CN105813843B - 多层膜及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明为一种多层膜及其制造方法，所述多层膜在由树脂组合物[E]形成的膜[F]的1面或两面层叠有由树脂组合物[E’]形成的层[F’]而成，所述树脂组合物[E]对将特定的嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]配合紫外线吸收剂而成，所述特定的嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，所述树脂组合物[E’]相对于100重量份的特定嵌段共聚物氢化物[D’]和/或在嵌段共聚物氢化物[D’]中导入烷氧基甲硅烷基而成的改性嵌段共聚物氢化物[D”]配合0重量份以上且小于1.0重量份的紫外线吸收剂，所述特定的嵌段共聚物氢化物[D’]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A’]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B’]。

Description

多层膜及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种包含由在特定的嵌段共聚物氢化物中配合了紫外线吸收剂的树脂组合物形成的膜层的多层膜及其制造方法。
背景技术
已经公开有将由以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的聚合物嵌段和包含来自链状共轭二烯化合物的重复单元的聚合物嵌段形成的嵌段共聚物的来自芳香环和二烯的双键进行氢化的嵌段共聚物氢化物，其透明性、低双折射性、耐热性、低吸湿性等优秀，及通过将其进行压出成型而得到的膜作为液晶显示装置的偏振膜、相位差膜等光学膜是有用的(专利文献1～5)。
在液晶显示装置中，在形成液晶板表面的玻璃基板的两侧配置有偏振膜。通常的偏振膜构成为在由聚乙烯醇系膜和碘等双色性材料形成的偏光面的两面贴合使用了三乙酰纤维素等的偏光面保护膜。
偏光面保护膜当暴露于紫外线时分解被促进，具有在引起强度下降的同时由于变色而透明度下降的问题。因此，对于偏光面保护膜，为了对偏光面防止紫外线导致的劣化的目的，要求紫外线吸收性能。作为对偏光面保护膜赋予紫外线吸收能力的方法，通常为在作为偏光面保护膜的三乙酰纤维素中添加紫外线吸收剂的方法。
然而，三乙酰纤维素的耐湿热性不充分，当在高温或高湿下使用将三乙酰纤维素作为偏光面保护膜而使用的偏光板时，有偏光度、色调等的作为偏光板的性能下降的问题。
另一方面，专利文献6公开了由紫外线吸收剂与特定的嵌段共聚物氢化物配合的中间层和不包含紫外线吸收剂的外层构成的多层膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002-53631号公报(US2003/207983A1)；
专利文献2：日本特开2002-105151号公报(US2003/207983A1)；
专利文献3：日本特开2003-114329号公报；
专利文献4：WO2009/067290号(US2010/290117A1)；
专利文献5：WO2009/137278号(US2011/038045A1)；
专利文献6：日本特开2011-13378号公报。
发明内容
发明要解决的问题
在这样的现有技术的情况下，本发明人在使用专利文献6所公开的膜而尝试制造光学膜时，结果确认到具有以下的问题：可得到面内的相位差小的膜的一面具有硬脆的物性因而拉伸伸长率小；在对通过熔融压出成型法而得到的膜进行卷绕时膜易断裂；此外，当卷成辊状而保管时，有产生裂缝的情况。
本发明是鉴于这样的实际情况而完成的，其目的在于提供具有优秀的紫外线遮蔽性能和机械强度、适合于表面粗糙少表面形态优秀的光学用膜的、由特定的嵌段共聚物氢化物形成的多层膜及其制造方法。
用于解决问题的方案
本发明人为了解决上述问题而进行了深入研究，结果发现，对于成型在难以体现相位差的特定嵌段共聚物氢化物中配合了一定量以上的紫外线吸收剂的树脂组合物而得到的膜，层叠由机械强度良好的特定嵌段共聚物氢化物和/或导入烷氧基甲硅烷基而成的改性嵌段共聚物氢化物形成的层，从而可得到具有优秀的紫外线遮蔽性能和容易处理的机械强度的多层膜。此外，发现在通过熔融压出成型法而得到膜成型物时，通过经由未配合紫外线吸收剂或配合有一定量以下的紫外线吸收剂的特定嵌段共聚物氢化物和/或改性嵌段共聚物氢化物的层从浇铸辊压出膜而进行成型，从而能够在浇铸辊表面不附着污垢的情况下长时间连续成型表面状态良好的、表面形态优秀的光学用膜，进而完成了本发明。
像这样，根据本发明，可提供下述(1)的多层膜及(2)的多层膜的制造方法。
(1)一种多层膜，在由树脂组合物[E]形成的膜[F]的1面或两面层叠有由树脂组合物[E’]形成的层[F’]而成，所述树脂组合物[E]是相对于100重量份的将嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]配合1.0～10.0重量份的紫外线吸收剂而成的，
所述嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比(wA∶wB)为40∶60～90∶10，
所述树脂组合物[E’]中，相对于100重量份的将嵌段共聚物[C’]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D’]和/或在嵌段共聚物氢化物[D’]中导入烷氧基甲硅烷基而成的改性嵌段共聚物氢化物[D”]，配合有0重量份以上且小于1.0重量份的紫外线吸收剂，
所述嵌段共聚物[C’]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A’]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B’]，在将全部聚合物嵌段[A’]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA’、将全部聚合物嵌段[B’]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB’时，wA’与wB’的比(wA’∶wB’)为40∶60～80∶20。
(2)一种(1)所述的多层膜的制造方法，所述层[F’]以与浇铸面接触的方式进行熔融压出而进行成型。
发明效果
根据本发明，可提供具有优秀的紫外线遮蔽性能和机械强度、适合于表面粗糙少表面形态优秀的光学用膜的、由特定的嵌段共聚物氢化物形成的多层膜及其制造方法。
具体实施方式
以下，将本发明划分成1)多层膜及2)多层膜的制造方法来进行详细说明。
1)多层膜
本发明的多层膜在由树脂组合物[E]形成的膜[F]的1面或两面层叠有由树脂组合物[E’]形成的层[F’]而成，所述树脂组合物[E]是相对于100重量份的后述的嵌段共聚物氢化物[D]配合1.0～10.0重量份的紫外线吸收剂而成的，所述树脂组合物[E’]相对于100重量份的嵌段共聚物氢化物[D’]和/或在嵌段共聚物氢化物[D’]中导入烷氧基甲硅烷基而成的改性嵌段共聚物氢化物[D”]配合0重量份以上且小于1.0重量份的紫外线吸收剂。
1.嵌段共聚物氢化物[D]
嵌段共聚物氢化物[D]是将嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行氢化而得到的，所述嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比(wA∶wB)为40∶60～90∶10。
(1)嵌段共聚物[C]
嵌段共聚物[C]是本发明的嵌段共聚物氢化物[D]的前体，含有至少2个聚合物嵌段[A]和至少1个聚合物嵌段[B]。
聚合物嵌段[A]以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元(也称为“结构单元”。以下相同。)为主成分。聚合物嵌段[A]中的来自芳香族乙烯基化合物的重复单元的含量通常为90重量％以上，优选为95重量％以上，更优选为99重量％以上。
此外，聚合物嵌段[A]还可以包含来自芳香族乙烯基化合物的重复单元以外的重复单元。作为聚合物嵌段[A]中的来自芳香族乙烯基化合物的重复单元以外的成分，可举出来自链状共轭二烯的重复单元和/或来自其它的乙烯基化合物的重复单元。其含量通常为10重量％以下，优选为5重量％以下，更优选为1重量％以下。当聚合物嵌段[A]中的来自芳香族乙烯基化合物的重复单元处于上述范围时，本发明的多层膜的耐热性变高，因此优选。
多个聚合物嵌段[A]彼此只要满足上述的范围，彼此可以相同也可以不同。
聚合物嵌段[B]以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分。聚合物嵌段[B]中的来自链状共轭二烯化合物的重复单元的含量通常为90重量％以上，优选为95重量％以上，更优选为99重量％以上。
此外，聚合物嵌段[B]还可以包含来自链状共轭二烯化合物的重复单元以外的重复单元。作为聚合物嵌段[B]中的来自链状共轭二烯化合物的重复单元以外的成分，可举出来自芳香族乙烯基化合物的重复单元和/或来自其它的乙烯基化合物的重复单元。其含量通常为10重量％以下，优选为5重量％以下，更优选为1重量％以下。当来自链状共轭二烯化合物的重复单元处于上述范围时，本发明的多层膜的柔软性变得良好，因此优选。当聚合物嵌段[B]中的来自芳香族乙烯基化合物的重复单元的含量增加时，虽然膜的双折射体现性下降，但是低温下的柔软性变得易下降。
在有多个聚合物嵌段[B]的情况下，聚合物嵌段[B]彼此只要满足上述的范围，彼此可以相同也可以不同。
作为芳香族乙烯基化合物，可举出：苯乙烯；α-甲基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2,4-二异丙基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、4-叔丁基苯乙烯、5-叔丁基-2-甲基苯乙烯等作为取代基具有烷基的苯乙烯类；4-单氯苯乙烯、二氯苯乙烯、4-单氟苯乙烯等作为取代基具有卤素原子的苯乙烯类；4-甲氧基苯乙烯、3,5-二甲氧基苯乙烯等作为取代基具有烷氧基的苯乙烯类；4-苯基苯乙烯等作为取代基具有芳基的苯乙烯类等。在这些之中，从吸湿性的观点出发，优选不具有极性基团的芳香族乙烯基化合物，从工业上的易取得性出发，特别优选苯乙烯。
作为链状共轭二烯系化合物，从吸湿性的观点出发，优选不具有极性基团的链状共轭二烯系化合物。可举出例如，1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯等。在这些之中，从工业上的易取得性出发，特别优选1,3-丁二烯、异戊二烯。
作为其它的乙烯基化合物，可举出链状烯烃、环状烯烃、链状乙烯基化合物、环状乙烯基化合物、不饱和的环状酸酐及不饱和酰亚胺化合物等。这些乙烯基化合物还可以作为取代基具有腈基、烷氧基羰基、羧基或卤素原子。在这些之中，从吸湿性的观点出发，优选不具有极性基团的乙烯基化合物，更优选链状烯烃及环状烯烃。作为这些的具体例子，可举出乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-壬烯、1-癸烯、1-十二碳烯、1-二十碳烯、4-甲基-1-戊烯、4,6-二甲基-1-庚烯等链状烯烃，乙烯基环己烷等环状烯烃等；进一步优选链状烯烃，特别优选乙烯、丙烯。
嵌段共聚物[C]中的聚合物中的嵌段[A]的数量通常为5个以下，优选为4个以下，更优选为3个以下，嵌段[B]的数量通常为4个以下，优选为3个以下，更优选为2个以下。
存在多个聚合物嵌段[A]和/或聚合物嵌段[B]的情况下，在聚合物嵌段[A]中将重均分子量最大和最小的聚合物嵌段的重均分子量分别设为Mw(A1)和Mw(A2)，在聚合物嵌段[B]中将重均分子量最大和最小的聚合物嵌段的重均分子量分别设为Mw(B1)和Mw(B2)时，Mw(A1)与Mw(A2)的比[M w(A1)/Mw(A2)]、及Mw(B1)与Mw(B2)的比[Mw(B1)/Mw(B2)]分别为2.0以下，优选为1.5以下，更优选为1.2以下。
当Mw(A1)与Mw(A2)的比超过2而非对称度变大时，虽然嵌段共聚物氢化物[D]的弹性率变高，高温侧的玻璃化转变温度也变高(上限为140℃)，但是机械强度变弱，在膜成型时有中间层变得易断裂的担忧。
此外，当聚合物嵌段[B]与聚合物嵌段[A]相比含有率小、Mw(B1)与M w(B2)的比变大时，聚合物嵌段[B2]的分子量变得过小而难以与聚合物嵌段[A]进行相分离，例如即使是五嵌段聚合物也与三嵌段聚合物为同样的粘弹性能，而且有高温侧的玻璃化转变温度下降、耐热性下降的担忧。
嵌段共聚物[C]的嵌段的形态可以是链状型嵌段也可以是径向型嵌段，链状型嵌段机械强度优秀，因此优选。嵌段共聚物[C]的最优选的形态为在聚合物嵌段[B]的两端键合了聚合物嵌段[A]的三嵌段共聚物{[A]-[B]-[A]}及在聚合物嵌段[A]的两端键合了聚合物嵌段[B]，进而在这两个聚合物嵌段[B]的其它端分别键合了聚合物嵌段[A]的五嵌段共聚物{[A]-[B]-[A]-[B]-[A]}。
在将嵌段共聚物[C]的全部聚合物嵌段[A]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将嵌段共聚物[C]的全部聚合物嵌段[B]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比(wA∶wB)为40∶60～90∶10，优选为50∶50～85∶15，更优选为60∶40～80∶20。在wA过高的情况下，本发明中所使用的嵌段共聚物氢化物[D]的耐热性高，压出膜的相位差变小，但是柔软性低，在切断面膜变得易破裂。此外，在wA过低的情况下，有作为光学用膜耐热性不充分的风险。
嵌段共聚物[C]的分子量以利用将四氢呋喃(THF)作为溶剂的凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)计，通常为30000～200000，优选为40000～150000，更优选为50000～100000。此外，嵌段共聚物[C]的分子量分布(Mw/Mn)优选为3以下，更优选为2以下，特别优选为1.5以下。
在Mw低于30000的情况下，得到的嵌段共聚物氢化物[D]的机械强度变弱，成型的膜变得易断裂。另一方面，在Mw超过200000的情况下，有得到的嵌段共聚物氢化物[D]的熔融粘度变高、嵌段共聚物氢化物[D]的热解少、以250℃以下的成型温度进行的熔融成型变得困难的风险。此外，当Mw变大时，氢化反应的时间也变长，因此工业上变得不利。
作为嵌段共聚物[C]的制造方法，可举出例如：通过活性阴离子聚合等方法来使作为主成分含有芳香族乙烯基化合物的单体混合物(a)和作为主成分含有链状共轭二烯系化合物的单体混合物(b)相互聚合的方法；使作为主成分含有芳香族乙烯基化合物的单体混合物(a)和作为主成分含有链状共轭二烯系化合物的单体混合物(b)依次聚合后，通过偶联剂使聚合物嵌段[B]的末端彼此进行偶联的方法等。
所述单体混合物(a)通常包含芳香族乙烯基化合物90重量％以上，优选包含95重量％以上，更优选包含99重量％以上，通常包含芳香族乙烯基化合物以外的单体成分10重量％以下，优选包含5重量％以下，更优选包含1重量％以下。
此外，所述单体混合物(b)通常包含链状共轭二烯化合物90重量％以上，优选包含95重量％以上，更优选包含99重量％以上，通常包含链状共轭二烯化合物以外的单体成分10重量％以下，优选包含5重量％以下，更优选包含1重量％以下。
(2)嵌段共聚物氢化物[D]
本发明的嵌段共聚物氢化物[D]是将上述的嵌段共聚物[C]的主链和侧链的碳-碳不饱和键以及芳香环的碳-碳不饱和键进行氢化而得到的。其氢化率通常为90％以上，优选为97％以上，更优选为99％以上。氢化率越高，成型的膜的耐光性、耐热性越好。嵌段共聚物氢化物[D]的氢化率能够在1H-NMR的测定中求出。
不饱和键的氢化方法、反应形态等没有特别限定，只要按照公知的方法来进行即可，优选能够使氢化率提高、聚合物断链反应少的氢化方法。作为这样的氢化方法，能够举出例如：WO2011/096389号小册子、WO2012/043708号小册子等所记载的方法。
由上述的方法得到的嵌段共聚物氢化物[D]，在从包含嵌段共聚物氢化物[D]的反应溶液除去氢化催化剂和/或聚合催化剂后，能够从反应溶液回收。回收的嵌段共聚物氢化物[D]的形态并不限定，但是通常为颗粒形状，能够供给到其后的膜的成型加工。
嵌段共聚物氢化物[D]的分子量以利用将THF作为溶剂的GPC测定的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)计，通常为35000～200000，优选为40000～150000，更优选为45000～100000。
此外，嵌段共聚物氢化物[D]的分子量分布(Mw/Mn)优选为3以下，更优选为2以下，特别优选为1.5以下。当Mw和Mw/Mn为上述范围时，可维持成型的膜的耐热性、机械强度。
2.树脂组合物[E]
本发明所使用的树脂组合物[E]是相对于100重量份的嵌段共聚物氢化物[D]通常配合紫外线吸收剂1.0～10.0重量份、优选2.0～9.0重量份、更优选3.0～8.0重量份而得到的。
只要紫外线吸收剂的配合量为该范围内，则在作为光学用膜的情况下能够有效地遮断紫外线，可维持可见光区域的透明性，不使色调变差，因此优选。当紫外线吸收剂的浓度小于前述范围的下限时，波长380nm附近的光线透射率变大，在将本发明的膜作为偏光板保护膜而使用的情况下有偏光板的偏光度下降的风险。此外，当紫外线吸收剂的含量超过前述范围的上限时，有短波长侧的光线透射率变小、膜的黄色感变得过强的风险。
从紫外线遮蔽的观点出发，所述树脂组合物[E]优选在波长380nm的透射率为8％以下，更优选为4％以下，特别优选为1％以下。
作为本发明所使用的紫外线吸收剂，可举出：2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸3水合物、2-羟基-4-辛氧基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2-羟基二苯甲酮、4-苄氧基-2-羟基二苯甲酮、2,2',4,4'-四羟基二苯甲酮、2,2'-二羟基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮等二苯甲酮系紫外线吸收剂；
水杨酸苯酯、4-叔丁基苯基-2-羟基苯甲酸酯、苯基-2-羟基苯甲酸酯、2,4-二叔丁基苯基-3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸酯、十六烷基-3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸酯等水杨酸系紫外线吸收剂；
2-(2-羟基-5-甲基苯基)2H-苯并三唑、2-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2-(3,5-二叔丁基-2-羟基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2-(3,5-二叔丁基-2-羟基苯基)-2H-苯并三唑、2-(3,5-二枯基-2-羟基苯基)-2H-苯并三唑、5-氯-2-(3,5-二叔丁基-2-羟基苯基)-2H-苯并三唑、2-(3,5-二叔戊基-2-羟基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羟基-5-叔辛基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羟基-4-辛基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-甲基-6-(3,4,5,6-四氢钛酮基甲基)苯酚、2,2'-亚甲基双[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-[(2H-苯并三唑-2-基)苯酚]]等苯并三唑系紫外线吸收剂；
2-[4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基]-5-(辛氧基)苯酚、2,4-双[2-羟基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪等三嗪系紫外线吸收剂等。
在这些之中，从波长380nm附近的紫外线吸收线优秀的方面考虑，优选2-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2,2'-亚甲基双[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-[(2H-苯并三唑-2-基)苯酚]]等。
在所述树脂组合物[E]中，能够配合紫外线吸收剂以外的其它的配合剂。作为其它的配合剂，可举出光稳定剂、抗氧化剂、防粘连剂等。这些可以单独配合1种或者并用配合2种以上。
作为光稳定剂，优选受阻胺系光稳定剂。可举出例如在分子结构中具有3,5-二叔丁基-4-羟基苯基、2,2,6,6-四甲基哌啶基、或1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基的化合物。
作为抗氧化剂，可举出磷系抗氧化剂、酚系抗氧化剂、硫系抗氧化剂等。在使用抗氧化剂的情况下，其配合量相对于100重量份的嵌段共聚物氢化物[D]通常为0.01～1重量份，优选为0.05～0.9重量份，更优选为0.1～0.8重量份。只要抗氧化剂的量为该范围，则树脂组合物[E]的耐热稳定性优秀，因此优选。
作为抗氧化剂的具体例子，可举出季戊四醇·四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、2,2-硫代-二亚乙基双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、十八烷基-3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、3,9-双{2-[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酰氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四氧杂螺[5,5]十一烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯等化合物。
作为在嵌段共聚物氢化物[D]中配合紫外线吸收剂和其它的配合剂的方法，可举出例如：将紫外线吸收剂和其它的配合剂与嵌段共聚物氢化物[D]进行混合后，用双轴混炼机、辊式混炼机、布拉本德混炼机、压出机等使嵌段共聚物氢化物[D]成为熔融状态而进行均匀地混炼的方法。
3.嵌段共聚物氢化物[D’]
嵌段共聚物氢化物[D’]是将嵌段共聚物[C’]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化而得到的，所述嵌段共聚物[C’]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A’]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B’]，在将全部聚合物嵌段[A’]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA’、将全部聚合物嵌段[B’]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB’时，wA’与wB’的比(wA’∶wB’)为40∶60～80∶20。
构成聚合物嵌段[A’]、聚合物嵌段[B’]的重复单元与所述聚合物嵌段[A]、聚合物嵌段[B]是同样的。
嵌段共聚物氢化物[D’]通过与嵌段共聚物[C]同样的方法将嵌段共聚物[C’]进行氢化，由此得到。其氢化率通常为90％以上，优选为97％以上，更优选为99％以上。氢化率越高，成型的膜的耐光性、热稳定性越好。
嵌段共聚物氢化物[D’]的分子量只要与前述的嵌段共聚物氢化物[D]为同程度即可。
对于本发明所使用的嵌段共聚物氢化物[D’]，作为其前体的嵌段共聚物[C’]可使用在将全部聚合物嵌段[A’]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA’、将全部聚合物嵌段[B’]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB’时，wA’与wB’的比(wA’∶wB’)为40∶60～80∶20，优选为45∶55～70∶30，更优选为50∶50～60∶40的嵌段共聚物。在wA’处于该范围内的情况下，将嵌段共聚物[C’]进行氢化而得到的嵌段共聚物氢化物[D’]在成型膜的情况下柔软性和机械强度良好，因此优选。
4.改性嵌段共聚物氢化物[D”]
改性嵌段共聚物氢化物[D”]是在嵌段共聚物氢化物[D’]中导入烷氧基甲硅烷基而成的。
改性嵌段共聚物氢化物[D”]能够通过以下方法而得到：通过在有机过氧化物的存在下使所述嵌段共聚物氢化物[D’]与烯属不饱和硅烷化合物进行反应从而导入烷氧基甲硅烷基的方法；在聚合阶段，将使烯属不饱和硅烷化合物与芳香族乙烯基化合物和/或链状共轭二烯化合物进行共聚而得到的嵌段共聚物进行氢化的方法等。
烷氧基甲硅烷基也可以经由亚烷基、亚烷基氧基羰基亚烷基等2价的有机基团而键合于嵌段共聚物氢化物[D’]。
烷氧基甲硅烷基的导入量通常在100重量份的改性嵌段共聚物氢化物[D”]中通常为0.1～10重量份，优选为0.2～5重量份，更优选为0.3～3重量份。当烷氧基甲硅烷基的导入量过多时，在熔融成型为所需的形状之前被微量的水分等分解的烷氧基甲硅烷基彼此进行交联，产生凝胶，变得易于发生熔融时的流动性下降而成型性下降等问题。当烷氧基甲硅烷基的导入量过少时，有变得得不到与聚乙烯醇系膜、玻璃的充分的接合力的风险。导入烷氧基甲硅烷基的情况能够用IR光谱进行确认。此外，烷氧基甲硅烷基的导入量能够通过1H-NMR光谱(在导入量少的情况下增加积分次数)算出。
作为烯属不饱和硅烷化合物，只要是与芳香族乙烯基化合物、链状共轭二烯化合物共聚的烯属不饱和硅烷化合物、与嵌段共聚物氢化物[D’]接枝聚合而在嵌段共聚物氢化物[D]中导入烷氧基甲硅烷基的烯属不饱和硅烷化合物则没有特别限定。作为具体例子，可举出：乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等乙烯基三烷氧基硅烷；烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷等烯丙基三烷氧基硅烷；二甲氧基甲基乙烯基硅烷、二乙氧基甲基乙烯基硅烷等烷基二烷氧基硅烷；对苯乙烯基三甲氧基硅烷等苯乙烯基三烷氧基硅烷；3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等(甲基)丙烯酰氧基三烷氧基硅烷等。这些可以分别单独使用，也可以2种以上组合使用。
在有机过氧化物的存在下使烯属不饱和硅烷化合物与嵌段共聚物氢化物[D’]反应而导入烷氧基甲硅烷基的情况下，烯属不饱和硅烷化合物的使用量相对于100重量份的嵌段共聚物氢化物[D’]通常为0.1～10重量份，优选为0.2～5重量份，更优选为0.3～3重量份。
作为过氧化物，优选使用1分钟半衰期温度为170～190℃的过氧化物。可适合地使用例如：叔丁基枯基过氧化物、二枯基过氧化物、二叔己基过氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(叔丁基过氧基)己烷、二叔丁基过氧化物、二-(2-叔丁基过氧异丙基)苯等。
这些过氧化物可以分别单独使用，也可以2种以上组合使用。
过氧化物的使用量相对于100重量份的嵌段共聚物氢化物[D’]通常为0.05～2重量份，优选为0.1～1重量份，更优选为0.2～0.5重量份。
使上述的嵌段共聚物氢化物[D’]与烯属不饱和硅烷化合物在过氧化物的存在下进行反应的方法没有特别限定。能够通过例如用双轴混炼机以所需的温度混炼所需的时间从而导入烷氧基甲硅烷基。
混炼温度通常为180～220℃，优选为185～210℃，更优选为190～200℃。此外，加热混炼时间通常为0.1～10分钟，优选为0.2～5分钟，更优选为0.3～2分钟左右。只要以温度、滞留时间成为上述范围的方式连续地进行混炼、压出即可。
改性嵌段共聚物氢化物[D”]的分子量因为导入的烷氧基甲硅烷基的量少，所以与作为原料使用的嵌段共聚物氢化物[D’]的分子量实质上没有变化。但是，由于在过氧化物的存在下与烯属不饱和硅烷化合物反应，因此还并发聚合物的交联反应、切断反应，分子量分布变大。
改性嵌段共聚物氢化物[D”]的分子量以利用将THF作为溶剂的GPC测定的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)计，通常为30000～300000，优选为40000～200000，更优选为50000～150000。此外，分子量分布(Mw/Mn)优选为3.5以下，更优选为2.5以下，特别优选为2.0以下。当Mw和Mw/Mn为上述范围时，可维持本发明的多层膜的机械强度，因此优选。
5.树脂组合物[E’]
对于本发明所使用的嵌段共聚物氢化物[D’]和/或改性嵌段共聚物氢化物[D”]，使其含有紫外线吸收剂、耐光稳定剂、抗氧化剂等配合剂来制成树脂组合物[E’]使用。
树脂组合物[E’]所包含的紫外线吸收剂的量相对于100重量份的嵌段共聚物氢化物[D’]和/或改性嵌段共聚物氢化物[D”]设为小于1.0重量份。
包含紫外线吸收剂的情况下，其配合量通常为0.01～小于1.0重量份，优选为0.05～0.6重量份，更优选为0.1～0.4重量份。
作为紫外线吸收剂，只要使用与嵌段共聚物氢化物[D]配合的紫外线吸收剂同样的紫外线吸收剂即可。紫外线吸收剂的配合量为1.0重量份以上的情况下，当使用压出成型机来长时间连续地压出成型本发明的多层膜时，污垢易于附着于浇铸辊。
在树脂组合物[E’]中，能够配合紫外线吸收剂以外的配合剂。作为紫外线吸收剂以外的配合剂，可举出与嵌段共聚物氢化物[D]的情况下同样的光稳定剂、抗氧化剂、防粘连剂等。这些可以单独配合1种或者并用配合2种以上。
在通过压出成型法来对本发明的多层膜进行成型时，为了防止黏着物附着于T型模而期望配合抗氧化剂。
作为抗氧化剂，可举出磷系抗氧化剂、酚系抗氧化剂、硫系抗氧化剂等。抗氧化剂的配合量相对于100重量份的嵌段共聚物氢化物[D’]和/或改性嵌段共聚物氢化物[D”]，通常为0.1～1重量份，优选为0.2～0.9重量份，更优选为0.3～0.8重量份。只要抗氧化剂的量处于该范围，在长时间连续地压出多层膜而进行成型的情况下，就能够降低T型模的黏着的产生，因此优选。
在嵌段共聚物氢化物[D’]和/或改性嵌段共聚物氢化物[D”]中配合紫外线吸收剂和其它配合剂的方法，与嵌段共聚物氢化物[D]的情况相同。
如后所述，通过在由嵌段共聚物氢化物[D]形成的膜的表面层叠由树脂组合物[E’]形成的层，从而可得到与形成偏光面的聚乙烯醇系膜、液晶显示元件基板的玻璃等的良好的接合性。
6.多层膜
本发明的多层膜是在由树脂组合物[E]形成的膜[F]的1面或两面层叠由树脂组合物[E’]形成的层[F’]而成的多层膜。
由树脂组合物[E]形成的膜[F]是遮蔽紫外线的层。其厚度通常为10μm～200μm，优选为15μm～150μm，进而优选为20μm～100μm。当使膜[F]的厚度为前述范围的下限以上时，在例如作为偏光面的保护膜而使用时紫外线遮蔽性能变高。此外，由于能够提高防止偏振膜的破损等的操作性，此外通过使其为上限以下而能够抑制整个偏振膜的厚度，因此优选。
由树脂组合物[E’]形成的层[F’]在膜[F]的1面或两面层叠，发挥改善多层膜的机械强度、柔软性的作用。此外，在压出成型多层膜时，通过以层[F’]与浇铸辊接触的方式进行成型，从而能够防止浇铸辊附着污垢，能够得到适合于表面粗糙少表面形态优秀的光学用膜的多层膜。
层[F’]的厚度通常为1μm～50μm，优选为2μm～30μm，进而优选为3μm～20μm。通过使层[F’]的厚度为前述范围的下限以上，从而能够提高多层膜的柔软性。此外，当层[F’]的厚度超过50μm时，多层膜的面内相位差变得过大，此外有多层膜的厚度也变得过厚的风险。
将本发明的多层膜作为偏振膜的偏光面保护膜使用的情况下，优选膜面内的相位差Re为10nm以下，更优选为3nm以下。通过相位差为10nm以下，从而能够抑制组装到液晶显示单元的情况下的颜色不均。特别是在大画面的液晶显示装置中颜色不均有显著地引人注目的倾向，即使在这样的大画面的显示装置中也是适合的。
当将膜面内的主折射率设为Nx、Ny，将膜的厚度设为d时，膜面内的相位差Re能够通过式：Re＝(Nx-Ny)×d求出。膜面内的相位差Re能够使用市售的自动双折射计来测定。
本发明的多层膜具有优秀的紫外线遮蔽性能，因此还能够使用于屋顶材料、顶棚材料、壁材料、窗材料等汽车、建筑物、农业温室等用途；医药品、食品饮用水等的保护膜；偏振膜的偏光面保护膜、亮度增强膜、透明导电膜、触摸面板用基板、液晶基板、光扩散片、棱镜片等液晶显示装置等所使用的构件；使其层叠在玻璃板或透明塑料板等表面、介隔在多个玻璃板或透明塑料板等之间的紫外线遮蔽物品等。
2)多层膜的制造方法
本发明的多层膜的制造方法是制造本发明的多层膜的制造方法，是以与浇铸面接触的方式来对所述树脂组合物[E’]进行熔融压出成型的多层膜的制造方法。通过以与浇铸面接触的方式来对所述树脂组合物[E’]进行熔融压出成型从而能够形成所述层[F’]。根据本发明的制造方法，即使在以长时间连续地成型本发明的多层膜的情况下，得到的多层膜也能够得到难以产生表面粗糙、表面形态优秀的膜。
作为本发明的多层膜的制造方法所应用的成型法，没有特别限定，能够应用公知的2种3层多层共压出成型法；在用熔融压出法等成型的由树脂组合物[E’]形成的膜上，将树脂组合物[E]进行熔融压出而成为2种2层或2种3层的多层膜的压出层压成型法等。
在任一种的成型法中，以由树脂组合物[E’]形成的层[F’]与浇铸辊接触、由树脂组合物[E]形成的层与浇铸辊不直接接触的方式进行压出成型。
片的成型条件根据成型方法而适宜选择，在例如利用熔融压出成型法进行的情况下，树脂温度通常可在180～250℃、优选为190～240℃、更优选为200～230℃的范围适宜选择。在树脂温度过低的情况下，流动性变差，成型的多层片的表面平滑性变得易下降。此外，有不能提高片的压出速度而工业生产率差的倾向。在树脂温度过高的情况下，有嵌段共聚物氢化物[D]、[D’]、改性嵌段共聚物氢化物[D”]的热稳定性变差、得到的多层膜的机械强度下降的风险。
在本发明中，在使嵌段共聚物氢化物[D]、[D’]、改性嵌段共聚物氢化物[D”]在压出机内进行熔融而从安装在该压出机的塑模压出前，优选将熔融状态的树脂通至齿轮泵、过滤器。通过使用齿轮泵，从而能够使树脂的压出量的均一性提高、降低厚度不均。
此外，通过使用过滤器，从而能够除去树脂中的杂质、得到没有缺陷、外观优秀的适合于光学用的多层膜。
[实施例]
一边示出实施例一边对本发明进行进一步详细说明，但是本发明并不仅限定于以下的实施例。另外，只要没有特别说明，“份”和“％”以重量为基准。
本实施例的评价通过以下的方法而进行。
(1)重均分子量(Mw)和分子量分布(Mw/Mn)
嵌段共聚物和嵌段共聚物氢化物的分子量通过将THF设为洗脱液的G PC作为标准聚苯乙烯换算值在38℃进行了测定。作为测定装置，使用TO SOH公司制造的HLC8020GPC。
(2)氢化率
嵌段共聚物氢化物的主链、侧链及芳香环的氢化率测定1H-NMR光谱而算出。
(3)膜表面性状
对压出膜的表面外观以目视进行观察、评价。观察膜表面的反射光，将没有发现模糊的情况作为○(良好)、将发现模糊的情况作为×(不良)来评价。
(4)膜的面内相位差(Re)
使用自动双折射计(产品名“KOBLA-21ADH”，王子计测机器公司制造)在压出膜的宽度方向以50mm的间隔遍及1000mm来测定。对全部测定结果进行平均而设为层叠膜的面内相位差Re值。
(5)紫外线遮蔽性
使用紫外可见光分光光度计(产品名“V-570”，日本分光公司制造)测定在波长380nm和300nm的膜的光线透射率。
(6)机械强度
使用自动绘图仪(产品名“AGS-10KNX”，岛津制作所公司制造)，测定膜的拉伸特性，在破裂点的伸长率为6％以上的情况下作为○(良好)、在小于3％～6％的情况下作为Δ(可应用)、在小于3％的情况下作为×(不良)来评价
[参考例1]
·嵌段共聚物氢化物[D1]的制造
(嵌段共聚物[C1]的制造)
在内部充分地进行了氮置换的具有搅拌装置的反应器中放入550份的脱水环己烷、37.5份的脱水苯乙烯、及0.475份的二正丁醚。一边以60℃对全部内容物进行搅拌，一边加入0.72份的正丁基锂的15％环己烷溶液而引发聚合。在正丁基锂溶液的滴加结束后，进一步以60℃对全部内容物搅拌60分钟。通过气体色谱法测定的该时刻的聚合转化率为99.5％。
接着，在反应液中加入25.0份的脱水异戊二烯，就这样继续搅拌30分钟。在该时刻，聚合转化率为99.5％。
其后，进一步加入37.5份的脱水苯乙烯，搅拌60分钟。在该时刻，聚合转化率为几乎100％。
在此，在反应混合物中加入0.5份的异丙醇，使反应终止。得到的聚合物溶液中所包含的嵌段共聚物[C1]的重均分子量(Mw)为60300，分子量分布(Mw/Mn)为1.05，wA∶wB＝75∶25。
(嵌段共聚物氢化物[D1]的制造)
接着，将上述聚合物溶液转移到具有搅拌装置的耐压反应器中，作为氢化催化剂添加8.0份的硅藻土载体型镍催化剂(产品名“E22U”，镍载体量60％，日挥触酶化成公司制造)及100份的脱水环己烷而进行混合。将反应器内部用氢气进行置换，进一步一边对溶液进行搅拌一边供给氢，以190℃的温度、4.5MPa的压力进行氢化反应6小时。氢化反应后的嵌段共聚物氢化物[D1]的重均分子量(Mw)为63800，分子量分布(Mw/Mn)为1.06。
氢化反应结束后，对反应溶液进行过滤来除去氢化催化剂后，添加1.0份的溶解了0.1份的作为酚系抗氧化剂的五赤藓醇·四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯](产品名“Songnox1010”，KOYO Chemical Research Center公司制造)的二甲苯溶液而使其溶解。
接着，将上述溶液用金属纤维制过滤器(孔径为0.4μm，NICHIDAI C O.,LTD.制造)进行过滤而除去微小的固体成分后，使用圆筒型浓缩干燥器(产品名“KONTRO”，日立制作所公司制造)，以260℃的温度、0.001MPa以下的压力从溶液中除去了作为溶剂的环己烷、二甲苯及其它的挥发成分。连续地将熔融聚合物通过具有浓缩干燥器所连接的孔径为5μm的不锈钢制烧结过滤器的聚合物过滤器(Fuji Filter公司制造)而以260℃的温度进行过滤后，将熔融聚合物从模压出成股状，冷却后，通过造粒机制作96份的嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒。得到的颗粒状的嵌段共聚物氢化物[D1]的重均分子量(Mw)为63200，分子量分布(Mw/Mn)为1.11，氢化率为几乎100％。
[参考例2]
·嵌段共聚物氢化物[D2]的制造
(嵌段共聚物[C2]的制造)
将苯乙烯和异戊二烯分成5次，依次加入30.0份的苯乙烯、7.5份的异戊二烯、25.0份的苯乙烯、7.5份的异戊二烯及30.0份的苯乙烯，除此以外，与参考例1同样地进行聚合反应、使反应终止。得到的嵌段共聚物[C2]的重均分子量(Mw)为61600，分子量分布(Mw/Mn)为1.06，wA∶wB＝85∶15。
(嵌段共聚物氢化物[D2]的制造)
接着，将上述聚合物溶液与参考例1同样地进行氢化反应。氢化反应后的嵌段共聚物氢化物[D2]的重均分子量(Mw)为65300，分子量分布(Mw/Mn)为1.07。
氢化反应结束后，与参考例1同样地添加抗氧化剂后，进行浓缩干燥而制作92份的嵌段共聚物氢化物[D2]的颗粒。得到的颗粒状的嵌段共聚物氢化物[D2]的重均分子量(Mw)为64600，分子量分布(Mw/Mn)为1.12，氢化率为几乎100％。
[参考例3]
·嵌段共聚物氢化物[D’3]的制造
(嵌段共聚物[C’3]的制造)
将苯乙烯和异戊二烯分成3次，依次加入30.0份的苯乙烯、40.0份的异戊二烯、30.0份的苯乙烯，将正丁基锂的15％环己烷溶液变为0.70份，除此以外，与参考例1同样地进行聚合反应、使反应终止。得到的嵌段共聚物[C’3]的重均分子量(Mw)为60200，分子量分布(Mw/Mn)为1.04，wA∶wB＝60∶40。
(嵌段共聚物氢化物[D’3]的制造)
接着，将上述聚合物溶液与参考例1同样地进行氢化反应。氢化反应后的嵌段共聚物氢化物[D’3]]的重均分子量(Mw)为63700，分子量分布(Mw/Mn)为1.05。
氢化反应结束后，与参考例1同样地添加抗氧化剂后，进行浓缩干燥而制作95份的嵌段共聚物氢化物[D’3]的颗粒。得到的颗粒状的嵌段共聚物氢化物[D’3]的重均分子量(Mw)为63100，分子量分布(Mw/Mn)为1.12，氢化率为几乎100％。
[参考例4]
·嵌段共聚物氢化物[D’4]的制造
(嵌段共聚物[C’4]的制造)
将苯乙烯和异戊二烯分成3次，依次加入25.0份的苯乙烯、50.0份的异戊二烯、25.0份的苯乙烯，将正丁基锂的15％环己烷溶液变为0.68份，除此以外，与参考例1同样地进行聚合反应、使反应终止。得到的嵌段共聚物[C’4]的重均分子量(Mw)为61100，分子量分布(Mw/Mn)为1.04，wA∶wB＝50∶50。
(嵌段共聚物氢化物[D’4]的制造)
接着，将上述聚合物溶液与参考例1同样地进行氢化反应。氢化反应后的嵌段共聚物氢化物[D’4]]的重均分子量(Mw)为64700，分子量分布(Mw/Mn)为1.05。
氢化反应结束后，与参考例1同样地添加抗氧化剂后，进行浓缩干燥而制作92份的嵌段共聚物氢化物[D’4]的颗粒。得到的颗粒状的嵌段共聚物氢化物[D’4]的重均分子量(Mw)为64000，分子量分布(Mw/Mn)为1.12，氢化率为几乎100％。
[参考例5]
·改性嵌段共聚物氢化物[[D”3]的制造
相对于100份的在参考例3得到的嵌段共聚物氢化物[D’3]的颗粒，添加2.0份的乙烯基三甲氧基硅烷、及0.2份的2,5-二甲基-2,5-二(叔丁基过氧基)己烷(产品名“PERHEXA(注册商标)25B”，日油公司制造)。将该混合物使用双轴压出机以200℃的树脂温度、60～70秒的滞留时间进行混炼，压出成股状，进行空气冷却后，通过造粒机进行切割，得到95份的具有烷氧基甲硅烷基的改性嵌段共聚物氢化物[D”3]的颗粒。
使10份得到的嵌段共聚物氢化物[D”3]的颗粒溶解在100份的环己烷后，注入到400份的脱水的甲醇中，使改性嵌段共聚物氢化物[D”3]凝固，进行过滤后，在25℃进行真空干燥，离析8.9份的改性嵌段共聚物氢化物[D”3]的团粒。
对该物质的FT-IR光谱进行测定，结果可观察到在1090cm-1来自Si-O CH3基、在825cm-1和739cm-1来自Si-CH2基的新的吸收带，与乙烯基三甲氧基硅烷的这些吸收的1075cm-1、808cm-1及766cm-1在不同的位置。此外，在1H-NMR光谱(氚代氯仿中)中，可观察在3.6ppm基于甲氧基的质子的吸收带，根据峰面积比可确认相对于100份的嵌段共聚物氢化物[D’3]，键合有1.7份的乙烯基三甲氧基硅烷。
[参考例6]
·紫外线吸收剂的配合
在100份的在参考例1中得到的嵌段共聚物氢化物[D1]的颗粒中作为紫外线吸收剂添加4.0份的2-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)-6-叔丁基-对甲酚(S UMISORB(注册商标)300，住友化学公司制造)及4.0份的2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(SUMISORB(注册商标)340，住友化学公司制造)而进行均匀混合后，使用双轴压出机以210℃的树脂温度进行压出，冷却后，通过造粒机进行切割而得到97份的树脂组合物[E11]的颗粒。
同样地进行，使用在参考例2～参考例5中得到的嵌段共聚物氢化物[D1]、[D2]、[D’3]、[D’4]、及改性嵌段共聚物氢化物[D”3]，配合选自2-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)-6-叔丁基-对甲酚、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚、及2,4-双(α,α-二甲基苄基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)苯酚(产品名“TINUVIN(注册商标)234”、BASF日本公司制造)的紫外线吸收剂，制备树脂组合物[E12]、[E13]、[E14]、[E21]、[E22]、[E’3]、[E’4]及[E”3]。将得到的树脂组合物的细目总结地示于表1。
[表1]
[实施例1]
使用具有2台具备的螺杆的单轴压出机的T型模式2种3层膜成型机(T型宽为300mm)及具备镜面的浇铸辊的片牵引机将在参考例6中得到的树脂组合物E11]和树脂组合物[E”3]以树脂组合物[E11]成为中间膜[F11]、使树脂组合物[E”3]成为表层[F”3]的方式以210℃的树脂温度、200℃的T型模温度、80℃的浇铸辊温度的条件制造2种3层的多层膜。得到的多层膜具有表层[F”3]/中间膜[F11]/表层[F”3]的三层结构，得到的多层膜的厚度为5μm/30μm/5μm。
使用得到的多层片来进行膜表面性状、膜的面内相位差(Re)、紫外线遮蔽性、机械强度的评价。对于膜表面性状，观察从成为能够稳定地成型膜的膜成型开始2小时后的膜表面。评价的结果总结记载于表2。
[实施例2～实施例6]
使用树脂组合物[E12]、[E13]、[E14]、[E21]、[E22]、[E’3]、[E’4]、[E”3]及[D1]，以表2所记载的组合与实施例1同样地进行，分别制造2种3层的多层膜，进行得到的多层片的膜的表面性状、膜的面内相位差(Re)、紫外线遮蔽性、机械强度的评价。结果合并记载于表2。
[比较例1]
仅使用树脂组合物[E11]，使用与在实施例1中使用的相同的2种3层膜成型机，制造中间膜、表层均由树脂组合物[E11]形成的膜。
得到的膜仅由树脂组合物[E11]形成，膜的厚度为30μm。
使用得到的多层片来进行膜表面性状、膜的面内相位差(Re)、紫外线遮蔽性、机械强度的评价。对于膜表面性状，观察从成为能够稳定地成型膜的膜成型开始2小时后的膜表面。评价的结果总结记载于表2。
[比较例2]
仅使用树脂组合物[E22]，与比较例1同样地进行，制造中间膜、表层均由树脂组合物[E22]形成的膜。得到的膜的厚度为30μm。
使用得到的多层片与比较例1同样地进行而进行膜的评价。评价的结果总结记载于表2。
[比较例3]
以树脂组合物[E22]成为中间膜[F22]、树脂组合物[D2]成为表层[F’D2]的方式使用与在实施例1中使用的相同的2种3层膜成型机来制造2种3层的多层膜。得到的多层膜具有表层[F’D2]/中间膜[F22]/表层[F’D2的三层结构，得到的多层膜的厚度为7μm/30μm/7μm。
使用得到的多层片来进行膜表面性状、膜的面内相位差(Re)、紫外线遮蔽性、机械强度的评价。对于膜表面性状，观察从膜的成型开始经过2小时以上、能够稳定地成型膜的时刻的膜表面。评价的结果总结记载于表2。
[表2]
根据本实施例及比较例的结果可知如下的情况。
对于本发明的多层膜，膜表面不粗糙，表面性状良好，改善了拉伸伸长性而在膜的成型加工时膜不易断裂，具有良好的操作性且示出充分的紫外线遮蔽性(实施例1～7)。
另一方面，在不形成紫外线吸收剂的量比特定量少的表面层的情况下，膜表面有粗糙，表面性状不良(比较例1、2)。
此外，即使在形成表面层的情况下，在用来自链状共轭二烯化合物的聚合物嵌段的含量比特定量少的嵌段共聚物氢化物形成的情况下，虽然膜表面性状良好，但是拉伸伸长率小，膜成型加工时的操作性差(比较例3)。
产业上的可利用性
本发明的多层膜具有优秀的紫外线遮蔽性能、低相位差、机械强度，表面缺陷少表面形态优秀，作为偏振膜的偏光面保护膜等光学用膜是有用的。

Claims (2)

1.一种多层膜，在由树脂组合物[E]形成的厚度为10～200μm的膜[F]的1面或两面层叠有由树脂组合物[E’]形成的厚度为1～50μm的层[F’]而成，
所述树脂组合物[E]是相对于100重量份的将嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]配合1.0～10.0重量份的紫外线吸收剂而成的，
所述嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]的占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]的占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比即wA∶wB为40∶60～90∶10，
所述树脂组合物[E’]中，相对于100重量份的将嵌段共聚物[C’]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D’]和/或在嵌段共聚物氢化物[D’]中导入烷氧基甲硅烷基而成的改性嵌段共聚物氢化物[D”]，配合有0重量份以上且小于1.0重量份的紫外线吸收剂，
所述嵌段共聚物[C’]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A’]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B’]，在将全部聚合物嵌段[A’]的占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA’、将全部聚合物嵌段[B’]的占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB’时，wA’与wB’的比即wA’∶wB’为40∶60～80∶20。
2.一种权利要求1所述的多层膜的制造方法，
所述层[F’]以与浇铸面接触的方式进行熔融压出而成型。
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