CN113422854A - 一种双纹理效果复合板手机后盖及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，制造步骤包括：一、于PC/PMMA复合板材的PC层进行UV转印形成第一纹理层；二、于第一纹理层表面进行表面镀膜处理形成第一PVD层；三、于第一PVD层表面进行丝印或喷涂形成光学树脂层；四、于光学树脂层表面进行UV转印形成第二纹理层；五、于第二纹理层表面进行表面镀膜处理形成第二PVD层；六、于第二PVD层表面进行丝印或喷涂形成盖底层；七、于PC/PMMA复合板材的PMMA层表面进行淋涂形成硬化层。通过该方法制得的手机后盖实现双层纹理清晰的叠加，展现出清晰的双层纹理效果，且成本较低，良率较高。本申请还提供一种双纹理效果复合板手机后盖。
Description
技术领域
本发明涉及手机后盖的制造技术领域，更具体地涉及一种双纹理效果复合板手机后盖及其制造方法。
背景技术
随着手机市场的日益扩大，手机后盖加工的竞争也随之愈演愈烈，各大手机公司不断研发新的工艺，为保证手机后盖的亮度，需要进行电镀加工。当前，对于手机后盖双纹双镀效果，普遍采用的工艺是：1)双层纹理通过中间层直接叠加，如中国专利CN202022495631所涉及之技术方案，并未公开具体材料及制备方法，其仅通过结构方案所得双层纹理的效果不是很清晰，难以满足终端客户的要求；2)压出注塑白片+双层膜片；3)复合板+单层膜片，而对于后两种工艺，一方面需要采用膜片和贴合工艺，导致原材料和工艺成本都会增加，另一方面，良率也会大大降低，从而整体成本大幅度增加。
因此，需要开发一种双纹理效果复合板手机后盖及其制造方法来解决上述缺陷。
发明内容
本发明的目的之一是提供一种双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，通过该方法制得的手机后盖实现双层纹理清晰的叠加，展现出清晰的双层纹理效果，且成本较低，良率较高。
本发明的目的之二是提供一种双纹理效果复合板手机后盖。
为了实现上述目的，本发明公开了一种双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，制造步骤包括：
一、于PC/PMMA复合板材的PC层进行UV转印形成第一纹理层；
二、于所述第一纹理层表面进行表面镀膜处理形成第一PVD层；
三、于所述第一PVD层表面进行丝印或喷涂形成光学树脂层；
四、于所述光学树脂层表面进行UV转印形成第二纹理层，所述第二纹理层与所述第一纹理层的纹理结构不相同；
五、于所述第二纹理层表面进行表面镀膜处理形成第二PVD层；
六、于所述第二PVD层表面进行丝印或喷涂形成盖底层；
七、于所述PC/PMMA复合板材的PMMA层表面进行淋涂形成硬化层。
与现有技术相比，本申请提供一种双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，通过制备第一纹理层、第二纹理层以得到双纹理效果，其中第一纹理层、第二纹理层具有不相同的纹理结构，增加纹理的动态效果，尤其是引入光学树脂层，在光学树脂层上第二纹理层上，纹理清晰，且与第一PVD层附着力好；硬化层提高其耐摩擦性。
相应地，本申请还提供一种双纹理效果复合板手机后盖。
附图说明
图1为本发明双纹理效果复合板手机后盖的制造工艺流程图。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详予说明。
请参考图1，本申请双纹理效果复合板手机后盖的制造工艺流程图，制造步骤包括：
S1：于PC/PMMA复合板材的PC层进行UV转印形成第一纹理层；
S2：于所述第一纹理层表面进行表面镀膜处理形成第一PVD层；
S3：于所述第一PVD层表面进行丝印或喷涂形成光学树脂层；
S4：于所述光学树脂层表面进行UV转印形成第二纹理层，所述第二纹理层与所述第一纹理层的纹理结构不相同；
S5：于所述第二纹理层表面进行表面镀膜处理形成第二PVD层；
S6：于所述第二PVD层表面进行丝印或喷涂形成盖底层；
S7：对上述材料进行高压成型形成3D结构；
S8：高压成型后，于所述PC/PMMA复合板材的PMMA层表面进行淋涂形成硬化层。
在上述技术方案中，PC/PMMA复合板材是一种光学级板材，自带通透的仿玻璃效果。它是通过PMMA和PC共挤制得，包括PMMA层和PC层。优选地，PMMA层的厚度为30-40微米，PC层的厚度为0.460～0.470mm。
在上述技术方案中，于PC/PMMA复合板材的PC层进行UV转印形成第一纹理层，是通过UV转印在PC层表面形成第一纹理层。优选地，第一纹理层的厚度为8～12微米，第二纹理层的厚度为8～12微米。需要说明的是，第一纹理层和第二纹理层的纹理结构包含槽形结构、纹理排列周期和纹理方向。槽形结构与纹理亮度有关，槽形结构单元可以是半圆、三角或者梯形，但不以此为限。槽形结构单元尺寸为10微米以下。排列周期与纹理的颜色有关，纹理方向是指纹理周期排列的方向与入射光之间的角度，角度不同会出现纹理明暗的不同，从而产生纹理的动态效果。对于本申请技术方案中，第一纹理层和第二纹理层的纹理结构不相同，主要是指在槽形结构、纹理排列周期和纹理方向方面体现差异，具体差异可根据实际需求进行设计，在此不进行阐述。
在上述技术方案中，表面镀膜处理采用PVD方式在第一纹理层表面镀上金属、金属氧化物或者其他无机物。优选地，第一PVD层为ZrO(锆氧化物)/SiO(硅氧化物)/NbO(铌氧化物)/SiO/NbO复合层，既包含金属氧化物也包含无机物，通过该复合层实现第一纹理层呈现彩膜的效果，透过率较高。优选地，第二PVD层为ZrO/SiO/NbO/SiO/NbO复合层或者ZrO/SiO/NbO/In/SiO/NbO复合层。采用ZrO/SiO/NbO/In/SiO/NbO复合层时，实现第二纹理层亮银的效果，透过率较低。进一步，第一PVD层的厚度为30～300nm，第二PVD层的厚度为30～300nm。
在上述技术方案中，光学树脂层通过丝印或喷涂形成，光学树脂层能够与第一PVD层具有优异的附着力。优选地，光学树脂层选用含硫聚合物，诸如下述含硫结构单元(式一、式二、式三)的聚合物，折光指数范围为1.54～1.68之间。优选地，光学树脂层的厚度为10～20微米。
在上述技术方案中，盖底层为油墨层，通过丝印或喷涂形成。优选地，盖底层的厚度为40～50微米。
在上述技术方案中，硬化层通过淋涂形成，比喷淋更节省材料，且降低原材料带来的成本，还可避免空气当中的灰尘颗粒沾污。优选地，硬化层的厚度为6～8微米。进一步，通过淋涂形成的硬化层为高光或哑光。
在上述技术方案中，PC层的折光指数为1.54～1.58；UV转印的转印胶水的折光指数为1.44～1.46，即第一纹理层和第二纹理层的折光指数为1.44～1.46；所述光学树脂层的折光指数为1.54～1.66。光从硬化层射入，当光线从PC层射向第一纹理层，PC层的折光指数大于第一纹理层的折光指数，PC层相对于第一纹理层而言，PC层属于光密介质，第一纹理层属于光疏介质；当光线从光学树脂层射向第二纹理层，光学树脂层的折光指数大于第二纹理层的折光指数，光学树脂层相对于第二纹理层而言，光学树脂层属于光密介质，第二纹理层属于光疏介质。由于光从光密介质进入光疏介质时，反射率会增加，纹理对比度大大增加，纹理就会越清晰，使得第一纹理层与第二纹理层叠加清晰，从而实现双层纹理叠加的效果。
以下通过具体实施例进行说明：
实施例1
一种双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，制造步骤包括：
一、于PC/PMMA复合板材的PC层进行UV转印形成第一纹理层，PMMA层的厚度为30微米，PC层的厚度为0.460mm，PC层的折光指数为1.58，第一纹理层转印胶水的折光指数为1.44，第一纹理层的厚度为10微米；
二、于所述第一纹理层表面采用PVD方式形成第一PVD层，第一PVD层为ZrO(锆氧化物)/SiO(硅氧化物)/NbO(铌氧化物)/SiO/NbO复合层，第一PVD层的厚度为50nm；
三、于所述第一PVD层表面进行丝印形成光学树脂层，光学树脂层采用式一含硫结构单元的聚合物，光学树脂层的厚度为10微米，所述光学树脂层的折光指数为1.54；
四、于所述光学树脂层表面进行UV转印形成第二纹理层，第二纹理层的厚度为12微米，第二纹理层的折光指数为1.46；
五、于所述第二纹理层表面采用PVD方式形成第二PVD层，第二PVD层为ZrO/SiO/NbO/SiO/NbO复合层，第二PVD层的厚度为50nm；
六、于所述第二PVD层表面进行丝印油墨形成盖底层，盖底层的厚度为40微米；
七、对上述材料进行高压成型形成3D结构；
八、高压成型后，于所述PC/PMMA复合板材的PMMA层表面进行淋涂形成硬化层，硬化层的厚度为6微米。
实施例2
一种双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，制造步骤包括：
一、于PC/PMMA复合板材的PC层进行UV转印形成第一纹理层，PMMA层的厚度为40微米，PC层的厚度为0.470mm，PC层的折光指数为1.54，第一纹理层转印胶水的折光指数为1.45，第一纹理层的厚度为12微米；
二、于所述第一纹理层表面采用PVD方式形成第一PVD层，第一PVD层为ZrO(锆氧化物)/SiO(硅氧化物)/NbO(铌氧化物)/SiO/NbO复合层，第一PVD层的厚度为100nm；
三、于所述第一PVD层表面进行丝印形成光学树脂层，光学树脂层采用式二含硫结构单元的聚合物，光学树脂层的厚度为15微米，所述光学树脂层的折光指数为1.60；
四、于所述光学树脂层表面进行UV转印形成第二纹理层，第二纹理层的厚度为8微米，第二纹理层的折光指数为1.46；
五、于所述第二纹理层表面采用PVD方式形成第二PVD层，第二PVD层为ZrO/SiO/NbO/In/SiO/NbO复合层，第二PVD层的厚度为200nm；
六、于所述第二PVD层表面进行丝印油墨形成盖底层，盖底层的厚度为50微米；
七、对上述材料进行高压成型形成3D结构；
八、高压成型后，于所述PC/PMMA复合板材的PMMA层表面进行淋涂形成硬化层，硬化层的厚度为8微米。
实施例3
实施例3与实施例1基本相同，不同点如下：
实施例3中光学树脂层的折光指数为1.43，而实施例1中光学树脂层的折光指数为1.54，其余与实施例1相同。
实施例4
实施例4与实施例1基本相同，不同点如下：
实施例4中PC层的折光指数为1.44，而实施例1中PC层的折光指数为1.58，其余与实施例1相同。
对实施例1-4得到的手机后盖观察其双纹理效果，结果如表1所示：
表1实施例1-4得到的手机后盖观察结果
通过表1数据可知，本申请技术方案制得的手机后盖第一纹理层与第二纹理层叠加清晰，展现出清晰的双层纹理效果。当光学树脂层的折光指数小于第二纹理层时，双纹理效果的清晰度降低。当PC层的折光指数等于第一纹理层的折光指数时，双纹理效果的清晰度降低。
以上所揭露的仅为本发明的优选实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明申请专利范围所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。
Claims (10)
1.一种双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，制造步骤包括：
一、于PC/PMMA复合板材的PC层进行UV转印形成第一纹理层；
二、于所述第一纹理层表面进行表面镀膜处理形成第一PVD层；
三、于所述第一PVD层表面进行丝印或喷涂形成光学树脂层；
四、于所述光学树脂层表面进行UV转印形成第二纹理层，所述第二纹理层与所述第一纹理层的纹理结构不相同；
五、于所述第二纹理层表面进行表面镀膜处理形成第二PVD层；
六、于所述第二PVD层表面进行丝印或喷涂形成盖底层；
七、于所述PC/PMMA复合板材的PMMA层表面进行淋涂形成硬化层。
2.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，步骤一中，所述PC层的折光指数为1.54～1.58；
步骤一和步骤四中，所述UV转印的转印胶水的折光指数为1.44～1.46；
步骤四中，所述光学树脂层的折光指数为1.54～1.66。
3.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，所述第一PVD层为ZrO(锆氧化物)/SiO(硅氧化物)/NbO(铌氧化物)/SiO/NbO复合层。
4.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，所述光学树脂层选用含硫聚合物。
5.如权利要求4所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，所述含硫聚合物选用如下式一、式二、式三的含硫结构单元的聚合物：
6.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，所述第二PVD层为ZrO/SiO/NbO/SiO/NbO复合层或者ZrO/SiO/NbO/In/SiO/NbO复合层。
7.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，所述光学树脂层的厚度为10～20微米。
8.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，所述第一纹理层的厚度为8～12微米；所述第二纹理层的厚度为8～12微米。
9.如权利要求1所述的双纹理效果复合板手机后盖的制造方法，其特征在于，所述盖底层的厚度为40～50微米。
10.一种双纹理效果复合板手机后盖，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的制造方法制得。
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- 2021-06-29 CN CN202110732527.3A patent/CN113422854B/zh active Active
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