JPH03173763A - 透明物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は透明基体の表面に被膜が被覆された透。

明物品に関し、とりわけ自動車や建築用の窓ガラスに適
した熱線遮へい性を有し、単板の状態で使用可能な優れ
た耐摩耗性を有する透明物品に関する− ［従来の技術］ 基体の上に耐摩耗性の被膜を被覆した透明物品としては
、特開昭６３−２０６３３３に開示されているように、
被膜の最上層に酸化物の厚膜、たとえばＳｉｎ、層の少
なくとも１μｍ以上を被覆したものが知られている。ま
た、特公昭６２−５２０２８では、電気絶縁性の炭化ケ
イ素のターゲットを高周波スパッタリング法により被覆
した耐摩耗性の膜が知られている。

［発明が解決しようとする課題］ 車両や建築物の窓ガラスのように直接種々の接触にさら
される状態で用いられる場合、被膜が被覆された物品は
、被膜に機械的および化学的耐久性が要求されるが、と
りわけスクラッチに対する耐摩耗性が要求される。その
ような場合、最上層の被膜の強度を向上させることが最
も重要な課題となる。上記した従来技術では、酸化物の
厚膜を最上層に被覆したものは被膜が厚いために、被覆
に多大の時間を要し生産性が悪いという欠点がある。ま
た電気絶縁性の炭化ケイ素ターゲットを使用する場合は
、高周波によるスパッタリングを必要とするので、自動
車の窓ガラスのように大きな面積の基体に膜を均一に被
覆するのが困難という問題がある。

［課題を解決するための手段］ 本発明は上記した従来の物品が有する問題点を解決する
ためになされたものであって、スクラッチなどの機械的
強度を確保するのに、最上層が厚い層ではなく薄い層の
被覆でよい透明物品を提供するものである。

本発明は、透明基体の上に少なくとも１層の被膜が被覆
された透明物品であって、前記被膜の最上層が、シリコ
ンと炭素と窒素とからなる化合物の層からなり、前記シ
リコンと炭素と窒素とからなる層が、１０〜２０重量％
のＳｉ原子を含む炭化ケイ素のターゲットを減圧された
窒素を含む雰囲気中で直流スパッタすることにより被覆
された透明物品である。シリコンと炭素と窒素からなる
化合物の層は、５ｉＣＸＮ１なる化学式で表わすことが
でき、Ｙ／Ｘ比は必要とする透明性や耐摩耗性を考慮し
て定められる。すなわち可視域の全波長にわたって透明
であることを重視するときは、Ｙ／Ｎ比が大きくなるよ
うに調整され、耐摩耗性を重視する場合は、可視域での
吸収が大きくならない程度にＹ／Ｎ比は小さく調整され
る。

炭化ケイ素の焼結体からなるターゲットは導電性が低い
ために、直流スパッタリングにより安定して被膜を形成
することができない、炭化ケイ素（ＳｉＣ）に遊離のシ
リコンを含有させることにより、ターゲットの導電性は
大きくなり直流によるスパッタリングが安定しておこな
えるようにすることができる。ここで炭化ケイ素に含有
されるシリコンは１０〜２０重量％が好ましい、含有さ
れるシリコンの量が１０重量％より少いと導電性が十分
でなく、大電流の高速スパッタリングを行ううえで放電
が不安定となるので好ましくない。

又２０重量％より多いと、焼結体のターゲットがもろく
なり安定した放電を長く続けることが困難になる。

上記した５ｉＣ１Ｎｙの層のＹ／Ｘ比は層の吸収が実質
土庄じないように調整され、好ましくは屈折率が１．９
５〜２．１５になるように調整される。雰囲気ガスは、
不活性ガスと窒素の混合ガスあるいは、窒素ガスのみの
いずれも用いることができるが、アルゴンと窒素の混合
ガスで少なくとも窒素は０．０６６　Ｐ　ａ以上であっ
て、全圧の２０％以上を窒素とするのが好ましい。さら
に、全圧の３０〜９０％の窒素を含むガスが最も好まし
く用いられる。

窒素ガスが０．０６６Ｐａ以下であって２０％以下の窒
素分圧でスパッタリングした場合、可視光線領域で若干
吸収のある膜となり、その透明性がやや低下する。

本発明は、シリコンと炭素と窒素とからなる化合物の層
がＳｎｍ以上であり、前記透明基体と前記シリコンと炭
素と窒素とからなる化合物の層との間に、少くとも１層
からなる熱線遮へい性を有する層が設けられた透明物品
である。

透明基体上に設けられる熱線遮へい性を有する層は、特
に限定されるものではなく、単層からなる膜であっても
２層以上の積層体からなる膜であってもよい。例えば、
近赤外線域の波長に対して遮へい性を有する窒化チタン
や窒化ジルコニウムなどの窒化物の膜や、これら窒化物
の膜とＴｉＯ２膜、ＳｎＯ□膜、ＺｒＯ２膜など可視域
で透明な膜とを積層したものを用いることができる。ま
た、可視域で透明な高屈折率の膜と低屈折率の膜を交互
に積層した多層膜干渉フィルターのタイプのものも用い
ることもできる。

本発明の透明物品は、透明な基体上に被覆された熱線遮
へい性の層が基体側から数えて第１Ｎとして、４５〜６
Ｓｎｍの厚みで屈折率が１．９ないし２．１の実質上透
明な層、第２層として４５〜６５ｎ１１の厚みのＴｉＯ
２層、第３層として２５〜４５ｎ１１の厚みで屈折率が
１８９ないし２．１の実質上透明な層とし、最上層に１
０〜２０ｎｍの厚みのシリコンと炭素と窒素とからなる
化合物の層を被覆したものである。かかる熱線遮へい性
の透明物品は、可視光線透過率が７０％以上で窓として
明るく、かつ。

太陽光エネルギーを効果的に遮へいする性能を有してい
るとともに、単板で使用し得る耐摩耗強度を有している
。太陽光エネルギーの遮へい性をさらに向上させるため
に、Ｓｎｍを越えない厚みの窒化チタン、窒化ジルコニ
ウム、または窒化ハフニウムの層を、前記第１層と第２
層の間または第２層と第３層の間のいずれかまたは両方
に設けることができる。

本発自における屈折率が１．９ないし−２，１の実質上
透明な層としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛
、酸化タンタル、酸化ジルコニウムのいずれか、もしく
はこれらの複合酸化物が用いられる。

また本発明の透明物品は、透明基体上に被覆された層が
、基体側から数えて、第１層として８〜２０ｎｗ＋の厚
みのＴｉＯ２、第２層として１６０〜２３０ｎｍの厚み
のＳｉＯ，、第３層として７０〜１２０ｎ−の厚みのＴ
ｉＯ，、第４層として１０〜３０ｎｍの厚みのＳｉＯ，
が被覆され、最上層に５〜３０ｎｍの厚みのシリコンと
炭素と窒素とからなる化合物の層を被覆したものである
。このような熱線遮へい層を有する透明物品は、可視光
線透過率が７０％以上で窓として明るく、かつ、太陽光
エネルギーを効果的に遮へいする性能を有しているとと
もに、単板で使用し得る耐摩耗強度を有している。

本発明において、透明基体とシリコンと炭素と窒素とか
らなる化合物の層との間に設けられる透明な肩や金属窒
化物の層は、公知のスパッタリング法やアーク蒸着法に
より被覆することができる。

また本発明にかかる透明基体としては、無色透明のフロ
ートガラスやブロンズ、グレー、ブルーなどの着色フロ
ートガラスを用いることができる。

［作用］ 本発明の透明物品の最上層のシリコンと炭素と窒素とか
らなる化合物の暦は透明で、かつ、摩耗強度が大きいの
で、透明基体上に被覆された層を、摩耗やスクラッチな
どの外力から保護し、キズを生じにくくする。さらに、
シリコンと炭素と窒素とからなる化合物の層の厚みおよ
び屈折率を調整することにより、熱線遮へい性の透明物
品の可視光反射率を低く抑えることができる。

［実施例コ 以下実施例に基いて詳細に説明する。第１図は、本発明
の透明物品の１実施例の一部断面図で、１はガラス板、
２は熱線遮へい性を有する層、３はシリコンと炭素と窒
素とからなる化合物の層である。

実施例１ ２つのカソードが設置された直流マグネトロンスパッタ
装置の、第１のカソードに金属チタンを、第２のカソー
ドに約１８重量％の遊離の５ｉＪ７ｉ子を含む炭化ケイ
素をターゲットとして設置した。

清浄にされた２ａｌ！＋厚の板ガラスを真空槽内に入れ
。

クライオポンプで１．３３Ｘ　１０−’Ｐａまで真空に
引いた後、Ａｒガスを２０　ｓｅｃｍ、酸素ガスを８０
ｓｅｃｍの流量で真空槽内に導入し、その圧力が０．４
Ｐａになるように！ｇ！＋整した。直流電源からチタン
ターゲットに電力を投入しスパッタリングを生起させた
。

５Ａの電流値にセットした後、チタンターゲットの上方
にあるシャッターを開いて、５分間対面する位置にある
ガラス上に酸化チタンの被膜を付着せしめた０次いで、
真空槽を再び１．３３Ｘ１σ３Ｐａまで排気した後、Ａ
ｒガスを５０ｓｅｃｍ、窒素ガスを５０　ｓｅｃｍの流
量で真空槽に導入し、その圧力が０．４　Ｐ　ａになる
ように調整した。直流電源から炭化ケイ素ターゲットに
電力を投入しスパッタリングを生起させた。ＬＡの電流
値にセットした後、炭化ケイ素ターゲットの上方にある
シャッターを開いて、１分間対面する位置にあるガラス
にシリコンと炭素と窒素とからなる化合物の層を被膜し
た。

このようにして得られたガラス基板上の約５Ｏｎ鵬の酸
化チタンと約１５ｎｍのシリコンと炭素と窒素とからな
る化合物の層との２層からなる被膜に対して、市販のテ
ーパー摩耗試験機を用いて耐摩耗試験を行なった。Ｃ３
ｌＯＦ番の摩耗輪に５００ｇの荷重をかけ、６０ｒｐｍ
の回転数でｔ　、　ｏｏ。

回転の摩耗を被膜に加えた後、ヘイズ率を測定したとこ
ろ、わずか１．５％であり、傷はほとんど目立たなかっ
た。同じスパッタ装置を用いて、ガラス基板上に約１０
０ｔ＋ｎ＋のシリコンと炭素と窒素とからなる化合物の
単層の被膜を付着させ、そこから小サンプルを切り出し
て、Ｘ線回折分析と電子顕微鏡による観察とを行なった
。Ｘ線回折によれば基板ガラスのブロードなピーク以外
に全く結晶性に基づくピークは観測されなかった。一方
電子顕微鏡ｌＩ！察によれば、被膜は緻密であって、柱
状の構造は全く認められず、その表面は極めて平滑であ
ることがわかった。

実施例２ ３つのカソードを備えたマグネトロンスパッタ装置内に
ターゲットとして、錫、チタン、および約１８重量％の
遊離のＳｉ原子を含む炭化ケイ素ターゲットをそれぞれ
のカソードにセットした。

表面を清浄にした５ｍｍ厚のブロンズ色フロートガラス
板を真空槽内の基板ホルダーにセットした。

真空ポンプで１，３３Ｘ　１０−”Ｐａまで排気した後
、Ａｒガスを５０ｓｅｃｍ、酸素ガスを５０ｓｅｃｍの
流量で真空槽内に導入し、圧力を０．４Ｐａになるよう
に調整した。錫ターゲットに３Ｗ／ｃｄの電力を印加し
て、所定時間スパッタを行い、ガラス上に５４ｎｍの厚
みのＳｎＯ，を被覆し放電を停止した。

次に真空槽内にＡｒガスを５Ｃ）ｓｃｃｍ、酸素ガスを
５０ｓｃｃｍの流量で導入し、０．４Ｐａの圧力でチタ
ンターゲットに３Ｗ／ａｊの電力を印加して、所定時間
スパッタをおこない５５ｎｍのＴｉＯ２をＳｎＯ２層の
上に被覆し、放電を停止した。引続き雰囲気ガスをその
ままにして、錫ターゲットに３Ｗ／ａｌの電力を印加し
て、所定時間スパッタを行い、３４ｎｍの厚みのＳｎＯ
，をＴｉ０２層の上に被覆し、放電を停止した。最後に
、真空槽内をもう一度１．３３　Ｘ　１０　””　Ｐａ
まで排気した後、Ａｒガスを５０ｓｃｃｍ、窒素ガスを
５０　ｓｅｃ＋ａの流量で導入し、０．４Ｐａの圧力で
、炭化ケイ素ターゲットに３Ｗ／ｄの電力を印加し、所
定時間スパッタを行い。

１５ｎｍの厚みの透明なシリコンと炭素と窒素とからな
る化合物の層を被覆し、放電及びガスの導入を停止し、
ガラス板上に４層からなる膜が被覆された熱線遮へい性
能を有するサンプル１を得た。

得られたサンプル１の光学性能及び耐摩耗性を調ベた結
果を第１表に示す。本実施例に述べたのと同一の条件で
被覆した約１１００ｎの厚みのシリコンと炭素と窒素と
からなる化合物の単層膜の光学定数を測定した結果を、
第２表に示す。

実施例３ 実施例２と同一の条件で、５ＩＩＩ１１厚ブロンズ色フ
ロートガラス上にＳｉｎｍの５ｎ０２Ｎを被覆した後。

真空槽内にＡｒガスを８５ｓｅｃｍ、窒素ガスを１５ｓ
ｅｃｍの流量で導入し、０．４Ｐａの圧力でチタンター
ゲットに５Ｗ／ｃｄの電力を印加し、所定時間スパッタ
を行い、ＳｎＯ２層の上に窒化チタンの層を１　、５ｎ
ｍ被覆し放電を停止した。次に、実施例２と同様の方法
で、窒化チタンの膜の上に、順次５７ｎｍのＴｉＯ，層
、４３ｎｍのＳｎＯ，層、９ｒｖ＋のシリコンと炭素と
窒素とからなる化合物の層を被覆し、ガラス板上に５層
からなる膜が被覆された熱線遮へい性能を有するサンプ
ル２を得た。得られたサンプル２の光学性能及び耐摩耗
性を調べた結果を第１表に示す。

実施例４ 実施例２と同じ装置に、ターゲットとしてチタン、シリ
コン、約１８重量％の遊離のＳｉ原子を含む炭化ケイ素
ターゲットをそれぞれのカソードにセットした。表面を
清浄にした５哨厚のブロンズ色フロートガラス板を真空
槽のホルダーにいれ、真空ポンプで１．３３Ｘ１σ３Ｐ
ａまで排気した。Ａｒガスを５０ｓｅｃ＋ａ、酸素ガス
を５０ｓｅｃｍの流量で真空槽に導入し、０．４Ｐａの
圧力に調整した。チタンターゲットに３　Ｗ／ａｄの電
力を印加して、所定時間スパッタをおこない、ガラス上
に１４ｎｍの厚みのＴｉ０２層を被覆し放電を停止した
。同様の雰囲気でシリコンターゲットに５Ｗ／ａｌの電
力を印加して所定時間スパッタを行い、第２Ｎとして２
００ｒｖの厚みのＳｉｎ２層を被覆して放電を停止した
０次に、同様の雰囲気で、９０ｎｍの厚みのＴｉＯ□層
と、２２ｎ＋ｓの厚みのＳｉｎ、層を順次被覆した。最
後に、真空槽をもう一度１．３３Ｘ１σ３Ｐａまで排気
した後、Ａｒガスを５０ｓｅｃｍ、窒素ガスを５０ｓｅ
ｃｍの流量で真空槽内に導入し、０．４Ｐａの圧力で、
炭化ケイ素ターゲットに３　Ｗ／ａ＃の電力を印加し、
所定時間スパッタをおこない、Ｉｏｎ讃の厚みの透明な
シリコンと炭素と窒素とからなる化合物の層を被覆し、
放電及びガスの導入を停止し、ガラス板上に５層からな
る膜が被覆された熱線遮へい性能を有するサンプル３を
得た。得られたサンプル３の光学性能及び耐摩耗性を調
べた結果を、第１表に示す。

実施例５ 実施例１〜４では、炭化ケイ素と窒素との反応生成物を
被覆する際の雰囲気ガスとして、Ａｒガスを５０ｓｅｃ
ｍ、窒素ガスを５０ｓｅｃｍの流量で真空槽に導入した
が、導入するガスの流量の割合を変化させて、シリコン
と炭素と窒素とからなる化合物の単層の被膜を被覆した
。得られたサンプルについて、その光学定数を測定した
結果を第２表に示す。窒素ガスの流量比が２０％以上で
屈折率が２．０〜２．１、吸収係数が０．０６以下の透
明性が優れた被膜が得られた。

実施例６ 実施例１と同様の方法で、ガラス基板上に５０ｎｍの厚
みのＴｉ０２層を被覆し、その後真空槽を再び１．３３
Ｘ　１０−”Ｐａまで排気した後、Ａｒガスと窒素ガス
の流量比を実施例５と同様に変化させて真空槽に導入し
た。いずれの場合も真空槽の圧力が０．４Ｐａになるよ
うに調整した。いずれのガス条件でも直流電源から炭化
ケイ素ターゲットに電力を投入しスパッタリングを生起
させ、ＩＡの電流値にセットした後、シャッターを開い
て所定時間被覆し、約１５ｎｍのシリコンと炭素と窒素
とからなる化合物の層をＴｉＯ２層の上に被覆した。こ
のサンプルに実施例１と同様の方法でテーパー摩耗試験
を行なった結果を第２表に示す。

比較例１ 実施例１と同じスパッタ装置を用いて、清浄にされた２
■厚の板ガラス基板上に、約５ＯｎＩ１１の厚みの単層
の酸化チタンの被膜を付着した。その被膜に対して、実
施例１と同一の条件でテーパー耐摩耗試験を行なったと
ころ、ヘイズ率は６．３％で。

目立った傷がＩｉ！察された０次に、同様にして、約１
１００ｎの厚みの酸化チタンの単層の被膜を板ガラス上
に付着させ、そこから小サンプルを切り出して、Ｘ線回
折分析と電子顕微鏡による観察とを行なった。Ｘ線回折
によると、明らかなアナターゼ型結晶のピークと弱いル
チル型結晶のピークとが１！測された。一方、電子顕微
鏡によれば、被膜は柱状の構造の発達した、比較的粗で
、かつ表面の凹凸の大きい構造であることがわかった。

比較例２ 最上層にシリコンと炭素と窒素とからなる化合物の保護
層を設けない実施例２の比較サンプルとして、５圃厚ブ
ロンズ色フロートガラスに、６５ｎｍの厚みの５００２
層、５０ｎｍの厚みのＴｉｅ□層、５０ｎｍの厚みのＳ
ｎＯ，層をこの順番で順次被覆して、比較サンプル１を
得た。このサンプルの耐摩耗性を第１表に示す。

比較例３ 最上層にシリコンと炭素と窒素とからなる化合物の保護
層を設けない実施例４の比較サンプルとして、５ａ＋＋
厚ブロンズ色フロートガラスに、１８ｎｍの厚みのＴｉ
Ｏ、層、１９０ｎｍの厚みのＳ　ｉ　Ｏｚ　層、８９ｎ
ｍの厚みのＴｉ０２層、６５ｎｍの厚みの５ｉ０２層を
この順番で順次被覆して、比較サンプル２を得た。この
サンプルの耐摩耗性を第１表に示す。

第１表に示すように、本発明にかかる、最上層にシリコ
ンと炭素と窒素とからなる化合物の保護層を設けたサン
プル１〜３は、いずれも前記保護層を設けない比較サン
プル１〜２よりも耐摩耗性が優れていることがわかる。

さらに得られた実施サンプル１〜３は、いずれも可視光
線透過率が７０％以上で、日射光透過率が６０％以下で
、窓ガラスとして明るい熱線遮へい性能を有するガラス
であることがわかる。また、実施サンプル１〜３は可視
光線反射率が１０％を越えないことから。

窓ガラスとして外観がギラギラすることがないことがわ
かる。

第１表から、耐摩耗性テスト後のサンプルのヘイズ率は
１本発明にかかる最上層がシリコンと炭素と窒素とから
なる化合物の層が被覆されたサンプル１〜３については
１．８〜２．３で、最上層にシリコンと炭素と窒素とか
らなる化合物の層を被覆しない比較サンプル１，２の４
．０〜５．４より小さく。

本発明にかかるサンプルの耐摩耗性が優れていることが
分る。また、本発明にかかるシリコンと炭素と窒素とか
らなる化合物の層を反応性スパッタリングで被覆すると
きは、第２表より雰囲気中の窒素の体積比が２０％以上
であることが、得られる膜の耐摩耗性および透明性をよ
くするうえで好ましいことが分る。

第１表 第２表 ［発明の効果］ 本発明の透明物品は、空気と接する層が耐摩耗性に優れ
たシリコンと炭素と窒素とからなる化合物の層になって
いるので、直接外気に触れる状態で使用することができ
る。また上記したシリコンと炭素と窒素とからなる化合
物の層の被覆にあたっては、直流スパッタリングが可能
な大きいサイズの導電性のターゲットを用いることがで
きるので、大きな透明基体であっても、層の厚みを均一
に被覆することができる。したがって本発明より、大き
な面積の基体に耐摩耗性が優れた保護層を均一に被覆す
ることができる。

また、本発明にかかる熱線遮へい性能を有する透明物品
は、最上層が耐摩耗性に優れたシリコンと炭素と窒素と
からなる化合物の保護層を有するため、実用に耐える摩
耗強度をもつ。したがって。

窓ガラスとして使用するにあたっては、複層ガラスや合
わせガラスにする必要がなく、直接種々の接触にさらさ
れる単板ガラスとして使用することができる。また、本
発明の熱線遮へいガラスは、シリコンと炭素と窒素とか
らなる化合物の層の厚みおよび屈折率を調整することに
よりガラス面からの可視光線反射率が低く、自動車や建
築物などの窓ガラスとして使用するとき、ギラギラした
感じを与えないようにすることができる。

さらに１本発明の熱線遮へい性能を有する透明物品の製
造にあたっては、保護層と熱線遮へい層を連続した真空
成膜プロセスで被覆することができるので、経済性が良
い。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の透明物品の１実施例の一部断面図で
ある。 １・・・ガラス板、２・・・熱線遮へい性能を有する層
、３・・・シリコンと炭素と窒素とからなる化合物の層
。 ＪＦｊＬＩｆ： 屯ＩＪｌ”ｌ二・・、４Ｙ １２３い迄１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）透明基体の上に少なくとも１層の被膜が被覆された
   透明物品であって、前記被膜の最上層がシリコンと炭素
   と窒素とからなる化合物の層からなり、前記シリコンと
   炭素と窒素とからなる層が、１０〜２０重量％のＳｉ原
   子を含む炭化ケイ素のターゲットを減圧された窒素を含
   む雰囲気中で直流スパッタすることにより被覆されたこ
   とを特徴とする透明物品。 ２）前記シリコンと炭素と窒素とからなる化合物の層の
   厚みが５ｎｍ以上であり、前記透明基体と前記シリコン
   と炭素と窒素とからなる化合物の層との間に、少くとも
   １層からなる熱線遮へい性を有する層が設けられた特許
   請求範囲第１項記載の透明物品。 ３）前記透明基体上に被覆された熱線遮へい層は、基体
   側から数えて第１層が４５〜６５ｎｍの厚みで屈折率が
   １．９ないし２．１の可視域で透明な層、第２層が４５
   〜６５ｎｍの厚みのＴｉＯ＿２層、第３層が２５〜４５
   ｎｍの厚みで屈折率が１．９ないし２．１の可視域で透
   明な層からなり、前記シリコンと炭素と窒素とからなる
   化合物の層の厚みが、１０〜２０ｎｍであることを特徴
   とする特許請求範囲第２項記載の透明物品。 ４）５ｎｍを越えない厚みの、窒化チタン、窒化ジルコ
   ニウムまたは窒化ハフニウムのいずれかの層が、前記第
   １層と前記第２層との間に設けられたことを特徴とする
   特許請求範囲第３項記載の透明物品。 ５）５ｎｍを越えない厚みの、窒化チタン、窒化ジルコ
   ニウムまたは窒化ハフニウムのいずれかの層が、前記第
   ２層と前記第３層との間に設けられたことを特徴とする
   特許請求範囲第３項記載の透明物品。 ６）前記可視域で透明な層が、酸化錫、酸化亜鉛、酸化
   タンタル、酸化ジルコニウムのいずれか、もしくはこれ
   らの複合酸化物であることを特徴とする特許請求範囲第
   ３項乃至第５項のいずれかの項に記載の透明物品。 ７）前記透明基体上に被覆された熱線遮へい層は、基体
   側から数えて第１層が８〜２０ｎｍの厚みのＴｉＯ＿２
   、第２層が１６０〜２３０ｎｍの厚みのＳｉＯ＿２、第
   ３層が７０〜１２０ｎｍの厚みのＴｉＯ＿２、第４層が
   １０〜３０ｎｍの厚みのＳｉＯ＿２からなり、前記シリ
   コンと炭素と窒素とからなる化合物の層の厚みが、５〜
   ３０ｎｍであることを特徴とする特許請求範囲第２項記
   載の透明物品。 ８）前記透明基体がフロートガラスの板であって、かつ
   、可視光線透過率が７０％以上、可視光線反射率が１０
   ％以下である特許請求範囲第３項乃至第７項のいずれか
   の項に記載の透明物品。