CN106488806B - 双涂覆器流体分配方法和系统 - Google Patents

双涂覆器流体分配方法和系统 Download PDF

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Abstract

一种具有第一涂覆器(34)和第二涂覆器(38)的流体分配系统(30)，包含初级定位器(36)，其具有：第一驱动装置(100a,110b)，其沿着第一轴线同时移动第一涂覆器(34)和第二涂覆器(38)；第二驱动装置(102)，其沿着第二轴线同时移动第一涂覆器(34)和第二涂覆器(38)；以及第三驱动装置(104)，其沿着第三轴线同时移动第一涂覆器(34)和第二涂覆器(38)。次级定位器(40,300)由初级定位器(36)支撑，并且具有：第一驱动装置(106,316)，其将第一涂覆器(34)或第二涂覆器(38)中的一个相对于另一个沿着第一轴线定位；第二驱动装置(107,328)，其将第一涂覆器(34)或第二涂覆器(38)中的一个相对于另一个沿着第二轴线定位；以及第三驱动装置(108,344)，其将第一涂覆器(34)或第二涂覆器(38)中的一个相对于另一个沿着第三轴线定位。初级定位器(36)的第三驱动装置(108,344)沿着第三轴线移动次级定位器(300)。

Description

双涂覆器流体分配方法和系统
技术领域
本发明总的涉及分配粘性流体，并且更具体地涉及同时以多个流体涂覆器在多个分配区域处分配粘性流体。
背景技术
在例如印刷电路板(“PCB”)的电子衬底的制造中，必须频繁施加较少的精确量的粘性流体，即，具有大于50厘泊的粘度的粘性流体。这些流体可例如包含粘合剂、焊膏、焊剂、阻焊剂(solder mask)、底部填充材料、密封剂、灌注化合物、环氧树脂、管芯附着膏、硅酮、RTV或氰基丙烯酸酯。
自动化流体分配系统通常用于将这些粘性流体的图案以高度准确性、可重复性和效率分配到衬底上。如本文所使用，术语“流体图案”与其变型表示一个或多个线、弧、点、其组合和/或连续地或间隙地分配的流体的任何其它构造。传统流体分配系统包含流体涂覆器(也被称为分配器或阀)，该流体涂覆器安装到机架，该机架可移动以按需要在大体上定位在水平XY平面中的一个或多个衬底上方沿着三条相互正交的轴线(X、Y、Z)定位涂覆器。机架通常可随着被计算机系统或其它控制器控制的驱动机构移动。通常与分配系统的X轴对准的移动输送机可用于将多个衬底顺序地输送到通常在流体分配系统之下的位置。多个衬底通常被组织到托盘(例如
Figure BDA0001205285230000011
盘)中并被该托盘携带。分配系统可接着操作以将流体的预编程的图案分配到衬底上。
为了将流体的图案分配到托盘中所保持的一个或多个衬底上，控制器首先确定衬底在衬底通常所处的水平定向的XY平面中的位置和定向。安装到机架的相机通过以下扫描衬底并捕获在每一衬底的顶表面上所设置的参考基准的视觉图像：沿着跨越已被控制器所知的参考基准的预编程的位置移动的路径行进。基于这些所捕获的视觉图像，控制器确定每一衬底在XY平面中的实际位置和定向。也安装到机架的高度传感器测量每一衬底沿着垂直定向的Z轴的位置，以确定涂覆器的分配末端应在分配到衬底上时所定位的适当分配高度。控制器接着操作机架以沿着X轴和Y轴移动涂覆器，直到涂覆器在下方定位的衬底的期望区域上方适当地定位在XY平面中为止。涂覆器接着沿着Z轴降低，直到分配末端处于适当分配高度为止，此时刻，涂覆器接着将预编程的流体图案分配到衬底上。在完成分配时，涂覆器接着沿着Z轴向上往回提升，并且可重新定位在XY平面中以随后在同一衬底或新衬底的新区域处分配。
为了提高的制造吞吐量，流体分配系统已设置有双流体涂覆器以同时在第一分配区域和第二分配区域处分配。如本文所使用，术语“分配区域”表示流体图案在此处被分配的一般区域或区。例如，“分配区域”通常可表示衬底，或者可表示衬底的特定区域。因此，短语“第一分配区域和第二分配区域”与其变型可表示在物理上相互独立的第一衬底和第二衬底，或者可表示单个衬底的第一不同区域和第二不同区域。例如，单个衬底(例如镶嵌(panelized)的衬底)可包含流体在此处被分配的多个不同区域。
利用传统流体分配系统，第一涂覆器被定位和控制以在第一分配区域(例如第一衬底)处分配，而第二涂覆器同时被定位和控制以在第二分配区域(例如第二衬底)处分配。偶尔，第一衬底和第二衬底可相对于X轴和Y轴在分配系统的XY平面中以相同方式旋转(即“全局旋转”)。当衬底在其中被携带的托盘不与X轴和Y轴对准时，可能发生衬底的全局旋转。传统双分配方法包含以下步骤：在分配之前沿着X轴和Y轴相对于第一涂覆器进行第二涂覆器的自动化的一次位置调整，以因此使相同流体图案能够同时分配到全局旋转的第一衬底和第二衬底上。
然而，传统双分配方法不包含在主动地分配的同时将第一涂覆器和第二涂覆器沿着X轴或Y轴彼此相对自动重新定位。换句话说，传统双分配系统不在分配的同时执行第一涂覆器和第二涂覆器在XY平面中彼此相对的主动、实时的位置调整。因此，传统双分配方法未实现相同流体图案在XY平面中彼此相对旋转(即“局部旋转”)的第一分配区域和第二分配区域(例如第一衬底和第二衬底)处的准确的同时分配。例如，第一矩形衬底可被对准成平行于X轴和Y轴，并且第二矩形衬底可在XY平面中相对于X轴和Y轴旋转。当衬底设定大小为小于其所处的托盘凹口时，可发生此局部旋转，因此在衬底的外周与凹口的内壁之间形成一个或多个间隙。因此，衬底被允许在XY平面中在凹口内旋转，并且相对于任何一个或多个邻近衬底旋转。此外，局部旋转可存在于单个衬底(例如镶嵌的电路板)的多个分配区域当中。传统双分配方法在分配的同时主动地校正此局部旋转方面欠缺。
此外，传统双分配方法不包含在第一涂覆器和第二涂覆器正分配的同时将第一涂覆器或第二涂覆器沿着分配系统的垂直Z轴彼此相对主动地重新定位。因此，传统双分配系统未在第一分配区域和第二分配区域(例如第一衬底和第二衬底)处实现准确的双分配，其中第一分配区域和第二分配器在XY平面中彼此相对倾斜，或分配区域中的一个沿着Z轴相对于XY平面独特地起伏。因此，彼此相对“旋转”的分配区域可位于公共XY参考平面中。相比之下，彼此相对“倾斜”和/或“起伏”的分配区域不位于公共平面中，并且分配区域相对于XY参考平面独特地倾斜和/或独特地起伏，如下文连同本发明的实施例更详细地描述(参见例如图13A)。
在上文的论述的图示中，图1示出托盘10，托盘10具有用于接纳对应的多个衬底14a、14b、14c和14d的多个邻近凹口12a、12b、12c和12d。如所示，每一衬底14a至14d可包含安装到衬底14a至14d的对应的部件16a、16b、16c和16d。每一凹口12a至12d在与XY平面垂直的方向上具有深度，并且被设定大小和形状以将对应的衬底14a至14d相对于全局原点O保持在居中位置中并保持在适当定向中。图2示出托盘20，其中凹口22a、22b、22c和22d被设定大小成稍微大于其中所保持的它们的对应的衬底24a、24b、24c和24d，以使得每一衬底A至D的外周边与其对应的凹口22a至22d的内壁之间产生了间隙。因此，每一衬底24a至24d被允许移位，并因此变成相对于其居中定向(以假想线示出)并相对于其它衬底24a至24d中的每一个在XY平面中旋转和/或平移。
图3示出图2的托盘20和衬底24a至24d，但其中衬底24b相对于XY平面倾斜。更具体来说，图3A示出衬底24b的底表面26与其凹口22b的基底表面28之间的角度偏移，因此形成楔形间隙25。此倾斜可由底表面26与基底表面28之间的异物的存在所导致。或者，如果衬底是畸形的(例如通过翘曲)，则可能发生衬底的倾斜。如上文所论述，传统双分配方法未在分配的同时实现涂覆器定位的自动化、实时的调整，从而在以图2至图3A中所示的方式未对准的第一分配区域和第二分配区域(例如第一衬底和第二衬底)处准确地分配。因此，需要解决这些缺陷的双分配方法和系统。
发明内容
提供用于在第一分配区域处分配第一流体图案并在第二分配区域处分配第二流体图案的示范性方法。第一分配区域和第二分配区域可以是第一独立衬底和第二独立衬底，如本文最初示出和描述，或它们可以例如是公共衬底的单独区域。第一分配区域和第二分配区域相对于由第一轴线以及与第一轴线正交的第二轴线所限定的参考平面而定位。确定第一分配区域和第二分配区域在参考平面中的位置。确定第一分配区域和第二分配区域沿着第三轴线的位置，该第三轴线与第一轴线和第二轴线相互正交。利用定位器将第一涂覆器朝向第一分配区域移动，并利用定位器将第二涂覆器朝向第二分配区域移动。利用第一涂覆器在第一分配区域处分配第一流体图案，并同时利用第二涂覆器在第二分配区域处分配第二流体图案。在第一涂覆器在第一分配区域处分配并且第二涂覆器同时在第二分配区域处分配时，将第二涂覆器相对于第一涂覆器在平行于第一轴线的方向、平行于第二轴线的方向或平行于第三轴线的方向中的至少一个上移动。
提供用于在第一分配区域处分配第一流体图案并在第二分配区域处分配第二流体图案的另一示范性方法。第一分配区域和第二分配区域相对于由第一轴线以及与第一轴线正交的第二轴线所限定的参考平面而定位。第一分配区域相对于参考平面并沿着与第一轴线和第二轴线相互正交的第三轴线设置有第一倾斜或第一起伏中的至少一个。第一倾斜或第一起伏中的至少一个是第一分配区域特有的。该方法包含：确定与第一分配区域的第一倾斜或第一起伏中的至少一个对应的第一分配高度路径。第一分配高度路径是第一分配区域特有的。该方法进一步包含：沿着第一分配高度路径移动第一涂覆器以在第一分配区域处分配第一流体图案。同时，相对于第二分配区域移动第二涂覆器以在第二分配区域处分配第二流体图案。
提供用于定位用于在第一分配区域处分配流体的第一涂覆器并定位用于在第二分配区域处分配流体的第二涂覆器的另一示范性方法。第一分配区域和第二分配区域相对于由第一轴线以及与第一轴线正交的第二轴线所限定的参考平面而定位。确定第一分配区域和第二分配区域在参考平面中的位置。确定第一分配区域和第二分配区域沿着第三轴线的位置，该第三轴线与第一轴线和第二轴线相互正交。控制初级定位器以在平行于第一轴线的方向或平行于第二轴线的方向中的至少一个上移动第一涂覆器和第二涂覆器以将第一涂覆器相对于第一分配区域定位。同时，控制联接到初级定位器的次级定位器以将第二涂覆器相对于第一涂覆器在平行于第一轴线的方向或平行于第二轴线的方向中的至少一个上移动以将第二涂覆器相对于第二分配区域定位。
提供用于在第一分配区域和第二分配区域处分配流体的示范性分配系统。第一分配区域和第二分配区域各自相对于由第一轴线以及与第一轴线正交的第二轴线所限定的参考平面而定位。该系统包含：第一涂覆器，该第一涂覆器用于在第一分配区域处分配流体；以及第二涂覆器，该第二涂覆器用于在第二分配区域处分配流体。初级定位器被构造成定位用于在第一分配区域和第二分配区域处分配流体的第一涂覆器和第二涂覆器。初级定位器具有：第一驱动装置，该第一驱动装置在平行于第一轴线的方向上同时移动第一涂覆器和第二涂覆器；第二驱动装置，该第二驱动装置在平行于第二轴线的方向上同时移动第一涂覆器和第二涂覆器；以及第三驱动装置，该第三驱动装置在平行于第三轴线的方向上同时移动第一涂覆器和第二涂覆器。第三轴线与第一轴线和第二轴线相互正交。由初级定位器所支撑的次级定位器具有：第一驱动装置，该第一驱动装置将第一涂覆器或第二涂覆器中的一个相对于第一涂覆器或第二涂覆器中的另一个在平行于第一轴线的方向上移动；第二驱动装置，该第二驱动装置将第一涂覆器或第二涂覆器中的一个相对于第一涂覆器或第二涂覆器中的另一个在平行于第二轴线的方向上移动；以及第三驱动装置，该第三驱动装置将第一涂覆器或第二涂覆器中的一个相对于第一涂覆器或第二涂覆器中的另一个在平行于第三轴线的方向上移动。初级定位器的第三驱动装置在平行于第三轴线的方向上移动次级定位器。与初级定位器和次级定位器相关联的第一驱动装置、第二驱动装置和第三驱动装置由系统控制器控制。
还提供根据另一实施例的用于在第一分配区域和第二分配区域处分配流体的示范性分配系统。第一分配区域和第二分配区域相对于由第一轴线以及与第一轴线正交的第二轴线所限定的参考平面而定位。分配系统包含：第一涂覆器，该第一涂覆器用于在第一分配区域处分配第一流体图案；以及第二涂覆器，该第二涂覆器用于在第二分配区域处分配第二流体图案。该系统进一步包含：第一驱动装置，该第一驱动装置在平行于第三轴线的方向上移动第一涂覆器，第三轴线与第一轴线和第二轴线相互正交；以及第二驱动装置，该第二驱动装置将第二涂覆器相对于第一涂覆器在平行于第三轴线的方向上移动。控制器与第一驱动装置和第二驱动装置操作地联接，并识别第一分配区域相对于参考平面的第一倾斜或第一起伏中的至少一个。控制器产生表示第一倾斜或第一起伏的控制器输出信号。响应于控制器输出信号，当第一涂覆器在第一分配区域处分配第一流体图案并且第二涂覆器同时在第二分配区域处分配第二流体图案时，第二驱动装置将第二涂覆器相对于第一涂覆器在平行于第三轴线的方向上移动。
在结合附图检查说明性实施例的下文详细描述时，本发明的各种额外特征和优点将对于本领域的一般技术人员变得更显而易见。
附图说明
并入本说明书中并且构成本说明书的一部分的附图图示本发明的实施例并且与上文给出的本发明的一般描述以及下文给出的实施例的详细描述一起用于解释本发明的原理。
图1是示出托盘的俯视立面图，其中托盘含有各自以适当、居中的定向对准的多个衬底。
图2是示出托盘的俯视立面图，其中托盘含有各自从其居中的定向旋转或平移的多个衬底。
图3是类似于图2的俯视立面图，示出衬底相对于水平XY平面倾斜。
图3A是沿着图3的线3A-3A截取的侧视横截面图，示出衬底相对于水平XY平面倾斜。
图4是根据本发明的实施例的双涂覆器分配系统的轴测示意图。
图5是类似于图3的轴测示意图，示出次级定位器从初级定位器拆卸。
图6是图4的分配系统的俯视立面图，进一步示出部件托盘，其中衬底各自从其居中的定向旋转或平移。
图7是图6的第一衬底和第二衬底的俯视立面图，示出第一涂覆器分配末端和第二涂覆器分配末端在分配第一流体图案和第二流体图案之前的位置。
图8是类似于图7的俯视立面图，示出涂覆器分配末端在分配流体图案的第一部分之后的位置。
图9是类似于图7的俯视立面图，示出涂覆器分配末端在分配流体图案的第二部分之后的位置。
图10是类似于图7的俯视立面图，示出涂覆器分配末端在分配流体图案的第三部分之后的位置。
图11是类似于图7的俯视立面图，示出涂覆器分配末端在分配流体图案的第四部分之后的位置。
图12A是示出相对于XY平面倾斜的衬底以及涂覆器在分配到倾斜衬底上的同时沿此移动的对应的分配高度路径的轴测视图。
图12B是示出相对于XY平面起伏(contoured)的衬底以及涂覆器在分配到起伏衬底上的同时沿此移动的对应的分配高度路径的轴测视图。
图13A是示出第一分配区域和第二分配区域以及与每一分配区域对应的独特分配高度路径的侧视立面图，该第一分配区域和第二分配区域设置在各自相对于XY平面独特地倾斜和起伏的第一衬底和第二衬底上。
图13B是示出在单个起伏衬底上所设置的第一分配区域和第二分配区域以及与每一分配区域对应的独特分配高度路径的侧视立面图。
图14A和图14B呈现图示用于同时在第一分配区域和第二分配区域处分配的方法的步骤的流程图。
图15是根据本发明的另一示范性实施例的次级定位器的轴测视图，示出次级定位器从初级定位器拆卸。
图16是图15的次级定位器的轴测视图，被示出为部分拆卸。
具体实施方式
转向图4和图5，示意性地示出用于在多个分配区域、例如托盘32中所保持的独立衬底A、B、C、D处分配粘性流体的示范性双涂覆器流体分配系统30。虽然本文中仅示出在对应的凹口33a、33b、33c、33d中以矩形构造布置的四个衬底A至D，但托盘32可适用于携带以任何期望构造布置的任何期望数目的衬底。或者，如上文所讨论，多个分配区域可以是单个衬底的不同区域。在这方面，虽然分配区域在本文中主要示范为多个独立衬底，但应理解，或者，分配区域可以是单个公共衬底的一部分，例如如在图13B中所示。在一个实施例中，分配区域可以是镶嵌的衬底(例如镶嵌的电路板(未示出))的一部分。
托盘32可以定位在输送带(未示出)上，输送带可被操作以将托盘32输送到通常在分配系统30之下的位置，以使得其中所携带的衬底A至D可由分配系统30在上面分配。或者，托盘32可定位在通常位于分配系统30的操作周边内的任何其它适当平台(例如固定工作台或基座)上。双分配系统30包含：第一流体涂覆器34，该第一流体涂覆器34安装到初级定位器36；以及第二流体涂覆器38，该第二流体涂覆器38安装到次级定位器40。次级定位器40联接到初级定位器36并可由初级定位器36移动。定位器36、40共同限定机架42，该机架42用于定位用于在第一分配区域处分配的第一涂覆器34以及用于同时在第二分配区域处分配的第二涂覆器38，如下文更详细地描述。
双分配系统30定义全局原点O以及三条相互正交的全局轴线X、Y和Z。初级定位器36可在与全局X轴、Y轴和Z轴平行的方向上移动，所述方向通常分别由x1、y1和z1以及对应的方向箭头表示。类似地，次级定位器40也可在与全局X轴、Y轴和Z轴平行的方向上移动，所述方向通常分别由x2、y2和z2以及对应的方向箭头表示。
初级定位器36包含一对相对的x1支撑件44a和44b，所述一对相对的x1支撑件44a和44b被与X轴平行地对准并通常被示出为纵向梁。x1支撑件44a和44b各自设置有用于实现涂覆器34、38的与X轴平行的x1线性移动的x1轴承，x1轴承被示出为线性轴承引导件46a和46b。初级定位器36进一步包含横向定向的y1支撑件48，该y1支撑件48被与Y轴平行地对准并通常被示出为横向梁。y1支撑件48设置有用于实现涂覆器34、38的与Y轴平行的y1线性移动的一对y1轴承，所述一对y1轴承被示出为线性轴承引导件50a和50b。y1支撑件48通过一对相对支腿52a和52b而可移动地联接到x1支撑件44a、44b，所述一对相对支腿52a和52b分别接合x1轴承引导件46a、46b并可分别沿着x1轴承引导件46a、46b滑动以进行x1移动。初级定位器36进一步包含y1滑架54，该y1滑架54具有下XY表面，下XY表面接合y1轴承引导件50a、50b并可沿着y1轴承引导件50a、50b滑动以进行y1移动。y1滑架54具有YZ表面(即位于YZ平面中的表面)，垂直定向的z1支撑件56附接到YZ表面，z1支撑件56与Z轴平行对准并通常被示出为呈板的形式。z1支撑件56包含一对垂直定向的z1轴承，所述一对z1轴承用于实现涂覆器34、38在与Z轴平行的方向上的z1线性移动，所述一对z1轴承被示出为线性轴承引导件58a和58b。如所示，z1轴承引导件58a、58b可分别设置在z1支撑件56的邻近的XZ表面和YZ表面上。被示出为呈L状支架的形式的z1滑架60具有第一支腿62a和第二支腿62b，第一支腿62a和第二支腿62b分别接合z1轴承引导件58a、58b并可分别沿着z1轴承引导件58a、58b滑动以进行z1移动。第一涂覆器安装机构64可联接到第二支腿62b，并可被构造成可释放地支撑第一涂覆器34，如下文更详细地描述。
次级定位器40联接到初级定位器36，并且实现第二涂覆器38相对于初级定位器36以及在初级定位器36上所安装的第一涂覆器34的x2、y2和z2移动。次级定位器40包含y2支撑件70，y2支撑件70可充当底板并且可在YZ表面处刚性联接到初级定位器36的z1滑架60的第一支腿62a。y2支撑件70可包含一对y2轴承，所述一对y2轴承被示出为线性轴承引导件72a和72b，所述一对y2轴承可被定位成在y2支撑件70的相对YZ表面上相互邻近。y2轴承引导件72a、72b被与Y轴平行地对准，以实现第二涂覆器38相对于初级定位器36的y2移动。次级定位器40进一步包含z2支撑件74，该z2支撑件74通常被示出为板。z2支撑件74的YZ表面可接合y2轴承引导件72a、72b并且可沿着y2轴承引导件72a、72b滑动以进行y2移动。z2支撑件74的相对YZ表面可包含一对z2轴承，所述一对z2轴承被示出为线性轴承引导件76a和76b，所述一对z2轴承被与Z轴平行地对准以实现第二涂覆器38相对于初级定位器36的z2移动。
通常被示出为呈板的形式的z2滑架78可包含YZ表面，该YZ表面接合z2轴承引导件76a、76b并可沿着z2轴承引导件76a、76b滑动以进行z2移动。x2支撑件80可在垂直定向中刚性联接到z2滑架78的XZ表面。或者，x2支撑件80和z2滑架78可整体形成。x2支撑件80可包含x2轴承，该x2轴承被示出为线性轴承引导件82，该x2轴承被与X轴平行地对准以实现第二涂覆器38相对于初级定位器36的x2移动。第二涂覆器安装机构84可接合x2轴承引导件82并可沿着x2轴承引导件82滑动以进行x2移动，并且可被构造成可释放地支撑第二涂覆器38，如下文更详细地描述。
第一涂覆器安装机构64和第二涂覆器安装机构84可被构造成分别接纳第一涂覆器34和第二涂覆器38并且分别可释放地接合第一涂覆器34和第二涂覆器38。例如，涂覆器安装机构64、84可各自包含快速断开特征(未示出)，该快速断开特征通过一个或多个突出部和配合凹部而实现与对应的涂覆器34、38的适当对准。其公开通过本文中引用由此并入的美国专利No.6,214,117和欧洲专利No.1 165 250 B1示出用于将涂覆器安装到用于移动涂覆器的机构的快速断开机构的现有技术实例。
第一涂覆器34和第二涂覆器38可以是适用于用户的预期应用的任何优选类型，例如，使得可由例如California Carlsbad的Nordson
Figure BDA0001205285230000111
得到的类型的空气操作的针阀或喷口。如在图4和图5中最佳地示出，每一涂覆器34、38可呈气动操作的喷射阀的形式，例如，可从Nordson
Figure BDA0001205285230000112
得到的
Figure BDA0001205285230000113
DJ-9000阀。如所示，每一涂覆器34、38可包含：对应的流体储存器86、88，该流体存储器86、88用于存储粘性流体；致动器90、92，该致动器90、92用于从分配末端94、96喷射或分配粘性流体以涂覆到定位在分配末端94、96之下的衬底A至D。适当分配器的实例示出在美国专利No.8,578,729中，该美国专利的公开通过在本文中引用由此并入。如上文所论述，粘性流体可例如是任何焊膏、底部填充材料、粘合剂或密封剂。
初级定位器36和次级定位器40的移动可优选通过一系列可控制的动力驱动机构来实现。更具体来说，每一移动方向x1、y1、z1、x2、y2和z2可通过至少一个对应的动力驱动机构来提供动力。如所示，一对x1驱动机构100a和100b可并行地操作以分别对沿着x1轴承引导件46a、46b的x1移动提供动力，并且可在内部分别设置在支腿52a、52b内或邻近于支腿52a、52b。或者，x1移动可由单个驱动机构(未示出)提供动力。如所示，y1驱动机构102可对沿着y1轴承引导件50a、50b的y1移动提供动力，并且可在内部设置在y1滑架54内或邻近于y1滑架54。如所示，z1驱动机构104可对沿着z1轴承引导件58a、58b的z1移动提供动力，并且可被设置成邻近于z1支撑件56的外部XZ表面。如所示，y2驱动机构106可对沿着y2轴承引导件72a、72b的y2移动提供动力，并且可被设置成邻近于y2支撑件70的外部XZ表面。如所示，z2驱动机构107可对沿着z2轴承引导件76a、76b的z2移动提供动力，并且可被设置成邻近于z2滑架78的外部上XY表面。如所示，x2驱动机构108可对沿着x2轴承引导件82的x2移动提供动力，并且可被设置成邻近于第二涂覆器安装机构84的外部YZ表面。
在一个实施例中，驱动机构100a、100b、102、104、106、107、108可包含步进马达。或者，驱动机构100a、100b、102、104、106、107、108可包含以高度准确性、可重复性和稳定性适用于移动的任何其它适当电动、气动或液压驱动装置。此外，驱动机构100a、100b、102、104、106、107、108可包含适用于移动定位器36、40的任何额外机械驱动元件。例如，在一个实施例(未示出)中，驱动机构100a、100b、102、104、106、107、108可包含步进马达，所述步进马达各自具有以柔性的驱动联接件而连接到导螺杆的输出轴。导螺杆可随马达而旋转并且接合在对应的支撑件上所安装的带螺纹或带齿的元件以致动沿着对应的线性轴承引导件的移动。驱动机构100a、100b、102、104、106、107、108可在分配系统30内安装在与本文所示出和描述的位置不同的任何适当位置处。
如上所述，次级定位器40联接到初级定位器36，并且因此初级定位器36的x1、y1和z1移动可转换到次级定位器40以及在次级定位器40上所安装的第二涂覆器38。次级定位器40实现相对于初级定位器36的额外移动x2、y2和z2，所述移动可与由初级定位器36所执行的对应的x1、y1和z1移动相比而相对细微。因此，在一个实施例中，次级定位器40能够移动的运动范围比初级定位器36的对应的运动范围小。更具体来说，初级定位器可具有在与X轴、Y轴和Z轴平行的方向中的每一个上的运动范围(即x1、y1和z1移动)。类似地，次级定位器40可具有在与X轴、Y轴和Z轴平行的方向中的每一个上的运动范围(即x2、y2和z2移动)。次级定位器40的运动范围可小于初级定位器36的运动的对应的范围。以此方式，初级定位器36可执行初级移动来移动第一涂覆器34和第二涂覆器38，初级移动由x1、y1和z1移动中的任一个或组合来限定并具有大小。同时，次级定位器40可执行相对于初级定位器36的次级移动以相对于第一涂覆器34移动第二涂覆器38，次级移动由x2、y2和z2移动中的任一个或组合来限定并且其大小比初级移动的大小小。
因此，第一涂覆器34可通过初级定位器36来定位，并且第二涂覆器38可由初级定位器36和次级定位器40联合定位。更具体来说，第一涂覆器34和第二涂覆器38两者都可通过x1、y1和z1移动来定位。第二涂覆器38另外可通过相对于初级定位器36进行的x2、y2和z2移动来定位。因此，分配系统30的结构构造使第二涂覆器38能够在与X轴、Y轴和Z轴平行的方向上相对于第一涂覆器34移动。因此，第一涂覆器34和第二涂覆器38可同时分别将第一流体图案和第二流体图案分配到第一衬底和第二衬底上，其中流体图案在大小和形状上实质相同并且衬底彼此相对未对准。如上所述，流体图案可包含一个或多个线、弧、点、其组合和/或连续地或间隙地分配的流体的任何其它构造。
初级定位器36和次级定位器40可通过至少一个控制器(未示出)(例如计算机)来独立控制。优选地，控制器被配置成通过控制驱动机构100a、100b、102、104、106、107、108来指导初级定位器36的x1、y1和z1移动，并同时指导次级定位器40的x2、y2和z2移动。以此方式，初级定位器36是可控制的，以使得第一涂覆器34可相对于第一分配区域(例如衬底A)而适当地定位并在该第一分配区域处分配。同时，次级定位器40是可独立控制的，以使得第二涂覆器38可相对于第二分配区域(例如衬底B)而适当地定位并在该第二分配区域处分配。如下文更详细地论述，定位器36、40是可控制的，以解决(account for)第一分配区域与第二分配区域(例如衬底A与B)之间的未对准。
在刚刚已描述结构上新颖的分配系统之后，现在将描述在第一分配区域和第二分配区域处同时分配的方法。本文中参照图6至图11中所示的衬底A、B、C、D来描述方法。如上文所论述，本领域的技术人员应理解，本文所述的分配方法可适用于利用分配系统30同时在多个分配区域中的任何两个分配区域处分配。例如，第一分配区域和第二分配区域可以是单个衬底(例如镶嵌的衬底)的一部分。
分配系统30可首先基于在每一衬底A至D上所设置的至少两个参考基准110a、110b的位置而识别每一衬底A、B、C、D相对于全局原点O在XY平面中的位置和定向。例如，参照衬底A，两个基准110a、110b可设置在衬底A的上XY表面的相对角部处。虽然在本文示出为被圆包围的“x”，但基准110a、110b可以是任何可识别的标记，例如，字母、数字、点或图案。以此方式，分配系统30可确定每一衬底是否相对于关于原点O所定义的对应的参考位置而在XY平面中旋转和/或平移。
双分配系统30包含相机112，该相机112用于识别参考基准110a、110b。相机112可在任何适当位置(例如如图6所示，次级定位器40的一部分)处安装到机架42。为了基准识别，机架42可被控制以基于基准110a、110b在XY平面中的预期位置而沿着预编程的路径移动相机112。在一种模式中，机架42可被控制以在每一基准110a、110b的预期位置处顺序地暂停，以使得相机112可在每一暂停期间捕获基准110a、110b的视觉图像。在另一模式中，机架42可被控制以连续移动，并且相机112可在移动期间捕获基准110a、110b的视觉图像。基于由相机12所捕获的基准110a、110b的图像，控制器可接着确定每一衬底A、B、C、D在XY平面中的实际位置。
双分配系统30进一步包含高度传感器114，该高度传感器114用于执行高度感测操作，这可包含相对于XY平面测量每一衬底A至D沿着Z轴的位置。高度传感器114可以是非接触式激光传感器，或者，可以是接触式机械传感器。在操作中，机架42可被控制以沿着预编程的路径移动高度传感器114以测量每一衬底A至D沿着Z轴的位置。在本文中被称为Z高度测量的这些测量使控制器能够针对每一衬底A至D来确定沿着Z轴的适当高度(被称为分配高度)，第一涂覆器34或第二涂覆器38的分配末端94、96应降低到该适当高度以将流体分配到衬底A至D上。以此方式，系统30可在分配的同时确保分配末端94、96与对应的衬底A至D之间的适当分配间隙。
如在图6中所示，衬底A至D可处于大体上平行于XY平面，并且因此每一衬底A至D的单个高度测量可以是足够的。或者，衬底A至D中的一个或多个可相对于XY平面倾斜(参见例如图3A、图12A)，以使得将在上面分配的表面沿着Z轴定位在各种点处。在此情况下，高度传感器114可操作以测量倾斜衬底的多个高度，并且因此沿着Z轴映射该倾斜。类似地，可针对具有相对于XY平面且沿着Z轴起伏的、流体将分配到其上的表面的衬底(在本文中，被称为“起伏衬底”以及其类似变型)而收集多个Z高度测量，例如，如在图12B至图13B中所示。高度传感器114可接着产生表示衬底的倾斜和/或起伏并且基于所收集的多个高度测量的传感器输出信号，该信号接着被传达到控制器。相机112和高度传感器114可集成到可由控制器操作以为将在上面分配的衬底A至D中的每一个收集基准信息和高度测量的单个系统中。
或者，可将与将在上面分配的衬底对应的Z高度测量信息从电子数据文件读取到控制器中，电子数据文件被控制器访问并且可使得被用户得到。在此情况下，高度传感器114可用于检测XY平面，衬底相对于该XY平面而定位，因此向控制器提供参考表面，给控制器提供的Z高度数据可应用于该参考平面。
响应于传感器输出信号或从外部电子数据文件读取的电子数据，控制器识别将在上面分配的衬底的倾斜和/或起伏，并且接着产生用于支配初级定位器36和/或次级定位器40必须在分配期间主动地执行以便适应衬底的倾斜定向和/或其起伏表面的z1和/或z2移动的一个或多个控制器输出信号。这些控制器输出信号表示衬底的倾斜和/或起伏。
基于在上文所述的基准定位和高度感测操作期间给控制器提供的信息，初级定位器36和次级定位器40可被操作以同时将第一涂覆器34相对于第一衬底定位并将第二涂覆器38相对于第二衬底定位。第一涂覆器34可接着将第一流体图案分配到第一衬底上，而第二涂覆器38同时将第二相同流体图案分配到第二衬底上。定位器36、40可在分配的同时自动移动，以主动地校正衬底中的一个相对于其它衬底的任何位置未对准。这些定位和分配步骤可以是对于衬底A至D中的任何两个执行，例如所述任何两个衬底各自相对于其它衬底A至D中的每一个沿着X轴和Y轴旋转和/或平移，如在图6至图11所示。
图7至图11示出一系列步骤，其中第一涂覆器34相对于衬底A而定位，并且在衬底A上分配流体图案116。同时，第二涂覆器38相对于衬底B而定位，并同时在衬底B上分配大致相同的流体图案118。衬底A和B被示出为各自在它们相应的凹口33a、33b内与其相应居中的位置未对准(参见例如图2)。凹口33a、33b在XY平面中的几何中心由十字准线(crosshair)表示。如所示，衬底A相对于X轴和Y轴从其居中的位置旋转，而衬底B沿着X轴和Y轴从其居中的位置平移。因此，衬底A和B关于X轴和Y轴彼此相对旋转和平移。如下所述，第二涂覆器38在分配的同时可相对于第一涂覆器34在XY平面中移动，以因此主动地并自动地校正衬底A、B在XY平面中的未对准。
如所示，第一涂覆器分配末端94和第二涂覆器分配末端96在图7至图11中各自由一对同心假想圆表示。将分配的流体图案116、118的形状由围绕在衬底A、B上所设置的部件120a、120b的周边形成大体上矩形轮廓的方向箭头表示。因此，图7至图11模拟粘合剂底部填充材料的分配，粘合剂底部填充材料沿着部件(例如，在其下侧上具有焊球的网格的倒装芯片，焊球定位在衬底上的对应的匹配接触焊盘上)的边缘而分配，其中底部填充材料在芯片之下并围绕焊球而流动以将倒装芯片固定到衬底。本领域的技术人员应理解，定位器36、40以及在定位器36、40上所安装的涂覆器34、38可被控制以分配任何其它期望形状的流体图案并且在一个或多个衬底或其它类似工件的任何其它期望区域处分配流体图案。例如，如上文所论述，流体图案可包含一个或多个线、弧、点、其组合和/或连续地或间隙地分配的流体的任何其它构造。
参照图7，控制器可指令初级定位器36执行x1和y1移动，以因此定位第一涂覆器分配末端94以覆盖在衬底A上的第一分配部位(site)122。同时，控制器可指令次级定位器40相对于初级定位器36执行x2和y2移动，以因此将第二涂覆器分配末端96定位在衬底B上的对应的第一分配部位124上方。如在上文所述的高度感测操作期间所确定，控制器可接着指令初级定位器36执行向下的z1移动，以因此将第一分配末端94和第二分配末端96同时朝向它们的适当分配高度推进。如果控制器通过高度感测操作确定衬底A和B各自沿着Z轴定位在相同位置处，那么第一分配末端94和第二分配末端96可通过初级定位器36的z1移动而定位在相同分配高度处。如果控制器通过高度感测操作确定衬底A和B沿着Z轴定位在不同位置处，那么控制器可另外指令次级定位器40相对于初级定位器36的z1移动并且与初级定位器36的z1移动同时执行z2移动。因此，第一分配末端94和第二分配末端96可同时定位在它们的适当的、相应分配高度处。分配系统30现在可向衬底A和B进行分配。
如在图8中所示，第一涂覆器34与它的分配末端94可由初级定位器36移动以分配流体图案116的第一支腿116a。同时，第二涂覆器38与它的分配末端96可由次级定位器40相对于初级定位器36和第一涂覆器34移动以分配流体图案118的第一支腿118a。更具体来说，控制器可指令初级定位器36执行x1和y1移动，并且进一步指令次级定位器40相对于初级定位器36同时执行校正的x2和y2移动。控制器可基于如由控制器在上文所述的基准识别过程期间所确定的衬底A、B在XY平面中的已知位置和定向来发布这些指令。以此方式，分配系统30可在分配的同时自动地并且主动地调整第一涂覆器34和第二涂覆器38的定位，以校正衬底A和B的局部旋转。
如在图9中所示，第一涂覆器34与它的分配末端94可由初级定位器36移动以分配流体图案116的第二支腿116b。同时，第二涂覆器38与它的分配末端96可由次级定位器40相对于初级定位器36和第一涂覆器34移动以分配流体图案118的第二支腿118b。更具体来说，控制器可指令初级定位器36执行x1和y1移动，并且进一步指令次级定位器40在分配的同时相对于初级定位器36同时执行校正的x2和y2移动，以校正衬底A和B的局部旋转。
如在图10中所示，第一涂覆器34与它的分配末端94可由初级定位器36移动以分配流体图案116的第三支腿116c。同时，第二涂覆器38与它的分配末端96可由次级定位器40相对于初级定位器36和第一涂覆器34移动以分配流体图案118的第三支腿118c。更具体来说，并且如在分配第一支腿116a、118a时类似地执行，控制器可指令初级定位器36执行x1和y1移动，并且同时控制器可指令次级定位器40相对于初级定位器36执行校正的x2和y2移动，以校正衬底A和B的局部旋转。
如在图11中所示，第一涂覆器34与它的分配末端94可由初级定位器36移动以分配流体图案116的第四支腿116d。同时，第二涂覆器38与它的分配末端96可由次级定位器40相对于初级定位器36和第一涂覆器34移动以分配流体图案118的第四支腿118d，因此完成流体图案116、118。更具体来说，并且如在分配第二支腿116b、118b时类似地执行，控制器可指令初级定位器36执行x1和y1移动，并且同时控制器可指令次级定位器40相对于初级定位器36执行校正的x2和y2移动，以校正衬底A和B的局部旋转。
如由图12A中的衬底130所演示，衬底A、B中的一个或两个可相对于XY平面倾斜。如上所述，高度传感器114可操作以收集倾斜衬底沿着Z轴的多个高度测量，并且这些测量可接着经由传感器输出信号而输送至控制器。或者，如上所述，可将这些Z高度测量从使得可被用户得到的电子数据文件读取到控制器中。如在图12A中所示，控制器可接着确定分配高度路径P，分配高度路径P沿着Z轴在高度上改变并且对应的分配末端94、96可沿着分配高度路径P移动以便在末端94、96与倾斜衬底130之间维持恒定的且准确的分配间隙G。因此，如果图7至图11的衬底B和它的对应的部件120b具有与针对衬底130所示的倾斜相似的倾斜，那么除了如上所述进行x2和y2校正之外，次级定位器40将还在分配的同时相对于初级定位器36进行校正的z2移动，以校正衬底B相对于衬底A的倾斜。以此方式，系统30可将流体图案(例如图案118)准确地分配到倾斜衬底上。因此，如在图12A中所示，将沿着Z轴进行校正的z2移动以使得分配末端96在大致与倾斜衬底平行的平面中行进。
可执行类似过程，其中衬底A、B中的一个或两个相对于XY平面沿着Z轴起伏，如由图12B中的衬底132(其例如能够是翘曲衬底)所演示。具体地，系统可收集与起伏衬底对应的多个Z高度测量，或另外从电子数据文件读取Z高度测量。如在图12B中所示，系统30可接着确定对应的分配高度路径P，对应的分配高度路径P沿着Z轴在高度上改变并且对应的分配末端94、96可沿着对应的分配高度路径P移动以便在末端94、96与起伏衬底132之间维持恒定的且准确的分配间隙G。上文关于图12A中所示的倾斜衬底所述的过程也可应用到起伏衬底。例如，如果图7至图11中的衬底B具有与针对衬底132所示的起伏相似的起伏，那么除了如上所述进行x2和y2校正之外，次级定位器40将还在分配的同时相对于初级定位器36进行校正的z2移动，以校正衬底B相对于衬底A的起伏。以此方式，系统30可将流体图案(例如流体图案118)准确地分配到起伏衬底上。因此，如在图12B中所示，将沿着Z轴进行校正的z2移动以使得分配末端96沿着大致与起伏衬底相符的路径行进。
如由图13A中的示范性衬底134和136所演示，上面正被分配的两个衬底(例如衬底A和B)可各自相对于XY平面且彼此相对独特地倾斜和起伏。对应的分配高度路径P1和P2可由系统30基于由系统控制器所参考的Z高度测量来确定。具体地，如上所述，高度传感器可收集衬底134、136中的每一个的多个高度测量，并且产生将这些高度测量传达到系统控制器的传感器输出信号。在另一实施例中，定义衬底的倾斜和/或起伏的高度测量可通过电子数据来提供，电子数据由用户输入到系统30中或以其它方式使得可用于系统30。此电子数据可接着用于确定分配高度路径。
在另一实施例(未示出)中，第一衬底和第二衬底可被布置成使得第一衬底和第二衬底在XY平面中不彼此相对旋转，并且每一衬底相对于XY平面设置有相同倾斜和/或起伏，使得衬底未彼此相对独特地倾斜或起伏。在此情况下，由系统30针对衬底而确定的分配高度路径可大致相同，并且次级定位器40不需要在分配期间相对于初级定位器36进行校正的移动。换句话说，第一涂覆器和第二涂覆器可在通过初级定位器沿着X、Y和Z一起移动的同时保持彼此相对固定，以同时在第一衬底和第二衬底上分配。
参照图6至图11的衬底A和B，可出现上文也描述的第一示范性情形，其中衬底A是大体上平面的并且处于平行于XY平面，并且衬底B相对于XY平面倾斜和/或包含起伏表面，如由图12A和图12B的衬底130和132所演示。在此情况下，控制器可基于在上文所论述的高度感测操作期间收集的高度测量而为倾斜和/或起伏衬底B确定分配高度路径。接着，当第一涂覆器34在XY平面中移动以向衬底A分配并且第二涂覆器38同时在XY平面中移动以向衬底B分配时，控制器可指令次级定位器40同时相对于初级定位器36执行z2移动。因此，第二分配末端96可在第二涂覆器38向倾斜和/或起伏衬底B分配的同时沿着预定分配高度路径移动。以此方式，分配系统30可自动地且主动地调整第二涂覆器38沿着Z轴的定位，以校正衬底B相对于XY平面的倾斜和/或起伏。
在第二示范性情形中，衬底A可相对于XY平面倾斜和/或起伏，如由图12A和图12B的衬底130和132所演示，而衬底B是大体上平面的并且处于平行于XY平面。在此情况下，控制器可以如上所述的方式为倾斜和/或起伏衬底A确定分配高度路径。接着，当第一涂覆器34在XY平面中移动以向倾斜和/或起伏衬底A分配时，控制器可指令初级定位器36同时执行z1移动。因此，第一分配末端94可在第一涂覆器34向倾斜和/或起伏衬底A分配的同时沿着预定分配高度路径移动。同时，第二涂覆器38在XY平面中移动以向衬底B分配，并且控制器可指令次级定位器40相对于初级定位器36执行z2移动，该z2移动大致与由初级定位器36所进行的z1移动相反。因此，第二分配末端96可在第二涂覆器38向部件B分配的同时维持在与衬底B对应的恒定的预定分配高度处。
在第三示范性情形中，两个衬底A和B可相对于XY平面倾斜和/或起伏。例如参照图13A，衬底A可对应于衬底134，并且衬底B可对应于衬底136。在这方面，衬底A可设置有衬底A特有的第一倾斜和/或第一起伏，并且衬底B可设置有衬底B特有的第二倾斜和/或第二起伏。控制器可以如上所述的方式确定与倾斜和/或起伏衬底A对应的第一分配高度路径P1以及与倾斜和/或起伏衬底B对应的第二分配高度路径P2。接着，当第一涂覆器34在XY平面中移动以向衬底A分配时，控制器可指令初级定位器36同时执行z1移动。因此，第一分配末端94可在第一涂覆器34向衬底A分配的同时，沿着第一分配高度路径P1移动以维持第一分配间隙G1。同时，当第二涂覆器38在XY平面中移动以向倾斜和/或起伏衬底B分配时，控制器可指令次级定位器40相对于初级定位器36执行z2移动，以校正由初级定位器36所执行的z1移动以及衬底B的独特地倾斜和/或起伏两者。因此，第二分配末端96可在第二涂覆器38向衬底B分配的同时，沿着第二分配高度路径P2移动，以维持第二分配间隙G2。以此方式，第一涂覆器34可准确地向独特地倾斜和/或起伏的第一衬底分配，并且同时第二涂覆器38可准确地向独特地倾斜和/或起伏的第二衬底分配。
在与上文所述的第三示范性情形类似的替代示范性实施例中，第一涂覆器34和第二涂覆器38可同时分别在第一分配区域和第二分配区域处分配第一流体图案和第二流体图案，第一分配区域和第二分配区域各自是单个公共衬底的不同区域。例如，如在图13B中所示，初级定位器36可执行z1移动以在衬底138的第一独特地起伏的分配区域处沿着第一分配高度路径P1移动第一涂覆器34。因此，可在分配的同时维持与第一分配区域相关联的第一分配间隙G1。同时，次级定位器40可执行z2移动以在衬底138的第二独特地起伏的分配区域处沿着第二分配高度路径P2移动第二涂覆器38。因此，可在分配的同时维持与第二分配区域相关联的第二分配间隙G2。在各种实施例中，第一分配间隙G1和第二分配间隙G2可以是相同的或它们可以是不同的。
在第四示范性情形中，衬底A与B两者可以是大体上平面的并且处于平行于XY平面，但相对于XY平面沿着Z轴定位在不同距离处。例如，衬底A可位于XY平面中，而衬底B在XY平面上方间隔开。在此情况下，衬底A和B都不相对于XY平面倾斜或起伏，并且因此在分配期间沿着Z轴的主动校正不是任一涂覆器34、38所需的。控制器可以上文所述的方式为每一衬底A、B确定适当分配高度。在分配之前，控制器可指令初级定位器36执行z1移动，以在衬底A上方沿着Z轴将第一分配末端94降低到它的对应的分配高度。同时，控制器可指令次级定位器40相对于初级定位器36执行z2移动，以在衬底B上方沿着Z轴将第二分配末端96降低到它的对应的分配高度。控制器可接着指令初级定位器36将第一涂覆器34和第二涂覆器38在XY平面中一起移动，以使得第一涂覆器34和第二涂覆器38可在维持涂覆器34、38的对应的分配高度的同时，同时分别将第一流体图案和第二流体图案分配到衬底A和B上。
鉴于上文的公开，本领域的一般技术人员应理解，分配系统30能够利用初级定位器36来执行x1、y1和z1移动，并且同时利用次级定位器40来执行x2、y2和z2移动。此外，这些移动可在第一涂覆器34在第一分配区域(例如第一衬底)处分配并且第二涂覆器38同时在第二分配区域(例如第二衬底)处分配时执行。以此方式，分配系统30是可控制的，以在分配的同时自动地并主动地调整第一涂覆器34和第二涂覆器38的定位，以校正上面正被分配的第一衬底和第二衬底的未对准。
图14A和图14B呈现图示根据本发明的一个实施例的方法200的步骤的流程图，该方法200用于以与上文的公开一致的方式同时在第一分配区域和第二分配区域处分配。方法200可例如利用分配系统30或其任何适当变型来执行。所参考的分配区域被表示为“DR”。如上所述，第一分配区域和第二分配区域可以是第一衬底和第二衬底，或者它们可以是单个衬底(例如镶嵌的电路板)的不同的第一区域和第二区域。所参考的第一涂覆器和第二涂覆器被表示为“A1”和“A2”，并且可分别安装到初级定位器和次级定位器(例如上文所公开的分配系统30的定位器36和40)，并且可通过初级定位器和次级定位器来移动。
在步骤202，分配系统首先例如以上文所述的方式识别与多个分配区域中的每一个相关联的参考基准。在一个实例中，每一分配区域可设置有它的自己的一组对应的参考基准。在另一实施例中，多个分配区域可与单个组的参考基准相关联，例如，其中分配区域是单个衬底的区域。在步骤204，系统接着基于所识别的参考基准而确定每一分配位置在由系统所定义的XY平面中的位置和定向(即位置)。
在步骤206，系统接着通过高度感测来收集分配区域的Z高度测量。如上所述，此高度感测可包含使用高度传感器来收集相对于XY平面倾斜和/或起伏的分配区域的多个高度测量。例如，此高度感测可包含收集将沿其分配流体的路径的多个高度测量，该路径被分配区域围绕。高度传感器可接着产生将高度测量传达到系统控制器的传感器输出信号。
或者，如上所述，可通过将高度测量从使得可由用户得到的电子数据文件(例如表面起伏数据文件)读取到系统控制器中而收集高度测量。因此，在步骤206，用户可被分配系统的图形用户接口提示以识别将被分配系统使用的Z高度信息的来源。响应于该提示，用户可指示Z高度信息将由使得可用于系统控制器的电子数据文件提供，该文件可接着被用户识别，或用户可指示Z高度信息应由分配系统通过使用高度传感器来收集Z高度测量而确定，如上所述。
在步骤208，系统可从多个分配区域选择第一分配区域和第二分配区域，并且指派第一涂覆器A1在第一分配区域处分配第一流体图案并且指派第二涂覆器A2在第二分配区域处分配第二流体图案。
在步骤210，系统接着针对所选择的第一分配区域和第二分配区域中的每一个而评估分配区域是否沿着Z轴相对于XY平面倾斜和/或起伏。如果分配区域不倾斜或起伏，那么系统可进行到步骤212，并且基于先前针对分配区域而测量的单个Z高度来确定指派给分配区域的涂覆器的适当分配高度，如上所述。或者，在步骤214，在分配区域相对于XY平面倾斜和/或起伏的情况下，系统可基于先前利用高度传感器测量或另外由用户所输入的外部数据提供的多个Z高度而确定对应的分配高度路径，如上所述。例如，在每一分配区域独特地倾斜和/或起伏(参见图13A和图13B)的情况下，系统可确定与每一分配区域对应的独特分配高度路径。在步骤216，系统可接着适当地调整与指派给倾斜和/或起伏的分配区域的涂覆器相关联的控制算法以解决将在上面分配的表面的倾斜和/或起伏。例如，用于被指派给倾斜和/或起伏的分配区域的涂覆器的控制算法(包含控制器输出信号)可被调整成使得，涂覆器在具有X移动分量和Y移动分量的方向上移动的同时取决于分配高度路径选择性地从一个或多个适当高度分配流体，以分配流体图案。
在步骤218a和218b，系统在第一分配区域处在第一分配部位上方将第一涂覆器定位在XY平面中。同时，系统在第二分配区域处可在XY平面中相对于第一涂覆器移动第二涂覆器以将第二涂覆器定位在第一分配部位上方。在步骤220，系统接着同时将第一涂覆器和第二涂覆器沿着Z轴降低到它们的相应分配高度，如上文在步骤210到214中所确定。如果分配区域倾斜和/或起伏，那么它的涂覆器可降低到定位在分配高度路径内的初始分配高度。在步骤222，控制第一涂覆器和第二涂覆器开始在定位在下方的相应分配区域处分配流体。
始于步骤224，第一涂覆器和第二涂覆器基于由系统控制器所提供的控制器输出信号沿着X轴、Y轴和/或Z轴移动，以根据第一分配区域和第二分配区域中的任一个是否相对于XY平面倾斜和/或起伏、和/或是否相对于另一个分配区域在XY平面中旋转(即局部旋转)而分别分配第一流体图案和第二流体图案。在步骤226中，如果分配区域都不倾斜或起伏并且不存在局部旋转，那么系统可进行到步骤228，并且将第一涂覆器和第二涂覆器在XY平面中一起移动以分配第一流体图案和第二流体图案。例如，这可利用分配系统30的初级定位器36通过x1和y1移动来实现。通过步骤228，第二涂覆器不需要在分配的同时相对于第一涂覆器移动，因为分配区域既不相对于XY平面倾斜或起伏，也不在XY平面中彼此相对旋转。在对步骤228的替代中，如果分配区域在XY平面中彼此相对旋转，那么系统进行到步骤230a和230b。在步骤230a和230b，系统例如利用初级定位器36在XY平面中移动第一涂覆器以在第一分配区域处分配第一流体图案。同时，系统例如利用次级定位器40在XY平面中相对于第一涂覆器移动第二涂覆器以在第二分配区域处分配第二流体图案。因此，系统可在分配的同时主动地校正局部旋转。
在对步骤226的替代中，如果第一分配区域和/或第二分配区域相对于XY平面倾斜和/或起伏，则系统可进行到步骤232。通过步骤232，系统根据第一分配区域和第二分配区域是否在XY平面中彼此相对旋转(即局部旋转)而移动第一涂覆器和第二涂覆器。如果分配区域不局部旋转，那么系统可进行到步骤234a和234b。在步骤234a和234b，系统可例如利用初级定位器36将第一涂覆器和第二涂覆器在XY平面中一起移动(如在步骤234a中所指示)，以在XY中不存在涂覆器之间的相对移动的情况下分配第一流体图案和第二流体图案。同时，如在步骤234b中所指示，系统可沿着对应的分配高度路径(在步骤214中所确定的)在Z中移动第一涂覆器和/或第二涂覆器，以解决对应的分配区域相对于XY平面的倾斜和/或起伏。
例如，在分配期间，第二涂覆器可根据表示分配区域中的一个的倾斜和/或起伏的第一控制器输出信号相对于第一涂覆器在Z中移动。在两个分配区域都在Z中独特地倾斜和/或起伏的情况下，第一涂覆器和第二涂覆器可根据表示分配区域中的一个的第一倾斜和/或起伏的第一控制器输出信号以及表示分配区域中的另一个的第二倾斜和/或起伏的第二控制器输出信号在分配期间在Z中独立地移动。
在对步骤234a和234b的替代中，如果分配区域除它们中的至少一个倾斜和/或起伏之外还局部旋转，那么系统可进行到步骤236a、236b和236c。在步骤236a，例如利用初级定位器36在XY平面中移动第一涂覆器以在第一分配区域处分配第一流体图案。同时，在步骤236b，例如利用次级定位器40在XY平面中相对于第一涂覆器移动第二涂覆器以在第二分配区域处分配第二流体图案。同时，在步骤236c，沿着对应的分配高度路径在Z中移动第一涂覆器和/或第二涂覆器，以解决对应的分配区域相对于XY平面的倾斜和/或起伏。
在步骤238，在完成分配第一流体图案和第二流体图案时，第一涂覆器和第二涂覆器可例如沿着Z轴向上提升回到它们的分配前高度。在步骤240，系统可评估是否存在例如在第三分配区域和第四分配区域处待分配的额外流体图案。如果剩余要执行的额外分配，那么系统可返回到步骤208，如符号B所指示。如果完成所有分配，那么系统可结束它的分配操作。
已在上文连同第一分配区域和第二分配区域的指定定向以及第一涂覆器和第二涂覆器的对应的移动以在第一分配区域和第二分配区域处同时分配而描述分配的方法。然而，本领域的技术人员应理解，所描述的方法可适当地适用于同时在任何两个分配区域处分配。例如，在第一分配区域和/或第二分配区域相对于XY平面独特地倾斜和/或起伏的情况下，系统可在分配的同时沿着X、Y和/或Z独立地移动第一涂覆器和第二涂覆器，以同时在第一分配区域处分配第一流体图案并且在第二分配区域处分配第二流体图案。
参照图15和图16，示出根据本发明的另一示范性实施例的次级定位器300。应理解，类似附图标记表示在图4至图6中所示的类似特征，例如，初级定位器36的特征。在此实施例中，初级定位器36相对于它的在图4至图6的实施例中所示的定向在XY平面中移位90度。因此，支撑件48与X轴对准，并因此用作x1支撑件。类似地，虽然未示出，但支撑件44a和44b与Y轴对准，并因此用作y1支撑件。应理解，初级定位器36可相对于全局X轴、Y轴和Z轴以任何期望定向设置，并且进一步，本发明的范围不限于本文所示出和描述的示范性定向。
现将描述次级定位器300和次级定位器40之间的一般相似性和差异，后面是次级定位器300的结构特征的描述。
类似于次级定位器40，次级定位器300经由z1滑架60而安装到初级定位器36并由初级定位器36支撑，以使得初级定位器36在X、Y和Z中同时移动第一涂覆器34与第二涂覆器38两者，如由x1、y1和z1所指示。此外，类似于次级定位器40，次级定位器300操作以在X、Y和Z中在第一涂覆器34与第二涂覆器38之间提供自动化相对移动，如由x2、y2和z2所指示。因此，类似于次级定位器40，次级定位器300结合初级定位器36实现第一涂覆器34和第二涂覆器38中的每一个在X轴、Y轴和Z轴中的同时的独立位置控制。
如上所述，次级定位器40通过在所有三条轴线(X轴、Y轴和Z轴，如由图5中的x2、y2和z2所指示)中将第二涂覆器38相对于第一涂覆器34移动而提供第一涂覆器34和第二涂覆器彼此相对的自动化位置调整。相比之下，次级定位器300通过在所述轴线中的两条(即Y轴和Z轴，如由图15和图16中的y2和z2所指示)中将第二涂覆器38相对于第一涂覆器34移动并且通过在剩余轴线(即X轴，如由图15和图16中的x2所指示)中将第一涂覆器34相对于第二涂覆器38移动而提供这些自动化位置调整。
不同于次级定位器40，次级定位器300携带涂覆器34与38两者，如下文更详细地描述。此外，第一涂覆器34在X中的移动通过初级定位器36(如由x1所指示)以及次级定位器300(如由x2所指示)两者实现。换句话说，不同于次级定位器40，次级定位器300实现第一涂覆器34相对于初级定位器36(包含z1滑架60)的自动化位置调整，而第二涂覆器38相对于z1滑架60保持在X中固定。因此，关于次级定位器300，第二涂覆器38的在X中的移动完全被初级定位器36控制。
在下文鉴于初级定位器36相对于全局X轴、Y轴和Z轴的定向来描述次级定位器300的部件。然而，如上所述，初级定位器36可相对于X轴、Y轴和Z轴以任何适当方式定向。因此，应理解，次级定位器300的部件以及次级定位器40的部件相对于全局轴线的定向可取决于初级定位器36相对于这些轴线的定向而改变。
次级定位器300包含安装支架302或底板，该安装支架302或底板刚性安装到初级定位器36的z1滑架60的XZ表面。在此实施例中，z1滑架60呈平板的形式，并且可沿着布置在z1支撑件56的公共XZ外表面上的z1轴承引导件58a和58b滑动。如在图16中最佳地示出，安装支架302是大致L形的，并且包含在XZ平面中延伸的第一支腿304以及在YZ平面中从第一支腿304垂直地延伸的第二支腿306。安装支架302可经由第一支腿304而安装到z1滑架60。
x2移动单元308安装到安装支架302的第一支腿304，并且包含相对地布置的第一端块310和第二端块312，第一端块310和第二端块312支撑沿着X轴在第一端块310与第二端块312之间延伸的线性轴承引导件(未示出)。x2滑架314由线性轴承引导件携带并且可在X中在端块310、312之间移动，以在X中将第一涂覆器34相对于初级定位器36移动，如由x2所指示。x2滑架的移动由可控制的x2驱动机构316提供动力。第一涂覆器34可释放地安装到第一涂覆器安装件318，第一涂覆器安装件318联接到x2滑架314并且可由x2滑架314移动。
y2移动单元320安装到安装支架302的第二支腿306，并且在结构和功能上大致类似于x2移动单元308。具体地，y2移动单元320包含相对地布置的第一端块322和第二端块324，第一端块322和第二端块324支撑沿着Y轴在第一端块322与第二端块324之间延伸的线性轴承引导件(未示出)。y2滑架326由线性轴承引导件携带并且可在Y中在端块322、324之间移动，以在Y中将第二涂覆器38相对于第一涂覆器34和初级定位器36移动，如由y2所指示。y2滑架326的移动由可控制的y2驱动机构328提供动力。
z2移动单元330安装到y2滑架326，并且提供第二涂覆器38在Z中相对于第一涂覆器34和初级定位器36的移动，如由z2所指示。z2移动单元330通常包含初级支撑支架332以及次级支撑支架334，该次级支撑支架334可在Z中相对于初级支撑支架332移动，支架332、334中的每一个例如是大致L形的。初级支撑支架332包含：下支腿336，该下支腿336在YZ平面中延伸；以及上支腿338，该上支腿338在XY平面中从下支腿336垂直地延伸。下支腿336支撑z2底板340，沿着Z轴延伸的一对z2线性轴承引导件342a和342b设置在z2底板340上。上支腿338可支撑可控制的z2驱动机构344。z2移动单元330的次级支撑支架334包含：第一支腿346，该第一支腿346在YZ平面中延伸；以及第二支腿348，该第二支腿348在XZ平面中从第一支腿346垂直地延伸。次级支撑支架334经由第一支腿346而支撑在可沿着z2线性轴承引导件342a、342b滑动的z2滑架350上，如由z2所指示。z2滑架350在Z中的移动由z2驱动机构344提供动力。
第二涂覆器38可释放地安装到第二涂覆器安装件352，第二涂覆器安装件352联接到大致在XZ平面中延伸的间距调整板354。具体地，第二涂覆器安装件352可沿着间距调整板354的长度在多个位置处选择性地联接到间距调整板354。以此方式，可在分配开始之前进行第一涂覆器34与第二涂覆器38之间在X中的间隔(即间距)的手动粗略调整。如所示，第二涂覆器安装件352可包含上爪356，上爪356在多个位置之间沿着间距调整板354的上边缘滑动，并且可按需要固定在位置中的任一个中。
间距调整板354联接到z2移动单元330的次级支撑支架334的第二支腿348。更具体地，间距调整板354可沿着间距调整板354的长度在多个位置处选择性地联接到第二支腿348。因此，可通过将第二涂覆器安装件352相对于间距调整板354选择性地定位和/或通过将间距调整板354相对于次级支撑支架334的第二支腿348选择性地定位，来实现第一涂覆器34与第二涂覆器38在X中的间隔、或间距的粗略调整。
z2移动单元330还可包含用于执行第一涂覆器34与第二涂覆器38的分配末端94、96之间在Z中的间隔的粗略调整的特征。例如，在一个实施例中，次级支撑支架334的第一支腿346可在沿着Z轴延伸的多个位置处选择性地联接到z2滑架350。在另一个实施例中，次级定位器300可进一步包含用于执行第一涂覆器34与第二涂覆器38之间在Y中的间隔的粗略调整的特征。涂覆器间隔在X、Y和/或Z中的这些粗略调整是在分配之前执行，并且可针对具体分配应用来修整。涂覆器间隔在X、Y和/或Z中的自动化的细微调谐(fine-tune)调整可通过致动x2移动单元308、y2移动单元320和/或z2移动单元330而在分配期间实时地执行，如下所述。
在一个实施例中，x2驱动机构316、y2驱动机构328和z2驱动机构344可各自包含步进马达。或者，驱动机构316、328、344可包含以高度准确性、可重复性和稳定性适用于移动的任何其它适当电动、气动或液压驱动装置。驱动机构316、328、344可进一步包含与上文连同驱动机构100a、100b、102、104、106、107和108而描述的机械驱动元件类似的机械驱动元件。例如，驱动机构316、328、344中的一个或多个可包含步进马达，步进马达具有以柔性驱动联接件连接到旋转导螺杆的输出轴，旋转导螺杆接合在相应滑架314、326、350上所设置的带齿的元件。
如上所述，次级定位器300联接到初级定位器36，以使得初级定位器36的x1、y1和z1移动转换到次级定位器300并且因此转换到由次级定位器300所支撑的第一涂覆器34和第二涂覆器38。因此，并且有利地，初级定位器36可执行第一涂覆器34和第二涂覆器38相对于在此处正被分配的第一分配区域和第二分配区域在X、Y和Z(x1、y1和z1)中的初级位置移动，并且同时，次级定位器40、300可在分配期间执行第一涂覆器34与第二涂覆器38之间的相对间隔在X、Y和Z(x2、y2和z2)中的细微调谐调整。此外，因为可仅使用初级定位器36来进行涂覆器34、38两者在X、Y和Z中的初级移动，所以可在分配操作期间激活最小数目的驱动机构，以使得在分配操作期间给分配系统30提供的控制信号可最有效。应理解，初级定位器36和次级定位器40、300的各种替代结构构造是可能的，只要维持由初级定位器36与次级定位器40、300所提供的上述优点即可。
例如，在系统30将被控制在相应第一分配区域和第二分配区域(例如衬底)处分配第一和第二相同流体图案的情况下，并且在分配区域在XY平面中相互对准(即未局部旋转)并且分配区域都不相对于XY平面独特地起伏或倾斜的情况下，可仅使用初级定位器36来实现用于分配的所有移动。更具体地，可如上所述进行X、Y和/或Z中的任何适当分配前涂覆器间隔调整，以使得自动化x1和y1移动可将第一涂覆器34和第二涂覆器38相对于它们的相应分配区域准确地定位，并且使得自动化z1移动可将涂覆器34、38的分配末端94、96准确地定位在它们的相应分配高度处。
次级定位器300的结构构造提供最小化由致动第一移动单元的驱动机构所携带的负载的额外优点。更具体地，x2驱动机构316负担仅移动x2滑架314、第一涂覆器34和第一涂覆器安装件318。通过比较，与次级定位器300的x2驱动机构316对应的次级定位器40的y2驱动机构106负担移动较大量的部件(合计较大负载)。具体地，y2驱动机构106例如移动z2支撑件74、z2滑架78、x2支撑件80、第二涂覆器38以及驱动机构106和108。
类似于次级定位器40，次级定位300实现相对于初级定位器36的额外移动x2、y2和z2，所述移动可相比对应的x1、y1和z1移动而相对细微。换句话说，次级定位器300的运动范围可小于初级定位器36的运动的对应的范围。因此，初级定位器36可被控制以在分配期间一起执行第一涂覆器34和第二涂覆器38的在X、Y和/或Z中的自动化初级移动。类似地，次级定位器300可被控制以执行第一涂覆器34和第二涂覆器38之间的间隔在X、Y和/或Z中的在分配期间的自动化细微调谐调整。以此方式，第一涂覆器34和第二涂覆器38可被动态地定位以同时在相应第一分配区域和第二分配区域(例如第一衬底和第二衬底)处分配相应第一流体图案和第二流体图案。如上所述，例如，如在图7至图11中所示，分配区域可相对于彼此未对准，和/或如在图12A至13B中所示，分配区域中的至少一个可相对于XY平面倾斜和/起伏。
此外，次级定位器300可用于执行上文所述并且示出在图14A至图14B中的方法200的步骤。在这方面，次级定位器300可进一步包含安装在次级定位器300的部件上的任何位置处的相机和高度传感器(未示出)。应理解，如上所述，由于次级定位器40、300之间的结构差异，方法200的某些步骤与当由次级定位器40执行时相比，可由次级定位器300略微不同地执行。例如，当由次级定位器300执行时，步骤218b、230b和236b包含将第一涂覆器34相对于第二涂覆器38在X中移动，并且将第二涂覆器38相对于第一涂覆器34在Y中移动。
虽然已通过本发明的具体实施例的描述来说明本发明且已相当详细地描述实施例，但不旨在将所附权利要求书的范围限定或以任何方式限制到这些细节。本文所论述的各种特征可单独使用或以任何组合来使用。额外优点和修改将对于本领域技术人员容易显而易见。本发明在其较广方面因此不限于所示出和描述的具体细节、代表的设备和方法以及说明性实例。因此，在不偏离一般发明概念的范围的情况下可偏离这些细节。

Claims (26)

1.一种在第一分配区域处分配第一流体图案并且在第二分配区域处分配第二流体图案的方法，所述第一分配区域和所述第二分配区域在一个或多个电子衬底上，所述第一分配区域和所述第二分配区域相对于由第一轴线以及与所述第一轴线正交的第二轴线所限定的参考平面被定位，所述第一分配区域设置有相对于所述参考平面并且沿着与所述第一轴线和所述第二轴线相互正交的第三轴线的第一倾斜或第一起伏，
所述方法包括：
确定与所述第一分配区域的第一倾斜或第一起伏对应的第一分配高度路径，所述第一分配高度路径沿着所述第三轴线改变；
经由使得第一涂覆器和第二涂覆器在与所述第一轴线平行的方向和与所述第二轴线平行的方向上移动的初级定位器使得第一涂覆器的第一末端沿着所述第一分配高度路径移动以在所述第一分配区域处分配所述第一流体图案，其中，在所述分配期间在所述第一末端和所述一个或多个电子衬底之间维持第一分配间隙，以及
经由使得所述第二涂覆器在与所述第一轴线平行的方向和与所述第二轴线平行的方向上移动的次级定位器同时使得第二涂覆器的第二末端相对于所述第一涂覆器和所述第二分配区域移动以在所述第二分配区域处分配所述第二流体图案，其中，在所述分配期间在所述第二末端和所述一个或多个电子衬底之间维持第二分配间隙，
其中，所述第一涂覆器的与所述第一轴线平行的移动和所述第二涂覆器的与所述第一轴线平行的移动是同时的。
2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：
沿着所述第三轴线、与所述第一分配区域相对应地收集多个高度测量，
其中确定所述第一分配高度路径包含：基于所述多个高度测量来确定所述第一分配高度路径。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一分配高度路径大致与所述第一分配区域的第一倾斜或第一起伏中的至少一个相符，从而使得所述第一涂覆器沿着所述第一分配高度路径移动包含：在所述第一涂覆器和所述第一分配区域之间大致维持第一分配间隙。
4.根据权利要求1所述的方法，其中使得所述第二涂覆器相对于所述第二分配区域移动包含：使得所述第二涂覆器相对于所述第一涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动。
5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二分配区域设置有相对于所述参考平面并沿着所述第三轴线的第二倾斜或第二起伏中的至少一个，所述第二倾斜或所述第二起伏中的至少一个是所述第二分配区域特有的，所述方法进一步包括：
确定与所述第二分配区域的第二倾斜或第二起伏中的至少一个对应的第二分配高度路径，所述第二分配高度路径沿着所述第三轴线改变并且是所述第二分配区域特有的，
其中使得所述第二涂覆器相对于所述第二分配区域移动以分配所述第二流体图案包含：使得所述第二涂覆器沿着所述第二分配高度路径移动。
6.根据权利要求5所述的方法，其中所述第二分配高度路径大致与所述第二分配区域的第二倾斜或第二起伏中的至少一个相符，从而使得所述第二涂覆器沿着所述第二分配高度路径移动包含：在所述第二涂覆器和所述第二分配区域之间大致维持第二分配间隙。
7.根据权利要求1所述的方法，其中在所述第二分配区域处分配所述第二流体图案包含：分配在大小和形状上与所述第一流体图案大致相同的流体图案。
8.根据权利要求1所述的方法，其中，使得所述第一涂覆器沿着所述第一分配高度路径移动以及使得所述第二涂覆器相对于所述第二分配区域移动包含：利用公共的初级定位器来使得所述第一涂覆器和所述第二涂覆器同时移动。
9.一种用于在第一分配区域和第二分配区域处分配流体的分配系统，所述第一分配区域和所述第二分配区域相对于由第一轴线以及与所述第一轴线正交的第二轴线所限定的参考平面被定位，
所述系统包括：
第一涂覆器，所述第一涂覆器用于在所述第一分配区域处以第一流体图案分配流体；
第二涂覆器，所述第二涂覆器用于在所述第二分配区域处以第二流体图案分配流体；
初级定位器，所述初级定位器被构造成定位用于在所述第一分配区域和所述第二分配区域处分配流体的所述第一涂覆器和所述第二涂覆器，所述初级定位器具有：第二驱动装置，所述第二驱动装置使得所述第一涂覆器和所述第二涂覆器在与所述第二轴线平行的方向上同时移动；以及第三驱动装置，所述第三驱动装置使得所述第一涂覆器和所述第二涂覆器在与第三轴线平行的方向上同时移动，所述第三轴线与所述第一轴线和所述第二轴线相互正交；
次级定位器，所述次级定位器由所述初级定位器支撑，并且具有：第二驱动装置，所述第二驱动装置使得所述第一涂覆器或所述第二涂覆器中的一个相对于所述第一涂覆器或所述第二涂覆器中的另一个在与所述第二轴线平行的方向上移动；以及第三驱动装置，所述第三驱动装置使得所述第一涂覆器或第二涂覆器中的一个相对于所述第一涂覆器或所述第二涂覆器中的另一个在与所述第三轴线平行的方向上移动，以及
控制器，所述控制器与所述初级定位器和所述次级定位器操作地联接，并且所述控制器识别所述第一分配区域相对于所述参考平面的第一倾斜或第一起伏中的至少一个并产生表示所述第一倾斜或所述第一起伏的控制器输出信号，
其中，响应于所述控制器输出信号，当所述第一涂覆器在所述第一分配区域处分配所述第一流体图案同时维持在所述第一涂覆器的末端和所述第一分配区域之间的第一分配间隙并且所述第二涂覆器同时在所述第二分配区域处分配所述第二流体图案同时维持在所述第二分配区域和所述第二涂覆器之间的第二分配间隙时，所述次级定位器使得所述第一涂覆器或所述第二涂覆器中的一个涂覆器相对于所述第一涂覆器或所述第二涂覆器中的另一个涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动，
其中所述初级定位器的第三驱动装置使得所述次级定位器在与所述第三轴线平行的方向上移动。
10.根据权利要求9所述的分配系统，其中在所述第一涂覆器在所述第一分配区域处分配流体并且所述第二涂覆器同时在所述第二分配区域处分配流体时，所述次级定位器能够利用它的对应的驱动装置相对于所述初级定位器自动移动。
11.根据权利要求9所述的分配系统，其中所述初级定位器能够以在与所述第一轴线平行的方向上的第一运动范围移动、以在与所述第二轴线平行的方向上的第二运动范围移动、以及以在与所述第三轴线平行的方向上的第三运动范围移动，并且所述次级定位器能够以在与所述第一轴线平行的方向上的第一运动范围移动、以在与所述第二轴线平行的方向上的第二运动范围移动、以及以在与所述第三轴线平行的方向上的第三运动范围移动，并且
其中所述次级定位器的第一运动范围、第二运动范围和第三运动范围小于所述初级定位器的对应的第一运动范围、第二运动范围和第三运动范围。
12.根据权利要求9所述的分配系统，其中所述第二驱动装置中的每一个第二驱动装置和所述第三驱动装置中的每一个第三驱动装置包含电动马达。
13.根据权利要求9所述的分配系统，进一步包括：
至少一个控制器，用于指令所述初级定位器相对于所述第一轴线、所述第二轴线和所述第三轴线的移动，以及所述次级定位器相对于所述第一轴线、所述第二轴线和所述第三轴线的移动。
14.根据权利要求9所述的分配系统，其中所述初级定位器进一步包含滑架，所述初级定位器的第三驱动装置使得所述滑架在与所述第三轴线平行的方向上移动，所述次级定位器联接到所述滑架，并且
其中由所述第三驱动装置导致的所述滑架的移动使得所述第一涂覆器和所述第二涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动。
15.根据权利要求9所述的分配系统，其中所述次级定位器支撑所述第一涂覆器和所述第二涂覆器。
16.根据权利要求9所述的分配系统，其中所述次级定位器的第二驱动装置使得所述第二涂覆器相对于所述第一涂覆器在与所述第二轴线平行的方向上移动，并且所述次级定位器的第三驱动装置使得所述第二涂覆器相对于所述第一涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动。
17.根据权利要求9所述的分配系统，其中所述初级定位器支撑所述第一涂覆器，并且所述次级定位器支撑所述第二涂覆器。
18.根据权利要求9所述的分配系统，其中所述次级定位器的第二驱动装置和第三驱动装置使得所述第二涂覆器相对于所述第一涂覆器移动。
19.根据权利要求9所述的分配系统，其中所述初级定位器和所述次级定位器中的至少一个定位器被构造成：当所述初级定位器和所述次级定位器中的所述至少一个定位器定位所述第一涂覆器和所述第二涂覆器时，同时分别维持在所述第一涂覆器和所述第一分配区域之间限定的第一间隙以及在所述第二涂覆器和所述第二分配区域之间限定的第二间隙。
20.一种用于在第一分配区域和第二分配区域处分配流体的分配系统，所述第一分配区域和第二分配区域相对于由第一轴线以及与所述第一轴线正交的第二轴线所限定的参考平面被定位，
所述分配系统包括：
第一涂覆器，所述第一涂覆器用于在所述第一分配区域处分配第一流体图案；
第二涂覆器，所述第二涂覆器用于在所述第二分配区域处分配第二流体图案；
第一驱动装置，所述第一驱动装置使得所述第一涂覆器在与第三轴线平行的方向上移动，所述第三轴线与所述第一轴线和所述第二轴线相互正交；
第二驱动装置，所述第二驱动装置使得所述第二涂覆器相对于所述第一涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动；
初级定位器，所述初级定位器被构造成定位用于在所述第一分配区域和所述第二分配区域处分配流体的所述第一涂覆器和所述第二涂覆器并且使得所述第一涂覆器和所述第二涂覆器在与所述第一轴线平行的方向和与所述第二轴线平行的方向上同时移动；
次级定位器，所述次级定位器由所述初级定位器支撑并且被构造成使得所述第一涂覆器或所述第二涂覆器中的一个相对于所述第一涂覆器或所述第二涂覆器中的另一个在与所述第一轴线平行的方向和与所述第二轴线平行的方向上移动；以及
控制器，所述控制器与所述第一驱动装置和所述第二驱动装置操作地联接，并且所述控制器识别所述第一分配区域相对于所述参考平面的第一倾斜或第一起伏中的至少一个，并产生表示所述第一倾斜或所述第一起伏的控制器输出信号，
其中，响应于所述控制器输出信号，当所述第一涂覆器在所述第一分配区域处分配所述第一流体图案同时维持在所述第一涂覆器的末端和所述第一分配区域之间的第一分配间隙并且所述第二涂覆器同时在所述第二分配区域处分配所述第二流体图案同时维持在所述第二分配区域和所述第二涂覆器之间的第二分配间隙时，所述第二驱动装置使得所述第二涂覆器相对于所述第一涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动。
21.根据权利要求20所述的分配系统，其中所述第一倾斜或所述第一起伏中的所述至少一个由所述控制器基于由高度传感器沿着所述第三轴线并与所述第一分配区域相对应地收集的多个高度测量来识别，其中所述高度传感器产生表示所述第一倾斜或所述第一起伏并基于所述多个高度测量的传感器输出信号，并且响应于所述传感器输出信号产生所述控制器输出信号。
22.根据权利要求20所述的分配系统，其中所述第一倾斜或所述第一起伏中的所述至少一个由所述控制器基于被所述控制器访问的电子数据文件识别，所述电子数据文件包含参照所述第三轴线并与所述第一分配区域对应的高度测量信息，其中响应于所述高度测量信息产生所述控制器输出信号。
23.根据权利要求20所述的分配系统，其中，所述控制器输出信号是第一控制器输出信号，并且
其中，所述控制器进一步识别所述第二分配区域相对于所述参考平面的第二倾斜或第二起伏中的至少一个，并产生表示所述第二倾斜或所述第二起伏的第二控制器输出信号，并且
其中，在响应于所述第一控制器输出信号，所述第二驱动装置使得所述第二涂覆器相对于所述第一涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动时，响应于所述第二控制器输出信号，所述第一驱动装置使得所述第一涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动。
24.根据权利要求20所述的分配系统，其中所述第一驱动装置使得所述第一涂覆器和所述第二涂覆器在与所述第三轴线平行的方向上移动。
25.根据权利要求20所述的分配系统，其中所述控制器输出信号包含所述第一分配区域和所述第一涂覆器之间的第一距离，当所述第一涂覆器在所述第一分配区域处分配所述第一流体图案时，所述第一距离被保持大致恒定。
26.根据权利要求25所述的分配系统，其中所述控制器输出信号包含所述第二分配区域和所述第二涂覆器之间的第二距离，当所述第二涂覆器在所述第二分配区域处分配所述第一流体图案时，所述第二距离被保持大致恒定。
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