CN108248270A - 一种仿陶瓷手机后盖的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，包括：薄膜取用、离型层形成、UV纹理层形成、电镀层形成、图案印刷层形成、注塑成型、撕膜处理及喷涂工艺；薄膜选用其透光率达92％且双面覆膜的PET膜；步骤2)中采用夹缝式挤压涂布的方式在待处理膜片的表面上涂布高透UV油墨层；步骤3)中通过UV转印出由若干条均匀排列在一起的线条构成的光栅纹理图案层，两线条之间的间距在0.008‑0.012毫米之间；步骤4)中真空光学电镀设备的蒸发物质为其纯度为99.99％的二氧化锆。与现有技术相比，其能使手机后盖的外表面能呈现出非常细腻的陶瓷釉面视觉效果，具有仿陶瓷的视觉效果，整体工艺简易，易于推广应用，具有较大实用价值。

Description

一种仿陶瓷手机后盖的制备方法
技术领域
本发明涉及一种手机后盖的生产工艺，具体涉及一种仿陶瓷手机后盖的制备方法。
背景技术
IMT技术：中文名称：模内装饰技术，其是模内镶件注塑(IML)技术及模内转印(IMR)技术的综合并延伸而成的新工艺。其技术应用了IMR技术的膜片与油墨的分离技术，并兼顾IML技术的单体成形及注塑制造方式，其多层保护膜能有效保护主体装饰层的质量，且厚度可薄至0.70mm,因此广泛应用到现有手机后盖、电脑后盖等电子产品上。
现有的IMT手机后盖的生产工序是：将现有的普通PET膜进行印刷离型油墨层，之后在离型油墨层上进行UV转印处理，UV转印后送至电镀，在UV转印图案层上形成一电镀层，最后在电镀层上进行装饰图案层与工艺层的印刷，印刷后再放置注塑模具内进行模内注塑，成型后撕开PET膜，并在表面进行喷涂防指纹油墨即可完成整个制作工序。现有的IMT手机后盖，因PET薄膜的选择使PET薄膜具有一定的瑕疵，而这种瑕疵问题会转印到离型层上，则在UV转印时必须采用较为复杂的纹理和厚度较厚的油墨来遮挡离型层的瑕疵，这就使整个手机后盖的视觉较暗。
鉴于此，本案发明人对上述问题进行深入研究，遂有本案产生。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能使手机后盖通透视觉效果佳，具有陶瓷釉面的视觉效果的仿陶瓷手机后盖的制备方法。
为了达到上述目的，本发明采用这样的技术方案：
一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，包括：1)薄膜取用，2)离型层形成，3)UV纹理层形成，4)电镀层形成，5)图案印刷层形成，6)注塑成型，7)撕膜处理，和8)喷涂工艺这几个步骤，其中图案印刷层形成、注塑、撕膜、喷涂工艺这几个步骤采用公知常用的方法；上述步骤1)中，薄膜选用其表面无幻彩、无桔皮、无划痕、透光率达92％的，且双面具有保护膜的PET膜；
上述步骤2)中，先对上述步骤1)的PET膜的两面进行表面撕除保护膜的操作，形成待处理膜片，之后采用夹缝式挤压涂布的方式在待处理膜片的一表面上涂布一层其透光率为92％以上的高透UV油墨层，形成具有离型层的处理膜片；
上述步骤3)中，采用UV转印技术在处理膜片的离型层上UV转印出一形成有若干条均匀并排排列在一起的线条纹理的光栅纹理图案层，光栅纹理图案层中两线条之间的间距在0.008-0.012毫米之间，上述UV转印技术所采用的压印模具的压印表面上形成有微米纳米级的条状透镜凸条的光栅纹理结构，上述光栅纹理结构由若干条紧密排列在一起的上述条状透镜凸条构成，各条状透镜凸条呈阵列排列，且上述条状透镜凸条的截面呈半圆形，上述UV转印技术所采用的UV胶水是东莞市贝特利新材料有限公司生产的，型号为625-8的UV胶水，最终形成膜片半成品；
上述步骤4)中，将上述膜片半成品放置真空光学电镀设备处进行真空电镀处理形成其电镀层具有四层的电镀膜片，且上述真空光学电镀设备的蒸发物质为其纯度为99.99％的二氧化锆；
上述步骤5)中，所采用的印刷网版为450目网纱网版。
上述离型层的厚度为20um。
上述步骤3)的光栅纹理图案层中两线条之间的间距为0.01毫米。
上述PET膜为其型号是东洋纺A4300的PET膜。
上述步骤8)中采用AF防指纹油墨进行二涂二烤处理，且上述AF防指纹油墨的厚度为30um。
采用上述技术方案后，本发明的一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，其通过对薄膜的限定选择、离型的涂布更改、UV转印的改进及电镀处理的蒸发物质的限定使成型出来的手机后盖的外表面通透效果极佳，并配合UV转印纹理的光栅纹理使手机后盖的外表面能呈现出非常细腻的陶瓷釉面视觉效果，使IMT手机后盖具有仿陶瓷的视觉效果，在手机后盖领域中取得巨大的突破，整体工艺简易，成型效果佳，成型成本低，易于推广应用，具有较大实用价值。
具体实施方式
为了进一步解释本发明的技术方案，下面通过具体实施例进行详细阐述。
一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，包括：1)薄膜取用，2)离型层形成，3)UV纹理层形成，4)电镀层形成，5)图案印刷层形成，6)注塑成型，7)撕膜处理，和8)喷涂工艺这几个步骤，其中，
在上述步骤1)中，薄膜选用其表面无幻彩、无桔皮、无划痕、透光率达92％的，且双面具有保护膜的PET膜，此PET膜为其型号是东洋纺A4300的PET膜；
在上述步骤2)中，先对上述步骤1)的PET膜的两面进行表面撕除保护膜的操作，形成待处理膜片，之后采用夹缝式挤压涂布的方式在待处理膜片的一表面上涂布一层其透光率为92％以上的高透UV油墨层，形成具有离型层的处理膜片，离型层的厚度优佳为20um；
在上述步骤3)中，采用UV转印技术在处理膜片的离型层上UV转印出一形成有若干条均匀并排排列在一起的线条纹理的光栅纹理图案层，光栅纹理图案层中两线条之间的间距在0.008-0.012毫米之间，此光栅纹理图案层中两线条之间的间距优佳为0.01毫米，此UV转印技术所采用的压印模具的压印表面上形成有微米纳米级的条状透镜凸条的光栅纹理结构，该光栅纹理结构由若干条紧密排列在一起的所述的条状透镜凸条构成，各条状透镜凸条呈阵列排列，且条状透镜凸条的截面呈半圆形，UV转印技术所采用的UV胶水是东莞市贝特利新材料有限公司生产的，型号为625-8的UV胶水，最终形成膜片半成品；
在上述步骤4)中，将步骤3)的膜片半成品放置真空光学电镀设备处进行真空电镀处理，得到具有电镀层的电镀膜片，且该真空光学电镀设备的蒸发物质为其纯度为99.99％的二氧化锆，电镀膜片上的电镀层为四层；
所述的步骤5)图案印刷层形成、步骤6)注塑、步骤7)撕膜及步骤8)喷涂工艺这几个步骤采用公知常用的方法，即采用的现有IMT工艺原来的工艺方法，在此不再累述。
本发明的一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，经发明人的多次研究得到采用本发明限定的薄膜使离型层在涂布时无瑕疵存在，并配合本发明限定的涂布方式和涂布涂料使涂布操作快速灵活，精度高且污染少，通透率提高，再配合光栅纹理和微米纳米级的精度使手机后盖在不同折射角度使手机后盖的表面纹理非常细腻、光泽，通透度高，最后配合所限定的其纯度为99.99％的二氧化锆的电镀介质和四层电镀层使膜片呈现不同高低折射率并多层次叠加生成特殊膜系效果，亮度好，并使电镀层所带色相少，进一步增加膜片的通透效果，综合上述改进使成型后的手机后盖的外表面能呈现出非常细腻的陶瓷釉面视觉效果，从而IMT手机后盖具有仿陶瓷的视觉效果，在手机后盖领域中取得巨大的突破，整体工艺简易，成型效果佳，成型成本低，易于推广应用，具有较大实用价值。本发明的仿陶瓷手机后盖，经发明人的多次研究得到，缺少上述任一特征均会使成型出来的手机后盖无法得到仿陶瓷的视觉效果，上述特征是相关联的，无法单独拆开。
本发明中，在步骤5)中，所采用的印刷网版为450目网纱网版，通过对此印刷网版的限定能杜绝因印刷油墨的颗粒度经注塑后造成手机后盖表面凹凸不平，影响表面效果的通透度，从而使手机后盖的仿陶瓷视觉效果更佳。
本发明中，在步骤8)中采用AF防指纹油墨进行二涂二烤处理，且AF防指纹油墨的厚度为30um，利用此二涂二烤工艺的AF防指纹油墨设计一方面起到防指纹效果，另一方面还能使手机后盖的表面通透效果不受影响。
上述实施例并非限定本发明的生产方式，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本发明的专利范畴。

Claims (5)

1.一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，包括：1)薄膜取用，2)离型层形成，3)UV纹理层形成，4)电镀层形成，5)图案印刷层形成，6)注塑成型，7)撕膜处理，和8)喷涂工艺这几个步骤，其中图案印刷层形成、注塑、撕膜、喷涂工艺这几个步骤采用公知常用的方法；其特征在于：上述步骤1)中，薄膜选用其表面无幻彩、无桔皮、无划痕、透光率达92％的，且双面具有保护膜的PET膜；
上述步骤2)中，先对上述步骤1)的PET膜的两面进行表面撕除保护膜的操作，形成待处理膜片，之后采用夹缝式挤压涂布的方式在待处理膜片的一表面上涂布一层其透光率为90％以上的高透UV油墨层，形成具有离型层的处理膜片；
上述步骤3)中，采用UV转印技术在处理膜片的离型层上UV转印出一形成有若干条均匀并排排列在一起的线条纹理的光栅纹理图案层，光栅纹理图案层中两线条之间的间距在0.008-0.012毫米之间，上述UV转印技术所采用的压印模具的压印表面上形成有微米纳米级的条状透镜凸条的光栅纹理结构，上述光栅纹理结构由若干条紧密排列在一起的上述条状透镜凸条构成，各条状透镜凸条呈阵列排列，且上述条状透镜凸条的截面呈半圆形，上述UV转印技术所采用的UV胶水是东莞市贝特利新材料有限公司生产的，型号为625-8的UV胶水，最终形成膜片半成品；
上述步骤4)中，将上述膜片半成品放置真空光学电镀设备处进行真空电镀处理得到其上具有四层电镀层的电镀膜片，且上述真空光学电镀设备的蒸发物质为其纯度为99.99％的二氧化锆；
上述步骤5)中，所采用的印刷网版为450目网纱网版。
2.根据权利要求1所述的一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，其特征在于：上述离型层的厚度为20um。
3.根据权利要求1所述的一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，其特征在于：上述步骤3)的光栅纹理图案层中两线条之间的间距为0.01毫米。
4.根据权利要求1所述的一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，其特征在于：上述PET膜为其型号是东洋纺A4300的PET膜。
5.根据权利要求1所述的一种仿陶瓷手机后盖的制备方法，其特征在于：上述步骤8)中采用AF防指纹油墨进行二涂二烤处理，且上述AF防指纹油墨的厚度为30um。
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