CN112565492A - 仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法 - Google Patents

仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其包括以下步骤：薄膜取用；离型层形成；UV纹理层形成；电镀层形成；图案印刷层形成；注塑成型；撕膜处理及喷涂工艺。本发明通过对薄膜的限定选择、离型的涂布更改、U转印的改进及电镀处理的蒸发物质的限定使成型出来的手机后盖的外表面通透效果极佳，并配合UV转印纹理的光栅纹理使手机后盖的外表面能呈现出非常细腻的高亮陶瓷釉面视觉效果，使IMT手机后盖具有仿陶瓷的视觉效果，在手机后盖领域中取得巨大的突破，整体工艺简易，成型效果佳，成型成本低，易于推广应用，具有较大实用价值。

Description

仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法
技术领域
本发明涉及手机后盖的技术领域，具体涉及一种仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法。
背景技术
IMT技术：中文名称：模内装饰技术，其是模内镶件注塑(IML)技术及模内转印(IMR)技术的综合并延伸而成的新工艺。其技术应用IMR技术的膜片与油墨的分离技术，并兼顾IML技术的单体成形及注塑制造方式，其多层保护膜能有效保护主体装饰层的质量，且厚度可薄至0.70mm,因此广泛应用到现有手机后盖、电脑后盖等电子产品上。
现有的IMT手机后盖的生产工序是：将现有的普通PET膜进行印刷离型油墨层，之后在离型油墨层上进行UV转印处理，UV转印后送至电镀，在UV转印图案层上形成一电镀层，最后在电镀层上进行装饰图案层与工艺层的印刷，印刷后再放置注塑模具内进行模内注塑，成型后撕开PET膜，并在表面进行喷涂防指纹油墨即可完成整个制作工序。现有的IMT手机后盖，因PET薄膜的选择使PET薄膜具有一定的瑕疵，而这种瑕疵问题会转印到离型层上，则在UV转印时必须采用较为复杂的纹理和厚度较厚的油墨来遮挡离型层的瑕疵，这就使整个手机后盖的视觉较暗。
发明内容
本项发明是针对现在的技术不足，提供一种仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，具有陶瓷釉面的视觉效果的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法。
本发明为实现上述目的所采用的技术方案是：
一种仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，包括以下步骤：
（1）薄膜取用，并进行清洗及烘干得到待处理膜片；
（2）离型层形成，在待处理膜片上涂布离型层；
（3）UV纹理层形成，在离型层上转印UV纹路，得到陶瓷釉面纹理；
（4）电镀层形成，得到高亮度电镀膜片；
（5）图案印刷层形成；
（6）注塑成型，形成仿陶瓷高亮手机后盖半成品；
（7）撕膜处理；
（8）喷涂工艺，得到仿陶瓷高亮手机后盖成品。
作进一步改进，所述薄膜选用其表面无幻彩、无桔皮、无划痕、透光率达92％的PET薄膜，并通过超声波清洗设备进行表面清洗及通过烘干设备进行烘干得到待处理膜片。
作进一步改进，所述步骤（2）包括以下步骤，采用夹缝式挤压涂布的方式在待处理膜片的一表面上涂布一层其透光率为 90％以上的高透UV油墨层，形成具有离型层的处理膜片。
作进一步改进，上述步骤（3)中，采用UV转印技术在处理膜片的离型层上UV转印出一形成有若干条均匀 并排排列在一起的线条纹理的光栅纹理图案层，光栅纹理图案层中两线条之间的间距在 0.008-0.012毫米之间，上述UV转印技术所采用的压印模具的压印表面上形成有微米纳米 级的条状透镜凸条的光栅纹理结构，上述光栅纹理结构由若干条紧密排列在一起的上述条 状透镜凸条构成，各条状透镜凸条呈阵列排列，且上述条状透镜凸条的截面呈半圆形。
作进一步改进，上述步骤（4)中，将上述膜片半成品放置真空光学电镀设备处进行真空电镀处理得到其 上具有四层电镀层的电镀膜片，且上述真空光学电镀设备的蒸发物质为其纯度为99.99％ 的二氧化锆。
作进一步改进，上述步骤（5)中，所采用的印刷网版为480目网纱网版。
作进一步改进，上述离型层的厚度为20um。
作进一步改进，所述光栅纹理图案层中两线条之间的间距为0.01毫米。
作进一步改进，上述步骤(8)中 采用AF防指纹油墨进行二涂二烤处理，且上述AF防指纹油墨的厚度为30um。
本发明的有益效果：本发明通过对薄膜的限定选择、离型的涂布更改、U转印的改进及电镀处理的蒸发物质的限定使成型出来的手机后盖的外表面通透效果极佳，并配合UV转印纹理的光栅纹理使手机后盖的外表面能呈现出非常细腻的高亮陶瓷釉面视觉效果，使IMT手机后盖具有仿陶瓷的视觉效果，在手机后盖领域中取得巨大的突破，整体工艺简易，成型效果佳，成型成本低，易于推广应用，具有较大实用价值。
下面结合附图与具体实施方式，对本发明进一步说明。
附图说明
图1为本实施例的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法流程示意图；
具体实施方式
以下所述仅为本发明的较佳实施例，并不因此而限定本发明的保护范围。
实施例，参见附图1，一种仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其包括以下步骤：
（1）薄膜取用，并进行清洗及烘干得到待处理膜片；
（2）离型层形成，在待处理膜片上涂布离型层；
（3）UV纹理层形成，在离型层上转印UV纹路，得到陶瓷釉面纹理；
（4）电镀层形成，得到高亮度电镀膜片；
（5）图案印刷层形成；
（6）注塑成型，形成仿陶瓷高亮手机后盖半成品；
（7）撕膜处理；
（8）喷涂工艺，得到仿陶瓷高亮手机后盖成品。
所述薄膜选用其表面无幻彩、无桔皮、无划痕、透光率达92％的PET薄膜，并通过超声波清洗设备进行表面清洗及通过烘干设备进行烘干得到待处理膜片。
所述步骤（2）包括以下步骤，采用夹缝式挤压涂布的方式在待处理膜片的一表面上涂布一层其透光率为 90％以上的高透UV油墨层，形成具有离型层的处理膜片。
上述步骤（3)中，采用UV转印技术在处理膜片的离型层上UV转印出一形成有若干条均匀 并排排列在一起的线条纹理的光栅纹理图案层，光栅纹理图案层中两线条之间的间距在 0.008-0.012毫米之间，上述UV转印技术所采用的压印模具的压印表面上形成有微米纳米 级的条状透镜凸条的光栅纹理结构，上述光栅纹理结构由若干条紧密排列在一起的上述条 状透镜凸条构成，各条状透镜凸条呈阵列排列，且上述条状透镜凸条的截面呈半圆形。
上述步骤（4)中，将上述膜片半成品放置真空光学电镀设备处进行真空电镀处理得到其 上具有四层电镀层的电镀膜片，且上述真空光学电镀设备的蒸发物质为其纯度为99.99％ 的二氧化锆。
上述步骤（5)中，所采用的印刷网版为480目网纱网版。
上述离型层的厚度为20um。
所述光栅纹理图案层中两线条之间的间距为0.01毫米。
上述步骤(8)中 采用AF防指纹油墨进行二涂二烤处理，且上述AF防指纹油墨的厚度为30um。
本发明并不限于上述实施方式，采用与本发明上述实施例相同或近似结构、装置、工艺或方法，而得到的其他用于仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，均在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）薄膜取用，并进行清洗及烘干得到待处理膜片；
（2）离型层形成，在待处理膜片上涂布离型层；
（3）UV纹理层形成，在离型层上转印UV纹路，得到陶瓷釉面纹理；
（4）电镀层形成，得到高亮度电镀膜片；
（5）图案印刷层形成；
（6）注塑成型，形成仿陶瓷高亮手机后盖半成品；
（7）撕膜处理；
（8）喷涂工艺，得到仿陶瓷高亮手机后盖成品。
2.根据权利要求1所述的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于：所述薄膜选用其表面无幻彩、无桔皮、无划痕、透光率达92％的PET薄膜，并通过超声波清洗设备进行表面清洗及通过烘干设备进行烘干得到待处理膜片。
3.根据权利要求2所述的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）包括以下步骤，采用夹缝式挤压涂布的方式在待处理膜片的一表面上涂布一层其透光率为90％以上的高透UV油墨层，形成具有离型层的处理膜片。
4.根据权利要求1所述的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于：上述步骤（3)中，采用UV转印技术在处理膜片的离型层上UV转印出一形成有若干条均匀 并排排列在一起的线条纹理的光栅纹理图案层，光栅纹理图案层中两线条之间的间距在 0.008-0.012毫米之间，上述UV转印技术所采用的压印模具的压印表面上形成有微米纳米 级的条状透镜凸条的光栅纹理结构，上述光栅纹理结构由若干条紧密排列在一起的上述条 状透镜凸条构成，各条状透镜凸条呈阵列排列，且上述条状透镜凸条的截面呈半圆形。
5.根据权利要求1所述的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于：上述步骤（4)中，将上述膜片半成品放置真空光学电镀设备处进行真空电镀处理得到其 上具有四层电镀层的电镀膜片，且上述真空光学电镀设备的蒸发物质为其纯度为99.99％ 的二氧化锆。
6.根据权利要求1所述的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于：上述步骤（5)中，所采用的印刷网版为480目网纱网版。
7.根据权利要求1所述的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于：上述离型层的厚度为20um。
8.根据权利要求4所述的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于：所述光栅纹理图案层中两线条之间的间距为0.01毫米。
9.根据权利要求8所述的仿陶瓷高亮手机后盖的制备方法，其特征在于：上述步骤(8)中 采用AF防指纹油墨进行二涂二烤处理，且上述AF防指纹油墨的厚度为30um。
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