CN111049959B - 壳体组件、壳体组件的制备方法及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本申请提供了一种壳体组件，包括透明衬底和设置在透明衬底上的光学膜层、第一颜色层和修饰层；第一颜色层设置在光学膜层的表面，第一颜色层具有镂空部；修饰层部分设置在第一颜色层远离光学膜层的表面，部分设置在镂空部露出的光学膜层的表面，修饰层包括第二颜色层和设置在第二颜色层表面的镀膜层，第二颜色层和镀膜层中靠近光学膜层的层的光学透过率大于30％，第一颜色层的光学透过率小于10％，第一颜色层和第二颜色层的颜色不同。该壳体组件实现了不同质感的撞色效果，提高壳体组件视觉效果和外观表现力。本申请还提供了壳体组件的制备方法以及包括上述壳体组件的电子设备。

Description

壳体组件、壳体组件的制备方法及电子设备
技术领域
本申请属于电子产品技术领域，具体涉及壳体组件、壳体组件的制备方法及电子设备。
背景技术
随着电子设备的不断发展，用户对壳体外观效果的要求也越来越高，单一色调的外观已经无法满足用户需求。因此，越来越多的壳体的外观效果朝向多样化发展。
发明内容
鉴于此，本申请提供了一种实现不同质感的撞色效果的壳体组件、壳体组件的制备方法和电子设备。
第一方面，本申请提供了一种壳体组件，包括透明衬底和设置在所述透明衬底上的光学膜层、第一颜色层和修饰层；
所述第一颜色层设置在所述光学膜层的表面，所述第一颜色层具有镂空部；
所述修饰层部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，部分设置在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第一颜色层的光学透过率小于10％，所述第一颜色层和所述第二颜色层的颜色不同。
第二方面，本申请提供了一种壳体组件的制备方法，包括：
提供透明衬底，在所述透明衬底上成型光学膜层、第一颜色层和修饰层，其中，所述第一颜色层设置在所述光学膜层的表面，所述第一颜色层具有镂空部；所述修饰层部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，部分设置在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第一颜色层的光学透过率小于10％，所述第二颜色层和所述第一颜色层的颜色不同。
第三方面，本申请提供了一种电子设备，包括显示屏，以及设置在所述显示屏相对两侧的盖板和壳体组件，所述壳体组件包括透明衬底和设置在所述透明衬底上的光学膜层、第一颜色层和修饰层；所述第一颜色层设置在所述光学膜层的表面，所述第一颜色层具有镂空部；所述修饰层部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，部分设置在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第一颜色层的光学透过率小于10％，所述第二颜色层和所述第一颜色层的颜色不同，所述壳体组件具有相对设置的内表面和外表面，所述光学膜层至所述修饰层的方向与所述外表面至所述内表面的方向一致。
本申请提供了一种壳体组件和壳体组件的制备方法，通过设置具有镂空部的第一颜色层，以使得透明衬底的表面部分被光学膜层和第一颜色层覆盖，部分被光学膜层、第二颜色层和镀膜层覆盖，呈现了不同的颜色和光泽质感效果，实现不同质感的撞色效果，丰富壳体组件的视觉效果；本申请还提供了包括上述壳体组件的电子设备，以提高电子设备的外观表现力。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案，下面将对本申请实施方式中所需要使用的附图进行说明。
图1为本申请一实施例的壳体组件的结构示意图。
图2为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图3为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图4为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图5为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图6为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图7为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图8为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图9为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图10为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图11为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图。
图12为本申请一实施例的壳体组件的制备方法的流程示意图。
图13为本申请另一实施例的壳体组件的制备方法的流程示意图。
图14为本申请一实施例的电子设备的结构示意图。
附图说明：
透明衬底-10，光学膜层-20，第一颜色层-30，修饰层-40，第二颜色层-41，镀膜层-42，第二纹理层-43，第一纹理层-50，连接层-60，保护层-70，遮光层-80，壳体组件-100，显示屏-200，盖板-300。
具体实施方式
以下是本申请的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参考图1，图1为本申请一实施例的壳体组件100的结构示意图，壳体组件100包括透明衬底10和设置在透明衬底10上的光学膜层20、第一颜色层30和修饰层40；第一颜色层30设置在光学膜层20的表面，第一颜色层30具有镂空部；修饰层40部分设置在第一颜色层30远离光学膜层20的表面，部分设置在镂空部露出的光学膜层20的表面，修饰层40包括第二颜色层41和设置在第二颜色层41表面的镀膜层42，第二颜色层41和镀膜层42中靠近光学膜层20的层的光学透过率大于30％，第一颜色层30的光学透过率小于10％，第一颜色层30和第二颜色层41的颜色不同。通过设置光学膜层20和具有镂空部的第一颜色层30，使得透明衬底10上部分覆盖第一颜色层30，覆盖有第一颜色层30的区域具有光学膜层20和第一颜色层30叠加呈现的一种颜色和光泽质感的外观效果；同时，在镂空部对应区域设置了第二颜色层41和镀膜层42，镂空部对应区域具有光学膜层20、第二颜色层41和镀膜层42叠加呈现的另一种颜色和光泽质感的外观效果，使得壳体组件100具有不同的颜色区域，并且不同颜色区域的光泽质感也不同，实现了不同质感的撞色效果，丰富了壳体组件100的外观效果，提高了壳体组件100的外观表现力，并且相较于需要进行套印工艺进行设计的方案，本申请提供的壳体组件100中不同颜色层之间不会出现错位、界限明显、搭接线不良等瑕疵，具有良好的外观效果。
在本申请中，形成透明衬底10的材质不受特别限制，例如可以为任何已知的可以用于电子设备壳体的材料。可选的，透明衬底10的材质包括有机高分子化合物和无机非金属材料中的至少一种。进一步的，透明衬底10的材质包括聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、热塑性聚氨酯(TPU)、玻璃和陶瓷中的至少一种。在一实施例中，透明衬底10是由聚对苯二甲酸乙二醇酯层和聚甲基丙烯酸甲酯层层叠形成。在本申请中，透明衬底10具有一定的透光性。可选的，透明衬底10的光学透过率大于90％。其中，光学透过率为在380nm-780nm波段下光线的透过率。具体的，透明衬底10的厚度不受特别限制，例如透明衬底10的厚度为0.05mm-0.8mm，具体的可以但不限于为0.05mm、0.08mm、0.15mm、0.3mm、0.45mm、0.5mm、0.68mm、0.77mm、0.8mm等，以满足壳体组件100抗冲击力的要求，并且不至于过厚，符合轻薄化的需求。在一实施例中，透明衬底10是由聚碳酸酯层和聚甲基丙烯酸甲酯层层叠形成，聚碳酸酯层的厚度为0.59nm，聚甲基丙烯酸甲酯的厚度为0.05nm，透明衬底10的厚度为0.64mm。在本申请中，透明衬底10可以但不限于为电子设备的后壳和/或中框。例如，透明衬底10可以直接作为电子设备的壳体使用，也可以在透明衬底10上形成功能膜层后，再将其作为壳体使用。在本申请中，对透明衬底10具体形状和尺寸不作限定，可以根据实际需要进行选择和设计，例如透明衬底10的形状可以为2D形状、2.5D形状或3D形状。在一实施例中，可以在透明衬底10的表面丝印图案、文字等，具体的，可以丝印商标图案(Logo)等，提高壳体组件100的视觉效果；例如，丝印的厚度为1μm-4μm，在60℃-80℃烘烤45min-80min即可。
可以理解的，光学膜层20是一种通过其界面传播光线的光学介质材料层，可以改变穿过光学膜层20的光线的反射、折射等，使得壳体组件100呈现一定的光泽变化，如在不同角度下呈现出不同颜色光泽、带来金属质感等视觉效果；通过改变光学膜层20的材质、厚度和层数等改变光学膜层20的反射率、折射率和透光率，实现不同的视觉效果，满足不同场景下的需求。在本申请中，光学膜层20的材质选自能够使光学膜层20具有一定光学效果的物质，具体的可以但不限于为使光学膜层20具有一定的折射率、透过率、反射率等。在本申请中，光学膜层20的光学透过率大于15％，以使得其他层结构的视觉效果可以呈现出来。可选的，光学膜层20的光学透过率大于50％。进一步的，光学膜层20的光学透过率大于80％。光学膜层20的材质可以为无机物，也可以为有机物。可选的，有机物包括聚醚、聚酯、氟代聚合物和含硅聚合物中的至少一种。当光学膜层20的材质为有机物时，光学膜层20柔性好，可弯曲性好，能够进行剪裁得到所需尺寸的光学膜层20。可选的，无机物包括金属单质、无机氧化物和无机氟化物中的至少一种。在一实施例中，光学膜层20的材质包括金属单质、无机氧化物和无机氟化物中的至少一种，例如光学膜层20的材质包括TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2和ZrO2或者其他不导电氧化物中的至少一种。例如，光学膜层20的材料可以选自TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2和ZrO2中至少两种的组合，以使得光学膜层20呈现蓝色或紫色等彩色光泽质感的效果。
在本申请中，光学膜层20可以为单层膜结构，也可以为多层膜结构。当光学膜层20为多层膜结构时，可以通过控制每一层的材质和厚度，以及各层之间的配合，以达到所需的功能。可选的，光学膜层20由至少两种具有不同折射率的光学薄膜交替层叠形成。也就是说，光学膜层20由多个光学薄膜组成时，相邻的光学薄膜的折射率不同。进一步的，光学膜层20由至少两种具有不同折射率的薄膜周期性地交替层叠形成。多个光学薄膜的材质、厚度可以相同，可以不同。多个光学薄膜的光学性质不同，光线通过多个光学薄膜后，每个光线薄膜表面均会发生反射和折射，产生更加丰富的外观效果。具体的，光学膜层20可以但不限于包括2层、3层、4层、5层、6层、7层或8层光学薄膜。在一实施例中，光学膜层20由三层二氧化硅光学薄膜和三层二氧化钛光学薄膜交替层叠形成。可选的，光学膜层20的厚度为80-500nm，具体的可以但不限于为80nm、100nm、180nm、250nm、300nm、470nm、500nm等，过薄会导致光学膜层20呈现的光泽质感效果太弱，过厚会导致的膜层内的应力过大，容易脱落，该厚度范围有利于呈现光学膜层20的视觉效果，同时保证光学膜层20的使用寿命。本申请中的光学膜层20为整层结构，制备过程中无需遮蔽或刻蚀，更易制备性能优异的光学膜层20。在本申请中，光学膜层20的形成方法不受特别限制，例如可以通过物理气相沉积法形成，也可以通过真空镀膜法形成。在一实施例中，光学膜层20通过真空不导电电镀(NVCM)工艺形成。当壳体组件100具有光学膜层20时，壳体组件100可以在不同角度下反射出一定的光泽质感，提高壳体组件100的外观表现力。
在本申请中，第一颜色层30设置在光学膜层20的表面，第一颜色层30用于对壳体组件100进行着色，使壳体组件100具有丰富的外观效果。具体的，第一颜色层30的厚度不受特别限制，例如第一颜色层30的厚度可以为3μm-10μm，具体的可以为4μm、5μm、6.5μm、7.2μm、8μm或9μm等。第一颜色层30的厚度在上述范围时，可以使壳体组件100具有良好的颜色效果。
在本申请中，第一颜色层30具有镂空部，也就是说，第一颜色层30设置在透明衬底10的部分表面。镂空部可以但不限于为预设的图案、文字等。具体的，镂空部的形状等不受特别限制，可以通过对镂空部的形状进行设计，使壳体组件100呈现丰富的外观效果。具体的，可以通过胶印、丝印、打印和热转印中至少一种工艺成型第一颜色层30，例如可以通过丝印控制第一颜色层30材料的位置，直接形成具有镂空部的第一颜色层30；也可以在光学膜层20的表面涂覆整层的第一颜色层30材料，经固化后通过刻蚀处理形成镂空部；还可以预先在光学膜层20上设置掩膜板，直接丝印形成具有镂空部的第一颜色层30。在一实施例中，可以通过控制菲林片来控制镂空部的形成，以在光学膜层20上成型具有镂空部的第一颜色层30。在一实施例中，第一颜色层30可以由具有预定颜色的油墨形成，具体的如UV固化型油墨等。第一颜色层30可以为单层结构，也可以为多层结构，形成不同层的油墨颜色可以相同也可以不同。具体的，油墨颜色可以但不限于为黄色、红色、蓝色、绿色、白色、黑色等。在一具体实施例中，控制丝印的菲林片图案，在光学膜层20上涂覆4μm-8μm厚的颜色油墨，在60℃-90℃烘烤30min-60min后形成具有镂空部的第一颜色层30。在本申请中，第一颜色层30的光学透过率小于10％，以使得第一颜色层30可以对光线产生阻挡作用，在光线传播方向上位于第一颜色层30后方的膜层的视觉效果，而第一颜色层30中的镂空部则可以呈现后方膜层的视觉效果，进而产生视觉效果差异，从而提高壳体组件100的外观表现力。
在本申请中，修饰层40部分设置在第一颜色层30远离光学膜层20的表面，部分设置在镂空部露出的光学膜层20的表面，也就是说，修饰层40在光学膜层20上的正投影完全覆盖镂空部在光学膜层20上的正投影。修饰层40用于对壳体组件100进行修饰、装饰效果，并产生与第一颜色层30非镂空区域不同的视觉效果。在一实施例中，修饰层40远离光学膜层20的表面为平整表面。修饰层40包括第二颜色层41和设置在第二颜色层41表面的镀膜层42，第二颜色层41和镀膜层42中靠近光学膜层20的层的光学透过率大于30％，也就是说，第二颜色层41和镀膜层42中，当第二颜色层41更靠近光学膜层20时，第二颜色层41的光学透过率大于30％，以使得镀膜层42的视觉效果可以呈现出来，不被第二颜色层41遮挡；当镀膜层42更靠近光学膜层20时，镀膜层42的光学透过率大于30％，以使得第二颜色层41的视觉效果可以呈现出来，不被镀膜层42遮挡。
第二颜色层41用于对壳体组件100进行着色，使壳体组件100具有丰富的外观效果。具体的，第二颜色层41的厚度不受特别限制，例如第二颜色层41的厚度可以为3μm-10μm，具体的可以为4μm、5μm、6μm、7μm、8μm或9μm等。第二颜色层41的厚度在上述范围时，可以使壳体组件100具有良好的颜色效果。具体的，可以通过胶印、丝印、打印和热转印中至少一种工艺成型第二颜色层41。在一实施例中，第二颜色层41可以由具有预定颜色的油墨形成，具体的如UV固化型油墨等。第二颜色层41可以为单层结构，也可以为多层结构，形成不同层的油墨颜色可以相同也可以不同。具体的，油墨颜色可以但不限于为黄色、红色、蓝色、绿色、白色、黑色等。在一具体实施例中，通过丝印4μm-8μm厚的颜色油墨，在60℃-90℃烘烤30min-60min后形成第二颜色层41。在本申请中，第一颜色层30和第二颜色层41的颜色不同，使得壳体组件100产生不同的颜色，实现撞色效果。
可以理解的，镀膜层42与光学膜层20的效果类似，是一种通过其界面传播光线的光学介质材料层，可以改变穿过镀膜层42的光线的反射、折射等，使得壳体组件100呈现一定的光泽变化，如在不同角度下呈现出不同颜色光泽、带来金属质感等视觉效果；通过改变镀膜层42的材质、厚度和层数等改变镀膜层42的反射率、折射率和透光率，实现不同的视觉效果，满足不同场景下的需求。在本申请中，镀膜层42的材质选自能够使镀膜层42具有一定光学效果的物质，具体的可以但不限于为使镀膜层42具有一定的折射率、透过率、反射率等。镀膜层42的材质可以为无机物，也可以为有机物。可选的，有机物包括聚醚、聚酯、氟代聚合物和含硅聚合物中的至少一种。当镀膜层42的材质为有机物时，镀膜层42柔性好，可弯曲性好，能够进行剪裁得到所需尺寸的镀膜层42。可选的，无机物包括金属单质、无机氧化物和无机氟化物中的至少一种。在一实施例中，镀膜层42的材质包括金属单质、无机氧化物和无机氟化物中的至少一种，例如镀膜层42的材质包括In、Sn、TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2和ZrO2或者其他不导电氧化物中的至少一种。进一步的，镀膜层42的材质为In-Sn，产生高反射率的金属质感效果。例如，镀膜层42的材料可以选自TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2和ZrO2中至少两种的组合，以使得镀膜层42呈现蓝色或紫色等彩色光泽质感的效果。又如，镀膜层42的材质可以为In或In-Sn，以使得镀膜层42呈现银色金属质感效果。
在本申请中，镀膜层42可以为单层膜结构，也可以为多层膜结构。当镀膜层42为多层膜结构时，可以通过控制每一层的材质和厚度，以及各层之间的配合，以达到所需的功能。可选的，镀膜层42由至少两种具有不同折射率的光学薄膜交替层叠形成。也就是说，镀膜层42由多个光学薄膜组成时，相邻的光学薄膜的折射率不同。进一步的，镀膜层42由至少两种具有不同折射率的薄膜周期性地交替层叠形成。多个光学薄膜的材质、厚度可以相同，可以不同。多个光学薄膜的光学性质不同，光线通过多个光学薄膜后，每个光线薄膜表面均会发生反射和折射，产生更加丰富的外观效果。具体的，镀膜层42可以但不限于包括2层、3层、4层、5层、6层、7层或8层光学薄膜。可选的，镀膜层42的厚度为20nm-500nm，具体的可以但不限于为30nm、80nm、150nm、220nm、300nm、470nm、500nm等，过薄会导致镀膜层42呈现的光泽质感效果太弱，过厚会导致的膜层内的应力过大，容易脱落，该厚度范围有利于呈现镀膜层42的视觉效果，同时保证镀膜层42的使用寿命。本申请中的镀膜层42为整层结构，制备过程中无需遮蔽或刻蚀，更易制备性能优异的镀膜层42。在本申请中，镀膜层42的形成方法不受特别限制，例如可以通过物理气相沉积法形成，也可以通过真空镀膜法形成。镀膜设备可以为磁控溅射炉或者电子枪蒸发镀。在一实施例中，镀膜层42通过真空不导电电镀(NVCM)工艺形成。当壳体组件100具有镀膜层42时，壳体组件100可以在不同角度下反射出一定的光泽质感，提高壳体组件100的外观表现力。
请参考图2，图2为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其中，修饰层40还包括第二纹理层43，第二纹理层43设置在镀膜层42靠近光学膜层20的表面。第二纹理层43可以使壳体组件100呈现纹理视觉效果，同时，第二纹理层43叠加镀膜层42，使第二纹理层43的外观效果更加清晰地呈现出来，并在不同角度具有不同的光线色泽变化，呈现不同质感的纹理，提高壳体组件100的外观表现力。
在本申请一实施例中，第二纹理层43的光学透过率大于30％。进一步的，第二纹理层43的光学透过率大于50％、70％、80％或90％。第二纹理层43的厚度可以为5μm-15μm，具体的可以但不限于为6μm、7μm、9.5μm、10μm、11.5μm、12μm、15μm等，在此厚度范围内，可以形成良好的纹理效果，厚度过大可能导致第二纹理层43的抗冲击效果差，容易开裂，厚度过小可能导致形成的纹理不明显，制备工艺控制难度大。在一实施例中，第二纹理层43可以仅设置在镂空部对应的修饰层40表面，即第二纹理层43在镀膜层42上的正投影与镂空部在镀膜层42上的正投影完全重合，此时可以在镀膜层42表面较小范围内设置第二纹理层43，透过镂空部呈现纹理效果，节省第二纹理层43材料的使用。在另一实施例中，第二纹理层43在镀膜层42上的正投影完全覆盖镂空部在镀膜层42上的正投影，并且部分覆盖第一颜色层30在镀膜层42的正投影；此时可以使得第二纹理层43在镀膜层42上的正投影与第一颜色层30在镀膜层42上的正投影完全重合，有利于壳体组件100整体膜层结构更加平整。在本申请中，在对应镂空部的第二纹理层43存在纹理即可，当然也可以整层均存在纹理。在一实施例中，可以但不限于通过UV转印光学纹理处理在镀膜层42上形成第二纹理层43。可选的，通过高抗刮型UV转印胶、高硬度型UV转印胶、高弹性型UV转印胶或通用型UV转印胶在镀膜层42上形成第二纹理层43。具体的，UV转印胶的材质包括聚氨酯丙烯酸树脂等。具体的，将UV转印胶涂覆后经固化形成第二纹理层43。可选的，固化包括在LED或汞灯固化，其中，LED固化能量800mJ/cm2-2500mJ/cm2，汞灯固化能量550mJ/cm2-1500mJ/cm2。
请继续参考图2，其中，壳体组件100还包括第一纹理层50，第一纹理层50设置在光学膜层20远离修饰层40的表面。第一纹理层50可以使壳体组件100呈现纹理视觉效果，第一纹理层50设置在光学膜层20的表面，使第一纹理层50的外观效果更加清晰地呈现出来，并在不同角度具有不同的光线色泽变化，呈现不同质感的纹理；第一纹理层50结合第一颜色层30、第二颜色层41等，可以实现具有不同颜色、质感的纹理视觉效果。
在本申请一实施例中，第一纹理层50的光学透过率大于30％。进一步的，第一纹理层50的光学透过率大于50％、70％、80％或90％。第一纹理层50的厚度可以为5μm-15μm，具体的可以但不限于为6μm、7μm、8μm、10μm、11μm、12μm、15μm等，在此厚度范围内，可以形成良好的纹理效果，厚度过大可能导致第一纹理层50的抗冲击效果差，容易开裂，厚度过小可能导致形成的纹理不明显，制备工艺控制难度大。在一实施例中，第一纹理层50完全覆盖光学膜层20。在一实施例中，可以但不限于通过UV转印光学纹理处理在光学膜层20上形成第一纹理层50。可选的，通过高抗刮型UV转印胶、高硬度型UV转印胶、高弹性型UV转印胶或通用型UV转印胶在光学膜层20上形成第一纹理层50。具体的，UV转印胶的材质包括聚氨酯丙烯酸树脂等。具体的，将UV转印胶涂覆后经固化形成第一纹理层50。可选的，固化包括在LED或汞灯固化，其中，LED固化能量800mJ/cm2-2500mJ/cm2，汞灯固化能量550mJ/cm2-1500mJ/cm2。第一纹理层50的纹理可以但不限于为纳米级的幻彩细纹理，提高壳体组件100的视觉效果。在本申请中，当壳体组件100包括第一纹理层50和第二纹理层43时，第一纹理层50和第二纹理层43的纹理不同，以使得镂空部对应区域呈现第一纹理层50和第二纹理层43叠加的纹理效果，其他区域呈现第一纹理层50的纹理效果，使得壳体组件100呈现两种纹理效果，提高壳体组件100的外观表现力。
请继续参阅图1，其中光学膜层20设置在透明衬底10的表面，第一颜色层30和修饰层40设置在光学膜层20远离透明衬底10的表面。在修饰层40至光学膜层20的方向上，镂空部对应的位置呈现光学膜层20、第二颜色层41、镀膜层42叠加的视觉效果，其他位置呈现光学膜层20和第一颜色层30叠加的视觉效果，使得可以壳体组件100呈现了不同颜色、质感的外观。请参阅图3，为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其中，修饰层40设置在透明衬底10的表面，光学膜层20和第一颜色层30设置在修饰层40远离透明衬底10的表面。在修饰层40至光学膜层20的方向上，镂空部对应的位置呈现光学膜层20、第二颜色层41、镀膜层42叠加的视觉效果，其他位置呈现光学膜层20和第一颜色层30叠加的视觉效果，使得可以壳体组件100呈现了不同颜色、质感的外观。此两种设置方式，均可以在壳体组件100的某一方向上实现不同颜色、质感的外观效果。
请继续参阅图1，其中，与镀膜层42相比，第二颜色层41更靠近光学膜层20，此时，第二颜色层41的光学透过率大于30％，以便可以呈现镀膜层42的外观效果。第二颜色层41与第一颜色层30的颜色不同，同时，第二颜色层41的透过率大于第一颜色层30，更加明显的区别两种颜色，形成更明显的撞色效果。在一实施例中，第二颜色层41仅覆盖镂空部露出的光学膜层20的表面。例如，第二颜色层41远离光学膜层20的表面可以与第一颜色层30远离光学膜层20的表面齐平，节省第二颜色层41材质的使用。在另一实施例中，第二颜色层41可以部分覆盖镂空部露出的光学膜层20的表面，部分覆盖第一颜色层30，此时，第一颜色层30和第二颜色层41之间不会产生明显的界限，更不会产生错位现象，外观效果良好，同时在制备过程中更容易操作和实现。当修饰层40还包括第二纹理层43时，请参阅图2，第二纹理层43设置在第二颜色层41和镀膜层42之间。第二纹理层43的光学透过率大于30％，以便可以呈现镀膜层42的外观效果。
请参阅图4，为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其与图1提供的壳体组件大体相同，不同之处在于，与第二颜色层41相比，镀膜层42更靠近光学膜层20，此时，镀膜层42的光学透过率大于30％，以便可以呈现第二颜色层41的外观效果。在一实施例中，镀膜层42仅覆盖镂空部露出的光学膜层20的表面。例如，镀膜层42远离光学膜层20的表面可以与第一颜色层30远离光学膜层20的表面齐平，节省镀膜层42材质的使用。在另一实施例中，镀膜层42可以部分覆盖镂空部露出的光学膜层20的表面，部分覆盖第一颜色层30，此时，第一颜色层30和镀膜层42之间不会产生明显的界限，更不会产生错位现象，外观效果良好，同时在制备过程中更容易操作和实现。当修饰层40还包括第二纹理层43时，请参阅图5，为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其与图2提供的壳体组件大体相同，不同之处在于，与第二颜色层41相比，镀膜层42更靠近光学膜层20，此时，镀膜层42的光学透过率大于30％，以便可以呈现第二颜色层41的外观效果。此时第二纹理层43设置在光学膜层20和镀膜层42之间。第二纹理层43的光学透过率大于30％，以便可以呈现镀膜层42的外观效果。在一实施例中，第二纹理层43仅覆盖镂空部露出的光学膜层20的表面。例如，第二纹理层43远离光学膜层20的表面可以与第一颜色层30远离光学膜层20的表面齐平，节省第二纹理层43材质的使用。在另一实施例中，第二纹理层43可以部分覆盖镂空部露出的光学膜层20的表面，部分覆盖第一颜色层30，此时，第一颜色层30和第二纹理层43之间不会产生明显的界限，更不会产生错位现象，外观效果良好，同时在制备过程中更容易操作和实现。
请参考图6，图6为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其与图1提供的壳体组件大体相同，不同之处在于，还包括连接层60，连接层60设置在透明衬底10和光学膜层20之间，以连接透明衬底10和光学膜层20。请参考图7，图7为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其与图3提供的壳体组件大体相同，不同之处在于，还包括连接层60，连接层60设置在透明衬底10和修饰层40之间，以连接透明衬底10和修饰层40。在本申请中，连接层60的光学透过率大于30％。进一步的，连接层60的光学透过率大于50％、70％、80％或90％。在本申请中，连接层60的厚度可以为5μm-15μm，具体的可以但不限于为6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、12μm、15μm等。连接层60的材质可以但不限于为紫外光固化胶。在一实施例中，淋涂紫外光固化胶，经固化后形成连接层60。具体的，固化能量可以为400mJ/cm2-1200mJ/cm2。可选的，连接层60的材质包括聚氨酯丙烯酸酯、有机硅树脂、全氟聚醚丙烯酸酯中的至少一种，使得连接层60的表面硬度提高。可选的，连接层60的表面硬度为1H-6H，进而可以对壳体组件100中的膜层结构起到一定的保护作用。
请参阅图8，为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其与图1提供的壳体组件大体相同，不同之处在于，还包括保护层70，保护层70设置在透明衬底10远离光学膜层20的表面。请参阅图9，为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其与图3提供的壳体组件大体相同，不同之处在于，还包括保护层70，保护层70设置在光学膜层20远离透明衬底10的表面。上述为保护层70的两种设置方式，保护层70用于对壳体组件100各个膜层起到保护作用。
在本申请一实施例中，保护层70的光学透过率大于30％。进一步的，保护层70的光学透过率大于50％、70％、80％或90％。在本申请中，保护层70的厚度可以为3μm-20μm，具体的可以但不限于为4μm、6μm、8μm、11μm、15μm、16μm、18μm等。可选的，保护层70包括硬化层和抗指纹层中的至少一种。硬化层的材质可以但不限于为紫外光固化胶。在一实施例中，淋涂紫外光固化胶，经固化后形成硬化层。具体的，固化能量可以为400mJ/cm2-1200mJ/cm2。可选的，硬化层的材质包括聚氨酯丙烯酸酯、有机硅树脂、全氟聚醚丙烯酸酯中的至少一种。可选的，硬化层的表面硬度为3H-6H，进而可以对壳体组件100中的膜层结构起到一定的保护作用。抗指纹层具有防污、防指纹附着的作用。可选的，抗指纹层的材质包括含氟抗指纹剂。具体的，抗指纹层的材质可以但不限于为全氟聚醚类、聚四氟乙烯、氟烷基醚-硅氧烷、氟化镁铝氧等。具体的，抗指纹层表面的接触角可以但不限于为大于105°，有利于提高防指纹、污染物附着表面的能力。
请参阅图10，为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其与图1提供的壳体组件大体相同，不同之处在于，还包括遮光层80，遮光层80设置在修饰层40远离透明衬底10的表面。请参阅图11，为本申请另一实施例的壳体组件的结构示意图，其与图3提供的壳体组件大体相同，不同之处在于，还包括遮光层80，遮光层80设置在透明衬底10远离光学膜层20的表面。上述为遮光层80的两种设置方式，遮光层80起到遮挡作用，进而使得壳体组件100在应用时，例如用于电子设备时，对电子设备内部的电子元器件进行遮挡。对遮光层80的厚度不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。可选的，遮光层80的厚度为10μm-30μm。具体的，遮光层80的厚度可以但不限于为10μm、12μm、18μm、22μm、28μm或30μm。可选的，遮光层80的光学透过率小于10％。对遮光层80的颜色不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于红色、橙色、灰色、黑色、白色等。由此，可以选择任意不同的颜色，以满足不同用户的使用需求。具体的，可以通过多次涂覆等方式，以防止漏光，提高遮挡效果。在一实施例中，遮光层80为油墨层，可以包括但不限于通过丝网印刷或喷墨打印形成。例如，通过将油墨丝网印刷形成遮光层80，该方法可以适用多种类型的油墨，墨层覆盖力强，不受承印物表面形状的限制及面积大小的限制，具有很大的灵活性和广泛的适用性。
本申请还提供了一种壳体组件的制备方法，该制备方法制备上述任一实施例的壳体组件100，包括：
提供透明衬底10，在透明衬底10上成型光学膜层20、第一颜色层30和修饰层40，其中，第一颜色层30设置在光学膜层20的表面，第一颜色层30具有镂空部；修饰层40部分设置在第一颜色层30远离光学膜层20的表面，部分设置在镂空部露出的光学膜层20的表面，修饰层40包括第二颜色层41和设置在第二颜色层41表面的镀膜层42，第二颜色层41和镀膜层42中靠近光学膜层20的层的光学透过率大于30％，第一颜色层30的光学透过率小于10％，第二颜色层41和第一颜色层30的颜色不同。
请参阅图12，图12为本申请一实施例的壳体组件的制备方法的流程示意图，包括如下步骤：
操作101：在所述透明衬底的表面成型光学膜层。
在操作101中，透明衬底10具有一定的透光性，对其形状、尺寸、材质等不做限制，根据实际需要进行选择。在本申请中，透明衬底10可以但不限于为电子设备的后壳和/或中框。例如，透明衬底10可以直接作为电子设备的壳体使用，也可以在透明衬底10上形成功能膜层后，再将其作为壳体使用。在一实施例中，可以在透明衬底10上成型光学膜层20、第一颜色层30和修饰层40后，通过高压成型工艺形成所需形状的壳体组件100。例如，可以在高压成型机中进行3D热弯成型，获得所需弧度的3D壳体组件100。具体的，可以但不限于为在130℃-240℃、成型压力15Bar-100Bar，热压0.3min-2min。当所需要的壳体组件100是具有一定弧度的形状，如2.5D、3D等，可以选择在透明衬底10上成型各个膜层后进行热压成型，一方面有利于各个膜层的制备，另一方面可以使得壳体组件100上各个膜层的分布均匀，视觉效果优异；当所需要的壳体组件100为平板状时，则可以直接提供所需形状的透明衬底10，再进行各个膜层的制备，也可以在透明衬底10上成型各个膜层后，再进行热压成型。
在本申请中，光学膜层20的形成方法不受特别限制，例如可以通过物理气相沉积法形成，也可以通过真空镀膜法形成。在一实施例中，光学膜层20通过真空不导电电镀工艺形成。在本申请中，光学膜层20的材质包括TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2和ZrO2或者其他不导电氧化物中的至少一种。可选的，光学膜层20的厚度为80nm-500nm。在一实施例中，操作101还包括在透明衬底10表面丝印图案。具体的，可以但不限于丝印商标图案(Logo)、文字等，提高壳体组件100的视觉效果。
操作102：在所述光学膜层远离所述透明衬底的表面成型第一颜色层，所述第一颜色层具有镂空部，所述第一颜色层的光学透过率小于10％。
在操作102中，可以通过胶印、丝印、打印和热转印中至少一种工艺成型第一颜色层30，例如可以通过丝印控制第一颜色层30材料的位置，直接形成具有镂空部的第一颜色层30；也可以在光学膜层20的表面涂覆整层的第一颜色层30材料，经固化后通过刻蚀处理形成镂空部；还可以预先在光学膜层20上设置掩膜板，直接丝印形成具有镂空部的第一颜色层30。在一实施例中，可以通过控制菲林片来控制镂空部的形成，以在光学膜层20上成型具有镂空部的第一颜色层30。在一具体实施例中，控制丝印的菲林片图案，在光学膜层20上涂覆4μm-8μm厚的颜色油墨，在60℃-90℃烘烤30min-60min后形成具有镂空部的第一颜色层30。进一步的，在65℃-90℃烘烤30min-50min后形成具有镂空部的第一颜色层30。
操作103：在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面成型修饰层，所述修饰层部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，部分设置在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第二颜色层和所述第一颜色层的颜色不同。
在操作103中，修饰层40包括第二颜色层41和镀膜层42。可以通过胶印、丝印、打印和热转印中至少一种工艺成型第二颜色层41。在一具体实施例中，通过丝印4μm-8μm厚的颜色油墨，在60℃-90℃烘烤30min-60min后形成第二颜色层41。进一步的，在70℃-85℃烘烤35min-55min后形成第二颜色层41。在一实施例中，镀膜层42的材质包括In、Sn、TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2和ZrO2或者其他不导电氧化物中的至少一种。进一步的，镀膜层42的材质为In-Sn，产生高反射率的金属质感效果。在本申请中，镀膜层42的形成方法不受特别限制，例如可以通过物理气相沉积法形成，也可以通过真空镀膜法形成。镀膜设备可以为磁控溅射炉或者电子枪蒸发镀。在一实施例中，镀膜层42通过真空不导电电镀工艺形成。
在本申请壳体组件100的制备方法中，通过制备具有镂空部的第一颜色层30，以使得后续第二颜色层41的制备可以无需进行套印的操作，避免了套印产生的颜色分界线明显、或发生错位等问题，避免产生外观视觉效果不协调的情况，使得撞色区域颜色搭接自然，实现了无缝搭接，提高外观表现力。
请参阅图13，图13为本申请另一实施例的壳体组件100的制备方法的流程示意图，包括如下步骤：
操作201：在所述透明衬底的表面成型修饰层，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层。
在操作201中，与操作101不同的是在透明衬底10上成型修饰层40，修饰层40包括了第二颜色层41和镀膜层42。可以通过胶印、丝印、打印和热转印中至少一种工艺成型第二颜色层41。可以通过物理气相沉积法，也可以通过真空镀膜法形成镀膜层42。具体的，在修饰层40中远离透明衬底10的表面具有凸起结构，即修饰层40远离透明衬底10的表面不平整，可以通过控制成型工艺，例如胶印、丝印、打印和热转印、沉积、蒸镀等直接制得具有凸起结构的平面，也可以在成型修饰层40后，对修饰层40远离透明衬底10的表面进行刻蚀，以形成凸起结构。
操作202：在所述修饰层远离所述透明衬底的表面成型第一颜色层，所述第一颜色层具有镂空部，所述修饰层部分填充所述镂空部，所述第一颜色层和所述第二颜色层的颜色不同，所述第一颜色层的光学透过率小于10％。
在操作202中，成型的第一颜色层30具有镂空部。具体的，修饰层40远离透明衬底10的表面具有凸起结构，通过控制制备工艺，使得第一颜色层30成型在修饰层40远离透明衬底10的表面，且成型后的第一颜色层30的表面与凸起结构的表面齐平。具体的，可以通过胶印、丝印、打印和热转印中至少一种工艺成型第一颜色层30。
操作203：在所述第一颜色层和所述镂空部露出的所述修饰层的表面成型光学膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％。
在操作203中，光学膜层20的形成方法不受特别限制，例如可以通过物理气相沉积法形成，也可以通过真空镀膜法形成。在一实施例中，光学膜层20通过真空不导电电镀(NVCM)工艺形成。
在本申请一实施例中，修饰层40的制备方法包括在镂空部露出的光学膜层20的表面成型第二颜色层41，第二颜色层41的光学透过率大于30％；在第二颜色层41的表面成型镀膜层42，镀膜层42在光学膜层20上的正投影完全覆盖镂空区在光学膜层20上的正投影。在本申请另一实施例中，修饰层40的制备方法包括在镂空部露出的光学膜层20的表面成型镀膜层42，镀膜层42的光学透过率大于30％；在镀膜层42的表面成型第二颜色层41，第二颜色层41在光学膜层20上的正投影完全覆盖镂空区在光学膜层20上的正投影。在本申请一实施例中，修饰层40的制备方法还包括在镀膜层42靠近光学膜层20的表面成型第二纹理层43。可以但不限于通过UV转印光学纹理处理在镀膜层42上形成第二纹理层43。可选的，通过高抗刮型UV转印胶、高硬度型UV转印胶、高弹性型UV转印胶或通用型UV转印胶在镀膜层42上形成第二纹理层43。具体的，UV转印胶的材质包括聚氨酯丙烯酸树脂等。具体的，将UV转印胶涂覆后经固化形成第二纹理层43。可选的，固化包括在LED或汞灯固化，其中，LED固化能量800mJ/cm2-2500mJ/cm2，汞灯固化能量550mJ/cm2-1500mJ/cm2。进一步的，LED固化能量1000mJ/cm2-2000mJ/cm2，汞灯固化能量600mJ/cm2-1200mJ/cm2。
在本申请一实施例中，壳体组件100的制备方法还包括在光学膜层20远离修饰层40的表面成型第一纹理层50。可以但不限于通过UV转印光学纹理处理成型第一纹理层50。可选的，通过高抗刮型UV转印胶、高硬度型UV转印胶、高弹性型UV转印胶或通用型UV转印胶在光学膜层20上形成第一纹理层50。具体的，UV转印胶的材质包括聚氨酯丙烯酸树脂等。具体的，将UV转印胶涂覆后经固化形成第一纹理层50。可选的，固化包括在LED或汞灯固化，其中，LED固化能量800mJ/cm2-2500mJ/cm2，汞灯固化能量550mJ/cm2-1500mJ/cm2。进一步的，LED固化能量900mJ/cm2-2200mJ/cm2，汞灯固化能量600mJ/cm2-1000mJ/cm2。第一纹理层50的纹理可以但不限于为纳米级的幻彩细纹理，提高壳体组件100的视觉效果。
在本申请一实施例中，当成型第一纹理层50和第二纹理层43时，无需进行套印等操作，两个纹理层的效果均可以很好的成型在壳体组件100上，避免套印产生的界限明显、搭接线不良等问题，提高壳体组件100的视觉效果。
当光学膜层20在透明衬底10和修饰层40之间时，在本申请一实施例中，壳体组件100的制备方法还包括在光学膜层20和透明衬底10之间成型连接层60。连接层60用于连接透明衬底10和光学膜层20。连接层60的材质可以但不限于为紫外光固化胶。在一实施例中，淋涂紫外光固化胶，经固化后形成连接层60。具体的，固化能量可以为400mJ/cm2-1200mJ/cm2。在本申请另一实施例中，壳体组件100的制备方法还包括在透明衬底10远离光学膜层20的表面成型保护层70。在一实施例中，保护层70包括硬化层和抗指纹层。在一实施例中，淋涂紫外光固化胶，经固化后形成硬化层。具体的，固化能量可以为400mJ/cm2-1200mJ/cm2。可选的，硬化层的表面硬度为3H-6H，进而可以对壳体组件100中的膜层结构起到一定的保护作用。抗指纹层具有防污、防指纹附着的作用。具体的，抗指纹层表面的接触角可以但不限于为大于105°，有利于提高防指纹、污染物附着表面的能力。在本申请另一实施例中，壳体组件100的制备方法还包括在修饰层40远离透明衬底10的表面成型遮光层80。可以包括但不限于通过丝网印刷或喷墨打印形成。具体的，可以通过多次涂覆等方式，以防止漏光，提高遮挡效果。
当修饰层40在透明衬底10和光学膜层20之间时，在本申请一实施例中，壳体组件100的制备方法还包括在修饰层40和透明衬底10之间成型连接层60。在本申请另一实施例中，壳体组件100的制备方法还包括在光学膜层20远离透明衬底10的表面成型保护层70。在一实施例中，保护层70包括硬化层和抗指纹层。在本申请另一实施例中，壳体组件100的制备方法还包括在透明衬底10远离修饰层40的表面成型遮光层80。连接层60、保护层70和遮光层80的选择以及制备方法可以在上述相关描述中进行选择，对此不作限定。
在本申请一实施例中，壳体组件100的制备方法还包括对壳体组件100进行计算机数字化控制精密机械加工(CNC加工)。CNC加工可以铣去多余的边角料，获得最终所需组装配合尺寸的壳体组件100。
本申请还提供了一种电子设备，包括上述任一实施例的壳体组件100。可以理解的，电子设备可以但不限于为手机、平板电脑、笔记本电脑、手表、MP3、MP4、GPS导航仪、数码相机等。下面以手机为例进行说明。
请参阅图14，图14为本申请另一实施例的电子设备的结构示意图，电子设备包括显示屏200，以及设置在显示屏200相对两侧的盖板300和壳体组件100，壳体组件100包括透明衬底10和设置在透明衬底10上的光学膜层20、第一颜色层30和修饰层40；第一颜色层30设置在光学膜层20的表面，第一颜色层30具有镂空部；修饰层40部分设置在第一颜色层30远离光学膜层20的表面，部分设置在镂空部露出的光学膜层20的表面，修饰层40包括第二颜色层41和设置在第二颜色层41表面的镀膜层42，第二颜色层41和镀膜层42中靠近光学膜层20的层的光学透过率大于30％，第一颜色层30的光学透过率小于10％，第二颜色层41和第一颜色层30的颜色不同，壳体组件100具有相对设置的内表面和外表面，光学膜层20至修饰层40的方向与外表面至内表面的方向一致。可以理解的，壳体组件100具有相对设置的内表面和外表面，其中，内表面和外表面是以壳体组件100的使用状态为参照。壳体组件100应用于电子设备，朝向电子设备内部的一面为内表面，朝向电子设备外部的一面为外表面。在镂空部对应的壳体组件100的外表面处呈现了光学膜层20、第二颜色层41和镀膜层42叠加的视觉效果，其他位置呈现了光学膜层20和第一颜色层30叠加的视觉效果，撞色区域实现了无缝搭接，外观效果优异，使得电子设备呈现不同颜色和质感的外观，形成明显的撞色效果，丰富电子设备的外观表现力。
以上对本申请实施方式所提供的内容进行了详细介绍，本文对本申请的原理及实施方式进行了阐述与说明，以上说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (15)

1.一种壳体组件，其特征在于，包括透明衬底和设置在所述透明衬底上的光学膜层、第一颜色层和修饰层；
所述第一颜色层设置在所述光学膜层的表面，所述第一颜色层具有镂空部；
所述修饰层中靠近所述光学膜层的层当中，一部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，另一部分设置在所述镂空部内，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第一颜色层的光学透过率小于10％，所述第一颜色层和所述第二颜色层的颜色不同。
2.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述光学膜层设置在所述透明衬底的表面，所述第一颜色层和所述修饰层设置在所述光学膜层远离所述透明衬底的表面。
3.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述修饰层设置在所述透明衬底的表面，所述光学膜层和所述第一颜色层设置在所述修饰层远离所述透明衬底的表面。
4.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，还包括第一纹理层，所述第一纹理层设置在所述光学膜层远离所述修饰层的表面。
5.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述修饰层还包括第二纹理层，所述第二纹理层设置在所述镀膜层靠近所述光学膜层的表面。
6.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述光学膜层的材质包括TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2和ZrO2中的至少一种。
7.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述光学膜层由至少两种具有不同折射率的光学薄膜交替层叠形成，所述光学膜层的厚度为80nm-500nm。
8.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述镀膜层的材质包括In、Sn、TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2和ZrO2中的至少一种，所述镀膜层的厚度为20nm-500nm。
9.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述透明衬底的材质包括聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和热塑性聚氨酯的至少一种，所述透明衬底的厚度为0.05mm-0.8mm。
10.一种壳体组件的制备方法，其特征在于，包括：
提供透明衬底，在所述透明衬底上成型光学膜层、第一颜色层和修饰层，其中，所述第一颜色层设置在所述光学膜层的表面，所述第一颜色层具有镂空部；所述修饰层靠近所述光学膜层的层当中，一部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，另一部分设置在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第一颜色层的光学透过率小于10％，所述第二颜色层和所述第一颜色层的颜色不同。
11.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述透明衬底上成型光学膜层、第一颜色层和修饰层包括：
在所述透明衬底的表面成型光学膜层；
在所述光学膜层远离所述透明衬底的表面成型第一颜色层，所述第一颜色层具有镂空部，所述第一颜色层的光学透过率小于10％；
在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面成型修饰层，所述修饰层部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，部分设置在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第二颜色层和所述第一颜色层的颜色不同。
12.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述透明衬底上成型光学膜层、第一颜色层和修饰层包括：
在所述透明衬底的表面成型修饰层，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层；
在所述修饰层远离所述透明衬底的表面成型第一颜色层，所述第一颜色层具有镂空部，所述修饰层部分填充所述镂空部，所述第一颜色层和所述第二颜色层的颜色不同，所述第一颜色层的光学透过率小于10％；
在所述第一颜色层和所述镂空部露出的所述修饰层的表面成型光学膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％。
13.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述成型修饰层包括：
在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面成型第二颜色层，所述第二颜色层的光学透过率大于30％；
在所述第二颜色层的表面成型镀膜层，所述镀膜层在所述光学膜层上的正投影完全覆盖所述镂空部 在所述光学膜层上的正投影。
14.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述成型修饰层包括：
在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面成型镀膜层，所述镀膜层的光学透过率大于30％；
在所述镀膜层的表面成型第二颜色层，所述第二颜色层在所述光学膜层上的正投影完全覆盖所述镂空部 在所述光学膜层上的正投影。
15.一种电子设备，其特征在于，包括显示屏，以及设置在所述显示屏相对两侧的盖板和壳体组件，所述壳体组件包括透明衬底和设置在所述透明衬底上的光学膜层、第一颜色层和修饰层；所述第一颜色层设置在所述光学膜层的表面，所述第一颜色层具有镂空部；所述修饰层靠近所述光学膜层的层当中，一部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，另一部分设置在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第一颜色层的光学透过率小于10％，所述第二颜色层和所述第一颜色层的颜色不同，所述壳体组件具有相对设置的内表面和外表面，所述光学膜层至所述修饰层的方向与所述外表面至所述内表面的方向一致。
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