CN110493987A - 壳体组件、制备壳体组件的方法和电子设备 - Google Patents

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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

本申请提供了壳体组件、制备壳体组件的方法和电子设备，该壳体组件包括：基材和设置在所述基材的第一表面上的功能膜层，所述功能膜层包括层叠设置的第一颜色层、纹理层和镀膜层；其中，所述第一颜色层中具有镂空图案。该壳体组件通过在第一颜色层上形成镂空图案结合镀膜层形成LOGO或者装饰图案，制备工艺简单，成本较低，且外观精美。

Description

壳体组件、制备壳体组件的方法和电子设备
技术领域
本申请涉及电子设备技术领域，具体的，涉及壳体组件、制备壳体组件的方法和电子设备。
背景技术
目前，电子设备壳体制备常规LOGO(标识信息)或者图案的工艺主要有丝印、镀膜和拆件三种方式，具体的，丝印方法主要是通过丝印镜面银、镜面金等高反射的金属油墨形成所需要的字符图案形态，但该方法成本高、可靠性差、且亮度不够高、颜色有限；镀膜方法是通过真空镀膜方式形成LOGO或者图案，但流程很长，工序复杂(需要遮蔽操作或者刻蚀操作，图案化的镀膜层构成LOGO或者图案)，良率较低，价格较高；拆件的方式是将所需图案区掏空，然后将LOGO或者图案通过镶嵌的方式贴在壳体内部或者表面，但是费用高、可靠性不稳定，且尺寸受限。
因而，目前在壳体上制备LOGO或者图案的相关技术仍有待改进。
申请内容
本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本申请的目的在于提出一种成本低、制备步骤简单、外观精美的壳体组件、制备壳体组件的方法和电子设备。
在本申请的一个方面，本申请提供了一种壳体组件。根据本申请的实施例，该壳体组件包括：基材和设置在所述基材的第一表面上的功能膜层，所述功能膜层包括层叠设置的第一颜色层、纹理层和镀膜层；其中，所述第一颜色层中具有镂空图案。该壳体组件通过在第一颜色层上形成镂空图案结合纹理层和整层的镀膜层形成LOGO或者装饰图案，不需要单独通过丝印或者镀膜的方式形成LOGO或者装饰图案，而纹理层和镀膜层的颜色或效果可以通过镂空图案对用户可见以实现精美的外观，由此该壳体组件制备工艺简单，成本较低，且外观精美。
在本申请的另一方面，本申请提供了一种制备壳体组件的方法。根据本申请的实施例，该方法包括：在基材的第一表面上形成功能膜层；具体的，形成所述功能膜层包括：在所述第一表面上形成层叠设置的第一颜色层、纹理层和镀膜层，其中，所述第一颜色层中具有镂空图案。该方法通过使前工序第一颜色层镂空LOGO或者装饰图案区，最终在后工序整层镀膜一次实现LOGO或者装饰图案的绚丽外观效果(如幻彩和发光效果)，不需要单独采用丝印或真空镀膜方法，步骤简单、操作容易，良率高，且成本低，同时配合纹理层和镀膜层，可以实现镂空图案部分更加丰富多样的外观效果，使得壳体组件具有精美的外观，满足用户审美要求，提高用户体验。
在本申请的另一方面，本申请提供了一种电子设备。根据本申请的实施例，该电子设备包括：前面所述的壳体组件，所述壳体组件中设置有容纳空间，所述功能膜层位于所述基材朝向所述容纳空间的一侧；显示屏，所述显示屏设置在所述容纳空间中。该电子设备具有精美的外观，可以实现局部幻彩发光效果，且制备步骤简单，操作容易，成本较低。
附图说明
图1是本申请一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图2是本申请另一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图3是本申请另一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图4是本申请一个实施例的第一颜色层的平面结构示意图。
图5是本申请另一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图6是本申请一个实施例的第一颜色层(左图)和纹理层(右图)的平面结构示意图。
图7是本申请另一个实施例的第一颜色层(左图)和纹理层(右图)的平面结构示意图。
图8是本申请一个实施例的纹理层中的子结构的结构示意图。
图9是本申请另一个实施例的纹理层中的子结构的结构示意图。
图10是本申请另一个实施例的纹理层中的子结构的结构示意图。
图11是本申请一个实施例的纹理层中的子结构的底面的结构平面结构示意图。
图12是本申请一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图13是本申请另一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图14是本申请另一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图15是本申请另一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图16是本申请另一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图17是本申请另一个实施例的壳体组件的剖面结构示意图。
图18是本申请一个实施例的电子设备的结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
在本申请的一个方面，本申请提供了一种壳体组件。根据本申请的实施例，参照图1，该壳体组件包括：基材10和设置在所述基材10的第一表面上的功能膜层20，所述功能膜层包括层叠设置的第一颜色层21、纹理层22和镀膜层23；其中，所述第一颜色层21中具有镂空图案212。该壳体组件通过在第一颜色层上形成镂空图案结合纹理层和整层的镀膜层形成LOGO或者装饰图案，不需要单独通过丝印或者镀膜的方式形成LOGO或者装饰图案，且纹理层和镀膜层的颜色或效果可以通过镂空图案对用户可见以实现精美的外观，由此该壳体组件制备工艺简单，成本较低，且外观精美。
需要说明的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
可以理解，基材的具体种类没有特别限制，可以为任何已知的可以用于电子设备壳体的基材。具体的，可以为玻璃、塑料(如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)板材、PC(聚碳酸酯)板材、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)板材、TPU(热塑性弹性体)膜、PC+PMMA复合板、PET+PMMA复合板等等)、陶瓷等等。具体的，基材的厚度可以为0.05～0.8mm(具体如0.05mm、0.1mm、0.2mm、0.3mm、.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm等)。该厚度范围内，可以满足电子设备壳体组件关于力学性能等的要求，且不会过厚，符合轻薄化的发展趋势。一个具体实施例中，基材可以为PC+PMMA复合板，基材的厚度为0.64mm，其中PC层的厚度为0.59mm，PMMA层的厚度为0.05mm。
可以理解，基材的具体形状和结构没有特别限制，可以为常规电子设备壳体的相应形状和结构，例如整体可以为圆角矩形，且可以为平板结构、2.5D结构或者3D结构等。
具体的，第一颜色层21、纹理层22和镀膜层23的具体层叠顺序没有特别限制，一些具体实施例中，参照图1，所述第一颜色层21设置在所述基材10的第一表面上，所述纹理层22设置在所述第一颜色层21远离所述基材10的表面上，所述镀膜层23设置在所述纹理层22远离所述基材10的表面上。另一些具体实施例中，参照图2，所述纹理层22设置在所述第一表面上，所述镀膜层23设置在所述纹理层22远离所述基材10的表面上，所述第一颜色层21设置在所述镀膜层22远离所述基材10的表面上。
具体的，第一颜色层可以由具有预定颜色的油墨形成，具体如UV固化型油墨，且可以为单层结构，也可以为多层(如2层、3层、4层、5层等)结构，不同层的油墨的颜色可以相同也可以不同，具体的，每一层油墨的厚度可以为1～4微米。一些具体实施例中，可以通过CMYK四色油墨套印(即通过对青(C)、洋红(M)、黄(Y)、黑(K)四个颜色的油墨变化以及它们相互之间的叠加来得到各种颜色)形成第一颜色层。
可以理解，第一颜色层中的镂空图案的侧壁可以是倾斜设置的。具体的，参照图3，在远离所述基材10的方向上，所述镂空图案212的相对两侧的侧壁之间的距离H可以逐渐增大(参照图3)或者逐渐减小。由此，镂空图案边界处可以具有渐消效果，即镂空图案区域没有清晰的边界，而是逐渐从镂空图案的外观效果过渡到其他区域的外观效果，从而可以使得壳体组件的外观更丰富。
可以理解，第一颜色层中的镂空图案的具体形状没有特别限制，可以根据实际需要灵活选择，例如可以为生厂商标识、任何已知字符、任何几何形状、动物形状、植物形状或随机形状和线条等等的装饰图案等，具体的，图4示出了镂空图案包括字符和装饰图案的情形。
具体的，纹理层的具体种类可以根据实际需要灵活选择，一些具体实施例中，纹理层可以为UV转印纹理，具体可以由树脂(如聚氨酯丙烯酸酯)形成，厚度可以为5-15微米(具体如5微米、6微米、7微米、8微米、9微米、10微米、11微米、12微米、13微米、14微米、15微米等)，由此，既不会因为厚度太薄而施工较难，也不会因厚度太厚而脆性增加。
可以理解，纹理层可以整层的纹理效果一致，也可以使其中的不同位置具有不同的纹理效果，以实现更加丰富的外观效果。具体的，参照图5，纹理层22中可以具有幻彩纹理区221，所述幻彩纹理区221在所述基材10上的正投影覆盖所述镂空图案212在所述基材10上的正投影。由此，镂空图案区域可以实现幻彩、发光(即具备很强的幻彩反射外观)的效果，使得壳体组件具有更强的视觉冲击，且与目前相关技术中的幻彩工艺相比，本申请的幻彩效果更炫丽，可靠性好，并可以实现局部幻彩，更好的提高用户体验。
一些具体实施例中，参照图6(其中，左图为第一颜色层的平面结构示意图，右图为纹理层的平面结构示意图)，幻彩纹理区221在所述基材10上的正投影的面积可以大于所述镂空图案212在所述基材10上的正投影的面积。此时，幻彩纹理的形状比较简单，便于制备。另一些具体实施例中，参照图7(其中，左图为第一颜色层的平面结构示意图，右图为纹理层的平面结构示意图)，幻彩纹理区221在所述基材10上的正投影可以与所述镂空图案212在所述基材10上的正投影重叠。由此，幻彩纹理区与镂空图案正对设置，镂空图案边界更加清晰。
可以理解，幻彩纹理可以为全息衍射光栅纹理。具体的，当两束相关光汇聚在一起，可以产生明暗相间的干涉条纹，这种条纹密度很高，可以达到微米甚至纳米量级，这种微纳米量级的干涉条纹就是一种光栅结构，这种光栅结构既可以根据设计再现三维立体影像，也可以对白光的进行色散分离，称之为光的衍射，通过设计合适的全息衍射光栅纹理可以有效实现幻彩效果。
具体的，所述全息衍射光栅纹理包括多个周期分布的子结构222，所述子结构222的形状包括棱锥、圆锥和棱柱中的至少一种。具体的，周期分布的具体方式没有特别限制，只要能够有效实现幻彩效果即可，例如子结构可以成行成列分布等。一些具体实施例中，子结构222的形状可以三棱锥(参照图8和图9)或四棱柱(参照图10)。由此，可以实现更加绚丽的幻彩外观。
可以理解，参照图8至图10，纹理层还可以包括基膜层224，子结构设置在基膜层224远离基材10的表面上。可以理解，上述子结构的具体尺寸可以根据想要实现的幻彩效果进行调整。一些具体实施例中，参照图9和图11，所述子结构的底面(即子结构朝向基材的面)的最小外接矩形(即可以将子结构的底面覆盖的面积最小的矩形)的长度L可以为100～1000纳米(具体如100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1000nm等)；所述子结构的底面的最小外接矩形的宽度W可以为100～1000纳米(具体如100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1000nm等)；所述子结构的高度H1可以小于1000纳米(具体如100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm等)；相邻两个所述子结构之间的间距D可以为100～1000纳米(具体如100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1000nm等)。可以理解，上述子结构可以满足上述任意一个条件、任意两个条件、任意三个条件或者全部四个条件，在该尺寸范围内，全息衍射光栅纹理可以呈现更加绚丽的幻彩效果，且具有发光效果，使得壳体组件的外观更加精美，能够更好的满足用户的审美要求，提高用户体验。图11仅示出了子结构222的底面为直接直角三角形的情形，但本领域技术人员可以理解，图11仅是示例性说明本申请的方案，不能理解为对本申请的限制。
具体的，由于通过镂空图案形成了LOGO或者装饰图案的图案形状，本申请中的镀膜层为整层结构，即镀膜层覆盖在纹理层远离基材的整个表面，制备过程中不需要遮蔽或者镀膜之后的刻蚀操作，具体可以通过不导电电镀技术(如真空电镀)形成镀膜层，电镀的材料可为In/Sn、TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2、ZrO2或者其他不导电氧化物。镀膜层可以为单层，也可以为上述氧化物的组合多层。镀膜层的厚度可以为5-300nm(具体如5nm、10nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm等)。一些具体实施例中，若所需LOGO或图案的颜色为银色为背景的幻彩，则镀膜层的材料可以为In或In-Sn，使得镂空图案呈现电镀In或In-Sn的银色幻彩；若所需LOGO或图案是蓝色或者紫色等彩色幻彩效果，则镀膜层的材料可以选TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2、ZrO2氧化物的组合，使得镂空图案为彩色背景的幻彩效果。
可以理解，当第一颜色层21、纹理层22和镀膜层23依次层叠设置时，参照图12，所述功能膜层20还可以包括第一光油层24和第二光油层25中的至少之一，其中，所述第一光油层24设置在所述基材10和所述第一颜色层21之间，所述第二光油层25设置在所述第一颜色层21和所述纹理层22之间。由此，可以使得第一颜色层和基材之间以及第一颜色层和纹理层之间具有良好的附着力，同时可以较好的保护颜色层。
进一步的，参照图12，所述第二光油层25的一部分可以填充在所述镂空图案212中，且所述第二光油层25远离所述基材10的表面252为平面。由此，可以直接形成整层的第二光油层，不需要对镂空图案区域进行特别的处理(例如遮蔽操作等)，操作步骤比较简单，且后续的纹理层、镀膜层可以在平坦的表面上形成，便于制备和操作，利于提高良率。
具体的，光油层由光油形成，而光油是一种合成树脂，通常是指表面透明清漆，由基料和助剂等做成，不加任何颜料，成膜后油光发亮，俗称叫清漆，具体可以为UV光油或PU光油。一些具体实施例中，光油层为聚氨酯树脂层，厚度可以为4～12微米(具体如4微米、5微米、6微米、7微米、8微米、微米、10微米、11微米、12微米等)。由此，附着力较强，保护效果较好，且厚度适宜，既不会过薄而使得附着力和保护效果不足，也不会过厚易于开裂、脱落，以及明显增加壳体组件的厚度。
可以理解，当纹理层22、镀膜层23和第一颜色层21依次层叠设置时，参照图13，所述功能膜层20还可以包括：第三光油层26，所述第三光油层26设置在所述镀膜层23和所述第一颜色层21之间。由此，可以显著提高第一颜色层21和镀膜层23之间的附着力，避免颜色层脱落，提高壳体组件的使用性能。
可以理解，参照图14和图15，功能膜层20还可以包括：第二颜色层27，所述第二颜色层27设置在所述第一颜色层21的镂空图案212中，所述第二颜色层27的颜色与所述第一颜色层21的颜色不同。由此，镂空图案的部分颜色与第一颜色层不同，用户可以清晰的分辨出镂空图案(即LOGO或装饰图案)，具体的，第一颜色层和第二颜色层的差异最好比较明显，由此LOGO或者装饰图案比较突出，视觉效果较强。一些具体实施例中，第二颜色的颜色比第一颜色层的颜色浅，具体第一颜色层的颜色可以仅有比较浅的颜色，由此即既能够实现良好的外观效果，且还可以凸显LOGO或装饰图案，使得壳体组件具有较佳的外观效果。
可以理解，参照图16和图17，该壳体组件还可以包括：盖底层30，所述盖底层30设置在所述功能膜层20远离所述基材10的表面上；硬化层40，所述硬化层40设置在所述基材10的第二表面上，所述第二表面与所述第一表面相对设置。一些具体实施例中，参照图17，第一颜色层21与盖底层30相邻设置时，盖底层30的一部分可以填充在镂空图案212中。由此，盖底层可以保证壳体组件不会透光，硬化层可以使得壳体组件具有较佳的力学性能、耐磨、抗刮擦性能等。
具体的，盖底层可以为盖底油墨层，采用的盖底油墨可以为黑色或者白色等，可以为单层结构也可以为多层结构，而厚度可以为10～30微米(具体如10微米、15微米、20微米、25微米、30微米等)。由此，可以有效防止漏光，且不会过厚而容易开裂和脱落等。
具体的，硬化层的主要成分可以为聚氨酯丙烯酸酯添加有机硅树脂和全氟聚醚丙烯酸酯。通过控制硬化层的组分和厚度(厚度越大，硬度越高)，硬化后的表面硬度在3H～6H范围内可调，具体的，硬化层的厚度可以为3～20微米(具体如3微米、5微米、10微米、15微米、20微米等)。由此，可以较宽的范围内使得壳体组件具有合适的硬度，满足不同使用环境的要求。
本申请的上述壳体组件成本低，具体的，本申请不需要丝印LOGO或者装饰图案，同时也不需要常规镀膜LOGO或者装饰图案这样繁琐的保护和退镀工序，减少工序，将后工序所需镀膜和LOGO或者装饰图案相结合，实现一次镀膜达成两个目的，有效降低成本。本申请的上述壳体组件可靠性优，具体的，镂空图案区域水煮100摄氏度30min百格测试(参照ASTM3359)附着力为5B，即切口的边缘完全光滑、格子边缘没有任何剥落，可以达到最佳的水煮百格测试结果，可靠性优异，同时外观光泽度较高，大大优于单独丝印形成LOGO(水煮100摄氏度30min百格测试附着力0B，外光光泽度低)和单独镀膜形成LOGO(水煮100摄氏度30min百格测试附着力5B，外观光泽度好，但成本较高)。本申请的上述壳体组件光泽度好，由于本方案形成的镂空图案区域的外观效果主要是通过镀膜层实现，故光泽度与镀膜层是一致的。且本申请的上述壳体组件具有极佳的炫目幻彩效果，具体的，镂空图案区域的全息幻彩纹理配合镀膜层的高反射，使得镂空图案区域具备极具质感的幻彩效果。
在本申请的另一方面，本申请提供了一种制备壳体组件的方法。根据本申请的实施例，该方法包括：在基材的第一表面上形成功能膜层；具体的，形成所述功能膜层包括：在所述第一表面上形成层叠设置的第一颜色层、纹理层和镀膜层，其中，所述第一颜色层中具有镂空图案。该方法通过使前工序第一颜色层镂空LOGO或者装饰图案区，最终在后工序镀膜一次实现LOGO或者装饰图案的绚丽外观效果(如幻彩和发光效果)，不需要采用丝印或真空镀膜方法，步骤简单、操作容易，良率高，且成本低，同时配合纹理层和镀膜层，可以实现镂空图案部分更加丰富多样的外观效果，使得壳体组件具有精美的外观，满足用户审美要求，提高用户体验。另外，本领域技术人员可以理解，该方法可以有效用于制备前面所述的壳体组件。
一些具体实施例中，所述功能膜层可以通过以下步骤(1)形成：(1)在所述第一表面上依次形成第一光油层、所述第一颜色层、第二光油层、所述纹理层和所述镀膜层。另一些具体实施例中，所述功能膜层可以通过以下步骤(2)形成：(2)在所述第一表面上依次形成所述纹理层、所述镀膜层、第三光油层和所述第一颜色层。另一些具体实施例中，所述功能膜层可以通过以下步骤(3)形成：(3)在所述第一表面上依次形成第一光油层、所述第一颜色层、第二颜色层、第二光油层、所述纹理层和所述镀膜层。另一些具体实施例中，所述功能膜层可以通过以下步骤(4)形成：(4)在所述第一表面上依次形成所述纹理层、所述镀膜层、第三光油层、所述第一颜色层和所述第二颜色层。其中，所述第二颜色层设置在所述第一颜色层中的镂空图案中。
可以理解，所述第一颜色层和所述第二颜色层可以通过胶印、丝印、打印和热转印中的任意一种方法形成的，具体的，上述胶印、丝印、打印和热转印均可以根据常规技术和壳体组件的性能要求进行，一些具体实施例中，可以通过胶印形成第一颜色层和第二颜色层，具体可以采用UV固化型油墨，通过CMYK四色油墨组合成颜色层的彩色效果，每一层单色油墨的厚度可以为1～4微米。
可以理解，所述纹理层可以通过UV转印方法形成，具体的，转印胶水可以为聚氨酯丙烯酸酯，厚度宜为5～15微米(如厚度太薄，施工较难；如厚度太厚，脆性增加)，固化能量可以为800-2500mJ/cm2(具体如800mJ/cm2、1000mJ/cm2、1200mJ/cm2、1500mJ/cm2、1800mJ/cm2、2000mJ/cm2、2200mJ/cm2、2500mJ/cm2等)(如固化能量太低，固化不完全，影响转印层的结合力和后工序镀膜结合力)，固化方式为LED或者汞灯固化。
可以理解，所述镀膜层可以通过真空电镀方法形成，具体的，通过NCVM(不导电电镀技术)的方法，在纹理层上电镀一层镀膜层，电镀的材料可以为In/Sn、TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2、ZrO2或者其他不导电氧化物。镀膜层可以为单层，也可以为上述氧化物的组合多层。镀膜层的厚度可以为5～300nm。一些具体实施例中，若所需镂空图案区域的颜色为银色为背景的幻彩，则电镀材料可以选择In、In-Sn，使得镂空图案区域呈现电镀In的银色幻彩；若所需镂空图案区域是蓝色或者紫色等彩色幻彩效果，则电镀材料可以选TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2、ZrO2氧化物的组合，使得镂空区域为彩色背景的幻彩效果。
可以理解，所述第一光油层、第二光油层和所述第三光油层可以通过丝印方法形成，具体的，可以在基材表面上或镀膜层表面上丝印一层透明光油层，光油层材料可以为聚氨酯树脂，厚度可以为4～12微米，固化工艺可以为60-85摄氏度(具体如60摄氏度、65摄氏度、70摄氏度、75摄氏度、80摄氏度、85摄氏度等)烘烤20-60min(具体如20min、30min、40min、50min、60min等)。
可以理解，上述制备壳体组件的方法还可以包括：在所述功能膜层远离所述基材的表面上形成盖底层；在所述基材的第二表面上形成硬化层，所述第二表面与所述第二表面性对设置。具体的，所述盖底层可以通过印刷方法形成，具体可在电镀层或者第一颜色层表面在印刷盖底油墨，保证盖底不会透光，采用的盖底油墨可以为黑色或者白色，还可以通过往复涂多层干燥的方法防止漏光，厚度可以为10-30微米。而所述硬化层可以通过淋涂方法形成，具体可以在基材的第二表面上淋涂硬化层，然后通过UV固化的方式将硬化层完全固化，固化能量可以400-1200mJ/cm2，硬化层的主要成分可以为聚氨酯丙烯酸酯添加有机硅树脂和全氟聚醚丙烯酸酯，硬化后的表面硬度在3H-6H范围内可调(通过控制硬化层的组分和厚度，厚度越大，硬度越高)，硬化层厚度可以3～20微米。
可以理解，在形成所述盖底层和所述功能膜层之后，并在形成所述硬化层之前，上述制备壳体组件的方法还可以包括：对形成有所述盖底层和所述功能膜层的所述基材进行成型处理的步骤。由此，可以获得2.5D或者3D结构的壳体组件。具体的，成型处理可以采用高压成型处理，具体可以将上述基材置入高压成型机进行热弯成型，获得所需要弧度的2.5D或者3D壳体组件，热弯的温度可以130～240℃(具体如130℃、150℃、180℃、200℃、220℃、240℃等),成型压力可以为15～100Bar(具体如15Bar、30Bar、50Bar、80Bar、100Bar等),热压时间可以为0.3～2min(具体如0.3min、0.5min、1.0min、1.5min、2.0min等)。
可以理解，在形成硬化层之后，该制备壳体组件的方法还可以包括CNC加工的步骤，具体的，该步骤可以将硬化后的壳体组件进行CNC加工，铣去多余的边角料，获得最终所需组装配合尺寸的壳体组件。
在本申请的另一方面，本申请提供了一种电子设备。根据本申请的实施例，参照图18，该电子设备包括：前面所述的壳体组件100，所述壳体组件100中设置有容纳空间，所述功能膜层位于所述基材朝向所述容纳空间的一侧；显示屏200，所述显示屏200设置在所述容纳空间中。该电子设备具有精美的外观，可以实现局部幻彩发光效果，且制备步骤简单，操作容易，成本较低。
可以理解，该电子设备的具体种类没有特别限制，例如包括但不限于手机、平板电脑、可穿戴设备、游戏机等等。本领域技术人员也可以理解，处理前面所述的壳体组件和显示屏，该电子设备还可以包括常规电子设备必要的结构和部件，以手机为例，还可以包括触控屏、指纹识别模组、照相模组、主板、储存器、声音处理系统等等，在此不再一一赘述。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (18)

1.一种壳体组件，其特征在于，包括基材和设置在所述基材的第一表面上的功能膜层，所述功能膜层包括层叠设置的第一颜色层、纹理层和镀膜层；
其中，所述第一颜色层中具有镂空图案。
2.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述纹理层中具有幻彩纹理区，所述幻彩纹理区在所述基材上的正投影覆盖所述镂空图案在所述基材上的正投影。
3.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述第一颜色层设置在所述基材的第一表面上，所述纹理层设置在所述第一颜色层远离所述基材的表面上，所述镀膜层设置在所述纹理层远离所述基材的表面上。
4.根据权利要求3所述的壳体组件，其特征在于，所述功能膜层还包括第一光油层和第二光油层中的至少之一，其中，所述第一光油层设置在所述基材和所述第一颜色层之间，所述第二光油层设置在所述第一颜色层和所述纹理层之间。
5.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述纹理层设置在所述第一表面上，所述镀膜层设置在所述纹理层远离所述基材的表面上，所述第一颜色层设置在所述镀膜层远离所述基材的表面上。
6.根据权利要求5所述的壳体组件，其特征在于，所述功能膜层还包括：
第三光油层，所述第三光油层设置在所述镀膜层和所述第一颜色层之间。
7.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，在远离所述基材的方向上，所述镂空图案的相对两侧的侧壁之间的距离逐渐增大或者逐渐减小。
8.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述幻彩纹理为全息衍射光栅纹理。
9.根据权利要求8所述的壳体组件，其特征在于，所述全息衍射光栅纹理包括多个周期分布的子结构，所述子结构的形状包括棱锥、圆锥和棱柱中的至少一种。
10.根据权利要求9所述的壳体组件，其特征在于，所述子结构满足以下条件的至少一种：
所述子结构的底面的最小外接矩形的长度为100～1000纳米；
所述子结构的底面的最小外接矩形的宽度为100～1000纳米；
所述子结构的高度小于1000纳米；
相邻两个所述子结构之间的间距为100～1000纳米。
11.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，还包括：
第二颜色层，所述第二颜色层设置在所述第一颜色层的镂空图案中，所述第二颜色层的颜色与所述第一颜色层的颜色不同。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的壳体组件，其特征在于，还包括：
盖底层，所述盖底层设置在所述功能膜层远离所述基材的表面上；
硬化层，所述硬化层设置在所述基材的第二表面上，所述第二表面与所述第一表面相对设置。
13.一种制备壳体组件的方法，其特征在于，包括：
在基材的第一表面上形成功能膜层；
形成所述功能膜层包括：
在所述第一表面上形成层叠设置的第一颜色层、纹理层和镀膜层，其中，所述第一颜色层中具有镂空图案。
14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述功能膜层是通过以下方式(1)、方式(2)、方式(3)或方式(4)形成的：
(1)在所述第一表面上依次形成第一光油层、所述第一颜色层、第二光油层、所述纹理层和所述镀膜层；
(2)在所述第一表面上依次形成所述纹理层、所述镀膜层、第三光油层和所述第一颜色层；
(3)在所述第一表面上依次形成第一光油层、所述第一颜色层、第二颜色层、第二光油层、所述纹理层和所述镀膜层；
(4)在所述第一表面上依次形成所述纹理层、所述镀膜层、第三光油层、所述第一颜色层和所述第二颜色层；
其中，所述第二颜色层设置在所述第一颜色层中的镂空图案中。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，还包括：
在所述功能膜层远离所述基材的表面上形成盖底层；
在所述基材的第二表面上形成硬化层，所述第二表面与所述第二表面性对设置。
16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，在形成所述盖底层和所述功能膜层之后，并在形成所述硬化层之前，还包括：
对形成有所述盖底层和所述功能膜层的所述基材进行成型处理的步骤。
17.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述第一颜色层和所述第二颜色层是通过胶印、丝印、打印和热转印中的任意一种方法形成的；
所述纹理层是通过UV转印方法形成的；
所述镀膜层是通过真空电镀方法形成的；
所述第一光油层、第二光油层和所述第三光油层是通过丝印方法形成的；
所述盖底层是通过印刷方法形成的；
所述硬化层是通过淋涂方法形成的。
18.一种电子设备，其特征在于，包括：
权利要求1～12中任一项所述的壳体组件，所述壳体组件中设置有容纳空间，所述功能膜层位于所述基材朝向素数容纳空间的一侧；
显示屏，所述显示屏设置在所述容纳空间中。
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