CN110790507B - 一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法,底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份;所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO249.97%,Al2O316.96%,Fe2O30.14%,TiO20.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O 4.03%,Na2O 12.57%,ZnO 0.37%,B2O30.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。通过控制高岭土的加入量,增加了墨水的下渗深度,提升了墨水的干燥效率,避免了喷墨印花之后的避釉缺陷。
Description
技术领域
本发明涉及黑色喷墨陶瓷砖生产领域,尤其涉及一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法。
背景技术
目前,市面上流行的黑金花、劳伦黑金等黑色喷墨陶瓷砖产品,一般使用丝网或胶辊印刷等即将淘汰的印刷技术进行装饰;为提高生产效率,通常使用喷墨打印来生产全抛釉黑色喷墨陶瓷砖;但是,黑色喷墨陶瓷砖的颜色深、黑色与蓝色墨水用量非常大;由于墨水是油性,而釉料是水性,在墨水使用量较大时,造成墨水干燥不及时,此时在未完全干燥的墨水上施加釉料时,就会造成釉料和墨水相互排斥,造成未完全干燥的墨水上未能覆盖釉料,就出现避釉缺陷,严重影响黑色喷墨陶瓷砖产品外观的一致性。
因此,如何提供一种能够避免出现避釉缺陷的黑色喷墨陶瓷砖的底釉成为亟待解决的问题。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种底釉、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法,旨在解决现有黑色喷墨陶瓷砖喷墨印花装饰时容易出现避釉缺陷的问题。
本发明为解决上述技术问题,提供的技术方案如下:一种底釉,所述底釉的原料以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份;
其中,所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO2 49.97%,Al2O316.96%,Fe2O3 0.14%,TiO2 0.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O 4.03%,Na2O12.57%,ZnO 0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。
本发明为解决上述技术问题,提供的又一技术方案如下:一种底釉,所述底釉的原料以质量分数计还包括:高岭土7份,钾长石33份,钠长石33份,石英粉13份,硅酸锆8份,煅烧土1份,硅灰石2份,氧化锌3份。
本发明为解决上述技术问题,提供的又一技术方案如下:一种底釉制备方法,其包括:
步骤S11、称取底釉的原料,并将各组分混合,得到底釉原料混合料;
步骤S12、按照得到的底釉原料混合料的质量百分比计,分别称取CMC 0.12%、三聚磷酸钠0.4%和防腐剂0.05%,与底釉原料混合料进行混合,获得底釉球磨前料;
步骤S13、按照重量比为底釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述底釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.1%-0.3%,获得底釉。
本发明为解决上述技术问题,提供的又一技术方案如下:一种黑色喷墨陶瓷砖,其中,所述黑色喷墨陶瓷砖包括如上所述的底釉。
本发明为解决上述技术问题,提供的又一技术方案如下:一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其包括:
步骤S21、将粉料压制成型,经干燥窑烘干,得到坯体;
步骤S22、在干燥过的坯体表面吹尘、喷水、淋如权利要求1或2所述的底釉,获得砖坯;
步骤S23、将淋底釉后的砖坯进行依次进行喷墨印花装饰和淋面釉,面釉的比重为1.83±0.2,淋釉量310±2g/m2;
步骤S24、将淋面釉的砖坯入窑烧成,以氧化气氛烧制70±5min,获得黑色喷墨陶瓷砖半成品;
步骤S25、将黑色喷墨陶瓷砖半成品经抛光,打蜡,磨边,贴膜,获得黑色喷墨陶瓷砖成品。
进一步的,所述步骤S22中的喷水量为78±2g/m2。
进一步的,所述步骤S22中的底釉的比重为1.80±0.2,施釉量为530±2g/m2。
进一步的,所述步骤S23中面釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土6份,TH-1236熔块33份,1212熔块23,石英粉12,方解石16份,硅灰石7份,氧化锌3份;
其中,所述TH-1236熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO2 49.94%,Al2O319.88%,Fe2O3 0.13%,CaO 8.40%,MgO 6.23%,K2O 0.34%,Na2O 3.16%,ZnO 2.21%,B2O3 0.79%,BaO 4.49%,烧失量4.43%;
所述1212熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO2 58.22%,Al2O3 7.51%,Fe2O3 0.12%,CaO 9.82%,MgO 1.02%,K2O 4.48%,Na2O 0.65%,ZnO 15.00%,B2O31.96%,BaO 0.07%,烧失量1.15%。
进一步的,所述面釉的制备方法包括:
步骤S31、称取面釉的原料,并将各组分混合,得到面釉原料混合料;
步骤S32、按照得到的面釉原料混合料的重量比,分别称取CMC 0.15%、三聚磷酸钠0.5%和防腐剂0.05%,与面釉原料混合料进行混合,获得面釉球磨前料;
步骤S33、按照重量比为面釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述面釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.2%-0.4%,获得面釉。
进一步的,所述步骤S24中的最高烧成温度为底温1160±5℃,面温1140-1150℃。
有益效果:本发明提供了一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份,其中,所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO2 49.97%,Al2O3 16.96%,Fe2O3 0.14%,TiO2 0.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O 4.03%,Na2O 12.57%,ZnO 0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗深度,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性。
附图说明
图1是本发明中一种底釉制备方法的流程示意图;
图2是本发明中一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法的流程示意图;
图3是本发明中黑色喷墨陶瓷砖制造方法中的面釉的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
本发明提供一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法,为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下对本发明进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明提供了一种底釉,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份;其中,所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO2 49.97%,Al2O3 16.96%,Fe2O3 0.14%,TiO20.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O 4.03%,Na2O 12.57%,ZnO 0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。可以理解,通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗深度,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性。
本发明还提供了另一种底釉,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土7份,钾长石33份,钠长石33份,石英粉13份,硅酸锆8份,煅烧土1份,硅灰石2份,氧化锌3份。可以理解,通过控制所述通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,加速墨水的下渗速率,也就有效的提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷;同时,通过以硅灰石和氧化锌替换滑石粉,进而有效的提升了底釉上喷墨印刷的墨水的熔融效果,进而在解决避釉缺陷的同时,显著的提升墨水的发色效果。
请参阅图1,本发明还提供了一种底釉制备方法,其包括,
步骤S11、称取底釉的原料,并将各组分混合,得到底釉原料混合料;
步骤S12、按照得到的底釉原料混合料的质量百分比计,分别称取CMC 0.12%、三聚磷酸钠0.4%和防腐剂0.05%,与底釉原料混合料进行混合,获得底釉球磨前料;
步骤S13、按照重量比为底釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述底釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.1%-0.3%,获得底釉。
需要说明的是,所述底釉的原料为本发明上述实施例中的底釉的原料,并按照本发明上述实施例中限定的原料各组分和组分含量比例称取,之后在根据称取的底釉的原料的实际重量,CMC 0.12%、三聚磷酸钠0.4%和防腐剂0.05%。可以理解,本发明提供底釉制备方法,通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗速率和下渗深度,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷;同时,通过以硅灰石和氧化锌替换滑石粉,进而有效的提升了底釉上喷墨印刷的墨水的熔融效果,并且通过控制所述底釉的细度,进而有效的控制所述墨水的下渗速率和下渗深度,进而在解决避釉缺陷的同时,显著的提升墨水的发色效果,进而显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性。
本发明还提供了一种黑色喷墨陶瓷砖,所述黑色喷墨陶瓷砖包括本发明上实施例的中提供的底釉。可以理解,本发明提供的黑色喷墨陶瓷砖,通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗速率和下渗深度,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷;同时,通过以硅灰石和氧化锌替换滑石粉,进而有效的提升了底釉上喷墨印刷的墨水的熔融效果,并且通过控制所述底釉的细度,进而有效的控制所述墨水的下渗速率和下渗深度,进而在解决避釉缺陷的同时,显著的提升墨水的发色效果,进而显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性。
请参阅图2,本发明还提供了一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其包括:
步骤S21、将粉料压制成型,经干燥窑烘干,得到坯体;
步骤S22、在干燥过的坯体表面吹尘、喷水、淋本发明上述实施例中的底釉,获得砖坯;
步骤S23、将淋底釉后的砖坯进行依次进行喷墨印花装饰和淋面釉,面釉的比重为1.83±0.2,淋釉量310±2g/m2;
步骤S24、将淋面釉的砖坯入窑烧成,以氧化气氛烧制70±5min,获得黑色喷墨陶瓷砖半成品;
步骤S25、将黑色喷墨陶瓷砖半成品经抛光,打蜡,磨边,贴膜,获得黑色喷墨陶瓷砖成品。
需要说明的是,所述底釉为本发明上述实施例中提供的底釉;可以理解的是,本发明提供的黑色喷墨陶瓷砖制造方法制备的黑色喷墨陶瓷砖,在喷墨印花装饰之后,淋面釉时可以有效的避免出现避釉缺陷,即保证了黑色喷墨陶瓷砖外观一致性,又可以有效的提升黑色喷墨陶瓷砖的制备效率;同时,也可以显著的提升黑色喷墨陶瓷砖的显色效果,提升黑色喷墨陶瓷砖外观装饰效果。
在一些实施方式中,所述步骤S22中的喷水量为78±2g/m2。
在一些实施方式中,所述步骤S22中的底釉的比重为1.80±0.2,施釉量为530±2g/m2。
在一些实施方式中,所述步骤S23中的面釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土6份,TH-1236熔块33份,1212熔块23,石英粉12,方解石16份,硅灰石7份,氧化锌3份;
其中,所述TH-1236熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO2 49.94%,Al2O319.88%,Fe2O3 0.13%,CaO 8.40%,MgO 6.23%,K2O 0.34%,Na2O 3.16%,ZnO 2.21%,B2O3 0.79%,BaO 4.49%,烧失量4.43%;
所述1212熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO2 58.22%,Al2O3 7.51%,Fe2O3 0.12%,CaO 9.82%,MgO 1.02%,K2O 4.48%,Na2O 0.65%,ZnO 15.00%,B2O31.96%,BaO 0.07%,烧失量1.15%。
在一些实施方式中,所述面釉的制备方法包括:
步骤S31、称取面釉的原料,并将各组分混合,得到面釉原料混合料;
步骤S32、按照得到的面釉原料混合料的重量比,分别称取CMC 0.15%、三聚磷酸钠0.5%和防腐剂0.05%,与面釉原料混合料进行混合,获得面釉球磨前料;
步骤S33、按照重量比为面釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述面釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.2%-0.4%,获得面釉。
在一些实施方式中,所述步骤S24中的最高烧成温度为底温1160±5℃,面温1140-1150℃。
下面通过具体实施例对本发明进一步地详细说明。
实施例一:
本实施例提供了一种底釉,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份。
所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO2 49.97%,Al2O3 16.96%,Fe2O3 0.14%,TiO2 0.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O 4.03%,Na2O 12.57%,ZnO0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。
可以理解,通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗深度和下渗效率,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性。
实施例二:
本实施例提供了一种底釉,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土7份,钾长石33份,钠长石33份,石英粉13份,硅酸锆8份,煅烧土1份,硅灰石2份,氧化锌3份。可以理解,通过控制所述通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,加速墨水的下渗速率,也就有效的提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷;同时,通过以硅灰石和氧化锌替换滑石粉,进而有效的提升了底釉上喷墨印刷的墨水的熔融效果,进而在解决避釉缺陷的同时,显著的提升墨水的发色效果。
实施例三:
请参阅图1,本实施例提供了一种底釉制备方法,其包括,
步骤S11、称取底釉的原料,并将各组分混合,得到底釉原料混合料;
步骤S12、按照得到的底釉原料混合料的质量百分比计,分别称取CMC0.12%、三聚磷酸钠0.4%和防腐剂0.05%,与底釉原料混合料进行混合,获得底釉球磨前料;
步骤S13、按照重量比为底釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述底釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.1%-0.3%,获得底釉。
其中,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份;所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO2 49.97%,Al2O3 16.96%,Fe2O3 0.14%,TiO2 0.05%,CaO 12.71%,MgO1.41%,K2O 4.03%,Na2O 12.57%,ZnO 0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。可以理解,通过并按照本发明上述实施例中限定的原料各组分和组分含量比例称取,之后在根据称取的底釉的原料的实际重量,CMC 0.12%、三聚磷酸钠0.4%和防腐剂0.05%。可以理解,本发明提供底釉制备方法,通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗速率和下渗深度,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,进而显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性。
实施例四:
请参阅图1,本实施例提供了一种底釉制备方法,其包括,
步骤S11、称取底釉的原料,并将各组分混合,得到底釉原料混合料;
步骤S12、按照得到的底釉原料混合料的质量百分比计,分别称取CMC0.12%、三聚磷酸钠0.4%和防腐剂0.05%,与底釉原料混合料进行混合,获得底釉球磨前料;
步骤S13、按照重量比为底釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述底釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.1%-0.3%,获得底釉。
其中,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土7份,钾长石33份,钠长石33份,石英粉13份,硅酸锆8份,煅烧土1份,硅灰石2份,氧化锌3份。
可以理解,通过控制所述通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,加速墨水的下渗速率,也就有效的提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性;同时,通过以硅灰石和氧化锌替换滑石粉,进而有效的提升了底釉上喷墨印刷的墨水的熔融效果,进而在解决避釉缺陷的同时,显著的提升墨水的发色效果,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的装饰效果。
实施例五:
本实施例提供了一种黑色喷墨陶瓷砖,所述黑色喷墨陶瓷砖包括本底釉,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份。
所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO2 49.97%,Al2O3 16.96%,Fe2O3 0.14%,TiO2 0.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O 4.03%,Na2O 12.57%,ZnO0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。
可以理解,本发明提供的黑色喷墨陶瓷砖,通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗速率和下渗深度,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性;同时,通过以硅灰石和氧化锌替换滑石粉,进而有效的提升了底釉上喷墨印刷的墨水的熔融效果,并且通过控制所述底釉的细度,进而有效的控制所述墨水的下渗速率和下渗深度,进而在解决避釉缺陷的同时,显著的提升墨水的发色效果,进而显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的装饰效果。
实施例六:
本实施例提供了一种黑色喷墨陶瓷砖,所述黑色喷墨陶瓷砖包括底釉,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土7份,钾长石33份,钠长石33份,石英粉13份,硅酸锆8份,煅烧土1份,硅灰石2份,氧化锌3份。
可以理解,通过控制所述通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,加速墨水的下渗速率,也就有效的提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性;同时,通过以硅灰石和氧化锌替换滑石粉,进而有效的提升了底釉上喷墨印刷的墨水的熔融效果,进而在解决避釉缺陷的同时,显著的提升墨水的发色效果,进而显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的装饰效果。
实施例七:
请参阅图2,本实施例提供了一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其包括:
步骤S21、将粉料压制成型,经干燥窑烘干,得到坯体;
步骤S22、在干燥过的坯体表面吹尘、喷水、淋如权利要求1或2所述的底釉,获得砖坯;
步骤S23、将淋底釉后的砖坯进行依次进行喷墨印花装饰和淋面釉,面釉的比重为1.83±0.2,淋釉量310±2g/m2;
步骤S24、将淋面釉的砖坯入窑烧成,以氧化气氛烧制70±5min,获得黑色喷墨陶瓷砖半成品;
步骤S25、将黑色喷墨陶瓷砖半成品经抛光,打蜡,磨边,贴膜,获得黑色喷墨陶瓷砖成品。
需要说明的是,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份。
所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO2 49.97%,Al2O3 16.96%,Fe2O3 0.14%,TiO2 0.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O 4.03%,Na2O 12.57%,ZnO0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。
可以理解,本发明提供的黑色喷墨陶瓷砖通过采用本发明上述实施例中提供的底釉,进而有效控制了所述高岭土的加入量,使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗深度和下渗效率,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性;使得在喷墨印花之后淋面釉时可以有效的避免出现避釉缺陷,即保证了黑色喷墨陶瓷砖外观一致性,又可以有效的提升黑色喷墨陶瓷砖的制备效率;同时,也可以显著的提升黑色喷墨陶瓷砖的显色效果,提升黑色喷墨陶瓷砖外观装饰效果。
实施例八:
本实施例中提供了一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其与所述实施例七中提供的黑色喷墨陶瓷砖制造方法不同点在于,
所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土7份,钾长石33份,钠长石33份,石英粉13份,硅酸锆8份,煅烧土1份,硅灰石2份,氧化锌3份。
可以理解,本发明提供的黑色喷墨陶瓷砖通过采用本发明上述实施例中提供的底釉,通过控制所述通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,加速墨水的下渗速率,也就有效的提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷;同时,通过以硅灰石和氧化锌替换滑石粉,进而有效的提升了底釉上喷墨印刷的墨水的熔融效果,进而在解决避釉缺陷的同时,显著的提升墨水的发色效果;使得本发明提供的黑色喷墨陶瓷砖制造方法,在喷墨印花之后淋面釉时可以有效的避免出现避釉缺陷,即保证了黑色喷墨陶瓷砖外观一致性,又可以有效的提升黑色喷墨陶瓷砖的制备效率;同时,也可以显著的提升黑色喷墨陶瓷砖的显色效果,提升黑色喷墨陶瓷砖外观装饰效果。
实施例九:
本实施例中提供了一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其与所述实施例七和实施例八中提供的黑色喷墨陶瓷砖制造方法不同点在于,所述步骤S22中的喷水量为78±2g/m2。
实施例十:
本实施例中提供了一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其与所述实施例七和实施例八中提供的黑色喷墨陶瓷砖制造方法不同点在于,所述步骤S22中的底釉的比重为1.80±0.2,施釉量为530±2g/m2。
实施例十一:
本实施例中提供了一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其与所述实施例七和实施例八中提供的黑色喷墨陶瓷砖制造方法不同点在于,所述步骤S23中的面釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土6份,TH-1236熔块33份,1212熔块23,石英粉12,方解石16份,硅灰石7份,氧化锌3份;
其中,所述TH-1236熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO2 49.94%,Al2O319.88%,Fe2O3 0.13%,CaO 8.40%,MgO 6.23%,K2O 0.34%,Na2O 3.16%,ZnO 2.21%,B2O3 0.79%,BaO 4.49%,烧失量4.43%;
所述1212熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO2 58.22%,Al2O3 7.51%,Fe2O3 0.12%,CaO 9.82%,MgO 1.02%,K2O 4.48%,Na2O 0.65%,ZnO 15.00%,B2O31.96%,BaO 0.07%,烧失量1.15%。
实施例十二:
请参阅图3,本实施例中提供了一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其与所述实施十一中提供的黑色喷墨陶瓷砖制造方法不同点在于,所述面釉的制备方法包括:
步骤S31、称取面釉的原料,并将各组分混合,得到面釉原料混合料;
步骤S32、按照得到的面釉原料混合料的重量比,分别称取CMC 0.15%、三聚磷酸钠0.5%和防腐剂0.05%,与面釉原料混合料进行混合,获得面釉球磨前料;
步骤S33、按照重量比为面釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述面釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.2%-0.4%,获得面釉。
实施例十三:
本实施例中提供了一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其与所述实施例七和实施例八中提供的黑色喷墨陶瓷砖制造方法不同点在于,所述步骤S24中的最高烧成温度为底温1160±5℃,面温1140-1150℃。
综上所述,本发明提供了一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法,所述底釉的原料组成以质量分数计包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份;其中,所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括:SiO2 49.97%,Al2O3 16.96%,Fe2O3 0.14%,TiO2 0.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O 4.03%,Na2O 12.57%,ZnO 0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%。通过控制所述高岭土的加入量,进而使得在底釉上进行喷墨印花装饰时,增加了墨水的下渗深度,进而提升了墨水的干燥效率,继而有效的避免了喷墨印花之后的避釉缺陷,显著的提升了黑色喷墨陶瓷砖的外观一致性。
应当理解的是,本发明的应用不限于上述的举例,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。
Claims (8)
1.一种底釉制备方法,其特征在于,包括:
步骤S11、称取底釉的原料,并将各组分混合,得到底釉原料混合料;
步骤S12、按照得到底釉原料混合料的质量百分比计,分别称取CMC 0.12%、三聚磷酸钠0.4%和防腐剂 0.05%,与底釉原料混合料进行混合,获得底釉球磨前料;
步骤S13、按照重量比为底釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述底釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.1%-0.3%,获得底釉;
所述底釉的原料以质量份数计,包括:高岭土5份,钾长石33份,钠长石28份,石英粉10份,硅酸锆10份,滑石粉7份,965熔块7份;其中,所述965熔块的化学组成以质量百分数计,包括:SiO2 49.97%,Al2O3 16.96%,Fe2O3 0.14%,TiO2 0.05%,CaO 12.71%,MgO 1.41%,K2O4.03%,Na2O 12.57%,ZnO 0.37%,B2O3 0.18%,BaO 0.83%,烧失量0.78%;
或者,所述底釉的原料以质量份数计,包括:高岭土7份,钾长石33份,钠长石33份,石英粉13份,硅酸锆8份,煅烧土1份,硅灰石2份,氧化锌3份。
2.一种黑色喷墨陶瓷砖,其特征在于,所述黑色喷墨陶瓷砖包括如权利要求1所述的底釉。
3.一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,包括:
步骤S21、将粉料压制成型,经干燥窑烘干,得到坯体;
步骤S22、在干燥过的坯体表面吹尘、喷水、淋如权利要求1或2所述的底釉,获得砖坯;
步骤S23、将淋底釉后的砖坯依次进行喷墨印花装饰和淋面釉,面釉的比重为1.83±0.2,淋釉量310±2 g/m2;
步骤S24、将淋面釉的砖坯入窑烧成,以氧化气氛烧制70±5 min,获得黑色喷墨陶瓷砖半成品;
步骤S25、将黑色喷墨陶瓷砖半成品经抛光,打蜡,磨边,贴膜,获得黑色喷墨陶瓷砖成品。
4.根据权利要求3所述的黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,所述步骤S22中的喷水量为78±2 g/m2。
5.根据权利要求3所述的黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,所述步骤S22中的底釉的比重为1.80±0.2,施釉量为530±2 g/m2。
6.根据权利要求3所述的黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,所述步骤S23中面釉的原料组成以质量份数计,包括:高岭土6份,TH-1236熔块 33份,1212熔块 23份,石英粉12份,方解石16份,硅灰石7份,氧化锌3份;
其中,所述TH-1236熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO2 49.94%,Al2O319.88%,Fe2O3 0.13%,CaO 8.40%,MgO 6.23%,K2O 0.34%,Na2O 3.16%,ZnO 2.21%,B2O30.79%,BaO 4.49%,烧失量4.43%;
所述1212熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO2 58.22%,Al2O3 7.51%,Fe2O30.12%,CaO 9.82%,MgO 1.02%,K2O 4.48%,Na2O 0.65%,ZnO 15.00%,B2O3 1.96%,BaO0.07%,烧失量1.15%。
7.根据权利要求6所述的黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,所述面釉的制备方法包括:
步骤S31、称取面釉的原料,并将各组分混合,得到面釉原料混合料;
步骤S32、按照得到的面釉原料混合料的重量比,分别称取CMC 0.15%、三聚磷酸钠0.5%和防腐剂 0.05%,与面釉原料混合料进行混合,获得面釉球磨前料;
步骤S33、按照重量比为面釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述面釉球磨前料进行湿球磨加工,并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.2%-0.4%,获得面釉。
8.根据权利要求3所述的黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,所述步骤S24中的最高烧成温度为底温1160±5℃,面温1140-1150℃。
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