细度为150目的哑光模块，3个使用180目的哑光模块，4个使用240目的哑光模块。

5.根据权利要求1所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：所述磨料为碳化硅、金刚砂和氧化铝中的一种或两种组合。

6.根据权利要求1所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：所述刷毛的截面直径为0.5-2mm。

7.根据权利要求1所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：所述刷毛的截面直径为0.75-1.2mm。

8.根据权利要求1所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：所述树脂为高温树脂。

9.根据权利要求1所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：在磨边设备后，还包括在砖坯表面涂覆防污蜡的装置。

10.根据权利要求9所述的获得哑光效果抛釉砖的抛磨设备，其特征在于：在所述涂覆防污蜡的装置后，还设置有对砖坯加热干燥的装置。