KR20170007783A - 광학용 필름의 제조 방법 - Google Patents

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KR20170007783A
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아쯔시 이시구로
다이스케 사이토
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니폰 제온 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 특정한 블록 공중합체 수소화물[D]을 압출 성형하여 얻어지는 광학용 필름과, 적어도 일방의 표면부가, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 수지[E]로 이루어지는 보호 필름을, 상기 보호 필름의 수지[E]로 이루어지는 표면부와 상기 광학용 필름이 대향하도록 중첩시켜 권취하는 것을 특징으로 하는 광학용 필름의 제조 방법이다. 본 발명에 의하면, 편광판 보호 필름, 위상차 필름, 투명 점착 필름용의 기재 필름 등에 적용할 수 있는 특정한 블록 공중합체 수소화물로 이루어지는, 표면에 스크래치나 박리 자국이 없는 광학용 필름의 제조 방법이 제공된다.

Description

광학용 필름의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILM}
본 발명은, 블록 공중합체 수소화물로 이루어지는 광학용 필름의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 표면에 흠집 등의 결함이 적어 면의 상태가 우수한, 편광판 보호 필름, 위상차 필름, 투명 점착 필름용의 기재 필름 등에 호적한 광학용 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
종래, 방향족 비닐 화합물의 중합체의 방향고리를 수소화한 방향족 비닐 화합물 중합체 수소화물이나, 방향족 비닐 화합물 유래의 반복 단위를 주성분으로 하는 중합체 블록과, 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 반복 단위를 포함하는 중합체 블록으로 이루어지는 블록 공중합체의 방향고리 및 디엔 유래의 이중 결합을 수소화한 블록 공중합체 수소화물을 압출 성형하여 얻어지는 필름은, 편광 필름이나 위상차 필름 등의 광학용 필름으로서 유용한 것이 알려져 있다(특허문헌 1~4).
본 발명에 관련하여, 특허문헌 2에는, 블록 공중합체 수소화물을 성형하여 필름을 제조할 때에, 필름끼리의 블로킹을 방지할 목적에서, 마스킹 필름을 겹쳐 권취해도 된다는 것이 기재되어 있다. 그러나, 블로킹의 방지와는 다른 필름 표면의 흠집 발생을 방지하는 기능을 발현하기 위한 마스킹 필름의 물성이나 특성에 관한 기술은 없다.
일본 공개특허공보 2002-105151호(US2003/0207983 A1) 일본 공개특허공보 2003-114329호 WO2009/067290호 팸플릿 WO2009/137278호 팸플릿
상기 블록 공중합체 수소화물을 광학용 필름 용도로 사용하는 경우, 방향족 비닐 화합물 유래의 반복 단위의 함유율을 높게 하는 편이, 탄성률이 높아지고, 그것을 성형한 필름은 복굴절이 일어나기 어려워지기 때문에 바람직하다고 생각된다.
그러나 한편으로, 방향족 비닐 화합물 유래의 반복 단위의 함유율이 높은 블록 공중합체 수소화물은, 방향족 비닐 화합물 유래의 반복 단위의 함유율이 낮은 블록 공중합체 수소화물에 비하여, 성형된 필름들끼리가 서로 스치는 것에 의한 필름 표면의 흠집이 발생하기 쉽다는 문제가 있었다.
이 대책으로서, 블록 공중합체 수소화물에 활제를 배합함으로써, 성형한 필름의 미끄러짐성을 좋게 함으로써 흠집이 발생하기 쉬운 것을 개선하는 것이 고려된다. 그러나, 활제의 블리드에 의한 필름 표면의 오염이나 다른 재료와 다층화할 때의 접착성의 저하 등을 일으킬 염려가 있다. 또한, 필름간의 미끄러짐성을 높여, 흠집이 발생하기 쉬운 것을 개선하는 방법으로서, 필름 표면에 미세한 엠보스 가공을 실시하는 것도 고려되지만, 광학용 필름 용도에서는 표면의 평활성이 요구되기 때문에 적용할 수 없다.
본 발명은, 이러한 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 표면에 흠집 등의 결함이 적어, 면의 상태가 우수한 편광판 보호 필름이나 위상차 필름, 투명 점착 필름용의 기재 필름 등에 적용할 수 있는, 특정한 블록 공중합체 수소화물로 이루어지는 광학용 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위하여 예의 검토한 결과, 특정한 블록 공중합체 수소화물로 이루어지는 광학용 필름과, 특정한 값 이하의 굽힘 탄성률 및 점착성을 갖는 수지에 의해 표면이 구성된 보호 필름을 겹쳐 롤상으로 감아 보관한 경우에, 특정한 블록 공중합체 수소화물로 이루어지는 광학용 필름의 표면의 흠집 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
이렇게 하여 본 발명에 의하면, 하기 (1)~(3)의 광학용 필름의 제조 방법이 제공된다.
(1) 방향족 비닐 화합물 유래의 반복 단위를 주성분으로 하는, 적어도 2개의 중합체 블록[A]과, 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 반복 단위를 주성분으로 하는, 적어도 1개의 중합체 블록[B]으로 이루어지고, 전체 중합체 블록[A]의 블록 공중합체 전체에서 차지하는 중량분율을 wA로 하고, 전체 중합체 블록[B]의 블록 공중합체 전체에서 차지하는 중량분율을 wB로 하였을 때에, wA와 wB의 비(wA:wB)가 60:40~90:10인 블록 공중합체[C]의, 전체 불포화 결합의 90% 이상을 수소화한 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름의 제조 방법으로서,
상기 블록 공중합체 수소화물[D]을 압출 성형하여 얻어지는 광학용 필름과, 적어도 일방의 표면부가, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 수지[E]로 이루어지는 보호 필름을, 상기 보호 필름의 수지[E]로 이루어지는 표면부와 상기 광학용 필름이 대향하도록 중첩시켜 권취하는 것을 특징으로 하는 광학용 필름의 제조 방법.
(2) 상기 보호 필름이, 상기 수지[E]로 이루어지는 단층 필름, 상기 수지[E]로 이루어지는 층을 최표면에 갖는 다층 필름, 또는, 굽힘 탄성률이 1500 MPa를 초과하는 수지[E] 이외의 수지로 이루어지는 필름의 양면에, 수지[E]로 이루어지는 층이 형성되어 이루어지는 다층 필름인, (1)에 기재된 광학용 필름의 제조 방법.
(3) 상기 수지[E]가, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·α-올레핀 공중합체, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체, 폴리우레탄, 및 폴리에스테르 엘라스토머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인, (1) 또는 (2)에 기재된 광학용 필름의 제조 방법.
본 발명에 의하면, 블록 공중합체 수소화물로 이루어지는 광학용 필름의 제조 방법으로서, 표면에 흠집 등의 결함이 적어 면의 상태가 우수한, 편광판 보호 필름, 위상차 필름, 투명 점착 필름용의 기재 필름 등에 호적한 광학용 필름의 제조 방법이 제공된다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 광학용 필름의 제조 방법은, 방향족 비닐 화합물 유래의 반복 단위를 주성분으로 하는, 적어도 2개의 중합체 블록[A]과, 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 반복 단위를 주성분으로 하는, 적어도 1개의 중합체 블록[B]으로 이루어지고, 전체 중합체 블록[A]의 블록 공중합체 전체에서 차지하는 중량분율을 wA로 하고, 전체 중합체 블록[B]의 블록 공중합체 전체에서 차지하는 중량분율을 wB로 하였을 때에, wA와 wB의 비(wA:wB)가 60:40~90:10인 블록 공중합체[C]의, 전체 불포화 결합의 90% 이상을 수소화한 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름의 제조 방법으로서,
상기 블록 공중합체 수소화물[D]을 압출 성형하여 얻어지는 광학용 필름과, 적어도 일방의 표면부가, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 수지[E]로 이루어지는 보호 필름을, 상기 보호 필름의 수지[E]로 이루어지는 표면부와 상기 광학용 필름이 대향하도록 중첩시켜 권취하는 것을 특징으로 한다.
1. 블록 공중합체 수소화물[D]
본 발명에 사용하는 블록 공중합체 수소화물[D]은, 그 전구체인 블록 공중합체[C]의 전체 불포화 결합의 90% 이상을 수소화하여 얻어지는 고분자이다.
블록 공중합체[C]는, 적어도 2개의 중합체 블록[A]과, 적어도 1개의 중합체 블록[B]을 함유하는 고분자이다.
(중합체 블록[A])
중합체 블록[A]은, 방향족 비닐 화합물 유래의 구조 단위를 주성분으로 하는 것이다.
중합체 블록[A] 중의, 방향족 비닐 화합물 유래의 구조 단위의 함유량은 통상 90 중량% 이상, 바람직하게는 95 중량% 이상, 보다 바람직하게는 99 중량% 이상이다.
중합체 블록[A] 중의 방향족 비닐 화합물 유래의 구조 단위가 지나치게 적으면, 본 발명에 따른 광학용 필름의 내열성이 저하될 우려가 있다.
중합체 블록[A]은, 방향족 비닐 화합물 유래의 구조 단위 이외의 성분을 함유하고 있어도 된다. 방향족 비닐 화합물 유래의 구조 단위 이외의 성분으로는, 사슬형 공액 디엔 유래의 구조 단위 및/또는 그 밖의 비닐 화합물 유래의 구조 단위를 들 수 있다.
그 함유량은, 중합체 블록[A]에 대하여 통상 10 중량% 이하, 바람직하게는 5 중량% 이하, 보다 바람직하게는 1 중량% 이하이다.
블록 공중합체 수소화물[D]에 포함되는 복수의 중합체 블록[A]끼리는, 상기의 범위를 만족하면 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.
(중합체 블록[B])
중합체 블록[B]은 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 구조 단위를 주성분으로 하는 것이다.
중합체 블록[B] 중의, 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 구조 단위의 함유량은, 통상 70 중량% 이상, 바람직하게는 80 중량% 이상, 보다 바람직하게는 90 중량% 이상이다.
중합체 블록[B] 중의, 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 구조 단위가 상기 범위에 있으면, 본 발명에 따른 광학용 필름에 유연성이 부여된다.
또한, 중합체 블록[B]은, 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 구조 단위 이외의 성분을 함유하고 있어도 된다. 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 구조 단위 이외의 성분으로는 방향족 비닐 화합물 유래의 구조 단위 및/또는 그 밖의 비닐 화합물 유래의 구조 단위를 들 수 있다.
그 함유량은, 중합체 블록[B]에 대하여 통상 30 중량% 이하, 바람직하게는 20 중량% 이하, 보다 바람직하게는 10 중량% 이하이다.
중합체 블록[B] 중의, 방향족 비닐 화합물 유래의 구조 단위의 함유량이 너무 많아지면, 본 발명에 따른 광학용 필름의 복굴절 발현성은 저하되지만, 유연성이 저하될 우려가 있다.
블록 공중합체 수소화물[D]이 중합체 블록[B]을 복수개 갖는 경우, 중합체 블록[B]끼리는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.
방향족 비닐 화합물로는, 스티렌; α-메틸스티렌, 2-메틸스티렌, 3-메틸스티렌, 4-메틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌, 2,4-디이소프로필스티렌, 4-t-부틸스티렌, 5-t-부틸-2-메틸스티렌 등의, 치환기로서 탄소수 1~6의 알킬기를 갖는 스티렌류; 4-클로로스티렌, 디클로로스티렌, 4-모노플루오로스티렌 등의, 치환기로서 할로겐 원자를 갖는 스티렌류; 4-메톡시스티렌 등의, 치환기로서 탄소수 1~6의 알콕시기를 갖는 스티렌류; 4-페닐스티렌 등의, 치환기로서 아릴기를 갖는 스티렌류; 1-비닐나프탈렌, 2-비닐나프탈렌 등의 비닐나프탈렌류; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 흡습성의 관점에서, 스티렌, 치환기로서 탄소수 1~6의 알킬기를 갖는 스티렌류 등의, 극성기를 함유하지 않는 방향족 비닐 화합물이 바람직하고, 공업적인 입수의 용이함에서, 스티렌이 특히 바람직하다.
사슬형 공액 디엔계 화합물로는, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 흡습성의 관점에서, 극성기를 함유하지 않는 사슬형 공액 디엔계 화합물이 바람직하고, 공업적인 입수의 용이함에서, 1,3-부타디엔, 이소프렌이 특히 바람직하다.
그 밖의 비닐계 화합물로는, 사슬형 비닐 화합물이나 고리형 비닐 화합물 등의 비닐 화합물; 불포화 고리형 산 무수물; 불포화 이미드 화합물; 등을 들 수 있다. 이들 화합물은, 니트릴기, 알콕시카르보닐기, 하이드록시카르보닐기, 또는 할로겐기 등의 치환기를 갖고 있어도 된다. 이들 중에서도, 흡습성의 관점에서, 에틸렌, 프로필렌, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-헵텐, 1-옥텐, 1-노넨, 1-데센, 1-도데센, 1-에이코센, 4-메틸-1-펜텐, 4,6-디메틸-1-헵텐 등의 탄소수 2~20의 사슬형 올레핀; 비닐시클로헥산 등의 탄소수 5~20의 고리형 올레핀; 등의, 극성기를 갖지 않는 비닐 화합물이 바람직하고, 탄소수 2~20의 사슬형 올레핀이 보다 바람직하고, 에틸렌, 프로필렌이 특히 바람직하다.
(블록 공중합체[C])
블록 공중합체[C]는, 블록 공중합체 수소화물[D]의 전구체이며, 분자 내에, 적어도 2개의 중합체 블록[A]과, 적어도 1개의 중합체 블록[B]을 함유하는 고분자이다.
블록 공중합체[C] 중의 중합체 블록[A]의 수는, 통상 5개 이하, 바람직하게는 4개 이하, 보다 바람직하게는 3개 이하이다. 중합체 블록[A] 및/또는 중합체 블록[B]이 복수개 존재할 때, 중합체 블록[A] 중에서 중량 평균 분자량이 최대와 최소인 중합체 블록의 중량 평균 분자량을 각각 Mw(A1) 및 Mw(A2)로 하고, 중합체 블록[B] 중에서 중량 평균 분자량이 최대와 최소인 중합체 블록의 중량 평균 분자량을 각각 Mw(B1) 및 Mw(B2)로 하였을 때, 그 Mw(A1)와 Mw(A2)의 비(Mw(A1)/Mw(A2)) 및 Mw(B1)와 Mw(B2)의 비(Mw(B1)/Mw(B2))는 각각 4.0 이하, 바람직하게는 3.0 이하, 보다 바람직하게는 2.0 이하이다.
블록 공중합체[C]의 블록의 형태는 사슬형 블록이어도 되고 래디얼형 블록이어도 되지만, 사슬형 블록인 것이, 기계적 강도가 우수하여 바람직하다. 블록 공중합체[C]의 가장 바람직한 형태는, 중합체 블록[B]의 양단에 중합체 블록[A]이 결합한 트리블록 공중합체([A]-[B]-[A]), 및 중합체 블록[A]의 양단에 중합체 블록[B]이 결합하고, 또한, 그 양 중합체 블록[B]의 타단에 각각 중합체 블록[A]이 결합한 펜타블록 공중합체([A]-[B]-[A]-[B]-[A])이다.
블록 공중합체[C] 중의, 전체 중합체 블록[A]이 블록 공중합체 전체에서 차지하는 중량분율을 wA로 하고, 전체 중합체 블록[B]이 블록 공중합체 전체에서 차지하는 중량분율을 wB로 하였을 때에, wA와 wB의 비(wA:wB)는 60:40~90:10, 바람직하게는 65:35~85:15, 보다 바람직하게는 70:30~80:20이다. wA가 지나치게 높은 경우에는, 본 발명에 따른 광학용 필름의 내열성이 높아지고, 복굴절도 작게 하기 쉬워지지만, 유연성이 낮아, 절삭면에서 광학용 필름이 깨지기 쉬워지고, wA가 지나치게 낮는 경우에는, 내열성이 저하되어, 연신한 광학용 필름이 고온 내구 시험에서 수축하기 쉬워진다.
블록 공중합체[C]의 분자량은, 테트라하이드로푸란(THF)을 용매로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)에 의해 측정되는 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)으로, 통상 40,000~200,000, 바람직하게는 50,000~150,000, 보다 바람직하게는 60,000~100,000이다. 또한, 블록 공중합체[C]의 분자량 분포(Mw/Mn)는, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2 이하, 특히 바람직하게는 1.5 이하이다.
블록 공중합체[C]는, 예를 들어, 리빙 음이온 중합 등의 방법에 의해, 방향족 비닐 화합물을 주성분으로서 함유하는 모노머 혼합물(a)과 사슬형 공액 디엔계 화합물을 주성분으로서 함유하는 모노머 혼합물(b)을 번갈아 중합시키는 방법; 방향족 비닐 화합물을 주성분으로서 함유하는 모노머 혼합물(a)과 사슬형 공액 디엔계 화합물을 주성분으로서 함유하는 모노머 혼합물(b)을 차례로 중합시킨 후, 중합체 블록[B]의 말단끼리를 커플링제에 의해 커플링시키는 방법; 등에 의해 제조할 수 있다.
상기 모노머 혼합물(a) 중의 방향족 비닐 화합물의 함유량은, 통상 90 중량% 이상, 바람직하게는 95 중량% 이상, 보다 바람직하게는 99 중량% 이상이다. 또한, 모노머 혼합물(a)은, 방향족 비닐 화합물 이외의 성분을 함유하고 있어도 된다. 다른 성분으로는, 사슬형 공액 디엔 화합물, 그 밖의 비닐 화합물을 들 수 있다. 그 함유량은, 모노머 혼합물(a)에 대하여, 통상 10 중량% 이하, 바람직하게는 5 중량% 이하, 보다 바람직하게는 1 중량% 이하이다.
상기 모노머 혼합물(b) 중의 사슬형 공액 디엔 화합물의 함유량은, 통상 70 중량% 이상, 바람직하게는 80 중량% 이상, 보다 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 또한, 모노머 혼합물(b)은, 사슬형 공액 디엔 화합물 이외의 성분을 함유하고 있어도 된다. 다른 성분으로는, 방향족 비닐 화합물, 그 밖의 비닐 화합물을 들 수 있다. 그 함유량은, 모노머 혼합물(b)에 대하여, 통상 30 중량% 이하, 바람직하게는 20 중량% 이하, 보다 바람직하게는 10 중량% 이하이다.
(블록 공중합체 수소화물[D])
블록 공중합체 수소화물[D]은, 상기의 블록 공중합체[C]의 주쇄 및 측쇄의 탄소-탄소 불포화 결합, 그리고 방향고리의 탄소-탄소 불포화 결합을 수소화한 것이다. 그 수소화율은, 통상 90% 이상, 바람직하게는 97% 이상, 보다 바람직하게는 99% 이상이다. 수소화율이 높을수록, 성형체의 내후성, 내열성 및 저복굴절성이 양호하다. 블록 공중합체 수소화물[D]의 수소화율은, 1H-NMR에 의한 측정에 있어서 구할 수 있다.
불포화 결합의 수소화 방법이나 반응 형태 등은 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법에 따라 행하면 되는데, 수소화율을 높게 할 수 있고, 중합체 사슬 절단 반응이 적은 수소화 방법이 바람직하다. 이러한 수소화 방법으로는, 예를 들어, WO2011/096389호 팸플릿, WO2012/043708호 팸플릿 등에 기재된 방법을 들 수 있다.
수소화 반응 종료 후에 있어서는, 수소화 촉매 및/또는 중합 촉매를 반응 용액으로부터 제거한 후, 얻어진 용액으로부터 블록 공중합체 수소화물[D]을 회수할 수 있다. 회수된 블록 공중합체 수소화물[D]의 형태는 한정되는 것은 아니지만, 통상은 펠릿 형상으로 하여, 그 후의 필름의 성형 가공에 제공할 수 있다.
블록 공중합체 수소화물[D]의 분자량은, THF를 용매로 한 GPC에 의해 측정되는 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)으로, 통상 40,000~200,000, 바람직하게는 50,000~150,000, 보다 바람직하게는 60,000~100,000이다. 또한, 블록 공중합체 수소화물[D]의 분자량 분포(Mw/Mn)는 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2 이하, 특히 바람직하게는 1.5 이하로 한다. Mw 및 Mw/Mn이 상기 범위가 되도록 하면, 성형한 광학용 필름의 내열성이나 저복굴절성이 양호하다.
본 발명에 사용하는 블록 공중합체 수소화물[D]을 필름으로 성형할 때에 있어서는, 다른 배합제를 함유시켜도 된다. 배합제로는, 특별히 한정은 없지만, 산화 방지제, 열 안정제, 광 안정제, 내후 안정제, 자외선 흡수제, 근적외선 흡수제 등의 안정제; 활제, 가소제 등의 수지 개질제; 염료나 안료 등의 착색제; 대전 방지제 등을 들 수 있다. 이들 배합제는 1종 단독으로, 혹은 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 배합제의 배합량은 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위에서 임의 선택된다.
블록 공중합체 수소화물[D]을 용융 압출하여 필름을 성형할 때에, 다이스의 립부에 수지 산화 열화물의 부착을 억제하기 위하여, 산화 방지제를 첨가하는 것은 유효하다. 산화 방지제로는, 페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 유황계 산화 방지제 등을 들 수 있다. 산화 방지제는, 각각 단독으로, 혹은 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
이들 중에서도, 페놀계 산화 방지제, 특히 알킬 치환 페놀계 산화 방지제가 바람직하다.
알킬 치환 페놀계 산화 방지제의 구체예로는, 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 2,6-디-t-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디시클로헥실-4-메틸페놀, 2,6-디이소프로필-4-에틸페놀, 2,6-디-t-아밀-4-메틸페놀, 2,6-디-t-옥틸-4-n-프로필페놀, 2,6-디시클로헥실-4-n-옥틸페놀, 2-이소프로필-4-메틸-6-t-부틸페놀, 2-t-부틸-4-에틸-6-t-옥틸페놀, 2-이소부틸-4-에틸-6-t-헥실페놀, 2-시클로헥실-4-n-부틸-6-이소프로필페놀, 스테아릴 β-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트 등의 단환의 페놀계 산화 방지제; 2,2´-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4´-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4´-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2´-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4´-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 2,2´-메틸렌비스[6-(1-메틸시클로헥실)-p-크레졸], 2,2´-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2´-부틸리덴비스(2-t-부틸-4-메틸페놀), 3,6-디옥사옥타메틸렌비스[3-(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트], 트리에틸렌글리콜비스[3-(3-t-부틸-5-메틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 1,6-헥산디올비스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 2,2´-티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트] 등의 2환의 페놀계 산화 방지제; 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-하이드록시-4-t-부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스[(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 트리스(4-t-부틸-2,6-디메틸-3-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠 등의 3환의 페놀계 산화 방지제; 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄 등의 4환의 페놀계 산화 방지제; 등을 들 수 있다.
산화 방지제의 배합량은, 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위에서 임의 선택되는데, 블록 공중합체 수소화물[D] 100 중량부에 대하여, 통상 0.01~1.0 중량부, 바람직하게는 0.02~0.5 중량부, 보다 바람직하게는 0.05~0.3 중량부이다.
2. 광학용 필름의 제조 방법
본 발명의 광학용 필름의 제조 방법은, 상기 블록 공중합체 수소화물[D]을 압출 성형하여 얻어지는 광학용 필름과, 적어도 일방의 표면부가, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 수지[E]로 이루어지는 보호 필름을, 상기 보호 필름의 수지[E]로 이루어지는 표면부와 상기 광학용 필름이 대향하도록 중첩시켜 권취하는 것을 특징으로 한다.
(광학용 필름)
본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 광학용 필름(이하, 「본 발명의 광학용 필름」이라고 하는 경우가 있다)은 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어진다.
여기서, 「블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어진다」는 것은, 「얻어지는 광학용 필름이 실질적으로 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 것이며, 본 발명의 목적을 손상하지 않는 한, 다른 배합제를 함유하고 있어도 된다」는 의미이다. 본 발명의 광학용 필름에 있어서의 블록 공중합체 수소화물[D]의 함유량은, 통상, 95 중량% 이상, 바람직하게는 97 중량% 이상, 보다 바람직하게는 98 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 99 중량% 이상이다.
본 발명의 광학용 필름은, 블록 공중합체 수소화물[D]의 펠릿을 압출기에 의해 용융시켜 당해 압출기에 장착된 다이스로부터 시트상으로 압출하고, 압출된 시트상의 블록 공중합체 수소화물[D]을, 적어도 1개의 냉각 드럼에 밀착시켜 성형하여 인취(引取)하는 것에 의해 제조할 수 있다.
이 경우, 예를 들어, 다이스 립의 표면 거칠기 Ra의 평균값이 0.05 μm 이하이고, 또한 다이스 립 전체 폭에 있어서의 표면 거칠기 Ra의 분포의 범위가 상기 평균값의 ±0.025 μm 이하인 면 거칠기가 작은 다이스를 사용함으로써, 상기의 평균 거칠기 Ra를 갖는 광학용 필름의 성형이 가능하게 된다.
또한, 블록 공중합체 수소화물[D]의 펠릿을 압출기에 의해 용융 압출하여 성형하기 전에, 통상 50~120℃의 온도에서 2시간 이상, 바람직하게는 60~115℃의 온도에서 3시간 이상, 보다 바람직하게는 70~110℃의 온도에서 4시간 이상 유지한 것을 사용한다. 블록 공중합체 수소화물[D]의 펠릿을 상기의 조건으로 가열 처리함으로써, 펠릿 중의 용존 공기량이 저감되고, 이에 의해 다이라인의 발생이 억제되어, 상기의 표면 거칠기 Ra가 작은 다이스를 사용하는 것과 아울러 표면 거칠기 Ra가 작은 광학용 필름을 성형하는 것이 가능하게 된다. 가열 처리의 온도 및 시간이 상기 범위를 하회하는 경우에는 용존 공기의 제거량이 적어, 다이라인의 발생을 충분히 억제할 수 없게 되어, 표면 거칠기 Ra가 작은 광학용 필름을 얻는 것이 곤란해질 우려가 있다.
압출기에 있어서의 블록 공중합체 수소화물[D]의 용융 온도는, 블록 공중합체 수소화물[D]의 유리 전이 온도보다, 통상 70~160℃ 높은 온도이며, 유리 전이 온도보다 90~140℃ 높은 온도로 하는 것이 보다 바람직하다. 블록 공중합체 수소화물[D]의 유리 전이 온도는, 점탄성 스펙트럼에 있어서의 tanδ의 피크톱값으로서 구할 수 있다. 압출기에서의 용융 온도가 과도하게 낮으면 수지의 유동성이 부족할 우려가 있고, 반대로 용융 온도가 과도하게 높으면 수지가 분해되어 분자량이 저하될 우려가 있다.
다이스의 개구부로부터 압출된 블록 공중합체 수소화물[D]은 캐스트 롤에 밀착시켜 냉각하여, 필름으로 한다. 캐스트 롤의 온도에 따라, 압출된 필름상의 블록 공중합체 수소화물[D]의 캐스트 롤에 대한 밀착 상태가 변화한다. 캐스트 롤의 온도를 높이면 밀착은 좋아지지만, 온도를 지나치게 높이면 필름상의 블록 공중합체 수소화물[D]이 캐스트 롤로부터 벗겨지지 않고, 롤에 휘감기는 문제가 발생할 우려가 있다. 그 때문에, 캐스트 롤의 온도는, 블록 공중합체 수소화물[D]의 유리 전이 온도를 Tg(℃)로 하면, 통상 (Tg + 10)℃ 이하, 바람직하게는 (Tg - 80)℃~(Tg - 5)℃, 보다 바람직하게는 (Tg - 60)℃~(Tg - 10)℃로 한다. 그렇게 함으로써 미끄러짐이나 흠집 발생 등의 문제를 방지할 수 있다.
본 발명의 광학용 필름의 제조 방법은, 상기 블록 공중합체 수소화물[D]을 압출 성형하여 얻어지는 광학용 필름과, 적어도 일방의 표면부가, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 수지[E]로 이루어지는 보호 필름을, 상기 보호 필름의 수지[E]로 이루어지는 표면부와 상기 광학용 필름이 대향하도록 중첩시켜 권취하는 것을 특징으로 한다.
(수지[E]로 이루어지는 보호 필름)
본 발명에 사용하는 보호 필름은, 적어도 일방의 표면부가, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 수지[E]로 이루어지는 필름이다.
수지[E]는, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 고분자이다.
블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에, 상기의 특정한 물성을 갖는 보호 필름[E]을, 상기 보호 필름의 수지[E]로 이루어지는 표면부와 상기 광학용 필름이 대향하도록 중첩시켜 권취함으로써, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름들끼리가 서로 스치는 것에 의한 필름 표면의 흠집의 발생을 효과적으로 저감할 수 있고, 또한, 보호 필름을 박리할 때에 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름의 표면에 박리 자국이 남기 어려워진다. 수지[E]의 굽힘 탄성률이 1500 MPa를 초과하는 경우에는, 그것과 접촉하는 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름의 표면에 흠집이 발생하기 쉬워진다. 또한, 수지[E]의 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 박리 강도로 0.1 N/cm를 초과하는 경우에는, 수지[E]에 의해 표면이 형성된 보호 필름을 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름으로부터 박리할 때에, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름의 표면에 박리 자국이 남기 쉬워진다.
수지[E]의 굽힘 탄성률은 JIS K 7171에 준하여 측정되는 값이며, 박리 강도는 JIS Z 0237에 준하여 측정되는 값이다.
수지[E]의 구체예로는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·α-올레핀 공중합체, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체, 폴리우레탄, 및 폴리에스테르 엘라스토머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 이들 중에서도, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 적당한 점착성, 이형성, 경제성의 관점에서, 저밀도 폴리에틸렌, 리니어 저밀도 폴리에틸렌, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체가 바람직하다.
본 발명에 사용하는 보호 필름은, 적어도 일방의 표면부가, 수지[E]로 이루어지는 것이면 되는데, 상기 수지[E]로 이루어지는 단층 필름, 상기 수지[E]로 이루어지는 층을 최표면에 갖는 다층 필름, 또는, 굽힘 탄성률이 1500 MPa를 초과하는 수지[E] 이외의 수지로 이루어지는 필름의 양면에, 수지[E]로 이루어지는 층이 형성되어 이루어지는 다층의 필름 중 어느 하나인 것이 바람직하다.
보호 필름이, 수지[E]로 이루어지는 층을 최표면에 갖는 다층 필름, 또는, 굽힘 탄성률이 1500 MPa를 초과하는 수지[E] 이외의 수지로 이루어지는 필름의 양면에 수지[E]로 이루어지는 층이 형성되어 이루어지는 다층의 필름인 경우, 상기 수지[E]로 이루어지는 층의 두께는, 통상, 0.01~100 μm, 바람직하게는 0.1~50 μm이다.
보호 필름의 두께는, 통상 15~100 μm, 바람직하게는 20~80 μm, 보다 바람직하게는 30~60 μm이다. 두께가 15 μm를 하회하는 경우에는, 핸들링성이 떨어지고, 두께가 100 μm를 초과하는 경우에는, 롤상으로 감은 광학용 필름의 중량이 무거워져 작업성이 떨어지고, 또한, 경제성도 떨어지기 때문에 바람직하지 않다.
본 발명의 광학용 필름의 제조 방법은, 보다 구체적으로는, 압출 성형기의 캐스트 롤로부터 박리된 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름과, 적어도 일방의 표면부가, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 수지[E]로 이루어지는 보호 필름을, 상기 보호 필름의 수지[E]로 이루어지는 표면부와 상기 광학용 필름이 대향하도록 중첩시켜 권취하는 공정을 갖는 것이다.
이상과 같이 하여 얻어지는 본 발명의 광학용 필름은, 두께가 통상 15~200 μm, 바람직하게는 20~150 μm인 필름이다. 본 발명의 광학용 필름의 두께 변동은, 바람직하게는 3% 이내, 보다 바람직하게는 2.5% 이내이다. 여기서, 필름의 두께 변동은, [(필름의 최대 또는 최소 두께 - 필름의 평균 두께)/필름의 평균 두께] × 100〕으로부터 산출되는 값이다. 광학용 필름의 두께 변동을 상기 범위로 함으로써, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 광학용 필름을 액정 표시 장치에 장착한 경우의 색 얼룩을 작게 할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학용 필름은 표면의 평활성이 우수하다. 그 평활성은 양면의 표면 거칠기가 평균 거칠기 Ra 표기로 0.2 μm 이하, 바람직하게는 0.1 μm 이하, 더욱 바람직하게는 0.05 μm 이하이다. 여기서 평균 거칠기 Ra란, JIS B 0601:2001에 의해 정의되는 「산술 평균 높이 Ra」와 동일한 것이며, 예를 들어, 컬러 3D 레이저 현미경(제품명 「VK-9500」, 키엔스사 제조) 등을 사용하여 측정할 수 있다. 평균 거칠기 Ra가 이 범위에 있는 경우에는, 성형물 표면에 미시적 요철이 관찰되지 않아, 광학용 필름으로서 바람직하지만, 한편으로 블록 공중합체 수소화물[D]의 필름끼리가 접촉한 경우에는, 미끄러짐성이 떨어져, 표면에 흠집이 발생하기 쉬워진다.
본 발명의 광학용 필름은, 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 사용되는 부재, 예를 들어, 편광판 보호 필름, 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 투명 도전 필름, 터치 패널용 기판, 액정 기판, 광 확산 시트, 프리즘 시트 등에도 사용할 수 있다. 편광판 보호 필름으로서 사용하는 경우에는, 필름 면내의 위상차 Re가 10 nm 이하인 것이 바람직하고, 3 nm 이하인 것이 보다 바람직하다. 위상차가 10 nm 이하임으로써, 액정 표시 유닛에 장착한 경우의 색 얼룩을 억제할 수 있다. 특히 대 화면의 액정 표시 장치에 있어서 색 얼룩이 현저하게 두드러지는 경향이 있으나, 이러한 대 화면의 표시 장치에도 호적하다.
실시예
이하에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하는데, 본 발명은 이하의 실시예만으로 한정되는 것은 아니다. 한편 부 및 %는 특별히 언급이 없는 한 중량 기준이다.
본 실시예에 있어서의 평가는, 이하의 방법에 의해 행한다.
(1) 중량 평균 분자량(Mw) 및 분자량 분포(Mw/Mn)
블록 공중합체[C] 및 블록 공중합체 수소화물[D]의 분자량은, THF를 용리액으로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)에 의한 표준 폴리스티렌 환산값으로서, 38℃에서 측정하였다. 측정 장치로서, 토소사 제조, HLC8020GPC를 사용하였다.
(2) 수소화율
블록 공중합체 수소화물[D]의 주쇄, 측쇄 및 방향고리의 수소화율은, 1H-NMR 스펙트럼을 측정하여 산출하였다.
(3) 유리 전이 온도
블록 공중합체 수소화물[D]을 프레스 성형하여, 길이 50 mm, 폭 10 mm, 두께 1 mm의 시험편을 제작하였다. 이 시험편을 사용하여, JIS-K7244-4법에 기초하여, 손실 탄성률 측정 장치(제품명 「DMS6100」, 세이코 인스트루먼트사 제조)를, 점탄성 측정 장치(제품명 「ARES」, 티·에이·인스트루먼트·재팬사 제조)를 각각 사용하여, -100℃ 내지 +150℃의 범위에서, 승온 속도 5℃/분으로 점탄성 스펙트럼을 측정하였다. 손실 계수 tanδ의 고온측의 피크톱 온도로부터, 유리 전이 온도를 구하였다.
(4) 굽힘 탄성률
보호 필름에 사용하는 수지[E]를 사출 성형하여, 길이 100 mm, 폭 10 mm, 두께 4 mm의 시험편을 제작하였다. 이 시험편을 사용하고, 스트로그래프(제품명 「V10-B」, 토요 세이키 제작소사 제조)를 사용하여, JIS K 7171에 준하여 굽힘 시험을 행하고, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률을 측정하였다.
(5) 점착성
블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 필름을 겹쳐, 진공 라미네이터를 사용하여 두께 1.1~1.2 mm의 판을 제작하였다. 이 판으로부터, 길이 125 mm, 폭 50 mm의 박리 시험용의 시험편을 잘라냈다. 길이 200 mm, 폭 24 mm, 두께 50 μm의 보호 필름을 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 시험편에 겹쳐, 온도 50℃에서 무게 2 kg의 롤러를 사용해 압착하여, 박리 시험용의 시험편을 제작하였다. 오토그래프(제품명 「AGS-10NX」, 시마즈 제작소사 제조)를 사용하여, 필름의 비점착 부위로부터, 박리 속도 100 mm/분으로, JIS Z 0237에 준하여 180° 박리 시험을 행하고, 23℃에 있어서의 박리 강도를 측정하였다.
(6) 필름의 표면 거칠기 Ra
블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 필름을 잘라내어 시험편으로 하고, 컬러 3D 레이저 현미경(제품명 「VK-9500」, 키엔스사 제조)을 사용하여, JIS B 0601:2001에 준하여 측정하였다.
(7) 광학용 필름의 외관
블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름을 권취한 롤로부터 필름(한편, 보호 필름이 있는 경우에는 보호 필름과 함께)을 인출하고, 길이 100 cm의 필름 시험편을 잘라냈다. 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름의 시험편(한편, 보호 필름이 있는 경우에는 보호 필름을 벗겨 제거하고)을 편광도 99.5%의 편광판에 직교 니콜로 끼우고, 조도 10,000 럭스의 백라이트에 의해 광을 조사하여, 광의 누출 상태를 목시(目視) 관찰하고, 광의 누출이 관찰되지 않는 경우를 ○(양호), 광의 누출 개소가 관찰되는 경우를 ×(불량)로 하여 평가하였다.
[참고예 1] 블록 공중합체 수소화물[D1]
교반 장치를 구비하고, 내부가 충분히 질소 치환된 반응기에, 탈수 시클로헥산 550 부, 탈수 스티렌 50.0 부, 및, 디-n-부틸에테르 0.475 부를 넣었다. 전체를 60℃에서 교반하면서, n-부틸리튬(15% 시클로헥산 용액) 0.62 부를 첨가하여 중합을 개시시키고, 다시 60℃에서 60분간 전체를 교반하였다. 반응액을 가스 크로마토그래피에 의해 측정한 결과, 이 시점에서의 중합 전화율은 99.5%였다.
다음으로, 반응액에 탈수 이소프렌 30.0 부를 첨가하고, 그대로 30분간 교반을 계속하였다. 이 시점에서의 중합 전화율은 99.5%였다. 그 후, 탈수 스티렌을 20.0 부 더 첨가하고, 60분간 더 교반하였다. 이 시점에서의 중합 전화율은 대략 100%였다.
여기서 이소프로필알코올 0.5 부를 첨가하여 반응을 정지시켜 중합체 용액을 얻었다. 중합체 용액에 포함되는 블록 공중합체[C1]의 중량 평균 분자량(Mw)은 68,800, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.04, wA:wB = 70:30이었다.
다음으로, 상기 중합체 용액을, 교반 장치를 구비한 내압 반응기로 이송하고, 수소화 촉매로서 규조토 담지형 니켈 촉매(제품명 「E22U」, 니켈 담지량 60%, 닛키 촉매 화성사 제조) 7.0 부, 및 탈수 시클로헥산 100 부를 첨가하여 혼합하였다. 반응기 내부를 수소 가스로 치환하고, 또한 용액을 교반하면서 수소를 공급하여, 온도 190℃, 압력 4.5 MPa로 6시간 수소화 반응을 행하였다. 수소화 반응 후의 반응액에 포함되는 블록 공중합체 수소화물[D1]의 중량 평균 분자량(Mw)은 72,900, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.05였다.
수소화 반응 종료 후, 반응 용액을 여과하여 수소화 촉매를 제거한 후, 여과액에, 페놀계 산화 방지제인 펜타에리트리틸·테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](제품명 「Songnox1010」, 코요 화학 연구소사 제조) 0.1 부를 용해한 자일렌 용액 1.0 부를 첨가하여 용해시켰다.
이어서, 상기 용액을, 금속 파이버제 필터(공경(孔徑) 0.4 μm, 니치다이사 제조)로 여과하여 미소한 고형분을 제거한 후, 원통형 농축 건조기(제품명 「콘트로」, 히타치 제작소사 제조)를 사용하여, 온도 260℃, 압력 0.001 MPa 이하에서, 용액으로부터 용매인 시클로헥산, 자일렌 및 그 밖의 휘발 성분을 제거하였다. 연속해서 용융 폴리머를, 농축 건조기에 연결한 공경 5 μm의 스테인리스제 소결 필터를 구비한 폴리머 필터(후지 필터 제조)에 의해, 온도 260℃에서 여과한 후, 다이로부터 용융 폴리머를 스트랜드상으로 압출하고, 냉각 후, 펠레타이저에 의해 블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿 95 부를 얻었다. 얻어진 펠릿상의 블록 공중합체 수소화물[D1]의 중량 평균 분자량(Mw)은 72,200, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.10, 수소화율은 대략 100%였다.
블록 공중합체 수소화물[D1]의 성형체는 무색 투명하고, 고온측의 유리 전이 온도는 133℃, 굽힘 탄성률은 1400 MPa로, 광학용 필름용 수지로서 유용하였다.
[참고예 2] 블록 공중합체 수소화물[D2]
스티렌과 이소프렌을 5회로 나누어, 스티렌 40.0 부, 이소프렌 10.0 부, 스티렌 25.0 부, 이소프렌 10.0 부 및 스티렌 15.0 부를 이 순서로 첨가하는 것 이외에는 참고예 1과 동일하게 중합 반응을 행하고, 반응을 정지시켜 중합체 용액을 얻었다. 중합체 용액에 포함되는 블록 공중합체[C2]의 중량 평균 분자량(Mw)은 70,400, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.05, wA:wB = 80:20이었다.
다음으로, 상기 중합체 용액을 사용하여, 참고예 1과 동일하게 하여 수소화 반응을 행하였다. 수소화 반응 후의 반응액에 포함되는 블록 공중합체 수소화물[D2]의 중량 평균 분자량(Mw)은 74,700, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.06이었다.
수소화 반응 종료 후, 참고예 1과 마찬가지로, 반응 용액을 여과하여 수소화 촉매를 제거한 후, 여과액에 산화 방지제를 첨가한 후, 농축 건조하여 블록 공중합체 수소화물[D2]의 펠릿 96 부를 얻었다. 얻어진 펠릿상의 블록 공중합체 수소화물[D2]의 중량 평균 분자량(Mw)은 73,900, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.11, 수소화율은 대략 100%였다.
블록 공중합체 수소화물[D2]의 성형체는 무색 투명하고, 유리 전이 온도는 121℃, 굽힘 탄성률은 1980 MPa로, 광학용 필름용 수지로서 유용하였다.
[참고예 3] 블록 공중합체 수소화물[D3]
스티렌과 이소프렌을 3회로 나누어, 스티렌 15.0 부, 이소프렌 70.0 부 및 스티렌 15.0 부를 이 순서로 첨가하는 것 이외에는 참고예 1과 동일하게 중합 반응을 행하고, 반응을 정지시켜 중합체 용액을 얻었다. 중합체 용액에 포함되는 블록 공중합체[C3]의 중량 평균 분자량(Mw)은 65,100, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.04, wA:wB = 30:70이었다.
다음으로, 상기 중합체 용액을, 참고예 1과 동일하게 하여, 수소화 반응을 행하였다. 수소화 반응 후의 블록 공중합체 수소화물[D3]의 중량 평균 분자량(Mw)은 68,900, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.05였다.
수소화 반응 종료 후, 참고예 1과 마찬가지로, 반응 용액을 여과하여 수소화 촉매를 제거한 후, 여과액에, 산화 방지제를 첨가한 후, 농축 건조하여 블록 공중합체 수소화물[D3]의 펠릿 96 부를 얻었다. 얻어진 펠릿상의 블록 공중합체 수소화물[D3]의 중량 평균 분자량(Mw)은 68,200, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.10, 수소화율은 대략 100%였다.
블록 공중합체 수소화물[D3]의 성형체는, 무색 투명하고, 고온측의 유리 전이 온도는 116℃, 굽힘 탄성률은 110 MPa로, 연질의 수지였다.
[참고예 4] 보호 필름[F1]의 제작
저밀도 폴리에틸렌(제품명 「노바텍(등록상표) LF443」, 닛폰 폴리에틸렌사 제조; 사출 성형품의 굽힘 탄성률 170 MPa; 수지[E1])의 펠릿을, 공기를 유통시킨 열풍 건조기를 사용하여, 50℃에서 4시간 가열 처리하였다. 이 펠릿을, 40 mmφ의 스크루를 구비한 압출기를 갖는 T 다이식 필름 용융 압출 성형기(T 다이 폭 600 mm), 캐스트 롤 및 2종의 첩합용 필름 공급 장치를 구비한 압출 라미네이트 성형기를 사용하여, 첩합(貼合)용 필름은 공급하지 않고, 캐스트 롤면에 압출하여, 저밀도 폴리에틸렌의 단층 필름[F1](두께 40 μm)을 압출 성형하였다. 얻어진 보호 필름[F1]은, 슬리터로 이어(ear)부를 절제하고, 폭 450 mm로 하여 롤상으로 권취 회수하였다.
참고예 1 및 참고예 2에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 블록 공중합체 수소화물[D2]의 시험편에 대한 보호 필름[F1]의 점착성은 박리 강도로 각각 0.02 N/cm 및 0.01 N/cm였다. 보호 필름[F1]의 구성, 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 수소화물[D2]에 대한 점착성을 표 1에 나타냈다.
[참고예 5] 보호 필름[F2]의 제작
저밀도 폴리에틸렌 대신에 고밀도 폴리에틸렌(제품명 「노바텍(등록상표) HY430」, 닛폰 폴리에틸렌사 제조; 사출 성형품의 굽힘 탄성률 1100 MPa; 수지[E2])의 펠릿을 사용하는 것 이외에는, 참고예 4와 동일하게 하여 고밀도 폴리에틸렌의 단독 필름(두께 30 μm, 폭 450 mm)을 성형하고, 롤상으로 권취 회수하였다.
다음으로, 동일한 압출 라미네이트 성형기를 사용하여, 40℃에서, 4시간 열풍 가열 처리를 행한 에틸렌·아세트산비닐 공중합체(제품명 「노바텍(등록상표) LV430」, 아세트산비닐 함유율 15 중량%, 닛폰 폴리에틸렌사 제조; 사출 성형품의 굽힘 탄성률 45 MPa; 수지[E3])의 펠릿을, T 다이로부터 캐스트 롤면 상에, 두께 10 μm가 되도록 압출하였다. 에틸렌·아세트산비닐 공중합체 필름의 캐스트 롤에 접해 있지 않은 쪽 면에, 필름 공급 장치로부터 앞서 성형한 고밀도 폴리에틸렌(수지[E2])의 필름을 공급해 첩합시켜, 2종 2층의 보호 필름[F2](고밀도 폴리에틸렌[E2](두께 30 μm)/에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3](두께 10 μm); 폭 450 mm)을 제작하였다.
참고예 1 및 참고예 2에서 제작한 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 블록 공중합체 수소화물[D2]의 시험편에 대한 보호 필름[F2]의 점착성은, 고밀도 폴리에틸렌[E2]측은, 박리 강도로 각각 0.02 N/cm 및 0.01 N/cm, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3]측은, 박리 강도로 각각 0.05 N/cm 및 0.04 N/cm였다. 보호 필름[F2]의 구성, 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 수소화물[D2]에 대한 점착성을 표 1에 나타냈다.
[참고예 6] 보호 필름[F3]의 제작
70℃에서, 4시간 열풍 가열 처리를 행한 폴리프로필렌(제품명 「노바텍(등록상표) FB3HAT」, 닛폰 폴리에틸렌사 제조; 사출 성형품의 굽힘 탄성률 1750 MPa)의 펠릿을 사용하고, 참고예 5와 동일하게 하여, 먼저 폴리프로필렌의 단독 필름(두께 30 μm, 폭 450 mm)을 성형하고, 롤상으로 권취 회수하였다.
다음으로, 참고예 5에서 사용한 것과 동일한 에틸렌·아세트산비닐 공중합체(수지[E3])의 펠릿을 사용하고, 참고예 5와 동일하게 하여, T 다이로부터 에틸렌·아세트산비닐 공중합체를 압출하고, 필름 공급 장치로부터 앞서 성형한 폴리프로필렌의 필름을 공급해 첩합시켜, 2종 2층의 보호 필름[F3](폴리프로필렌(두께 30 μm)/에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3](두께 10 μm); 폭 450 mm)을 제작하였다.
참고예 1 및 참고예 2에서 제작한, 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 블록 공중합체 수소화물[D2]의 시험편에 대한 보호 필름[F3]의 점착성은, 폴리프로필렌측은, 박리 강도로 각각 0.01 N/cm 이하 및 0.01 N/cm 이하, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3] 측은, 박리 강도로 각각 0.05 N/cm 및 0.04 N/cm였다. 보호 필름[F3]의 구성, 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 수소화물[D2]에 대한 점착성을 표 1에 나타냈다.
[참고예 7] 보호 필름[F4]의 제작
50℃에서, 4시간 열풍 가열 처리를 행한 폴리에틸렌테레프탈레이트(제품명 「TRN-8550FF」, 테이진사 제조; 사출 성형품의 굽힘 탄성률 3200 MPa)의 펠릿을 사용하고, 참고예 5와 동일하게 하여, 먼저 폴리에틸렌테레프탈레이트의 단독 필름(두께 30 μm, 폭 450 mm)을 성형하고, 롤상으로 권취 회수하였다.
다음으로, 참고예 5에서 사용한 것과 동일한 에틸렌·아세트산비닐 공중합체(수지[E3])의 펠릿을 사용하고, 참고예 5와 동일하게 하여, T 다이로부터 에틸렌·아세트산비닐 공중합체를 압출하고, 필름 공급 장치로부터 앞서 성형한 폴리에틸렌테레프탈레이트의 필름을 공급해 첩합시켜, 2종 2층의 보호 필름[F4](폴리에틸렌테레프탈레이트(두께 30 μm)/에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3](두께 10 μm); 폭 450 mm)을 제작하였다.
참고예 1 및 참고예 2에서 제작한, 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 블록 공중합체 수소화물[D2]의 시험편에 대한 보호 필름[F4]의 점착성은, 폴리에틸렌테레프탈레이트측은, 박리 강도로 각각 0.01 N/cm 이하 및 0.01 N/cm 이하, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3]측은, 박리 강도로 각각 0.05 N/cm 및 0.04 N/cm였다. 보호 필름[F4]의 구성, 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 수소화물[D2]에 대한 점착성을 표 1에 나타냈다.
[참고예 8] 보호 필름[F5]의 제작
참고예 5에서 사용한 것과 동일한 에틸렌·아세트산비닐 공중합체(수지[E3])의 펠릿을 사용하고, 참고예 5와 동일하게 하여, T 다이로부터 에틸렌·아세트산비닐 공중합체를 압출하고, 필름 공급 장치로부터 참고예 7에서 성형한 폴리에틸렌테레프탈레이트/에틸렌·아세트산비닐 공중합체의 2종 2층의 필름을 공급해 첩합시켜, 2종 3층의 보호 필름[F5](에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3](두께 10 μm)/폴리에틸렌테레프탈레이트(두께 30 μm)/에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3](두께 10 μm); 폭 450 mm)을 제작하였다.
참고예 1 및 참고예 2에서 제작한 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 블록 공중합체 수소화물[D2]의 시험편에 대한 보호 필름[F5]의 점착성은, 양면의 에틸렌·아세트산비닐 공중합체[E3]측 모두, 박리 강도로 각각 0.05 N/cm 및 0.04 N/cm였다. 보호 필름[F5]의 구성, 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 수소화물[D2]에 대한 점착성을 표 1에 나타냈다.
[참고예 9] 보호 필름[F6]의 제작
참고예 4에서 사용한 것과 동일한 저밀도 폴리에틸렌(수지[E1])의 펠릿을 사용하고, 참고예 5와 동일하게 하여, 먼저 저밀도 폴리에틸렌의 단독 필름(두께 30 μm, 폭 450 mm)을 성형하고, 롤상으로 권취 회수하였다.
다음으로, 참고예 5에서 사용한 에틸렌·아세트산비닐 공중합체 대신에 참고예 3에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D3](사출 성형품의 굽힘 탄성률 110 MPa)의 펠릿을 사용하고, 참고예 5와 동일하게 하여, T 다이로부터 블록 공중합체 수소화물[D3]을 압출하고, 필름 공급 장치로부터 앞서 성형한 저밀도 폴리에틸렌의 필름을 공급해 첩합시켜, 2종 2층의 보호 필름[F6](저밀도 폴리에틸렌(두께 30 μm)/블록 공중합체 수소화물[D3](두께 10 μm); 폭 450 mm)을 제작하였다.
참고예 1 및 참고예 2에서 제작한 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 블록 공중합체 수소화물[D2]의 시험편에 대한 보호 필름[F6]의 점착성은, 저밀도 폴리에틸렌[E1]측은, 박리 강도로 각각 0.02 N/cm 및 0.01 N/cm, 블록 공중합체 수소화물[D3]측은, 박리 강도로 각각 0.23 N/cm 및 0.20 N/cm였다. 보호 필름[F6]의 구성, 블록 공중합체 수소화물[D1] 및 수소화물[D2]에 대한 점착성을 표 1에 나타냈다.
표 1 중, 「층 구성 수지」는 다음의 것이다.
(1) 저밀도 폴리에틸렌
제품명 「노바텍(등록상표) LF443」, 닛폰 폴리에틸렌사 제조
(2) 고밀도 폴리에틸렌
제품명 「노바텍(등록상표) HY430」, 닛폰 폴리에틸렌사 제조
(3) 에틸렌·아세트산비닐 공중합체
제품명 「노바텍(등록상표) LV430」, 아세트산비닐 함유율 15 중량%, 닛폰 폴리에틸렌사 제조
(4) 폴리프로필렌
제품명 「노바텍(등록상표) FB3HAT」, 닛폰 폴리에틸렌사 제조
(5) 폴리에틸렌테레프탈레이트
제품명 「TRN-8550FF」, 테이진사 제조
Figure pct00001
[비교예 1]
참고예 1에서 얻어진 블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿을, 공기를 유통시킨 열풍 건조기를 사용하여 70℃에서, 4시간 가열 처리를 행하였다. 이 가열 처리 후의 펠릿을 사용하고, 리프 디스크 형상의 폴리머 필터(여과 정밀도 10 μm)를 설치한 40 mmφ의 스크루를 구비한 단축 압출기를 갖는 T 다이식 필름 용융 압출 성형기(T 다이 폭 600 mm), 캐스트 롤(직경 250 mm) 및 보호 필름 공급 장치를 구비한 필름 성형기를 사용하여, 수지 온도 250℃, 캐스트 롤 온도 105℃, 인취 속도 0.35 m/s의 조건으로 용융 압출 성형하여, 광학용 필름[G1]을 성형하였다.
얻어진 광학용 필름[G1]은, 슬리터로 이어부를 절제하고, 폭 450 mm로 하여 보호 필름은 사용하지 않고 롤상으로 권취 회수하였다.
롤상으로 권취한 필름을, 필름 단부로부터 5층분을 인출하여 폐기한 후, 길이 100 cm의 필름을 시험편으로서 채취하였다. 광학용 필름[G1]의 표면 거칠기 Ra 및 외관의 평가를 행하였다. Ra는 0.07 μm이고, 외관 평가에서는 광 누출 개소가 관찰되어, ×로 평가되었다. 광 누출의 개소를 현미경 관찰한 결과, 스크래치 형상 및 롤상으로 권취한 필름의 박리 자국 형상의 표면 결함이 관찰되었다. 결과를 표 2에 나타낸다.
[실시예 1]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿을 사용하고, 비교예 1과 동일하게 하여 용융 압출 성형하여, 광학용 필름[G2]을 성형하였다. 얻어진 광학용 필름[G2]은, 슬리터로 이어부를 절제하고, 폭 450 mm로 하여, 참고예 4에서 제작한 보호 필름[F1]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다.
롤상으로 권취한 필름을, 필름 단부로부터 5층분을 인출하여 폐기한 후, 길이 100 cm의 필름을 시험편으로서 채취하였다. 시험편으로부터 보호 필름[F1]을 벗기고, 광학용 필름[G2]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. Ra는 0.04 μm이고, 외관 평가에서는 광 누출의 개소는 관찰되지 않고, 광학적으로 불량이 되는 흠집 등은 관찰되지 않아, 「○」로 평가되었다. 결과를 표 2에 나타낸다.
[실시예 2]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G3]을 성형하고, 참고예 5에서 제작한 보호 필름[F2]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G3]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 2]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G4]을 성형하고, 참고예 6에서 제작한 보호 필름[F3]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G4]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 3]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G5]을 성형하고, 참고예 7에서 제작한 보호 필름[F4]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G5]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[실시예 3]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G6]을 성형하고, 참고예 8에서 제작한 보호 필름[F5]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G6]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 4]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿을 사용하고, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G7]을 성형하고, 참고예 9에서 제작한 보호 필름[F6]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G7]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 5]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿 대신에 참고예 2에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D2]을 사용하는 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G8]을 성형하고, 보호 필름을 사용하지 않고 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 비교예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G8]의 표면 거칠기 Ra 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[실시예 4]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿 대신에 참고예 2에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D2]을 사용하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G9]을 성형하고, 참고예 4에서 제작한 보호 필름[F1]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G9]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[실시예 5]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿 대신에 참고예 2에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D2]을 사용하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G10]을 성형하고, 참고예 5에서 제작한 보호 필름[F2]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G10]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 6]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿 대신에 참고예 2에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D2]을 사용하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G11]을 성형하고, 참고예 6에서 제작한 보호 필름[F3]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G11]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 7]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿 대신에 참고예 2에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D2]을 사용하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G12]을 성형하고, 참고예 7에서 제작한 보호 필름[F4]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G12]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[실시예 6]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿 대신에 참고예 2에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D2]을 사용하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G13]을 성형하고, 참고예 8에서 제작한 보호 필름[F5]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G13]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 8]
블록 공중합체 수소화물[D1]의 펠릿 대신에 참고예 2에서 작성한 블록 공중합체 수소화물[D2]을 사용하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 필름[G14]을 성형하고, 참고예 9에서 제작한 보호 필름[F6]을 겹쳐 롤상으로 권취하였다. 롤상으로 권취한 필름으로부터 실시예 1과 동일하게 하여 시험편을 채취하고, 광학용 필름[G14]의 표면 거칠기 Ra의 측정 및 외관의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure pct00002
본 실시예 및 비교예의 결과로부터 이하를 알 수 있다.
블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름은, 특정한 값 이하의 굽힘 탄성률을 갖고, 또한, 점착성이 낮은 수지에 의해 표면이 구성된 보호 필름을 접촉시켜 롤상으로 감은 경우에 스크래치의 발생을 억제할 수 있다(실시예 1~6).
한편, 블록 공중합체 수소화물[D]로부터 성형된 광학용 필름은 단독으로 롤상으로 권취하면, 스크래치가 발생한다(비교예 1, 비교예 5).
한쪽 면이 굽힘 탄성률이 충분히 낮은 수지로 이루어지는 것이지만, 특정값 이상의 점착성을 갖는 것이고, 다른 한쪽 면이 특정값 이하의 점착성을 갖는 것이지만, 굽힘 탄성률이 큰 수지로 이루어지는 것인 보호 필름을 사용한 경우에는, 스크래치는 억제할 수 없고, 또한, 보호 필름을 박리하였을 때에 박리 자국이 생기고, 편광판에 직교 니콜로 끼웠을 때에 광 누출이 생긴다(비교예 2, 3, 7).
굽힘 탄성률이 충분히 낮은 수지로 이루어지는 보호 필름을 사용해도, 블록 공중합체 수소화물[D]의 광학용 필름에 대하여 특정값 이상의 점착성을 갖는 보호 필름을 사용한 경우에는, 스크래치는 억제할 수 있지만, 보호 필름을 박리하였을 때의 박리 자국이 생기고, 편광판에 직교 니콜로 끼웠을 때에 광 누출이 생긴다(비교예 4, 비교예 8).
또한, 블록 공중합체 수소화물[D]의 광학용 필름은, 그것보다 낮은 굽힘 탄성률을 갖는 수지로 이루어지는 보호 필름과 접촉시켜 롤상으로 감은 경우에도 스크래치가 발생하는 경우가 있다(비교예 6; 굽힘 탄성률: 「D2」>폴리프로필렌).
산업상 이용가능성
본 발명의 광학용 필름의 제조 방법은, 표면에 스크래치나 박리 자국 등의 결함이 적어 면의 상태가 우수한 블록 공중합체 수소화물로 이루어지는 광학용 필름을 제조 가능하게 하는 것으로, 공업적으로 유용하다.
본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학용 필름은, 편광판 보호 필름, 위상차 필름, 투명 점착 필름용의 기재 필름, 휘도 향상 필름, 투명 도전 필름, 터치 패널용 기판, 액정 기판, 광 확산 시트, 프리즘 시트 등으로서 호적하다.

Claims (3)

  1. (1) 방향족 비닐 화합물 유래의 반복 단위를 주성분으로 하는, 적어도 2개의 중합체 블록[A]과, 사슬형 공액 디엔 화합물 유래의 반복 단위를 주성분으로 하는, 적어도 1개의 중합체 블록[B]으로 이루어지고, 전체 중합체 블록[A]의 블록 공중합체 전체에서 차지하는 중량분율을 wA로 하고, 전체 중합체 블록[B]의 블록 공중합체 전체에서 차지하는 중량분율을 wB로 하였을 때에, wA와 wB의 비(wA:wB)가 60:40~90:10인 블록 공중합체[C]의, 전체 불포화 결합의 90% 이상을 수소화한 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름의 제조 방법으로서,
    상기 블록 공중합체 수소화물[D]을 압출 성형하여 얻어지는 광학용 필름과, 적어도 일방의 표면부가, 23℃에 있어서의 굽힘 탄성률이 1500 MPa 이하이고, 블록 공중합체 수소화물[D]로 이루어지는 광학용 필름에 대한 점착성이, 23℃에 있어서의 박리 강도로 0.1 N/cm 이하인 수지[E]로 이루어지는 보호 필름을, 상기 보호 필름의 수지[E]로 이루어지는 표면부와 상기 광학용 필름이 대향하도록 중첩시켜 권취하는 것을 특징으로 하는 광학용 필름의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 보호 필름이, 상기 수지[E]로 이루어지는 단층 필름, 상기 수지[E]로 이루어지는 층을 최표면에 갖는 다층 필름, 또는, 굽힘 탄성률이 1500 MPa를 초과하는 수지[E] 이외의 수지로 이루어지는 필름의 양면에 수지[E]로 이루어지는 층이 형성되어 이루어지는 다층 필름인, 광학용 필름의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 수지[E]가, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·α-올레핀 공중합체, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체, 폴리우레탄, 및 폴리에스테르 엘라스토머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인, 광학용 필름의 제조 방법.
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