CN113423212A - 电子设备、壳体、膜片及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种电子设备、壳体、膜片及其制备方法;该膜片包括:透明膜片基材、UV胶实体以及光学膜层;UV胶实体设于所述透明膜片基材的表面;其中,所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面设有纹理结构;光学膜层设于所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面,并覆盖所述纹理结构。本申请实施例提供的膜片,通过在膜片基材上利用UV转印技术形成表面设有纹理结构的UV胶实体,然后在UV胶实体上覆盖纹理结构,可以实现的锥形实体等异形结构表面上形成纹理以及高光亮效果,具有成本低,应用领域广等特点。
Description
技术领域
本发明涉及膜片结构及其制作工艺的技术领域,具体是涉及一种电子设备、壳体、膜片及其制备方法。
背景技术
在锥形等异性结构表面实现高亮度,通常采用机加工方案。一般是采用一定厚度和强度的不锈钢材料,通过机械加工进行铣薄并进行抛光,满足所需要的形状尺寸要求,再对表面进行纹理加工,最后通过镀膜实现高亮效果。
发明内容
本申请实施例第一方面提供了一种膜片,所述膜片包括:
透明膜片基材;
UV胶实体,设于所述透明膜片基材的表面;其中,所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面设有纹理结构;
光学膜层,设于所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面,并覆盖所述纹理结构。
第二方面,本申请实施例提供一种壳体,所述壳体包括基板以及上述实施例中任一项所述的膜片,所述膜片设于所述基板上。
另外,本申请实施例又提供一种电子设备,所述电子设备包括显示屏模组、控制电路板以及上述实施例中所述的壳体,所述显示屏模组与所述壳体配合形成容置空间,所述控制电路板设于所述容置空间,并与所述显示屏模组电性连接。
进一步地,本申请实施例还提供一种膜片的制备方法,所述制备方法包括:
在透明膜片基材上转印胶水;
对胶水进行UV固化,进而形成UV胶实体,其中,所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面设有纹理结构;
在所述UV胶实体的表面形成光学膜层;其中,所述光学膜层覆盖所述纹理结构。
本申请实施例提供的膜片,通过在膜片基材上利用UV转印技术形成表面设有纹理结构的UV胶实体,然后在UV胶实体上覆盖纹理结构,可以实现的锥形实体等异形结构表面上形成纹理以及高光亮效果,具有成本低,应用领域广等特点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请膜片一实施例的结构示意图;
图2是纹理结构的结构放大示意图;
图3是本申请膜片另一实施例的结构示意图;
图4是本申请壳体一实施例结构示意图;
图5是本申请电子设备一实施例的结构示意图;
图6是图5实施例中电子设备在A-A处的结构剖视示意图;
图7是本申请电子设备一实施例的结构组成框图示意图;
图8是本申请膜片制作方法一实施例的流程示意图;
图9是在透明膜片基材上形成UV胶实体后的结构示意图;
图10是本申请膜片制作方法另一实施例的流程示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明作进一步的详细描述。特别指出的是,以下实施例仅用于说明本发明,但不对本发明的范围进行限定。同样的,以下实施例仅为本发明的部分实施例而非全部实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
作为在此使用的“电子设备”(或简称为“终端”)包括,但不限于被设置成经由有线线路连接(如经由公共交换电话网络(PSTN)、数字用户线路(DSL)、数字电缆、直接电缆连接,以及/或另一数据连接/网络)和/或经由(例如,针对蜂窝网络、无线局域网(WLAN)、诸如DVB-H网络的数字电视网络、卫星网络、AM-FM广播发送器,以及/或另一通信终端的)无线接口接收/发送通信信号的装置。被设置成通过无线接口通信的通信终端可以被称为“无线通信终端”、“无线终端”或“移动终端”。移动终端的示例包括,但不限于卫星或蜂窝电话;可以组合蜂窝无线电电话与数据处理、传真以及数据通信能力的个人通信系统(PCS)终端;可以包括无线电电话、寻呼机、因特网/内联网接入、Web浏览器、记事簿、日历以及/或全球定位系统(GPS)接收器的PDA;以及常规膝上型和/或掌上型接收器或包括无线电电话收发器的其它电子装置。手机即为配置有蜂窝通信模块的电子设备。
请参阅图1,图1是本申请膜片一实施例的结构示意图;需要说明的是,本申请中的膜片可以用电子设备的壳体中,而电子设备则可以包括手机、平板电脑、笔记本电脑、可穿戴设备等。该膜片100包括但不限于以下层叠结构:透明膜片基材110、UV胶实体120以及光学膜层130。需要说明的是,本申请实施例中的术语“包括”和“具有”以及它们任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元,而是可选地还包括没有列出的步骤或单元,或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或组件。
具体而言,透明膜片基材110可以为PET(Polyethylene terephthalate简称PET或PEIT,俗称涤纶树脂,对苯二甲酸与乙二醇的缩聚物)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate)),简称PMMA),又称做压克力、亚克力(英文Acrylic)或有机玻璃)、PC(Polycarbonate,聚碳酸酯(英文简称PC)是分子链中含有碳酸酯基的高分子聚合物)、PI(聚酰亚胺(Polyimide))等。关于透明膜片基材110的更多材料类型,在本领域技术人员的理解范围内,此处不再一一列举并详述。
可选地,UV胶实体120设于所述透明膜片基材110的表面。具体可以是所述UV胶实体120通过UV转印的方式形成于所述透明膜片基材110的表面。本实施例图示中的UV胶实体120为锥体结构,在一些其他实施例中,UV胶实体120还可以是其他异形实体结构,譬如矩形、三角形等,只要不是平板结构即可。
其中,透明膜片基材110需和胶水在UV固化后具有较好的附着力。透明膜片基材110的厚度在强度满足要求的情况下可以薄一些,以保证透明膜片基材110的透过率。胶水(UV胶实体120固化前)需具有较好抗黄变能力,同时在高低温冲击下,不会裂开。胶水在固化前需具有较好的流动性,固化后需具有一定的机械强度。胶水固化后具有较好的透过率,一般要求透过率需在80%以上,更优的可以是在85%以上,譬如90%甚至95%。具体的数值此处不做具体限定,一般是越高越好。利用UV转印工艺,UV胶水在所设计的金属治具上与透明膜片基材110进行成型固化。
可选地,所述UV胶实体120的非与所述透明膜片基材110接触的表面设有纹理结构121,请参阅图2,图2是纹理结构的结构放大示意图,其中,本实施例中的纹理结构121为锯齿状,相邻锯齿表面的夹角a大于120度,图示实施例中的相邻锯齿表面的夹角a为165度。其中,相邻锯齿表面的夹角a不宜过小,防止UV胶实体120固化过程中发生收缩形变影响纹理结构121的反射效果。一般夹角a不应设计为小于90度为宜。当然,在一些其他实施例中,纹理结构121还可以是类锯齿结构,譬如波浪结构等。可选地,纹理结构121的相邻波峰之间的间距L可以为0.1mm,或者本领域技术人员根据实际的反射以及纹理效果要求自行设计,譬如0.05mm或者0.2mm等其他数值,此处亦不做具体限定。
请继续参阅图1,光学膜层130设于所述UV胶实体120的非与所述透明膜片基材110接触的表面,并覆盖所述纹理结构121。可选地,光学膜层130可以是根据装饰颜色需要,通过NCVM(Non Continue Vacuum Made,不导电镀膜技术)在表面生产一层光学涂层,光学膜层130的厚度可以是200~350nm。
另外,为了提高局部亮度(本实施例中为UV胶实体120位置处),光学膜层130还可以是通过PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相沉积法)或者蒸镀等方法在UV胶实体120设置纹理结构121的表面形成一层增亮膜,具体可以是镀一层铬,以提高局部位置的亮度,可选地,镀铬层的厚度可以是不大于16nm,譬如15nm、10nm、8nm、6nm等,此处不做具体限定。
在PC/PET/PMMA等膜片实现特殊高亮纹装饰理效果,常规技术是在金属模具表面设计微纹理,通过UV胶水转印来实现,但采用同样的方法无法在UV转印制作的锥形等异性装饰结构上实现高亮效果。本发明通过对纹理结构的特殊设计,增加光的反射,再结合利用光学膜层的结构的设计,可以实现UV转印过程中实现高亮效果。具有成本低,应用领域广等特点。
请参阅图3,图3是本申请膜片另一实施例的结构示意图,本实施例中的膜片100则包括以下层叠结构:透明膜片基材110、UV胶实体120、光学膜层130以及油墨层140。
具体而言,透明膜片基材110可以为PET(Polyethylene terephthalate简称PET或PEIT,俗称涤纶树脂,对苯二甲酸与乙二醇的缩聚物)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate)),简称PMMA),又称做压克力、亚克力(英文Acrylic)或有机玻璃)、PC(Polycarbonate,聚碳酸酯(英文简称PC)是分子链中含有碳酸酯基的高分子聚合物)、PI(聚酰亚胺(Polyimide))等。关于透明膜片基材110的更多材料类型,在本领域技术人员的理解范围内,此处不再一一列举并详述。
可选地,UV胶实体120设于所述透明膜片基材110的表面。具体可以是所述UV胶实体120通过UV转印的方式形成于所述透明膜片基材110的表面。本实施例图示中的UV胶实体120为锥体结构,在一些其他实施例中,UV胶实体120还可以是其他异形实体结构,譬如矩形、三角形等,只要不是平板结构即可。
其中,透明膜片基材110需和胶水在UV固化后具有较好的附着力。透明膜片基材110的厚度在强度满足要求的情况下可以薄一些,以保证透明膜片基材110的透过率。胶水(UV胶实体120固化前)需具有较好抗黄变能力,同时在高低温冲击下,不会裂开。胶水在固化前需具有较好的流动性,固化后需具有一定的机械强度。胶水固化后具有较好的透过率,一般要求透过率需在80%以上,更优的可以是在85%以上,譬如90%甚至95%。具体的数值此处不做具体限定,一般是越高越好。利用UV转印工艺,UV胶水在所设计的金属治具上与透明膜片基材110进行成型固化。
可选地,所述UV胶实体120的非与所述透明膜片基材110接触的表面设有纹理结构121,请继续参阅图2,图2是纹理结构的结构放大示意图,其中,本实施例中的纹理结构121同样可以为锯齿状,相邻锯齿表面的夹角a大于120度,图示实施例中的相邻锯齿表面的夹角a为165度。其中,相邻锯齿表面的夹角a不宜过小,防止UV胶实体120固化过程中发生收缩形变影响纹理结构121的反射效果。一般夹角a不应设计为小于90度为宜。当然,在一些其他实施例中,纹理结构121还可以是类锯齿结构,譬如波浪结构等。可选地,纹理结构121的相邻波峰之间间距L可以为0.1mm,或者本领域技术人员根据实际的反射以及纹理效果要求自行设计,譬如0.05mm或者0.2mm等其他数值,此处亦不做具体限定。需要说明的是,本申请实施例中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
请继续参阅图3,光学膜层130设于所述UV胶实体120的非与所述透明膜片基材110接触的表面,并覆盖所述纹理结构121。可选地,光学膜层130可以是根据装饰颜色需要,通过NCVM(Non Continue Vacuum Made,不导电镀膜技术)在表面生产一层光学涂层,光学膜层130的厚度可以是200~350nm。
另外,为了提高局部亮度(本实施例中为UV胶实体120位置处),光学膜层130还可以是通过PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相沉积法)或者蒸镀等方法在UV胶实体120设置纹理结构121的表面形成一层增亮膜,具体可以是镀一层铬,以提高局部位置的亮度,可选地,镀铬层的厚度可以是不大于16nm,譬如15nm、10nm、8nm、6nm等,此处不做具体限定。
可选地,所述油墨层140覆盖所述光学膜层130以及所述透明膜片基材110设置所述UV胶实体120的一侧表面。其中,油墨层140的作用是盖底油墨,覆盖光学膜层130以及透明膜片基材110设置UV胶实体120的一侧表面,,保证膜片100整体不会透光。可选地,油墨层140的厚度可以是10~50um,油墨的颜色可以是黑色、绿色或者其他深色,此处不做具体限定。
本申请实施例提供的膜片,通过UV转印利用UV胶水成型成异形实体结构,并通过特殊的纹理设计同时结合光学涂层,使膜片产生高亮效果,再通过设置油墨层可以实现遮光以及特殊的显色效果。
可选地,本申请实施例还提供一种壳体,请参阅图4,图4是本申请壳体一实施例结构示意图,本实施例中的壳体10包括基板200以及膜片100,所述膜片100设于所述基板200上。可选地,所述基板200可以是玻璃、树脂、陶瓷等材料。而关于膜片100的详细结构请参阅前述实施例的相关描述,此处亦不再赘述。
本申请实施例提供的壳体,其膜片通过在膜片基材上利用UV转印技术形成表面设有纹理结构的UV胶实体,然后在UV胶实体上覆盖纹理结构,可以实现的锥形实体等异形结构表面上形成纹理以及高光亮效果,具有成本低,应用领域广等特点。
进一步地,本申请实施例还提供一种电子设备,请一并参阅图5和图6,图5是本申请电子设备一实施例的结构示意图,图6是图5实施例中电子设备在A-A处的结构剖视示意图,本实施例中的电子设备可以包括显示屏模组30、壳体10以及控制电路板20。其中,壳体10可以包括膜片100、基板200以及中框300。这里需要说明的是,本申请实施例仅以电子设备包括中框的结构进行说明,在一起其他实施例中,电子设备可以不包括中框结构,即壳体的后盖板(基板200)直接与显示屏模组30配合的结构,此处不做具体限定。
可选地,所述显示屏模组30与所述壳体10的膜片100以及基板200分别设于所述中框300的相对两侧。显示屏模组30与所述基板200配合形成容置空间1000,所述控制电路板20以及所述膜片100设于所述容置空间1000内,所述膜片100贴设于所述基板200的内表面。控制电路板20与显示屏模组30电连接,控制电路板20用于控制所述显示屏模组30的工作状态。关于电子设备其他部分结构的详细技术特征在本领域技术人员的理解范围内,此处亦不再赘述。关于壳体10(包括膜片100)的详细结构请参阅前述实施例的相关描述。
请参阅图7,图7是本申请电子设备一实施例的结构组成框图示意图,该电子设备可以为手机、平板电脑、笔记本电脑以及可穿戴设备等,本实施例图示以手机为例。该电子设备的结构可以包括RF电路910、存储器920、输入单元930、显示单元940(即上述实施例中的显示屏模组30)、传感器950、音频电路960、wifi模块970、处理器980(可以为前述实施例中的控制电路板20)以及电源990等。其中,RF电路910、存储器920、输入单元930、显示单元940、传感器950、音频电路960以及wifi模块970分别与处理器980连接;电源990用于为整个电子设备10提供电能。
具体而言,RF电路910用于接发信号;存储器920用于存储数据指令信息;输入单元930用于输入信息,具体可以包括触控面板931以及操作按键等其他输入设备932;显示单元940则可以包括显示面板941等;传感器950包括红外传感器、激光传感器等,用于检测用户接近信号、距离信号等;扬声器961以及传声器(或者麦克风)962通过音频电路960与处理器980连接,用于接发声音信号;wifi模块970则用于接收和发射wifi信号,处理器980用于处理电子设备的数据信息。关于电子设备具体的结构特征,请参阅上述实施例的相关描述,此处不再进行详细介绍。
本实施例中的电子设备,具有纹理以及纹理增亮的外观效果。其壳体的膜片通过在膜片基材上利用UV转印技术形成表面设有纹理结构的UV胶实体,然后在UV胶实体上覆盖纹理结构,可以实现的锥形实体等异形结构表面上形成纹理以及高光亮效果,具有成本低,应用领域广等特点。
进一步地,本申请实施例还提供一种膜片的制作方法,请参阅图8,图8是本申请膜片制作方法一实施例的流程示意图,本实施例中的制作方法包括但不限于以下步骤。
步骤S101,在透明膜片基材上转印胶水。
在该步骤中,透明膜片基材需和胶水在UV固化后具有较好的附着力。透明膜片基材的厚度在强度满足要求的情况下可以薄一些,以保证透明膜片基材的透过率。胶水需具有较好抗黄变能力,同时在高低温冲击下,不会裂开。胶水在固化前需具有较好的流动性,固化后需具有一定的机械强度。需要说明的是,本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
步骤S102,对胶水进行UV固化,进而形成UV胶实体。
在步骤S102中,胶水固化后具有较好的透过率,一般要求透过率需在80%以上,更优的可以是在85%以上,譬如90%甚至95%。具体的数值此处不做具体限定,一般是越高越好。利用UV转印工艺,UV胶水在所设计的金属治具上与透明膜片基材进行成型固化。请参阅图9,图9是在透明膜片基材上形成UV胶实体后的结构示意图。
其中,所述UV胶实体120的非与所述透明膜片基材110接触的表面设有纹理结构121。关于纹理结构121的详细特征请参阅前述实施例的相关描述。
步骤S103,在UV胶实体的表面形成光学膜层。
其中,光学膜层覆盖UV胶实体上的纹理结构。光学膜层设于所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面,并覆盖所述纹理结构。可选地,光学膜层可以是根据装饰颜色需要,通过NCVM(Non Continue Vacuum Made,不导电镀膜技术)在表面生产一层光学涂层,光学膜层的厚度可以是200~350nm。
另外,为了提高局部亮度(本实施例中为UV胶实体位置处),光学膜层还可以是通过PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相沉积法)或者蒸镀等方法在UV胶实体设置纹理结构的表面形成一层增亮膜,具体可以是镀一层铬,以提高局部位置的亮度,可选地,镀铬层的厚度可以是不大于16nm,譬如15nm、10nm、8nm、6nm等,此处不做具体限定。
其中,应用此方法制备形成的膜片结构可以参阅图1。
本申请实施例中的膜片制备方法,利用较低成本在通过UV转印制造锥形的实体表面(再结合光学膜层)产生高亮度效果,扩张了UV转印工艺的应用领域。而常规的方案中针对这种异形结构往往采用在不锈钢材料加工成相应的异性结构,再在材料表面加工微纳纹,使其达到相应的是设计效果,常规技术方案的材料以及加工成本均较高,且产品的不良率较高,成本极高,不容易推广使用。本申请的技术方案则是通过UV转印利用UV胶水成型成异形实体结构,并通过特殊的纹理设计同时结合光学涂层,使膜片产生高亮效果,具有成本低,应用领域广等特点。
请参阅图10,图10是本申请膜片制作方法另一实施例的流程示意图,本实施例中的制作方法包括但不限于以下步骤。
步骤S101,在透明膜片基材上转印胶水。
在该步骤中,透明膜片基材同样需要和胶水在UV固化后具有较好的附着力。透明膜片基材的厚度在强度满足要求的情况下可以薄一些,以保证透明膜片基材的透过率。胶水需具有较好抗黄变能力,同时在高低温冲击下,不会裂开。胶水在固化前需具有较好的流动性,固化后需具有一定的机械强度。
步骤S102,对胶水进行UV固化,进而形成UV胶实体。
在步骤S102中,胶水固化后具有较好的透过率,一般要求透过率需在80%以上,更优的可以是在85%以上,譬如90%甚至95%。具体的数值此处不做具体限定,一般是越高越好。利用UV转印工艺,UV胶水在所设计的金属治具上与透明膜片基材进行成型固化。
其中,所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面设有纹理结构。关于纹理结构的详细特征请参阅前述实施例的相关描述。
步骤S103,在UV胶实体的表面形成光学膜层。
其中,光学膜层覆盖UV胶实体上的纹理结构。光学膜层设于所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面,并覆盖所述纹理结构。可选地,光学膜层可以是根据装饰颜色需要,通过NCVM(Non Continue Vacuum Made,不导电镀膜技术)在表面生产一层光学涂层,光学膜层的厚度可以是200~350nm。
另外,为了提高局部亮度(本实施例中为UV胶实体位置处),光学膜层还可以是通过PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相沉积法)或者蒸镀等方法在UV胶实体设置纹理结构的表面形成一层增亮膜,具体可以是镀一层铬,以提高局部位置的亮度,可选地,镀铬层的厚度可以是不大于16nm,譬如15nm、10nm、8nm、6nm等,此处不做具体限定。
步骤S104,在光学膜层的表面以及透明膜片基材设置UV胶实体的一侧表面形成油墨层。
在该步骤中,所述油墨层覆盖所述光学膜层以及所述透明膜片基材设置所述UV胶实体的一侧表面。其中,油墨层的作用是盖底油墨,覆盖光学膜层以及透明膜片基材设置UV胶实体的一侧表面,,保证膜片整体不会透光。可选地,油墨层的厚度可以是10~50um,油墨的颜色可以是黑色、绿色或者其他深色,此处不做具体限定。
其中,应用此方法制备形成的膜片结构可以参阅图3。
本申请实施例膜片制备方法,通过UV转印利用UV胶水成型成异形实体结构,并通过特殊的纹理设计同时结合光学涂层,使膜片产生高亮效果,再通过设置油墨层可以实现遮光以及特殊的显色效果。
以上所述仅为本发明的部分实施例,并非因此限制本发明的保护范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效装置或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种膜片,其特征在于,所述膜片包括:
透明膜片基材;
UV胶实体,设于所述透明膜片基材的表面;其中,所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面设有纹理结构;
光学膜层,设于所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面,并覆盖所述纹理结构。
2.根据权利要求1所述膜片,其特征在于,所述纹理结构为锯齿状,相邻锯齿表面的夹角大于120度。
3.根据权利要求1所述膜片,其特征在于,所述UV胶实体通过转印的方式形成于所述透明膜片基材的表面。
4.根据权利要求1所述膜片,其特征在于,所述UV胶实体的透过率大于80%。
5.根据权利要求1所述膜片,其特征在于,所述UV胶实体为锥体结构。
6.根据权利要求1所述膜片,其特征在于,所述膜片还包括油墨层,所述油墨层覆盖所述光学膜层以及所述透明膜片基材设置所述UV胶实体的一侧表面。
7.一种壳体,其特征在于,所述壳体包括基板以及权利要求1-6任一项所述的膜片,所述膜片设于所述基板上。
8.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括显示屏模组、控制电路板以及权利要求7所述的壳体,所述显示屏模组与所述壳体配合形成容置空间,所述控制电路板设于所述容置空间,并与所述显示屏模组电性连接。
9.一种膜片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
在透明膜片基材上转印胶水;
对胶水进行UV固化,进而形成UV胶实体,其中,所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面设有纹理结构;
在所述UV胶实体的表面形成光学膜层;其中,所述光学膜层覆盖所述纹理结构。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括步骤:
在所述光学膜层的表面以及所述透明膜片基材设置所述UV胶实体的一侧表面形成油墨层。
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