CN106461841B - 光学用膜的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明为一种光学用膜的制造方法，其特征在于，使将特定的嵌段共聚物氢化物[D]压出成型而得的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以上述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与上述光学用膜相向的方式重合而卷绕，上述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。根据本发明，可提供能够适用于偏光板保护膜、相位差膜、透明粘合膜用的基材膜等的由特定的嵌段共聚物氢化物形成的在表面没有擦伤、剥离痕迹的光学用膜的制造方法。

Description

光学用膜的制造方法
技术领域
本发明涉及一种由嵌段共聚物氢化物形成的光学用膜的制造方法，进一步具体而言，涉及一种在表面中伤痕等缺陷少、表面状态优秀的适于偏光板保护膜、相位差膜、透明粘合膜用的基材膜等光学用膜的制造方法。
背景技术
在现有技术中已知：对将芳香族乙烯基化合物的聚合物的芳香环进行了氢化的芳香族乙烯基化合物氢化物、将来自由以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成份的聚合物嵌段和包含来自链状共轭二烯化合物的重复单元的聚合物嵌段形成的嵌段共聚物的芳香环及二烯的双键进行了氢化的嵌段共聚物氢化物进行压出成型而得的膜作为偏光膜、相位差膜等光学用膜是有用的(专利文献1～4)。
关于本发明，在专利文献2中记载有：在对嵌段共聚物氢化物进行成型而制造膜时，以防止膜彼此的粘连为目的，可以重叠掩蔽膜而进行卷绕。但是，不同于防止粘连，对于用于体现防止膜表面的受伤的功能的掩蔽膜的物性、特性，没有相关的描述。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002-105151号公报(US2003/0207983A1)；
专利文献2：日本特开2003-114329号公报；
专利文献3：WO2009/067290号小册子；
专利文献4：WO2009/137278号小册子。
发明内容
发明要解决的课题
在将上述嵌段共聚物氢化物用于光学用膜用途的情况下，可认为如果提高来自芳香族乙烯基化合物的重复单元的含有率，则弹性模量变高、将其成型的膜不易产生双折射，因此优选。
但是另一方面，来自芳香族乙烯基化合物的重复单元的含有率高的嵌段共聚物氢化物，与来自芳香族乙烯基化合物的重复单元的含有率低的嵌段共聚物氢化物相比，有由于成型的膜自身彼此互相摩擦而导致易产生膜表面的伤痕的问题。
作为其对策，可考虑通过在嵌段共聚物氢化物中配合滑剂从而使成型的膜的滑动性变好而改善易受伤性。然而，有发生由于滑剂的渗出导致的膜表面的污染、与其它材料进行多层化时的接合性的下降等的风险。此外，作为提高膜间的滑动性、改善易受伤性的方法，虽然可考虑在膜表面实施微细的压花加工，但是由于在光学用膜用途中要求表面的平滑性所以不能适用。
本发明是鉴于这样的实际情况而完成的，其目的在于提供一种在表面中伤痕等缺陷少、表面状态优秀的能够适用于偏光板保护膜、相位差膜、透明粘合膜用的基材膜等的由特定的嵌段共聚物氢化物形成的光学用膜的制造方法。
用于解决课题的方案
本发明人为了实现上述目的进行了深入研究，结果发现在将由特定的嵌段共聚物氢化物形成的光学用膜与表面由具有特定的值以下的弯曲弹性模量及粘合性的树脂构成的保护膜重叠而卷绕成辊状进行保管的情况下，能够有效地抑制由特定的嵌段共聚物氢化物形成的光学用膜的表面的受伤，以至完成了本发明。
这样，根据本发明，可提供下述(1)～(3)的光学用膜的制造方法。
(1)一种光学用膜的制造方法，其特征在于，
是由将嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的制造方法，上述嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比(wA:wB)为60:40～90:10，
使将上述嵌段共聚物氢化物[D]压出成型而得的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以上述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与上述光学用膜相向的方式重合而卷绕，上述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。
(2)根据(1)所述的光学用膜的制造方法，其中，
上述保护膜是由上述树脂[E]形成的单层膜、在最表面具有由上述树脂[E]形成的层的多层膜、或者在由弯曲弹性模量超过1500MPa的除树脂[E]以外的树脂形成的膜的两面形成由树脂[E]形成的层而成的多层膜。
(3)根据(1)或(2)所述的光学用膜的制造方法，其中，
上述树脂[E]为选自聚乙烯、聚丙烯、乙烯·α-烯烃共聚物、乙烯·醋酸乙烯酯共聚物、聚氨酯及聚酯弹性体中的至少一种。
发明效果
根据本发明，可提供一种由嵌段共聚物氢化物形成的光学用膜的制造方法，并且是在表面中伤痕等缺陷少、表面状态优秀的适于偏光板保护膜、相位差膜、透明粘合膜用的基材膜等的光学用膜的制造方法。
具体实施方式
以下，对本发明进行详细说明。
本发明的光学用膜的制造方法，其特征在于，
是由将嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的制造方法，上述嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比(wA:wB)为60:40～90:10，
使对上述嵌段共聚物氢化物[D]进行压出成型而得的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以上述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与上述光学用膜相向的方式重合而卷绕，上述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。
1.嵌段共聚物氢化物[D]
本发明中使用的嵌段共聚物氢化物[D]是将作为其前体的嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化而得的高分子。
嵌段共聚物[C]是含有至少2个聚合物嵌段[A]和至少1个聚合物嵌段[B]的高分子。
(聚合物嵌段[A])
聚合物嵌段[A]以来自芳香族乙烯基化合物的结构单元为主成分。
聚合物嵌段[A]中的来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的含量通常为90重量％以上，优选为95重量％以上，更优选为99重量％以上。
当聚合物嵌段[A]中的来自芳香族乙烯基化合物的结构单元过少时，有本发明的光学用膜的耐热性下降的风险。
聚合物嵌段[A]还可以含有除来自芳香族乙烯基化合物的结构单元以外的成分。作为除来自芳香族乙烯基化合物的结构单元以外的成分，可举出来自链状共轭二烯化合物的结构单元和/或来自其它乙烯基化合物的结构单元。
其含量相对于聚合物嵌段[A]通常为10重量％以下，优选为5重量％以下，更优选为1重量％以下。
嵌段共聚物氢化物[D]所包含的多个聚合物嵌段[A]彼此只要满足上述范围，则可以相互相同也可以不同。
(聚合物嵌段[B])
聚合物嵌段[B]以来自链状共轭二烯化合物的结构单元为主成分。
聚合物嵌段[B]中的来自链状共轭二烯化合物的结构单元的含量通常为70重量％以上，优选为80重量％以上，更优选为90重量％以上。
当聚合物嵌段[B]中的来自链状共轭二烯化合物的结构单元在上述范围时，可对本发明的光学用膜赋予柔软性。
此外，聚合物嵌段[B]还可以含有除来自链状共轭二烯化合物的结构单元以外的成分。作为除来自链状共轭二烯化合物的结构单元以外的成分，可举出来自芳香族乙烯基化合物的结构单元和/或来自其它乙烯基化合物的结构单元。
其含量相对于聚合物嵌段[B]通常为30重量％以下，优选为20重量％以下，更优选为10重量％以下。
当聚合物嵌段[B]中的来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的含量过多时，虽然本发明的光学用膜的双折射体现性下降，但是有柔软性下降的风险。
在嵌段共聚物氢化物[D]包含多个聚合物嵌段[B]的情况下，聚合物嵌段[B]彼此可以相同也可以不同。
作为芳香族乙烯基化合物，可举出：苯乙烯；α-甲基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、2,4-二异丙基苯乙烯、4-叔丁基苯乙烯、5-叔丁基-2-甲基苯乙烯等具有碳原子数为1～6的烷基作为取代基的苯乙烯类；4-氯苯乙烯、二氯苯乙烯、4-单氟苯乙烯等具有卤素原子作为取代基的苯乙烯类；4-甲氧基苯乙烯等具有碳原子数为1～6的烷氧基作为取代基的苯乙烯类；4-苯基苯乙烯等具有芳基作为取代基的苯乙烯类；1-乙烯基萘、2-乙烯基萘等乙烯基萘类等。在这些之中，从吸湿性的观点出发，优选苯乙烯、具有碳原子数为1～6的烷基作为取代基的苯乙烯类等不含有极性基团的芳香族乙烯基化合物，从工业上的易取得性出发，特别优选苯乙烯。
作为链状共轭二烯系化合物，可举出1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯等。其中，从吸湿性的观点出发，优选不含有极性基团的链状共轭二烯系化合物，从工业上的易取得性出发，特别优选1,3-丁二烯、异戊二烯。
作为其它乙烯基系化合物，可举出：链状乙烯基化合物、环状乙烯基化合物等乙烯基化合物；不饱和的环状酸酐；不饱和酰亚胺化合物等。这些化合物还可以具有腈基、烷氧基羰基、羟基羰基或卤素基等取代基。在这些之中，从吸湿性的观点出发，优选乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-壬烯、1-癸烯、1-十二碳烯、1-二十碳烯、4-甲基-1-戊烯、4,6-二甲基-1-庚烯等碳原子数为2～20的链状烯烃；乙烯基环己烷等碳原子数为5～20的环状烯烃等不具有极性基团的乙烯基化合物，更优选碳原子数为2～20的链状烯烃，特别优选乙烯、丙烯。
(嵌段共聚物[C])
嵌段共聚物[C]为嵌段共聚物氢化物[D]的前体，是在分子内含有至少2个聚合物嵌段[A]和至少1个聚合物嵌段[B]的高分子。
嵌段共聚物[C]中的聚合物嵌段[A]的数量通常为5个以下，优选为4个以下，更优选为3个以下。存在多个聚合物嵌段[A]和/或聚合物嵌段[B]时，将聚合物嵌段[A]中重均分子量最大和最小的聚合物嵌段的重均分子量分别设为Mw(A1)和Mw(A2)、将聚合物嵌段[B]中重均分子量最大和最小的聚合物嵌段的重均分子量分别设为Mw(B1)和Mw(B2)时，该Mw(A1)与Mw(A2)的比(Mw(A1)/Mw(A2))及该Mw(B1)与Mw(B2)的比(Mw(B1)/Mw(B2))分别为4.0以下，优选为3.0以下，更优选为2.0以下。
嵌段共聚物[C]的嵌段的形态可以是链状型嵌段也可以是径向型嵌段，作为链状型嵌段的嵌段共聚物[C]的机械强度优秀，因此优选。嵌段共聚物[C]的最优选的形态为在聚合物嵌段[B]的两端键合了聚合物嵌段[A]的三嵌段共聚物([A]-[B]-[A])及在聚合物嵌段[A]的两端键合了聚合物嵌段[B]，进而在这两个聚合物嵌段[B]的另一端分别键合了聚合物嵌段[A]的五嵌段共聚物([A]-[B]-[A]-[B]-[A])。
在将嵌段共聚物[C]中的全部聚合物嵌段[A]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比(wA:wB)为60:40～90:10，优选为65:35～85:15，更优选为70:30～80:20。在wA过高的情况下，虽然本发明的光学用膜的耐热性变高、也易于减小双折射，但是柔软性低、光学用膜在切割面易于断裂，在wA过低的情况下，耐热性下降，经拉伸的光学用膜在高温耐久试验中容易收缩。
嵌段共聚物[C]的分子量以通过将四氢呋喃(THF)作为溶剂的凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)计，通常为40000～200000，优选为50000～150000，更优选为60000～100000。此外，嵌段共聚物[C]的分子量分布(Mw/Mn)优选为3以下，更优选为2以下，特别优选为1.5以下。
嵌段共聚物[C]能够通过例如以下方法等来制造：通过活性阴离子聚合等方法来使含有芳香族乙烯基化合物作为主成分的单体混合物(a)和含有链状共轭二烯系化合物作为主成分的单体混合物(b)交替地聚合的方法；使含有芳香族乙烯基化合物作为主成分的单体混合物(a)和含有链状共轭二烯系化合物作为主成分的单体混合物(b)依次聚合后，通过偶联剂使聚合物嵌段[B]的末端彼此进行偶联的方法。
上述单体混合物(a)中的芳香族乙烯基化合物的含量通常为90重量％以上，优选为95重量％以上，更优选为99重量％以上。此外，单体混合物(a)还可以含有除来自芳香族乙烯基化合物以外的成分。作为其它成分，可举出链状共轭二烯化合物、其它乙烯基化合物。其含量相对于单体混合物(a)通常为10重量％以下，优选为5重量％以下，更优选为1重量％以下。
上述单体混合物(b)中的链状共轭二烯化合物的含量通常为70重量％以上，优选为80重量％以上，更优选为90重量％以上。此外，单体混合物(b)还可以含有除来自链状共轭二烯化合物以外的成分。作为其它成分，可举出芳香族乙烯基化合物、其它乙烯基化合物。其含量相对于单体混合物(b)通常为30重量％以下，优选为20重量％以下，更优选为10重量％以下。
(嵌段共聚物氢化物[D])
嵌段共聚物氢化物[D]是将上述嵌段共聚物[C]的主链和侧链的碳-碳不饱和键以及芳香环的碳-碳不饱和键进行了氢化的嵌段共聚物氢化物。其氢化率通常为90％以上，优选为97％以上，更优选为99％以上。氢化率越高，成型体的耐候性、耐热性及低双折射性越良好。嵌段共聚物氢化物[D]的氢化率能够在1H-NMR的测定中求出。
不饱和键的氢化方法、反应方式等没有特别限定，只要按照公知的方法来进行即可，优选能够提高氢化率、聚合物链切断反应少的氢化方法。作为这样的氢化方法，能够举出例如WO2011/096389号小册子、WO2012/043708号小册子等中所记载的方法。
在氢化反应结束后，能够在从反应溶液中除去氢化催化剂和/或聚合催化剂后，从得到的溶液中回收嵌段共聚物氢化物[D]。回收的嵌段共聚物氢化物[D]的形态没有限定，但是通常为颗粒形状，能够供给到其后的膜的成型加工中。
嵌段共聚物氢化物[D]的分子量以通过将THF作为溶剂的GPC测定的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)计，通常为40000～200000，优选为50000～150000，更优选为60000～100000。此外，使嵌段共聚物氢化物[D]的分子量分布(Mw/Mn)优选为3以下，更优选为2以下，特别优选为1.5以下。当使Mw及Mw/Mn成为上述范围时，成型的光学用膜的耐热性、低双折射性良好。
在将本发明中所使用的嵌段共聚物氢化物[D]成型为膜时，可以含有其它配合剂。作为配合剂，没有特别限定，可举出：抗氧化剂、热稳定剂、光稳定剂、耐候稳定剂、紫外线吸收剂、近红外线吸收剂等稳定剂；滑剂、可塑剂等树脂改性剂；染料、颜料等着色剂；抗静电剂等。这些配合剂能够单独使用一种或者组合使用两种以上。对于配合剂的配合量，在不损害本发明的目的的范围中适当选择。
在将嵌段共聚物氢化物[D]熔融压出而成型膜时，为了抑制树脂氧化劣化物附着于模具的唇部，添加抗氧化剂是有效的。作为抗氧化剂，可举出酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、硫系抗氧化剂等。这些抗氧化剂可以分别单独使用或者组合使用两种以上。
在这些之中，优选酚系抗氧化剂，特别优选烷基取代酚系抗氧化剂。
作为烷基取代酚系抗氧化剂的具体例子，可举出：2,6-二叔丁基-对甲酚、2,6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2,6-二环己基-4-甲基苯酚、2,6-二异丙基-4-乙基苯酚、2,6-二叔戊基-4-甲基苯酚、2,6-二叔辛基-4-正丙基苯酚、2,6-二环己基-4-正辛基苯酚、2-异丙基-4-甲基-6-叔丁基苯酚、2-叔丁基-4-乙基-6-叔辛基苯酚、2-异丁基-4-乙基-6-叔己基苯酚、2-环己基-4-正丁基-6-异丙基苯酚、硬脂酰β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯等单环的酚系抗氧化剂；2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4’-亚丁基双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-硫代双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4’-亚甲基双(2,6-二叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双[6-(1-甲基环己基)-对甲酚]、2,2’-亚乙基双(4,6-二叔丁基苯酚)、2,2’-亚丁基双(2-叔丁基-4-甲基苯酚)、3,6-二氧杂八亚甲基双[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酸酯]、三乙二醇双[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]、1,6-己烷二醇双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、2,2’-硫代二乙烯双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]等2环的酚系抗氧化剂；1,1,3-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷、1,3,5-三(2,6-二甲基-3-羟基-4-叔丁基苄基)异氰尿酸酯、1,3,5-三[(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰氧基乙基]异氰尿酸酯、三(4-叔丁基-2,6-二甲基-3-羟基苄基)异氰尿酸酯、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯等3环的酚系抗氧化剂；四[亚甲基-3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等4环的酚系抗氧化剂等。
抗氧化剂的配合量可在不损害本发明的目的的范围中适当选择，相对于100重量份的嵌段共聚物氢化物[D]通常为0.01～1.0重量份，优选为0.02～0.5重量份，更优选为0.05～0.3重量份。
2.光学用膜的制造方法
本发明的一种光学用膜的制造方法的特征在于，使将上述嵌段共聚物氢化物[D]压出成型而得的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以上述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与上述光学用膜相向的方式重合而卷绕，上述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。
(光学用膜)
通过本发明的制造方法制造的光学用膜(以下,有时称为“本发明的光学用膜”)由嵌段共聚物氢化物[D]形成。
在此，“由嵌段共聚物氢化物[D]形成”意味着“得到的光学用膜是实质上由嵌段共聚物氢化物[D]形成的，只要不损害本发明的目的，可以含有其它配合剂”。本发明的光学用膜中的嵌段共聚物氢化物[D]的含量通常为95重量％以上，优选为97重量％以上，更优选为98重量％以上，进一步优选为99重量％以上。
本发明的光学用膜能够通过利用压出机使嵌段共聚物氢化物[D]的颗粒熔融并从安装于该压出机的模具压出成片状，使压出的片状的嵌段共聚物氢化物[D]密接于至少1个冷却滚筒进行成型并取出，由此制造。
在该情况下，通过使用例如模唇的表面粗糙度Ra的平均值为0.05μm以下、并且模唇整体的表面粗糙度Ra的分布的范围为上述平均值的±0.025μm以下的面粗糙度小的模具，从而可成型具有上述的平均粗糙度Ra的光学用膜。
此外，通常使用将嵌段共聚物氢化物[D]的颗粒在利用压出机进行熔融压出成型前在50～120℃的温度保持2小时以上的嵌段共聚物氢化物的颗粒，优选在60～115℃的温度保持3小时以上，更优选在70～110℃的温度保持4小时以上。通过在上述条件下对嵌段共聚物氢化物[D]的颗粒进行加热处理，从而减少颗粒中的溶存空气量，由此抑制模痕的产生，配合使用上述的表面粗糙度Ra小的模具，能够成型表面粗糙度Ra小的光学用膜。在加热处理的温度及时间低于上述范围的情况下，有溶存空气的除去量少、不能充分抑制模痕的产生、不易得到表面粗糙度Ra小的光学用膜的风险。
压出机的嵌段共聚物氢化物[D]的熔融温度为比嵌段共聚物氢化物[D]的玻璃化转变温度通常高70～160℃的温度，更优选使其为比玻璃化转变温度高90～140℃的温度。嵌段共聚物氢化物[D]的玻璃化转变温度能够作为粘弹性谱中的tanδ的峰顶值求出。当压出机中的熔融温度过低时，有树脂的流动性不足的风险，相反当熔融温度过高时，有树脂分解而分子量下降的风险。
使从模具的开口部压出的嵌段共聚物氢化物[D]密接于浇铸辊而冷却，制成膜。根据浇铸辊的温度，压出的膜状的嵌段共聚物氢化物[D]对浇铸辊的密接情况发生变化。当提高浇铸辊的温度时，密接变好，但是当过度提高温度时，有发生膜状的嵌段共聚物氢化物[D]未从浇铸辊剥离而卷绕于辊的不良情况的风险。因此，当将嵌段共聚物氢化物[D]的玻璃化转变温度设为Tg(℃)时，浇铸辊的温度通常为(Tg+10)℃以下，优选使其为(Tg-80)℃～(Tg-5)℃，更优选使其为(Tg-60)℃～(Tg-10)℃。通过这样做，从而能够防止滑动、受伤等不良情况。
本发明的光学用膜的制造方法的特征在于，使将上述嵌段共聚物氢化物[D]压出成型而得的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以上述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与上述光学用膜相向的方式重合而卷绕，上述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。
(由树脂[E]形成的保护膜)
本发明中使用的保护膜是至少一个表面部由在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下、相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下的树脂[E]形成的膜。
树脂[E]是在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下、相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下的高分子。
通过对由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜，使上述的具有特定的物性的保护膜[E]以上述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与上述光学用膜相向的方式重合而进行卷绕，从而能够有效地减少由于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜自身彼此互相摩擦导致的膜表面的伤痕的产生，此外，在剥离保护膜时，在由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的表面剥离痕迹不易残留。在树脂[E]的弯曲弹性模量超过1500MPa的情况下，在与其接触的由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的表面易受伤。此外，在树脂[E]的相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以剥离强度计超过0.1N/cm的情况下，在将表面由树脂[E]形成的保护膜从由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜剥离时，在由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的表面剥离痕迹容易残留。
树脂[E]的弯曲弹性模量为基于JIS K 7171测定的值，剥离强度为基于JIS Z0237测定的值。
作为树脂[E]的具体例子，可举出选自聚乙烯、聚丙烯、乙烯·α-烯烃共聚物、乙烯·醋酸乙烯酯共聚物、聚氨酯及聚酯弹性体中的至少一种。在这些之中，从对由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的适当的粘合性、脱模性、经济性的观点出发，优选低密度聚乙烯、线型低密度聚乙烯、乙烯·醋酸乙烯酯共聚物。
本发明中使用的保护膜只要是至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜即可，优选为由上述树脂[E]形成的单层膜、在最表面具有由上述树脂[E]形成的层的多层膜、或者在由弯曲弹性模量超过1500MPa的除树脂[E]以外的树脂形成的膜的两面形成由树脂[E]形成的层而成的多层膜中的任一种。
在保护膜为在最表面具有由树脂[E]形成的层的多层膜、或在由弯曲弹性模量超过1500MPa的除树脂[E]以外的树脂形成的膜的两面形成由树脂[E]形成的层而成的多层膜的情况下，由上述树脂[E]形成的层的厚度通常为0.01～100μm，优选为0.1～50μm。
保护膜的厚度通常为15～100μm，优选为20～80μm，更优选为30～60μm。在厚度低于15μm的情况下，操作性差，在厚度超过100μm的情况下，卷绕成辊状的光学用膜的重量变重，作业性差，此外，经济性也差，因此不优选。
本发明的光学用膜的制造方法更具体地具有使从压出成型机的浇铸辊剥离的由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以上述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与上述光学用膜相向的方式重合而卷绕的工序，上述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。
像以上那样得到的本发明的光学用膜是厚度通常为15～200μm、优选为20～150μm的膜。本发明的光学用膜的厚度变动优选为3％以内，更优选为2.5％以内。在此，膜的厚度变动为根据[[(膜的最大或最小厚度-膜的平均厚度)/膜的平均厚度]×100]算出的值。通过将光学用膜的厚度变动设为上述范围，从而能够减小在将通过本发明的制造方法得到的光学用膜组装于液晶显示装置的情况下的颜色不均匀。
此外，本发明的光学用膜的表面的平滑性优秀。关于该平滑性，两面的表面粗糙度以平均粗糙度Ra表示为0.2μm以下，优选为0.1μm以下，进而优选为0.05μm以下。在此，平均粗糙度Ra与通过JIS B 0601:2001定义的“算术平均高度Ra”相同，能够使用例如彩色3D激光显微镜(产品名“VK-9500”，KEYENCE公司制造)等进行测定。在平均粗糙度Ra在该范围的情况下，在成型物表面未观察到微观的凹凸，作为光学用膜优选，但是另一方面，在嵌段共聚物氢化物[D]的膜彼此接触的情况下，滑动性差，表面易受伤。
本发明的光学用膜能够用于在液晶显示装置等显示装置中使用的部件，例如偏光板保护膜、相位差膜、亮度提高膜、透明导电膜、触摸面板用基板、液晶基板、光扩散片、棱镜片等。在用作偏光板保护膜的情况下，膜面内的相位差Re优选为10nm以下，更优选为3nm以下。通过相位差为10nm以下，从而能够抑制组装于液晶显示单元的情况下的颜色不均匀。特别是，在大画面的液晶显示装置中有颜色不均匀显著突出的倾向，但是对于这样的大画面的显示装置也是适合的。
实施例
以下，通过实施例对本发明进一步详细说明，但是本发明并不仅限定于以下的实施例。另外，只要没有特别说明，“份”和“％”以重量为基准。
本实施例的评价通过以下方法来进行。
(1)重均分子量(Mw)和分子量分布(Mw/Mn)
嵌段共聚物[C]和嵌段共聚物氢化物[D]的分子量作为将THF作为洗脱液的凝胶渗透色谱法(GPC)的标准聚苯乙烯换算值在38℃进行测定。作为测定装置，使用TOSOH公司制造的HLC8020GPC。
(2)氢化率
测定1H-NMR波谱而算出嵌段共聚物氢化物[D]的主链、侧链及芳香环的氢化率。
(3)玻璃化转变温度
将嵌段共聚物氢化物[D]压制成型，制作长50mm、宽10mm、厚1mm的试验片。使用该试验片，基于JIS-K7244-4法，分别使用损耗弹性模量测定装置(产品名“DMS6100”，SeikoInstruments公司制造)、粘弹性测定装置(产品名“ARES”，TA Instruments.Japan公司制造)，在-100℃至+150℃的范围以5℃/分钟的升温速度对粘弹性谱进行测定。根据损耗系数tanδ的高温侧的峰顶温度，求出玻璃化转变温度。
(4)弯曲弹性模量
将保护膜中使用的树脂[E]注射成型，制作长100mm、宽10mm、厚4mm的试验片。使用该试验片，使用STROGRAPH(产品名“V10-B”，东洋精机制作所制造)，基于JIS K 7171进行弯曲试验，对23℃的弯曲弹性模量进行测定。
(5)粘合性
重叠由嵌段共聚物氢化物[D]形成的膜，使用真空层压机而制作厚度为1.1～1.2mm的板。从该板切出长125mm、宽50mm的剥离试验用的试验片。将长200mm、宽24mm、厚50μm的保护膜重叠于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的试验片，在50℃的温度使用重量为2kg的滚轴进行压接，制作剥离试验用的试验片。使用自动绘图仪(autograph)(产品名“AGS-10KNX”，岛津制作所公司制造)，从膜的非粘合部位以100mm/分钟的剥离速度，基于JIS Z0237进行180°剥离试验，对23℃的剥离强度进行测定。
(6)膜的表面粗糙度Ra
切出由嵌段共聚物氢化物[D]形成的膜，将其作为试验片，使用彩色3D激光显微镜(产品名“VK-9500”，KEYENCE公司制造)，基于JIS B 06 01:2001进行测定。
(7)光学用膜的外观
从卷绕了由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的辊将膜引出(另外，在具有保护膜的情况下，与保护膜一同)，切出长度为100cm的膜试验片。将由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的试验片(另外，在具有保护膜的情况下，将保护膜剥离而除去)用正交偏光镜(crossed nicol)夹于偏振度为99.5％的偏光板，通过光照度为10000勒克斯的背光源照射光，用目视观察漏光情况，将未发现漏光的情况作为“○”(良好)、将发现漏光处的情况作为“×”(不良)来评价。
[参考例1]嵌段共聚物氢化物[D1]
在具有搅拌装置、内部充分地进行了氮置换的反应器中，装入550份的脱水环己烷、50.0份的脱水苯乙烯及0.475份的二正丁基醚。一边在60℃对全部内容物进行搅拌一边加入0.62份的正丁基锂(15％环己烷溶液)，使其开始聚合，进一步在60℃对全部内容物进行搅拌60分钟。通过气相色谱分析法对反应液进行测定，结果在该时刻的聚合转化率为99.5％。
接着，在反应液中加入30.0份的脱水异戊二烯，就这样继续搅拌30分钟。在该时刻的聚合转化率为99.5％。其后，进一步加入20.0份的脱水苯乙烯，搅拌60分钟。在该时刻的聚合转化率为几乎100％。
在此，加入0.5份的异丙醇，使反应终止，得到聚合物溶液。聚合物溶液所包含的嵌段共聚物[C1]的重均分子量(Mw)为68800，分子量分布(Mw/Mn)为1.04，wA:wB＝70:30。
接着，将上述聚合物溶液转移到具有搅拌装置的耐压反应器中，添加7.0份的作为氢化催化剂的硅藻土载体型镍催化剂(产品名“E22U”，镍载体量60％，日挥触媒化成公司制造)及100份的脱水环己烷而进行混合。将反应器内部用氢气进行置换，进一步一边对溶液进行搅拌一边供给氢，以190℃的温度、4.5MPa的压力进行氢化反应6小时。氢化反应后的反应液所包含的嵌段共聚物氢化物[D1]的重均分子量(Mw)为72900，分子量分布(Mw/Mn)为1.05。
氢化反应结束后，对反应溶液进行过滤而除去氢化催化剂后，在滤液中添加1.0份的溶解了0.1份的作为酚系抗氧化剂的季戊四醇·四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯](产品名“Songnox1010”，KOYO Chemical Research Center公司制造)的二甲苯溶液而使其溶解。
接着，将上述溶液用金属纤维制过滤器(孔径为0.4μm，Nichidai公司制造)进行过滤而除去微小的固体成分后，使用圆筒型浓缩干燥器(产品名“KONTRO”，日立制作所公司制造)，在260℃的温度、0.001MPa以下的压力下从溶液中除去作为溶剂的环己烷、二甲苯及其它挥发成分。通过与浓缩干燥器连结的具有孔径为5μm的不锈钢制烧结过滤器的聚合物过滤器(Fuji Filter公司制造)，在260℃的温度连续地对熔融聚合物进行过滤后，将熔融聚合物从模具压出成股状，冷却后，通过造粒机得到95份的嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒。得到的颗粒状的嵌段共聚物氢化物[D1]的重均分子量(Mw)为72200，分子量分布(Mw/Mn)为1.10，氢化率为几乎100％。
嵌段共聚物氢化物[D1]的成型体为无色透明，高温侧的玻璃化转变温度为133℃，弯曲弹性模量为1400MPa，作为光学用膜用树脂是有用的。
[参考例2]嵌段共聚物氢化物[D2]
将苯乙烯和异戊二烯分成5次，依次加入40.0份的苯乙烯、10.0份的异戊二烯、25.0份的苯乙烯、10.0份的异戊二烯及15.0份的苯乙烯，除此之外，与参考例1同样地进行聚合反应，使反应终止，得到聚合物溶液。聚合物溶液所包含的嵌段共聚物[C2]的重均分子量(Mw)为70400，分子量分布(Mw/Mn)为1.05，wA:wB＝80:20。
接着，使用上述聚合物溶液，与参考例1同样地进行氢化反应。氢化反应后的反应液所包含的嵌段共聚物氢化物[D2]的重均分子量(Mw)为74700，分子量分布(Mw/Mn)为1.06。
氢化反应结束后，与参考例1同样地对反应溶液进行过滤而除去氢化催化剂后，在滤液中添加抗氧化剂后，进行浓缩干燥，得到96份的嵌段共聚物氢化物[D2]的颗粒。得到的颗粒状的嵌段共聚物氢化物[D2]的重均分子量(Mw)为73900，分子量分布(Mw/Mn)为1.11，氢化率为几乎100％。
嵌段共聚物氢化物[D2]的成型体为无色透明，玻璃化转变温度为121℃，弯曲弹性模量为1980MPa，作为光学用膜用树脂是有用的。
[参考例3]嵌段共聚物氢化物[D3]
将苯乙烯和异戊二烯分成3次，依次加入15.0份的苯乙烯、70.0份的异戊二烯及15.0份的苯乙烯，除此之外，与参考例1同样地进行聚合反应，使反应终止，得到聚合物溶液。聚合物溶液所包含的嵌段共聚物[C3]的重均分子量(Mw)为65100，分子量分布(Mw/Mn)为1.04，wA:wB＝30:70。
接着，将上述聚合物溶液与参考例1同样地进行氢化反应。氢化反应后的嵌段共聚物氢化物[D3]的重均分子量(Mw)为68900，分子量分布(Mw/Mn)为1.05。
氢化反应结束后，与参考例1同样地对反应溶液进行过滤而除去氢化催化剂后，在滤液中添加抗氧化剂后，进行浓缩干燥，得到96份的嵌段共聚物氢化物[D3]的颗粒。得到的颗粒状的嵌段共聚物氢化物[D3]的重均分子量(Mw)为68200，分子量分布(Mw/Mn)为1.10，氢化率为几乎100％。
嵌段共聚物氢化物[D3]的成型体为无色透明，高温侧的玻璃化转变温度为116℃，弯曲弹性模量为110MPa，是软质的树脂。
[参考例4]保护膜[F1]的制作
用使空气流通的热风干燥机，在50℃对低密度聚乙烯(产品名“NOVA TEC(注册商标)LF443”、Japan polyethylene公司制造；注射成型品的弯曲弹性模量170MPa；树脂[E1])的颗粒进行加热处理4小时。使用具备具有具备的螺杆的压出机的T型模具式膜熔融压出成型机(T型模具宽600mm)、浇铸辊及两种的贴合用膜供给装置的压出层压成型机，不供给贴合用膜，将该颗粒在浇铸辊面压出，压出成型低密度聚乙烯的单层膜[F1](厚40μm)。对于得到的保护膜[F1]，用切割机切除耳部，使宽度成为450mm，卷绕为辊状而回收。
保护膜[F1]相对于在参考例1和参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D1]和嵌段共聚物氢化物[D2]的试验片的粘合性以剥离强度计分别为0.02N/cm和0.01N/cm。将保护膜[F1]的构成、相对于嵌段共聚物氢化物[D1]和[D2]的粘合性示于表1中。
[参考例5]保护膜[F2]的制作
代替低密度聚乙烯，使用高密度聚乙烯(产品名“NOVATEC(注册商标)HY430”、Japan polyethylene公司制造；注射成型品的弯曲弹性模量1100MPa；树脂[E2])的颗粒，除此之外，与参考例4同样地进行，成型高密度聚乙烯的单层膜(厚30μm、宽450mm)，卷绕为辊状而回收。
接着，使用相同的压出层压成型机，将在40℃进行了热风加热处理4小时的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物(产品名“NOVATEC(注册商标)LV430”，醋酸乙烯酯含有率15重量％，Japan polyethylene公司制造；注射成型品的弯曲弹性模量45MPa；树脂[E3])的颗粒以厚度成为10μm的方式从T型模具压出到浇铸辊面上。在不与乙烯·醋酸乙烯酯聚合物膜的浇铸辊相接的侧的面，从膜供给装置供给预先成型的高密度聚乙烯(树脂[E2])的膜并进行贴合，制作两种2层的保护膜[F2](高密度聚乙烯[E2](厚30μm)/乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3](厚10μm)；宽450mm)。
保护膜[F2]相对于在参考例1和参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D1]和嵌段共聚物氢化物[D2]的试验片的粘合性，在高密度聚乙烯[E2]侧以剥离强度计分别为0.02N/cm和0.01N/cm，在乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3]侧以剥离强度计分别为0.05N/cm和0.04N/cm。将保护膜[F2]的构成、相对于嵌段共聚物氢化物[D1]和[D2]的粘合性示于表1中。
[参考例6]保护膜[F3]的制作
使用在70℃进行了热风加热处理4小时的聚丙烯(产品名“NOVATEC(注册商标)FB3HAT”、Japan polyethylene公司制造；注射成型品的弯曲弹性模量1750MPa)的颗粒，除此之外，与参考例5同样地进行，预先成型聚丙烯的单层膜(厚30μm、宽450mm)，卷绕为辊状而回收。
接着，使用与在参考例5中使用的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物相同的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物(树脂[E3])的颗粒，与参考例5同样地进行，从T型模具压出乙烯·醋酸乙烯酯共聚物，从膜供给装置供给预先成型的聚丙烯的膜并进行贴合，制作两种2层的保护膜[F3](聚丙烯(厚30μm)/乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3](厚10μm)；宽450mm)。
保护膜[F3]相对于在参考例1和参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D1]和嵌段共聚物氢化物[D2]的试验片的粘合性，在聚丙烯侧以剥离强度计分别为0.01N/cm以下和0.01N/cm以下，在乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3]侧以剥离强度计分别为0.05N/cm和0.04N/cm。将保护膜[F3]的构成、相对于嵌段共聚物氢化物[D1]和[D2]的粘合性示于表1中。
[参考例7]保护膜[F4]的制作
使用在50℃进行了热风加热处理4小时的聚乙烯对苯二酸酯(产品名“TRN-8550FF”、帝人公司制造；注射成型品的弯曲弹性模量3200MPa)的颗粒，除此之外，与参考例5同样地进行，预先成型聚乙烯对苯二酸酯的单层膜(厚30μm、宽450mm)，卷绕为辊状而回收。
接着，使用与在参考例5中使用的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物相同的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物(树脂[E3])的颗粒，与参考例5同样地进行，从T型模具压出乙烯·醋酸乙烯酯共聚物，从膜供给装置供给预先成型的聚乙烯对苯二酸酯的膜并进行贴合，制作两种2层的保护膜[F4](聚乙烯对苯二酸酯(厚30μm)/乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3](厚10μm)；宽450mm)。
保护膜[F4]相对于在参考例1和参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D1]和嵌段共聚物氢化物[D2]的试验片的粘合性，在聚乙烯对苯二酸酯侧以剥离强度计分别为0.01N/cm以下和0.01N/cm以下，在乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3]侧以剥离强度计分别为0.05N/cm和0.04N/cm。将保护膜[F4]的构成、相对于嵌段共聚物氢化物[D1]和[D2]的粘合性示于表1中。
[参考例8]保护膜[F5]的制作
使用与在参考例5中使用的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物相同的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物(树脂[E3])的颗粒，与参考例5同样地进行，从T型模具压出乙烯·醋酸乙烯酯共聚物，从膜供给装置供给在参考例7中成型的聚乙烯对苯二酸酯/乙烯·醋酸乙烯酯共聚物的两种2层的膜并进行贴合，制作两种3层的保护膜[F5](乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3](厚10μm)/聚乙烯对苯二酸酯(厚30μm)/乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3](厚10μm)；宽450mm)。
保护膜[F5]相对于在参考例1和参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D1]和嵌段共聚物氢化物[D2]的试验片的粘合性，在两面的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物[E3]侧均以剥离强度计分别为0.05N/cm和0.04N/cm。将保护膜[F5]的构成、相对于嵌段共聚物氢化物[D1]和[D2]的粘合性示于表1中。
[参考例9]保护膜[F6]的制作
使用与在参考例4中使用的低密度聚乙烯相同的低密度聚乙烯(树脂[E1])的颗粒，与参考例5同样地进行，预先成型低密度聚乙烯的单层膜(厚30μm、宽450mm)，卷绕为辊状而回收。
接着，代替在参考例5中使用的乙烯·醋酸乙烯酯共聚物，使用在参考例3中制成的嵌段共聚物氢化物[D3](注射成型品的弯曲弹性模量110MPa)的颗粒，与参考例5同样地进行，从T型模具压出嵌段共聚物氢化物[D3]，从膜供给装置供给预先成型的低密度聚乙烯的膜并进行贴合，制作两种2层的保护膜[F6](低密度聚乙烯(厚30μm)/嵌段共聚物氢化物[D3](厚10μm)；宽450mm)。
保护膜[F6]相对于在参考例1和参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D1]和嵌段共聚物氢化物[D2]的试验片的粘合性，在低密度聚乙烯[E1]侧以剥离强度计分别为0.02N/cm和0.01N/cm，在嵌段共聚物氢化物[D3]侧以剥离强度计分别为0.23N/cm和0.20N/cm。将保护膜[F6]的构成、相对于嵌段共聚物氢化物[D1]和[D2]的粘合性示于表1中。
在表1中，“层构成树脂”为如下树脂。
(1)低密度聚乙烯
产品名“NOVATEC(注册商标)LF443”、Japan polyethylene公司制造
(2)高密度聚乙烯
产品名“NOVATEC(注册商标)HY430”、Japan polyethylene公司制造
(3)乙烯·醋酸乙烯酯共聚物
产品名“NOVATEC(注册商标)LV430”、醋酸乙烯酯含有率15重量％、Japanpolyethylene公司制造
(4)聚丙烯
产品名“NOVATEC(注册商标)FB3HAT”、Japan polyethylene公司制造
(5)聚乙烯对苯二酸酯
产品名“TRN-8550FF”、帝人公司制造
[表1]
表1
[比较例1]
用使空气流通的热风干燥机，在70℃对在参考例1中得到的嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒进行加热处理4小时。使用该加热处理后的颗粒，使用具备具有设有叶盘形状的聚合物过滤器(过滤精度10μm)并具备的螺杆的单轴压出机的T型模具式膜熔融压出成型机(T型模具宽600mm)、浇铸辊(直径250mm)及保护膜供给装置的膜成型机，在树脂温度250℃、浇铸辊温度105℃、取出速度0.35m/s的条件下进行熔融压出成型，成型光学用膜[G1]。
对于得到的光学用膜[G1]，用切割机切除耳部，使宽度成为450mm，不使用保护膜，卷绕为辊状而回收。
将卷绕为辊状的膜从膜端部引出5层部分而将其废弃后，将长度为100cm的膜作为试验片获取。进行光学用膜[G1]的表面粗糙度Ra和外观的评价。Ra为0.07μm，在外观评价中，未发现漏光处，评价为×。用显微镜观察漏光处，结果观察到擦伤状和卷绕为辊状的膜的剥离痕迹状的表面缺陷。将结果示于表2中。
[实施例1]
使用嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，与比较例1同样地进行熔融压出成型，成型光学用膜[G2]。对于得到的光学用膜[G2]，用切割机切除耳部，使宽度成为450mm，重叠在参考例4中制成的保护膜[F1]，卷绕为辊状而回收。
将卷绕为辊状的膜从膜端部引出5层部分而将其废弃后，将长度为100cm的膜作为试验片获取。从试验片剥离保护膜[F1]，进行光学用膜[G2]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。Ra为0.04μm，在外观评价中，未发现漏光处，未观察到成导致光学不良的伤痕等，评价为“○”。将结果示于表2中。
[实施例2]
使用嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G3]，重叠在参考例5中制成的保护膜[F2]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G3]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[比较例2]
使用嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G4]，重叠在参考例6中制成的保护膜[F3]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G4]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[比较例3]
使用嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G5]，重叠在参考例7中制成的保护膜[F4]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G5]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[实施例3]
使用嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G6]，重叠在参考例8中制成的保护膜[F5]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G6]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[比较例4]
使用嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G7]，重叠在参考例9中制成的保护膜[F6]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G7]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[比较例5]
代替嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，使用在参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D2]，除此之外，与比较例1同样地进行，成型光学用膜[G8]，不使用保护膜，卷绕为辊状。与比较例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G8]的表面粗糙度Ra和外观的评价。将评价结果示于表2中。
[实施例4]
代替嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，使用在参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D2]，除此之外，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G9]，重叠在参考例4中制成的保护膜[F1]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G9]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[实施例5]
代替嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，使用在参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D2]，除此之外，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G10]，重叠在参考例5中制成的保护膜[F2]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G10]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[比较例6]
代替嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，使用在参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D2]，除此之外，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G11]，重叠在参考例6中制成的保护膜[F3]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G11]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[比较例7]
代替嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，使用在参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D2]，除此之外，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G12]，重叠在参考例7中制成的保护膜[F4]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G12]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[实施例6]
代替嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，使用在参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D2]，除此之外，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G13]，重叠在参考例8中制成的保护膜[F5]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G13]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[比较例8]
代替嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒，使用在参考例2中制成的嵌段共聚物氢化物[D2]，除此之外，与实施例1同样地进行，成型光学用膜[G14]，重叠在参考例9中制成的保护膜[F6]，卷绕为辊状。与实施例1同样地进行而从卷绕为辊状的膜获取试验片，进行光学用膜[G14]的表面粗糙度Ra的测定及外观的评价。将评价结果示于表2中。
[表2]
表2
根据本实施例和比较例的结果，可知如下。
由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜，在使其与表面由具有特定的值以下的弯曲弹性模量且粘合性低的树脂构成的保护膜接触而卷绕为辊状的情况下，能够抑制擦伤的产生(实施例1～6)。
另一方面，由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜，当单独卷绕为辊状时产生擦伤(比较例1、比较例5)。
在使用一面由弯曲弹性模量充分低的树脂形成但具有特定值以上的粘合性、另一面具有特定值以下的粘合性但由弯曲弹性模量大的树脂形成的保护膜的情况下，不能抑制擦伤，并且产生剥离保护膜时的剥离痕迹，在用正交偏光镜夹于偏光板时产生漏光(比较例2、3、7)。
即使使用由弯曲弹性模量充分低的树脂形成的保护膜，但在使用相对于嵌段共聚物氢化物[D]的光学用膜具有特定值以上的粘合性的保护膜的情况下，虽然能够抑制擦伤，但是产生剥离保护膜时的剥离痕迹，在用正交偏光镜夹于偏光板时产生漏光(比较例4、比较例8)。
此外，嵌段共聚物氢化物[D]的光学用膜，在与由具有比其低的弯曲弹性模量的树脂形成的保护膜接触而卷绕为辊状的情况下，也有产生擦伤的情况(比较例6；弯曲弹性模量：“D2”>聚丙烯)。
产业上的可利用性
本发明的光学用膜的制造方法，可制造在表面中擦伤、剥离痕迹等缺陷少、表面状态优秀的由嵌段共聚物氢化物形成的光学用膜，在工业上是有用的。
通过本发明的制造方法得到的光学用膜适合作为偏光板保护膜、相位差膜、透明粘合膜用的基材膜、亮度提高膜、透明导电膜、触摸面板用基板、液晶基板、光扩散片、棱镜片等。

Claims (3)

1.一种光学用膜的制造方法，其特征在于，
是由将嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的制造方法，所述嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比(wA:wB)为60:40～90:10，
使对所述嵌段共聚物氢化物[D]进行压出成型而得的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以所述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与所述光学用膜相向的方式重合而卷绕，所述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。
2.根据权利要求1所述的光学用膜的制造方法，其中，
所述保护膜是由所述树脂[E]形成的单层膜、在最表面具有由所述树脂[E]形成的层的多层膜、或者在由弯曲弹性模量超过1500MPa的除树脂[E]以外的树脂形成的膜的两面形成由树脂[E]形成的层而成的多层膜。
3.根据权利要求1或2所述的光学用膜的制造方法，其中，
所述树脂[E]为选自聚乙烯、聚丙烯、乙烯·α-烯烃共聚物、乙烯·醋酸乙烯酯共聚物、聚氨酯及聚酯弹性体中的至少一种。
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