CN106575006A - 红外线反射基板 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种红外线反射基板，所述红外线反射基板(100)在透明薄膜基材(10)上依次具备以银为主要成分的红外线反射层(23)及光吸收性金属层(25)。光吸收性金属层(25)的膜厚为15nm以下，透明保护层(30)的膜厚为10nm～120nm。光吸收性金属层(25)与透明保护层(30)的间隔为25nm以下。根据本发明，可提供可见光反射率低、可视性优异、并且生产率优异的红外线反射基板。

Description

红外线反射基板

技术领域

本发明涉及在透明基材上具备红外线反射层等薄膜的红外线反射基板。

背景技术

以往已知有在玻璃或薄膜等基材上具备红外线反射层的红外线反射基板。作为红外线反射层，从提高红外线的选择反射性的观点考虑，可以使用银等金属层。为了在使红外线反射的同时使可见光透过从而确保透明性，红外线反射基板广泛采用将作为红外线反射层的金属层与金属氧化物层交替层叠的结构。通过调节金属层、金属氧化物层的膜厚，从而能够使透过率及反射率具有波长选择性，可以得到能够选择性地反射红外线、选择性地透过可见光的红外线反射基板。另外，在红外线反射基板中，为了化学性地保护形成于基材上的金属层等，通常设置由树脂构成的透明保护层(面涂层)。

在红外线反射基板中，银等金属层反射太阳光等的近红外线，由此可赋予遮热性。另一方面，为了使红外线反射基板具有绝热性，重要的是使放射率减少、通过红外线反射层使远红外线反射至室内。用作红外线反射层的透明保护层的树脂层(有机物)通常包含C＝C键、C＝O键、C-O键、芳香族环等，波长5μm～25μm的远红外线区域的红外振动吸收较大。被树脂层吸收的远红外线不会被金属层反射而通过热传导以热的形式扩散至室外。

出于减少红外线反射基板的放射率的目的，专利文献1中提出了：使用由聚硅氮烷、氟烷基硅烷、氟硅烷等Si系材料构成的保护层，且使其厚度为500nm以下，以减少由保护层导致的远红外线的吸收量的方法。另一方面，如果减小保护层的厚度，则存在对红外线反射层的化学保护效果降低、红外线反射层的耐久性降低的倾向。尤其是银对氧、水分、氯等的耐久性低，如果以银为主要成分的红外线反射层劣化，则存在红外线反射基板的放射率上升(绝热性降低)的倾向。因此，专利文献1中提出了通过用Ni-Cr合金等耐久性高的金属层夹持由银等金属构成的红外线反射层的结构来提高红外线反射层的耐久性。

交替层叠金属层与金属氧化物层而成的结构的红外线反射基板难以完全抑制可见光的反射，有时可见光的反射会导致可视性的降低。特别是在红外线反射基板用于橱窗、展示柜等的情况下，由可见光的反射而导致的可视性的降低可能会成为显著问题。相对于此，如专利文献1中提出的那样，通过在作为红外线反射层的金属层上设置Ni-Cr合金等光吸收性金属层，从而能够减少可见光的反射，可以改善可视性。

另外，专利文献2中公开了：通过使红外线反射基板具备法布里-珀罗干涉层叠体，从而使可见光的反射率减少。法布里-珀罗干涉层叠体中，在2个金属层(镜面层，mirrorlayer)之间夹持有隔离层，通过调节该隔离层的光学膜厚，从而能够使规定的波长范围的光选择性地透过，且反射其它波长范围的光。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：WO2011/109306号国际公开小册子(图2等)

专利文献2：WO2004/017700号国际公开小册子

发明内容

发明要解决的问题

如专利文献1那样，在红外线反射层上设置光吸收性金属层的结构在提高红外线反射层的耐久性、且能够减少可见光的反射率方面是有用的。然而，由光吸收性金属层导致的反射率减少主要源于可见光的吸收，因此，如果增大光吸收性金属层的膜厚，则存在可见光透过率降低而失去透明性的问题。

作为在抑制透明性降低的同时减少可见光的反射率的方法，例如有增大金属层与金属氧化物层的层叠数的方法。由于增加层叠数可以更严格地控制反射率的波长选择性，因此，在提高红外线的反射率从而提高遮热性及绝热性的同时，使可见光的反射率减少，可以改善可视性。然而，层叠数增大会产生生产率的降低、成本增大的问题。

在专利文献1的红外线反射基板中，在Ni-Cr等金属层与保护层之间进一步配置有膜厚为40nm～80nm左右的由金属氧化物构成的隔离层、由氮化硅、氧化硅、氧化氮化硅等硅系合金构成的膜厚10nm左右的硅基底层。专利文献1中未说明隔离层、基底层的作用，推测这些层的目的是利用专利文献2等中公开的法布里-珀罗干涉来调节红外线反射基板的反射率、透过率。

为了通过法布里-珀罗干涉来透过可见光而使红外线反射，需要将隔离层的光学膜厚设为100nm左右或100nm以上。金属氧化物、硅系合金的折射率为1.7～2.3左右，为了将隔离层的光学膜厚设为100nm以上，需要使物理膜厚为50nm左右。由于金属氧化物、硅系合金的导电性低，基于溅射的制膜速度小，因此，对膜厚50nm左右的隔离层进行制膜成为生产率降低、成本增大的原因。

如上所述，以往的红外线反射基板中，为了提高反射率的波长选择性而使可视性提高，需要牺牲生产率、成本，增大金属氧化物层等的层叠数，或增大膜厚。鉴于上述现状，本发明的目的在于，提供一种红外线反射基板，其可见光的反射率小而可视性优异，且不会使红外线反射层与透明保护层之间的金属氧化物层等的膜厚增大，生产率优异。

用于解决问题的方案

鉴于上述情况本发明人等进行了潜心研究，结果发现：通过调节形成于红外线反射基板的表面的透明保护层(面涂层)的膜厚，从而能够对红外线反射层赋予化学保护效果，而且还能够赋予减少可见光的反射率的效果。由此，对于金属层与透明保护层之间的金属氧化物层等的厚度较小的情况、金属层与透明保护层直接接触的结构，也能够得到减少了可见光的反射率的红外线反射基板，从而完成了本发明。

本发明涉及一种红外线反射基板，其在透明基材上依次具备以银为主要成分的红外线反射层、光吸收性金属层及透明保护层。本发明的红外线反射基板的光吸收性金属层的膜厚优选为15nm以下。光吸收性金属层与透明保护层的间隔优选为25nm以下。作为透明基材，可以使用玻璃、挠性的透明薄膜等。从提高红外线反射薄膜的生产率的观点考虑，优选使用挠性的透明薄膜作为透明基材。

透明保护层的膜厚优选为10nm～120nm。另外，透明保护层的由折射率与膜厚的乘积表示的光学膜厚优选为50nm～150nm。

作为光吸收性金属层，优选使用以镍、铬或镍-铬合金为主要成分的金属层。作为红外线反射层，优选使用相对于银100重量份含有0.1重量份～10重量份的钯的银合金层。

在一个实施方式的红外线反射基板中，光吸收性金属层与透明保护层直接接触。

在另一个实施方式的红外线反射基板中，在光吸收性金属层与透明保护层之间，具备以金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物为主要成分的透明无机层。在该实施方式中，优选透明无机层与透明保护层直接接触。另外，优选透明无机层与金属层直接接触。透明无机层优选为金属氧化物层，其中，优选使用包含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物。

在本发明的红外线反射基板的一个实施方式中，透明保护层为具有交联结构的有机物层，所述交联结构源于同一分子中具有酸性基团和聚合性官能团的酯化合物。在该方式中，透明保护层中的源于酯化合物的结构的含量优选为1重量％～20重量％。作为酯化合物，优选使用磷酸和具有聚合性官能团的有机酸的酯化合物。

本发明的红外线反射基板的透过率优选为15％～50％。

发明的效果

对于本发明的红外线反射基板而言，由红外线反射层上的光吸收性金属层带来的光吸收和由透明保护层带来的防反射效果相辅相成，可减少可见光的反射率，具有高的可视性。因此，可以将光吸收性金属层与透明保护层的间隔设为25nm以下而无需在光吸收性金属层与透明保护层之间设置膜厚较大的金属氧化物层等，因此生产率优异。

附图说明

图1是示意性地表示一个实施方式的红外线反射基板的层叠结构的截面图。

图2是示意性地表示一个实施方式的红外线反射基板的层叠结构的截面图。

图3是示意性地表示红外线反射基板的使用例的截面图。

具体实施方式

图1是示意性地表示红外线反射基板的结构例的截面图。如图1所示，红外线反射基板101在透明基材10的一个主面上具备红外线反射层23。在透明基材10与红外线反射层23之间，也可以如图1所示存在金属氧化物层21等。另外，透明基材10与红外线反射层23可以直接接触。

在红外线反射层23上形成有光吸收性金属层25。在图1所示的方式中，在光吸收性金属层25上，隔着透明无机层27形成有透明保护层30。本发明的红外线反射基板的光吸收性金属层与透明保护层的间隔为25nm以下。即，在图1所示的方式中，配置在光吸收性金属层25与透明保护层30之间的透明无机层27的膜厚t为25nm以下。

在图2所示的红外线反射基板102中，在光吸收性金属层25上直接形成有透明保护层30。在图2所示的方式中，光吸收性金属层25与透明保护层30的间隔为0。

由此，本发明的红外线反射基板在光吸收性金属层25与透明保护层30之间没有其它层，或者即使在形成有透明无机层27等时其膜厚也为25nm以下。由此，本发明的红外线反射基板在其制造工序中，无需在金属层上形成膜厚较大的金属氧化物层等，因此生产率优异。

图3是示意性地表示红外线反射基板的使用方式的一个例子的截面图。在该使用方式中，红外线反射基板100的透明基材10侧借助适当的粘接剂层60等而粘贴于窗户50上，配置在建筑物或汽车的窗户50的室内侧来使用。如图3示意性所示的那样，红外线反射基板100透过来自室外的可见光(VIS)而导入至室内，同时用红外线反射层23反射来自室外的近红外线(NIR)。通过反射近红外线，能够抑制起因于太阳光等的来自室外的热向室内流入(发挥遮热效果)，因此，能够提高夏季的制冷效率。进而，红外线反射层反射由供暖设备80等放射的室内的远红外线(FIR)，因此，能够发挥绝热效果、提高冬季的供暖效率。

下面，依次对各层的构成、材料等的优选方式进行说明。

[透明基材]

作为透明基材10，可适宜使用可见光透过率为80％以上的基材。需要说明的是，在本说明书中，可见光透过率按照JIS A5759-2008(建筑窗户玻璃用薄膜)进行测定。

透明基材10的厚度没有特别限制，例如为10μm～10mm左右。作为透明基材，可以使用玻璃板、挠性的透明树脂薄膜等。尤其是从提高红外线反射基板的生产率、且向窗户玻璃等粘贴红外线反射基板时容易施工的观点考虑，适宜使用挠性的透明树脂薄膜。在使用透明树脂薄膜作为透明基材时，其厚度适宜为10μm～300μm左右的范围。另外，在透明基材10上形成有金属层、金属氧化物层等时，有时在高温下进行加工，因此，构成透明树脂薄膜基材的树脂材料优选耐热性优异。作为构成透明树脂薄膜基材的树脂材料，可列举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯(PC)等。

在透明基材10为透明树脂薄膜基材时，出于提高红外线反射基板的机械强度等目的，适宜使用在透明薄膜11的表面具备固化树脂层12的基材。另外，通过在透明薄膜11的红外线反射层23形成面侧具备固化树脂层12，从而有提高红外线反射层23、在其上形成的透明保护层30等的抗擦伤性的倾向。固化树脂层12能够通过将例如丙烯酸系、有机硅系等适当的紫外线固化型树脂的固化覆膜附设在透明薄膜11上的方式等来形成。作为固化树脂层12，适宜使用硬度较高的固化树脂层。

对于透明基材10的红外线反射层23形成面侧，出于提高密合性等的目的，也可以进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理、臭氧处理、底涂处理、辉光处理、皂化处理、利用偶联剂进行的处理等表面改性处理。

[红外线反射层]

在透明基材10上形成红外线反射层23。红外线反射层23也可以直接形成在透明基材10上。另外，如图1及图2所示，还可以在透明基材10上形成金属氧化物层21等，在其上形成红外线反射层23。红外线反射层23具有通过反射近红外线来赋予遮热性及通过反射远红外线来赋予绝热性的作用。

作为红外线反射层23，使用以银为主要成分的金属层。由于银具有较高的自由电子密度，因此，能够对近红外线/远红外线两者实现高的反射率，可以得到遮热效果及绝热效果优异的红外线反射基板。

红外线反射层23中的银的含量优选为90重量％以上、更优选为93重量％以上、进一步优选为95重量％以上。通过提高金属层中的银的含量，从而能够提高透过率及反射率的波长选择性、提高红外线反射基板的可见光透过率。

红外线反射层23也可以是含有银以外的金属的银合金层。例如，为了提高红外线反射层的耐久性，有时使用银合金。作为出于提高耐久性的目的而添加的金属，优选钯(Pd)、金(Au)、铜(Cu)、铋(Bi)、锗(Ge)、镓(Ga)等。其中，从赋予银较高的耐久性的观点考虑，最适宜使用Pd。增加Pd等的添加量时，存在金属层的耐久性提高的倾向。在红外线反射层23含有Pd等银以外的金属的情况下，其含量优选为0.1重量％以上、更优选为0.5重量％以上、进一步优选为1重量％以上、特别优选为2重量％以上。另一方面，Pd等的添加量增加、银的含量降低时，存在红外线反射基板的可见光透过率降低的倾向。因此，红外线反射层23中的银以外的金属的含量优选为10重量％以下、更优选为7重量％以下、进一步优选为5重量％以下。

从使红外线反射基板具有充分的遮热性及绝热性的观点考虑，红外线反射层23的膜厚优选为3nm以上、更优选为5nm以上、进一步优选为10nm以上。红外线反射层23的膜厚的上限没有特别限制，但如果考虑可见光透过率及生产率，则优选为30nm以下、更优选为25nm以下、进一步优选为20nm以下。

对红外线反射层23的制膜方法没有特别限制，优选通过溅射法、真空蒸镀法、CVD法、电子束蒸镀法等干式法制膜。其中，红外线反射层23优选通过溅射法进行制膜。

[光吸收性金属层]

在红外线反射层23上形成光吸收性金属层25。光吸收性金属层25作为红外线反射层23的保护层起作用，而且具有使可见光的反射率减少、提高具备红外线反射基板的窗户玻璃等的可视性的作用。

作为光吸收性金属层25，优选使用以镍(Ni)、铬(Cr)或Ni-Cr合金为主要成分的金属层。这些金属通过吸收可见光而减少红外线反射基板的可见光反射率，而且还具备作为红外线反射层23的保护层的功能。另外，这些金属的远红外线的吸收率小，因此，还具有使红外线反射基板的放射率保持在较低水平，提高绝热性的作用。光吸收性金属层25的Ni含量与Cr含量的总和优选为50重量％以上、更优选为60重量％以上、进一步优选为70重量％以上、特别优选为80重量％以上。光吸收性金属层25特别优选为Ni和Cr的含量在上述范围的Ni-Cr合金。Ni-Cr合金除了含有Ni及Cr以外，还可以含有Ta、Ti、Fe、Mo、Co、Cu、W等金属。

光吸收性金属层25的膜厚优选为15nm以下、更优选为10nm以下、进一步优选为8nm以下、特别优选为6nm以下。只要光吸收性金属层25的膜厚为上述范围，则由光吸收性金属层导致的可见光的吸收不会过度增大，能够保持红外线反射基板的透明性。另外，如果光吸收性金属层的膜厚超过15nm，则可见光的吸收增加，而且由多重干涉导致的可见光的反射率也增大。即，如果光吸收性金属层的膜厚过大，则存在可见光的吸收及反射增大，随之可见光的透过率大幅降低、可视性降低的倾向。从这样的观点考虑，光吸收性金属层的膜厚也优选为15nm以下。

光吸收性金属层25的膜厚优选为2nm以上、更优选为3nm以上。如果光吸收性金属层25的膜厚为2nm以上，则能够提高对红外线反射层23的保护性，由此可抑制红外线反射层23的劣化，而且由于可见光的反射率减少，红外线反射基板的可视性提高。

光吸收性金属层25的制膜方法没有特别限制，优选通过溅射法、真空蒸镀法、CVD法、电子束蒸镀法等干式法制膜。其中，光吸收性金属层25优选与红外线反射层23同样地通过溅射法进行制膜。

[透明保护层]

出于防止红外线反射层23、光吸收性金属层25的擦伤、赋予化学保护作用的目的，在光吸收性金属层25上设置透明保护层30。透明保护层30优选具有较高的可见光透过率，并且远红外线的吸收较小。如果远红外线的吸收较大，则室内的远红外线被透明保护层吸收通过热传导散热到外部，而不是被红外线反射层反射，因此存在绝热性降低的倾向。另一方面，如果由透明保护层30导致的远红外线的吸收少，则室内的远红外线被红外线反射层23反射至室内，因此绝热效果提高。

本发明中，透明保护层30的膜厚为10nm～120nm。在透明保护层的膜厚小至120nm以下时，由透明保护层30导致的远红外线吸收几乎没有，由红外线反射基板产生的绝热性提高。另外，通过使透明保护层30的膜厚为10nm以上，从而能够提高对红外线反射层23等的化学耐久性、耐擦伤性。

进而，本发明中，通过将透明保护层30的膜厚设为上述范围，从而能够赋予作为防反射层的作用，即，通过透明保护层30的表面侧的反射光与光吸收性金属层25侧的界面的反射光的多重反射干涉而使可见光的反射率降低。因此，无需出于调节可见光的反射率的目的而在红外线反射层上形成膜厚较大的金属氧化物层等，红外线反射基板的生产率提高。

为了使可见光的反射率降低，透明保护层30的光学膜厚(折射率与物理膜厚的乘积)优选为50nm～150nm、更优选为70nm～130nm、进一步优选为80nm～120nm。如果使透明保护层的光学膜厚在上述范围，则由透明保护层带来的防反射效果提高，而且由于光学膜厚比可见光的波长范围还小，因此能够抑制因界面的多重反射干涉而导致的红外线反射基板的表面看到彩虹图案的“彩虹现象”，红外线反射基板的可视性提高。需要说明的是，折射率是波长590nm(Na-D线的波长)下的值。

透明保护层为树脂层时，其折射率通常为1.3～1.7左右，因此，从使光学膜厚在上述范围内而使可见光的反射率减少的观点考虑，透明保护层30的厚度更优选为40nm～100nm、进一步优选为50nm～90nm、特别优选为55nm～85nm。

作为透明保护层30的材料，优选可见光透过率高、机械强度及化学强度优异的材料。从防止对红外线反射层、光吸收性金属层的擦伤、提高化学保护作用的观点考虑，优选树脂材料。作为树脂材料，例如，可优选使用氟系、丙烯酸系、氨酯系、酯系、环氧系、有机硅系等活性光线固化型或热固化型的有机树脂、有机成分与无机成分化学结合而成的有机/无机混合材料。

优选在透明保护层30的材料中导入交联结构。通过形成交联结构，从而能够提高透明保护层的机械强度及化学强度，对红外线反射层等的保护功能增大。其中，优选导入源于同一分子中具有酸性基团和聚合性官能团的酯化合物的交联结构。

作为同一分子中具有酸性基团和聚合性官能团的酯化合物，可列举出：磷酸、硫酸、草酸、琥珀酸、邻苯二甲酸、富马酸、马来酸等多元酸与分子中具有烯属不饱和基团、硅烷醇基、环氧基等聚合性官能团和羟基的化合物的酯。需要说明的是，该酯化合物可以是二酯或三酯等多元酯，优选多元酸的至少一个酸性基团未被酯化。

透明保护层30具有源于上述的酯化合物的交联结构时，可提高透明保护层的机械强度及化学强度，而且能够提高透明保护层30与光吸收性金属层25之间或者透明保护层30与透明无机层27之间的密合性，能够提高红外线反射层的耐久性。上述酯化合物中，磷酸和具有聚合性官能团的有机酸的酯化合物(磷酸酯化合物)与金属层、金属氧化物层的密合性优异。尤其是具有源于磷酸酯化合物的交联结构的透明保护层与金属氧化物的密合性优异。因此，在透明保护层30具有源于磷酸酯化合物的交联结构时，红外线反射基板优选如图2所示，在光吸收性金属层25上具备透明无机层27，在其上形成透明保护层30。对于透明保护层30与金属氧化物层27的密合性的提高，推测源于酯化合物中的酸性基团与金属氧化物显示出较高的亲和性，其中，磷酸酯化合物中的磷酸羟基与金属氧化物层的亲和性优异，因此密合性提高。

从提高透明保护层30的机械强度及化学强度的观点考虑，上述酯化合物优选含有(甲基)丙烯酰基作为聚合性官能团。另外，从容易导入交联结构的观点考虑，上述酯化合物的分子中也可以具有多个聚合性官能团。作为上述酯化合物，例如，可适宜使用由下述式(1)所示的、磷酸单酯化合物或磷酸二酯化合物。需要说明的是，也可以组合使用磷酸单酯和磷酸二酯。

式中，X表示氢原子或甲基，(Y)表示-OCO(CH₂)₅-基。n为0或1，p为1或2。

透明保护层30中的源于上述酯化合物的结构的含量优选为1重量％～20重量％、更优选为1.5重量％～17.5重量％、进一步优选为2重量％～15重量％、特别优选为2.5重量％～12.5重量％。如果源于酯化合物的结构的含量过小，则有时无法充分得到提高强度、密合性的效果。另一方面，如果源于酯化合物的结构的含量过大，则有时形成透明保护层时的固化速度变小而硬度降低，或透明保护层表面的滑动性降低而抗擦伤性降低。通过在形成透明保护层时调节组合物中的上述酯化合物的含量，从而能够将透明保护层中的源于酯化合物的结构的含量设为所期望的范围。

对透明保护层30的形成方法没有特别限制。透明保护层优选通过如下方法来形成，例如，使有机树脂或有机树脂的固化性单体、低聚物与上述酯化合物溶解于溶剂而制备溶液，将该溶液涂布在光吸收性金属层25上或透明无机层27上，使溶剂干燥后，照射紫外线、电子束等或赋予热量，由此使其固化。

需要说明的是，作为透明保护层30的材料，除了上述有机材料、无机材料及酯化合物以外，还可以包含硅烷偶联剂、钛偶联剂等偶联剂、流平剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、热稳定剂、润滑剂、增塑剂、防着色剂、阻燃剂、抗静电剂等添加剂。这些添加剂的含量可以在不损害本发明的目的的范围内适当调节。

如以上说明的那样，本发明的红外线反射基板中，由光吸收性金属层带来的光吸收和由透明保护层带来的防反射效果相辅相成，能够减少可见光的反射率，改善可视性。因此，无需在光吸收性金属层25与透明保护层30之间形成能够作为法布里-珀罗干涉的隔离层起作用的膜厚较大的金属氧化物层，红外线反射基板的生产率提高。

[光吸收性反射层与透明保护层之间的层构成]

本发明的红外线反射基板只要光吸收性金属层25与透明保护层30的间隔t为25nm以下就对其层构成没有特别限制。可以如图2所示在光吸收性金属层25上直接形成透明保护层30，也可以如图1所示在光吸收性金属层25与透明保护层30之间形成透明无机层27等。另外，还可以在光吸收性金属层25与透明保护层30之间形成多个金属层、透明无机层等。需要说明的是，从提高红外线反射基板的生产率的观点考虑，形成于光吸收性金属层25与透明保护层30之间的层优选为单层。光吸收性金属层25与透明保护层30的间隔t优选为20nm以下、更优选为15nm以下、进一步优选为10nm以下。需要说明的是，还可以是如下方式：透明无机层27的膜厚的最小值为0，如图2所示在光吸收性金属层25上直接形成透明保护层30。

＜透明无机层＞

红外线反射基板101在光吸收性金属层25与透明保护层30之间具备透明无机层27的情况下，作为透明无机层27的材料，可优选使用以金属氧化物、金属氮化物及金属氮氧化物等为主要成分的材料。

作为构成透明无机层27的金属氧化物，可以使用In、Zn、Sn、Al、Ga、Tl、Ti、Zr、Hf、Ce、Sb、V、Nb、Ta、Si、Ge等的氧化物、它们的复合氧化物(例如，氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌锡(ZTO)、铝掺杂氧化锌(AZO)、镓掺杂氧化锌(GZO)、锑掺杂氧化锡(ATO))等。作为金属氮化物，优选使用例如氮化硅。作为氮氧化物，优选使用氮氧化硅、塞隆(SiAlON)等无机材料。

对透明无机层27的制膜方法没有特别限制，优选通过溅射法、真空蒸镀法、CVD法、电子束蒸镀法等干式法制膜。其中，透明无机层27优选通过溅射法进行制膜，从生产率的观点考虑，特别优选直流溅射。在透明基材10为挠性的薄膜、且红外线反射层23、光吸收性金属层25及透明无机层27全部通过直流溅射进行制膜时，只要使用具备多个制膜室的卷取式溅射装置，就也能够以1个线路(path)形成这些各层。因此，可以大幅提高红外线反射基板的生产率。

透明无机层27可以具有作为对红外线反射层23、光吸收性金属层25的保护层的作用。例如，透明无机层27作为对氧气等的阻气层起作用，可以具有抑制由红外线反射层23或光吸收性金属层25的氧化所导致的劣化的作用。另外，透明无机层27还可以具有如下作用：提高光吸收性金属层25与透明保护层30的密合性，从而提高透明保护层30对红外线反射层23、光吸收性金属层25的保护性能。

其中，如前所述，在透明保护层30具有源于磷酸酯化合物的交联结构、且透明无机层27为金属氧化物的情况下，存在密合性大幅提高、红外线反射基板的耐久性提高的倾向。尤其是在构成透明无机层27的金属氧化物为包含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物的情况下，由于金属氧化物本身的化学耐久性高，且与透明保护层的密合性优异，因此存在红外线反射基板的耐久性显著提高的倾向。

在透明无机层(金属氧化物层)27由包含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物构成的情况下，金属氧化物层中的锌原子的含量相对于金属原子总量优选为10原子％～60原子％、更优选为15原子％～50原子％、进一步优选为20原子％～40原子％。锌原子(氧化锌)的含量小时，有时金属氧化物层成为晶质而耐久性降低。另外，锌原子(氧化锌)的含量小时，由于存在电阻变高的倾向，因此，存在通过溅射法对金属氧化物层进行制膜时的溅射靶的导电性降低、使通过直流溅射进行的制膜变得困难的倾向。另一方面，锌原子的含量过大时，有时与光吸收性金属层25、透明保护层30的密合性降低。

金属氧化物层27中的锡原子的含量相对于金属原子总量优选为30原子％～90原子％、更优选为40原子％～85原子％、进一步优选为50原子％～80原子％。锡原子(氧化锡)的含量过小时，存在金属氧化物层的化学耐久性降低的倾向。另一方面，锡原子(氧化锡)的含量过大时，存在用于制膜的溅射靶的电阻变高，使通过直流溅射法进行的制膜变得困难的倾向。

除了含有氧化锌及氧化锡以外，金属氧化物层27还可以含有Ti、Zr、Hf、Nb、Al、Ga、In、Tl、Ga等金属或它们的金属氧化物。出于提高溅射制膜时的靶的导电性而加快制膜速度的目的、提高金属氧化物层的透明性等目的，可以添加这些金属或金属氧化物。需要说明的是，金属氧化物层中的氧化原子和锡原子的总含量相对于金属原子总量优选为40原子％以上、更优选为50原子％以上、进一步优选为60原子％以上。

金属氧化物层27的膜厚优选为2nm以上、更优选为3nm以上。如果膜厚为2nm以上，则存在金属氧化物层27对于光吸收性金属层25的覆盖变得良好，密合性提高的倾向。金属氧化物层27的膜厚为25nm以下。在金属氧化物层的膜厚较大时，因制膜时间增加而导致生产率降低。另外，使金属氧化物层的膜厚过大时，存在密合性反而降低的倾向。因此，金属氧化物层27的膜厚优选在能够确保金属层与透明保护层的密合性的范围内尽可能地小。具体而言，金属氧化物层27的膜厚优选为15nm以下、更优选为10nm以下、进一步优选为8nm以下。

如前所述，由包含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物构成的金属氧化物层优选为通过直流溅射法进行制膜，特别优选通过使用了含有金属和金属氧化物的靶的直流溅射法对金属氧化物层进行制膜。由于氧化锌、氧化锡(尤其是氧化锡)的导电性小，因此，仅使这些金属氧化物烧结而得到的氧化物靶的导电性小，存在直流溅射时不产生放电或使长时间稳定地进行制膜变得困难的倾向。

含有金属和金属氧化物的靶可以通过使优选为0.1重量％～20重量％、更优选为0.2重量％～15重量％的金属与氧化锌和/或氧化锡一起烧结来形成。形成靶时的金属含量过小时，有时靶的导电性变得不充分，使通过直流溅射进行的制膜变得困难，或金属氧化物层与红外线反射层等的密合性降低。形成靶时的金属含量过大时，存在制膜时未被氧化的残留金属、氧量不满足化学计量组成的金属氧化物的量变多，金属氧化物层的可见光透过率降低的倾向。靶形成材料中的金属粉末可以是除了金属锌、金属锡以外的金属，但优选包含金属锌和金属锡中的至少任一种，特别优选包含金属锌。需要说明的是，用作靶形成材料的金属粉末通过烧结被氧化，因此，在烧结靶中也可以以金属氧化物的形式存在。

在通过溅射法对金属氧化物层进行制膜时，在对制膜室内进行真空排气后，在溅射制膜室内一边导入Ar等非活性气体和氧气一边进行制膜。在金属氧化物层制膜时向制膜室内导入的氧气量相对于全部导入气体流量优选为8体积％以下、更优选为5体积％以下、进一步优选为4体积％以下。通过减小氧气导入量，从而能够抑制成为金属氧化物层27的基底的光吸收性金属层、红外线反射层23的氧化。另外，存在通过减小金属氧化物层27制膜时导入的氧气量，金属氧化物层27与光吸收性金属层25的密合性提高的倾向。金属氧化物层与金属层的密合性提高的原因尚未明确，推测为：含有用于使靶中的金属氧化而变成化学计量组成的金属氧化物(氧化锌(ZnO)和/或氧化锡(SnO₂))的氧气不足而残留金属、氧气量不满足化学计量组成的氧不足状态的金属氧化物而有助于提高密合性。需要说明的是，氧气导入量是相对于向配置有用于金属氧化物层制膜的靶的制膜室的全部气体导入量的、氧气的量(体积％)。在使用具备被遮蔽板隔开的多个制膜室的溅射制膜装置时，以向每个被分隔的制膜室导入的气体量为基准来计算氧气导入量。

另一方面，溅射制膜时的氧气的导入量过少时，存在氧气不足状态的金属氧化物的量增大，导致可见光透过率降低的倾向。因此，溅射制膜时向制膜室内导入的氧气量相对于全部导入气体流量优选为0.1体积％以上、更优选为0.5体积％以上、进一步优选为1体积％以上。

进而，在使用上述靶以规定的氧气导入量通过直流溅射对氧化锌锡(ZTO)进行制膜时，与对作为金属氧化物的ITO或IZO等进行制膜的情况相比，具有连续制膜时在靶上生成(附着)的粉末较少的优点。如果靶表面附着粉末，则会发生异常放电、溅射装置内的污染，变得无法得到具有稳定的品质的薄膜。因此，在靶表面附着有粉末的情况下，需要暂时停止制膜来进行靶表面的研磨、溅射装置的清扫作业等的维护。另外，维护后重新开始制膜时，为了将溅射制膜室真空化还需要花费时间。

通过抑制在连续制膜时粉末向靶上附着，能够延长制膜室等的维护周期(减少维护频率)，因此，能够提高红外线反射基板的生产效率。尤其是在通过卷取式溅射进行连续制膜的情况下，能够降低溅射装置的维护频率、增大连续制膜长度，因此，可以显著提高生产率。

金属氧化物层27的溅射制膜时的基板温度优选为比透明薄膜基材的耐热温度低的温度。基板温度例如优选为20℃～160℃、更优选为30℃～140℃。溅射制膜时的功率密度例如优选为0.1W/cm²～10W/cm²、更优选为0.5W/cm²～7.5W/cm²、进一步优选为1W/cm²～6W/cm²。另外，制膜时的工艺压力例如优选为0.01Pa～10Pa、更优选为0.05Pa～5Pa、进一步优选为0.1Pa～1Pa。工艺压力过高时存在制膜速度降低的倾向，相反地压力过低时存在放电不稳定的倾向。

[透明基材与红外线反射层之间的层构成]

透明基材10与红外线反射层23之间的层构成没有特别限制，既可以在透明基材10上直接形成红外线反射层23，也可以在透明基材10上隔着其它层形成红外线反射层23。

出于提高红外线反射层等的耐久性、提高密合性、光学调节等目的，可以在透明基材10与红外线反射层23之间设置金属层、金属氧化物层等。例如，如图1及图2所示，通过在透明基材10与红外线反射层23之间设置金属氧化物层21，从而能够使两者的密合性提高、对红外线反射基板赋予更进一步的耐久性。

＜金属氧化物层＞

作为设置在透明基材10与红外线反射层23之间的金属氧化物层21的材料，优选使用上述作为构成透明无机层27的材料示例的金属氧化物。尤其是通过在透明基材10与红外线反射层23之间设置包含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物层，存在透明基材10与红外线反射层23的密合性提高的倾向。

现有技术中，出于提高包含银等的红外线反射层与其它层的密合性的目的，作为与红外线反射层邻接的底涂层，设置Ni-Cr等金属层，以提高与基材等的密合性。然而，指脂(finger fat)成分等浸透红外线反射基板时，有时在Ni-Cr等金属层与基材的界面发生剥离。相对于此，通过在透明基材10上隔着ZTO等金属氧化物层21而形成红外线反射层23，密合性提高，而且化学耐久性提高。因此，即使在指脂成分等浸透的情况下界面也不容易发生剥离，存在红外线反射基板的耐久性提高的倾向。

金属氧化物层21的制膜方法没有特别限制，优选通过溅射法、真空蒸镀法、CVD法、电子束蒸镀法等干式法制膜。其中，金属氧化物层21优选通过溅射法进行制膜，从生产率的观点考虑，特别优选直流溅射。在形成包含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物层作为金属氧化物层21的情况下，其组成、制膜方法优选采用与金属氧化物层27的上述说明的组成、制膜方法同样的条件。

可以分别在透明基材10与金属氧化物层21之间及在金属氧化物层21与红外线反射层23之间进一步形成其它层。需要说明的是，本发明的红外线反射基板优选在透明基材10与红外线反射层23之间不具有金属层。如前所述，通过在透明基材10上具备ZTO等金属氧化物层21，透明基材10与红外线反射层23的密合性提高，因此，无需特别另外设置Ni-Cr等金属层(底涂层)。通过使透明基材10与红外线反射层23之间不具有金属层，能够提高红外线反射基板的可见光透过率。另外，无需另行在透明基材10与红外线反射层23之间形成金属层，构成红外线反射基板的薄膜的数量(种类)及总膜厚减少，因此，红外线反射基板的生产率提高。

从提高生产率的观点考虑，形成于透明基材10与红外线反射层23之间的层优选为单层。从提高密合性的观点考虑，优选透明基材10与金属氧化物层21直接接触。同样地，优选金属氧化物层21与红外线反射层23直接接触。综上所述，本发明的红外线反射基板优选的是：以直接接触的方式在透明基材10上形成金属氧化物层21，并且在其上直接形成红外线反射层23。

[红外线反射基板的特性]

对于本发明的红外线反射基板，从透明保护层30侧测定的垂直放射率优选为0.20以下、更优选为0.15以下、进一步优选为0.12以下、特别优选为0.10以下。

红外线反射基板的可见光透过率优选为15％以上、更优选为20％以上、进一步优选为25％以上、特别优选为30％以上。另一方面，从提高遮热性的观点考虑，可见光透过率优选为50％以下、更优选为45％以下、进一步优选为40％以下。利用如上所述在透明基材10与红外线反射层23之间不具有光吸收性的金属层、而仅在红外线反射层23与透明保护层30之间具备光吸收性金属层25的结构，能够抑制可见光的反射，同时抑制可见光的吸收，使可见光透过率为上述范围。另外，本发明的红外线反射基板的可见光的反射率优选为40％以下、更优选为35％以下、进一步优选为30％以下。

[用途]

如上所述，本发明的红外线反射基板在透明基材10的一个主面上具备红外线反射层23、光吸收性金属层25及透明保护层30，根据需要在这些层间具备其它层。本发明的红外线反射基板能够用于建筑物、交通工具等的窗户、要放入植物等的透明盒子、冷冻或冷藏展示柜等，可以具有提高制冷供暖效果、防止温度急剧变化的作用。

如参照图3先前说明的那样，本发明的红外线反射薄膜100使来自室外的可见光(VIS)透过而导入至室内，同时利用红外线反射层23将来自室外的近红外线(NIR)反射，由此具有遮热效果和绝热效果。另外，本发明的红外线反射基板通过具备光吸收性金属层而减少了可见光的反射率，因此，在用于展示柜、橱窗等时，能够赋予遮热性和绝热性而不会降低使商品等的可视性。

透明基材10为玻璃板等刚性体时，可以将红外线反射基板直接嵌入框体等而作成遮热/绝热窗户。在透明基材10为挠性薄膜时，优选将红外线反射基板与窗户玻璃等刚性基材粘贴来使用。需要说明的是，透明基材为刚性体时，也可以将红外线反射基板与窗户玻璃等其它刚性体粘贴来使用。

在透明基材10的与红外线反射层23形成面处于相反侧的面上，也可以附设用于粘贴红外线反射基板与窗户玻璃等的粘接剂层60等。作为粘接剂层，适宜使用可见光透过率高、与透明基材10的折射率差小的材料，例如，丙烯酸系的粘合剂(压敏粘接剂)的光学透明性优异、显示出适度的润湿性、凝聚性和粘接性，耐候性、耐热性等优异，因此适宜作为附设于透明薄膜基材的粘接剂层的材料。

粘接剂层优选可见光透过率高、且紫外线透过率小。通过减小粘接剂层的紫外线透过率，能够抑制由太阳光等的紫外线引起的红外线反射层的劣化。从减小粘接剂层的紫外线透过率的观点考虑，粘接剂层优选含有紫外线吸收剂。需要说明的是，通过使用含有紫外线吸收剂的透明薄膜基材等，也能够抑制由来自室外的紫外线引起的红外线反射层的劣化。粘接剂层的露出面优选在红外线反射基板供于实用之前的期间临时粘贴有隔离体进行覆盖以防止露出面的污染等。由此，在惯例的操作状态下能够防止粘接剂层的露出面因与外部接触而被污染。

需要说明的是，在透明基材10为挠性薄膜时，也可以如例如日本特开2013-61370号公报公开的那样将红外线反射基板嵌入框体等来使用。该方式中，无需在透明基材10上附设粘接剂层，因此，不会发生由粘接剂层导致的远红外线的吸收。因此，作为透明基材10，通过使用C＝C键、C＝O键、C-O键、芳香族环等官能团的含量少的材料(例如环状聚烯烃)，能够使来自透明基材10侧的远红外线在红外线反射层23反射，能够对红外线反射基板的两面侧赋予绝热性。这样的构成在例如冷藏展示柜、冷冻展示柜等中特别有用。

实施例

下面，举出实施例更详细地说明本发明，但本发明并不限定于以下的实施例。

[实施例、比较例中使用的测定方法]

＜各层的膜厚＞

对于金属层、金属氧化物层及透明保护层的膜厚，使用聚焦离子束加工观察装置(日立制作所制造、产品名称“FB-2100”)，通过聚焦离子束(FIB)法加工试样，通过场发射型透射电子显微镜(日立制作所制造、产品名称“HF-2000”)观察其截面，从而求出这些层的膜厚。对于形成于基材上的硬涂层的膜厚，使用瞬间多通道测光系统(大冢电子制造、产品名称“MCPD3000”)，根据由测定对象侧使光入射时的可见光的反射率的干涉图形，通过计算来求出硬涂层的膜厚。

＜可见光透过率及反射率＞

对于可见光透过率及反射率，使用将红外线反射薄膜的透明薄膜基材侧的面借助厚度25μm的粘合剂粘贴于厚度3mm的玻璃板而成的材料作为试样，使用分光光度计(Hitachi High-Technologies Corporation制造、产品名称“U-4100”)进行测定。其中，实施例1的红外线反射基板未粘贴玻璃板而直接用作测定试样。透过率依照JIS A5759-2008(建筑窗户玻璃用薄膜)的透过率计算方法进行计算。反射率是从透明保护层侧以入射角5°使光入射，测定波长380nm～780nm的范围的5°绝对反射率。

[实施例1]

在实施例1中，通过以下说明的方法制作红外线反射基板，所述红外线反射基板在玻璃基板上具备由ZTO构成的金属氧化物层、Ag-Pd金属层(红外线反射层)及Ni-Cr金属层，进而在其上具备透明树脂保护层。

使用平行平板式溅射装置，通过直流磁控溅射法，在玻璃基板上依次形成膜厚4nm的锌-锡复合氧化物(ZTO)层、膜厚16nm的Ag-Pd合金层(红外线反射层)、膜厚5nm的Ni-Cr合金层及膜厚4nm的ZTO层。在形成ZTO层时，使用以8.5：83：8.5的重量比使氧化锌、氧化锡和金属锌粉末烧结而成的靶，在功率密度为2.67W/cm²、工艺压力为0.4Pa、基板温度为80℃的条件下进行溅射。此时，向溅射制膜室导入的气体量以使Ar：O₂为98：2(体积比)的方式进行调节。在形成Ag-Pd层时，使用以96.4：3.6的重量比含有银：钯的金属靶。在形成Ni-Cr层时，使用以80：20的重量比含有镍：铬的金属靶。

(透明树脂保护层的形成)

在ZTO层上，以70nm的膜厚形成具有源于磷酸酯化合物的交联结构的由氟系的紫外线固化型树脂构成的透明树脂保护层。详细而言，用涂布机涂布相对于丙烯酸系硬涂层树脂溶液(JSR制造、商品名称“Opstar Z7540”)的固体成分100重量份添加有磷酸酯化合物(日本化药制造、商品名称“KAYAMER PM-21”)5重量份的溶液，在60℃温度下干燥1分钟后，在氮气气氛下通过超高压水银灯照射累积光量为400mJ/cm²的紫外线，进行固化。固化后的树脂保护层的折射率为1.5。需要说明的是，上述磷酸酯化合物是在分子中具有1个丙烯酰基的磷酸单酯化合物(前述式(1)中，X为甲基、n＝0、p＝1的化合物)与在分子中具有2个丙烯酰基的磷酸二酯化合物(上述式(1)中，X为甲基、n＝0、p＝2的化合物)的混合物。

[实施例2]

在实施例2中，作为透明基材，使用厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(Toray制造、商品名称“Lumirror U48”、可见光透过率93％)代替玻璃板，使用卷取式溅射装置来进行金属氧化物层及金属层的制膜。除此以外与实施例1同样地操作，制作在薄膜基材上依次具备ZTO金属氧化物层、Ag-Pd金属层、Ni-Cr金属层、ZTO金属氧化物层及透明树脂保护层的红外线反射薄膜。

[实施例3]

在实施例3中，使用在表面具备硬涂层的PET薄膜作为透明基材。在PET薄膜的一侧的面上，以2μm的厚度形成丙烯酸系的紫外线固化型硬涂层(日本曹达制造、NH2000G)。详细而言，通过凹版涂布机涂布硬涂层溶液，在80℃温度下干燥后，通过超高压水银灯照射累积光量300mJ/cm²的紫外线，进行固化。

在该带硬涂层的PET薄膜的硬涂层形成面侧，与实施例2同样地使用卷取式溅射装置对ZTO金属氧化物层、Ag-Pd金属层、Ni-Cr金属层及ZTO金属氧化物层进行制膜，并在其上形成透明树脂保护层。

[实施例4]

除了在Ni-Cr金属层上未形成ZTO金属氧化物层以外，与实施例3同样地操作而制作红外线反射薄膜。

[实施例5、6]

除了Ni-Cr金属层的膜厚如表1所示进行变更以外，与实施例4同样地操作而制作红外线反射薄膜。

[实施例7]

除了Ni-Cr金属层上的ZTO金属氧化物层的膜厚变更为15nm以外，与实施例3同样地操作而制作红外线反射薄膜。

[实施例8]

除了树脂保护层的膜厚变更为10nm以外，与实施例7同样地操作而制作红外线反射薄膜。

[比较例1]

除了在ZTO金属氧化物层上未形成树脂保护层以外，与实施例3同样地操作而制作红外线反射薄膜。

[比较例2、3]

除了树脂保护层的膜厚如表1所示进行变更以外，与实施例4同样地操作而制作红外线反射薄膜。

[比较例4]

除了Ni-Cr金属层的膜厚变更为20nm以外，与实施例4同样地操作而制作红外线反射薄膜。

[比较例5]

除了Ni-Cr金属层上的ZTO金属氧化物层的膜厚变更为30nm以外，与实施例3同样地操作而制作红外线反射薄膜。

[评价]

将上述各实施例及比较例的红外线反射基板(红外线反射薄膜)的层叠结构、反射率及透过率的测定结果示于表1。表1中，薄膜层叠结构的括号内的数字表示各层的膜厚(nm)。

[表1]

对于本发明的实施例的红外线反射薄膜而言，Ni-Cr层与树脂保护层(透明保护层)的间隔均为25nm以下，尽管实施例1～3、7、8的ZTO层没有作为法布里-珀罗干涉层叠体的隔离层而使可见光选择性透过的较大的膜厚，但可将可见光的反射率抑制在低于30％。

在实施例1～3中，虽然变更了透明基材的种类，但可见光的透过率及反射率均显示出同等的值。另一方面，根据实施例3与比较例1(无透明保护层)的对比可知，本发明的红外线反射基板中，通过透明保护层可减少反射率。另外，根据实施例4与比较例2、3的对比或实施例7与实施例8的对比可知，通过调节透明保护层的(光学)膜厚，反射率减少。

在实施例4～6(Ni-Cr层的膜厚为2nm～10nm)中，反射率大致为同等，随着Ni-Cr层的膜厚变大，可看出因光吸收的增大而透过率增大的倾向。另一方面，尽管Ni-Cr的膜厚为20nm的比较例4的透过率低至11％，但与实施例4～6相比反射率增大。根据这些结果，可认为在能够发挥对红外线反射层的保护功能的范围内，优选光吸收性金属层的膜厚在15nm以下而尽可能地小。

ZTO金属氧化物层的膜厚为30nm的比较例5显示出低反射率，但由于金属氧化物层的膜厚较大，因此，通过溅射进行制膜时耗费时间、生产率低。由该结果可知，根据本发明，通过调节作为面涂层形成的透明保护层的(光学)膜厚，可以得到与增大金属氧化物层的膜厚的情形同等的防反射效果而不会使生产率不降低。

附图标记说明

100、101、102：红外线反射基板

10：透明基材

11：透明薄膜

12：固化树脂层

21：金属氧化物层

23：红外线反射层

25：光吸收性金属层

27：透明无机层(金属氧化物层)

30：透明保护层

60：粘接剂层

Claims (12)

1.一种红外线反射基板，其在透明基材上依次具备以银为主要成分的红外线反射层、光吸收性金属层及透明保护层，

所述光吸收性金属层的膜厚为15nm以下，

所述透明保护层的膜厚为10nm～120nm，

所述光吸收性金属层与所述透明保护层的间隔为25nm以下。

2.根据权利要求1所述的红外线反射基板，其中，所述透明保护层的由折射率与膜厚的乘积表示的光学膜厚为50nm～150nm。

3.根据权利要求1或2所述的红外线反射基板，其中，所述光吸收性金属层是以镍、铬或镍-铬合金为主要成分的金属层。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的红外线反射基板，其中，所述红外线反射层是相对于银100重量份含有0.1重量份～10重量份的钯的银合金层。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的红外线反射基板，其中，所述光吸收性金属层与所述透明保护层直接接触。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的红外线反射基板，其中，在所述光吸收性金属层与所述透明保护层之间，具备以金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物为主要成分的透明无机层，

所述透明无机层与所述透明保护层直接接触。

7.根据权利要求6所述的红外线反射基板，其中，所述透明无机层与所述金属层直接接触。

8.根据权利要求6或7所述的红外线反射基板，其中，所述透明无机层由包含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物构成。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的红外线反射基板，其中，所述透明保护层是具有交联结构的有机物层，所述交联结构源于同一分子中具有酸性基团和聚合性官能团的酯化合物，

所述透明保护层中的、源于所述酯化合物的结构的含量为1重量％～20重量％。

10.根据权利要求9所述的红外线反射基板，其中，所述酯化合物为磷酸与具有聚合性官能团的有机酸的酯化合物。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的红外线反射基板，其中，所述透明基材为挠性的透明薄膜。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的红外线反射基板，其中，可见光透过率为15％～50％。