TW201609376A - 紅外線反射基板 - Google Patents
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Abstract
紅外線反射基板(100)於透明膜基材(10)上依序具備以銀作為主成分之紅外線反射層(23)、及光吸收性金屬層(25)。光吸收性金屬層(25)之膜厚為15nm以下，透明保護層(30)之膜厚為10nm~120nm。光吸收性金屬層(25)與透明保護層(30)之間隔為25nm以下。根據本發明，可提供可見光反射率較低、視認性優異且生產性優異之紅外線反射基板。
Description
本發明係關於一種於透明基材上具備紅外線反射層等薄膜之紅外線反射基板。
先前以來，已知於玻璃或膜等基材上具備紅外線反射層之紅外線反射基板。作為紅外線反射層，就提高紅外線之選擇反射性之觀點而言，使用銀等金屬層。為使紅外線反射並且使可見光透過以確保透明性，於紅外線反射基板中，廣泛採用將作為紅外線反射層之金屬層與金屬氧化物層交替積層而成之構成。藉由調整金屬層或金屬氧化物層之膜厚，可使透過率及反射率具有波長選擇性，獲得能夠選擇性地反射紅外線且選擇性地使可見光透過之紅外線反射基板。又，於紅外線反射基板中，為化學性地保護形成於基材上之金屬層等，通常設置包含樹脂之透明保護層(面塗層)。
於紅外線反射基板中，藉由銀等金屬層將太陽光等之近紅外線反射而被賦予隔熱性。另一方面，為使紅外線反射基板具有絕熱性，重要的是降低放射率，利用紅外線反射層使遠紅外線反射至室內。用作紅外線反射層之透明保護層之樹脂層(有機物)通常包含C=C鍵、C=O鍵、C-O鍵、芳香族環等，且波長5μm~25μm之遠紅外線區域之紅外振動吸收較大。樹脂層所吸收之遠紅外線不會於金屬層反射，而藉由熱傳導以熱之形式擴散至室外。
為降低紅外線反射基板之放射率，於專利文獻1中提出有如下方
法：使用包含聚矽氮烷、氟烷基矽烷、氟矽烷等Si系材料之保護層，且將其厚度設為500nm以下，而減少保護層對遠紅外線之吸收量。另一方面，若減小保護層之厚度，則有對紅外線反射層之化學保護效果降低、紅外線反射層之耐久性降低之傾向。尤其是銀對氧、水分、氯等之耐久性較低，若以銀作為主成分之紅外線反射層劣化，則有紅外線反射基板之放射率上升(絕熱性降低)之傾向。因此，於專利文獻1中，提出藉由利用Ni-Cr合金等耐久性高之金屬層夾持包含銀等金屬之紅外線反射層之構成而提高紅外線反射層之耐久性。
將金屬層與金屬氧化物層交替積層而成之構成之紅外線反射基板難以完全地抑制可見光之反射，有可見光之反射導致視認性降低之情形。尤其於將紅外線反射基板用於櫥窗、展示櫃等之情形時，可見光之反射所致之視認性之降低會成為顯著問題。針對該情況，如專利文獻1所提出般，於作為紅外線反射層之金屬層上設置Ni-Cr合金等光吸收性金屬層，藉此可減少可見光之反射，改善視認性。
又，於專利文獻2中，揭示有藉由紅外線反射基板具備法布里-伯羅干涉(Fabry-Perot interference)積層體而使可見光之反射率降低。法布里-伯羅干涉積層體中，於2層金屬層(反射鏡層)之間夾持有間隔層，藉由調整該間隔層之光學膜厚，可選擇性地使特定波長範圍之光透過，且反射其他波長範圍之光。
[專利文獻1]WO2011/109306號國際公開說明書(圖2等)
[專利文獻2]WO2004/017700號國際公開說明書
如專利文獻1般於紅外線反射層上設置光吸收性金屬層之構成於
提高紅外線反射層之耐久性並且能降低可見光之反射率之方面有用。然而，利用光吸收性金屬層之反射率降低主要源於可見光線之吸收，因此若增大光吸收性金屬層之膜厚，則有可見光線透過率降低而喪失透明性之問題。
作為抑制透明性之降低並且降低可見光線之反射率之方法，例如有使金屬層與金屬氧化物層之積層數增大之方法。越增加積層數，越能更嚴格地控制反射率之波長選擇性，因此可提高紅外線之反射率而提高隔熱性及絕熱性，並且使可見光線之反射率降低而改善視認性。然而，積層數之增大會引起生產性降低或成本增大之問題。
專利文獻1之紅外線反射基板中，於Ni-Cr等金屬層與保護層之間，進而配置有膜厚為40nm~80nm左右之包含金屬氧化物之間隔層、或包含氮化矽、氧化矽、氮氧化矽等矽系合金之膜厚10nm左右之矽基底層。專利文獻1中並未明確記載間隔層或基底層之作用，推測其等之目的在於利用專利文獻2等所揭示之法布里-伯羅干涉而調整紅外線反射基板之反射率或透過率。
為藉由法布里-伯羅干涉而使可見光透過且使紅外線反射，必須將間隔層之光學膜厚設為100nm左右或其以上。金屬氧化物或矽系合金之折射率為1.7~2.3左右，為將間隔層之光學膜厚設為100nm以上，物理膜厚必須為50nm左右。金屬氧化物或矽系合金之導電性較低，利用濺鍍之製膜速度較小，因此製造膜厚50nm左右之間隔層會成為生產性降低或成本增大之原因。
如此，於先前之紅外線反射基板中，為提高反射率之波長選擇性以提高視認性，必須犧牲生產性或成本而使金屬氧化物層等之積層數增大或者增大膜厚。鑒於該現狀，本發明之目的在於提供一種紅外線反射基板，其可見光之反射率較小，視認性優異，且不會使紅外線反射層與透明保護層之間之金屬氧化物層等之膜厚增大，生產性優異。
鑒於上述情況，本發明者等人進行努力研究，結果發現，藉由調整形成於紅外線反射基板之表面之透明保護層(面塗層)之膜厚，除賦予對紅外線反射層之化學保護效果以外，亦可賦予可見光之反射率降低效果。發現藉此，即便於金屬層與透明保護層之間之金屬氧化物層等之厚度較小之情形時，或於金屬層與透明保護層直接相接之構成中，亦可獲得可見光之反射率得以降低之紅外線反射基板，從而完成本發明。
本發明係關於一種於透明基材上依序具備以銀作為主成分之紅外線反射層、光吸收性金屬層、及透明保護層之紅外線反射基板。本發明之紅外線反射基板較佳為光吸收性金屬層之膜厚為15nm以下。光吸收性金屬層與透明保護層之間隔較佳為25nm以下。作為透明基材，使用玻璃或可撓性透明膜等。就提高紅外線反射膜之生產性之觀點而言，可較佳地使用可撓性透明膜作為透明基材。
透明保護層較佳為膜厚為10nm~120nm。又，透明保護層較佳為以折射率與膜厚之乘積表示之光學膜厚為50nm~150nm。
作為光吸收性金屬層，可較佳地使用以鎳、鉻、或鎳-鉻合金作為主成分之金屬層。作為紅外線反射層，可較佳地使用相對於銀100重量份含有0.1重量份~10重量份之鈀之銀合金層。
於一實施形態之紅外線反射基板中，光吸收性金屬層與透明保護層直接相接。
於另一實施形態之紅外線反射基板中，於光吸收性金屬層與透明保護層之間，具備以金屬氧化物、金屬氮化物或金屬氮氧化物作為主成分之透明無機層。於該實施形態中，較佳為透明無機層與透明保護層直接相接。又，較佳為透明無機層與金屬層直接相接。透明無機層較佳為金屬氧化物層，其中，可較佳地使用包含氧化鋅及氧化錫之
複合金屬氧化物。
於本發明之紅外線反射基板之一實施形態中，透明保護層為具有源於同一分子中具有酸性基及聚合性官能基之酯化合物之交聯結構的有機物層。於該形態中，透明保護層中之源於酯化合物之結構之含量較佳為1重量%~20重量%。作為酯化合物，可較佳地使用磷酸與具有聚合性官能基之有機酸之酯化合物。
本發明之紅外線反射基板之透過率較佳為15%~50%。
關於本發明之紅外線反射基板，紅外反射層上之光吸收性金屬層之光吸收與透明保護層之抗反射效果相輔相成而使可見光之反射率降低，從而具有較高之視認性。因此，無需於光吸收性金屬層與透明保護層之間設置膜厚較大之金屬氧化物層等，可將光吸收性金屬層與透明保護層之間隔設為25nm以下，因此生產性優異。
10‧‧‧透明基材
11‧‧‧透明膜
12‧‧‧硬化樹脂層
21‧‧‧金屬氧化物層
23‧‧‧紅外線反射層
25‧‧‧光吸收性金屬層
27‧‧‧透明無機層(金屬氧化物層)
30‧‧‧透明保護層
50‧‧‧窗
60‧‧‧接著劑層
80‧‧‧供暖器具
100‧‧‧紅外線反射基板
101‧‧‧紅外線反射基板
102‧‧‧紅外線反射基板
FIR‧‧‧遠紅外線
NIR‧‧‧近紅外線
t‧‧‧間隔
VIS‧‧‧可見光
圖1係模式性地表示一實施形態之紅外線反射基板之積層構成之剖視圖。
圖2係模式性地表示一實施形態之紅外線反射基板之積層構成之剖視圖。
圖3係模式性地表示紅外線反射基板之使用例之剖視圖。
圖1係模式性地表示紅外線反射基板之構成例之剖視圖。如圖1所示，紅外線反射基板101於透明基材10之一主面上具備紅外線反射層23。於透明基材10與紅外線反射層23之間，可如圖1所示般存在金屬氧化物層21等。又，透明基材10與紅外線反射層23亦可直接相接。
於紅外線反射層23上形成有光吸收性金屬層25。於圖1所示之形態中，於光吸收性金屬層25上，介隔透明無機層27形成有透明保護層
30。本發明之紅外線反射基板中，光吸收性金屬層與透明保護層之間隔為25nm以下。即，於圖1所示之形態中，配置於光吸收性金屬層25與透明保護層30之間之透明無機層27之膜厚t為25nm以下。
於圖2所示之紅外線反射基板102中，於光吸收性金屬層25上直接形成有透明保護層30。於圖2所示之形態中，光吸收性金屬層25與透明保護層30之間隔為0。
如上所述，本發明之紅外線反射基板於光吸收性金屬層25與透明保護層30之間不具有其他層，或者即便於形成有透明無機層27等之情形時，其膜厚亦為25nm以下。如此，本發明之紅外線反射基板於其製造步驟中，無需於金屬層上形成膜厚較大之金屬氧化物層等，因此生產性優異。
圖3係模式性地表示紅外線反射基板之使用形態之一例之剖視圖。於該使用形態中，紅外線反射基板100係將透明基材10側經由適當之接著劑層60等貼合於窗50，且配置於建築物或汽車之窗50之室內側而使用。如圖3模式性地表示，紅外線反射基板100使來自屋外之可見光(VIS)透過而將其導入至室內，並且利用紅外線反射層23反射來自屋外之近紅外線(NIR)。藉由近紅外線反射，可抑制起因於太陽光等之來自室外之熱朝室內之流入(可發揮隔熱效果)，因此可提高夏季之製冷效率。進而，紅外線反射層反射自供暖器具80等放射之室內之遠紅外線(FIR)，因此發揮絕熱效果，可提高冬季之供暖效率。
以下，依序對各層之構成或材料等之較佳形態進行說明。
[透明基材]
作為透明基材10，適宜使用可見光線透過率為80%以上者。再者，於本說明書中，可見光線透過率係依據JIS A5759-2008(建築窗玻璃用膜)進行測定。
透明基材10之厚度並無特別限定，例如為10μm~10mm左右。
作為透明基材，使用玻璃板或可撓性透明樹脂膜等。尤其就提高紅外線反射基板之生產性、且使對窗玻璃等貼合紅外線反射基板時容易施工之觀點而言，適宜使用可撓性透明樹脂膜。於使用透明樹脂膜作為透明基材之情形時，其厚度較佳為10μm~300μm左右之範圍。又，於透明基材10上形成金屬層或金屬氧化物層等時，有於高溫下進行加工之情況，因此構成透明樹脂膜基材之樹脂材料較佳為耐熱性優異者。作為構成透明樹脂膜基材之樹脂材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯(PC)等。
於透明基材10為透明樹脂膜基材之情形時，為提高紅外線反射基板之機械強度等，適宜使用於透明膜11之表面具備硬化樹脂層12者。又，藉由在透明膜11之紅外線反射層23形成面側具備硬化樹脂層12，有使紅外線反射層23、或形成於其上之透明保護層30等之耐擦傷性提高之傾向。硬化樹脂層12可藉由將例如丙烯酸系、聚矽氧系等適當之紫外線硬化型樹脂之硬化被膜附設於透明膜11上之方式等而形成。作為硬化樹脂層12，適宜使用硬度較高者。
為提高密接性等，亦可於透明基材10之紅外線反射層23形成面側進行電暈處理、電漿處理、火焰處理、臭氧處理、底塗處理、輝光處理、皂化處理、利用偶合劑之處理等表面改質處理。
[紅外線反射層]
於透明基材10上形成有紅外線反射層23。紅外線反射層23可直接形成於透明基材10上。又，如圖1及圖2所示，亦可於透明基材10上形成金屬氧化物層21等，於該金屬氧化物層21上形成紅外線反射層23。紅外線反射層23具有藉由反射近紅外線而賦予隔熱性、及藉由反射遠紅外線而賦予絕熱性之作用。
作為紅外線反射層23，使用以銀作為主成分之金屬層。銀具有
較高之自由電子密度，因此對近紅外線、遠紅外線之兩者均可實現較高之反射率，而獲得隔熱效果及絕熱效果優異之紅外線反射基板。
紅外線反射層23中之銀含量較佳為90重量%以上，更佳為93重量%以上，進而較佳為95重量%以上。藉由提高金屬層中之銀含量，可提高透過率及反射率之波長選擇性，提高紅外線反射基板之可見光線透過率。
紅外線反射層23亦可為含有銀以外之金屬之銀合金層。例如，有為提高紅外線反射層之耐久性而使用銀合金之情形。作為出於提高耐久性之目的而添加之金屬，較佳為鈀(Pd)、金(Au)、銅(Cu)、鉍(Bi)、鍺(Ge)、鎵(Ga)等。其中，就對銀賦予較高之耐久性之觀點而言，最佳為使用Pd。若增加Pd等之添加量，則有金屬層之耐久性提高之傾向。於紅外線反射層23含有Pd等除銀以外之金屬之情形時，其含量較佳為0.1重量%以上，更佳為0.5重量%以上，進而較佳為1重量%以上，尤佳為2重量%以上。另一方面，若Pd等之添加量增加而銀之含量降低，則有紅外線反射基板之可見光線透過率降低之傾向。因此，紅外線反射層23中之銀以外之金屬之含量較佳為10重量%以下，更佳為7重量%以下，進而較佳為5重量%以下。
就使紅外線反射基板具有充分之隔熱性及絕熱性之觀點而言，紅外線反射層23之膜厚較佳為3nm以上，更佳為5nm以上，進而較佳為10nm以上。紅外線反射層23之膜厚之上限並無特別限定，若考慮可見光線透過率及生產性，則較佳為30nm以下，更佳為25nm以下，進而較佳為20nm以下。
紅外線反射層23之製膜方法並無特別限定，較佳為利用濺鍍法、真空蒸鍍法、CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法、電子束蒸鍍法等乾式製程之製膜。其中，紅外線反射層23較佳為藉由濺鍍法而製膜。
[光吸收性金屬層]
於紅外線反射層23上形成有光吸收性金屬層25。光吸收性金屬層25係作為紅外線反射層23之保護層而發揮作用，並且具有使可見光線之反射率降低、提高具備紅外線反射基板之窗玻璃等之視認性的作用。
作為光吸收性金屬層25，可較佳地使用以鎳(Ni)、鉻(Cr)、或Ni-Cr合金作為主成分之金屬層。該等金屬藉由吸收可見光而降低紅外線反射基板之可見光線反射率，並且亦可具備作為紅外線反射層23之保護層之功能。又，該等金屬之遠紅外線之吸收率較小，因此亦具有保持紅外線反射基板之放射率較低、提高絕熱性之作用。光吸收性金屬層25較佳為Ni含量與Cr含量之合計為50重量%以上，更佳為60重量%，進而較佳為70重量%以上，尤佳為80重量%以上。光吸收性金屬層25尤佳為Ni與Cr之含量為上述範圍之Ni-Cr合金。Ni-Cr合金除Ni及Cr以外，亦可含有Ta、Ti、Fe、Mo、Co、Cu、W等金屬。
光吸收性金屬層25之膜厚較佳為15nm以下，更佳為10nm以下，進而較佳為8nm以下，尤佳為6nm以下。若光吸收性金屬層25之膜厚為上述範圍，則光吸收性金屬層對可見光之吸收不會過度增大，可保持紅外線反射基板之透明性。又，若光吸收性金屬層之膜厚超過15nm，則儘管可見光之吸收增加，但多重干涉所致之可見光之反射率增大。即，若光吸收性金屬層之膜厚過大，則可見光之吸收及反射增大，隨之有可見光之透過率大幅降低、視認性降低之傾向。就該觀點而言，光吸收性金屬層之膜厚亦較佳為15nm以下。
光吸收性金屬層25之膜厚較佳為2nm以上，更佳為3nm以上。若光吸收性金屬層25之膜厚為2nm以上，則對紅外線反射層23之保護性提高，藉此紅外線反射層23之劣化得到抑制，並且因可見光之反射率降低，紅外線反射基板之視認性提高。
光吸收性金屬層25之製膜方法並無特別限定，較佳為利用濺鍍法、真空蒸鍍法、CVD法、電子束蒸鍍法等乾式製程之製膜。其中，光吸收性金屬層25較佳為與紅外線反射層23同樣地藉由濺鍍法而製膜。
[透明保護層]
為賦予紅外線反射層23或光吸收性金屬層25之擦傷防止或化學保護作用，而於光吸收性金屬層25上設置有透明保護層30。透明保護層30較佳為除具有較高之可見光線透過率以外，遠紅外線之吸收較小。若遠紅外線之吸收較大，則室內之遠紅外線被透明保護層所吸收，不被紅外線反射層反射而藉由熱傳導向外部放熱，因此有絕熱性降低之傾向。另一方面，若透明保護層30對遠紅外線之吸收較少，則室內之遠紅外線被紅外線反射層23反射至室內，因此絕熱效果提高。
於本發明中，透明保護層30之膜厚為10nm~120nm。於透明保護層之膜厚較小，為120nm以下之情形時，透明保護層30幾乎不吸收遠紅外線，從而紅外線反射基板之絕熱性提高。又，藉由將透明保護層30之膜厚設為10nm以上，對紅外線反射層23等之化學耐久性或耐擦傷得以提高。
進而，於本發明中，藉由將透明保護層30之膜厚設為上述範圍，可賦予作為抗反射層之作用，即，利用於透明保護層30之表面側之反射光與於光吸收性金屬層25側之界面之反射光之多重反射干涉，使可見光線之反射率降低。因此，無需為調整可見光之反射率而於紅外線反射層上形成膜厚較大之金屬氧化物層等，從而紅外線反射基板之生產性提高。
為使可見光之反射率降低，透明保護層30之光學膜厚(折射率與物理膜厚之乘積)較佳為50nm~150nm，更佳為70nm~130nm，進而較佳為80nm~120nm。若透明保護層之光學膜厚為上述範圍，則
除透明保護層之抗反射效果提高以外，亦由於光學膜厚小於可見光之波長範圍，故而可抑制因於界面之多重反射干涉而使紅外線反射基板之表面看上去宛如彩虹之「彩虹現象」，從而紅外線反射基板之視認性提高。再者，折射率為波長590nm(Na-D線之波長)下之值。
於透明保護層為樹脂層之情形時，其折射率一般為1.3~1.7左右，因此就將光學膜厚設為上述範圍內而降低可見光之反射率之觀點而言，透明保護層30之厚度更佳為40nm~100nm，進而較佳為50nm~90nm，尤佳為55nm~85nm。
作為透明保護層30之材料，較佳為可見光線透過率較高且機械強度及化學強度優異者。就提高對紅外線反射層或光吸收性金屬層之擦傷防止或化學保護作用之觀點而言，較佳為樹脂材料。作為樹脂材料，例如可較佳地使用氟系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、酯系、環氧系、聚矽氧系等活性光線硬化型或熱硬化型有機樹脂、或有機成分與無機成分化學結合而成之有機-無機混合材料。
較佳為對透明保護層30之材料導入交聯結構。藉由形成交聯結構，透明保護層之機械強度及化學強度得以提高，對紅外線反射層等之保護功能增大。其中，較佳為導入源於同一分子中具有酸性基及聚合性官能基之酯化合物之交聯結構。
作為於同一分子中具有酸性基及聚合性官能基之酯化合物，可列舉磷酸、硫酸、草酸、琥珀酸、苯二甲酸、富馬酸、馬來酸等多元酸與分子中具有乙烯性不飽和基、矽烷醇基、環氧基等聚合性官能基及羥基之化合物的酯。再者，該酯化合物亦可為二酯或三酯等多元酯，較佳為多元酸之至少1個酸性基未被酯化。
於透明保護層30具有源於上述酯化合物之交聯結構之情形時，透明保護層之機械強度及化學強度得以提高，並且透明保護層30與光吸收性金屬層25之間、或者透明保護層30與透明無機層27之間之密接
性得以提高，從而可提高紅外線反射層之耐久性。於上述酯化合物中，磷酸與具有聚合性官能基之有機酸之酯化合物(磷酸酯化合物)與金屬層或金屬氧化物層之密接性優異。尤其是具有源於磷酸酯化合物之交聯結構之透明保護層與金屬氧化物之密接性優異。因此，於透明保護層30具有源自磷酸酯化合物之交聯結構之情形時，紅外線反射基板較佳為如圖2所示般於光吸收性金屬層25上具備透明無機層27，且於該透明無機層27上形成透明保護層30。透明保護層30與金屬氧化物層27之密接性之提高係源於酯化合物中之酸性基顯示出與金屬氧化物之較高之親和性，其中，磷酸酯化合物中之磷酸羥基與金屬氧化物層之親和性優異，因此推定密接性提高。
就提高透明保護層30之機械強度及化學強度之觀點而言，上述酯化合物較佳為含有(甲基)丙烯醯基作為聚合性官能基。又，就容易導入交聯結構之觀點而言，上述酯化合物亦可於分子中具有複數個聚合性官能基。作為上述酯化合物，例如適宜使用下述式(1)所表示之磷酸一酯化合物或磷酸二酯化合物。再者，亦可將磷酸一酯與磷酸二酯併用。
式中，X表示氫原子或甲基，(Y)表示-OCO(CH2)5-基。n為0或1，p為1或2。
透明保護層30中之源於上述酯化合物之結構之含量較佳為1重量%~20重量%，更佳為1.5重量%~17.5重量%，進而較佳為2重量%~15重量%，尤佳為2.5重量%~12.5重量%。若源自酯化合物之結構之含量過少，則有無法充分獲得強度或密接性之提昇效果之情形。另一
方面，若源自酯化合物之結構之含量過多，則有形成透明保護層時之硬化速度變小而硬度降低、或者透明保護層表面之滑動性降低而耐擦傷性降低之情形。透明保護層中之源於酯化合物之結構之含量可藉由於形成透明保護層時調整組合物中之上述酯化合物之含量而設為所需之範圍。
透明保護層30之形成方法並無特別限定。透明保護層較佳為例如藉由如下方法形成：使有機樹脂或者有機樹脂之硬化性單體或低聚物、及上述酯化合物溶解於溶劑而調整溶液，將該溶液塗佈於光吸收性金屬層25上或透明無機層27上並使溶劑乾燥，其後藉由照射紫外線或電子束等或者賦予熱能而使其硬化。
再者，作為透明保護層30之材料，除上述有機材料、無機材料、及酯化合物以外，亦可包含矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑、調平劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、熱穩定劑、潤滑劑、塑化劑、防著色劑、阻燃劑、抗靜電劑等添加劑。該等添加劑之含量可於無損本發明之目的之範圍內適當調整。
如以上所說明般，於本案發明之紅外線反射基板中，光吸收性金屬層之光吸收與透明保護層之抗反射效果相輔相成而降低可見光之反射率，改善視認性。因此，無需於光吸收性金屬層25與透明保護層30之間形成可作為法布里-伯羅干涉之間隔層發揮作用之膜厚較大之金屬氧化物層，從而紅外線反射基板之生產性提高。
[光吸收性反射層與透明保護層之間之層構成]
關於本發明之紅外線反射基板，只要光吸收性金屬層25與透明保護層30之間隔t為25nm以下，則其層構成並無特別限定。可如圖2所示般於光吸收性金屬層25上直接形成有透明保護層30，亦可如圖1所示般於光吸收性金屬層25與透明保護層30之間形成有透明無機層27等。又，亦可於光吸收性金屬層25與透明保護層30之間形成有複數層
金屬層或透明無機層等。再者，就提高紅外線反射基板之生產性之觀點而言，形成於光吸收性金屬層25與透明保護層30之間之層較佳為單層。光吸收性金屬層25與透明保護層30之間隔t較佳為20nm以下，更佳為15nm以下，進而較佳為10nm以下。再者，亦可為如下形態：透明無機層27之膜厚之最小值為0，如圖2所示般於光吸收性金屬層25上直接形成有透明保護層30。
<透明無機層>
紅外線反射基板101於光吸收性金屬層25與透明保護層30之間具備透明無機層27之情形時，作為透明無機層27之材料，可較佳地使用以金屬氧化物、金屬氮化物及金屬氮氧化物等作為主成分者。
作為構成透明無機層27之金屬氧化物，可使用In、Zn、Sn、Al、Ga、Tl、Ti、Zr、Hf、Ce、Sb、V、Nb、Ta、Si、Ge等之氧化物、或該等之複合氧化物(例如，氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅錫(ZTO)、摻鋁氧化鋅(AZO)、摻鎵氧化鋅(GZO)、摻銻氧化錫(ATO))等。作為金屬氮化物，例如可較佳地使用氮化矽。作為氮氧化物，可較佳地使用氮氧化矽或賽隆(SiAlON)等無機材料。
透明無機層27之製膜方法並無特別限定，較佳為利用濺鍍法、真空蒸鍍法、CVD法、電子束蒸鍍法等乾式製程之製膜。其中，透明無機層27較佳為藉由濺鍍法而製膜，就生產性之觀點而言，尤佳為直流濺鍍。於透明基材10為可撓性膜，且紅外線反射層23、光吸收性金屬層25及透明無機層27均藉由直流濺鍍而製膜之情形時，若使用具備複數個製膜室之捲取式濺鍍裝置，則亦能夠以1行程形成該等各層。因此，可大幅提高紅外線反射基板之生產性。
透明無機層27可具有作為對紅外線反射層23或光吸收性金屬層25之保護層之作用。例如，透明無機層27作為對氧等之阻氣層發揮作用，可具有抑制紅外線反射層23或光吸收性金屬層25之因氧化導致之
劣化的作用。又，透明無機層27亦可具有如下作用，即，藉由使光吸收性金屬層25與透明保護層30之密接性提高，而提高透明保護層30對紅外線反射層23或光吸收性金屬層25之保護性能。
其中，如上所述，於透明保護層30具有源自磷酸酯化合物之交聯結構且透明無機層27為金屬氧化物之情形時，有密接性大幅提高，紅外線反射基板之耐久性提高之傾向。尤其於構成透明無機層27之金屬氧化物為包含氧化鋅及氧化錫之複合金屬氧化物之情形時，金屬氧化物本身之化學耐久性較高，且與透明保護層之密接性優異，因此有紅外線反射基板之耐久性顯著提高之傾向。
於透明無機層(金屬氧化物層)27含有包含氧化鋅及氧化錫之複合金屬氧化物之情形時，金屬氧化物層中之鋅原子之含量相對於金屬原子總量，較佳為10原子%~60原子%，更佳為15原子%~50原子%，進而較佳為20原子%~40原子%。若鋅原子(氧化鋅)之含量較少，則有金屬氧化物層成為結晶質而耐久性降低之情形。又，若鋅原子(氧化鋅)之含量較少，則有電阻變高之傾向，因此有藉由濺鍍法將金屬氧化物層製膜時之濺鍍靶之導電性降低，難以藉由直流濺鍍製膜之傾向。另一方面，若鋅原子之含量過多，則有與光吸收性金屬層25或透明保護層30之密接性降低之情形。
金屬氧化物層27中之錫原子之含量相對於金屬原子總量，較佳為30原子%~90原子%，更佳為40原子%~85原子%，進而較佳為50原子%~80原子%。若錫原子(氧化錫)之含量過少，則有金屬氧化物層之化學耐久性降低之傾向。另一方面，若錫原子(氧化錫)之含量過多，則有用於製膜之濺鍍靶之電阻變高而難以藉由直流濺鍍法製膜之傾向。
金屬氧化物層27除氧化鋅及氧化錫以外，亦可含有Ti、Zr、Hf、Nb、Al、Ga、In、Tl、Ga等金屬、或該等之金屬氧化物。該等金屬
或金屬氧化物可出於提高濺鍍製膜時之靶之導電性而增大製膜速率之目的、或提高金屬氧化物層之透明性等目的而添加。再者，金屬氧化物層中之氧化原子與錫原子之含量之合計相對於金屬原子總量，較佳為40原子%以上，更佳為50原子%以上，進而較佳為60原子%以上。
金屬氧化物層27之膜厚較佳為2nm以上，更佳為3nm以上。若膜厚為2nm以上，則有金屬氧化物層27對光吸收性金屬層25之覆蓋良好、密接性提高之傾向。金屬氧化物層27之膜厚為25nm以下。於金屬氧化物層之膜厚較大之情形時，會因製膜時間之增加而導致生產性降低。又，若使金屬氧化物層之膜厚過大，則有密接性反而降低之傾向。因此，金屬氧化物層27之膜厚較佳為於可確保金屬層與透明保護層之密接性之範圍內儘可能較小。具體而言，金屬氧化物層27之膜厚較佳為15nm以下，更佳為10nm以下，進而較佳為8nm以下。
如上所述，含有包含氧化鋅及氧化錫之複合金屬氧化物之金屬氧化物層較佳為藉由直流濺鍍法而製膜，尤佳為藉由使用含有金屬及金屬氧化物之靶之直流濺鍍法而將金屬氧化物層製膜。由於氧化鋅或氧化錫(尤其是氧化錫)之導電性較小，因此僅燒結該等金屬氧化物而成之氧化物靶之導電性較小，有於直流濺鍍中不產生放電或者難以長時間穩定地製膜之傾向。
含有金屬及金屬氧化物之靶可藉由將較佳為0.1重量%~20重量%、更佳為0.2重量%~15重量%之金屬與氧化鋅及/或氧化錫一併燒結而形成。若形成靶時之金屬含量過少，則靶之導電性不充分，有難以藉由直流濺鍍製膜、或者金屬氧化物層與紅外線反射層等之密接性降低之情形。若形成靶時之金屬含量過多，則有如下傾向：製膜時未被氧化之殘存金屬、或氧量不滿足化學計量組成之金屬氧化物之量增多，金屬氧化物層之可見光線透過率降低。靶形成材料中之金屬粉末亦可為除金屬鋅、金屬錫以外之金屬，但較佳為包含金屬鋅及金屬錫
中之至少任一者，尤佳為包含金屬鋅。再者，用作靶形成材料之金屬粉末會藉由燒結而氧化，因此亦可以金屬氧化物之形式存在於燒結靶中。
於藉由濺鍍法將金屬氧化物層製膜之情形時，將製膜室內抽真空後，於濺鍍製膜室內一面導入Ar等惰性氣體及氧一面進行製膜。金屬氧化物層製膜時對製膜室內之氧導入量相對於總導入氣體流量，較佳為8體積%以下，更佳為5體積%以下，進而較佳為4體積%以下。藉由減小氧導入量，可抑制成為金屬氧化物層27之基底之光吸收性金屬層或紅外線反射層23之氧化。又，藉由減小製膜金屬氧化物層27時之氧導入量，有金屬氧化物層27與光吸收性金屬層25之密接性提高之傾向。金屬氧化物層與金屬層之密接性提高之原因並不確定，推定以下情況有助於提高密接性，即，用以將靶中之金屬氧化而形成化學計量組成之金屬氧化物(氧化鋅(ZnO)及/或氧化錫(SnO2))之氧不足，而含有殘存金屬、或氧量不滿足化學計量組成之氧不足狀態之金屬氧化物。再者，氧導入量為相對於對配置有用於金屬氧化物層製膜之靶之製膜室之總氣體導入量的氧量(體積%)。於使用具備被遮蔽板所隔開之複數個製膜室之濺鍍製膜裝置之情形時，以對各個被隔開之製膜室之氣體導入量為基準算出氧導入量。
另一方面，若濺鍍製膜時之氧導入量過少，則有氧不足狀態之金屬氧化物之量增大、可見光線透過率降低之傾向。因此，濺鍍製膜時對製膜室內之氧導入量相對於總導入氣體流量，較佳為0.1體積%以上，更佳為0.5體積%以上，進而較佳為1體積%以上。
進而，於使用上述靶以特定之氧導入量藉由直流濺鍍將氧化鋅錫(ZTO)製膜之情形時，與將ITO或IZO等作為金屬氧化物製膜之情形相比，具有連續製膜時產生(附著)於靶上之粉末較少之優點。若粉末附著於靶表面，則會產生異常放電或濺鍍裝置內之污染，而無法獲得
具有穩定品質之膜。因此，於靶表面附著有粉末之情形時，必須暫時停止製膜而進行靶表面之研磨或濺鍍裝置之清掃作業等維護。又，於維護後再次開始製膜時，為將濺鍍製膜室真空化亦耗費時間。
藉由在連續製膜時抑制粉末附著於靶上，可使製膜室等之維護週期長期化(減少維護頻度)，因此可提高紅外線反射基板之生產效率。尤其於藉由捲取式濺鍍進行連續製膜之情形時，可降低濺鍍裝置之維護頻度而增大連續製膜長度，因此生產性可飛躍性地提高。
金屬氧化物層27之濺鍍製膜時之基板溫度較佳為低於透明膜基材之耐熱溫度。基板溫度例如較佳為20℃~160℃，更佳為30℃~140℃。濺鍍製膜時之功率密度例如較佳為0.1W/cm2~10W/cm2，更佳為0.5W/cm2~7.5W/cm2，進而較佳為1W/cm2~6W/cm2。又，製膜時之製程壓力例如較佳為0.01Pa~10Pa，更佳為0.05Pa~5Pa，進而較佳為0.1Pa~1Pa。若製程壓力過高，則有製膜速度降低之傾向，反之，若壓力過低，則有放電變得不穩定之傾向。
[透明基材與紅外線反射層之間之層構成]
透明基材10與紅外線反射層23之間之層構成並無特別限定，可於透明基材10上直接形成紅外線反射層23，亦可介隔其他層而於透明基材10上形成紅外線反射層23。
出於紅外線反射層等之耐久性提昇、或密接性提昇、光學調整等目的，可於透明基材10與紅外線反射層23之間設置金屬層或金屬氧化物層等。例如，亦可藉由如圖1及圖2所示般於透明基材10與紅外線反射層23之間設置金屬氧化物層21，而提高兩者之密接性，對紅外線反射基板賦予進一步之耐久性。
<金屬氧化物層>
作為設置於透明基材10與紅外線反射層23之間之金屬氧化物層21之材料，可較佳地使用作為構成透明無機層27之材料而於上文例示
之金屬氧化物。尤其是藉由在透明基材10與紅外線反射層23之間設置包含氧化鋅及氧化錫之複合金屬氧化物層，有透明基材10與紅外線反射層23之密接性提高之傾向。
於先前技術中，為提高包含銀等之紅外線反射層與其他層之密接性，進行有設置Ni-Cr等金屬層作為鄰接於紅外線反射層之底塗層，而提高與基材等之密接性。然而，若指脂成分等滲透至紅外線反射基板，則有於Ni-Cr等金屬層與基材之界面產生剝離之情形。相對於此，藉由在透明基材10上介隔ZTO等金屬氧化物層21而形成紅外線反射層23，密接性得以提高並且化學耐久性得以提高。因此，於指脂成分等滲透之情形時亦不易於界面產生剝離，有紅外線反射基板之耐久性提高之傾向。
金屬氧化物層21之製膜方法並無特別限定，較佳為利用濺鍍法、真空蒸鍍法、CVD法、電子束蒸鍍法等乾式製程之製膜。其中，金屬氧化物層21較佳為藉由濺鍍法而製膜，就生產性之觀點而言，尤佳為直流濺鍍。於形成包含氧化鋅及氧化錫之複合金屬氧化物層作為金屬氧化物層21之情形時，其組成或製膜方法可較佳地採用與關於金屬氧化物層27而於上文敍述者相同之條件。
亦可分別於透明基材10與金屬氧化物層21之間、及金屬氧化物層21與紅外線反射層23之間進而形成其他層。再者，本發明之紅外線反射基板較佳為於透明基材10與紅外線反射層23之間不具有金屬層。如上所述，藉由在透明基材10上具備ZTO等金屬氧化物層21，而使透明基材10與紅外線反射層23之密接性提高，因此無需特意另行設置Ni-Cr等金屬層(底塗層)。藉由使透明基材10與紅外線反射層23之間不具有金屬層，可提高紅外線反射基板之可見光線透過率。又，由於無需於透明基材10與紅外線反射層23之間另外形成金屬層，構成紅外線反射基板之薄膜之數量(種類)及合計膜厚減少，故而紅外線反射基板
之生產性提高。
就提高生產性之觀點而言，形成於透明基材10與紅外線反射層23之間之層較佳為單層。就提高密接性之觀點而言，較佳為透明基材10與金屬氧化物層21直接相接。同樣地，較佳為金屬氧化物層21與紅外線反射層23直接相接。綜上所述，於本發明之紅外線反射基板中，較佳為以直接相接之方式於透明基材10上形成金屬氧化物層21，且於該金屬氧化物層21上直接形成紅外線反射層23。
[紅外線反射基板之特性]
本發明之紅外線反射基板之自透明保護層30側測得之垂直放射率較佳為0.20以下，更佳為0.15以下，進而較佳為0.12以下，尤佳為0.10以下。
紅外線反射基板之可見光線透過率較佳為15%以上，更佳為20%以上，進而較佳為25%以上，尤佳為30%以上。另一方面，就提高隔熱性之觀點而言，可見光線透過率較佳為50%以下，更佳為45%以下，進而較佳為40%以下。如上所述，藉由在透明基材10與紅外線反射層23之間不具有光吸收性金屬層而僅於紅外線反射層23與透明保護層30之間具備光吸收性金屬層25之構成，可抑制可見光之反射，並且抑制可見光之吸收，可將可見光線透過率設為上述範圍。又，本發明之紅外線反射基板之可見光之反射率較佳為40%以下，更佳為35%以下，進而較佳為30%以下。
[用途]
如上所述，本發明之紅外線反射基板於透明基材10之一主面上具備紅外線反射層23、光吸收性金屬層25及透明保護層30，且視需要於該等層間具備其他層。本發明之紅外線反射基板可用於建築物或交通工具等之窗、放入植物等之透明箱、冷凍或冷蔵之展示櫃等，可具有提高冷暖房效果或防止急遽之溫度變化之作用。
如參照圖3於上文所說明般，本發明之紅外線反射膜100使來自屋外之可見光(VIS)透過而將其導入至室內，並且藉由紅外線反射層23將來自屋外之近紅外線(NIR)反射，藉此具有隔熱效果及絕熱效果。又，本發明之紅外線反射基板藉由具備光吸收性金屬層而使可見光之反射率降低，因此在用於展示櫃或櫥窗等之情形時，可賦予隔熱性及絕熱性而不使商品等之視認性降低。
於透明基材10為玻璃板等剛性體之情形時，可將紅外線反射基板直接嵌入至框體等而製成隔熱/絕熱窗。於透明基材10為可撓性膜之情形時，較佳為將紅外線反射基板與窗玻璃等剛性基材貼合而使用。再者，於透明基材為剛性體之情形時，亦可將紅外線反射基板與窗玻璃等其他剛性體貼合而使用。
亦可於透明基材10之與紅外線反射層23形成面為相反側之面，附設用於紅外線反射基板與窗玻璃等之貼合之接著劑層60等。作為接著劑層，適宜使用可見光線透過率較高、與透明基材10之折射率差較小者，例如，丙烯酸系之黏著劑(感壓接著劑)之光學透明性優異，顯示出適度之潤濕性、凝聚性及接著性，且耐候性或耐熱性等優異，故而適宜作為附設於透明膜基材之接著劑層之材料。
接著劑層較佳為可見光線透過率較高且紫外線透過率較小者。藉由降低接著劑層之紫外線透過率，可抑制因太陽光等之紫外線引起之紅外線反射層之劣化。就降低接著劑層之紫外線透過率之觀點而言，接著劑層較佳為含有紫外線吸收劑。再者，藉由使用含有紫外線吸收劑之透明膜基材等，亦可抑制因來自屋外之紫外線引起之紅外線反射層之劣化。接著劑層之露出面較佳為於將紅外線反射基板供於實用之前，暫時黏接有隔離件進行覆蓋以防止露出面之污染等。藉此，能於通例之處理狀態下防止接著劑層之露出面與外部之接觸所導致之污染。
再者，於透明基材10為可撓性膜之情形時，亦可例如日本專利特開2013-61370號公報所揭示般將紅外線反射基板嵌入至框體等而使用。於該形態下，無需於透明基材10附設接著劑層，因此不會產生接著劑層對遠紅外線之吸收。因此，藉由使用C=C鍵、C=O鍵、C-O鍵、芳香族環等官能基之含量較少之材料(例如環狀聚烯烴)作為透明基材10，可使來自透明基材10側之遠紅外線於紅外線反射層23反射，可對紅外線反射基板之兩面側賦予絕熱性。此種構成於例如冷蔵展示櫃或冷凍展示櫃等中尤其有用。
[實施例]
以下，列舉實施例更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於以下實施例。
[實施例、比較例中使用之測定方法]
<各層之膜厚>
金屬層、金屬氧化物層及透明保護層之膜厚係使用聚焦離子束加工觀察裝置(日立製作所製造，製品名「FB-2100」)，藉由聚焦離子束(FIB)法對試樣進行加工，並利用場發射型穿透式電子顯微鏡(日立製作所製造，製品名「HF-2000」)觀察試樣之剖面而求出。形成於基材上之硬塗層之膜厚係使用瞬間多通道測光系統(大塚電子製造，製品名「MCPD3000」)，根據使光自測定對象側入射時之可見光之反射率之干涉圖案利用計算而求出。
<可見光線透過率及反射率>
可見光線透過率及反射率係將使紅外線反射膜之透明膜基材側之面經由厚度25μm之黏著劑貼合於厚度3mm之玻璃板而成者用作試樣，並使用分光光度計(Hitachi High-Technologies Corporation製造，製品名「U-4100」)進行測定。但，實施例1之紅外線反射基板係不貼合玻璃板而直接用作測定試樣。透過率係依據JIS A5759-2008(建築窗
玻璃用膜)之透過率計算方法而算出。反射率係使光自透明保護層側以入射角5°入射，測定波長380nm~780nm之範圍之5°絕對反射率。
[實施例1]
於實施例1中，藉由以下所說明之方法製作紅外線反射基板，該紅外線反射基板於玻璃基板上具備包含ZTO之金屬氧化物層、Ag-Pd金屬層(紅外線反射層)、及Ni-Cr金屬層，且進而於其上具備透明樹脂保護層。
使用平行平板式濺鍍裝置，藉由直流磁控濺鍍法於玻璃基板上依序形成膜厚4nm之鋅-錫複合氧化物(ZTO)層、膜厚16nm之Ag-Pd合金層(紅外線反射層)、膜厚5nm之Ni-Cr合金層、及膜厚4nm之ZTO層。於形成ZTO層時，使用將氧化鋅、氧化錫及金屬鋅粉末以8.5：83：8.5之重量比燒結而成之靶，且於功率密度：2.67W/cm2、製程壓力：0.4Pa、基板溫度80℃之條件下進行濺鍍。此時，對濺鍍製膜室之氣體導入量係調整成Ar：O2成為98：2(體積比)。於形成Ag-Pd層時，使用以銀：鈀為96.4：3.6之重量比含有其等之金屬靶。於形成Ni-Cr層時，使用以鎳：鉻為80：20之重量比含有其等之金屬靶。
(透明樹脂保護層之形成)
於ZTO層上，以70nm之膜厚形成透明樹脂保護層，該透明樹脂保護層包含具有源於磷酸酯化合物之交聯結構之氟系紫外線硬化型樹脂。詳細而言，使用敷料器塗佈相對於丙烯酸系硬塗樹脂溶液(JSR製造，商品名「Opstar Z7540」)之固形物成分100重量份添加磷酸酯化合物(日本化藥製造，商品名「KAYAMER PM-21」)5重量份而成之溶液，於60℃下乾燥1分鐘後，於氮環境下利用超高壓水銀燈照射累計光量400mJ/cm2之紫外線，而進行硬化。硬化後之樹脂保護層之折射率為1.5。再者，上述磷酸酯化合物係於分子中具有1個丙烯醯基之磷酸一酯化合物(上述式(1)中，X為甲基、n=0、p=1之化合物)與於分
子中具有2個丙烯醯基之磷酸二酯化合物(上述式(1)中，X為甲基、n=0、p=2之化合物)的混合物。
[實施例2]
於實施例2中，作為透明基材，使用厚度50μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(Toray製造，商品名「Lumirror U48」、可見光線透過率93%)代替玻璃板，且使用捲取式濺鍍裝置進行金屬氧化物層及金屬層之製膜。除此以外，以與實施例1相同之方式製作於膜基材上依序具備ZTO金屬氧化物層、Ag-Pd金屬層、Ni-Cr金屬層、ZTO金屬氧化物層及透明樹脂保護層之紅外線反射膜。
[實施例3]
於實施例3中，使用於表面具備硬塗層之PET膜作為透明基材。於PET膜之一面以2μm之厚度形成丙烯酸系之紫外線硬化型硬塗層(日本曹達製造，NH2000G)。詳細而言，利用凹版塗佈機塗佈硬塗溶液，於80℃下乾燥後，利用超高壓水銀燈照射累計光量300mJ/cm2之紫外線，而進行硬化。
於上述附有硬塗層之PET膜之硬塗層形成面側，與實施例2同樣地使用捲取式濺鍍裝置將ZTO金屬氧化物層、Ag-Pd金屬層、Ni-Cr金屬層及ZTO金屬氧化物層製膜，並於其上形成透明樹脂保護層。
[實施例4]
除不於Ni-Cr金屬層上形成ZTO金屬氧化物層以外，以與實施例3相同之方式製作紅外線反射膜。
[實施例5、6]
除將Ni-Cr金屬層之膜厚如表1所示般變更以外，以與實施例4相同之方式製作紅外線反射膜。
[實施例7]
除將Ni-Cr金屬層上之ZTO金屬氧化物層之膜厚變更為15nm以
外，以與實施例3相同之方式製作紅外線反射膜。
[實施例8]
除將樹脂保護層之膜厚變更為10nm以外，以與實施例7相同之方式製作紅外線反射膜。
[比較例1]
除不於ZTO金屬氧化物層上形成樹脂保護層以外，以與實施例3相同之方式製作紅外線反射膜。
[比較例2、3]
除將樹脂保護層之膜厚如表1所示般變更以外，以與實施例4相同之方式製作紅外線反射膜。
[比較例4]
除將Ni-Cr金屬層之膜厚變更為20nm以外，以與實施例4相同之方式製作紅外線反射膜。
[比較例5]
除將Ni-Cr金屬層上之ZTO金屬氧化物層之膜厚變更為30nm以外，以與實施例3相同之方式製作紅外線反射膜。
[評價]
將上述各實施例及比較例之紅外線反射基板(紅外線反射膜)之積層構成、反射率及透過率之測定結果示於表1。於表1中，薄膜積層構成之括弧內之數字表示各層之膜厚(nm)。
本發明之實施例之紅外線反射膜中，Ni-Cr層與樹脂保護層(透明保護層)之間隔均為25nm以下，儘管實施例1~3、7、8之ZTO層不具有作為法布里-伯羅干涉積層體之間隔層而使可見光選擇透過之程度之較大膜厚，仍將可見光之反射率抑制為未達30%。
於實施例1~3中，變更了透明基材之種類，但可見光之透過率及反射率均顯示同等值。另一方面，由實施例3與比較例1(無透明保護層)之對比可知，於本發明之紅外線反射基板中，藉由透明保護層，反射率得以降低。又，由實施例4與比較例2、3之對比、或實施例7與實施例8之對比可知，藉由調整透明保護層之(光學)膜厚，反射率得以降低。
於實施例4~6(Ni-Cr層之膜厚為2nm~10nm)中，反射率大致同等，且發現隨著Ni-Cr層之膜厚變大，因光吸收之增大而透過率增大之傾向。另一方面，Ni-Cr之膜厚為20nm之比較例4中，儘管透過率較低，為11%，但與實施例4~6相比反射率增大。根據該等結果，可謂光吸收性金屬層之膜厚較佳為於能發揮對紅外線反射層之保護功能之範圍內，於15nm以下儘可能較小。
ZTO金屬氧化物層之膜厚為30nm之比較例5雖顯示出低反射率，但由於金屬氧化物層之膜厚較大，故而利用濺鍍之製膜耗費時間，生產性較低。根據該結果可知，根據本發明，藉由調整作為面塗層而形成之透明保護層之(光學)膜厚，可不降低生產性地獲得與增大金屬氧
化物層之膜厚之情形同等之抗反射效果。
10‧‧‧透明基材
11‧‧‧透明膜
12‧‧‧硬化樹脂層
21‧‧‧金屬氧化物層
23‧‧‧紅外線反射層
25‧‧‧光吸收性金屬層
27‧‧‧透明無機層(金屬氧化物層)
30‧‧‧透明保護層
101‧‧‧紅外線反射基板
t‧‧‧間隔
Claims (12)
- 一種紅外線反射基板，其係於透明基材上依序包含以銀作為主成分之紅外線反射層、光吸收性金屬層、及透明保護層者，上述光吸收性金屬層之膜厚為15nm以下，上述透明保護層之膜厚為10nm~120nm，且上述光吸收性金屬層與上述透明保護層之間隔為25nm以下。
- 如請求項1之紅外線反射基板，其中上述透明保護層之以折射率與膜厚之乘積表示之光學膜厚為50nm~150nm。
- 如請求項1之紅外線反射基板，其中上述光吸收性金屬層為以鎳、鉻、或鎳-鉻合金作為主成分之金屬層。
- 如請求項1之紅外線反射基板，其中上述紅外線反射層為相對於銀100重量份含有0.1重量份~10重量份之鈀之銀合金層。
- 如請求項1之紅外線反射基板，其中上述光吸收性金屬層與上述透明保護層直接相接。
- 如請求項1之紅外線反射基板，其中於上述光吸收性金屬層與上述透明保護層之間包含以金屬氧化物、金屬氮化物或金屬氮氧化物作為主成分之透明無機層，且上述透明無機層與上述透明保護層直接相接。
- 如請求項6之紅外線反射基板，其中上述透明無機層與上述金屬層直接相接。
- 如請求項6之紅外線反射基板，其中上述透明無機層含有包含氧化鋅及氧化錫之複合金屬氧化物。
- 如請求項1之紅外線反射基板，其中上述透明保護層為具有源於同一分子中具有酸性基及聚合性官能基之酯化合物之交聯結構的有機物層，且 上述透明保護層中之源於上述酯化合物之結構之含量為1重量%~20重量%。
- 如請求項9之紅外線反射基板，其中上述酯化合物為磷酸與具有聚合性官能基之有機酸之酯化合物。
- 如請求項1至10中任一項之紅外線反射基板，其中上述透明基材為可撓性透明膜。
- 如請求項1之紅外線反射基板，其可見光線透過率為15%~50%。
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