JPH01206035A

JPH01206035A - 可視光透過性を有する熱線反射板

Info

Publication number: JPH01206035A
Application number: JP63030212A
Authority: JP
Inventors: Kenji Murata; 健治村田; Haruo Hashizume; 橋爪　春雄; Etsuo Ogino; 悦男荻野
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 1988-02-12
Filing date: 1988-02-12
Publication date: 1989-08-18
Anticipated expiration: 2013-01-14
Also published as: JP2696877B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は可視光透過性を有する熱線反射板に係り、特に
建築物あるいは自動車の窓ユニットとして有用な高可視
光透過率で熱線反射性能も高く、しかも低コストで製造
することができる熱線反射板に関する。

［従来の技術］室外からの熱を遮断するとともに、室内の熱が外部に逃
げるのを防止して、室内温度を一定に保つための熱線反
射板は従来から知られている。

かかる熱線反射板はガラス等の透明基板表面に反応性ス
パッタリングつまり酸素を含む雰囲気でのスパッタリン
グによって金属酸化物層を第１層として形成し、この第
１層の表面に非酸化雰囲気でのスパッタリングによって
貴金属層を第２層として形成し、更にこの第２層の表面
に第１層と同様にして金属酸化物層を第３層として形成
することで製造されている。即ち、金属酸化物層の第１
層は、熱線反射層となるＡｇ等の貴金属層の第２層に対
して屈折率の調整層として作用する層であって、また、
第３層の金属酸化物層は、第２層のＡｇ等の貴金属層の
酸化、腐食を防止するための保護膜として作用する層で
ある。

しかしながら、第３層の金属酸化物層を形成するには、
金属をターゲットとして酸化雰囲気において反応性スパ
ッタリングを行うため、このスパッタリングの際に既に
形成した貴金属からなる第２層を酸化し、もしくは第２
層が酸素をとり込むマイグレーションを生じ、熱線反射
機能が低下するという問題があった。

そこで、このような問題を解決するものとして、従来、
次の■〜■の熱線反射板が提案されている。

■　第４図に示す如く、ガラス基板１１にＺｎｏｘ層（
３５０人厚さ）１２、Ａｇ層（９０人厚さ）１３、Ｚｎ
層（３０人厚さ）１４及びＺｎｏｘ層（５００人厚さ）
１５を順次形成したもの。Ｚｎｏｘ層１２．１５はＺｎ
ターゲットを用い０．主体雰囲気にて反応性スパッタで
形成し、Ａｇ層１３及びＺｎ層１４はアルゴンスパッタ
にて形成する。

■　■に類似の構成であって、ガラス基板上にＺｎＯ層
（４００人厚さ）、Ａｇ層（１２０人厚さ）、Ｓｎ層（
３０人厚さ）及びＺｎＯ層（４５０人厚さ）を順次形成
したもの（Ｊ、　Ｖａｃ。

Ｓｃｉ、　Ｔｅｃｈｎｏｌ、　Ａ５　（１９８７）　２
７０９）。

■　第５図に示す如く、ガラス基板１１にＺｎ５ｎＸＯ
ｙ層（３４０人厚さ）１６、Ａｇ層（９０人厚さ）１３
、Ｚｎ５ｎ層（薄層）１７及びＺｎ５ｎ、１Ｏ）１層（
４３０人厚さ）１８を順次形成したもの（特開昭６ｌ−
１１１９４０）。Ｚｎ５ｎＸＯ，、Ｚｎ５ｎ、Ｏ，層１
６．１８はＺ　ｎ　Ｓ　ｎ、ターゲットを用い酸化性雰
囲気にて反応性スパッタで形成し、Ａｇ層１３及びＺｎ
５ｎ層１７はアルゴンスパッタにて形成する。

■　第６図に示す如く、ガラス基板１１にＳｎＯ２又は
Ｉｎ、Ｏ，層（４０ｎｍ厚さ）１９、Ａｇ層（１０ｎｍ
厚さ）１３、Ａｎ、Ｔｉ。

Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｎ又はＺｒ層（２ｎｍ厚さ）２０及びＳ
ｎＯ２又はＩｎ２Ｏ，層２１を順次形成したもの（特開
昭５９−１６５００１）　。

■　上記■〜■とは異なるタイプのもので、第７図に示
す如く、ガラス基板１１上にＡｎ２０３゜ＺｎＯ，５ｎ
０２　、Ｚｎ２０ｓ等の金属酸化物層２２及びＡｇ層１
３を形成し、その上に金属層を介在させることなく、金
属酸化物をターゲットとして低酸素分圧雰囲気でスパッ
タすることにより金属酸化物層２３を形成したもの（特
開昭８２−４１７４０）。

即ち、上記■〜■のうち、■〜■においては、Ａｇ層の
上に適当な金属層を薄く形成し、この層によりＡｇ層を
保護して後工程の金属酸化物層形成工程におけるＡｇ層
の酸化、劣化を防止している。一方、■においては、金
属酸化物ターゲットを用いることによりスパッタ雰囲気
を低酸素分圧雰囲気とし、Ａｇ層の酸化、劣化を防止し
ている。

なお、特公昭４７−１６３１５号には、ガラス表面の金
属膜上に３００〜３０００人の窒化珪素膜を形成して金
属膜を保護することが記載されている。

［発明が解決しようとする課題］上記■〜■の構成のうち、■〜■では、Ａｇ層の上に金
属層を形成するため、この金属層が光を吸収し、赤外線
反射性能が悪くなる。また、可視光透過性能等の光学性
能も低下し、製品性能が悪くなる。しかも、その製造に
あたって、金属層形成のためのスパッタ用ターゲットが
必要となり、設備が大型化する上に、金属層形成のため
に工程数が増加し、また、金属層形成工程の不活性雰囲
気からその上の金属酸化物層形成工程の酸化性雰囲気へ
の切り換えにおいて、雰囲気ガスのクロスコンタミを防
ぐ設備、操作が必要となるなどの不具合がある。

一方、前記■のものでは、このような問題はないものの
、金属酸化物ターゲットは金属ターゲットよりも成形が
困難である上に、金属酸化物ターゲットのスパッタに必
要なＲＦ電源（高周波）は電源価格が高いため、電源コ
ストも高くつき、結果的に製造コストが高騰するという
欠点がある。

また、ＤＣ（直流）スパッタが可能な酸化物ターゲット
は金属酸化物の精密な組成制御が必要となることから、
ターゲット価格が高いという問題がある。

更に、■〜■のいずれの構成においても、最上層の金属
酸化物層によるＡｇ層の保護効果は十分なものとはいえ
ず、耐食性、耐久性が低いという問題もあフた。

特公昭４７−１６３１５号の窒化珪素膜は可視光透過率
が低いことが種々の実験の結果認められた。

本発明は、上記従来の問題点を解決し、可視光透過率が
高く、熱線反射性能に優れ、耐食性、耐久性も高く、し
かも、低コストで容易に製造可能な熱線反射板を提供す
ることを目的とする。

［課題を解決するための手段］本発明の可視光透過性を有する熱線反射板は、可視光透
過性を有する基材と、該基材上に形成された貴金属より
なる熱線反射層と、該熱線反射層上に形成されたアルミ
ニウム（Ａｎ）を主体とする金属又はアルミニウムと珪
素（Ｓｔ）を主体とする金属の窒化物又は酸窒化物より
なる被覆層とを有することを特徴とする。

本発明においては、該基材と熱線反射層との間に金属の
酸化物、窒化物又は酸窒化物よりなる透明誘電体層が形
成されていても良い。

本発明においては、該被覆層の上に金属酸化物よりなる
透明誘電体層が形成されていても良い。

［作　用］Ａ１を主体とする金属又はＡＩとＳｉを主体とする金属
の窒化物又は酸窒化物よりなる被覆層は、金属ターゲッ
トを用い、酸素を含まないあるいは極微量の酸素を含む
不活性ガス又は窒素ガス雰囲気中、ＤＣ電源にて反応性
スパッタにより容易に形成することができる。

このように、スパッタ雰囲気を酸素不存在又は微量存在
の不活性ガス又は窒素ガス雰囲気とすることができるの
で、貴金属よりなる熱線反射層の酸化、劣化防止のため
の金属層を形成する必要がない。従って、金属層形成に
伴なう装置設備の大型化、工程数増加、金属層による光
学性能の低下の問題が解消される。

また、金属ターゲットを用い、ＤＣスパッタにより形成
できることから、ターゲット価格、電源価格を低くおさ
えて、製造コストの低廉化が図れる。

しかも、Ａｎ又はＡｊ２とＳｔの合金窒化物、酸窒化物
は極めて優れた保護作用を奏することから、下層の熱線
反射層が確実に保護され、製品の耐食性、耐久性は著し
く高められる。

ところで、ＡＪ２又はＡ１とＳｉの合金窒化物、酸窒化
物は、屈折率調整機能をも備える透明誘電体である。こ
のため、本発明において、基材と熱線反射層との間に金
属の窒化物又は酸窒化物よりなる透明誘電体層を形成し
た場合には、その屈折率調整機能により、可視光透過率
をより高めることができる。この屈折率調整はもちろん
金属酸化物層によっても行い得る。

また、本発明において、被覆層の上に金属酸化物よりな
る透明誘電体層を形成した場合には、より耐食性、耐久
性が高められる。

［実施例］以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。

第１図〜第３図は各々、本発明の熱線反射板の一実施例
を示す断面図である。

第１図に示す熱線反射板１は、可視光透過性を有する基
材２、基材２上に形成された貴金属よりなる熱線反射１
１３及び、熱線反射層３上に形成されたＡｆｔ又はＡｆ
ｌとＳｉを主体とする金属の窒化物又は酸窒化物よりな
る被覆層４よりなるものである。

本発明においては、第１図に示す構成に加え、更に、第
２図に示す如く、基材２と熱線反射層３との間に金属の
酸化物、窒化物又は酸窒化物よりなる透明誘電体層（下
地層）５を形成したものとすることができる。

また、被覆層４の上に金属酸化物よりなる透明誘電体層
（保護層）（第３図の６）を形成したものとすることが
でき、第３図に示す如く、更に、上記下地層５及び保護
層６の両層を形成したものとすることもできる。

本発明において、可視光透過性を有する基材２としては
、ガラス又はプラスチック等の透明基板を用いることが
できる。

基材２上に形成する熱線反射層３を構成する貴金属とし
ては、銀（Ａｇ）、金、銅、パラジウム、ロジウム等が
用いられるが、これらのうち、特にＡｇが最適である。

この熱線反射層３の厚さは、通常５０〜３００人、好ま
しくは８０〜１５０人程度とされる。

また、熱線反射層３上に形成する被覆層４を構成するＡ
ＩＬ又はＡＩＬとＳｌの合金窒化物又は酸窒化物として
は、具体的には、窒化アルミニウム、サイアロン等が挙
げられる。この被覆層４の厚さは、厚い程保護効果が高
くなることから、５Å以上、特に１０Å以上とするのが
好ましい、しかしながら、過度に厚くしても保護効果に
大差はなく、経済的に不利となることから、コスト面か
ら１μｍ以下とするのが好ましい。通常の場合、被覆層
４の厚さは、この被覆層４の上に金属酸化物の保護層６
を形成しない場合には３００〜６００人程度とされ、金
属酸化物の保護層６を形成する場合には、このＮ６によ
り保護効果が得られることから、１０〜５０人程度にま
で薄くすることが可能となる。

本発明において、第２図に示す如く、基材２と熱線反射
層３との間に、金属の窒化物又は酸窒化物よりなる下地
層５を形成する場合、この金属の窒化物又は酸窒化物と
しては、被覆層４を構成するＡＩＬ又はＡｆｔとＳｔの
合金窒化物又は酸窒化物を採用するのが、製造上有利で
ある。なお、この下地層５は、従来より用いられている
ＺｎＯ等の金属酸化物層であっても良い。このような下
地層５の厚さは、十分な屈折率調整機能が得られる厚さ
であれば良く、一般には１００〜６００人程度、好まし
くは２００〜４００人程度の厚さに形成する。

本発明において、被覆層４の上に更に金属酸化物よりな
る保護層６を形成する場合、保護層６の金属酸化物とし
ては、従来より一般に保護層として用いられている、Ｂ
ｉ２０３．ＺｎＯ。

Ｔｉｅ、、Ｉ　ｎ２　ｏ３−３ｎＯ２，５ｎＯｚ等の金
属酸化物を用いることができる。この保護層６の厚さは
、被覆層４の厚さ等によっても異なるが、一般には１０
０〜６００人、好ましくは４００〜５００人程度に形成
する。

本発明の熱線反射板は、後述する第８図に示すようなス
パッタ装置を用い、順次所定の雰囲気にてスパッタリン
グを行なうことにより容易に製造することができる。こ
の際、ＡＪ２又はＡβとＳｌの合金窒化物又は酸窒化物
よりなる層は、Ａｌｌ又はＡｉとＳｔの合金ターゲット
を用いＤＣ電源により容易にスパッタすることができる
が、ＲＦ電源を用いてスパッタしても良い。

以下、製造方法及び特性を示す実施例及び比較例を挙げ
て、本発明をより具体的に説明する。

実施例１第８図に示すスパッタ装置（米国ＡＩＲＣＯＳＯＬＡＲ
ＰＲＯＤＵＣＴＳ社製、モデルＩ　ＬＳ−１６００）を
用いて、スパッタを行なった。

第８図に示す装置は、その本体３１内部に基材の搬送コ
ンベア３２が延在し、アースされたスパッタ室３７と人
込室３６とが仕切られており、仕切部にはゲート弁３３
が設けられている。スパッタ室３７にはガス流量調整器
３５ａ、３５ｂ。

３５ｃによりＡｒ、０２又はＮ、が計量供給可能とされ
ており、また、スパッタ室３７内に設けられた陰極３４
ａ、３４ｂ、３４ｃにはそれぞれ高周波ＤＣ電源３８又
はＲＦ電源３９が切換印加可能とされている。図中、４
０ａ、４０ｂは真空ポンプへの排気管である。基材は人
込室３６より搬送コンベア３２により搬送され、陰極３
４ａ〜３４Ｃの下方を通過する過程で、陰極３４ａ〜３
４ｃに取り付けたターゲットによりそれぞれ順次スパッ
タ層が形成される。

このような装置を用い、陰極３４ｂに９９．９９％純度
のＡｇターゲットを、陰極３４ａに９９．９％純度のＡ
ｊＺターゲットを装着した。基材としては、洗剤洗浄後
よく純水でリンスし乾燥させた３ｍｍ厚のソ〒ダライム
ガラスを用いた。

人込室３６に基材をセットし、人込室３６を高真空に排
気したのち、ゲート弁３３を開けた。スパッタ室３７の
真空度が５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ以下になるまで真空排気
し、窒素ガスをスパッタ室３７の圧力が３Ｘ１０−３Ｔ
ｏｒｒになるように調整しながらスパッタ室３７に導入
した。

まず、陰極３４ａのＡｎターゲットにＤＣ電力２．４Ｋ
Ｗを印加し、搬送コンベアで基材をスパッタ陰極３４ａ
の下を等速で通過させ２５０人の窒化アルミニウム膜を
ガラス上に形成した。次に導入ガスをＡｒに切替え、陰
極３４ｂのＡｇターゲットにＤＣ電力０．４ＫＷを印加
して、基材を陰極３４ｂの下を通過させ、９０人のＡｇ
層を第２層として形成した。最後に第１層と同様な方法
で搬送コンベアのパラメータだけを変え陰極３４ａのＡ
１ターゲットにより５００人の窒化アルミニウム層を形
成した。

得られた試料を装置外に取り出し、光学特性を測定した
ところ、ＪＩＳＲ３１０６−１９８５の測定法で、可視
光透過率８３．９％。

膜面側の放射率０．１３であった。また膜面、ガラス面
の反射色はいずれも淡い青色であり、膜面側の反射色は
２°視野Ｄ６５先に対するＣＩＥＬ、ａ、ｂｉ標でＬ＝
２４．Ｏａ＝−１，５ｂ子−１１，６であった。

この試料を３０℃相対湿度８０％の恒温恒温器に入れて
劣化テストを行ったところ、５日経過しても直径８０μ
ｍ以上の腐食斑点は１ケ／　ｍ　ｍ　２未満であった。

この状態で直径８０μｍ以上の腐食斑点が１ケ／　ｍ　
ｍ　’以上形成されるに要する日数（耐久日数）は９日
であった。

なお、本実施例における窒化アルミニウム層の形成と同
様の条件でシリコンウェハ上に窒化アルミニウム単層膜
を形成し、膜分析を行なったところ、偏光解析法で６３
３ｎｍの波長での屈折率を測定するとｎは１．８３、ｋ
は０．００５以下であり、透明な膜が形成されているこ
とが確認された。ＲＢＳにより組成分析を行なうと、組
成比はＡｌｌ：Ｎ：０＝４Ｂ：４０：　１２であり、ま
た、ＥＳＣＡによるとＡＪ２は主としてＮと結合してお
り、窒化アルミニウム主体の膜が形成されていることが
確認された。

実施例２搬送コンベアのパラメータを変えたこと以外は実施例１
と同様にしてガラス／窒化アルミニウム（４００人）／
Ａｇ（ｔ２ｏ入）／窒化アルミニウム（４００人）の３
層構成の試料を作成した。　゛この試料の３４０ｎｍ〜２μｍの反射スペクトルおよび
３４０ｎｍ〜２５μｍの透過スペクトルを第９図及び第
１０図に示す。

この試料のＪＩＳ　　Ｒ３１０６−１９８５による可視
光透過率は７８．５％、可視光反射率は膜面側で１０．
７％であった。また、日射透過率は５０．１％、膜面側
の日射反射率は３９．９％、膜面側の放射率は０．０５
であった。

また、この試料の面積抵抗を４端子法で測定したところ
、５．５Ω／口であった。

比較例１各陰極にセットするターゲット及び投入電力、導入ガス
を下記の通りとして、搬送コンベアのパラメータを調節
することにより、第１表に示す３層構造の試料を作製し
た。

３４ａ　　　Ｚｎ　　　　Ｏ，＋１０％ＡｒＤＣ１，５
３４ｂ　　　Ａｇ　　　　　　Ａｒ　　　　　ＤＣｏ、
４＊１＊２３４ａ　　　Ｚｎ　　　　０２＋１０％ＡｒＤＣ１，５
（＊１　純度９９゜９５％）（＊２　体積％。以下、導入ガスの％は体積％を示す、
）その結果、可視光透過率６３．０％、膜面の放射率０．
８４のヘーズ率の大きな膜しかできなかった。また、Ｓ
ＩＭＳ分析の結果Ａｇ層と酸化亜鉛層の相互拡散が生じ
ていたことがわかった。

比較例２投入電力、導入するガスを下記の通りとしたこと以外は
、比較例１と同様にして、第１表に示す４層構造の試料
を作製した。

３４ａ　　　Ｚｎ　　　　　　０２　　　　ＤＣｌ、５
３４ｂ　　　Ａｇ　　　　　　Ａｒ　　　　ＤＣｏ、４
３４ａ　　　Ｚｎ　　　　　　Ａｒ　　　　ＤＣｏ、０
６３４ａ　　　Ｚｎ　　　　　　０２　　　　ＤＣｌ、
５その結果、可視光透過率８１．８％、膜面放射率０．
１２の淡い青色反射色をもつ試料が得られたが、実施例
１と同様の劣化テストでは、１日経過しただけで１ケ／
　ｍ　ｍ　’以上の数の直径８０μｍ以上の大きさの腐
食斑点が観察された。

比較例３各陰極にセットするターゲット及び投入電力、導入ガス
を下記の通りとして、搬送コンベアのパラメータを調節
することにより、第１表に示す３層構造の試料を作製し
た。

３４ａ　　　　　Ｓｉ　　　　　　　　　　　　　＋５
％ｉ０２　　ＲＦ　　２．３３４ｂ　　　　　Ａｇ　　
　　　　　　　　Ａｒ　　　　　　　　ＤＣｏ、４＊　
　　　　Ｎ２＋３０％Ａｒ３４ａ　　　　　Ｓ　　ｉ　　　　　　　　　　　　　
＋　　５９６０２ＲＦ　　２．３（＊　純度９９．９９
９％）その結果、可視光透過率７５％以上の試料をマすること
ができなかった。分析してみるとＳｉのスパッタ膜の屈
折率がｎ＝１．６５であり、組成比Ｎ：Ｏ＝１：３であ
ることがわかった。

実施例３モル組成比がＳｉ：Ａｕ：Ｏ：Ｎ＝１１：１：１：１５
で粒界結合相として８重量％の酸化イツトリウムを含む
サイアロン（ＳｉとＡｎの酸窒化物）の焼結体ターゲッ
トとＡｇターゲットを用い、導入ガス、投入電力を下記
の如くとし、搬送コンベアのパラメータを変えて、実施
例１と同様にして、第１表に示す３層構造の試料を作製
した。

３４ａ　　　サイアロン　　Ａｒ＋１０％Ｎ２＋１％ｏ
、　　　ＲＦ　　Ｏ，４３４ｂ　　　　　Ａｇ　　　　
　　　　　　Ａｒ　　　　　　　　ＤＣｏ、４３４ａ　
　　サイアロン　　Ａｒ＋１０％Ｎ２＋１％０２　　Ｒ
Ｆ　　Ｏ，４得られた試料は、実施例１の試料と同等の
性能を示した。

実施例４モル組成比がＡＪＺ：５ｉ＝８７．９：１２．１（不純
物０．１重量％以下）のＡｎ−３ｉ焼結体ターゲットと
Ａｇターゲットを用い、導入ガス、投入電力を下記の如
くとし、搬送コンベアのパラメータを変えて、実施例１
と同様にして、第１表に示す３層構造の試料を作製した
。

３４ａ　　Ａｌ１−３ｉ　　Ｎ２＋１０％ＡｒＤＣ２，
２３４ｂ　　　Ａｇ　　　　　　Ａｒ　　　　　ＤＣｏ
、４３４ａ　　ＡＪＺ−ＳＬ　　Ｎ２＋１０％ＡｒＤＣ
２，２得られた試料は、実施例１の試料と同等の性能を
示した。

実施例５窒化ＡｆＬ−Ｓｉ形成雰囲気をＮ２＋１５％０２＋１０
％Ａｒとし、搬送コンベアのパラメータを変えて、実施
例４と同様にして、第１表に示す３層構造の試料を作製
した。

得られた試料は、実施例１の試料と同等の性能を示した
。

比較例４Ａｆｔ−３ｔターゲツトによるスパッタ時の導入ガスを
Ｎ、＋２５％０２＋１０％Ａｒとしたこと以外は実施例
５と同様にして第１表に示す３層構造の試料を作製した
。

得られた試料は部分的にＡｇが酸素でおかされており、
この部分は放射率が０．６以上の値となっていた。

実施例６第８図に示す装置において、ＡＪＺ、Ａｇターゲットに
更にＳｎターゲット（純度９９．９９％）を追加取り付
けし、ターゲット、導入ガス、投入電力を下記の如くと
し、搬送コンベアのパラメータを変えて、実施例１と同
様にして、第１表に示す４層構造の試料を作製した。

３４ｃ　　　Ｓｎ　　　　　　０２　　　　ＤＣ１，３
３４ｂ　　　Ａｇ　　　　　　Ａｒ　　　　ＤＣｏ、４
３４ａ　　　Ａｊ！　　　　　　Ｎ２　　　　ＤＣ２，
４３４ｃ　　　Ｓｎ　　　　　　Ｏ２ＤＣｌ、３得られ
た試料は、実施例１の試料と同等の性能を示した。

実施例７実施例１において、窒化Ａｊｌの第１層を形成しなかっ
たこと以外は同様にして、第１表に示す２層構造の試料
を形成した。

この試料は可視光透過率が約５％低く、可視光反射率が
約５％高い以外は実施例１の試料と同等の性能を示した
。

実施例８基材として３ｍｍ厚のポリカーボネート板を用い、高真
空排気後スパッタ処理前に１１０℃、３０分間のベーキ
ングを行なったこと以外は実施例１と同様の方法で、第
１表に示す３層構造の試料を作製した。

得られた試料は実施例１の試料と同等の性能を示した。

比較例５各陰極にセットするターゲット及び投入電力、導入ガス
を下記の通りとして、搬送コンベアのパラメータを調節
することにより、第１表に示す３層構造の試料を作製し
た。

＊３４ａ　　　Ｓｔ　　　　Ｎ２＋３０％Ａｒ　　　ＲＦ
２．３３４ｂ　　　Ａｇ　　　　　Ａｒ　　　　　　Ｄ
Ｃｏ、４＊３４ａ　　　Ｓｔ　　　　Ｎ、＋３０％Ａｒ　　　ＲＦ
２．３（＊　純度９９．９９９％）得られた試料は可視光透過率が７５％以下であり、劣化
テストの結果も実施例１に比べ劣っていた。なお、本比
較例と同様の窒化珪素形成条件にて、シリコンウェハ上
に窒化珪素単層膜を形成し、これを分析したところ、偏
光解析法により測定した屈折率（λ＝６３３ｎｍ）はｎ
＝１．９２．　ｋ冨０．０６であり、ＲＢＳによる組成
分析結果は、Ｓｔ　：Ｎ：Ｏ：Ａｒ＝４２：４６．５：
１８：０．５であり、ＥＳＣＡとＩＲ分析によるとＳｔ
の結合状態は５ｔ−Ｎが主体であることが確認された。

以上、実施例及び比較例で得られた試料の性能を第１表
にまとめて示す。なお、各特性の測定方法は、実施例１
．２の方法による。

第１表より、本発明の熱線反射板は光学的性能及び耐腐
食性、耐久性が著しく優れていることが明らかである。

［発明の効果］以上詳述した通り、本発明の可視光透過性を有する熱反
射板は、 ■　可視光透過性率が著しく高い。

■　熱線反射率が著しく高い。

■　耐食性に著しく優れる。

■　製造設備の小型化、工程の簡素化が図れる。

■　製造にあたり、ターゲットコスト、電源コストの低
廉化が図れる。

等の優れた効果を有する。従って、本発明によれば、光
学特性、耐久性に優れた熱線反射板であって、低コスト
で容易に製造可能な熱線反射板が提供される。

本発明において、基材と熱線反射層との間に金属の酸化
物、窒化物又は酸窒化物よりなる透明誘電体層を形成し
た場合には、可視光透過性能等の光学特性をより高める
ことができる。

また、被覆層の上に金属酸化物よりなる透明誘電体層を
形成した場合には、耐食性、耐久性をより高めることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は各々本発明の実施例に係る熱線反射板
を示す断面図、第４図〜第７図は各々従来例を示す断面
図、第８図は本発明の熱線反射板の製造に好適なスパッ
タ装置を示す構成図、第９図及び第１０図は、実施例２
で得られた熱線反射板の反射スペクトル及び透過スペク
トルを示すグラフである。１・・・熱線反射板、２・・・基材、３・・・熱線反射層、　　　　４・・・被覆層、５・・
・下地層、　　　　　　６・・・保護層。代理人　　弁理士　　重　野　　剛第４図　　　　第５図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）可視光透過性を有する基材と、該基材上に形成さ
れた貴金属よりなる熱線反射層と、該熱線反射層上に形
成されたアルミニウムを主体とする金属又はアルミニウ
ムと珪素を主体とする金属の窒化物又は酸窒化物よりな
る被覆層とを有する可視光透過性を有する熱線反射板。
（２）前記基材と熱線反射層との間に金属の酸化物、窒
化物又は酸窒化物よりなる透明誘電体層が形成されてい
る特許請求の範囲第１項に記載の可視光透過性を有する
熱線反射板。
（３）前記被覆層の上に金属酸化物よりなる透明誘電体
層が形成されている特許請求の範囲第１項又は第２項に
記載の可視光透過性を有する熱線反射板。