JP2018171914A - 遮熱断熱フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】耐クラック性および密着性に優れた遮熱断熱フィルムを提供する。【解決手段】本発明の遮熱断熱フィルムは、基材層と赤外線反射層を含む遮熱断熱フィルムであって、該基材層と該赤外線反射層の間に反射防止層を備え、該反射防止層が、テルル化鉛（ＰｂＴｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、ロジウム（Ｒｈ）、一窒化珪素（ＳｉＮ）、白金（Ｐｔ）、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、一炭化珪素（ＳｉＣ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、鉄（Ｆｅ）、三硫化アンチモン（Ｓｂ２Ｓ３）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、珪素（Ｓｉ）から選ばれる少なくとも１種を含む。【選択図】図１

Description

本発明は遮熱断熱フィルムに関する。

遮熱断熱フィルムは、遮熱機能と断熱機能を兼ね備えたフィルムである。このような遮熱断熱フィルムは、例えば、窓ガラスに貼着された場合、赤外線反射機能によって、室外から室内への日射熱（近赤外線）の流入、および、室内から室外への暖房熱（遠赤外線）の流出を抑制することができ、年間を通じての室内の快適性の向上と省エネルギー効果の向上を実現することができる。

このような遮熱断熱フィルムとして、近年、基材層と赤外線反射層を含む遮熱断熱フィルムが提案されている（特許文献１、２）。赤外線反射層は、例えば、金属層の両側に金属酸化物層を備える構成を有し、近赤外線の反射による遮熱性向上と遠赤外線の反射による断熱性向上を両立させることができる。

遮熱断熱フィルムには、赤外線反射機能に加えて、取り扱い時や保管時などに屈曲状態になった場合にクラックが生じない高い耐クラック性や、各層間で剥離が生じない高い密着性が求められる。

特開２０１６−９３８９２号公報 特開２０１６−９４０１２号公報

本発明の課題は、耐クラック性および密着性に優れた遮熱断熱フィルムを提供することにある。

本発明の遮熱断熱フィルムは、
基材層と赤外線反射層を含む遮熱断熱フィルムであって、
該基材層と該赤外線反射層の間に反射防止層を備え、
該反射防止層が、テルル化鉛（ＰｂＴｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、ロジウム（Ｒｈ）、一窒化珪素（ＳｉＮ）、白金（Ｐｔ）、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、一炭化珪素（ＳｉＣ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、鉄（Ｆｅ）、三硫化アンチモン（Ｓｂ２Ｓ３）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、珪素（Ｓｉ）から選ばれる少なくとも１種を含む。

一つの実施形態においては、上記赤外線反射層と上記反射防止層が直接に積層されてなる。

一つの実施形態においては、上記反射防止層層の厚みが３０ｎｍ以下である。

本発明によれば、耐クラック性および密着性に優れた遮熱断熱フィルムを提供することができる。

本発明の遮熱断熱フィルムの一つの実施形態を示す概略断面図である。 本発明の遮熱断熱フィルムの一つの実施形態を示す概略断面図である。 本発明の遮熱断熱フィルムの使用形態の一例を模式的に表す断面図である。

≪遮熱断熱フィルムの概要≫
本発明の遮熱断熱フィルムは、基材層と赤外線反射層を含み、該基材層と該赤外線反射層の間に反射防止層を備える。

図１は、本発明の遮熱断熱フィルムの一つの実施形態を示す概略断面図である。図１において、遮熱断熱フィルム１００は、基材層１０と反射防止層５０と赤外線反射層２０とを備える。

本発明の遮熱断熱フィルムは、基材層の赤外線反射層と反対の側、基材層と反射防止層との間、反射防止層と赤外線反射層との間、赤外線反射層の反射防止層と反対の側、のそれぞれに、必要に応じて、任意の適切な他の層を備えていてもよい。このような他の層は１層でもよいし、２層以上でもよい。また、このような他の層は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

図２は、本発明の遮熱断熱フィルムの一つの実施形態を示す概略断面図である。図２において、遮熱断熱フィルム１００は、基材層１０とアンダーコート層６０と反射防止層５０と赤外線反射層２０と保護トップコート層４０と保護フィルム７０とを備える。図２において、赤外線反射層２０は、第一金属酸化物層２２ａ、金属層２１、第二金属酸化物層２２ｂの３層からなる。

本発明の遮熱断熱フィルムは、基材層の赤外線反射層と反対の側に、粘着剤層を備えていてもよい。さらに、セパレータフィルムが、このような粘着剤層の表面に備えられていてもよい。

本発明の遮熱断熱フィルムは、好ましくは透明フィルムである。本発明の遮熱断熱フィルムの可視光線透過率は、好ましくは３０％〜８５％であり、より好ましくは４５％〜８０％であり、さらに好ましくは５５％〜８０％であり、特に好ましくは５５％〜７５％である。なお、可視光線透過率は、ＪＩＳ−Ａ５７５９−２００８（建築窓ガラス用フィルム）に準じて測定される。

≪基材層≫
基材層は、好ましくは透明フィルムであり、より好ましくは可撓性の透明フィルムである。基材層の可視光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは８８％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。なお、可視光線透過率は、ＪＩＳ−Ａ５７５９−２００８（建築窓ガラス用フィルム）に準じて測定される。

基材層の厚みは、好ましくは５μｍ〜５００μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜３００μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ〜２００μｍであり、特に好ましくは３０μｍ〜１００μｍである。

基材層を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などが挙げられ、耐熱性に優れる等の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。

≪アンダーコート層≫
基材層の赤外線反射層の側の表面上には、アンダーコート層が備えられていてもよい。基材層の表面上にアンダーコート層が備えられていることにより、本発明の遮熱断熱フィルムの機械的強度が高められ得るとともに、本発明の遮熱断熱フィルムの耐擦傷性が高められ得る。

アンダーコート層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜５μｍであり、より好ましくは０．２μｍ〜５μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ〜３μｍであり、特に好ましくは０．５μｍ〜３μｍであり、最も好ましくは１μｍ〜２μｍである。アンダーコート層の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の遮熱断熱フィルムの機械的強度が高められ得るとともに、本発明の遮熱断熱フィルムの耐擦傷性がより高められ得る。

アンダーコート層は、好ましくは硬化型樹脂の硬化被膜であり、例えば、任意の適切な紫外線硬化型樹脂の硬化被膜を基材層上に付設する方式により形成できる。このような硬化型樹脂としては、例えば、アクリル系紫外線硬化型樹脂、シリコーン系紫外線硬化型樹脂などが挙げられる。

アンダーコート層の表面（基材層と反対の側）には、密着性向上等の目的で、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、ケン化処理、カップリング剤による処理などの表面改質処理が行われてもよい。

≪反射防止層≫
本発明の遮熱断熱フィルムは、基材層と赤外線反射層の間に特定の反射防止層を備える。このような特定の反射防止層が備えられていることにより、本発明の遮熱断熱フィルムは、耐クラック性および密着性に優れる。

反射防止層は、好ましくは、赤外線反射層と直接に積層されてなる。反射防止層が赤外線反射層と直接に積層されてなることにより、本発明の遮熱断熱フィルムは、耐クラック性および密着性により優れる。

反射防止層は、好ましくは、基材層または基材層上に設けられたアンダーコート層と直接に積層されてなる。反射防止層が基材層または基材層上に設けられたアンダーコート層と直接に積層されてなることにより、本発明の遮熱断熱フィルムは、耐クラック性および密着性により優れる。特に、反射防止層が基材層上に設けられたアンダーコート層と直接に積層されてなることにより、本発明の遮熱断熱フィルムは、耐クラック性により優れるとともに、アンダーコート層との密着性により優れる。

反射防止層の厚みは、好ましくは３０ｎｍ以下であり、より好ましくは１ｎｍ〜２５ｎｍであり、さらに好ましくは１ｎｍ〜２０ｎｍであり、さらに好ましくは１ｎｍ〜１５ｎｍであり、特に好ましくは１ｎｍ〜１０ｎｍであり、最も好ましくは１ｎｍ〜８ｎｍである。反射防止層の厚みがこの範囲内にあれば、本発明の遮熱断熱フィルムは、耐クラック性および密着性により優れる。

反射防止層は、テルル化鉛（ＰｂＴｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、ロジウム（Ｒｈ）、一窒化珪素（ＳｉＮ）、白金（Ｐｔ）、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、一炭化珪素（ＳｉＣ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、鉄（Ｆｅ）、三硫化アンチモン（Ｓｂ２Ｓ３）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、珪素（Ｓｉ）から選ばれる少なくとも１種を含む。反射防止層がこのような特定の無機物を含むことにより、本発明の遮熱断熱フィルムは、耐クラック性および密着性に優れる。

反射防止層中の、テルル化鉛（ＰｂＴｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、ロジウム（Ｒｈ）、一窒化珪素（ＳｉＮ）、白金（Ｐｔ）、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、一炭化珪素（ＳｉＣ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、鉄（Ｆｅ）、三硫化アンチモン（Ｓｂ２Ｓ３）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、珪素（Ｓｉ）から選ばれる少なくとも１種の含有割合は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは５０重量％〜１００重量％であり、より好ましくは７０重量％〜１００重量％であり、さらに好ましくは９０重量％〜１００重量％であり、特に好ましくは９５重量％〜１００重量％であり、最も好ましくは実質的に１００重量％である。

反射防止層は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）、一炭化珪素（ＳｉＣ）、珪素（Ｓｉ）から選ばれる少なくとも１種である。

反射防止層の製膜方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。このような製膜方法としては、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、電子線蒸着法等のドライプロセスによる製膜方法が挙げられる。反射防止層の製膜方法としては、好ましくは、直流スパッタ法による製膜方法である。直流スパッタ法による製膜方法を採用する場合、複数の製膜室を備える巻取り式スパッタ装置を用いれば、これら複数層を１パスで形成することが可能となる。このため、反射防止層の生産性が大幅に向上し得るだけでなく、ひいては、本発明の遮熱断熱フィルムの生産性が大幅に向上し得る。

≪赤外線反射層≫
赤外線反射層は、近赤外線の反射による遮熱性向上と遠赤外線の反射による断熱性向上を両立させることができる層であれば、任意の適切な層を採用し得る。

赤外線反射層の一つの実施形態は、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層をこの順に備え、第一金属酸化物層および第二金属酸化物層は金属層に直接積層されてなる。この実施形態においては、赤外線反射層は、好ましくは、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層の３層からなり、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層をこの順に備える。このような赤外線反射層の一つの実施形態は、例えば、特開２０１６−９３８９２号公報、特開２０１６−９４０１２号公報などに記載の実施形態を援用し得る。

金属層は、赤外線反射の中心的な役割を有する。積層数を増加させることなく可視光線透過率と近赤外線反射率を高める観点から、金属層は、好ましくは、銀を主成分とする銀合金層または金を主成分とする金合金層である。銀は高い自由電子密度を有するため、近赤外線・遠赤外線の高い反射率を実現することができる。したがって、赤外線反射層を構成する層の積層数が少ない場合でも、近赤外線の反射による遮熱性向上と遠赤外線の反射による断熱性向上を両立させることができる。

金属層が銀を主成分とする銀合金層である場合、金属層中の銀の含有割合は、好ましくは８５重量％〜９９．９重量％であり、より好ましくは９０重量％〜９９．８重量％であり、さらに好ましくは９５重量％〜９９．７重量％であり、特に好ましくは９７重量％〜９９．６重量％である。金属層中の銀の含有割合が高いほど、透過率および反射率の波長選択性を高め、可視光線透過率を高めることができる。一方、銀は、水分、酸素、塩素等が存在する環境下に暴露された場合や、紫外光や可視光が照射された場合に、酸化や腐食等の劣化を生じる場合がある。このため、金属層は、耐久性を高める目的で、銀以外の金属を含有する銀合金層であることが好ましく、具体的には、上記のように、金属層中の銀の含有割合が９９．９重量％以下であることが好ましい。

金属層が銀を主成分とする銀合金層である場合、金属層は、上記のように、耐久性を高める目的から、銀以外の金属を含有することが好ましい。金属層中の銀以外の金属の含有割合は、好ましくは０．１重量％〜１５重量％であり、より好ましくは０．２重量％〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．３重量％〜５重量％であり、特に好ましくは０．４重量％〜３重量％である。銀以外の金属としては、例えば、パラジウム（Ｐｄ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、ビスマス（Ｂｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ガリウム（Ｇａ）などが挙げられ、高い耐久性を付与できる観点から、パラジウム（Ｐｄ）が好ましい。

金属酸化物層（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層）は、金属層との界面における可視光線の反射量を制御して、高い可視光線透過率と高い赤外線反射率とを両立させる等の目的で設けられる。金属酸化物層は、金属層の劣化を防止するための保護層としても機能し得る。赤外線反射層における反射および透過の波長選択性を高める観点から、金属酸化物層の可視光に対する屈折率は、好ましくは１．５以上であり、より好ましくは１．６以上であり、さらに好ましくは１．７以上である。

金属酸化物層（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層）は、好ましくは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｎ等の金属の酸化物、あるいはこれらの金属の複合酸化物を含む。金属酸化物層は、より好ましくは、酸化亜鉛を含有する複合金属酸化物を含む。金属酸化物層は、好ましくは非晶質である。金属酸化物層が酸化亜鉛を含有する非晶質層である場合、金属酸化物層自体の耐久性が高められるとともに、金属層に対する保護層としての作用が増大するため、金属層の劣化が抑制され得る。

金属酸化物層（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層）は、特に好ましくは、酸化亜鉛を含有する複合金属酸化物である。この場合、金属酸化物層中（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層のそれぞれ中）の酸化亜鉛の含有割合は、金属酸化物の合計１００重量部に対して、好ましくは３重量部以上であり、より好ましくは５重量部以上であり、さらに好ましくは７重量部以上である。酸化亜鉛の含有割合が上記範囲内にあれば、金属酸化物層が非晶質層となりやすく、耐久性が高められる傾向がある。一方、酸化亜鉛の含有割合が過度に大きいと、耐久性が低下したり、可視光線透過率が低下したりするおそれがある。そのため、金属酸化物層中の酸化亜鉛の含有割合は、金属酸化物の合計１００重量部に対して、好ましくは６０重量部以下でありより好ましくは５０重量部以下であり、さらに好ましくは４０重量部以下である。

酸化亜鉛を含有する複合金属酸化物としては、可視光線透過率、屈折率、耐久性の全てを満足し得る観点から、インジウム−亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛−錫複合酸化物（ＺＴＯ）、インジウム−錫−亜鉛複合酸化物（ＩＴＺＯ）が好ましい。これらの複合酸化物は、さらに、ＡｌやＧａ等の金属や、これらの金属の酸化物を含有していてもよい。

金属層および金属酸化物層（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層）の厚みは、赤外線反射層が、可視光線を透過し近赤外線を選択的に反射するように、材料の屈折率等を勘案して適宜に設定され得る。金属層の厚みは、好ましくは５ｎｍ〜５０ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍであり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜１８ｎｍである。金属酸化物層の厚み（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層のそれぞれの厚み）は、好ましくは１ｎｍ〜８０ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは１ｎｍ〜３０ｎｍであり、特に好ましくは２ｎｍ〜１０ｎｍである。本発明の遮熱断熱フィルムは、好ましくは機械的強度が高められ得るので、金属酸化物層の厚み（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層のそれぞれの厚み）を従来品レベルよりも薄くすることが可能となる。

金属層および金属酸化物層の製膜方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。このような製膜方法としては、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、電子線蒸着法等のドライプロセスによる製膜方法が挙げられる。金属層および金属酸化物層の製膜方法としては、好ましくは、直流スパッタ法による製膜方法である。直流スパッタ法による製膜方法を採用する場合、複数の製膜室を備える巻取り式スパッタ装置を用いれば、これら複数層を１パスで形成することが可能となる。このため、赤外線反射層の生産性が大幅に向上し得るだけでなく、ひいては、本発明の遮熱断熱フィルムの生産性が大幅に向上し得る。また、直流スパッタするターゲットは、導電性を付与するために導電性の不純物を添加されていてもよく、一部を還元性としてもよい。そのため、製膜される反射防止層にも該不純物が混入したり、層の組成が化学量論組成と異なったりする場合があるが、本発明の効果を奏する限りは問題とならない。

赤外線反射層の別の一つの実施形態としては、例えば、特開２０１４−３０９１０号公報に記載の基材層の実施形態を援用し得る。

≪トップコート層≫
本発明の遮熱断熱フィルムは、赤外線反射層の反射防止層と反対の側の表面上には、トップコート層が備えられていてもよい。赤外線反射層の反射防止層と反対の側の表面上にトップコート層を有することにより、優れた耐擦傷性を発現し得る。特に、スチールウール耐擦傷性が高くなり得る。

本発明の遮熱断熱フィルムは、トップコート層を有することにより、好ましくは、透明性が高い。本発明の遮熱断熱フィルムは、トップコート層を有することにより、好ましくは、コットン耐擦傷性が高い。

トップコート層は、周期表第１３族または第１４族の１種以上が主成分となる酸化物または窒化物、酸化窒化物、非酸化窒化物であり、周期表第３族または第４族の１種以上の成分を含む。トップコート層は、好ましくは、第１４族の１種以上が主成分となる酸化物または窒化物、酸化窒化物、非窒化物または非酸化物であり、周期表第３族または第４族の１種以上の成分を含む。トップコート層は、より好ましくは、ＳｉとＺｒを含む酸化物または酸化窒化物、ＳｉとＹを含む酸化物または酸化窒化物、ＳｉとＴｉを含む酸化物または酸化窒化物から選ばれる少なくとも１種を含む。トップコート層は、さらに好ましくは、ＳｉとＺｒを含む酸化物、ＳｉとＹを含む酸化物、ＳｉとＴｉを含む酸化物から選ばれる少なくとも１種を含む。

第１４族の元素は最外殻電子が４つのためイオンになりにくい。第１３族の元素は最外殻電子が３つのため陰イオンになりにくい。そのため、窒化物、酸化窒化物、非窒化物または非酸化物の硬度が高くなると考察される。

周期表第３族または第４族の元素の添加は、主成分元素の結晶緻密化、分子構造の最密化などによって、強度の増加や耐腐食性、耐熱性を向上させる。

周期表第３族または第４族の元素の添加量は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは０．０１ａｔｍ％〜４９．９ａｔｍ％であり、より好ましくは０．０５ａｔｍ％〜４０．０ａｔｍ％であり、さらに好ましくは０．１ａｔｍ％〜４０．０ａｔｍ％であり、特に好ましくは０．５ａｔｍ％〜３５．０ａｔｍ％である。周期表第３族または第４族の元素の添加量が少ない場合は、マトリックス全体に均一に元素が挿入されないために、本発明の効果が発現できないおそれがある。一方、周期表第３族または第４族の元素の添加量が多すぎる場合は、主成分との相溶性が悪くなり、本発明の効果が発現できないおそれがある。相溶性は相図によって確認することができる。

トップコート層の厚みは、好ましくは０．５ｎｍ〜３０ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜２５ｎｍであり、さらに好ましくは２ｎｍ〜２０ｎｍであり、特に好ましくは３ｎｍ〜１５ｎｍである。トップコート層の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の遮熱断熱フィルムは、より優れた耐擦傷性を発現できる。

トップコート層の製膜方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。このような製膜方法としては、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、電子線蒸着法等のドライプロセスによる製膜方法が挙げられる。トップコート層の製膜方法としては、好ましくは、直流スパッタ法による製膜方法である。直流スパッタ法による製膜方法を採用する場合、複数の製膜室を備える巻取り式スパッタ装置を用いれば、これら複数層を１パスで形成することが可能となる。このため、トップコート層の生産性が大幅に向上し得るだけでなく、ひいては、本発明の遮熱断熱フィルムの生産性が大幅に向上し得る。

≪保護トップコート層≫
赤外線反射層の反射防止層と反対の側には、保護トップコート層が備えられていてもよい。保護トップコート層は、本発明の遮熱断熱フィルムに、より優れた耐擦傷性を発現させ得る。

保護トップコート層は、高い可視光線の透過率を有することが好ましい。

保護トップコート層は、遠赤外線の吸収が小さいことが好ましい。保護トップコート層において遠赤外線の吸収が小さいと、室内の遠赤外線が赤外線反射層によって室内に反射されるため、断熱効果が高められ得る。保護トップコート層による遠赤外線吸収量を小さくする方法としては、保護トップコート層の材料として遠赤外線の吸収率が小さいものを用いる方法、保護トップコート層の厚みを小さくする方法などが挙げられる。一方、保護トップコート層において遠赤外線の吸収が大きいと、室内の遠赤外線が保護トップコート層で吸収され、赤外線反射層によって反射されることなく、熱伝導により外部に放熱されるため、断熱性が低下するおそれがある。

保護トップコート層の材料として遠赤外線の吸収率が小さいものを用いれば、保護トップコート層の厚みが大きい場合でも、遠赤外線吸収量を小さく保つことができ、赤外線反射層に対する保護効果を高めることができる。遠赤外線の吸収が小さい保護トップコート層の材料としては、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合、Ｃ−Ｏ結合、芳香族環などの含有量が小さい化合物が好適に用いられる。このような化合物としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンや、シクロオレフィン系ポリマー等の脂環式ポリマー、ゴム系ポリマーなどが挙げられる。

保護トップコート層は、遠赤外線吸収量を小さくする観点から、その厚みは、好ましくは５００ｎｍ以下であり、より好ましくは３００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは２００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１５０ｎｍ以下であり、特に好ましくは１２０ｎｍ以下であり、最も好ましくは１００ｎｍ以下である。保護トップコート層の光学膜厚（屈折率と物理的な膜厚の積）が可視光の波長範囲と重複すると、界面での多重反射干渉によって、本発明の遮熱断熱フィルムの表面が虹模様に見える「虹彩現象」を生じる場合がある。一般的な樹脂の屈折率は１．５程度であるため、虹彩現象を抑制する観点からも保護トップコート層の厚みは２００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

保護トップコート層は、それに機械的強度および化学的強度を付与するとともに、本発明の遮熱断熱フィルムの耐久性を高める観点から、その厚みは、好ましくは５ｎｍ以上であり、より好ましくは１５ｎｍ以上であり、さらに好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。

保護トップコート層の厚みが上記範囲内にあれば、保護トップコート層の表面側での反射光と赤外線反射層側界面での反射光との多重反射干渉により、可視光線の反射率を低下させることができる。そのため、赤外線反射層の光吸収による反射率低下効果に加えて、保護トップコート層による反射防止効果が得られ、本発明の遮熱断熱フィルムの視認性がさらに高められ得る。

保護トップコート層の材料としては、可視光線透過率が高く、機械的強度および化学的強度に優れるものが好ましい。例えば、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等の活性光線硬化型あるいは熱硬化型の有機樹脂や、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、サイアロン（ＳｉＡｌＯＮ）等の無機材料、あるいは有機成分と無機成分が化学結合した有機・無機ハイブリッド材料が好ましく用いられる。

保護トップコート層の材料として有機材料あるいは有機・無機ハイブリッド材料が用いられる場合、架橋構造が導入されることが好ましい。架橋構造が形成されることによって、保護トップコート層の機械的強度および化学的強度が高められ、赤外線反射層に対する保護機能が増大する。このような架橋構造の中でも、酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物に由来する架橋構造が導入されることが好ましい。

酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物としては、リン酸、硫酸、シュウ酸、コハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸等の多価の酸と；エチレン性不飽和基、シラノール基、エポキシ基等の重合性官能基と水酸基とを分子中に有する化合物とのエステルが挙げられる。なお、上記エステル化合物は、ジエステルやトリエステル等の多価エステルでもよいが、多価の酸の少なくとも１つの酸性基がエステル化されていないことが好ましい。

保護トップコート層が、上記エステル化合物に由来する架橋構造を有する場合、保護トップコート層の機械的強度および化学的強度が高められるとともに、保護トップコート層と赤外線反射層との密着性が高められ、赤外線反射層の耐久性を高めることができる。上記エステル化合物の中でも、リン酸と重合性官能基を有する有機酸とのエステル化合物（リン酸エステル化合物）が、赤外線反射層との密着性に優れるため、特に好ましい。

保護トップコート層の機械的強度および化学的強度を高める観点から、上記エステル化合物は、重合性官能基として（メタ）アクリロイル基を含有することが好ましい。また、架橋構造の導入を容易とする観点から、上記エステル化合物は、分子中に複数の重合性官能基を有していてもよい。上記エステル化合物としては、例えば、一般式（１）で表される、リン酸モノエステル化合物またはリン酸ジエステル化合物が好ましい。なお、リン酸モノエステルとリン酸ジエステルとを併用することもできる。

一般式（１）中、Ｘは水素原子またはメチル基を表し、（Ｙ）は−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_５−基を表す。ｎは０または１であり、ｐは１または２である。

保護トップコート層中の上記エステル化合物に由来する構造の含有割合は、好ましくは１重量％〜２０重量％であり、より好ましくは１．５重量％〜１７．５重量％であり、さらに好ましくは２重量％〜１５重量％であり、特に好ましくは２．５重量％〜１２．５重量％である。保護トップコート層中の上記エステル化合物に由来する構造の含有割合が過度に小さいと、強度や密着性の向上効果が十分に得られないおそれがある。保護トップコート層中の上記エステル化合物に由来する構造の含有割合が過度に大きいと、保護トップコート層形成時の硬化速度が小さくなって硬度が低下したりするおそれや、保護トップコート層表面の滑り性が低下して耐擦傷性が低下したりするおそれがある。保護トップコート層中の上記エステル化合物に由来する構造の含有割合は、保護トップコート層形成時に上記エステル化合物の含有割合を調整することによって、所望の範囲とすることができる。

保護トップコート層が、上記エステル化合物に由来する構造を含有する場合、トップコート層と保護トップコート層との密着性がさらに高められ得る。トップコート層と保護トップコート層との密着性の向上は、上記エステル化合物中の酸性基がトップコート層中の金属酸化物と高い親和性を示すことに由来すると考えられ、特に、リン酸エステル化合物中のリン酸ヒドロキシ基が金属酸化物との親和性に優れるため、より密着性が向上すると考えられる。

保護トップコート層の形成方法としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な形成方法を採用し得る。このような形成方法としては、例えば、有機樹脂あるいは有機樹脂の硬化性モノマーやオリゴマーと上記エステル化合物を溶剤に溶解させて溶液を調整し、この溶液を赤外線反射層上に塗布し、溶媒を乾燥させた後、紫外線や電子線等の照射や熱エネルギーの付与によって、硬化させる方法が挙げられる。

保護トップコート層の材料としては、上記の有機材料や無機材料、エステル化合物以外に、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、可塑剤、着色防止剤、難燃剤、帯電防止剤等の添加剤が含まれていてもよい。これらの添加剤の含有量としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な含有量を採用し得る。

≪保護フィルム≫
保護トップコート層の赤外線反射層と反対の側には、保護フィルムが備えられていてもよい。

保護フィルムの厚みは、好ましくは２５μｍ〜１００μｍであり、より好ましくは３０μｍ〜７５μｍであり、さらに好ましくは３５μｍ〜６５μｍであり、特に好ましくは３５μｍ〜５０μｍである。

≪その他の構成部材≫
基材層の赤外線反射層と反対の側には、接着剤層が備えられていてもよい。接着剤層は、例えば、窓ガラス等との貼り合せに用いられ得る。

接着剤層としては、可視光線透過率が高く、基材層との屈折率差が小さいものが好ましい。接着剤層の材料としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な材料を採用し得る。このような材料としては、例えば、アクリル系粘着剤（アクリル系感圧接着剤）が挙げられる。アクリル系粘着剤（アクリル系感圧接着剤）は、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性を示し、耐候性や耐熱性等に優れることから、接着剤層の材料として好適である。

接着剤層としては、可視光線の透過率が高く、かつ、紫外線透過率が小さいものが好ましい。接着剤層の紫外線透過率を小さくすることにより、太陽光等の紫外線に起因する赤外線反射層の劣化を抑制し得る。接着剤層の紫外線透過率を小さくする観点から、接着剤層は紫外線吸収剤を含有することが好ましい。なお、紫外線吸収剤を含有する基材層等を用いることによっても、屋外からの紫外線に起因する赤外線反射層の劣化を抑制し得る。

接着剤層の露出面は、本発明の遮熱断熱フィルムが実用に供されるまでの間、露出面の汚染防止等を目的として、セパレータが仮着されてカバーされていることが好ましい。このようなセパレータにより、通例の取扱状態で、接着剤層の露出面の外部との接触による汚染を防止し得る。

≪遮熱断熱フィルムの用途≫
本発明の遮熱断熱フィルムは、建物や乗り物等の窓、植物等を入れる透明ケース、冷凍もしくは冷蔵のショーケース等に用いることができ、冷暖房効果の向上や急激な温度変化を防ぐ作用を有し得る。

図３は、本発明の遮熱断熱フィルムの使用形態の一例を模式的に表す断面図である。この使用形態において、本発明の遮熱断熱フィルム１００は、基材層１０側が、任意の適切な接着剤層８０を介して、建物や自動車の窓１０００の室内側に貼り合せて配置される。図３に模式的に示すように、本発明の遮熱断熱フィルム１００は、屋外からの可視光（ＶＩＳ）を透過して室内に導入するとともに、屋外からの近赤外線（ＮＩＲ）を赤外線反射層２０で反射する。近赤外線反射により、太陽光等に起因する室外からの熱の室内への流入が抑制される（遮熱効果が発揮される）ため、例えば、夏場の冷房効率を高めることができる。さらに、赤外線反射層２０は、暖房器具９０から放射される室内の遠赤外線（ＦＩＲ）を反射するため、断熱効果が発揮され、冬場の暖房効率を高めることができる。また、本発明の遮熱断熱フィルム１００は、赤外線反射層２０を備えることにより可視光の反射率が低減されるため、ショーケースやショーウィンドウ等に用いた場合に、商品等の視認性を低下させることなく、遮熱性と断熱性を付与することができる。

本発明の遮熱断熱フィルムは、例えば、特開２０１３−６１３７０号公報に開示されているように、枠体等に嵌め込んで用いることもできる。このような形態では、接着剤層を設ける必要がないため、接着剤層による遠赤外線の吸収が生じない。このため、基材層として、例えば、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合、Ｃ−Ｏ結合、芳香族環等の官能基の含有量が少ない材料（例えば、環状ポリオレフィン）を用いることにより、基材層側からの遠赤外線を赤外線反射層で反射させることができ、本発明の遮熱断熱フィルムの両面側に断熱性を付与できる。このような構成は、例えば、冷蔵ショーケースや冷凍ショーケース等で特に有用である。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、実施例等における、試験および評価方法は以下のとおりである。なお、「部」と記載されている場合は、特記事項がない限り「重量部」を意味し、「％」と記載されている場合は、特記事項がない限り「重量％」を意味する。

＜各層の膜厚＞
金属酸化物層、金属層、反射防止層の膜厚は、集束イオンビーム加工観察装置（日立製作所製、製品名「ＦＢ−２１００」）を用いて、集束イオンビーム（ＦＩＢ）法により試料を加工し、その断面を、電界放出形透過電子顕微鏡（日立製作所製、製品名「ＨＦ−２０００」）により観察して求めた。
保護トップコート層、アンダーコート層の膜厚は、瞬間マルチ測光システム（大塚電子製、製品名「ＭＣＰＤ３０００」）を用い、測定対象側から光を入射させた際の可視光の反射率の干渉パターンから、計算により求めた。

＜基材層側反射率＞
可視光線透過率および反射率は、遮熱断熱フィルムの基材層側の面を、厚み２５μｍの粘着剤を介して厚み３ｍｍのガラス板に貼り合わせたものを試料として用い、分光光度計（日立ハイテク製 製品名「Ｕ−４１００」）を用いて測定した。反射率は、ＪＩＳ Ａ５７５９−２００８（建築窓ガラスフィルム）の透過率計算方法に準じて、基材層側から入射角５°で光を入射し、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の５°絶対反射率を測定した。
○：基材層側反射率が２０％未満。
×：基材層側反射率が２０％以上。

＜マンドレル試験（２ｍｍφ、３ｍｍφ）＞
遮熱断熱フィルムに対しマンドレルを用いて遮熱断熱フィルムの保護トップコート層側を外側にして、屈曲性試験を（ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−１）を行った。直径２ｍｍあるいは３ｍｍで割れが発生しなかった場合を○、割れが発生した場合を×とした。

＜碁盤目剥離試験＞
遮熱断熱フィルムにおける密着性については、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６：１９９９に準じて、碁盤目剥離試験によって評価した。より具体的には、遮熱断熱フィルムの保護トップコート層表面に１ｍｍ間隔で縦横１０本ずつの切込みを入れて１００個の碁盤目を作成し、この上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一端を瞬間的に引き離し、碁盤目内の塗膜が剥がれた碁盤目の個数により、以下の分類０〜５に従って評価した。すなわち、分類０〜１に含まれる遮熱断熱フィルムを良好と評価し（○と表示）、分類２〜５に含まれる遮熱断熱フィルムを不良と評価した（「×」と表示）。
分類０：切込みの縁が完全に滑らかで、どの碁盤目内の塗膜にも剥がれがない。
分類１：切込みの交差点における塗膜の小さな剥がれがある。切れ込み部分で影響を受けるのは、明確に５％を上回ることはない。
分類２：塗膜が切れ込みの縁に沿って、及び／又は交差点において剥がれている。切れ込み部分で影響を受けるのは、明確に５％を超えるが、１５％を上回ることはない。
分類３：塗膜が切れ込みの縁に沿って、部分的又は全面的に大剥がれを生じており、及び／又は碁盤目の色々な部分が、部分的又は全面的に剥がれている。切れ込み部分で影響を受けるのは、明確に１５％を超えるが、３５％を上回ることはない。
分類４：塗膜が切れ込みの縁に沿って、部分的又は全面的に大剥がれを生じており、及び／又は数箇所の碁盤目が、部分的又は全面的に剥がれている。切れ込み部分で影響を受けるのは、明確に３５％を上回ることはない。
分類５：剥がれの程度が分類４を超える場合である。

〔実施例１〕
（基材層上へのアンダーコート層の形成）
厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）の一方の面に、アクリル系紫外線硬化型ハードコート層（ＪＳＲ製、Ｚ７５４０）を２μｍの厚みで形成した。詳しくは、グラビアコーターにより、上記ハードコート層の溶液を塗布し、８０℃で乾燥後、超高圧水銀ランプにより積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、硬化を行い、基材層上へアンダーコート層を形成した。
（反射防止層、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層の形成）
巻取式スパッタ装置を用いて、上記基材層上に形成されたアンダーコート層上に、直流マグネトロンスパッタ法により、膜厚６ｎｍのＳｉＣ層、膜厚１０ｎｍの亜鉛−錫複合酸化物（ＺＴＯ）層、膜厚１５ｎｍのＡｇ−Ｐｄ合金層、および、膜厚１０ｎｍの亜鉛−錫複合酸化物（ＺＴＯ）層を順次形成し、上記アンダーコート層上に、反射防止層、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層をこの順に形成した。
ＳｉＣ層の形成には、炭化ケイ素ターゲット（三菱マテリアル製）を用い、電力密度：２．６７Ｗ／ｃｍ^２、プロセス圧力：０．４Ｐａでスパッタを行った。
ＺＴＯ層の形成には、酸化亜鉛と酸化錫と金属亜鉛粉末とを、８．５：８３：８．５の重量比で焼結させたターゲットを用い、電力密度：２．６７Ｗ／ｃｍ^２、プロセス圧力：０．４Ｐａの条件でスパッタを行った。この際、スパッタ製膜室へのガス導入量を、Ａｒ：Ｏ_２が９８：２（体積比）となるように調整した。
Ａｇ−Ｐｄ合金層の形成には、銀：パラジウムを９６．４：３．６の重量比で含有する金属ターゲットを用い、電力密度：１．３３Ｗ／ｃｍ^２、プロセス圧力：０．４Ｐａの条件でスパッタを行った。
（保護トップコート層の形成）
上記第二金属酸化物層上に、リン酸エステル化合物に由来する架橋構造を有するフッ素系の紫外線硬化型樹脂からなる透明保護層を６０ｎｍの膜厚で形成した。詳しくは、フッ素系ハードコート樹脂溶液（ＪＳＲ製、商品名「ＪＵＡ２０４」）の固形分１００重量部に対して、リン酸エステル化合物（日本化薬製、商品名「ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１」）を５重量部添加した溶液を、アプリケーターを用いて塗布し、６０℃で１分間乾燥後、窒素雰囲気下で超高圧水銀ランプにより積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、硬化を行った。なお、上記リン酸エステル化合物は、分子中に１個のアクリロイル基を有するリン酸モノエステル化合物（上記の一般式（１）において、Ｘがメチル基、ｎ＝０、ｐ＝１である化合物）と分子中に２個のアクリロイル基を有するリン酸ジエステル化合物（上記の一般式（１）において、Ｘがメチル基、ｎ＝０、ｐ＝２である化合物）との混合物である。
（遮熱断熱フィルム）
以上のようにして、基材層（厚み５０μｍ）／アンダーコート層（厚み２μｍ）／反射防止層（厚み６ｎｍ）／第一金属酸化物層（厚み１０ｎｍ）／金属層（厚み１５ｎｍ）／第二金属酸化物層（厚み１０ｎｍ）／保護トップコート層（厚み６０ｎｍ）の構成を有する遮熱断熱フィルム（１）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２〕
ＳｉＣ層の膜厚を１０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（２）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例３〕
ＳｉＣ層の膜厚を２０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（３）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例４〕
ＳｉＣ層に代えてＳｉ層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（４）を得た。なお、Ｓｉ層は、ケイ素ターゲットを用い、電力密度：０．５０ｋＷ／ｃｍ^２、プロセス圧力０．４Ｐａでスパッタを行った。厚みは６ｎｍとした。
結果を表１に示した。

〔実施例５〕
Ｓｉ層の膜厚を１０ｎｍに変更した以外は、実施例４と同様に行い、遮熱断熱フィルム（５）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例６〕
Ｓｉ層の膜厚を２０ｎｍに変更した以外は、実施例４と同様に行い、遮熱断熱フィルム（６）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例７〕
ＳｉＣ層に代えてＺｎＳ層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（７）を得た。なお、ＺｎＳ層は、ＺｎＳターゲットを用い、電力密度：２．６７ｋＷ／ｃｍ^２、プロセス圧力０．４Ｐａでスパッタを行った。厚みは６ｎｍとした。
結果を表１に示した。

〔実施例８〕
ＺｎＳ層の膜厚を１０ｎｍに変更した以外は、実施例７と同様に行い、遮熱断熱フィルム（８）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例９〕
ＺｎＳ層の膜厚を２０ｎｍに変更した以外は、実施例７と同様に行い、遮熱断熱フィルム（９）を得た。
結果を表１に示した。

〔比較例１〕
ＳｉＣ層に代えてＳｉＯ_２層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ１）を得た。なお、ＳｉＯ_２層は、ケイ素ターゲットを用い、電力密度：２．３ｋＷ／ｃｍ^２、プロセス圧力０．４Ｐａでスパッタを行った。この際、スパッタ製膜室へのガス導入量を、Ａｒ：Ｏ_２＝４０：３０（体積比）となるように調整した。厚みは６ｎｍとした。
結果を表１に示した。

〔比較例２〕
ＳｉＯ_２層の膜厚を１０ｎｍに変更した以外は、比較例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ２）を得た。
結果を表１に示した。

〔比較例３〕
ＳｉＯ_２層の膜厚を２０ｎｍに変更した以外は、比較例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ３）を得た。
結果を表１に示した。

〔比較例４〕
ＳｉＣ層に代えてＮｂ_２Ｏ_５層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ４）を得た。なお、Ｎｂ_２Ｏ_５層は、Ｎｂターゲットを用い、電力密度：２．３ｋＷ／ｃｍ^２、プロセス圧力０．４Ｐａでスパッタを行った。この際、スパッタ製膜室へのガス導入量を、Ａｒ：Ｏ_２＝４０：３０（体積比）となるように調整した。厚みは６ｎｍとした。
結果を表１に示した。

〔比較例５〕
Ｎｂ_２Ｏ_５層の膜厚を１０ｎｍに変更した以外は、比較例４と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ５）を得た。
結果を表１に示した。

〔比較例６〕
Ｎｂ_２Ｏ_５層の膜厚を２０ｎｍに変更した以外は、比較例５と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ６）を得た。
結果を表１に示した。

〔比較例７〕
ＳｉＣ層に代えてＺＴＯ層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ７）を得た。
なお、ＺＴＯ層の形成には、酸化亜鉛と酸化錫と金属亜鉛粉末とを、８．５：８３：８．５の重量比で焼結させたターゲットを用い、電力密度：２．６７Ｗ／ｃｍ^２、プロセス圧力：０．４Ｐａ、基板温度８０℃の条件でスパッタを行った。この際、スパッタ製膜室へのガス導入量を、Ａｒ：Ｏ_２が９８：２（体積比）となるように調整した。
結果を表１に示した。

〔比較例８〕
ＺＴＯ層の膜厚を１０ｎｍに変更した以外は、比較例７と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ８）を得た。
結果を表１に示した。

〔比較例９〕
ＺＴＯ層の膜厚を２０ｎｍに変更した以外は、比較例７と同様に行い、遮熱断熱フィルム（Ｃ９）を得た。
結果を表１に示した。

本発明の遮熱断熱フィルムは、例えば、建物や乗り物等の窓、植物等を入れる透明ケース、冷凍もしくは冷蔵のショーケース等に利用することができる。

１０ 基材層
２０ 赤外線反射層
２１ 金属層
２２ａ 第一金属酸化物層
２２ｂ 第二金属酸化物層
４０ 保護トップコート層
５０ 反射防止層
６０ アンダーコート層
７０ 保護フィルム
８０ 接着剤層
９０ 暖房器具
１００ 遮熱断熱フィルム
１０００ 窓

Claims (3)

1. 基材層と赤外線反射層を含む遮熱断熱フィルムであって、
   該基材層と該赤外線反射層の間に反射防止層を備え、
   該反射防止層が、テルル化鉛（ＰｂＴｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、ロジウム（Ｒｈ）、一窒化珪素（ＳｉＮ）、白金（Ｐｔ）、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、一炭化珪素（ＳｉＣ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、鉄（Ｆｅ）、三硫化アンチモン（Ｓｂ２Ｓ３）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、珪素（Ｓｉ）から選ばれる少なくとも１種を含む、
   遮熱断熱フィルム。
2. 前記赤外線反射層と前記反射防止層が直接に積層されてなる、請求項１に記載の遮熱断熱フィルム。
3. 前記反射防止層の厚みが３０ｎｍ以下である、請求項１または２に記載の遮熱断熱フィルム。
   
   

Images