CN111423113B - 钻石干粒、定位钻石闪光效果抛釉砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供钻石干粒、定位钻石闪光效果抛釉砖及其制备方法，所述钻石干粒的原料包括：按质量计，高岭土8～13%、钠长石23～30%、钾长石10～20%、方解石20～25%、氧化铝5～10%、烧滑石3～6%、氧化锌3～5%、150目～250目锆英砂15～25%。本发明采用锆英砂150目～250目之间颗粒级配通过除铁筛选，能够有效的解决白色砖面的落脏问题，且能够在不破坏其晶体结构的情况下，将其制成40～150目之间的钻石干粒，便于胶水干粒机器的布撒干粒。

Description

钻石干粒、定位钻石闪光效果抛釉砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种钻石干粒、定位钻石闪光效果抛釉砖及其制备方法，属于陶瓷砖生产制造技术领域。
背景技术
干粒釉产品由于装饰效果丰富、工艺应用简单、防滑性能好等原因，为广大消费者所喜爱。随着人们对生活品质和空间美学的追求，陶瓷砖作为家装的主体，陶瓷砖的花色和质感发展到今天也已十分丰富，当然这些灵感都源于大自然的恩赐，大道至简，现代人也在不断尝试还原回归自然。但是近年来，用云母或者低温透明干粒来实现釉面闪光效果的陶瓷砖始终不够真实，无法达到类似石材的晶粒在光线下钻石般的闪光效果；而直接采用锆英砂来实现闪光效果又存在白砖落脏较多且陶瓷砖放射性超标的问题。
发明内容
针对上述问题，本发明的目的在于提供一种具有钻石闪光效果干粒同时结合胶水干粒机实现了定位钻石闪光效果，该效果能够更好地还原石材和星空效果等，同时放射性满足国家标准的陶瓷砖。
第一方面，本发明提供一种钻石干粒，所述钻石干粒的原料包括：按质量计，高岭土8～13%、钠长石23～30%、钾长石10～20%、方解石20～25%、氧化铝5～10%、烧滑石3～6%、氧化锌3～5%、150目～250目锆英砂15～25%。
关于钻石干粒的原料，如果直接选用锆英砂作为钻石干粒则存在杂质较多的情况，且加入量太少闪光效果不明显，加入量太大会导致陶瓷砖放射性超标。本发明采用锆英砂150目～250目之间颗粒级配通过除铁筛选，能够有效的解决白色砖面的落脏问题，且能够在不破坏其晶体结构的情况下，将其制成40～150目之间的钻石干粒，便于胶水干粒机器的布撒干粒，通过其折射率与釉面折射率的差异，达到减少钻石干粒使用量且保证放射性符合国家标准的情况下，可以在抛釉砖上根据图案定位实现类似钻石般的闪光效果。
较佳地，所述钻石干粒的粒径为40～150目。该粒径便于胶水干粒机器的布撒钻石干粒均匀，可以减少胶水干粒机器运行过程中出现的布料不均以及工作环境的粉尘。
较佳地，所述钻石干粒的化学成分包括：SiO2：48～55%、Al2O3：16～21%、Fe2O3：0.16～0.46%、TiO2：0.15～0.25%、CaO：10.5～12.5%、MgO：0.5～1.5%、K2O：1.5～2.5%、Na2O：3.0～4.0%、ZnO：3.0～5.0%、ZrO2：10～16.0%、烧失：0.3～0.7%。
较佳地，所述钻石干粒通过如下方法制得：
按配比称取原料并进行混合，经过1500～1600℃熔制水淬后得到透明玻璃体；
将该透明玻璃体破碎、筛分成所需要的颗粒级配得到钻石干粒。
第二方面，本发明提供一种陶瓷砖，其使用上述任一种钻石干粒制得。
第三方面，本发明提供一种制备上述陶瓷砖的方法，包括以下步骤：
（1）在坯体上施底釉、喷墨打印；
（2）在步骤（1）所得的砖坯的表面根据图案设计施胶水，然后布施钻石干粒，并去除未粘住的钻石干粒；
（3）在步骤（2）所得的砖坯的表面淋全抛釉；
（4）将步骤（3）所得的砖坯烧成、柔抛。
较佳地，步骤（2）中，胶水灰度为20%～100%。不同灰度的胶水，对应不同的粘干粒量，可以根据实际效果进行调整；若胶水灰度小于20%会导致胶水和干粒粘不牢固，容易出现干粒被抽走的现象，另外粘有少量胶水的干粒进入到干粒机器的循环系统中，随着时间的推移，容易造成干粒流动性变差，出现下料不均匀的现象。一些实施方式中，根据图案设计，提前将图案需要的部分选出，并通过用胶水干粒机打印胶水，胶水在砖面上形成胶水图案，该胶水主要起到粘结作用。又可通过向胶水中加入色素，便于观察喷头状态。
较佳地，步骤（3）中，全抛釉比重为1.76～1.81，淋釉量为550～650g/m2。
附图说明
图1是本发明一实施方式的陶瓷砖的制备流程。
图2是本发明一实施方式的陶瓷砖的砖面效果图。
具体实施方式
以下通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。以下各百分含量如无特别说明均指质量百分含量。
在此公开一种钻石干粒，其原料包括：按质量计，高岭土8～13%、钠长石23～30%、钾长石10～20%、方解石20～25%、氧化铝5～10%、烧滑石3～6%、氧化锌3～5%、150目～250目锆英砂15～25%。该原料配方中，采用锆英砂且其颗粒级配为150目～250目之间，能够有效的解决白色砖面的落脏问题，且能够在不破坏其晶体结构的情况下，将其制成40～150目之间的钻石干粒，便于胶水干粒机器的布撒干粒。另外，通过钻石干粒折射率与釉面折射率的差异，可在减少钻石干粒使用量且保证放射性符合国家标准的情况下，在抛釉砖上根据图案定位实现类似钻石般的闪光效果。如果直接选用锆英砂作为钻石干粒则存在杂质较多的情况，且存在加入量太少闪光效果不明显，加入量太大会导致陶瓷砖放射性超标的问题。另外，锆英砂优选使用精选锆英砂。精选锆英砂是指将买来的锆英砂通过破碎、除铁、筛分来得到精选锆英砂。通过除铁筛选能够更有效的解决白色砖面的落脏问题。
钻石干粒的粒径可为40～150目，该粒径便于胶水干粒机器布撒钻石干粒均匀，可以减少胶水干粒机器运行过程中出现的布料不均以及工作环境的粉尘。
钻石干粒是将原料混合熔融水淬后得到透明玻璃体，再将该透明玻璃体破碎成一定颗粒级配的钻石干粒釉料。熔制温度可为1500～1600℃。
钻石干粒的化学成分可包括：按质量计，SiO2：48～55%、Al2O3：16～21%、Fe2O3：0.16～0.46%、TiO2：0.15～0.25%、CaO：10.5～12.5%、MgO：0.5～1.5%、K2O：1.5～2.5%、Na2O：3.0～4.0%、ZnO：3.0～5.0%、ZrO2：10～16.0%、烧失：0.3～0.7%。
在此还公开了使用上述钻石干粒得到的陶瓷砖。该陶瓷砖的闪光效果可以根据图案纹理的变化而变化，同时在不同角度光线的条件下，可以实现灵动多变的钻石闪光，能够更好地还原石材和星空效果等。
以下，示例性说明本发明的陶瓷砖的制备方法。
图1示出第一实施方式的陶瓷砖的制备流程。如图1所示，首先制备坯体，坯体可由普通陶瓷基料经压机成型而得。
然后，可将坯体干燥。干燥时间可为1～1.5h，干燥坯水分可控制在0.3～0.5%。
然后，在坯体上施底釉。底釉釉料没有特别限定，可以采用本领域公知的底釉釉料。一些实施方式中，所述底釉的化学组成可包括：以质量百分比计，SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、Fe2O3：0.16～0.46%、TiO2：0.15～0.25%、CaO：0.1～0.3%、MgO：0.1～0.3%、K2O：4.0～5.0%、Na2O：2.0～3.0%、ZrO2：6.0～10.0%、烧失：3.0～4.0%。
施底釉方式可为喷釉等。底釉比重可为1.40～1.45，施釉量可为400～550g/m2。采用这样的施底釉工艺可以达到降低喷墨前砖坯的温度，延长喷墨打印机喷头的使用寿命。
在底釉层上打印喷墨图案。可以采用数码喷墨打印机打印。使用的陶瓷墨水可有蓝色、棕色、桔黄色、柠檬黄、黑色、红色等。
然后，在装饰有喷墨图案的坯体上定位布钻石干粒。一些实施例中，通过如下方式定位布干粒：先定位施胶水，然后撒钻石干粒，再将未被黏住的干粒去除，即可实现定位布钻石干粒。
可通过胶水干粒机定位施胶水。具体而言，根据图案设计，提前将图案需要的部分选出并通过用胶水干粒机打印胶水，胶水在砖面上形成一定的图案。图案灰度可为20%～100%。胶水主要起到粘结作用。另外，胶水中还可以加入色素，便于观察喷头状态。然后在砖面上布满一层钻石干粒。布钻石干粒所用的装置可为胶水干粒机。这里所布施的钻石干粒具有相比下述全抛釉面更高的折射率，通过光的折射不同来实现不同角度的钻石闪光效果。然后抽未被胶水粘住的干粒。例如利用胶水干粒机自带的抽风机将未被胶水黏住的干粒抽走回收。
然后，在砖面上施全抛釉。全抛釉的原料配方包括：以质量百分比计，方解石：12～16%、烧滑石10～14%、碳酸钡9～16%、钾长石25～35%、钠长石5～15%、氧化锌3～6%、高岭土6～12%、煅烧高岭土6～14%、石英6～14%。全抛釉的化学成分包括：以质量百分比计，SiO2：43.0～50.0%、Al2O3：12.0～16.0%、Fe2O3：0.1～0.5%、TiO2：0.1～0.3%、CaO：7.0～9.0%、MgO：3.3～4.5%、K2O：3.5～4.5%、Na2O：1.5～2.5%、ZnO：3.0～5.0%、BaO：7.0～12.0% 、烧失：6.0～9.0%。
一些实施例中，采用淋釉方式施加全抛釉。全抛釉的比重可为1.76～1.81，淋釉量可为550～650g/m2。采用该施釉工艺可以实现较好的釉面平整度，减少抛光的难度。
然后，可以将所得的砖坯进行干燥。干燥方式例如为电干燥或者热风干燥箱干燥。干燥温度可为100～150℃，干燥后水分可控制在0.9%以内。
然后进行烧成。最高烧成温度可为1210～1230℃，烧成周期可为60～70分钟。
烧成后可进行抛光、磨边、分级等处理。
所得的陶瓷砖从下至上依次包括：坯体、底釉、喷墨图案层、定位钻石干粒层和全抛釉层。钻石干粒层的折射率可为1.70～1.96，全抛釉层的折射率可为1.50～1.60。
本实施方式的陶瓷砖，通过定位布钻石干粒与施全抛釉的工艺叠加搭配，可以实现钻石闪光效果随着图案纹理的变化而变化。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
（1）称取以下配比的原料：高岭土8%、钠长石23%、钾长石13%、方解石20%、氧化铝8%、烧滑石3%、氧化锌4%、精选锆英砂（150目～250目）21%；
（2）将以上原料进行混合，在1550℃熔炉中熔融、水淬后得到透明玻璃体。
（3）将该透明玻璃体破碎、筛分成一定的颗粒级配，得到钻石干粒。钻石干粒的粒径为60～80目： 40%、80～100目：30%、100～150目：30%。钻石干粒的化学组成为：SiO2：48.06%、Al2O3：17.32%、Fe2O3：0.28%、TiO2：0.18%、CaO：11.10%、MgO：1.07%、K2O：1.87%、Na2O：3.05%、ZnO：3.88%、ZrO2：12.69%、烧失：0.49%；
（4）压机干压成型；
（5）干燥，干燥时长1.2h，干燥坯水分0.4%；
（6）喷面釉，比重1.42，施釉量500g/m2；
（7）打印喷墨图案；
（8）胶水干粒机喷胶水，双通道胶水灰度49%，布钻石干粒。根据图案设计，提前将图案需要的部分选出并通过用胶水干粒机打印胶水，胶水在砖面上形成一定的图案，其中胶水主要起到粘结作用，胶水加入色素，便于观察喷头状态。其中胶水灰度不能过高，过高会出现剥釉现象，胶水灰度过低会导致部分粘不住的干粒进入到胶水干粒机的循环系统中，这些粘有部分胶水的干粒，随着时间的推移就严重影响干粒的流动性，从而出现布料不均的现象。用抽风机将未被胶水黏住的干粒抽走回收。不同灰度的地方实现粘的钻石干粒数量不同，从而实现不同位置的闪光点数量差异；
（9）在表面黏附钻石干粒的砖坯表面淋全抛釉，全抛釉的原料配方为：方解石：12%、烧滑石10%、碳酸钡12%、钾长石30%、钠长石5%、氧化锌5%、高岭土10%、煅烧高岭土10%、石英6%。全抛釉的化学成分为：以质量百分比计，SiO2：45.5%、Al2O3：13.38%、Fe2O3：0.14%、TiO2：0.1%、CaO：7.2%、MgO：3.30%、K2O：3.53%、Na2O：1.57%、ZnO：4.95%、BaO：9.30%、烧失：8.82%。全抛釉的比重为1.78，施釉量为600 g/m2；
（7）干燥，将喷过干粒釉的砖坯通过热风干燥箱干燥，干燥温度120℃，干燥后水分控制在0.9%以内；
（8）烧成，最高烧成温度1220℃，烧成周期60分钟。
（9）柔抛、磨边分级；
（10）打包入库。
图2示出实施例1得到的陶瓷砖的砖面效果，图案白色的部分粘有钻石闪光干粒，而其余部分则与常规抛釉一致，结合柔抛工艺实现不同位置的亮哑闪光对比，实现了定位钻石闪光效果，该效果能够更好地还原石材和星空等效果，同时通过GB6566-2010方法测得该产品内照射0.50，外照射0.94，该陶瓷砖的放射性符合国家标准。通过SEM能谱分析可得瓷砖中钻石干粒层的晶体折射率为1.70～1.96，全抛釉层的玻璃相折射率为1.50～1.60。
实施例2
称取以下配比的原料：高岭土8%、钠长石28%、钾长石13%、方解石20%、氧化铝6%、烧滑石3%、氧化锌4%、精选锆英砂（150目～250目）18%。
（2）将以上原料进行混合，在1550℃熔炉中熔融、水淬后得到透明玻璃体。
（3）将该透明玻璃体破碎、筛分成一定的颗粒级配，得到钻石干粒。钻石干粒的粒径为60～80目： 40%、80～100目：30%、100～150目：30%。钻石干粒的化学组成为：SiO2：50.23%、Al2O3：16.52%、Fe2O3：0.30%、TiO2：0.16%、CaO：11.16%、MgO：1.05%、K2O：1.85%、Na2O：3.58%、ZnO：3.86%、ZrO2：10.74%、烧失：0.45%；
（4）压机干压成型；
（5）干燥，干燥时长1.2h，干燥坯水分0.4%；
（6）喷面釉，比重1.42，施釉量500g/m2；
（7）打印喷墨图案；
（8）胶水干粒机喷胶水，双通道胶水灰度49%，布钻石干粒。根据图案设计，提前将图案需要的部分选出并通过用胶水干粒机打印胶水，胶水在砖面上形成一定的图案，其中胶水主要起到粘结作用，胶水加入色素，便于观察喷头状态。其中胶水灰度不能过高，过高会出现剥釉现象，胶水灰度过低会导致部分粘不住的干粒进入到胶水干粒机的循环系统中，这些粘有部分胶水的干粒，随着时间的推移就严重影响干粒的流动性，从而出现布料不均的现象。用抽风机将未被胶水黏住的干粒抽走回收。不同灰度的地方实现粘的钻石干粒数量不同，从而实现不同位置的闪光点数量差异；
（9）在表面黏附钻石干粒的砖坯表面淋全抛釉，全抛釉的原料配方为：方解石：12%、烧滑石10%、碳酸钡12%、钾长石30%、钠长石5%、氧化锌5%、高岭土10%、煅烧高岭土10%、石英6%。全抛釉的化学成分为：以质量百分比计，SiO2：45.5%、Al2O3：13.38%、Fe2O3：0.14%、TiO2：0.1%、CaO：7.2%、MgO：3.30%、K2O：3.53%、Na2O：1.57%、ZnO：4.95%、BaO：9.30% 、烧失：8.82%。全抛釉的比重为1.78，施釉量为600 g/m2；
（7）干燥，将喷过干粒釉的砖坯通过热风干燥箱干燥，干燥温度120℃，干燥后水分控制在0.9%以内；
（8）烧成，最高烧成温度1220℃，烧成周期60分钟。
（9）柔抛、磨边分级；
（10）打包入库。
该实验方案与实施例1效果基本一致，该工艺结合柔抛工艺实现不同位置的亮哑闪光对比，实现了定位钻石闪光效果，该效果能够更好地还原石材和星空等效果，同时通过GB6566-2010方法测得该产品内照射0.45，外照射0.88，该陶瓷砖的放射性符合国家标准。测得所得瓷砖中钻石干粒层的折射率为1.70～1.96，全抛釉层的玻璃相折射率为1.50～1.60。

Claims (7)

1.一种钻石闪光效果抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）在坯体上施底釉、喷墨打印；
（2）采用胶水干粒机器在步骤（1）所得的砖坯的表面根据图案设计喷胶水，然后布施粒径为40～150目的钻石干粒，并去除未粘住的钻石干粒；
（3）在步骤（2）所得的砖坯的表面施全抛釉；
（4）将步骤（3）所得的砖坯烧成、柔抛；
其中制备所述钻石干粒的原料包括：按质量计，高岭土8～13%、钠长石23～30%、钾长石10～20%、方解石20～25%、氧化铝5～10%、烧滑石3～6%、氧化锌3～5%、150目～250目锆英砂15～25%；
步骤（3）中，全抛釉的化学成分包括：以质量百分比计，SiO2：43.0～50.0%、Al2O3：12.0～16.0%、Fe2O3：0.1～0.5%、TiO2：0.1～0.3%、CaO：7.0～9.0%、MgO：3.3～4.5%、K2O：3.5～4.5%、Na2O：1.5～2.5%、ZnO：3.0～5.0%、BaO：7.0～12.0% 、烧失：6.0～9.0%；
钻石干粒层的晶体折射率为1.70～1.96，全抛釉层的玻璃相折射率为1.50～1.60。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钻石干粒的化学成分包括：按质量计，SiO2：48～55%、Al2O3：16～21%、Fe2O3：0.16～0.46%、TiO2：0.15～0.25%、CaO：10.5～12.5%、MgO：0.5～1.5%、K2O：1.5～2.5%、Na2O：3.0～4.0%、ZnO：3.0～5.0%、ZrO2：10～16.0%、烧失：0.3～0.7%。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钻石干粒的粒径为60～80目：40%、80～100目：30%、100～150目：30%。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钻石干粒通过如下方法制得：
按配比称取原料并进行混合，经过1500～1600℃熔制水淬后得到透明玻璃体；
将该透明玻璃体破碎、筛分成所需要的颗粒级配得到钻石干粒。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，胶水灰度为20%～100%。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，全抛釉的原料配方包括：以质量百分比计，方解石：12～16%、烧滑石10～14%、碳酸钡9～16%、钾长石25～35%、钠长石5～15%、氧化锌3～6%、高岭土6～12%、煅烧高岭土6～14%、石英6～14%。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，全抛釉采用淋釉方式施加，全抛釉的比重为1.76～1.81，淋釉量为550～650g/m2。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111923193A (zh) * 2020-09-29 2020-11-13 佛山市蓝瓷创陶科技有限公司 一种具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法
CN112279512B (zh) * 2020-10-16 2022-07-01 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种镁铝尖晶石耐磨全抛釉及其制备方法和应用
CN112707642B (zh) * 2020-12-28 2022-09-02 丰城市东鹏陶瓷有限公司 闪光面釉及其制备方法、具有闪光效果的瓷砖的制备方法
CN112608029B (zh) * 2020-12-28 2022-06-24 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 炫光仿古砖及其制备方法
CN112811939A (zh) * 2021-02-07 2021-05-18 广东萨米特陶瓷有限公司 一种具有闪光晶粒效果的瓷质板材及其制造方法
CN112499971B (zh) * 2021-02-08 2021-05-04 佛山欧神诺陶瓷有限公司 晶闪干粒、晶闪陶瓷砖及其制备方法
CN112777933B (zh) * 2021-03-23 2022-11-08 广东宏威陶瓷实业有限公司 一种冰晶石瓷砖的制备工艺及冰晶石瓷砖
CN113354281B (zh) * 2021-08-09 2021-12-07 广东兴辉陶瓷集团有限公司 露珠干粒、露珠效果釉墨水及制备方法、岩板及制备方法
CN113666729B (zh) * 2021-08-20 2023-04-14 河源市东源鹰牌陶瓷有限公司 一种白钻闪光金刚釉瓷砖的制备方法
CN113999054B (zh) * 2021-10-12 2022-12-02 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 一种晶钻大理石瓷质砖及其制备方法
CN114014698A (zh) * 2021-10-26 2022-02-08 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种片状银色光泽陶瓷岩板及制备方法
CN114349340A (zh) * 2021-12-03 2022-04-15 佛山欧神诺陶瓷有限公司 一种晶钻闪光的陶瓷岩板及其制备方法
CN115196993A (zh) * 2022-07-13 2022-10-18 九江诺贝尔陶瓷有限公司 一种干粒及利用干粒的一次烧成双数码装饰炫彩岩板的生产方法
CN116023029B (zh) * 2023-01-28 2023-06-30 广东宏陶陶瓷有限公司 珍珠干粒、珍珠釉、珍珠釉面砖的制备方法
CN116396104B (zh) * 2023-03-03 2024-02-27 高安市蒙娜丽莎新材料有限公司 纳米星光感全抛砖及其制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102491787B (zh) * 2011-11-14 2013-05-01 星谊精密陶瓷科技（昆山）有限公司 高温镜面闪光熔块釉及其制备方法
CN103224414B (zh) * 2013-04-27 2014-09-10 广东道氏技术股份有限公司 一种一次烧铬绿色熔块干粒及其制备方法
CN105924229B (zh) * 2016-04-25 2018-07-31 广东宏宇新型材料有限公司 千珠幻彩釉面砖的釉、砖及其制备方法
CN109293399B (zh) * 2018-11-09 2021-05-07 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种具有石纹浮凸感干粒砖及其制备方法
CN110776256B (zh) * 2019-11-27 2021-10-22 蒙娜丽莎集团股份有限公司 白色放射状晶花干粒釉、透光陶瓷砖及其制备方法
CN111018483B (zh) * 2019-12-09 2021-11-16 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种超白透光、生态健康的陶瓷大板及其制备方法

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