JPS63247352A - 反応性スパッタリングによる透明コーティング - Google Patents

反応性スパッタリングによる透明コーティング

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JPS63247352A
JPS63247352A JP63022653A JP2265388A JPS63247352A JP S63247352 A JPS63247352 A JP S63247352A JP 63022653 A JP63022653 A JP 63022653A JP 2265388 A JP2265388 A JP 2265388A JP S63247352 A JPS63247352 A JP S63247352A
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ジェイムズ　ジェイ　ホフマン
スティーヴン　ジェイ　ネイデル
エリック　ビョールナード
ドナルド　ヴイ　ジェイコブソン
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は基材上に耐久性の透明コーティングを形成する
ための反応性ガスの存在下の金属のカソードスパッタリ
ングに関する。
近代建築および車両の窓は特定光学特性を有するコーテ
ィングをして提供される。薄い金属フィルムが太陽放射
熱の反射を増加させるためにガラスまたはプラスチック
上に析出される。なお一層エネルギー効率のよい窓は電
磁スペクトルの赤外波長範囲における高反射率および低
放射率と組合せた高い可視透過率を有する多層誘電体−
金属−誘電体コーティングを含む。誘電体層の屈折率は
窓の可視反射率を最少になし、可視透過率を増強するた
めに、好ましくは２．０またはそれ以上である。そのよ
うな多層コーティングはしばしば不′活性ガス雰囲気中
で金属ターゲットをスパッタして金属層を析出させ、反
応性ガスを含む雰囲気中で誘電体層を析出させることに
より析出される。そのようなスパッタコーティングはギ
レリ（Ｇｉｌｌｅｒｙ）に対する米国特許第４．６１０
．７７１号に記載されている。
そのような誘電体−金属−誘電体コーティングの１つは
フロートガラス基材上に析出させた酸化亜鉛、銀、亜鉛
および酸化亜鉛の連続層を含む。
銀はその高い赤外反射率のために好ましいが、しかし金
属層はまた金、銅または他の良好な誘電体であることが
できる。銀を使用するとき、銀を腐食から保護するため
に亜鉛、スズ、チタン、アルミニウムまたは他の金属の
非常に薄い層で被われる。酸化亜鉛はそれが２．０の屈
折率を有し、酸化物に対して比較的高い速度で反応性ス
パッタリングにより析出できるので好ましい誘電体であ
る。
種々の他の物質例えばビスマス、チタン、スズおよびイ
ンジウムの酸化物並びにアルミニウムの窒化物もまた誘
電体層として使用される。
通常、コートしたガラスはコーティングが内面上にある
二重ガラス窓ユニットの部材として封入され、その場合
にコーティングはガラスにより、コーティングの腐食お
よび光学特性の劣化を生ずることかできる摩耗および環
境物質から保護される。摩耗および腐食は製作工程の前
および工程中にコートしたガラスを取扱う間でも問題で
ある。
より硬く、より耐食性の誘電体物質を金属または誘電体
コーティングに対する保護膜を与え、あるいは誘電体−
金属−誘電体コーティング中の１つまたは両方の誘導体
層の若干またはすべてを置換する必要が認められている
。本発明はこれらおよび他の目的に対する反応性スパッ
タしたアルミニウムーケイ素合金の使用に関する。
アルミニウムーケイ素合金はかつて反応性ガス中でスパ
ッタされた。
論文「薄いムライト膜の製造」、ジャーナル・オブジ・
アメリカン・セラミック・ソサイエテイニ（Ｊ、八ｍ、
　Ｃｅｒａｍ、　Ｓａｃ、　）、　　４６巻、１６１〜
１６７頁（１９６３）中にウィリアムズ（Ｊ、Ｃ，ｉ’
ｉｉｌｌｉａｍｓ）ほかは２０．２８および４０重量％
のケイ素を有するアルミニウムーケイ素合金ターゲット
を酸素中でスパッタすることによる混合Ａ　ｉ　２０３
／　５１０２フイルムの析出を開示した。
論文ｒＤＣマグネトロンスパッタアルミニウムーケイ素
の性質に対する残留ガスの影響」、ジャーナル・オブ・
バキューム・サイエンス・アンド・テクノロジー（Ｊ、
Ｖａｃ、Ｓｃｉ、Ｔｅｃｈｎｏｌ、）＋　　１７巻、３
８４〜３８７頁（１９８０）中に、ノヴイソキ（Ｒ，Ｓ
、Ｎｏ讐１ｃｋｉ）はアルゴン−１％酸素のガス中でア
ルミニウムー１．５％ケイ素のターゲットのスパッタリ
ングにより析出した金属フィルムを開示した。
発明の概要 本発明はアルミニウムーケイ素合金を反応性ガス中でス
パッタし透明な無定形（ガラス質）コーティングを析出
させることにより析出したコーティングに関する。その
ようなコーティングは殊に透明なガラスまたはプラスチ
ックベース上の誘電体−金属−誘電体または他のコーテ
ィングに対する保護膜として有用である。
無定形コーティングを得るために合金中に存在しなけれ
ばならないケイ素の下方水準は正確には知られていない
。アルミニウムー２％ケイ素が主に結晶性または微結晶
性であり、従って一層透過性で腐食遮断層として適する
ことが少ない酸化物コーティングを形成すると思われる
。ケイ素の有用な上限もまた正確には知られていない。
純ケイ素は電気伝導率が低いので、直流によるスパッタ
リングに適しない。ケイ素中の０．２％程度のアルミニ
ウムは適当な伝導率を与える。ケイ素中の約５％のアル
ミニウムの含有はスパッタリングターゲットのコストを
有意に低下し、約１０％のアルミニウムを有するターゲ
ットはおそらくかなり高い析出速度を有するであろう。
高速スパッタリングに適する密ターゲットに容易に製作
できるアルミニウムーケイ素合金が好ましい。約７０％
のアルミニウムおよび３０％のケイ素の合金の真空鋳込
みにより形成されたターゲットは非常に多孔性で反応性
スパッタリング中のアーク放電が非常に問題であった。
アルミニウムーケイ素の状態図は８８．３％アルミニウ
ムおよび１１．７％ケイ素で共晶を有する。約８８％の
アルミニウムおよび１２％のケイ素を付随不純物ととも
に有する組成物は密な容易にスパッタするターゲットを
常法により容易かつ安価に製造できるので殊に好ましい
。アルミニウムおよびケイ素に加えてかなりの量の金属
を含む合金は他の濃度で共晶を有する。これらの因子を
考慮すると、本発明によるアルミニウムーケイ素合金に
対する好ましい範囲は６〜１８重量％ケイ素である。二
成分合金に対する相当する範囲は８２〜９４％アルミニ
ウムである。１０〜１４％ケイ素の範囲がより好ましい
。
スパッタリングガスは好ましくは不活性ガス、好ましく
はアルゴン、と反応性ガスとの混合物である。酸素、窒
素、酸素と窒素の混合物、並びに酸素および窒素のガス
状化合物例えば亜酸化窒素が好ましいが、しかし他の反
応性ガスも可能である。アルゴンと酸素との混合物の使
用は約１．６の屈折率、１５０　Ａ［０１［＋２／Ｊの
規格化析出速度（後記のような）を有するフィルムを生
ずる。アルゴンと窒素との混合物は２．２の屈折率およ
び５（１１）Ａｍｍ２／Ｊの規格化析出速度を有するフ
ィルムを生ずる。アルゴン、酸素および窒素の混合物は
中間値の屈折率および析出速度を有するフィルムを生ず
る。
本発明により析出されたフィルムはアルミニウムおよび
ケイ素と反応性ガスの反応性成分との反応生成物を含む
。スパッタリングガスが酸素を含むとき、析出コーティ
ングはアルミニウムおよびケイ素の酸化物の混合物を含
む。スパッタリングガスが窒素を含むとコーティングは
アルミニウムおよびケイ素の窒化物の混合物を含む。こ
れらの４化合物はすべて比較的硬質である。これらの反
応生成物は酸化亜鉛および多結晶質フィルムを形成する
他の物質より良好な腐食に対するバリヤーである無定形
フィルムを形成する。
本発明による方法およびコートした物品は妥当なコスト
を有する容易にスパッタするターゲットを用いて比較的
高い速度で析出できる耐久性の透明コーティングを与え
る。コーティングの厚さ、およびしばしば屈折率を調整
して、望むように着色または実質的に無色のフィルムを
得ることができる。硬さおよび耐食性はコーティングを
環境条件およびコートしたガラスを二重ガラス窓ユニッ
トに組立てる間の取扱いに対する感受性を少くする。
好ましい態様の説明 コーティングは従来のスパッタリング装置で製造される
。１種またはそれ以上のスパッタリング源がシールし、
普通の真空ポンプにより排気できる室中に置かれる。金
属および誘電体コーティングを析出させるならば原料を
ゲートまたは個々に排気される分離領域により分離しス
パッタリングガスの交差汚染を防ぐことができる。スパ
ッタリングガスの圧力および流量もまた普通の装置によ
り制御される。混合ガスが使用されれば、異なる成分は
個々に制御される。各スパッタリング源は適当な電源、
好ましくは電圧、電流または出力を望むように自動的に
維持する設備を有する直流源に連結される。
初めの試料はチャビン（Ｃｈａｐｉｎ）に対する米国特
許第４，１６６．０１８号に開示された型の負荷ロック
並びに１円形および２長方形面状マグネトンスパッタリ
ング源を備えたコーテイング室を含む真空系中に配置し
た。円形源は直径６インチの銀ターゲットを有した。２
つの長方形源は４×８インチターゲット、１つは亜鉛、
他はアルミニウムーケイ素合金、を有した。ターゲット
は付随不純物を有する７３％アルミニウムおよび２７％
ケイ素であり、適量の金属粉末を混合し、融解し、真空
で鋳込み冷却し、次いで最終大きさに機械加工する普通
の段階により調製した。４×４インチまたは４×６イン
チガラス基材を洗浄し、次いで亜鉛ターゲットをアルゴ
ン−酸素雲囲気中でスパッタすることにより析出した酸
化亜鉛４（１１）〜４５０Ａ（オングストローム）でコ
ートした。次いでこれを４０〜４５Ａの銀層、次に約５
Ａの亜鉛を、金属ターゲットをアルゴン雰囲気中をスパ
ッタすることにより析出した。次いでさらに４（１１）
〜４５０Ａの酸化亜鉛の層がきた。この誘電体−金属−
誘電体コーティングに、アルゴン：酸素流比２０：１で
６ｍＴ　（６Ｘ　ｌ　０−３）ル）の全圧でアルゴンお
よび酸素を含むスパッタリングガス中のアルミニウムー
ケイ素ターゲットの反応性スパッタリングにより保護膜
を与えた。スパッタリング電圧はアルミニウムーケイ素
酸化物および酸化亜鉛の析出に対し５（１１）Ｖ、銀に
対し３９０Ｖ、並びに亜鉛に対し８（１１）ｖであった
。アルミニウムーケイ素酸化物層の屈折率は１．５７で
あった。
表２〜６の試料コーティングはエアロ・ソーラ・プロダ
クツ（Ａｉｒｃｏ　５ｏｌａｒ　Ｐｒｏｄｕｃｔｓ、譲
受人のディビジョン）により製造されたモデルＩＬＳ−
１６（１１）スパッタリング装置で行なった。この装置
は負荷ロックおよび３個別率面マグネトロンスパッタリ
ング源（これに亜鉛、銀およびアルミニウムーケイ素合
金のターゲットを配置した）を有する単一コーテイング
室を有する。ターゲットはすべて５×１フインチの大き
さであり、アルミニウムーケイ素ターゲットは約０．２
５インチの厚さであった。１つのターゲットは２８％ケ
イ素および付随不純物を有する約７２％アルミニウムで
あり、第２は１２％ケイ素および付随不純物を有する約
８８％アルミニウムであった。これらのターゲットは前
記のように調製したが、しかし１２％ケイ素ターゲット
は機械加工前に冷間圧延した。
コートする基材は洗浄し、基材を装置に輸送し、スパッ
タリング源の下を１回またはそれ以上通す水平コンベヤ
ー系上に置いた。
典型的にはこの装置で銀の８０Ａ層を４ｍＴのアルゴン
雰囲気中、０．５ＫＷのスパッタリング出力および３（
１１）ｖの電圧で約５７鶴／秒のライン速度で１通過で
析出させた。酸化亜鉛の３５０Ａ層は３ＫＷおよび３９
０Ｖで、ｌ：１５の比および３ｍＴの全圧を有するアル
ゴンおよび酸素を含む雰囲気中で１５１ｍ／秒のライン
速度で１通過で析出させた。（８８％Ａｌ、１２％Ｓｉ
）酸化物の３（１１）Ａ層は典型的には６．５ＫＷの出
力および２８０〜３（１１）ｖの電圧で、３ｍＴの全圧
で１＝２の比を有するアルゴンおよび酸素の雰囲気中で
約５ｍ／秒のライン速度で１通過で析出させた。
（８８％Ａ１．１２％Ｓｉ）窒化物の３（１１）ＡＪｉ
は典型的には６．５ｋＷ、３（１１）〜３２０Ｖで、３
ｍＴの全圧で１＝２の比を有するアルゴンおよび窒素の
雰囲気中で１３ｕ／秒における１通過で析出させた。（
８８％Ａｌ、１２％Ｓｉ）オキシニトリドの３（１１）
Ａ層は典型的には６ｋＷの出力および３２０Ｖの電圧で
、３ｍＴの全圧で２：４：１の比を有するアルゴン、窒
素および酸素の雰囲気中で９鰭／秒のライン速度で１通
過で析出させた。
各層に対する正規化析出速度りは次式で計算される。
ｄｃ Ｄ≠□ ｐ 式中、 Ｄは正規化速度Ａｓｓ”／Ｊであり、 Ｓは移動基材の速度、ｎ７秒であり、 ｄは析出層の厚さ、Ａであり、 Ｃは平面マグネトロンスパッタリング源の閉ループ浸食
領域の長さ、鶴であり、 ｎは基材が析出中にスパッタリング源を通過する回数で
あり、 ｐはスパッタリング出力、Ｗである。
若干の酸化物および窒化物に対するＤの値は表１に示さ
れる。
表１ 化合物　ＺｎＯＳｎｕｇ　　Ａ／ｚ０３ＴｉＯｚ　　Ｔ
ｉＮ　　ＡＩＮＤ　　１５（１１）１（１１）０　２（
１１）１（１１）３８０６５０化合物　（８８八ｊ！　
、１２Ｓｉ）Ｎｘ　（７２Ａｆ　、２８Ｓｉ）Ｏｘ　（
８８Ａｊ！　、１２Ｓｉ）ＯｘＤ　　５（１１） 　　２（１１）　　１５０試料コーテイングを５試験に
かけ、その耐食性および硬さを測定し、５試験の数値を
加えて範囲が４〜４３である組成物の耐久性指数Ｃを得
た。
非常に簡単に記載すると腐食試験操作は次のとおりであ
った： ＤＩ２４： コーティングを脱イオン水で飽和した濾紙の区画に接触
させた。２４時間後に濾紙を除き、試料を風乾し、次い
で１（１１）×および４（１１）×の倍率で顕微鏡下に
写真を撮った。ｌＯは腐食がなく１は完全腐食である尺
度で写真を主観点に適合させた。
ＮａＣｆ２４： 試験操作は、ＤＩ２４と同様であったが、しかし濾紙は
脱イオン水中の塩化す）　ＩＪウム１重量％溶液で飽和
した。
指紋： 試料コーティングに指紋をつけた。２４時間後および２
週間後再びコーティングをキムワイプ（Ｋｉｍｗｉｐｅ
ｓ）　ティッシュおよび普通のガラスクリーナーで洗浄
した。３は腐食なしを表わし、２は多少汚損または他の
効果を、１は可視腐食を表わす尺度に対して試料を評価
した。
フィルムの高さは２試験により評価した：消しゴム試験
： コーティングを普通の鉛筆消しゴムで５回こすり、顕微
鏡下に５０×倍率で写真を撮った。１０は効果なし、１
はフィルムの大部分がすり落されたことを示す尺度に写
真を適合させた。この試験は各試料に対し２回行なった
。
テーパ摩耗試験機： ４Ｘ４インチ試料コーティングを５（１１）ｇの適用塊
でＣ５−１０Ｆホイール５０回転により摩耗させた。ホ
イールは毎１０回転の摩耗後に２５回転表面再生した。
５０回転後に試料を５０ｘ倍率で写真を撮り、典型的な
１×１インチ平方の掻ききすの数を測定した。評点は１
Ｏ−９Ｎ１５０（ただしＮは掻ききすの数である）とし
て計算した。
この尺度でＯ掻ききずは１０を得、５０掻ききすは１を
得、５０掻ききすより大きいものは０の評点を与える。
試料の光学特性は分光光度計で測定した。Ｙ。
は０１８色度スケール上の強度パラメーターにより表わ
した可視スペクトルを積算したフィルム側面反射率であ
る。Ｙｏはガラス側面反射率に対する同様のパラメータ
ーであり、Ｙ７は試料の可視透過率である。若干の場合
に、放射率ｅおよびシート抵抗Ｒ８（オーム／スケ子）
を測定した。
表２および３の試料には誘導体−金属−誘電体コーティ
ングが含まれる。このコーティングはＺｎＯ参照コーテ
ィングとして示され、呼称組成（３５０＾）ＺｎＯ＋　
（８０Ａ）Ａｇ　＋　（２０Ａ）Ｚｎ　＋　（５２０Ａ
）ＺｎＯを有する。このコーティングの典型的な試料に
対する耐久性および光学特性は表５および表６の第１行
に示される。
表２はアルミニウムーケイ素合金ターゲットの組成、反
応性ガスＲ１０□流の０２およびＮ２の合計流に対する
比Ｔ、保護膜厚さｔ、並びに誘電体−金属−誘電体コー
ティングをアルミニウムーケイ素合金の反応性スパッタ
リングにより析出した保護膜をコートしたコーティング
の群に対する複合耐久性因子Ｃを示す。
表２ ガラス＋Ｄ−Ｍ−Ｄコーティング＋（Ａ／！、５ｔ）Ｒ
ｘ上層 ただしＤ−Ｍ−ＤはＺｎＯ参照コーティングである。
上層 試料　　χＳｉ　　　Ｒガス　　　ｔ（Ａ）Ｃｒ１３−
１　１２　　Ｎｚ　　　３（１１）　３４　０１２−１
　１２　０□　　３（１１）　３３　１９４−１　１２
　　Ｎ２３（１１）　３７　０１１３　　　　　　１２
　　　　　　０ｔ＋Ｎｔ　　　　　　３（１１）　　　
　３９　　　　０．３７２−２　２８　０□＋ＮＺ　　
３（１１）　３４　０．２表３にアルミニウムーケイ素
組成、反応性ガスＲ１層厚ｔ、および誘電体−金属−誘
電体コーティングが、ともにアルミニウムーケイ素合金
の反応性スパッタリングにより析出された下層および上
層を与えられた試料の群に対する複合耐久性因子Ｃが示
される。
表３ ガラス＋（Ａｊ！、５ｉ）Ｒｘ下層＋Ｄ−Ｍ−Ｉ）１−
テイング＋（ＡＣ５ｔ）Ｒｘ上層 ただしＤ−Ｍ−ＤはＺｎＯ参照コーティングである 下層　　　上層 試料　　　χＳｉ　　　　Ｒガス　　　　ｔ（Ａ）　　
　　　　Ｒガス　　　　ｔ（Ａ）　　　Ｃ１４−２１２
Ｎ、　　３（１１）　　Ｎ２　３（１１）３５１５−２
１２　０□　３（１１）　　Ｎｚ　　４５０３７１２−
３１２　０□　３（１１）　０ｘ　　３（１１）−２６
−１２８　０□　３（１１）０□　３（１１）３４表４
は表３に類似するが、しかし銀コーテイングに反応性ス
パッタしたアルミニウムーケイ素合金の下層および上層
を与えた試料の群に対するパラメーターを示す。
表４ ガラス＋（Ａｎ、５ｉ）Ｒ下層＋Ａｇ（８０Ａ）、コー
ティング＋（Ａｊ！、５ｉ）Ｒ上層下層　　　上層 試料　　χＳｉ　　Ｒガス　　ｒ　　　ｔ（Ａ）　　　
Ｒガス　　ｒ　　　　ｔ（Ａ）Ｃ５３−１２８Ｎ２０３
６０　ＮＺ　　Ｏ５５０２４６Ｂ−１２８０□　１５２
（１１）□　１７５０２０７３−１　　２８　　０２十
Ｎ、０．２２５３　　　　（ｈ＋ＮｚＯ，２３７０２３
表５はＺｎＯ参照コーティング（試料２９−１）および
本発明により作られたガラスコーティングの群の個々の
腐食および硬さ試験の結果を示す。
表５中の残りの試料の組成は表２〜４の１つに示されて
いる。
表５ 耐久性試験データ 摩耗 試料０１２４　　ＮａＣβ２４　　指紋　試験機　テー
バ　複合１２−１９　　　９　　　　：３　　　６　　
　６　　３３表６はＺｎＯ参照コーティング（試料２９
−１）および本発明により作られた試料コーティングの
群の光学特性を示す。表６の他の試料のそれぞれのコー
ティング組成は表２〜４の１つに示されている。ＺｎＯ
参照コーティングの放射率は０．１′　　である、経験
はｌＯオーム毎スクエアまたはそれ未満のシート抵抗Ｒ
１を有する誘電体−金属−誘電体が０１．ｌまたはそれ
未満の放射率を有することを示す。
表６ 光学試験データ 試料　　　ＹＦ　　　　Ｙ、　　　　Ｙ、　　　　Ｒ。
１４−２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ｇ
第１図はガラス上の（８８％Ａａ、１２％Ｓｉ）オキシ
ニトリドのコーティングの群に対する酸素の酸素および
窒素の合計との比Ｔの関数として正〜規化した析出速度
りを示す。アルゴン：窒素比は１：２７一定であった。
データ点の近くに示した数字は、化学分析に対する電子
分光法（ＥＳＣＡ）により測定したフィルム中の酸素の
原子％である。
第２図は第１図のものに類似するが、しかしアルゴン：
窒素比が３＝７であうたコーティングの群に対する屈折
率を示す。
第２図のデータ点近くに示す数字は相対温度９５〜１（
１１）％で１２０＠Ｐ　　（４９℃）で、キャビネット
中の２４時間の暴落を基にした１　（剥離）〜１０（認
められる効果なし）の尺度における評点である。これら
のデータはＺｎＯ参照コーティングに１１（ＩＩするが
、しかし第２ＺｎＯ１ｉは、単に２２Ａ厚さであったコ
ーティング上に適用した（８８％／ｌ！、１２％Ｓｉ）
オキシニトリドの３（１１）Ａ層に対するものであった
。
第１図は析出速度が、酸素流比γが約０．３まで増加す
ると急速に低下することを示す。第２図は屈折率が０．
１より大きいＴに対して低下するが、しかしＴが約０，
２を越えるまで耐湿性が急速に増加することを示す。γ
に対する約０．１−０．３の範囲が好ましい。
第３図は二重ガラス窓ユニットの断面図を示す。
ユニットはギャップにより分離された２枚の透明シート
ｌおよび２を含み、ギャップはシートの整合端の周りに
普通の密封シール３によりブリッジされている。シート
はガラス、プラスチックまたは他の適当な材料であるこ
とができる。シート１は、誘電体−金馬一誘電体コーテ
ィングであることができ、本発明による無定形コーティ
ング５によりカバーされるコーティング４に対するペー
スである。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による８８％アルミニウムおよび１２％
ケイ素のターゲットをアルゴン、酸素および窒素の混合
物中でスパッタすることにより析出したコーティングに
対するＯ３流の０．およびＮ、の合計流に対する比Ｔの
関数として規格化した析出速度Ｄ　（Ａｍ”　／Ｊ）を
示すグラフである。 第２図は本発明によるアルゴン、酸素および窒素の混合
物中で８８％アルミニウムおよび１２％ケイ素のターゲ
ットをスパッタすることにより析出したコーティングに
対する０！流のＯｔおよびＮ、の合計流に対する比の関
数としｔ屈折率を示すグラフである。 第３図は本発明によりコートした透明シート組込んだ二
重ガラス窓ユニットの断面図である。 １．２・・・透明シート、３・・・密封シール、４・・
・コーティング、５・・・無定形コーティング。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）コーティングおよび保護膜を基材上に析出する方
    法であって、 コーティングを基材上に析出すること、 アルミニウムおよび無定形保護膜の生成に十分なケイ素
    を含む合金のスパッタリングターゲットを調製すること
    、 ターゲットおよびコートした基体を排気室中に置くこと
    、 アルミニウムおよびケイ素と反応する成分を有するガス
    を含む雰囲気中でターゲットをスパッタし、アルミニウ
    ムおよびケイ素の反応生成物を含む透明無定形保護膜を
    形成すること、を含む方法。 （２）合金がケイ素を約６％以上で約９５％未満含む、
    請求項（１）記載の方法。 （３）反応性ガスが酸素、窒素、酸素の化合物および窒
    素の化合物からなる群から選ばれる、請求項（２）記載
    の方法。 （４）基材が透明であり、コーティングを析出する段階
    がスパッタリングによる誘電体−金属−誘電体コーティ
    ングの析出を含む、請求項（３）記載の方法。 （５）基材上に透明コーティングを析出する方法であっ
    て、 アルミニウムおよび６〜１８％のケイ素を含む合金のス
    パッタリングターゲットを調製すること、 ターゲットおよび基材を排気空中に置くこと、アルミニ
    ウムおよびケイ素と反応する成分を有するガスを含む雰
    囲気中でターゲットをスパッタしてアルミニウムおよび
    ケイ素の反応生成物を含む無定形コーティングを形成す
    ること、を含む方法。 （６）反応性ガスが窒素、酸素、酸素の化合物および窒
    素の化合物からなる群から選ばれる、請求項（５）記載
    の方法。 （７）合金が８２〜９０％のアルミニウムおよび１０〜
    １４％のケイ素を含む、請求項（６）記載の方法。 （８）合金が約８８％のアルミニウムおよび１２％のケ
    イ素を付随不純物とともに含む、請求項（７）記載の方
    法。 （９）反応ガスが酸素および窒素を含み、酸素の酸素お
    よび窒素の合計に対する比が０．１〜０．３の範囲内に
    ある、請求項（６）記載の方法。 （１０）合金が８２〜９０％のアルミニウムおよび１０
    〜１４％のケイ素を含む、請求項（９）記載の方法。 （１１）合金が約８８％のアルミニウムおよび１２％の
    ケイ素を付随不純物とともに含む、請求項（１０）記載
    の方法。 （１２）基材、基材上のコーティングおよびコーティン
    グ上の保護膜を含むコートした物品であって、保護膜が
    アルミニウムおよびケイ素を含む合金であるターゲット
    を反応性ガス中でスパッタすることにより形成された反
    応生成物の無定形層を含むコートした物品。（１３）合
    金が６〜９５％のケイ素を含み、反応性ガス酸素、窒素
    、酸素の化合物および窒素の化合物からなる群から選ば
    れる、請求項（１２）記載のコートした物品。 （１４）基材が透明であり、コーティングが多層誘電体
    −金属−誘電体コーティングを含み、誘電体層の物質が
    ビスマス、インジウム、スズ、チタンおよび亜鉛の酸化
    物からなる群から選ばれる、請求項（１３）記載のコー
    トした物品。 （１５）コーティングが誘電体−金属−酸化亜鉛である
    、請求項（１３）記載のコートした物品。 （１６）反応性ガスが酸素および窒素を含み、酸素の酸
    素および窒素の合計に対する比が０．１〜０．３の範囲
    内にある、請求項（１５）記載のコートした物品。 （１７）反応性ガスが酸素および窒素を含み、酸素の酸
    素および窒素の合計に対する比が０．１〜０．３の範囲
    内にある、請求項（１３）記載のコートした物品。 （１８）コーティングが誘電体−銀コーティングである
    、請求項（１７）記載のコートした物品。 （１９）基材並びに、アルミニウムおよび６〜１８％の
    ケイ素の合金を含むターゲットを反応性ガス中でスパッ
    タすることにより形成された反応生成物の無定形コーテ
    ィングを含むコートした物品。 （２０）反応性ガスが酸素、窒素、酸素の化合物および
    窒素の化合物からなる群から選ばれる、請求項（１９）
    記載の物品。 （２１）反応性ガスが酸素および窒素を含み、酸素の酸
    素および窒素の合計に対する比が０．１〜０．３の範囲
    内にある、請求項（２０）記載のコートした物品。 （２２）基材が透明ベースおよび上に無定形コーティン
    グが析出される誘電体−金属コーティングを含む、請求
    項（２１）記載のコートした物品。 （２３）基材が透明ベースおよび、上に無定形コーティ
    ングが析出される誘電体−金属−酸化亜鉛コーティング
    を含む、請求項（２１）記載の物品。 （２４）合金が約８８％のアルミニウムおよび１２％の
    ケイ素を付随不純物とともに含む、請求項（２３）記載
    のコートした物品。 （２５）さらに透明シート並びに、無定形コーティング
    を内側にした二重ガラス窓ユニットを形成するためのシ
    ートおよびベースのシール部材を含む、請求項（２４）
    記載のシートした物品。
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