CN110978873A - 壳体的制作方法、壳体以及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及电子设备技术领域，具体公开了一种壳体的制作方法、壳体以及电子设备，该方法包括：提供一透明基材，包括相背设置的第一表面和第二平面；在第一表面上形成纹理层，其中，纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，第一纹理区的纹理深度大于第二纹理区的纹理深度；在纹理层背向第一表面的一侧施涂光学油墨，以形成光学膜层，其中，光学油墨包括光学薄膜碎片，以使光学薄膜碎片不均匀分布于第一纹理区和第二纹理区中。通过上述方式，本申请利用光学薄膜碎片的不同厚度和叠构的设计，得到实现不同角度不同颜色的幻彩效果。

Description

壳体的制作方法、壳体以及电子设备
技术领域
本申请涉及电子设备技术领域，特别是涉及一种壳体的制作方法、壳体以及电子设备。
背景技术
现有技术中，电子设备通常采用光学镀膜(OPVD)的方式在壳体膜片上镀多层的光学膜层以实现更纯正和靓丽的颜色效果。但上述加工工艺对设备要求高，且加工难度大。
发明内容
本申请提供一种壳体的制作方法、壳体以及电子设备，利用光学薄膜碎片的不同厚度和叠构的设计，得到实现不同角度不同颜色的幻彩效果。
一方面，本申请提供了一种壳体的制作方法，该方法包括：提供一透明基材，包括相背设置的第一表面和第二平面；在第一表面上形成纹理层，其中，纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，第一纹理区的纹理深度大于第二纹理区的纹理深度；在纹理层背向第一表面的一侧施涂光学油墨，以形成光学膜层，其中，光学油墨包括光学薄膜碎片，以使光学薄膜碎片不均匀分布于第一纹理区和第二纹理区中。
另一方面，本申请提供了一种壳体，包括：透明基材，透明基材包括相背设置的第一表面和第二表面；纹理层，设置在第一表面上，其中，纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，第一纹理区的纹理深度大于第二纹理区的纹理深度；光学膜层，设置在纹理层背向第一表面的一侧，其中，光学膜层中分散有光学薄膜碎片，光学薄膜碎片不均匀分布于第一纹理区和第二纹理区中。
又一方面，本申请提供了一种电子设备，包括：壳体，该壳体为前述的壳体；显示屏组件，显示屏组件与壳体相连，显示屏组件与壳体之间限定出安装空间；以及主板，主板设在安装空间内且与显示屏组件电连接。
本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请在透明基材的第一表面上形成纹理层，该纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，第一纹理区的纹理深度大于第二纹理区的纹理深度。利用第一纹理区和第二纹理区的纹理深度不同，进而在第一纹理区和第二纹理区中分布厚度不均匀的光学油墨，以使光学薄膜碎片在第一纹理区和第二纹理区中不均匀分布，利用光学薄膜碎片的不同厚度和叠构的设计，得到实现不同角度不同颜色的幻彩效果。同时，由于本申请不需要在壳体透明基材上蒸镀多层光学薄膜，因此，本申请的制作方法工艺简单，成本低廉。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：
图1是本申请壳体的制作方法第一实施例的流程示意图；
图2是本申请壳体的制作方法第二实施例的流程示意图；
图3是本申请壳体的制作方法第三实施例的流程示意图；
图4是图1中S102的流程示意图；
图5是图1中S102的另一流程示意图；
图6是本申请壳体的制作方法第四实施例的流程示意图；
图7是本申请壳体第一实施例的结构示意图；
图8是本申请壳体第二实施例的结构示意图；
图9是本申请壳体第三实施例的结构示意图；
图10是本申请壳体第四实施例的结构示意图；
图11是本申请壳体第五实施例的结构示意图；
图12是本申请电子设备一实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
为解决现有技术的缺陷，本申请提出一种壳体的制作方法。参阅图1，图1是本申请壳体的制作方法第一实施例的流程示意图，该方法包括以下步骤：
S101：提供一透明基材。
具体地，透明基材包括相背设置的第一表面和第二平面。
透明基材的材料可以采用PET、PMMA、PC、PMMA/PC复合材料、玻璃、蓝宝石以及陶瓷的至少一种。
其中，PMMA和PC通过粘接的方式复合，PMMA和PC也可以通过共挤复合的方式进行复合。其中，PMMA/PC复合板的厚度比例为：PC层10％－90％；PMMA层90％－10％。将韧性好的PC作为内侧层，可以提高壳体的韧性、抗撕裂强度；而将PMMA设置于外侧层，可以充分利用其优异的硬度，提高壳体的抗外击性能。
在透明基材由选自玻璃、蓝宝石以及陶瓷的至少之一形成的，由此，可以保证该透明基材具有良好的透过率以及硬度。
透明基材的厚度为0.1毫米-1.5毫米，例如0.1毫米、0.5毫米、1毫米、1.5毫米，可根据需要选择厚度。
S102：在第一表面上形成纹理层。
具体地，纹理层的厚度可以为8-10微米，例如8微米、9微米、10微米。由此，可以使得壳体具有较好的纹理效果，且壳体的整体厚度较小。
可选地，纹理层可以采用UV转印工艺形成在第一表面上，纹理层可以由无色的UV油墨形成，纹理层也可以由带有颜色的UV油墨形成。在纹理层由带有颜色的UV油墨形成时，纹理层具有可以使得壳体具有纹理效果，同时也可以使得壳体具有颜色效果。纹理层可以为单层，也可以为多层。
在其他实施例中，可以对透明基材的第一表面进行刻蚀处理，以便在透明基材的第一表面形成预定图案的纹理层。由于刻蚀处理之前透明基材的第一表面可以预先形成有模板，因此透明基材第一表面覆盖模板的部分不被刻蚀，而暴露在外的部分被刻蚀，从而可以在该透明基材的第一表面形成预定的纹理图案。
纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，第一纹理区的纹理深度大于第二纹理区的纹理深度。
S103：在纹理层背向第一表面的一侧施涂光学油墨，以形成光学膜层。
其中，光学油墨包括光学薄膜碎片，每一光学薄膜碎片所包含的具体膜层数量、各膜层的具体材质和折射率、各膜层的厚度等参数可根据实际情况自行设定，以充分提高本实施例的光学薄膜碎片的适应能力和应用广泛性。光学油墨可通过喷墨打印的方式施涂在纹理层背向第一表面的一侧，其中，喷墨打印方案可以灵活控制油墨量和在不同区域可以进行不同光学膜颜色油墨的喷涂，从而可以实现特殊图案和多彩的外观效果。
可以理解的是，由于第一纹理区和第二纹理区的纹理深度为不同，因此，纹理层表面的光学油墨层的厚度并不完全相同，纹理深度大的区域分散有更多的光学薄膜碎片，纹理深度小的区域分散有更少的光学薄膜碎片，利用光学薄膜碎片不均匀分布于第一纹理区和第二纹理区的特性，得到实现不同角度不同颜色的幻彩效果。
区别于现有技术的情况，本申请在透明基材的第一表面上形成纹理层，该纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，第一纹理区的纹理深度大于第二纹理区的纹理深度。利用第一纹理区和第二纹理区的纹理深度不同，进而在第一纹理区和第二纹理区中分布厚度不均匀的光学油墨，以使光学薄膜碎片在第一纹理区和第二纹理区中不均匀分布，利用光学薄膜碎片的不同厚度和叠构的设计，得到实现不同角度不同颜色的幻彩效果。同时，由于本申请不需要在壳体透明基材上蒸镀多层光学薄膜，因此，本申请的制作方法工艺简单，成本低廉。
参阅图2，图2是本申请壳体的制作方法第二实施例的流程示意图，在步骤S103之后，该方法进一步包括：
S104：在光学膜层背向纹理层的一侧上依次形成层叠设置的图案层以及底色层，以得到壳体。
根据预定设计，通过喷墨印刷将油墨多次喷涂于第一表面，将喷墨印刷完成后的透明基材静置预设时间后，对油墨进行固化以形成图案层。进一步地，图案层可以为渐变色层。
而底色层的颜色不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于红、橙、黄、绿、青、蓝、紫等。由此，可以选择任意不同的颜色，以满足不同用户的使用需求。
参阅图3，图3是本申请壳体的制作方法第三实施例的流程示意图，在步骤S103之前，该方法还包括：
S105：提供一基层。
基层的材质可以为玻璃、聚乙烯硬塑料等。
S106：在基层上设置多层光学薄膜。
具体的，可以将膜系设计软件的背景折射率修改为光学油墨的折射率，采用膜系设计软件根据设计要求设计光学薄膜的膜系结构。其中，膜系设计软件没有特殊要求，本领域常用的光学设计软件皆可，例如EssentialMacleod软件。
根据设计要求设计好的膜系，可以采用电子束蒸发、热蒸发法、溅射中的至少一种方法在基层上依次形成多层光学薄膜的各个膜层，这些方法已为本领域技术人员所公知，在此不再赘述。
上述多层光学薄膜包括中间层、以及设置在中间层两侧的交替层叠的第一折射率光学膜层和第二折射率光学膜层，其中，第一折射率小于第二折射率。
其中，多层光学薄膜可以包括依次层叠设置的第二折射率光学膜层H1，第一折射率光学膜层L1，中间层11，第一折射率光学膜层L2以及第二折射率光学膜层H2。其中，中间层11的材料的折射率大于第一折射率，也就是说，中间层的材料可以为折射率大于1.6的光学材料，优选地，中间层所采用的高折射率光学材料可以与第二折射率光学膜层H1、H2的材料相同。
其中，多层光学薄膜的总层数大于或等于5，且总层数为奇数，例如，5层、7层、9层。例如，多层光学薄膜可以由五层光学膜层制成，依次为第二折射率光学膜层H1-第一折射率光学膜层L1-第二折射率光学膜层H(中间层11)-第一折射率光学膜层L2第二折射率光学膜层H2。或者多层光学薄膜可以由九层光学膜层制成，依次为第二折射率光学膜层-第一折射率光学膜层-第二折射率光学膜层-第一折射率光学膜层-第二折射率光学膜层(中间层)-第一折射率光学膜层-第二折射率光学膜层-第一折射率光学膜层-第二折射率光学膜层。
其中，每一第二折射率光学膜层H1、H2的光学厚度和每一第一折射率光学膜层L1、L2的光学厚度为20纳米-1000纳米，例如，20纳米、50纳米、100纳米、500纳米、1000纳米。
需要注意的是，多层光学薄膜所包含的具体膜层数量、各膜层的具体材质和折射率、各膜层的厚度等参数可根据实际情况自行设定，以充分提高本实施例的多层光学薄膜的适应能力和应用广泛性。应当理解，第一折射率光学膜层L1、L2的外表面12、13的第二折射率光学膜层H1、H2的折射率越高，越有利于增加可见光的反射效果，本实施例的多层光学薄膜的各膜层折射率可以不同，也可以相同，具体可以根据光学导纳和光学特征矩阵推算得出，本实施例对其推算过程不作详细叙述。
当有光线入射到第二折射率光学膜层H1、H2和第一折射率光学膜层L1、L2时，将发生若干次折射、反射。因此光的传输方向会发生改变，并形成光的干涉，通过设计就可实现需要的颜色。
光学膜层折射率最低的为氟化镁(折射率约为1.38)。而硫化锌(折射率约为2.38)是用于可见和红外区的最重要的一种薄膜材料，其有很好的机械特性和理论上良好的光学特性。通过硫化锌作为第二折射率光学膜层H1、H2的材料，氟化镁作为第一折射率光学膜层L1、L2的材料，能够增加第二折射率光学膜层H1、H2和第一折射率光学膜层L1、L2之间的折射率差值。而光在多层光学薄膜上的反射率取决于第二折射率光学膜层H1、H2和第一折射率光学膜层L1、L2折射率，其中，第二折射率光学膜层H1、H2和第一折射率光学膜层L1、L2之间的折射率差值越大，光在多层光学薄膜上的反射率越大，越有利于增加光的反射效果，进而能够增加油墨的亮度。
S107：剥离多层光学薄膜。
具体的，可以将镀有多层光学薄膜的基层置入剥离液中进行脱膜处理。
S108：将多层光学薄膜碎化，得到光学薄膜碎片。
具体的，此过程没有特殊限制，采用现有技术中的超声粉碎机即可完成。需要注意的是，多层光学薄膜碎化后，各个膜层之间并不会被剥离，每一光学薄膜碎片的光学膜层的总层数与多层光学薄膜的总层数相同，每一光学薄膜碎片的光学膜层的光学性质与多层光学薄膜的光学性质相同。
S109：将光学薄膜碎片加入基础油墨中，混合后得到光学油墨。
参阅图4，图4是图1中S102的流程示意图，在一实施例中，步骤S102包括：
S1021：提供一具有目标纹理的转印模具。
根据本申请的实施例，UV胶的类型不受特别限制，本领域技术人员可以根据实际需求进行选择。
S1022：在转印模具中加入UV胶。
S1023：将透明基材放入转印模具，并压制转印模具，以在在第一表面上形成具有纹理的UV胶层。
S1024：将具有纹理的UV胶层采用紫外线固化，以形成纹理层。
具体地，将转印模具中的目标纹理通过UV胶转印至渐变层背向第一表面的一侧上。根据本实施例，形成纹理层可以是先将UV胶通过丝网印刷的方式印刷到具有目标纹理的转印模具上；然后，将透明基材放到转印模具上，其中，具有光学膜层的一侧与转印模具接触；随后，再用胶辊将透明基材紧压到转印模具上，然后用LED灯在转印模具下方照射，使得UV胶初步固化。
根据本申请的实施例，所形成的纹理层的纹理类型(例如纹理形状、纹理颜色)不受特别限制，本领域技术人员可以根据实际需求进行选择。例如，可以制作具有目标纹理的转印模具以实现不同纹理层的设计，更具体的，纹理层可以包括能移动光影的光柱纹、S纹，具有高反射效果的孔雀纹，能得到七彩颜色的炫彩纹中的至少之一。
根据本申请的实施例，纹理层的厚度不受特别限制，本领域技术人员可以根据实际需求进行选择。例如，纹理层可以为平面结构，纹理层的厚度也可以为8-10微米。在本申请的一些具体实施例中，纹理层的厚度为8微米、9微米、10微米。根据本申请的实施例，纹理层的透光率不受特别限制，本领域技术人员可以根据实际需求进行选择。
发明人发现，该方法可以得到多种外观图样的目标纹理层，所得到的纹理层表面光亮滑爽，耐磨耐按，厚度可调控，显著提升制备的壳体的外观效果。
参阅图5，图5是图1中S102的另一流程示意图，在一实施例中，在透明基材为玻璃、蓝宝石以及陶瓷中的至少一种时，步骤S102包括：
S1025：对第一表面进行刻蚀处理，以便在第一表面形成纹理图案。
具体地，对透明基材的第一表面进行刻蚀处理，以便在透明基材的第一表面形成预定图案。由于刻蚀处理之前透明基材的第一表面预先形成有模板，因此透明基材第一表面覆盖模板的部分不被刻蚀，而暴露在外的部分被刻蚀，从而可以在该透明基材的第一表面形成预定的图案。具体地，根据本发明的实施例，刻蚀处理为干法刻蚀。由此，可以保证刻蚀形成的预定图案具有较好的精度。根据本发明的具体实施例，干法刻蚀为气体等离子体刻蚀，气体等离子体刻蚀可以采用选自三氯化硼、四氟化碳三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷以及三氟甲烷的至少之一进行。气体等离子体刻蚀可以通过对刻蚀气体以及刻蚀参数的设定获得较为精确的刻蚀精度，由此，可以简便地实现对透明基材的刻蚀，获得具有较高精度的预定图案。
需要说明的是，上述刻蚀处理的刻蚀深度、刻蚀气体的选择以及刻蚀的具体参数，需要根据透明基材的材料以及预定图案的具体情况进行设计。例如，根据本发明的实施例，干法刻蚀的刻蚀深度可以为0.01～0.05mm。由此，可以在获得预定图案的同时，防止刻蚀过程对透明基材的整体强度以及应力造成影响。发明人经过大量实验发现，当形成透明基材的材料不同时，利用相同的刻蚀气体以及参数进行等离子体刻蚀，会获得不同的刻蚀效果。根据本发明的具体实施例，当采用蓝宝石构成透明基材时，采用三氯化硼以及四氟化碳均能够较好地获得预定图案，且不会对透明基材的强度以及应力造成负面影响。
参阅图6，图6是本申请壳体的制作方法第四实施例的流程示意图，在一实施例中，在透明基材的材质为PMMA/PC复合材料时，透明基材包括叠置的PMMA层和PC层，PC层的背向PMMA层的表面构成第一表面，PMMA层的背向PC层的表面构成第二表面。在步骤S104之后，该方法还包括：
S105：将壳体弯曲成型。
具体地，将制得的壳体弯曲成型，且壳体弯曲成型之后，壳体具有内凹表面及与内凹表面相对的外凸表面。渐变层、纹理层、光学膜层以及底色层均位于内凹表面上。在其中一个实施例中，将壳体弯曲成型的方法可以为高压成型。在另一个实施例中，将壳体弯曲成型的方法为热压成型，
S106：对第二表面进行淋涂，使第二表面吸附一层待UV固化的加硬液。
S107：对淋涂后的第二表面进行UV固化处理，以在第二表面上形成硬化层。
具体地，在透明基材的第二表面上淋涂硬化液，然后在60℃-90℃下(例如60℃、70℃、80℃、90℃)，烘烤3分钟-10分钟(例如烘烤3分钟、5分钟、7分钟、10分钟)，然后经紫外光照射以固化，得到硬化层。
在其中一个实施例中，按重量份数计，加硬液包括：紫外光固化剂1.0份和稀释剂0.8-1.2份。紫外光固化剂可以为聚氨酯丙烯酸酯添加有机硅树脂和全氟聚醚丙烯酸酯，例如PPG公司的型号为304的硬化液。可以理解，硬化液不限于为上述物质，可以为本领域常用的硬化液。上述硬化液制备得到的硬化层具有较好的耐磨性能和较好的抗划伤性能。
进一步地，还可以通过CNC工艺对壳体进行切割、抛光处理，以得到目标尺寸的壳体。
参阅图7，图7是本申请壳体第一实施例的结构示意图。该壳体100包括：透明基材11、纹理层12、光学膜层13。
其中，透明基材11的材质为PMMA、PC、PET、PMMA/PC复合材料、玻璃、蓝宝石以及陶瓷的至少一种。
透明基材11包括相背设置的第一表面111和第二表面112，纹理层12设置在第一表面111上，光学膜层13设置在纹理层12背向第一表面111的一侧。
其中，光学膜层13中分散有光学薄膜碎片(图未示出)。其中，纹理层12包括第一纹理区121和第二纹理区122，第一纹理区121的纹理深度大于第二纹理区122的纹理深度。光学薄膜碎片不均匀分布于第一纹理区121和第二纹理区122中。
可以理解的是，由于第一纹理区121和第二纹理区122的纹理深度为不同，因此，纹理层12表面的光学油墨层13的厚度并不完全相同，纹理深度大的区域分散有更多的光学薄膜碎片，纹理深度小的区域分散有更少的光学薄膜碎片，利用光学薄膜碎片不均匀分布于第一纹理区121和第二纹理区122的特性，得到实现不同角度不同颜色的幻彩效果。
区别于现有技术的情况，本申请在透明基材的第一表面上形成纹理层，该纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，第一纹理区的纹理深度大于第二纹理区的纹理深度。利用第一纹理区和第二纹理区的纹理深度不同，进而在第一纹理区和第二纹理区中分布厚度不均匀的光学油墨，以使光学薄膜碎片在第一纹理区和第二纹理区中不均匀分布，利用光学薄膜碎片的不同厚度和叠构的设计，得到实现不同角度不同颜色的幻彩效果。同时，由于本申请不需要在壳体透明基材上蒸镀多层光学薄膜，因此，本申请的制作方法工艺简单，成本低廉。
上述实施例中，其中，光学薄膜碎片的粒径小于等于1微米。第一纹理区121的纹理深度在5-10微米之间，第二纹理区122的纹理深度在0-5微米之间。其中，沿纹理深度方向，光学薄膜碎片在第一纹理区121的分布数量大于光学薄膜碎片在第二纹理区122的分布数量。
参阅图8，图8是本申请壳体第二实施例的结构示意图。光学薄膜碎片由多层光学薄膜碎化得到。多层光学薄膜包括中间层21、以及设置在中间层21两侧22、23的交替层叠的第一折射率光学膜层L1、L2和第二折射率光学膜层H1、H2，第一折射率小于第二折射率。
其中，每一光学薄膜碎片的光学膜层13的总层数与多层光学薄膜的总层数相同，每一光学薄膜碎片的光学膜层13的光学性质与多层光学薄膜的光学性质相同。
参阅图9，图9是本申请壳体第三实施例的结构示意图。纹理层12为UV纹理层12，UV纹理层12的厚度为8-10微米(例如8微米、9微米、10微米)。
参阅图10，图10是本申请壳体第四实施例的结构示意图。其中，在透明基材11为玻璃、蓝宝石以及陶瓷中的至少一种时，纹理层12为刻蚀在第一表面111上的纹理图案，该纹理图案的最大刻蚀深度为8-10微米(例如8微米、9微米、10微米)。
参阅图11，图11是本申请壳体第五实施例的结构示意图。壳体100还包括：层叠设置在光学膜层13上的图案层14以及底色层15。
图案层14的厚度为5-10微米(例如5微米、6微米、8微米、10微米)、底色层15的厚度为15-35微米(例如15微米、20微米、30微米、35微米)。
请参阅图12，图12是本申请电子设备一实施例的结构示意图。该电子设备200可以是手机、平板电脑、电子书阅读器、音频播放器、数码相机、膝上型便携计算机、车载电脑、台式计算机、个人数字助理、可穿戴设备等。电子设备200包括：壳体1、显示屏组件2以及主板(图未示)。
壳体1为上述实施例提供的一种壳体100。显示屏组件2与壳体1相连，显示屏组件2与壳体100之间限定出安装空间。主板设在安装空间内且与显示屏组件2电连接。
区别于现有技术的情况，本申请在第一表面上形成纹理层，该纹理层背向第一表面的一侧施涂有光学油墨，以形成光学膜层，其中，光学油墨包括光学薄膜碎片。本申请不需要在壳体透明基材上蒸镀多层光学薄膜，因此，本申请的制作方法工艺简单，成本低廉。而光学薄膜碎片可以增加可见光的反射效果，进而能够增加壳体的亮度，以制作出具有优异反射性能且具有金属质感的壳体。同时，由于纹理层表面不平整，纹理层表面的光学油墨层的厚度并不完全相同，光学油墨层厚度大的区域分散有更多的光学薄膜碎片，光学油墨层厚度小的区域分散有更少的光学薄膜碎片，利用光学薄膜碎片分散不均匀的特性，增强壳体色彩的多样性，产生新颖奇特的效果。
以上仅为本申请的实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种壳体的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一透明基材，包括相背设置的第一表面和第二平面；
在所述第一表面上形成纹理层，其中，所述纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，所述第一纹理区的纹理深度大于所述第二纹理区的纹理深度；
在所述纹理层背向所述第一表面的一侧施涂光学油墨，以形成光学膜层，其中，所述光学油墨包括光学薄膜碎片，以使所述光学薄膜碎片不均匀分布于所述第一纹理区和所述第二纹理区中。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述纹理层背向所述第一表面的一侧施涂光学油墨，以形成光学膜层的步骤之后，所述方法还包括：
在所述光学膜层背向所述纹理层的一侧上依次形成层叠设置的图案层以及底色层，以得到所述壳体。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一表面上形成纹理层的步骤包括：
提供一具有目标纹理的转印模具；
在所述转印模具中加入UV胶；
将所述透明基材放入所述转印模具，并压制所述转印模具，以在在所述第一表面上形成具有纹理的UV胶层；
将所述具有纹理的UV胶层采用紫外线固化，以形成所述纹理层。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述透明基材为玻璃、蓝宝石以及陶瓷中的至少一种时，所述在所述第一表面上形成纹理层的步骤包括：
对所述第一表面进行刻蚀处理，以便在所述第一表面形成纹理图案。
5.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括：
透明基材，所述透明基材包括相背设置的第一表面和第二表面；
纹理层，设置在所述第一表面上，其中，所述纹理层包括第一纹理区和第二纹理区，所述第一纹理区的纹理深度大于所述第二纹理区的纹理深度；
光学膜层，设置在所述纹理层背向所述第一表面的一侧，其中，所述光学膜层中分散有光学薄膜碎片，所述光学薄膜碎片不均匀分布于所述第一纹理区和所述第二纹理区中。
6.根据权利要求5所述的壳体，其特征在于，
所述光学薄膜碎片的粒径小于等于1微米；
所述第一纹理区的纹理深度在5-10微米之间，所述第二纹理区的纹理深度在0-5微米之间；
其中，沿纹理深度方向，所述光学薄膜碎片在所述第一纹理区的分布数量大于所述光学薄膜碎片在所述第二纹理区的分布数量。
7.根据权利要求5所述的壳体，其特征在于，所述壳体还包括：
所述纹理层为UV纹理层，所述UV纹理层的厚度为8-10微米。
8.根据权利要求5所述的壳体，其特征在于，
在所述透明基材为玻璃、蓝宝石以及陶瓷中的至少一种时，所述纹理层为刻蚀在所述第一表面上的纹理图案，所述纹理图案的最大刻蚀深度为8-10微米。
9.根据权利要求5所述的壳体，其特征在于，所述壳体还包括：
层叠设置在所述光学膜层上的图案层以及底色层；
所述图案层的厚度为5-10微米、所述底色层的厚度为15-35微米。
10.一种电子设备，其特征在于，包括：
壳体，所述壳体为如权利要求5-9中任意一项所述的壳体；
显示屏组件，所述显示屏组件与所述壳体相连，所述显示屏组件与所述壳体之间限定出安装空间；以及
主板，所述主板设在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。
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