CN111901996B - 壳体组件及其制备方法、电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了壳体组件及其制备方法、电子设备。该制备壳体组件的方法，包括：提供基体；在所述基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层；以及利用镭雕处理方法在所述第一底漆层、所述色漆层和所述镀膜漆层的至少之一上形成纹理结构。由此，将喷涂、镭雕纹理与光学镀膜进行结合，不受产品外观形貌的限制，在具有较高弧度或复杂形貌的基体上制造出炫彩的纹理效果。

Description

壳体组件及其制备方法、电子设备

技术领域

本申请涉及电子领域，具体地，涉及壳体组件及其制备方法、电子设备。

背景技术

随着人们生活水平的不断提高，人们对电子产品的整体性能提出了越来越高的要求，电子产品制造商为了在激烈的竞争中占据一定的市场份额，在提高产品的使用性能的同时，也会将电子产品制造出纹理效果、变色效果、炫彩效果等外观效果，以吸引用户。玻璃或金属等板材与膜片复合在一起，具备通透鲜艳的外观效果，在此基础之上，为了提高产品的竞争力，一些制造商在膜片中导入UV纹理转印，这可以增加膜片的装饰效果，使手机等电子设备的壳体具有纹理效果，这种方法目前已被广泛应用于手机后盖等配件领域。但目前的外观弧度较高的手机后盖等配件难以利用UV纹理转印膜片与玻璃或金属等板材进行有效复合，因此还难以满足用户对其外观的需求。如果能够提出一种方法，可以不受外观弧度的限制，在基材上制造出炫彩纹理效果，则将在一定程度上缓解甚至解决上述问题。

因此，目前的壳体组件及其制备方法、电子设备仍有待提高。

发明内容

本申请是基于发明人对以下事实和问题的发现和认识做出的：

UV纹理转印膜片与玻璃或金属等板材复合虽然可以为板材增加华丽的装饰效果，但是，这种方法受制于产品的尺寸及其外观形貌，利用这种方法无法将UV纹理转印膜片复合在外观弧度较高或外形复杂的基材上。发明人发现，这是因为膜片与基材复合需要平滑过渡，如果外观弧度较高形貌变化过于迅速、或外形复杂则难以形成平滑过渡，膜片与基材复合时容易形成褶皱，造成不良。

发明人发现，通过在基材的表面喷涂油漆再使用镭雕方式处理漆层可以使其具有纹理效果，并且该方法不受产品的尺寸及其外观形貌的限制，可以应用于具有较高弧度或复杂外形的基材上。并且，发明人发现，在镭雕制备出的纹理结构的基础之上，利用光学镀膜可以使产品具备炫彩纹理效果。

有鉴于此，在本申请的一个方面，本申请提出了一种制备壳体组件的方法，包括：提供基体；在所述基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层；以及利用镭雕处理方法在所述第一底漆层、所述色漆层和所述镀膜漆层的至少之一上形成纹理结构。由此，将喷涂、镭雕纹理与光学镀膜进行结合，不受产品外观形貌的限制，在具有较高弧度或复杂形貌的基体上制造出炫彩的纹理效果。

在本申请的另一方面，本申请提出了一种壳体组件，包括：基体；在所述基体的一侧依次层叠的第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层；其中，所述第一底漆层、所述色漆层、所述镀膜漆层的至少之一上具有纹理结构。由此，该壳体组件可具有炫彩的纹理效果。

在本申请的又一方面，本申请提出了一种电子设备，包括：壳体组件，所述壳体组件为前面所述的，或者为利用前面所述的方法获得的；以及主板和显示屏幕，所述主板和所述显示屏幕收纳于所述壳体组件中。由此，该电子设备具有前面所述的方法制备的壳体组件的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，该电子设备外观具有炫彩的纹理效果。

附图说明

本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对示例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1显示了根据本申请一个示例的制备壳体组件的方法流程图；

图2显示了根据本申请一个示例的壳体组件的结构示意图；

图3显示了根据本申请另一个示例的壳体组件的结构示意图；

图4显示了根据本申请一个示例的基体的结构示意图；

图5显示了根据本申请一个示例的基体的一个剖面的结构示意图；

图6显示了根据本申请一个示例的基体的另一个剖面的结构示意图；

图7显示了根据本申请一个示例的电子设备的结构示意图。

附图标记说明：

100：基体；110：底面；120：侧壁；200：第一底漆层；300：色漆层；400：镀膜漆层；500：光学镀膜层；600：第二底漆层：700：面漆层；1000：壳体组件；2000：电子设备。

具体实施方式

下面详细描述本申请的示例，所述示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的示例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。

在本申请的一个方面，本申请提出了一种制备壳体组件的方法。该方法将喷涂、镭雕纹理以及光学镀膜等结合起来，可以在具有较高弧度或复杂结构的基体上形成类似玻璃膜片的炫彩纹理效果。

具体地，参考图1，该方法包括：

S100：提供基体

在该步骤中，提供基体。基体的材质不受特别限制，根据本申请的示例，基体可以为金属、塑胶、金属与塑胶的结合产物等。基体的具体形状不受特别限制，例如，可以为具有一个底面和多个侧壁的壳体形状。具体地，基体可包括一个底面以及环绕底面的4个侧壁。参考图4，底面可以为长方形的，并对长方形的四个拐角处进行圆角处理。侧壁的结构可以如图5(图5为图4沿AA’方向的剖面图)和图6(图6为图4沿BB’方向的剖面图)所示，其中110为底面，120为侧壁，侧壁120与底面110之间具有折弯角θ。具体地，当侧壁的外表面(远离壳体组件容纳空间一侧的表面)为直线型时，该折弯角可以为侧壁所在平面与底面所在平面之间的夹角。当侧壁外表面为弧形外表面时，侧壁与底面之间的折弯角为侧壁任意位置处的切线与底面之间夹角的最大值。图中所示的只是本申请的一个示例，各侧壁120与底面110之间具有相同的折弯角。基体的多个侧壁也可以与底面具有不同的折弯角，本领域技术人员可根据需要进行设置。根据本申请的一些示例，至少一个折弯角θ折弯角是大于70度的。

根据本申请的另一些示例，也可在形成第一底漆层之前，可以对基体进行清洗处理，以去除基体表面的油污等杂质。

S200：在基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层

在基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层，并且利用镭雕处理方法在第一底漆层、色漆层和镀膜漆层的至少之一上形成纹理结构。镭雕是指用高能量密度的激光束照射在被加工材料的表面，材料表面吸收激光能量从而发生熔融、烧蚀、气化等现象，因而在材料表面显示出图案或文字。激光镭雕技术自身具有较高的精度，可以实现各种精细、复杂的纹理，使产品呈现出精美的外观。根据本申请的示例，镭雕可选用紫外光，利用该方法形成的纹理深度设置为1μm～10μm，宽度设置为30～60μm。根据产品外观需要，最终产品的镭雕纹理可以是通过多层叠加形成的，也可以是通过单层镭雕纹理体现的。本申请选用紫外光对漆层进行镭雕处理，紫外光的功率小，适用于精细加工，可以避免功率过大造成漆层击穿现象。将纹理深度和宽度设置在上述范围内，可以使镭雕纹理具有较为明显的立体感，纹理明显，并且不易引起产品的外观不良。在该步骤中，若纹理深度小于1μm，则纹理的立体感不明显，若纹理深度大于10μm，则有可能会击穿漆层，引起其它外观不良；若纹理宽度小于30μm，则形成的纹理不明显，若纹理宽度大于60μm，则容易导致产品的外观质感下降，并且镭雕形成的纹理会具有明显的锯齿边。

具体的，在该步骤中，首先在基体的一侧形成第一底漆层。根据本申请的示例，第一底漆层的材质可以为PU型树脂漆，第一底漆层是将PU型树脂漆喷涂在基体上再经过烘烤形成的。根据本申请的一些具体示例，烘烤温度为70～80℃，烘烤时间为20-40min，形成的第一底漆层的厚度为20～30μm。形成第一底漆层的参数设置在该范围内，第一底漆层在基体上具有良好的附着性能，并且有利于之后色漆层的附着。根据本申请的示例，第一底漆层的底漆颜色选用实色，即该层设置为不透明的，并对该层进行打磨抛光，由此，第一底漆层可以对基体进行遮盖，并且该层可以具备平整光洁的外观。在该步骤中，如果第一底漆层的厚度小于20μm，则不利于覆盖基体的缺陷，且打磨抛光后容易使基体裸露；若该层厚度大于30μm，则可能造成边缘位置积油，会影响产品厚度的均一性，也有可能影响最终产品的外观。若烘烤温度低于70℃，烘烤时间小于20min，则该层的底漆固化反应不彻底，自身的附着性能不足，很难与基体进行良好的复合；若温度高于80℃，烘烤时间大于40min，则底漆干燥固化彻底，之后在该层上喷涂色漆时，色漆对于底漆的渗透不够，色漆的附着力下降，结合较差。

根据本申请的一些具体示例，在基体的一侧形成第一底漆层之前，可以先在基体上形成第二底漆层，选用PU型树脂漆。由此，可以提高第一底漆层与基体的结合性能。该层的厚度设置为3～5μm，烘烤温度为70～80℃，烘烤时间为20-40min。由此，可以进一步提高第一底漆层与基体的结合性能。在该步骤中，如果第二底漆层的厚度小于3μm，则第二底漆层有可能不连续，造成第一底漆层与基体的附着力不足；如果该层的厚度大于5μm，则可能造成边缘位置积油，会影响产品的外观，且对附着力的提升并没有明显的帮助。若烘烤温度低于70℃，烘烤时间小于20min，则该层的底漆固化反应不充分，自身的附着性能不足；若温度高于80℃，烘烤时间大于40min，则该层的底漆干燥固化彻底，第一底漆层材料对于第二底漆层材料的渗透不充分，第一底漆层附着力下降，影响第一底漆层与基体的复合。

在形成第一底漆层之后，在其上形成色漆层。根据本申请的示例，该层选用PU型树脂漆，可以为常用的色漆，本领域技术人员可根据需要进行选择。如果第一底漆层具有纹理结构，色漆层可以选用透明或半透明的材质，以衬托第一底漆层的纹理。在该步骤中，将色漆层的厚度设置为8～12μm，烘烤温度为70～80℃，烘烤时间为20-40min。由此，色漆层具有合适的厚度和色彩，可以提升产品的颜色效果，并且色漆层具有较好的附着力，可以与第一底漆层进行良好的复合。如果色漆层的厚度小于8μm，则色漆层色彩的饱和度不够；如果色漆层的厚度大于12μm，则对于颜色效果无明显的提升，且有可能造成局部边缘位置积油，影响产品的外观。若烘烤温度低于70℃，烘烤时间小于20min，则色漆固化反应不充分，自身的附着性能不足；若温度高于80℃，烘烤时间大于40min，则色漆干燥固化彻底，色漆对于第一底漆层的渗透不够，导致色漆的附着力下降。

然后，在色漆层之上形成镀膜漆层。根据本申请的示例，镀膜漆选用UV型树脂漆，且镀膜漆中包含纳米氧化物，该纳米氧化物含有Zr、Ti、Si等的至少之一。由此，Zr、Ti、Si等的氧化物颗粒掺杂在镀膜漆当中，可以有效提高镀膜漆的强度及与光学镀膜层在其上的附着性能。镀膜漆层为透明材质，可提供光洁的外观效果，并且可在其上设置光学镀膜层，以使产品具有炫彩效果。在该步骤中，UV型树脂漆形成镀膜漆层需进行固化，固化使用的UV能量为1000～1200mJ/cm²，并且镀膜漆层的厚度设置为20～30μm。由此，镀膜漆层具有合适的厚度，可进行充分固化，并能够有效附着在色漆层上，为形成光学镀膜层提供基础。若镀膜漆层的厚度小于20μm，则该层表面流平较差，很难保证镀膜漆层具有良好的平整度和光泽度，会影响产品的外观效果；若该层厚度大于30μm，则镀膜漆的内应力太大，容易导致开裂。若固化使用的UV能量低于1000mJ/cm²，则该能量不足以使镀膜漆内部的树脂发生充分的交联反应，造成镀膜漆强度及附着力不足；若UV能量高于1200mJ/cm²，则固化反应过于剧烈，可能造成镀膜漆局部反应过快，进而造成内应力过大，导致该层开裂。

形成镀膜漆层之后，在其上形成光学镀膜层。光学镀膜层是将含有钛、硅、锆等的靶材以一定形式及次序沉积到UV型镀膜漆的表面上，以实现晶莹剔透的类似陶瓷的外观质感。需要说明的是，靶材的沉积形式以及次序不受特别限制，可以根据需要进行选择，光学镀膜层可以设置多个亚层，也即是说，钛、硅、锆等靶材可以分别进行沉积以形成多个沉积亚层；光学镀膜层也可以是将含有钛、硅、锆等的靶材进行均匀混合，之后在沉积到镀膜漆层之上的。

根据本申请的示例，光学镀膜层的厚度设置为30～300nm，具体数值可以根据产品的外观需要进行调整，形成该层时的沉积温度保持在40～60℃之间，由此光学镀膜层可以有效提升产品的炫彩外观效果，并且可以与镀膜漆层进行良好的结合。在该步骤中，若光学镀膜层的厚度小于30nm，则该层的外观效果不明显，对产品质感的提升作用不明显；若该层的厚度大于300nm，则光学镀膜层有爆裂的风险。而如果沉积温度低于40℃，则光学镀膜层的附着力不足，无法与镀膜漆层进行良好的结合；如果沉积温度高于60℃，则可能会对外观效果造成不好的影响，并且对光学镀膜层的附着力无明显提升作用。

根据本申请的一些具体示例，在形成光学镀膜层之后，还可以在光学镀膜层远离基体的一侧形成面漆层。面漆层可选用UV型树脂漆，须经过UV能量固化，面漆层的厚度设置为3～8μm，固化使用的UV能量800～1200mJ/cm²。由此，面漆层内的树脂可进行充分的交联反应，并且具有较好的强度和附着力，可对内部各层起到保护作用。在该步骤中，如果面漆层的厚度小于3μm，则面漆层对内部各层难以起到有效的保护作用，而如果面漆层的厚度大于8μm，则会导致产品外观光泽度的下降，且有可能出现“彩虹纹”等不良外观效果；若固化使用的UV能量小于800mJ/cm²，则能量不足以使面漆层内部树脂发生充分的交联反应，造成该层的强度及附着力不足，若UV能量大于1000mJ/cm²，则会导致固化反应过于剧烈，可能造成该层局部反应过快，造成内应力过大而开裂。另外，面漆层还可以具有抗指纹等成分，可以起到疏水防指纹及耐磨等作用。由此，可进一步提高利用该方法获得的壳体组件的性能。

总的来说，利用本申请的方法制备壳体组件，将喷涂、镭雕处理以及光学镀膜进行结合，基体不受特别限制，可以在具有较大弧度或复杂外观的基体上形成炫彩纹理效果。

在本申请的另一方面，本申请提出了一种壳体组件。参考图2，该壳体组件包括基体100，在基体的一侧依次层叠的第一底漆层200、色漆层300、镀膜漆层400、光学镀膜层500，并且，第一底漆层200、色漆层300、镀膜漆层400的至少之一上具有纹理结构。由此，该壳体组件具有丰富的颜色和纹理结构，可以提供炫彩的纹理效果。

参考图3，根据本申请的一些示例，在第一底漆200和基体100之间还可以具有第二底漆层600，第二底漆层600的厚度为3～5μm。由此，第二底漆层600可以有效提高第一底漆层200与基体100之间的结合性能。根据本申请的一些示例，在光学镀膜层500远离镀膜漆层400的一侧还可以具有面漆层700，面漆层的厚度为3～8μm。由此，面漆层可以为内部各层起到有效的保护作用。

根据本申请的一些具体示例，壳体组件的纹理结构是利用镭雕处理方法形成的，纹理结构的深度为1μm～10μm，宽度为30～60μm。由此，该壳体组件具有明显的纹理效果，可以提升壳体组件的整体性能。

根据本申请的一些示例，第一底漆层的厚度为20～30μm，色漆层的厚度为8～12μm，镀膜漆层的厚度为20～30μm，且镀膜漆层包含纳米氧化物，纳米氧化物含有Zr、Ti、Si的至少之一，光学镀膜层的厚度为30～300nm。由此，可以进一步提升壳体组件的整体性能。

在本申请的又一方面，本申请提出了一种电子设备。参考图7，该电子设备200包括：壳体组件100，该壳体组件为前面所述的，或者为利用前面所述的方法获得的，以及主板(图中未示出)和显示屏幕(图中未示出)，主板和显示屏幕收纳于该壳体组件中。由此，该电子设备具有前面所述的方法制备的壳体组件的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，该电子设备具有炫彩的纹理效果，可以满足用户对外观的需求。

本申请所述的电子设备的具体类型不受特别限制，例如，可以为手机、智能手表、掌上电脑或者笔记本电脑。上述电子设备可以为移动或便携式并执行无线通信的各种类型的计算机系统设备中的任何一种。具体的，电子设备可以为移动电话或智能电话(例如，基于iPhone TM，基于Android TM的电话)，便携式游戏设备(例如Nintendo DS TM，PlayStation Portable TM，Gameboy Advance TM，iPhone TM)、膝上型电脑、PDA、便携式互联网设备、音乐播放器以及数据存储设备，其他手持设备以及诸如手表、入耳式耳机、吊坠、头戴式耳机等，电子设备还可以为其他的可穿戴设备(例如，诸如电子眼镜、电子衣服、电子手镯、电子项链、电子纹身或智能手表的头戴式设备(HMD))。

电子设备还可以是多个电子设备中的任何一个，多个电子设备包括但不限于蜂窝电话、智能电话、其他无线通信设备、个人数字助理、音频播放器、其他媒体播放器、音乐记录器、录像机、照相机、其他媒体记录器、收音机、医疗设备、车辆运输仪器、计算器、可编程遥控器、寻呼机、膝上型计算机、台式计算机、打印机、上网本电脑、个人数字助理(PDA)、便携式多媒体播放器(PMP)、运动图像专家组(MPEG-1或MPEG-2)音频层3(MP3)播放器，便携式医疗设备以及数码相机及其组合。

在一些情况下，电子设备可以执行多种功能(例如，播放音乐，显示视频，存储图片以及接收和发送电话呼叫)。如果需要，电子设备可以是诸如蜂窝电话、媒体播放器、其他手持设备、腕表设备、吊坠设备、听筒设备或其他紧凑型便携式设备的便携式设备。

下面通过具体的示例对本申请进行说明，本领域技术人员能够理解的是，下面的具体的示例仅仅是为了说明的目的，而不以任何方式限制本申请的范围。另外，在下面的示例中，除非特别说明，所采用的材料和设备均是市售可得的。如果在后面的示例中，未对具体的处理条件和处理方法进行明确描述，则可以采用本领域中公知的条件和方法进行处理。

示例1

在该示例中，壳体组件的具体的制作步骤及参数如下：

提供基体，在基体的一侧喷涂底漆并烘烤以形成第二底漆层，第二底漆层选用PU型树脂漆，该层厚度为3μm，烘烤温度为70℃，烘烤时间为40min；在第二底漆层远离第一底漆层的一侧形成第一底漆层，第一底漆层选用PU型树脂漆，该层厚度为20μm，烘烤温度为70℃，烘烤时间为40min；之后在第一底漆层远离基体的一侧形成色漆层，色漆层选用PU型树脂漆，色漆层的厚度为8μm，烘烤温度为80℃，烘烤时间为20min；在色漆层上用紫外光镭雕宽度为60μm、深度为1μm的纹理；在色漆层远离基体的一侧形成镀膜漆层，镀膜漆层采用UV型树脂漆，厚度为20μm，固化使用的UV能量为1000mJ/cm²；在镀膜漆层远离基体的一侧沉积形成光学镀膜层，厚度为30nm，沉积温度为60℃；在光学镀膜层远离镀膜漆层的一侧形成面漆层，面漆层选用UV型树脂漆，该层的厚度为3μm，固化使用的UV能量为800mJ/cm²。

示例2

与示例1所不同的是，第二底漆层的厚度为5μm，形成该层的烘烤温度为80℃，烘烤时间为20min；第一底漆层的厚度为30μm，形成该层的烘烤温度为80℃，烘烤时间为20min；色漆层的厚度为12μm，形成该层的烘烤温度为70℃，烘烤时间为40min，色漆层未进行镭雕处理；镀膜漆层的厚度30μm，该层固化使用的UV能量1200mJ/cm²；在镀膜漆层上用紫外光镭雕宽度为30μm、深度为10μm的纹理；光学镀膜层的厚度为300nm，沉积温度为40℃；面漆层的厚度为8μm，固化使用的UV能量为1000mJ/cm²。

示例3

与示例1所不同的是，在第一底漆层上用紫外光镭雕宽度为40μm、深度为10μm的纹理；色漆层未进行镭雕处理；光学膜层的厚度为50nm。

示例4

与示例1所不同的是，第二底漆层的烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；形成第一底漆层的烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；在第一底漆层上用紫外光镭雕宽度为40μm、深度为3μm深的纹理；色漆层的厚度为10μm，烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；在色漆上用紫外光镭雕的纹理宽度为30μm；光学镀膜层的厚度为100nm，沉积温度为50℃；面漆层的厚度为5μm，固化使用的UV能量为1000mJ/cm²。

示例5

与示例1所不同的是，第二底漆层的烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；形成第一底漆层的烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；色漆层的厚度为10μm，烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；色漆层未进行镭雕处理；在镀膜漆上用紫外光镭雕宽度为30μm、深度为1μm的纹理；光学镀膜层的厚度为100nm，沉积温度为50℃；面漆层的厚度为5μm，固化使用的UV能量为1000mJ/cm²。

示例6

与示例1所不同的是，第二底漆层的烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；形成第一底漆层的烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；色漆层的厚度为10μm，烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；在色漆层上用紫外光镭雕宽度为40μm、深度为3μm的纹理；在镀膜漆上用紫外光镭雕宽度为30μm、深度为1μm的纹理；光学镀膜层的厚度为100nm，沉积温度为50℃；面漆层的厚度为5μm，固化使用的UV能量为1000mJ/cm²。

示例7

与示例1所不同的是，第二底漆层的烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；形成第一底漆层的烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；在第一底漆层上用紫外光镭雕宽度为40μm、深度为5μm的纹理；色漆层的厚度为10μm，烘烤温度为75℃，烘烤时间为30min；在色漆层上用紫外光镭雕宽度为30μm、深度为3μm的纹理；在镀膜漆上用紫外光镭雕宽度为30μm、深度为1μm的纹理；光学镀膜层的厚度为100nm，沉积温度为50℃；面漆层的厚度为5μm，固化使用的UV能量为1000mJ/cm²。

对比例1

与示例1所不同的是，在色漆层上镭雕形成的纹理深度为0.8μm。

对比例2

与示例1所不同的是，在色漆层上镭雕形成的纹理深度为11μm。

对比例3

与示例1所不同的是，在色漆层上镭雕形成的纹理宽度为25μm。

对比例4

与示例1所不同的是，在色漆层上镭雕形成的纹理宽度为65μm。

示例1获得的的壳体组件纹理效果清晰、无锯齿边、无烧灼现象；并且，外观明亮通透，有轻微的炫彩颜色效果。示例2获得的壳体组件外观炫彩效果明显，且带有轻微的纹理质感。示例3获得的壳体组件与示例1或示例2获得的壳体组件的炫彩纹理效果相比较弱。与示例2获得的壳体组件的外观效果相比，示例5所获得的壳体组件的纹理质感更清晰。示例4和示例6的壳体组件的纹理质感比示例5的更加清晰，示例7采用了三层镭雕纹理叠加，其纹理质感在所有示例中最明显，且具有炫彩颜色效果。

对比例1的壳体组件的纹理效果立体感不强，且有纹理断断续续的现象。对比例2的壳体组件的纹理存在烧灼问题，且有裸露第一底漆层等现象。对比例3和对比例4的壳体组件的纹理效果不清晰。由于镭雕纹理宽度和深度设置不合理，对比例1至4所获得的的壳体组件外观效果均较差。

由此可知，利用本申请提出的制备壳体组件的方法，将喷涂、镭雕处理以及光学镀膜等进行结合，并选用合适的制备参数，可以在具有较高弧度或复杂外形的基体上形成炫彩的纹理效果。

在本申请的描述中，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请而不是要求本申请必须以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

在本说明书的描述中，参考术语“一个示例”、“另一个示例”、“一些示例”、“一些具体示例”等的描述意指结合该示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同示例以及不同示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本申请的示例，可以理解的是，上述示例不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述示例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (12)

1.一种制备壳体组件的方法，其特征在于，包括：

提供基体；

在所述基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层；以及

利用镭雕处理方法在所述第一底漆层、所述色漆层和所述镀膜漆层的至少之一上形成纹理结构；

其中，所述第一底漆层的厚度为20～30μm，所述色漆层的厚度为8～12μm，所述镀膜漆层的厚度为20～30μm，所述光学镀膜层的厚度为30～300nm，所述纹理结构的深度为1～10μm，所述纹理结构的宽度为30～60μm。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括以下步骤的至少之一：

设置第二底漆层，所述第二底漆层位于所述基体和所述第一底漆层之间，所述第二底漆层的厚度为3～5μm；以及

设置面漆层，所述面漆层位于所述光学镀膜层远离所述镀膜漆层的一侧，所述面漆层的厚度为3～8μm。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一底漆层、所述色漆层、所述第二底漆层是由PU型树脂漆烘烤形成的，

所述烘烤的温度为70～80℃，所述烘烤的时间为20～40min。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述镀膜漆层为UV型树脂漆经UV能量固化形成的，所述固化使用的UV能量为1000～1200mJ/cm²，且所述镀膜漆层包含纳米氧化物，所述纳米氧化物含有Zr、Ti、Si的至少之一。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光学镀膜层含有钛、硅、锆的至少之一，且形成所述光学镀膜层的温度为40～60℃。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述面漆层为UV型树脂漆经UV能量固化形成的，所述固化使用的UV能量为800～1200mJ/cm²。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基体包括底面以及环绕所述底面的多个侧壁，至少一个所述侧壁和所述底面之间的折弯角大于70度。

8.一种壳体组件，其特征在于，包括：

基体；

在所述基体的一侧依次层叠的第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层；

其中，所述第一底漆层、所述色漆层、所述镀膜漆层的至少之一上具有纹理结构；

其中，所述第一底漆层的厚度为20～30μm，所述色漆层的厚度为8～12μm，所述镀膜漆层的厚度为20～30μm，所述光学镀膜层的厚度为30～300nm，所述纹理结构的深度为1～10μm，所述纹理结构的宽度为30～60μm。

9.根据权利要求8所述的壳体组件，其特征在于，所述纹理结构是利用镭雕处理方法形成的。

10.根据权利要求8所述的壳体组件，其特征在于，进一步包括以下步骤的至少之一：

设置第二底漆层，所述第二底漆层位于所述基体和所述第一底漆层之间，所述第二底漆层的厚度为3～5μm；以及

设置面漆层，所述面漆层位于所述光学镀膜层远离所述镀膜漆层的一侧，所述面漆层的厚度为3～8μm。

11.根据权利要求8所述的壳体组件，其特征在于，所述镀膜漆层包含纳米氧化物，所述纳米氧化物含有Zr、Ti、Si的至少之一。

12.一种电子设备，其特征在于，包括：

壳体组件，所述壳体组件为权利要求8～11任一项所述的，或者为利用权利要求1～7任一项所述的方法获得的；以及

主板和显示屏幕，所述主板和所述显示屏幕收纳于所述壳体组件中。

Images