WO2017199892A1 - 多層フィルム - Google Patents

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WO2017199892A1
WO2017199892A1 PCT/JP2017/018111 JP2017018111W WO2017199892A1 WO 2017199892 A1 WO2017199892 A1 WO 2017199892A1 JP 2017018111 W JP2017018111 W JP 2017018111W WO 2017199892 A1 WO2017199892 A1 WO 2017199892A1
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block copolymer
polymer
multilayer film
weight
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English (en)
French (fr)
Inventor
弘明 松田
洋輔 原内
宏晃 周
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日本ゼオン株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F297/00—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer
    • C08F297/02—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the anionic type
    • C08F297/04—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the anionic type polymerising vinyl aromatic monomers and conjugated dienes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings

Definitions

  • the present invention relates to a multilayer film in which a specific thermoplastic resin layer and a hard coat layer are laminated on a layer containing a resin composition in which an ultraviolet absorber is blended with a specific block copolymer hydride.
  • the hydrogenated block copolymer hydride is excellent in transparency, low birefringence, heat resistance, low hygroscopicity, etc., and the film obtained by extruding this is a polarizing liquid crystal display device. It has already been disclosed that it is useful as an optical film such as a film or a retardation film (Patent Documents 1 to 5).
  • polarizing films are arranged on both sides of a glass substrate that forms the surface of a liquid crystal panel.
  • a general polarizing film is configured by bonding a polarizer protective film using triacetyl cellulose or the like to both surfaces of a polarizer containing a polyvinyl alcohol film and a dichroic material such as iodine.
  • the above-mentioned polarizer protective film has a problem that when it is exposed to ultraviolet rays, decomposition is promoted, causing a decrease in strength, and at the same time, transparency is lowered due to discoloration. For this reason, the polarizer protective film is required to have ultraviolet absorption performance for the purpose of preventing the polarizer from being deteriorated by ultraviolet rays.
  • a method for imparting ultraviolet absorbing performance to a polarizer protective film a method of adding an ultraviolet absorber to a triacetyl cellulose film as a polarizer protective film is common.
  • triacetyl cellulose does not have sufficient heat-and-moisture resistance, and if a polarizing plate using a triacetyl cellulose film as a polarizer protective film is used at high temperature or high humidity, the performance as a polarizing plate such as degree of polarization and hue can be obtained. There was a problem of lowering.
  • Patent Documents 6 and 7 disclose that an ultraviolet ray absorbing agent is blended with a specific block copolymer hydride and an outer layer that does not contain an ultraviolet absorber and has a low birefringence and an ultraviolet shielding performance.
  • a multilayer film having excellent impact resistance, less surface roughness, and excellent surface shape is disclosed.
  • Patent Document 6 discloses polyester, polycarbonate, polypropylene, hydrogenated norbornene polymer, methacrylic ester polymer, etc. in order to prevent scratches and the like of a film containing a hydride of a block copolymer during handling, storage, and transportation.
  • a multilayer film in which a protective layer containing other resin is laminated is disclosed.
  • Patent Document 6 in this multilayer film, when a film containing a hydride of a block copolymer is used for a target optical application, a protective layer containing another resin is peeled off and removed. It is described.
  • Patent Document 6 also describes that a hard coat layer can be laminated on a film containing a block copolymer hydride.
  • the optical film obtained by using the film containing the specific block copolymer hydride disclosed in Patent Document 6 has a problem that it has low surface hardness and is easily scratched.
  • the surface hardness may not be sufficiently increased.
  • Patent Document 7 discloses a layer comprising a resin composition in which a specific amount of an ultraviolet absorber is blended with a modified block copolymer hydride obtained by introducing an alkoxysilyl group into a specific block copolymer hydride. Is a multilayer film. Patent Document 7 also describes that the multilayer film described in this document has excellent ultraviolet absorption performance and mechanical strength, has little surface roughness, and is suitable for an excellent optical film having a planar shape. Yes. However, the optical film obtained using the film containing the block copolymer hydride disclosed in Patent Document 7 has a problem that the surface hardness of the film is low and the film is easily scratched.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and is a multilayer suitable for a polarizing plate protective film that has small birefringence, has excellent ultraviolet shielding performance and water vapor shielding properties, has high surface hardness, is hardly damaged.
  • the object is to provide a film.
  • a layer (hereinafter referred to as “layer (e) containing a resin composition obtained by blending a specific block copolymer hydride with a predetermined amount of an ultraviolet absorber”. ) ”), A layer containing another thermoplastic resin having a good surface hardness and transparency (hereinafter, sometimes referred to as“ resin layer (f) ”) is laminated, and the resin layer (f ) Has a hard coat layer (hereinafter, sometimes referred to as “hard coat layer (h)”), the birefringence is small, and the surface has excellent ultraviolet shielding performance and water vapor shielding properties.
  • the inventors have found that a multilayer film with improved scratch resistance can be obtained, and have completed the present invention.
  • the following multilayer films (1) to (3) are provided.
  • a block copolymer containing a combined block (B) wherein the weight fraction of all the polymer blocks (A) and all the polymer blocks (B) in the block copolymer (C) is wA and wB.
  • the main chain and side chain carbon-carbon unsaturated bonds and the aromatic ring carbon-carbon of the block copolymer (C) having a wA to wB ratio wA: wB of 60:40 to 90:10
  • a multilayer film comprising a hard coat layer (h) laminated on a surface opposite to the surface in contact with the layer (e) of at
  • the block copolymer (C) has two polymers having a weight average molecular weight (Mw) of 40,000 or more and 100,000 or less and having a structural unit derived from an aromatic vinyl compound as a main component.
  • block (a 1) and the polymer block (a 2) is formed at both ends of the block copolymer (C), respectively, a weight average molecular weight Mw (a 1) of the polymer block (a 1) is 20,000 or more
  • (3) The multilayer according to (1) or (2), wherein the surface on which the hard coat layer (h) is laminated has a scratch hardness specified in JIS K 5600-5-4 of H or more. the film.
  • a specific block copolymer hydride suitable for an optical film having a small birefringence, an excellent ultraviolet ray shielding performance and a water vapor shielding property, and an improved surface scratch resistance is provided.
  • the multilayer film of the present invention comprises a layer (e) formed using a resin composition (E) containing a predetermined block copolymer hydride (D) and an ultraviolet absorber, and at least one of the layers (e) Of the resin layer (f) containing the predetermined thermoplastic resin (F) and the surface of the at least one resin layer (f) opposite to the surface in contact with the layer (e).
  • Hard coat layer (h) Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing into 1) block copolymer hydride (D), 2) resin composition (E), 3) thermoplastic resin (F), and 4) multilayer film. To do.
  • Block copolymer hydride (D) In the multilayer film of the present invention, the block copolymer hydride used for the formation of the layer (e) comprises at least two polymer blocks (A) mainly comprising a structural unit derived from an aromatic vinyl compound, and a chain.
  • block copolymer (C) containing at least one polymer block (B) at a predetermined weight ratio, the main component of which is a structural unit derived from a conjugated diene compound) )
  • block copolymer (D) A polymer obtained by hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bond of the main chain and side chain and the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring.
  • the polymer block (A) has a structural unit derived from an aromatic vinyl compound as a main component.
  • the content of the structural unit derived from the aromatic vinyl compound in the polymer block (A) is usually 90% by weight or more, preferably 95% by weight or more, more preferably 99% by weight or more, and 100% by weight or less. It is.
  • the polymer block (A) may contain structural units other than the structural unit derived from an aromatic vinyl compound.
  • Examples of the structural unit other than the structural unit derived from the aromatic vinyl compound in the polymer block (A) include a structural unit derived from a chain conjugated diene and / or a structural unit derived from another vinyl compound.
  • the content of structural units other than the structural unit derived from the aromatic vinyl compound in the polymer block (A) is usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less.
  • each of the plurality of polymer blocks (A) may be the same or different from each other.
  • the weight average molecular weights of the plurality of polymer blocks (A) may be the same or different from each other.
  • the weight average molecular weights of the polymer block (A 1 ) and the polymer block (A 2 ) forming both ends of the block copolymer (C) may be the same or different from each other.
  • the weight average molecular weights of the polymer block (A 1 ) and the polymer block (A 2 ) are respectively Mw (A 1 ) and Mw (A 2 )
  • the weight average molecular weight of the block copolymer (C) is specified.
  • one of Mw (A 1 ) and Mw (A 2 ) is reduced within a range in which the mechanical strength of the block copolymer hydride (D) can be maintained.
  • the other for example, Mw (A 1 )
  • the storage elastic modulus in the viscoelastic property of the obtained block copolymer hydride (D) can be increased.
  • Mw (A 1 ) is preferably 20,000 or more and 80,000 or less, more preferably 23,000 or more and 65,000 or less, and further preferably 25,000 or more and 55,000 or less.
  • Mw (A 2 ) is preferably 4,000 or more and 7,000 or less, more preferably 4,200 or more and 6,000 or less, and further preferably 4,500 or more and 5,500 or less.
  • the polymer block (B) has a structural unit derived from a chain conjugated diene compound as a main component.
  • the content of the structural unit derived from the chain conjugated diene compound in the polymer block (B) is usually 90% by weight or more, preferably 95% by weight or more, more preferably 99% by weight or more, and 100% by weight. It is as follows. When the content of the structural unit derived from the chain conjugated diene compound in the polymer block B is in the above range, the multilayer film of the present invention has flexibility and good impact resistance, which is preferable.
  • the polymer block (B) may contain structural units other than the structural unit derived from a chain conjugated diene compound.
  • Examples of the component other than the structural unit derived from the chain conjugated diene compound in the polymer block (B) include a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and / or a structural unit derived from another vinyl compound.
  • the content of structural units other than the structural unit derived from the chain conjugated diene compound in the polymer block (B) is usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less.
  • the types and contents of the structural units contained in each of the plurality of polymer blocks (B) may be the same or different.
  • the weight average molecular weights of the plurality of polymer blocks (B) may be the same or different from each other.
  • the structural unit derived from the chain conjugated diene compound in the polymer block (B) (and the structural unit derived from the chain conjugated diene compound optionally contained in the polymer block (A)) is a chain conjugate.
  • the structural unit derived from 1,2-addition polymerization, the structural unit derived from 3,4-addition polymerization, and the structural unit derived from 1,4-addition polymerization Either may be sufficient.
  • 1,2-addition polymerization forms a repeating unit represented by (1-methyl-1-vinyl) ethylene, and 3,4-addition polymerization results in 1
  • a repeating unit represented by isopropenylethylene is formed, and a repeating unit represented by 2-methyl-2-butenylene is formed by 1,4-addition polymerization.
  • the ratio of the repeated units can be calculated by the Morero method using infrared analysis.
  • the structural unit derived from 1,2-addition polymerization is a structural unit represented by the following formula (1).
  • the structural unit derived from 3,4-addition polymerization is a structural unit represented by the following formula (2).
  • the structural unit obtained by 1,4-addition polymerization is a structural unit represented by the following formula (3a) or formula (3b).
  • examples of the aromatic vinyl compound used for the formation of the polymer block (A) and optionally the polymer block (B) include styrene; ⁇ -methylstyrene, 2-methylstyrene, 3- Styrenes having an alkyl group as a substituent such as methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 4-t-butylstyrene, 5-t-butyl-2-methylstyrene Styrenes having a halogen atom as a substituent such as 4-monochlorostyrene, dichlorostyrene and 4-monofluorostyrene; styrenes having an alkoxy group as a substituent such as 4-methoxystyrene and 3,5-dimethoxystyrene; -Styrenes having an aryl group as a substituent
  • Chain conjugated diene compounds Moreover, as a chain
  • Examples of the chain conjugated diene compound having no polar group include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, and the like. Among these, 1,3-butadiene and isoprene are particularly preferable because of industrial availability.
  • vinyl compounds other vinyl compounds
  • examples include chain olefins, cyclic olefins, chain vinyl compounds, cyclic vinyl compounds, unsaturated cyclic acid anhydrides, and unsaturated imide compounds.
  • These vinyl compounds may have a nitrile group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, or a halogen atom as a substituent.
  • Suitable vinyl compounds include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-dodecene, 1-eicosene, Examples include chain olefins such as 4-methyl-1-pentene and 4,6-dimethyl-1-heptene; cyclic olefins such as vinylcyclohexane, and the like. Chain olefins are more preferable, and ethylene and propylene are particularly preferable.
  • Block copolymer (C) The number of polymer blocks (A) in the block copolymer (C) is at least 2, usually 3 or less, preferably 2.
  • the number of polymer blocks (B) in the block copolymer (C) is at least 1, usually 2 or less, preferably 1.
  • the form of the block of the block copolymer (C) may be a chain type block or a radial type block, but a chain type block is preferred because of excellent mechanical strength.
  • a preferred form of a block copolymer (C), the polymer block (B) both ends of polymer block (A 1) and polymer block (A 2) tri-block copolymer is bound (A 1 )-(B)-(A 2 ), and the polymer block (B 1 ) and the polymer block (B 2 ) are bonded to both ends of the polymer block (A 3 ), and the polymer block (B 1 ) and (the other end of the B 2) (i.e., polymer block (a 3) polymer blocks each side edge of) not bound to the polymer block (a 1) and polymer block (a 2) is coupled
  • a triblock copolymer is most preferable from the viewpoints of heat resistance, molding processability, and mechanical strength.
  • the weight fraction of all polymer blocks (A) in the block copolymer (C) is wA (% by weight), and the weight fraction of all polymer blocks (B) in the block copolymer (C) is wB. (Weight%), the ratio wA: wB of wA and wB needs to be 60:40 to 90:10, preferably 65:35 to 88:12, more preferably 70: 30-85: 15.
  • wA is too large, the mechanical strength and flexibility of the block copolymer hydride (D) used in the present invention are lowered, and the multilayer film may be easily broken. If wA is too small, the surface hardness may be insufficient even when a multilayer film is used.
  • the molecular weight of the block copolymer (C) is a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent, and is usually 40,000 or more and 100. 5,000 or less, preferably 45,000 or more and 80,000 or less, more preferably 50,000 or more and 70,000 or less. Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer (C) is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less.
  • the Mw of the block copolymer (C) is 40,000 or more, the storage elastic modulus in the viscoelastic properties of the resulting block copolymer hydride (D) is not excessively lowered, and the multilayer of the present invention When the film is used, the surface hardness can be sufficiently secured.
  • the Mw of the block copolymer (C) is 100,000 or less, the melt viscosity of the resulting block copolymer hydride (D) is not excessively increased, and the thermal decomposition at the melt molding temperature is performed.
  • a conventionally well-known method is employable as a manufacturing method of a block copolymer.
  • a method of alternately polymerizing a monomer mainly composed of an aromatic vinyl compound and a monomer mainly composed of a chain conjugated diene compound by a method such as living anion polymerization is advantageous. According to this method, it is easy to control Mw (A 1 ) and Mw (A 2 ) to different desired sizes.
  • the block copolymer hydride (D) is obtained by hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and the side chain of the block copolymer (C) and the carbon-carbon unsaturated bonds of the aromatic ring. Is.
  • the hydrogenation rate needs to be 90% or more, preferably 97% or more, more preferably 99% or more.
  • the hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bond in the main chain and side chain of the block copolymer (C) is preferably 97% or more, and more preferably 99% or more.
  • the hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring of the block copolymer (C) is preferably 97% or more, and more preferably 99% or more.
  • the hydrogenation rate of the block copolymer hydride (D) can be determined by measurement by 1 H-NMR.
  • the hydrogenation method and reaction mode of the unsaturated bond of the block copolymer (C) are not particularly limited, and may be performed according to a known method, but the hydrogenation rate can be increased, and the polymer chain cleavage reaction can be performed. A hydrogenation process with less is preferred. Examples of such a hydrogenation method include methods described in International Publication No. 2011/096389, International Publication No. 2012/043708, and the like.
  • the block copolymer hydride (D) obtained by the above method is recovered from the reaction solution after removing the hydrogenation catalyst and / or the polymerization catalyst from the reaction solution containing the block copolymer hydride (D). be able to.
  • recovered block copolymer hydride (D) is not limited, Usually, it can be made into a pellet shape and can use for the shaping
  • the molecular weight of the block copolymer hydride (D) is a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured by GPC using THF as a solvent, and usually 40,000 or more and 100,000 or less, preferably 45,000 or more. 80,000 or less, more preferably 50,000 or more and 70,000 or less.
  • the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer hydride (D) is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less. When Mw and Mw / Mn are within the above ranges, the heat resistance and mechanical strength of the formed film are maintained.
  • block copolymer hydride (D) used in the present invention may be prepared by, for example, an acid anhydride group or an alkoxysilyl group by a method described in International Publication No. 2001/070833, International Publication No. 2012/043708, or the like. It may be a block copolymer hydride (D) having a functional group such as.
  • Resin composition (E) In the resin composition used in the present invention, the ultraviolet absorber is added in an amount of 1.0 to 15.0 parts by weight, preferably 2 to 100 parts by weight of the block copolymer hydride (D) described above. A composition obtained by blending 0 to 12.0 parts by weight, more preferably 3.0 to 9.0 parts by weight (hereinafter sometimes referred to as “resin composition (E)”). It is. If the blending amount of the ultraviolet absorber is within this range, it is possible to efficiently block ultraviolet rays when used as an optical film, the transparency in the visible light region is maintained, and the color tone is not deteriorated. preferable.
  • the layer (e) containing the resin composition (E) preferably has a transmittance of 8% or less at a wavelength of 380 nm from the viewpoint of ultraviolet shielding, and more preferably 4% or less. It is preferably 1% or less.
  • an ultraviolet absorber used in the present invention for example, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid trihydrate, 2-hydroxy-4-octyloxybenzophenone, 4-dodecaloxy-2-hydroxybenzophenone, 4-benzyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, Benzophenone ultraviolet absorbers such as 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone; Phenylsulcylate, 4-t-butylphenyl-2-hydroxybenzoate, Phenyl-2-hydroxybenzoate, 2,4-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, Salicylic acid UV absorbers such as hexadecyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzo
  • 2- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole is excellent in ultraviolet absorption (particularly, ultraviolet absorption at a wavelength of around 380 nm).
  • other compounding agents other than the ultraviolet absorber can be blended.
  • other compounding agents include light stabilizers, antioxidants, and antiblocking agents. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a hindered amine light stabilizer is preferred.
  • the hindered amine light stabilizer include 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl group, 2,2,6,6-tetramethylpiperidyl group, or 1,2,2, in the molecular structure. Examples thereof include compounds having a 2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl group.
  • antioxidants examples include phosphorus antioxidants, phenol antioxidants, sulfur antioxidants and the like.
  • specific examples of the antioxidant include pentaerythrityl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 3,9-bis ⁇ 2- [3- ( 3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) proonyloxy] -1,1-dimethylethyl ⁇ -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 1,3,5- And trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene.
  • the compounding quantity is 0.01 to 1 weight part normally with respect to 100 weight part of block copolymer hydrides (D), Preferably 0.05 weight part or more 0.9 parts by weight or less, more preferably 0.1 parts by weight or more and 0.8 parts by weight or less. If the amount of the antioxidant is within this range, the heat stability of the resin composition (E) is excellent, which is preferable.
  • the compounding quantity of the other compounding agent except antioxidant is 0.01 to 1 weight part normally with respect to 100 weight part of block copolymer hydrides (D), Preferably it is 0.05. It is not less than 0.9 parts by weight and more preferably not less than 0.1 parts by weight and not more than 0.8 parts by weight.
  • a resin composition (E) by blending a block copolymer hydride (D) with an ultraviolet absorber and other compounding agents optionally used, for example, a block copolymer hydride ( After mixing the UV absorber and optionally other compounding ingredients in D), the block copolymer hydride (D) is melted and uniformly kneaded with a twin-screw kneader, roll, Brabender, extruder, etc. The method of doing is mentioned.
  • thermoplastic resin (F) The thermoplastic resin used in the present invention (hereinafter sometimes referred to as “thermoplastic resin (F)”) is laminated on one or both surfaces of the layer (e) containing the resin composition (E). It is a resin for forming the resin layer (f) to be formed and increasing the surface hardness of the multilayer film.
  • thermoplastic resin (F) a resin having excellent transparency and high surface hardness is preferable.
  • specific examples of the thermoplastic resin (F) include polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; ring-opening metathesis polymers of norbornene-based polycyclic monomers, norbornene and / or norbornene-based polycyclic monomers Polymers such as addition copolymers of ethylene and ethylene; polystyrene; styrene copolymers such as styrene / methacrylic acid ester copolymers and styrene / acrylonitrile copolymers (copolymerization of styrene with other monomers) (Meth) acrylic acid ester (co) polymers such as polymethyl methacrylate and methacrylic acid ester (co) polymers.
  • (meth) acrylic acid ester (co) polymer means a homopolymer obtained by using one kind of (meth) acrylic acid ester and / or a plurality of kinds of (meth) acrylic acid. It means a copolymer obtained using an ester.
  • “methacrylic acid ester (co) polymer” means a homopolymer obtained by using one kind of methacrylic acid ester and / or a copolymer obtained by using a plurality of kinds of methacrylic acid esters.
  • (meth) acryl means acryl and / or methacryl.
  • a cycloolefin polymer and / or a methacrylic acid ester (co) polymer is preferable from the viewpoint of low birefringence in addition to an improvement in surface hardness, and a cycloolefin from the viewpoint of moisture resistance.
  • Olefin polymers, polystyrene and / or styrene copolymers are preferred.
  • thermoplastic resins (F) for example, commercially available resins can be used.
  • Multilayer film The multilayer film of the present invention comprises a layer (e), a resin layer (f) laminated on one or both sides of the layer (e), and at least one resin layer (f). And a hard coat layer (h) laminated on a surface opposite to the surface in contact with the layer (e).
  • the layer (e) is a layer formed using the resin composition (E), and is a layer that is transparent, has low birefringence, is excellent in water vapor shielding properties, and has a function of shielding ultraviolet rays.
  • the thickness of the layer (e) is usually from 10 ⁇ m to 150 ⁇ m, preferably from 15 ⁇ m to 100 ⁇ m, more preferably from 20 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the thickness of the layer (e) is not less than the lower limit of the above range, for example, when used as a protective film for a polarizer, the water vapor shielding property is good. In addition, handling properties such as prevention of damage to the polarizing film are improved.
  • the thickness of the whole polarizing film can be suppressed by making the thickness of a layer (e) below the upper limit of the said range, it is preferable.
  • the resin layer (f) is a layer containing a thermoplastic resin (F).
  • the content of the thermoplastic resin (F) in the resin layer (f) is usually 95% by weight or more, preferably 97% by weight or more, more preferably 99% by weight or more, and 100% by weight or less.
  • components other than the thermoplastic resin (F) in the resin layer (f) include a light stabilizer, an antioxidant, and an antiblocking agent. Specific examples of these are the same as those listed as those that can be blended in the resin composition (E). And these may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
  • the resin layer (f) is laminated on one side or both sides of the layer (e) to improve the mechanical strength and flexibility of the multilayer film and to improve the surface scratch resistance of the multilayer film. .
  • the resin layer (f) in contact with the cast roll at the time of melt extrusion molding of the multilayer film, it is possible to prevent adhesion of the cast roll to the soil, and it is suitable for an optical film having excellent surface properties with little surface roughness. A multilayer film can be obtained.
  • the thickness of the resin layer (f) is usually from 0.5 ⁇ m to 40 ⁇ m, preferably from 1.0 ⁇ m to 30 ⁇ m, more preferably from 1.5 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the multilayer film of the present invention may further have an adhesive layer (g) between the layer (e) and the resin layer (f).
  • the adhesive layer (g) from the viewpoint of adhesiveness, transparency, low birefringence, and heat resistance, for example, an alkoxysilyl group and / or a layer that can be used for the layer (e) of the multilayer film of the present invention.
  • a layer composed of a block copolymer hydride (D) having an acid anhydride group introduced therein can be preferably used.
  • the layer which consists of the said block copolymer hydride (D) as an adhesive bond layer (g) it is preferable that the said layer does not contain a ultraviolet absorber.
  • the thickness of the adhesive layer (g) is usually from 0.5 ⁇ m to 10 ⁇ m, preferably from 1 ⁇ m to 7 ⁇ m, more preferably from 1.5 ⁇ m to 5 ⁇ m. It is.
  • Hard coat layer (h) In the multilayer film of the present invention, a hard coat layer (h) is formed on the surface of the resin layer (f) opposite to the surface in contact with the layer (e) in order to prevent surface damage. By laminating the hard coat layer (h), the surface hardness and scratch resistance of the multilayer film can be further improved.
  • the hard coat layer (h) is formed using a hard coat agent (hereinafter sometimes referred to as “hard coat agent (H)”).
  • the hard coat agent (H) includes a hard coat material, and optionally includes a filler and other additives.
  • the hard coat material examples include organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, acrylic, and urethane acrylate, and inorganic hard coat materials such as silicon dioxide (SiO 2 ). These may be used alone or in combination of two or more. Among these, organic silicone materials such as organopolysiloxane materials and acrylic organic hard coat materials such as polyfunctional acrylate materials are preferable. Furthermore, since the adhesive force is good and the productivity of the hard coat layer is good, an acrylic hard coat material such as a polyfunctional acrylate type is particularly preferable.
  • fillers include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, diantimony pentoxide (Sb 2 O 5 ), tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (IZO), Examples thereof include zinc oxide (AZO) doped with aluminum and tin oxide (FTO) doped with fluorine. These may be used alone or in combination of two or more.
  • other additives include various additives such as a photopolymerization initiator, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antistatic agent, a leveling agent, and an antifoaming agent. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the photopolymerization initiator in the hard coat agent (H) is 0.1 parts by weight or more and 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the hard coat material (particularly, organic hard coat material). It is preferably 0.5 parts by weight or more and 5 parts by weight or less.
  • the thickness of the hard coat layer (h) is not particularly limited, but is usually 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, preferably 2 ⁇ m or more and 8 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or more and 6 ⁇ m or less.
  • the resin layer (f) is laminated on the surface of the layer (e), and further the hard coat layer (h) is laminated on the outermost surface of the resin layer (f), whereby JIS K566-5.
  • the scratch hardness (pencil method) measured by the -4 method can be improved to H or higher, preferably 2H or higher.
  • the method of manufacturing a general multilayer film is applicable. For example, first, after forming a film having the layer (e) and the resin layer (f) but not having the hard coat layer (h) (hereinafter sometimes referred to as “laminated film (m)”), the obtained The multilayer film of the present invention can be obtained by forming a hard coat layer (h) on the surface opposite to the surface in contact with the layer (e) of the resin layer (f) of the laminated film (m) obtained. it can.
  • Examples of the molding method applied to the method for producing the laminated film (m) include a two-kind three-layer multilayer coextrusion molding method; a three-kind five-layer multilayer coextrusion molding method including the adhesive layer (g); and melt extrusion.
  • a resin composition (E) is melt-extruded on a film (resin layer (f)) containing a thermoplastic resin (F) molded by a molding method or the like, and a laminated film of two types or two layers or two types and three layers Extrusion laminating and forming method; Extruding laminating and forming method including laminated film of 3 types, 3 layers or 3 types and 5 layers including adhesive layer (g) can be applied.
  • any of the molding methods in order to prevent the adhesion of the cast roll to the soil, it is preferable to perform extrusion molding so that the resin layer (f) is in contact with the cast roll and the layer (e) is not in direct contact with the cast roll. .
  • the molding conditions of the sheet are appropriately selected depending on the molding method.
  • the resin temperature is usually 180 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, preferably 190 ° C. or higher and 240 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. It is appropriately selected in the range of 230 ° C. or lower.
  • the resin temperature is too low, the fluidity is deteriorated, and the surface smoothness of the molded multilayer sheet tends to be lowered. Also, the sheet extrusion speed cannot be increased, and industrial productivity tends to be inferior.
  • the resin temperature is too high, the thermal stability of the block copolymer hydride (D) becomes poor, and the mechanical strength of the resulting multilayer film may be reduced.
  • the resin composition (E) and the thermoplastic resin (F) are melted in an extruder, and the molten resin is passed through a gear pump or a filter before being extruded from a die attached to the extruder. It is preferable.
  • a gear pump By using a gear pump, the uniformity of the resin extrusion amount can be improved, and the thickness unevenness can be reduced.
  • a filter By using a filter, it is possible to remove foreign substances in the resin and obtain a multilayer film suitable for optical applications that has an excellent appearance without defects.
  • a hard coat layer (h) is formed.
  • the method for forming the hard coat layer (h) is not particularly limited, and a known method can be employed.
  • a hard coat agent (H) containing an acrylic hard coat material is applied and cured by crosslinking with ultraviolet rays or electron beams, or a hard coat agent containing a silicone-based, melamine-based, and / or epoxy-based hard coat material. (H) is applied and thermally cured.
  • the layer structure of the multilayer film of the present invention include the following, but are not limited thereto.
  • Hard coat layer (h) / resin layer (f) / layer (e) Hard coat layer (h) / resin layer (f) / adhesive layer (g) / layer (e), Hard coat layer (h) / resin layer (f) / layer (e) / resin layer (f), Hard coat layer (h) / resin layer (f) / adhesive layer (g) / layer (e) / adhesive layer (g) / resin layer (f)
  • the multilayer film of the present invention has a small in-plane retardation (Re) value and a small birefringence.
  • the low birefringence of the multilayer film of the present invention means that, for example, the in-plane retardation (Re) value obtained by measurement by the method described in the examples of the present specification is preferably 3 nm or less, more preferably 1 nm. This can be confirmed from the following.
  • the multilayer film of the present invention is excellent in ultraviolet shielding performance.
  • the multilayer film of the present invention is excellent in ultraviolet shielding performance, for example, the light transmittance of the multilayer film at a wavelength of 380 nm measured by the method described in the examples of the present specification is preferably 1% or less, more preferably The light transmittance of the multilayer film at a wavelength of 300 nm is preferably 0.5% or less, and is preferably 0.5% or less, more preferably 0.1% or less.
  • the multilayer film of this invention is excellent in water vapor
  • the multilayer film of the present invention is excellent in water vapor barrier properties, for example, the moisture permeability measured by the method described in the examples of the present specification is preferably 8 g / m 2 ⁇ 24 h or less, more preferably 2 g / m 2. ⁇ Because it is 24h or less, it can be confirmed.
  • the multilayer film of the present invention is also excellent in surface scratch resistance.
  • the fact that the multilayer film of the present invention is excellent in surface scratch resistance is, for example, that the scratch hardness (pencil method) measured by the method described in the examples of the present specification is preferably H or more, more preferably 2H or more. It can be confirmed because there is.
  • the multilayer film of the present invention Since the multilayer film of the present invention has excellent ultraviolet shielding performance and surface scratch resistance as described above, it can be suitably used as a polarizing plate protective film. Moreover, the multilayer film of the present invention is used for, for example, roofing materials, ceiling materials, wall materials, window materials, automobiles, buildings, agricultural houses, etc .; Protective film applications such as: Brightness enhancement film, transparent conductive film, touch panel substrate, liquid crystal substrate, light diffusion sheet, prism sheet and other liquid crystal display devices, etc .; laminated on the surface of glass plates, transparent plastic plates, etc. Or can be used for ultraviolet shielding articles, etc. interposed between a plurality of glass plates or transparent plastic plates.
  • Weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) The molecular weights of the block copolymer and the block copolymer hydride were measured at 38 ° C. as standard polystyrene equivalent values using GPC (trade name “HLC8020GPC” manufactured by Tosoh Corporation) using THF as an eluent.
  • the weight average molecular weight of a specific polymer block in the block copolymer is MwX as the weight average molecular weight of the block copolymer, and wY as the weight fraction of the specific polymer block in the block copolymer. (Wt%) was calculated by the following formula.
  • the weight fraction wY (% by weight) of the specific polymer block was calculated from the charged amount of the monomer used for forming the polymer block and the polymerization conversion rate at the end of the polymerization.
  • Weight average molecular weight of polymer block MwX ⁇ wY / 100 (2) the main chain, side chain and the aromatic ring hydrogenation of the hydrogenation rate block copolymer hydride (mol%) is the block copolymer is a block copolymer hydride and the precursor 1 H-
  • the NMR spectrum was measured and calculated.
  • the polymerization conversion was 99.5%.
  • 18.0 parts of dehydrated isoprene as a chain conjugated diene compound was added to the reaction solution, and stirring was continued for 30 minutes. At this time, the polymerization conversion rate was 99.5%.
  • 9.0 parts of dehydrated styrene as an aromatic vinyl compound was further added and stirred for 60 minutes. The polymerization conversion rate at this point was almost 100%.
  • 0.5 part of isopropyl alcohol was added to the reaction mixture to stop the reaction.
  • the polymer block (A 1 ) had a weight average molecular weight Mw (A 1 ) of 41,600
  • the reaction solution was filtered to remove the hydrogenation catalyst, and then the phenolic antioxidant pentaerythrityl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) ) Propionate] (trade name “Songnox 1010” manufactured by Koyo Chemical Laboratory Co., Ltd.) 1.0 part of a xylene solution in which 0.1 part was dissolved was added to dissolve the polymer subjected to the hydrogenation reaction. Next, the above solution after adding the xylene solution is concentrated and dried under conditions of a temperature of 260 ° C.
  • a cylindrical concentration dryer (trade name “Kontoro” manufactured by Hitachi, Ltd.). Then, cyclohexane and xylene as solvents and other volatile components were removed from the solution. Continuously with this concentration operation, the obtained molten polymer was filtered at a temperature of 260 ° C. with a polymer filter (manufactured by Fuji Filter) equipped with a stainless sintered filter having a pore size of 5 ⁇ m connected to the cylindrical concentration dryer. did. After filtration, the molten polymer was extruded from the die into a strand.
  • the resulting block-like block copolymer hydride (D 1 ) has a weight average molecular weight (Mw) of 60,100, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.10, and a hydrogenation rate of almost 100% (99%). That's it).
  • the polymer block (A1) had a weight average molecular weight Mw (A 1 ) of 36,900
  • the polymer block (A2) had a weight average molecular weight Mw (A 2 ) of 5,100.
  • Block copolymer hydride (D 2 ) Next, the polymer solution was hydrogenated in the same manner as in Production Example 1.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer hydride (D 2 ) after the hydrogenation reaction was 59,500, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.03.
  • a phenolic antioxidant was added, followed by concentration and drying to produce 94 parts of block copolymer hydride (D 2 ) pellets.
  • the resulting block-like block copolymer hydride (D 2 ) has a weight average molecular weight (Mw) of 58,900, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.08, and a hydrogenation rate of almost 100% (99%). That's it).
  • the polymer block (A1) had a weight average molecular weight Mw (A 1 ) of 31,900
  • the polymer block (A2) had a weight average molecular weight Mw (A 2 ) of 14,100.
  • the resulting block-like block copolymer hydride (D 3 ) has a weight average molecular weight (Mw) of 59,000, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.06, and a hydrogenation rate of almost 100% (99%). That's it).
  • the polymer block (A 1 ) had a weight average molecular weight Mw (A 1 ) of 23,100
  • the polymer block (A 2 ) had a weight average molecular weight Mw (A 2 ) of 23,300.
  • Block copolymer hydride (D 4 ) Next, the polymer solution was hydrogenated in the same manner as in Production Example 1.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer hydride (D 4 ) after the hydrogenation reaction was 60,100, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.07.
  • a phenolic antioxidant was added, followed by concentration and drying to produce 93 parts of a block copolymer hydride (D 4 ) pellet.
  • the resulting block-like block copolymer hydride (D 4 ) has a weight average molecular weight (Mw) of 59,500, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.07, and a hydrogenation rate of almost 100% (99%). That's it).
  • Example 1 Multilayer Film (m 1 h 1 ) [Manufacture of laminated film (m 1 )] Resin composition (E 1 ) pellets and ring-opening metathesis polymer hydrogenated polymer (F 1 ) as a thermoplastic resin (manufactured by Zeon Corporation, trade name “ZEONEX (registered trademark) 690R”, glass transition temperature 136 ° C., using pellets), the resin composition (E 1) a layer comprising (e 1) is an intermediate layer, a resin layer containing a ring-opening metathesis polymer hydrogenated polymer (F 1) (f 1) is a surface layer A two-type three-layer laminated film (m 1 ) was produced.
  • ZEONEX registered trademark
  • F 1 ring-opening metathesis polymer hydrogenated polymer
  • the laminated film (m 1 ) for the production of the laminated film (m 1 ), a T-die type two-layer three-layer film forming machine (T-die width 300 mm) having two single-screw extruders equipped with 20 mm ⁇ screws, and a mirror surface A sheet take-up machine equipped with a cast roll was used.
  • the production conditions of the laminated film were as follows: resin temperature of resin composition (E 1 ) 220 ° C., ring opening metathesis polymer hydrogenated polymer (F 1 ) resin temperature 250 ° C., T die temperature 250 ° C., cast roll temperature 80 C.
  • the produced laminated film (m 1 ) has a three-layer structure of (f 1 ) / (e 1 ) / (f 1 ), and has a width of 230 mm and a total thickness of 40 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m). It was.
  • the hard coat agent (H 1 ) obtained in Production Example 5 was applied to one side of the laminated film (m 1 ) obtained above with a bar coater. After coating, ultraviolet irradiation was performed using an ultraviolet irradiator so that the integrated light amount was 200 mJ / cm 2 in the wavelength range of 300 to 390 nm. The hard coat agent (H 1 ) is cured by this ultraviolet irradiation to form a hard coat layer (h 1 ) having a thickness of 3 ⁇ m, and a multilayer film (m 1 h 1 ) in which the hard coat layer (h) is laminated on one side is manufactured. did.
  • the produced multilayer film (m 1 h 1 ) has a four-layer structure of (f 1 ) / (e 1 ) / (f 1 ) / (h 1 ), a width of 230 mm, a total thickness of 43 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m). / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m / 3 ⁇ m).
  • in-plane retardation (Re) was 0.9 nm
  • the light transmittance was 2.3% at 380 nm
  • the moisture permeability was 1.6 g / m 2 ⁇ 24 h.
  • Re (birefringence), light transmittance (ultraviolet ray shielding performance), and moisture permeability (water vapor shielding property) were all sufficiently small values.
  • the scratch hardness of the surface was 2H, and evaluation was favorable (X). The evaluation results are summarized in Table 2.
  • Example 2 Multilayer film (m 2 h 1 ) [Manufacture of laminated film (m 2 )] Instead of the resin composition (E 1), except for using pellets of the resin composition (E 2), the same procedure as in Example 1, the resin composition layer containing (E 2) (e 2) the intermediate A two-layer, three-layer film (m 2 ) in which a resin layer (f 1 ) containing a layer, a ring-opening metathesis polymer hydrogenated polymer (F 1 ) forms a surface layer was produced.
  • the manufactured laminated film (m 2 ) has a three-layer structure of (f 1 ) / (e 2 ) / (f 1 ), and has a width of 230 mm and a total thickness of 40 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m). It was.
  • the produced multilayer film (m 2 h 1 ) has a four-layer structure of (f 1 ) / (e 2 ) / (f 1 ) / (h 1 ), a width of 230 mm, and a total thickness of 43 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m). / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m / 3 ⁇ m).
  • the manufactured multilayer film (m 2 h 1 ) was used to evaluate birefringence, ultraviolet shielding performance, water vapor shielding properties, and surface scratch resistance. The evaluation results are summarized in Table 2.
  • Multilayer film (m 3 h 1 ) [Manufacture of laminated film (m 3 )] Except using polystyrene (F 2 ) (manufactured by PS Japan, “PSJ-polystyrene (registered trademark) HF77”) instead of the ring-opening metathesis polymer hydrogenated polymer (F 1 ) as the thermoplastic resin, Examples In the same manner as in Example 1, the layer (e 1 ) containing the resin composition (E 1 ) is an intermediate layer, and the resin layer (f 2 ) containing polystyrene (F 2 ) forms a surface layer. m 3 ) was produced.
  • the manufactured laminated film (m 3 ) has a three-layer structure of (f 2 ) / (e 1 ) / (f 2 ), and has a width of 230 mm and a total thickness of 40 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m). It was.
  • the produced multilayer film (m 3 h 1 ) has a four-layer structure of (f 2 ) / (e 1 ) / (f 2 ) / (h 1 ), a width of 230 mm, and a total thickness of 43 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m). / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m / 3 ⁇ m).
  • the manufactured multilayer film (m 3 h 1 ) was used to evaluate birefringence, ultraviolet shielding performance, water vapor shielding properties, and surface scratch resistance. The evaluation results are summarized in Table 2.
  • Example 4 Multilayer film (m 4 h 1 ) [Manufacture of laminated film (m 4 )] Instead of the resin composition (E 1), except for using the resin composition (E 3), the same procedure as in Example 1, a layer comprising a resin composition (E 3) (e 3) an intermediate layer, A two-layer three-layer laminated film (m 4 ) in which the resin layer (f 1 ) containing the ring-opening metathesis polymer hydrogenated polymer (F 1 ) forms a surface layer was produced.
  • the manufactured laminated film (m 4 ) has a three-layer structure of (f 1 ) / (e 3 ) / (f 1 ), and has a width of 230 mm and a total thickness of 40 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m). It was.
  • the produced multilayer film (m 4 h 1 ) has a four-layer structure of (f 1 ) / (e 3 ) / (f 1 ) / (h 1 ), a width of 230 mm, a total thickness of 43 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m). / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m / 3 ⁇ m).
  • the manufactured multilayer film (m 3 h 1 ) was used to evaluate birefringence, ultraviolet shielding performance, water vapor shielding properties, and surface scratch resistance. The evaluation results are summarized in Table 2.
  • Multilayer film (m 5 h 1 ) [Manufacture of laminated film (m 5 )] Instead of the resin composition (E 1), except for using the resin composition of (E 4), the same procedure as in Example 1, the layer containing resin composition (E 4) (e 4) an intermediate layer, A two-layer three-layer laminated film (m 5 ) in which the resin layer (f 1 ) containing the ring-opening metathesis polymer hydrogenated polymer (F 1 ) forms a surface layer was produced.
  • the produced laminated film (m 5 ) has a three-layer structure of (f 1 ) / (e 4 ) / (f 1 ), and has a width of 230 mm and a total thickness of 40 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m). It was.
  • Multilayer film (m 6 h 1 ) [Manufacture of laminated film (m 6 )] Except using the resin composition (E 5) in place of the resin composition (E 1), the same procedure as in Example 1, the resin composition layer containing (E 5) (e 5) an intermediate layer, open A two-layer / three-layer laminated film (m 6 ) in which the resin layer (f 1 ) containing the ring metathesis polymer hydrogenated polymer (F 1 ) forms a surface layer was produced.
  • the manufactured laminated film (m 6 ) has a three-layer structure of (f 1 ) / (e 5 ) / (f 1 ), and has a width of 230 mm and a total thickness of 40 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m). It was.
  • the produced multilayer film (m 6 h 1 ) has a four-layer structure of (f 1 ) / (e 5 ) / (f 1 ) / (h 1 ), a width of 230 mm, a total thickness of 43 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m). / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m / 3 ⁇ m).
  • the manufactured multilayer film (m 6 h 1 ) was used to evaluate birefringence, ultraviolet shielding performance, water vapor shielding properties, and surface scratch resistance. The evaluation results are summarized in Table 2.
  • the produced laminated film (m 7 ) has a three-layer structure of (d 1 ) / (e 1 ) / (d 1 ), and has a width of 230 mm and a total thickness of 40 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m). It was.
  • the laminated film (m 7 ) produced without laminating the hard coat layer (h) was used to evaluate birefringence, ultraviolet shielding performance, water vapor shielding properties, and surface scratch resistance. The evaluation results are summarized in Table 2.
  • Multilayer film (m 7 h 1 ) [Manufacture of multilayer film (m 7 h 1 ) having hard coat layer (h 1 )]
  • a multilayer film (m 7 h 1 ) in which a hard coat layer (h 1 ) was laminated on one side was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminated film (m 7 ) produced in Comparative Example 2 was used.
  • the produced multilayer film (m 7 h 1 ) has a four-layer structure of (d 1 ) / (e 1 ) / (d 1 ) / (h 1 ), a width of 230 mm, a total thickness of 43 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m).
  • the manufactured multilayer film (m 7 h 1 ) was used to evaluate birefringence, ultraviolet shielding performance, water vapor shielding properties, and surface scratch resistance. The evaluation results are summarized in Table 2.
  • the manufactured laminated film (m 8 ) has a three-layer structure of (d 4 ) / (e 4 ) / (d 4 ), and has a width of 230 mm and a total thickness of 40 ⁇ m (each layer thickness: 10 ⁇ m / 20 ⁇ m / 10 ⁇ m). It was.
  • the laminated film (m 8 ) produced without laminating the hard coat layer (h) was used to evaluate birefringence, ultraviolet shielding performance, water vapor shielding properties (moisture permeability), and surface scratch resistance. The evaluation results are summarized in Table 2.
  • a layer (e) containing a resin composition (E) in which a block copolymer hydride (D) is blended with an ultraviolet absorber is used as an intermediate layer, and a resin layer (d) containing a block copolymer hydride (D) (d) )
  • a surface layer is easily scratched (Comparative Examples 2 and 4).
  • the moisture permeability is relatively low and the birefringence is the smallest and excellent, but the surface scratch hardness is as low as 6B or less.
  • a layer (e) containing a resin composition (E) in which an ultraviolet absorber is blended with a block copolymer hydride (D) is an intermediate layer, and a resin layer (d) containing a block copolymer hydride (D) is a surface layer.
  • a resin composition (E) in which an ultraviolet absorber is blended with a block copolymer hydride (D) is an intermediate layer
  • a resin layer (d) containing a block copolymer hydride (D) is a surface layer.
  • a layer (e) containing a resin composition (E) in which a block copolymer hydride (D) is blended with an ultraviolet absorber is used as an intermediate layer, and this is a thermoplastic resin (F
  • the scratch resistance is insufficient (Comparative Example 1).
  • the moisture permeability is the lowest and the birefringence is small and good, but the surface scratch hardness is 2B and is easily damaged.
  • the surface scratch hardness is high, but it is insufficient.
  • a ring-opening metathesis polymer which is a thermoplastic resin (F), comprising a layer (e) containing a resin composition (E) in which an ultraviolet absorber is blended with a block copolymer hydride (D).
  • the scratch resistance becomes an acceptable level or more (Examples 1, 2, 4, 5).
  • the moisture permeability is the lowest, the birefringence is small and good, and the surface scratch hardness is as high as about H to 2H.
  • Resin containing polystyrene which is a thermoplastic resin (F) having high hardness as a layer (e) containing a resin composition (E) in which an ultraviolet absorber is blended with a block copolymer hydride (D).
  • the scratch resistance is greatly improved (Example 3).
  • Moisture permeability is high, but it is very low compared to triacetyl cellulose film, and birefringence is large, but it is well tolerated when used on the outermost surface side of a liquid crystal display, and surface scratch hardness is up to about 3H. Get higher.
  • the block copolymer hydride (D) used in the present invention when the weight average molecular weight Mw of the block copolymer (C) is substantially the same, Mw (A2) is converted to the block copolymer hydride (D).
  • Mw (A2) is converted to the block copolymer hydride (D).
  • the multilayer film of the present invention is a multilayer film containing a specific block copolymer hydride having a small birefringence, excellent ultraviolet shielding performance and water vapor shielding properties, and improved surface scratch resistance. Yes, it is useful as an optical film such as a polarizer protective film for a polarizing film.

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Abstract

本発明は、複屈折が小さく、優れた紫外線遮蔽性能と水蒸気遮蔽性を有し、表面硬度が高く、傷付き難い、偏光板保護フィルムに好適な多層フィルムの提供を目的とする。本発明の多層フィルムは、特定のブロック共重合体水素化物（Ｄ）１００重量部に対して、紫外線吸収剤１．０～１５．０重量部が配合されてなる樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）と、該層（ｅ）の少なくとも１方の面に積層された、特定の熱可塑性樹脂（Ｆ）を含む樹脂層（ｆ）と、少なくとも１つの樹脂層（ｆ）の、層（ｅ）に接する面と反対側の面に積層されたハードコート層（ｈ）を含む。

Description

多層フィルム
　本発明は、特定のブロック共重合体水素化物に紫外線吸収剤が配合された樹脂組成物を含む層に、特定の熱可塑性樹脂層及びハードコート層が積層された多層フィルムに関する。
　芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする重合体ブロックと、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を含む重合体ブロックを含むブロック共重合体の、芳香環及びジエン由来の二重結合を水素化したブロック共重合体水素化物は、透明性、低複屈折性、耐熱性、低吸湿性等に優れること、及び、このものを押出し成形することによって得られるフィルムは、液晶表示装置の偏光フィルムや位相差フィルム等の光学フィルムとして有用であることは既に開示されている（特許文献１～５）。
　液晶表示装置では、液晶パネル表面を形成するガラス基板の両側に偏光フィルムが配置される。一般的な偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素等の二色性材料を含む偏光子の両面に、トリアセチルセルロース等を用いた偏光子保護フィルムを貼り合わせて構成されている。
　上記偏光子保護フィルムは、紫外線に晒されると分解が促進され、強度低下を引き起こすと同時に、変色により透明度が低下するという問題を有する。そのため、偏光子保護フィルムには、偏光子を紫外線による劣化から防ぐ目的で、紫外線吸収性能が必要とされている。偏光子保護フィルムに紫外線吸収性能を付与する方法としては、偏光子保護フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム中に紫外線吸収剤を添加する方法が一般的である。
　しかしながら、トリアセチルセルロースは耐湿熱性が十分でなく、トリアセチルセルロースフィルムを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板を、高温又は高湿下において使用すると、偏光度や色相等の偏光板としての性能が低下するという問題があった。
　一方、特許文献６、７には、特定のブロック共重合体水素化物に紫外線吸収剤を配合した中間層と、紫外線吸収剤を含まない外層とから構成される、複屈折が小さく、紫外線遮蔽性能、耐衝撃性に優れ、表面荒れが少なく面状の優れた多層フィルムが開示されている。
　特許文献６には、取扱い時や保存、運搬時にブロック共重合体水素化物を含むフィルムの傷等を防止するために、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、水素化ノルボルネン重合体及びメタクリル酸エステル系重合体等の他樹脂を含む保護層を積層した多層フィルムが開示されている。また、特許文献６には、この多層フィルムでは、ブロック共重合体水素化物を含むフィルムを目的の光学用途に使用する際には、他樹脂を含む保護層は剥離して除去されるものであることが記載されている。
　さらに、特許文献６には、ブロック共重合体水素化物を含むフィルムにハードコート層を積層できることも記載されている。
　しかしながら、特許文献６に開示された特定のブロック共重合体水素化物を含むフィルムを用いて得られる光学フィルムは、表面硬度が低く、傷が付き易いという問題があった。また、このブロック共重合体水素化物を含むフィルムに直接ハードコート層を積層した場合は、表面硬度が十分に高められない場合があった。
　また、特許文献７には、特定のブロック共重合体水素化物にアルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物に対して、紫外線吸収剤を特定量配合した樹脂組成物からなる層が積層された多層フィルムが記載されている。また、特許文献７には、この文献に記載された多層フィルムは、優れた紫外線吸収性能と機械的強度を有し、表面荒れが少なく、面状の優れた光学フィルムに適することも記載されている。
　しかしながら、特許文献７に開示されたブロック共重合体水素化物を含むフィルムを用いて得られる光学フィルムは、フィルムの表面硬度が低く、傷が付き易いという問題があった。
　以上のように、従来公知のブロック共重合体水素化物を含むフィルムを偏光子保護フィルムとして液晶ディスプレイの表面側に使用するためには、フィルムの表面硬度を高め、傷付きを防止することが必要であった。
特開２００２－１０５１５１号公報 特開２００３－１１４３２９号公報 特開２００６－１９５２４２号公報 国際公開第２００９／０６７２９０号 国際公開第２００９／１３７２７８号 特開２０１１－１３３７８号公報 国際公開第２０１５／１０５１２７号
　本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであり、複屈折が小さく、優れた紫外線遮蔽性能と水蒸気遮蔽性を有し、表面硬度が高く、傷付き難い、偏光板保護フィルムに好適な多層フィルムを提供することを目的とする。
　本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定のブロック共重合体水素化物に所定量の紫外線吸収剤を配合してなる樹脂組成物を含む層（以下、「層（ｅ）」ということがある。）に、表面硬度が良好且つ透明な他の熱可塑性樹脂を含む層（以下、「樹脂層（ｆ）」ということがある。）を積層し、さらに樹脂層（ｆ）の表面にハードコート層（以下、「ハードコート層（ｈ）」ということがある。）を積層することにより、複屈折が小さく、優れた紫外線遮蔽性能と水蒸気遮蔽性とを有し、表面の耐傷付き性が改良された多層フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
　かくして本発明によれば、下記（１）～（３）の多層フィルムが提供される。
（１）（ｉ）芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも２つの重合体ブロック（Ａ）と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも１つの重合体ブロック（Ｂ）とを含むブロック共重合体であって、全重合体ブロック（Ａ）及び全重合体ブロック（Ｂ）がブロック共重合体（Ｃ）に占める重量分率をｗＡ及びｗＢとしたときに、ｗＡとｗＢとの比ｗＡ：ｗＢが６０：４０～９０：１０であるブロック共重合体（Ｃ）の、主鎖及び側鎖の炭素－炭素不飽和結合及び芳香環の炭素－炭素不飽和結合の９０％以上を水素化したブロック共重合体水素化物（Ｄ）１００重量部に対して、
　紫外線吸収剤が１．０重量部以上１５．０重量部以下配合されてなる樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）と、
（ｉｉ）層（ｅ）の１方の面又は両面に積層された、ポリエステル、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、スチレン共重合体及び（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体からなる群より選ばれる１種類以上の熱可塑性樹脂（Ｆ）を含む樹脂層（ｆ）と、
（ｉｉｉ）少なくとも１つの樹脂層（ｆ）の、層（ｅ）に接する面と反対側の面に積層されたハードコート層（ｈ）と
を含むことを特徴とする多層フィルム。
（２）前記ブロック共重合体（Ｃ）が、重量平均分子量（Ｍｗ）が、４０，０００以上１００，０００以下であるとともに、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする２つの重合体ブロック（Ａ１）と重合体ブロック（Ａ２）がそれぞれブロック共重合体（Ｃ）の両末端を形成し、重合体ブロック（Ａ１）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ１）が２０，０００以上８０，０００以下であり、重合体ブロック（Ａ２）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ２）が４，０００以上７，０００以下であることを特徴とする、（１）に記載の多層フィルム。
（３）ハードコート層（ｈ）が積層された面の、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４に規定する引っかき硬度がＨ以上であることを特徴とする、（１）又は（２）に記載の多層フィルム。
　本発明によれば、複屈折が小さく、優れた紫外線遮蔽性能と水蒸気遮蔽性とを有し、表面の耐傷付き性が改良された、光学用フィルムに好適な、特定のブロック共重合体水素化物を含む多層フィルムが提供される。
　本発明の多層フィルムは、所定のブロック共重合体水素化物（Ｄ）および紫外線吸収剤を含む樹脂組成物（Ｅ）を用いて形成される層（ｅ）と、層（ｅ）の少なくとも１方の面に積層された、所定の熱可塑性樹脂（Ｆ）を含む樹脂層（ｆ）と、少なくとも１つの樹脂層（ｆ）の、層（ｅ）に接する面と反対側の面に積層されたハードコート層（ｈ）とを含む。
　以下、本発明を、１）ブロック共重合体水素化物（Ｄ）、２）樹脂組成物（Ｅ）、３）熱可塑性樹脂（Ｆ）、及び、４）多層フィルムに項分けして詳細に説明する。
１）ブロック共重合体水素化物（Ｄ）
　本発明の多層フィルムにおいて、層（ｅ）の形成に使用するブロック共重合体水素化物は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも２つの重合体ブロック（Ａ）と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも１つの重合体ブロック（Ｂ）とを所定の重量比率で含む特定のブロック共重合体（Ｃ）（以下、「ブロック共重合体（Ｃ）」ということがある。）の、主鎖及び側鎖の炭素－炭素不飽和結合及び芳香環の炭素－炭素不飽和結合を水素化して得られる高分子（以下、「ブロック共重合体水素化物（Ｄ）」ということがある。）である。
〔重合体ブロック（Ａ）〕
　重合体ブロック（Ａ）は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とするものである。重合体ブロック（Ａ）中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位の含有量は、通常９０重量％以上、好ましくは９５重量％以上、より好ましくは９９重量％以上であり、また、１００重量％以下である。重合体ブロック（Ａ）中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位の含有量が上記範囲にあると、本発明の多層フィルムは耐熱性が高くなるため好ましい。
　また、重合体ブロック（Ａ）は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位以外の構造単位を含んでいてもよい。重合体ブロック（Ａ）中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位以外の構造単位としては、鎖状共役ジエン由来の構造単位及び／又はその他のビニル化合物由来の構造単位が挙げられる。重合体ブロック（Ａ）中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位以外の構造単位の含有量は、通常１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、より好ましくは１重量％以下である。
　なお、複数の重合体ブロック（Ａ）各々に含まれる構造単位の種類及び含有量は、互いに同じであっても、相異なっていても良い。
　また、複数の重合体ブロック（Ａ）の重量平均分子量は、互いに同じであっても、相異なっていても良い。例えば、ブロック共重合体（Ｃ）の両末端を形成する重合体ブロック（Ａ１）と重合体ブロック（Ａ２）の重量平均分子量は、互いに同じであっても、相異なっていても良い。そして、重合体ブロック（Ａ１）と重合体ブロック（Ａ２）の重量平均分子量をそれぞれＭｗ（Ａ１）及びＭｗ（Ａ２）とすると、ブロック共重合体（Ｃ）の重量平均分子量を特定範囲とした場合、Ｍｗ（Ａ１）及びＭｗ（Ａ２）の一方（例えばＭｗ（Ａ２））をブロック共重合体水素化物（Ｄ）の機械的強度が維持できる範囲内で小さくして、他方（例えばＭｗ（Ａ１））を大きくすることにより、得られるブロック共重合体水素化物（Ｄ）の粘弾性特性における貯蔵弾性率を高めることができる。これにより、本発明の多層フィルムの表面硬度を高めることができるため好ましい。
　上述した効果を得る観点からは、Ｍｗ（Ａ１）は、好ましくは２０，０００以上８０，０００以下、より好ましくは２３，０００以上６５，０００以下、更に好ましくは２５，０００以上５５，０００以下であり、Ｍｗ（Ａ２）は、好ましくは４，０００以上７，０００以下、より好ましくは、４，２００以上６，０００以下、更に好ましくは４，５００以上５，５００以下である。
〔重合体ブロック（Ｂ）〕
　重合体ブロック（Ｂ）は、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とするものである。重合体ブロック（Ｂ）中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位の含有量は、通常９０重量％以上、好ましくは９５重量％以上、より好ましくは９９重量％以上であり、また、１００重量％以下である。重合体ブロックＢ中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位の含有量が上記範囲にあると、本発明の多層フィルムは柔軟性を有し、耐衝撃性が良好になるため好ましい。
　また、重合体ブロック（Ｂ）は、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位以外の構造単位を含んでいてもよい。重合体ブロック（Ｂ）中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位以外の成分としては、芳香族ビニル化合物由来の構造単位及び／又はその他のビニル化合物由来の構造単位が挙げられる。重合体ブロック（Ｂ）中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位以外の構造単位の含有量は、通常１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、より好ましくは１重量％以下である。
　なお、重合体ブロック（Ｂ）が複数ある場合には、複数の重合体ブロック(Ｂ）各々に含まれる構造単位の種類及び含有量は、互いに同じであっても、相異なっていても良い。また、複数の重合体ブロック（Ｂ）の重量平均分子量は、互いに同じであっても、相異なっていても良い。
　ここで、重合体ブロック（Ｂ）中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位（及び、重合体ブロック（Ａ）中に任意に含まれる鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位）は、鎖状共役ジエン化合物の重合反応における鎖状共役ジエン化合物の反応部位によって、１，２－付加重合由来の構造単位、３，４－付加重合由来の構造単位、及び１，４－付加重合由来の構造単位のいずれであってもよい。
　鎖状共役ジエン化合物を付加重合させると鎖状共役ジエン化合物の重合反応部位によって、１，２－付加重合由来の繰返し単位、３，４－付加重合由来の繰返し単位、及び１，４－付加重合由来の繰返し単位のいずれかが形成される。例えば、鎖状共役ジエン化合物としてイソプレンを用いた場合、１，２－付加重合によって、（１－メチル－１－ビニル）エチレンで示される繰返し単位が形成され、３，４－付加重合によって、１－イソプロペニルエチレンで示される繰返し単位が形成され、１，４－付加重合によって、２－メチル－２－ブテニレンで示される繰返し単位が形成される。
　重合体ブロック（Ｂ）（及び重合体ブロック（Ａ））中の、鎖状共役ジエン化合物由来の繰返し単位中の１，２－付加重合、３，４－付加重合、及び１，４－付加重合した繰返し単位の割合は、赤外分析法を用い、モレロ法により算出することができる。
　例えば、鎖状共役ジエン化合物としてイソプレンを用いた場合、１，２－付加重合由来の構造単位とは、下記式（１）で表される構造単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　３，４－付加重合由来の構造単位とは、下記式（２）で表される構造単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　また、１，４－付加重合して得られる構造単位とは、下記式（３ａ）又は式（３ｂ）で表される構造単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
〔芳香族ビニル化合物〕
　ここで、上述した重合体ブロック（Ａ）の形成及び任意に上述した重合体ブロック（Ｂ）の形成に用いられる芳香族ビニル化合物としては、スチレン；α－メチルスチレン、２－メチルスチレン、３－メチルスチレン、４－メチルスチレン、２，４－ジイソプロピルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、４－ｔ－ブチルスチレン、５－ｔ－ブチル－２－メチルスチレン等のアルキル基を置換基として有するスチレン類；４－モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、４－モノフルオロスチレン等のハロゲン原子を置換基として有するスチレン類；４－メトキシスチレン、３，５－ジメトキシスチレン等のアルコキシ基を置換基として有するスチレン類；４－フェニルスチレン等のアリール基を置換基として有するスチレン類；等が挙げられる。これらの中でも、吸湿性の観点から極性基を有しないものが好ましく、工業的な入手の容易さからスチレンが特に好ましい。
〔鎖状共役ジエン系化合物〕
　また、上述した重合体ブロック（Ｂ）の形成及び任意に上述した重合体ブロック（Ａ）の形成に用いられる鎖状共役ジエン系化合物としては、吸湿性の観点から極性基を有しないものが好ましい。極性基を有しない鎖状共役ジエン系化合物としては、例えば、１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、１，３－ペンタジエン等が挙げられる。これらの中でも、工業的な入手の容易さから１，３－ブタジエン、イソプレンが特に好ましい。
〔その他のビニル化合物〕
　そして、重合体ブロック（Ａ）及び／又は重合体ブロック（Ｂ）の形成に、任意に用いられる、芳香族ビニル化合物および鎖状共役ジエン系化合物以外のビニル化合物（その他のビニル化合物）としては、鎖状オレフィン、環状オレフィン、鎖状ビニル化合物、環状ビニル化合物、不飽和の環状酸無水物、及び不飽和イミド化合物等が挙げられる。これらのビニル化合物は、ニトリル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基又はハロゲン原子を置換基として有していてもよい。これらの中でも、吸湿性の観点から極性基を有しないものが好ましく、鎖状オレフィン及び環状オレフィンがより好ましい。好適なビニル化合物の具体例としては、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン、１－ノネン、１－デセン、１－ドデセン、１－エイコセン、４－メチル－１－ペンテン、４，６－ジメチル－１－ヘプテン等の鎖状オレフィン；ビニルシクロヘキサン等の環状オレフィン；等が挙げられ、鎖状オレフィンがさらに好ましく、エチレン、プロピレンが特に好ましい。
〔ブロック共重合体（Ｃ）〕
　ブロック共重合体（Ｃ）中の重合体ブロック（Ａ）の数は、少なくとも２個であり、通常３個以下、好ましくは２個である。また、ブロック共重合体（Ｃ）中の重合体ブロック（Ｂ）の数は、少なくとも１個であり、通常２個以下、好ましくは１個である。ブロック共重合体（Ｃ）のブロックの形態は、鎖状型ブロックでもラジアル型ブロックでも良いが、鎖状型ブロックであるものが、機械的強度に優れ好ましい。
　ここで、ブロック共重合体（Ｃ）の好ましい形態は、重合体ブロック（Ｂ）の両端に重合体ブロック（Ａ１）及び重合体ブロック（Ａ２）が結合したトリブロック共重合体（Ａ１）－（Ｂ）－（Ａ２）、及び、重合体ブロック（Ａ３）の両端に重合体ブロック（Ｂ１）及び重合体ブロック（Ｂ２）が結合し、更に、重合体ブロック（Ｂ１）及び重合体ブロック（Ｂ２）の他端（すなわち、重合体ブロック（Ａ３）に結合していない側の端）にそれぞれ重合体ブロック（Ａ１）及び重合体ブロック（Ａ２）が結合したペンタブロック共重合体（Ａ１）－（Ｂ１）－（Ａ３）－（Ｂ２）－（Ａ２）である。これらの中でも、耐熱性、成形加工性及び機械的強度の観点からトリブロック共重合体が最も好ましい。
　全重合体ブロック（Ａ）がブロック共重合体（Ｃ）に占める重量分率をｗＡ（重量％）とし、全重合体ブロック（Ｂ）がブロック共重合体（Ｃ）に占める重量分率をｗＢ（重量％）としたときに、ｗＡとｗＢとの比ｗＡ：ｗＢは、６０：４０～９０：１０であることが必要であり、好ましくは６５：３５～８８：１２、より好ましくは７０：３０～８５：１５である。ｗＡが大き過ぎる場合は、本発明で使用するブロック共重合体水素化物（Ｄ）の機械的強度及び柔軟性が低下し、多層フィルムが割れ易くなるおそれがある。また、ｗＡが小さ過ぎる場合は、多層フィルムにした場合でも表面硬度が不十分となるおそれがある。
　ブロック共重合体（Ｃ）の分子量は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常４０，０００以上１００，０００以下、好ましくは４５，０００以上８０，０００以下、より好ましくは５０，０００以上７０，０００以下である。また、ブロック共重合体（Ｃ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下である。
　ブロック共重合体（Ｃ）のＭｗが４０，０００以上であれば、得られるブロック共重合体水素化物（Ｄ）の粘弾性特性における貯蔵弾性率が過度に低下することもなく、本発明の多層フィルムにした場合に表面硬度を十分に確保することができる。一方、ブロック共重合体（Ｃ）のＭｗが１００，０００以下であれば、得られるブロック共重合体水素化物（Ｄ）の溶融粘度が過度に高くなることもなく、溶融成形温度での熱分解による低分子量体の生成に起因するブロック共重合体水素化物（Ｄ）成形体の貯蔵弾性率の低下を抑制し、本発明の多層フィルムの表面硬度を十分に確保することができる。
　ブロック共重合体（Ｃ）の製造方法としては、ブロック共重合体の製造方法として従来公知の方法が採用できる。なかでも、リビングアニオン重合等の方法により、芳香族ビニル化合物を主成分とするモノマーと鎖状共役ジエン系化合物を主成分とするモノマーを交互に重合させる方法が有利である。この方法によれば、Ｍｗ（Ａ１）とＭｗ（Ａ２）を所望の異なる大きさに制御することも容易である。
〔ブロック共重合体水素化物（Ｄ）〕
　ブロック共重合体水素化物（Ｄ）は、上記のブロック共重合体（Ｃ）の主鎖及び側鎖の炭素－炭素不飽和結合、並びに芳香環の炭素－炭素不飽和結合を水素化して得られるものである。その水素化率は９０％以上であることが必要であり、好ましくは９７％以上、より好ましくは９９％以上である。
　なお、ブロック共重合体（Ｃ）の主鎖及び側鎖の炭素－炭素不飽和結合の水素化率は、９７％以上であることが好ましく、９９％以上であることがより好ましい。また、ブロック共重合体（Ｃ）の芳香環の炭素－炭素不飽和結合の水素化率は、９７％以上であることが好ましく、９９％以上であることがより好ましい。
　水素化率が高いほど、成形したフィルムの耐光性、耐熱性が良好である。ブロック共重合体水素化物（Ｄ）の水素化率は、１Ｈ－ＮＭＲによる測定において求めることができる。
　ここで、ブロック共重合体（Ｃ）の不飽和結合の水素化方法や反応形態等は特に限定されず、公知の方法にしたがって行えばよいが、水素化率を高くでき、重合体鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましい。このような水素化方法としては、例えば、国際公開第２０１１／０９６３８９号、国際公開第２０１２／０４３７０８号等に記載された方法を挙げることができる。
　上記した方法で得られるブロック共重合体水素化物（Ｄ）は、水素化触媒及び／又は重合触媒を、ブロック共重合体水素化物（Ｄ）を含む反応溶液から除去した後、反応溶液から回収することができる。回収されたブロック共重合体水素化物（Ｄ）の形態は限定されるものではないが、通常はペレット形状にして、その後のフィルムの成形加工に供することができる。
　ブロック共重合体水素化物（Ｄ）の分子量は、ＴＨＦを溶媒としたＧＰＣにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常４０，０００以上１００，０００以下、好ましくは４５，０００以上８０，０００以下、より好ましくは５０，０００以上７０，０００以下である。
　また、ブロック共重合体水素化物（Ｄ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下である。Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎが上記範囲となるようにすると、成形したフィルムの耐熱性や機械的強度が維持される。
　また本発明で使用するブロック共重合体水素化物（Ｄ）は、例えば、国際公開第２００１／０７０８３３号、国際公開第２０１２／０４３７０８号に記載された方法等により、酸無水物基やアルコキシシリル基等の官能基が導入されたブロック共重合体水素化物（Ｄ）であってもよい。
２）樹脂組成物（Ｅ）
　本発明に使用する樹脂組成物は、上述したブロック共重合体水素化物（Ｄ）１００重量部に対して、紫外線吸収剤を、１．０重量部以上１５．０重量部以下、好ましくは２．０重量部以上１２．０重量部以下、より好ましくは３．０重量部以上９．０重量部以下配合して得られる組成物（以下、「樹脂組成物（Ｅ）」ということがある。）である。紫外線吸収剤の配合量がこの範囲内であれば、光学用フィルムにした場合に効率的に紫外線を遮断することができ、可視光領域の透明性は維持され、色調を悪化させることがないため好ましい。
　本発明の多層フィルムにおいては、前記樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）は、紫外線遮蔽の観点からは波長３８０ｎｍでの透過率が８％以下であることが好ましく、４％以下がさらに好ましく、１％以下であることが特に好ましい。
　本発明に用いる紫外線吸収剤としては、例えば、
２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、
２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、
２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン－５－スルホン酸３水和物、
２－ヒドロキシ－４－オクチロキシベンゾフェノン、
４－ドデカロキシ－２－ヒドロキシベンゾフェノン、
４－ベンジルオキシ－２－ヒドロキシベンゾフェノン、
２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、
２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；
フェニルサルチレート、
４－ｔ－ブチルフェニル－２－ヒドロキシベンゾエート、
フェニル－２－ヒドロキシベンゾエート、
２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、
ヘキサデシル－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート等のサリチル酸系紫外線吸収剤；
２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、
２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、
２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
２－（３－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
２－（３，５－ジクミル－２－ヒドロキシフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
５－クロロ－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
２－（３，５－ジ－ｔ－アミル－２－ヒドロキシフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
２－（２－ヒドロキシ－５－ｔ－オクチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
２－（２－ヒドロキシ－４－オクチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、
２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－メチル－６－（３，４，５，６－テトラヒドロフタリミジルメチル）フェノール、
２，２’－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－［（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］］等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；
２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－（オクチルオキシ）フェノール、
２，４－ビス［２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル］－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤；
等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　これらの中でも、紫外線吸収性（特に波長３８０ｎｍ付近での紫外線吸収性）に優れる点で、２－（３－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２，２’－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－［（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］］、２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール等が好ましい。
　前記樹脂組成物（Ｅ）には、紫外線吸収剤以外のその他の配合剤を配合することができる。その他の配合剤としては、光安定剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤等が挙げられる。これらは１種単独で、あるいは２種以上を併用して配合してもよい。
　光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤が好ましい。ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、分子構造中に、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル基、２，２，６，６－テトラメチルピペリジル基、あるいは、１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル基等を有する化合物が挙げられる。
　酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、フェノ－ル系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。
　酸化防止剤の具体例としては、ペンタエリスリチル・テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２－チオ－ジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９－ビス｛２－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロオニルオキシ］－１，１－ジメチルエチル｝－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。
　なお、酸化防止剤を用いる場合、その配合量は、ブロック共重合体水素化物（Ｄ）１００重量部に対して、通常０．０１重量部以上１重量部以下、好ましくは０．０５重量部以上０．９重量部以下、より好ましくは０．１重量部以上０．８重量部以下である。酸化防止剤の量がこの範囲であれば、樹脂組成物（Ｅ）の耐熱安定性が優れるため、好ましい。
　なお、酸化防止剤を除いたその他の配合剤の配合量は、ブロック共重合体水素化物（Ｄ）１００重量部に対して、通常０．０１重量部以上１重量部以下、好ましくは０．０５重量部以上０．９重量部以下、より好ましくは０．１重量部以上０．８重量部以下である。
　ブロック共重合体水素化物（Ｄ）に、紫外線吸収剤及び任意に使用されるその他の配合剤を配合して樹脂組成物（Ｅ）を製造する方法としては、例えば、ブロック共重合体水素化物（Ｄ）に紫外線吸収剤及び任意にその他の配合剤を混合した後、二軸混錬機、ロール、ブラベンダー、押出機等でブロック共重合体水素化物（Ｄ）を溶融状態にして均一に混練する方法が挙げられる。
３）熱可塑性樹脂（Ｆ）
　本発明で使用する熱可塑性樹脂（以下、「熱可塑性樹脂（Ｆ）」ということがある。）は、上記の樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）の１方の面もしくは両面に積層される樹脂層（ｆ）を形成し、多層フィルムの表面硬度を高めるための樹脂である。
　熱可塑性樹脂（Ｆ）としては、透明性に優れ、表面硬度が高い樹脂が好ましい。熱可塑性樹脂（Ｆ）の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ノルボルネン系多環モノマー類の開環メタセシス重合体水素化物、ノルボルネン及び／又はノルボルネン系多環モノマー類とエチレンとの付加共重合体等のシクロオレフィンポリマー；ポリスチレン；スチレン・メタクリル酸エステル共重合体、スチレン・アクリロニトリル共重合体等のスチレン共重合体（スチレンと他の単量体との共重合体）；ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸エステル（共）重合体等の（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体；が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　なお、本発明において、「（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体」とは、１種類の（メタ）アクリル酸エステルを用いて得られる単独重合体及び／又は複数種類の（メタ）アクリル酸エステルを用いて得られる共重合体を意味する。
　また、本発明において、「メタクリル酸エステル（共）重合体」とは、１種類のメタクリル酸エステルを用いて得られる単独重合体及び／又は複数種類のメタクリル酸エステルを用いて得られる共重合体を意味する。
　そして、本発明において、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及び／又はメタクリルを意味する。
　これらの内、フィルムに成形した場合に、表面硬度の改善に加えて低複屈折性の観点からはシクロオレフィンポリマー及び／又はメタクリル酸エステル（共）重合体が好ましく、防湿性の観点からはシクロオレフィンポリマー、ポリスチレン及び／又はスチレン共重合体が好ましい。これらの熱可塑性樹脂（Ｆ）は、例えば、工業的に市販されている樹脂を利用することができる。
４）多層フィルム
　本発明の多層フィルムは、層（ｅ）と、層（ｅ）の１方の面もしくは両面に積層された、樹脂層（ｆ）と、少なくとも１つの樹脂層（ｆ）の、前記層（ｅ）に接する面と反対側の面に積層されたハードコート層（ｈ）とを含むことを特徴とする。
〔層（ｅ）〕
　層（ｅ）は、樹脂組成物（Ｅ）を用いて形成される層であり、透明で複屈折が小さく、水蒸気遮蔽性に優れ、且つ、紫外線を遮蔽する機能を有する層である。
　層（ｅ）の厚みは、通常１０μｍ以上１５０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以上１００μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下である。
　層（ｅ）の厚みを前記範囲の下限以上にすると、例えば、偏光子の保護フィルムとして使用した際に水蒸気遮蔽性が良好である。また、偏光フィルムの破損防止等の取扱い性が向上する。一方、層（ｅ）の厚みを前記範囲の上限以下にすることで偏光フィルム全体の厚さを抑制することができるため好ましい。
〔樹脂層（ｆ）〕
　樹脂層（ｆ）は、熱可塑性樹脂（Ｆ）を含む層である。樹脂層（ｆ）中における熱可塑性樹脂（Ｆ）の含有量は、通常９５重量％以上、好ましくは９７重量％以上、より好ましくは９９重量％以上であり、１００重量％以下である。
　樹脂層（ｆ）中の熱可塑性樹脂（Ｆ）以外の成分としては、光安定剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤等が挙げられる。これらの具体例は、前記樹脂組成物（Ｅ）に配合することができるものとして列記したのと同様のものが挙げられる。そして、これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　樹脂層（ｆ）は、層（ｅ）の１方の面もしくは両面に積層し、多層フィルムの機械的強度、柔軟性を改善し、且つ、多層フィルムの表面傷付き性を改善する役割を果たす。また、多層フィルムの溶融押出し成形時に、樹脂層（ｆ）がキャストロールに接するように成形することにより、キャストロールの汚れ付着を防止でき、表面荒れが少なく面状の優れた光学用フィルムに好適な多層フィルムを得ることができる。
　樹脂層（ｆ）の厚みは、通常０．５μｍ以上４０μｍ以下、好ましくは１．０μｍ以上３０μｍ以下、より好ましくは１．５μｍ以上２０μｍ以下である。樹脂層（ｆ）の厚みを前記範囲の下限以上にすることで、多層フィルムの表面傷付き性を改善する効果を十分に発現させることができる。また、樹脂層（ｆ）の厚みを前記範囲の上限以下にすることで、多層フィルムの全体の厚さが厚くなり過ぎることもない。
　ここで、本発明の多層フィルムは、層（ｅ）と樹脂層（ｆ）の間に、さらに、接着剤層（ｇ）を有していてもよい。
　接着剤層（ｇ）としては、接着性、透明性、低複屈折性、および耐熱性の観点から、例えば、本発明の多層フィルムの層（ｅ）に使用しうる、アルコキシシリル基及び／又は酸無水物基が導入されたブロック共重合体水素化物（Ｄ）からなる層を好ましく使用できる。なお、接着剤層（ｇ）として上記ブロック共重合体水素化物（Ｄ）からなる層を用いる場合、当該層は、紫外線吸収剤を含有しないことが好ましい。
　本発明の多層フィルムが接着剤層（ｇ）を有する場合、接着剤層（ｇ）の厚みは、通常０．５μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは１μｍ以上７μｍ以下、より好ましくは１．５μｍ以上５μｍ以下である。
〔ハードコート層（ｈ）〕
　本発明の多層フィルムは、表面傷付き防止のため、樹脂層（ｆ）の、層（ｅ）と接する面と反対側の面にハードコート層（ｈ）が形成されている。ハードコート層（ｈ）を積層することで、多層フィルムの表面硬度、耐傷付き性を更に高めることができる。
　ここで、ハードコート層（ｈ）は、ハードコート剤（以下、「ハードコート剤（Ｈ）」ということがある。）を用いて形成される。ハードコート剤（Ｈ）は、ハードコート材料を含み、任意に、フィラー及びその他の添加剤を含む。
　ハードコート材料としては、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系等の有機ハードコート材料、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機ハードコート材料が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。このうち、オルガノポリシロキサン系等の有機シリコーン系や、多官能アクリレート系等のアクリル系の有機ハードコート材料が好ましい。さらには、接着力が良好であり、ハードコート層の生産性が良好であることから、多官能アクリレート系等のアクリル系ハードコート材料が特に好ましい。
　フィラーとしては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化二アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化錫（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素をドープした酸化錫（ＦＴＯ）が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　その他の添加剤としては、光重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤などの各種添加剤が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　なお、ハードコート剤（Ｈ）中のフィラーの含有量は、ハードコート材料１００重量部に対して、１００重量部以上５００重量部以下であることが好ましく、１５０重量部以上４００重量部以下であることがより好ましい。
　また、ハードコート剤（Ｈ）中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート材料（特には、有機ハードコート材料）１００重量部に対して、０．１重量部以上１０重量部以下であることが好ましく、０．５重量部以上５重量部以下であることがより好ましい。
　ハードコート層（ｈ）の厚みは、特に限定されないが、通常１μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは２μｍ以上８μｍ以下、より好ましくは３μｍ以上６μｍ以下程度である。
　本発明の多層フィルムでは、層（ｅ）の表面に、樹脂層（ｆ）が積層され、さらに樹脂層（ｆ）の最表面にハードコート層（ｈ）を積層することにより、ＪＩＳ　Ｋ５６６－５－４方法で測定した引っかき硬度（鉛筆法）を、Ｈ以上、好ましくは２Ｈ以上に改善することができる。
〔多層フィルムの製造方法〕
　本発明の多層フィルムの製造方法は、特に制限はなく、一般的な多層フィルムを製造する方法が適用できる。例えば、まず、層（ｅ）と樹脂層（ｆ）を有するがハードコート層（ｈ）を有さないフィルム（以下、「積層フィルム（ｍ）」ということがある。）を成形した後、得られた積層フィルム（ｍ）の樹脂層（ｆ）の、層（ｅ）と接する面と反対側の面にハードコート層（ｈ）を成膜することにより、本発明の多層フィルムを得ることができる。
　積層フィルム（ｍ）の製造方法に適用される成形法としては、例えば、２種３層多層共押出し成形法；接着剤層（ｇ）も含めた３種５層多層共押出し成形法；溶融押出し成形法等で成形された熱可塑性樹脂（Ｆ）を含むフィルム（樹脂層（ｆ））上に、樹脂組成物（Ｅ）を溶融押出しして、２種２層あるいは２種３層の積層フィルムとする押出しラミネート成形法；接着剤層（ｇ）も含めた３種３層あるいは３種５層の積層フィルムとする押出しラミネート成形法；等が適用できる。
　いずれの成形法においても、キャストロールの汚れ付着を防止するために、キャストロールには樹脂層（ｆ）が接触し、層（ｅ）がキャストロールに直接接触しないように押出し成形することが好ましい。
　シートの成形条件は、成形方法により適宜選択されるが、例えば溶融押出し成形法による場合は、樹脂温度は、通常１８０℃以上２５０℃以下、好ましくは１９０℃以上２４０℃以下、より好ましくは２００℃以上２３０℃以下の範囲で適宜選択される。樹脂温度が低過ぎる場合は、流動性が悪化し、成形された多層シートの表面平滑性が低下し易くなる。また、シートの押出し速度が上げられず工業生産性に劣る傾向がある。樹脂温度が高過ぎる場合は、ブロック共重合体水素化物（Ｄ）の熱安定性が不良となり、得られる多層フィルムの機械的強度が低下するおそれがある。
　本発明においては、樹脂組成物（Ｅ）及び熱可塑性樹脂（Ｆ）を押出機内で溶融させて、当該押出機に取り付けられたダイスから押出す前に、溶融状態の樹脂をギヤーポンプやフィルターに通すことが好ましい。ギヤーポンプを使用することにより、樹脂の押出量の均一性を向上させ、厚さむらを低減させることができる。また、フィルターを使用することにより、樹脂中の異物を除去し、欠陥の無い外観に優れた、光学用途に適した多層フィルムを得ることができる。
　次いで、ハードコート層（ｈ）を成膜する。ハードコート層（ｈ）を成膜する方法としては、特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、アクリル系ハードコート材料を含むハードコート剤（Ｈ）を塗布し、紫外線や電子線等によって架橋硬化させたり、シリコーン系、メラミン系、及び／又はエポキシ系のハードコート材料を含むハードコート剤（Ｈ）を塗布し、熱硬化させたりして行われる。
　本発明の多層フィルムの層構成としては、具体的には次のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ハードコート層（ｈ）／樹脂層（ｆ）／層（ｅ）、
ハードコート層（ｈ）／樹脂層（ｆ）／接着剤層（ｇ）／層（ｅ）、
ハードコート層（ｈ）／樹脂層（ｆ）／層（ｅ）／樹脂層（ｆ）、
ハードコート層（ｈ）／樹脂層（ｆ）／接着剤層（ｇ）／層（ｅ）／接着剤層（ｇ）／樹脂層（ｆ）
　本発明の多層フィルムは面内位相差（Ｒｅ）値が小さく、複屈折が小さいものである。本発明の多層フィルムの複屈折が小さいことは、例えば、本願明細書の実施例に記載の方法により測定して得た面内位相差（Ｒｅ）値が、好ましくは３ｎｍ以下、より好ましくは１ｎｍ以下であることから、確認することができる。
　また、本発明の多層フィルムは紫外線遮蔽性能に優れる。本発明の多層フィルムが紫外線遮蔽性能に優れることは、例えば、本願明細書の実施例に記載の方法により測定した波長３８０ｎｍでの多層フィルムの光線透過率が、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下であり、波長３００ｎｍでの多層フィルムの光線透過率が、好ましくは０．５％以下、より好ましくは０．１％以下であることから、確認することができる。
　そして、本発明の多層フィルムは水蒸気遮蔽性に優れる。本発明の多層フィルムが水蒸気遮断性に優れることは、例えば、本願明細書の実施例に記載の方法により測定した透湿度が、好ましくは８ｇ／ｍ２・２４ｈ以下、より好ましくは２ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることから、確認することができる。
　更に、本発明の多層フィルムは表面の耐傷付き性にも優れる。本発明の多層フィルムが表面の耐傷付き性に優れることは、例えば、本願明細書の実施例に記載の方法により測定した引っかき硬度（鉛筆法）が、好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上であることから、確認することができる。
〔本発明の多層フィルムの用途〕
　本発明の多層フィルムは、上述のように、優れた紫外線遮蔽性能と表面の耐傷付き性を有するため、偏光板保護フィルムとして好適に使用することができる。また、本発明の多層フィルムは、偏光板保護フィルム用途以外にも、例えば、屋根材、天井材、壁材、窓材等の自動車、建築物、農業ハウス等の用途；医薬品、食品、飲料水等の保護フィルム用途；輝度向上フィルム、透明導電フィルム、タッチパネル用基板、液晶基板、光拡散シート、プリズムシート等の液晶表示装置等に用いられる部材用途；ガラス板や透明プラスチック板等の表面に積層したり、複数のガラス板や透明プラスチック板等の間に介在させる、紫外線遮蔽物品用途；等に使用することもできる。
　本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお「部」及び「％」は特に断りのない限り重量基準である。
　本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
（１）重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
　ブロック共重合体及びブロック共重合体水素化物の分子量は、ＴＨＦを溶離液とするＧＰＣ（東ソー社製、商品名「ＨＬＣ８０２０ＧＰＣ」）を使用し、標準ポリスチレン換算値として３８℃において測定した。
　また、ブロック共重合体中の特定の重合体ブロックの重量平均分子量は、当該ブロック共重合体の重量平均分子量をＭｗＸ、当該ブロック共重合体に占める当該特定の重合体ブロックの重量分率をｗＹ（重量％）として、下記の式で算出した。なお、特定の重合体ブロックの重量分率ｗＹ（重量％）は、当該重合体ブロックの形成に用いた単量体の仕込み量と、重合終了段階での重合転化率から算出した。
　重合体ブロックの重量平均分子量＝ＭｗＸ×ｗＹ／１００
（２）水素化率
　ブロック共重合体水素化物の主鎖、側鎖及び芳香環の水素化率（モル％）は、ブロック共重合体水素化物及び前駆体であるブロック共重合体の１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定して算出した。
（３）多層フィルムの複屈折
　自動複屈折計（王子計測機器社製、商品名「ＫＯＢＬＡ－２１ＡＤＨ」）を使用して、多層フィルムの幅方向に５０ｍｍ間隔で２００ｍｍに亘って面内位相差（Ｒｅ）を測定した。全測定結果を平均して、多層フィルムの面内位相差（Ｒｅ）値とした。Ｒｅの値が小さいほど、複屈折が小さい。
（４）多層フィルムの紫外線遮蔽性能
　紫外可視分光光度計（日本分光社製、商品名「Ｖ－５７０」）を使用して、紫外線領域の波長３８０ｎｍ及び３００ｎｍでの多層フィルムの光線透過率を測定した。光線透過率が小さいほど、紫外線遮蔽性能に優れる。
（５）多層フィルムの水蒸気遮蔽性
　多層フィルムを試験片とし、ＪＩＳ　Ｋ　７１２９（Ａ法）に準じて、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件下で水蒸気透過度テスター（ＬＹＳＳＹ社製、商品名「Ｌ８０－５０００型」）を用いて透湿度を測定した。透湿度が小さいほど、水蒸気遮蔽性に優れる。
（６）多層フィルムの表面の耐傷付き性
　多層フィルムを試験片として、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４に準じて、温度２３℃における引っかき硬度（鉛筆法）を測定した。評価は引っかき硬度が、２Ｈ以上の場合を良好（Ｘ）、Ｈ以上の場合を許容（Ｙ）、Ｈ未満の場合を不十分（Ｚ）として判定した。
［製造例１］ブロック共重合体水素化物（Ｄ１）の製造
〔ブロック共重合体（Ｃ１）〕
　内部が充分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン３００部、芳香族ビニル化合物としての脱水スチレン７３．０部、及びｎ－ジブチルエーテル０．４７５部を入れた。全容を６０℃で攪拌しながら、ｎ－ブチルリチウムの１５％シクロヘキサン溶液０．７５部を加えて、重合を開始させた。ｎ－ブチルリチウム溶液の滴下終了後、さらに、６０℃で６０分間全容を攪拌した。ガスクロマトグラフィーにより測定したこの時点で、重合転化率は９９．５％であった。
　次に、反応液に鎖状共役ジエン化合物としての脱水イソプレン１８．０部を加え、そのまま３０分間攪拌を続けた。この時点で重合転化率は９９．５％であった。その後、更に、芳香族ビニル化合物としての脱水スチレンを９．０部加え、６０分間攪拌した。この時点での重合転化率はほぼ１００％であった。ここで、反応混合物にイソプロピルアルコール０．５部を加えて、反応を停止させた。得られた重合体溶液中に含まれる、スチレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ａ１）と、イソプレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ｂ）と、スチレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ａ２）をこの順に有してなるブロック共重合体（Ｃ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は５７，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０３、ｗＡ１：ｗＢ：ｗＡ２＝７３：１８：９であった。また、重合体ブロック（Ａ１）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ１）は４１，６００、重合体ブロック（Ａ２）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ２）は５，２００であった。
〔ブロック共重合体水素化物（Ｄ１）〕
　次に、上記重合体溶液を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として珪藻土担持型ニッケル触媒（日揮触媒化成社製、商品名「Ｅ２２Ｕ」、ニッケル担持量６０％）８．０部及び脱水シクロヘキサン１００部を添加して混合した。耐圧反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素ガスを供給し、温度１９０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行った。水素化反応後のブロック共重合体水素化物（Ｄ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は６０，７００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
　水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した後、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（コーヨ化学研究所社製、商品名「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」）０．１部を溶解したキシレン溶液１．０部を添加して、水素化反応を経た重合体を溶解させた。
　次いで、キシレン溶液を添加した後の上記溶液を、円筒型濃縮乾燥器（日立製作所社製、商品名「コントロ」）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下の条件で濃縮乾燥することで、当該溶液から、溶媒であるシクロヘキサン及びキシレン、並びにその他の揮発成分を除去した。この濃縮操作に連続して、得られた溶融ポリマーを、上記円筒型濃縮乾燥器に連結した孔径５μｍのステンレス製焼結フィルターを備えたポリマーフィルター（富士フィルター社製）により、温度２６０℃でろ過した。ろ過後、ダイから溶融ポリマーをストランド状に押出した。そして、押出後冷却することで、ペレタイザーによりブロック共重合体水素化物（Ｄ１）のペレット９５部を製造した。
　得られたペレット状のブロック共重合体水素化物（Ｄ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は６０，１００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１０、水素化率はほぼ１００％（９９％以上）であった。
［製造例２］ブロック共重合体水素化物（Ｄ２）の製造
〔ブロック共重合体（Ｃ２）〕
　脱水スチレンと脱水イソプレンを３回に分け、脱水スチレン６６．０部、脱水イソプレン２５．０部及び脱水スチレン９．０部をこの順に加える以外は製造例１と同様にして重合反応を行い、反応を停止させた。得られた重合体溶液中に含まれる、スチレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ａ１）と、イソプレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ｂ）と、スチレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ａ２）をこの順に有してなるブロック共重合体（Ｃ２）の重量平均分子量（Ｍｗ）は５６，２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０２、ｗＡ１：ｗＢ：ｗＡ２＝６６：２５：９であった。また、重合体ブロック（Ａ１）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ１）は３６，９００、重合体ブロック（Ａ２）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ２）は５，１００であった。
〔ブロック共重合体水素化物（Ｄ２）〕
　次に、上記重合体溶液を、製造例１と同様にして水素化反応を行った。水素化反応後のブロック共重合体水素化物（Ｄ２）の重量平均分子量（Ｍｗ）は５９，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０３であった。
　水素化反応終了後、製造例１と同様に、フェノール系酸化防止剤を添加した後、濃縮乾燥してブロック共重合体水素化物（Ｄ２）のペレット９４部を製造した。得られたペレット状のブロック共重合体水素化物（Ｄ２）の重量平均分子量（Ｍｗ）は５８，９００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０８、水素化率はほぼ１００％（９９％以上）であった。
［製造例３］ブロック共重合体水素化物（Ｄ３）の製造
〔ブロック共重合体（Ｃ３）〕
　脱水スチレンと脱水イソプレンを３回に分け、脱水スチレン５７．０部、脱水イソプレン１８．０部及び脱水スチレン２５．０部をこの順に加える以外は製造例１と同様にして重合反応を行い、反応を停止させた。得られた重合体溶液中に含まれる、スチレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ａ１）と、イソプレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ｂ）と、スチレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ａ２）をこの順に有してなるブロック共重合体（Ｃ３）の重量平均分子量（Ｍｗ）は５６，２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０２、ｗＡ１：ｗＢ：ｗＡ２＝５７：１８：２５であった。また、重合体ブロック（Ａ１）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ１）は３１，９００、重合体ブロック（Ａ２）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ２）は１４，１００であった。
〔ブロック共重合体水素化物（Ｄ３）〕
　次に、上記重合体溶液を、製造例１と同様にして水素化反応を行った。水素化反応後のブロック共重合体水素化物（Ｄ３）の重量平均分子量（Ｍｗ）は６０，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
　水素化反応終了後、製造例１と同様に、フェノール系酸化防止剤を添加した後、濃縮乾燥してブロック共重合体水素化物（Ｄ３）のペレット９５部を製造した。得られたペレット状のブロック共重合体水素化物（Ｄ３）の重量平均分子量（Ｍｗ）は５９，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０６、水素化率はほぼ１００％（９９％以上）であった。
［製造例４］ブロック共重合体水素化物（Ｄ４）の製造
〔ブロック共重合体（Ｃ４）〕
　脱水スチレンと脱水イソプレンを３回に分け、脱水スチレン４１．０部、脱水イソプレン１８．０部及び脱水スチレン４１．０部をこの順に加える以外は製造例１と同様にして重合反応を行い、反応を停止させた。得られた重合体溶液中に含まれる、スチレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ａ１）と、イソプレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ｂ）と、スチレン由来の構造単位よりなる重合体ブロック（Ａ２）をこの順に有してなるブロック共重合体（Ｃ４）の重量平均分子量（Ｍｗ）は５６，７００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０２、ｗＡ１：ｗＢ：ｗＡ２＝４１：１８：４１であった。また、重合体ブロック（Ａ１）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ１）は２３，１００、重合体ブロック（Ａ２）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ２）は２３，３００であった。
〔ブロック共重合体水素化物（Ｄ４）〕
　次に、上記重合体溶液を、製造例１と同様にして水素化反応を行った。水素化反応後のブロック共重合体水素化物（Ｄ４）の重量平均分子量（Ｍｗ）は６０，１００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０７であった。
　水素化反応終了後、製造例１と同様に、フェノール系酸化防止剤を添加した後、濃縮乾燥してブロック共重合体水素化物（Ｄ４）のペレット９３部を製造した。得られたペレット状のブロック共重合体水素化物（Ｄ４）の重量平均分子量（Ｍｗ）は５９，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０７、水素化率はほぼ１００％（９９％以上）であった。
［製造例５］ハードコート剤（Ｈ１）の製造
　有機ハードコート材料であるアクリロイル基を含有するオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ－１７００Ｂ」）１００部に、導電性微粒子（フィラー）であるＳｂ２Ｏ５粒子（触媒化成工業社製、数平均粒子径３０ｎｍ）２５０部と、光拡散剤（無機ハードコート材料）であるＳｉＯ２粒子（シーアイ化成社製、数平均粒子径３００ｎｍ）３部と、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４」）２部とを加え、更にメタクリル変性ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製、商品名「Ｘ－２２－１６４Ａ」）１部を加え、攪拌機にて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、ハードコート剤（Ｈ１）を製造した。
［製造例６］樹脂組成物（Ｅ１）の製造
　製造例１で製造したブロック共重合体水素化物（Ｄ１）１００部に、紫外線吸収剤である（２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール（ＵＶＡ１）（住友化学社製、製品名「ＳＵＭＩＳＯＲＢ（登録商標）３００」）６．０部を添加して、均一に混合した。得られた混合物を、二軸押出機を用いて樹脂温度２１０℃で押し出した。押し出し後冷却し、次いでペレタイザーによりカッティングして樹脂組成物（Ｅ１）のペレット９７部を製造した。製造した樹脂組成物（Ｅ１）の内訳を表１にまとめて示した。
［製造例７～１０］樹脂組成物（Ｅ２）～（Ｅ５）の製造
　製造例１～製造例４で製造したブロック共重合体水素化物（Ｄ１）～（Ｄ４）をそれぞれ使用し、ブロック共重合体水素化物（Ｄ）１００部に、紫外線吸収剤である２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール（ＵＶＡ１）及び／又は２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（ＵＶＡ２）（住友化学社製、商品名「ＳＵＭＩＳＯＲＢ（登録商標）３４０」）を表１に記載した量を添加した以外は、製造例６と同様にして樹脂組成物（Ｅ２）～（Ｅ５）のペレットを製造した。製造した樹脂組成物（Ｅ２）～（Ｅ５）の内訳を表１にまとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
（実施例１）多層フィルム（ｍ１ｈ１）
〔積層フィルム（ｍ１）の製造〕
　樹脂組成物（Ｅ１）のペレット、及び、熱可塑性樹脂としての開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）（日本ゼオン社製、商品名「ＺＥＯＮＥＸ（登録商標）６９０Ｒ」、ガラス転移温度１３６℃、）のペレットを使用して、樹脂組成物（Ｅ１）を含む層（ｅ１）が中間層、開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）を含む樹脂層（ｆ１）が表層を形成する２種３層の積層フィルム（ｍ１）を製造した。
　具体的には、積層フィルム（ｍ１）の製造には、２０ｍｍφのスクリューを備えた単軸押出し機２機を有するＴダイ式２種３層フィルム成形機（Ｔダイ幅３００ｍｍ）、及び鏡面のキャストロールを備えたシート引取機を使用した。そして、積層フィルムの製造条件は、樹脂組成物（Ｅ１）の樹脂温度２２０℃、開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）の樹脂温度２５０℃、Ｔダイ温度２５０℃、キャストロール温度８０℃とした。
　製造した積層フィルム（ｍ１）は、（ｆ１）／（ｅ１）／（ｆ１）の３層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４０μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ）であった。
〔ハードコート層（ｈ１）を有する多層フィルム（ｍ１ｈ１）の製造〕
　上記で得られた積層フィルム（ｍ１）の片面に、製造例５で得られたハードコート剤（Ｈ１）をバーコーターで塗布した。塗布後、紫外線照射機を用いて波長３００～３９０ｎｍの範囲において積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行った。この紫外線照射によりハードコート剤（Ｈ１）を硬化させて厚み３μｍのハードコート層（ｈ１）を形成し、片面にハードコート層（ｈ）を積層した多層フィルム（ｍ１ｈ１）を製造した。
　製造した多層フィルム（ｍ１ｈ１）は、（ｆ１）／（ｅ１）／（ｆ１）／（ｈ１）の４層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４３μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ／３μｍ）であった。
　製造した多層フィルム（ｍ１ｈ１）を使用して、フィルムの面内位相差（Ｒｅ）、紫外線領域での光線透過率、透湿度、及び表面の引っかき硬度の測定を行った。
　その結果、面内位相差（Ｒｅ）は、０．９ｎｍ、光線透過率は３８０ｎｍで２．３％、３００ｎｍでは０．０％、透湿度は１．６ｇ／ｍ２・２４ｈであった。Ｒｅ（複屈折）、光線透過率（紫外線遮蔽性能）、透湿度（水蒸気遮蔽性）はいずれも十分小さい値であった。また、表面の引っかき硬度は２Ｈで、評価は良好（Ｘ）であった。評価結果を表２にまとめて記載した。
（実施例２）多層フィルム（ｍ２ｈ１）
〔積層フィルム（ｍ２）の製造〕
　樹脂組成物（Ｅ１）に代えて、樹脂組成物（Ｅ２）のペレットを使用する以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（Ｅ２）を含む層（ｅ２）が中間層、開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）を含む樹脂層（ｆ１）が表層を形成する２種３層の積層フィルム（ｍ２）を製造した。
　製造した積層フィルム（ｍ２）は、（ｆ１）／（ｅ２）／（ｆ１）の３層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４０μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ）であった。
〔ハードコート層（ｈ１）を有する多層フィルム（ｍ２ｈ１）の製造〕
　積層フィルム（ｍ１）に代えて積層フィルム（ｍ２）を使用する以外は、実施例１と同様にして、片面にハードコート層（ｈ１）を積層した多層フィルム（ｍ２ｈ１）を製造した。
　製造した多層フィルム（ｍ２ｈ１）は、（ｆ１）／（ｅ２）／（ｆ１）／（ｈ１）の４層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４３μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ／３μｍ）であった。
　製造した多層フィルム（ｍ２ｈ１）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
（実施例３）多層フィルム（ｍ３ｈ１）
〔積層フィルム（ｍ３）の製造〕
　熱可塑性樹脂として、開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）に代えてポリスチレン（Ｆ２）（ＰＳジャパン社製、「ＰＳＪ－ポリスチレン（登録商標）ＨＦ７７」）を使用する以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（Ｅ１）を含む層（ｅ１）が中間層、ポリスチレン（Ｆ２）を含む樹脂層（ｆ２）が表層を形成する２種３層の積層フィルム（ｍ３）を製造した。
　製造した積層フィルム（ｍ３）は、（ｆ２）／（ｅ１）／（ｆ２）の３層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４０μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ）であった。
〔ハードコート層（ｈ１）を有する多層フィルム（ｍ３ｈ１）の製造〕
　積層フィルム（ｍ１）に代えて積層フィルム（ｍ３）を使用する以外は、実施例１と同様にして、片面にハードコート層（ｈ１）を積層した多層フィルム（ｍ３ｈ１）を製造した。製造した多層フィルム（ｍ３ｈ１）は、（ｆ２）／（ｅ１）／（ｆ２）／（ｈ１）の４層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４３μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ／３μｍ）であった。製造した多層フィルム（ｍ３ｈ１）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
（実施例４）多層フィルム（ｍ４ｈ１）
〔積層フィルム（ｍ４）の製造〕
　樹脂組成物（Ｅ１）に代えて、樹脂組成物（Ｅ３）を使用する以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（Ｅ３）を含む層（ｅ３）が中間層、開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）を含む樹脂層（ｆ１）が表層を形成する２種３層の積層フィルム（ｍ４）を製造した。
　製造した積層フィルム（ｍ４）は、（ｆ１）／（ｅ３）／（ｆ１）の３層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４０μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ）であった。
〔ハードコート層（ｈ１）を有する多層フィルム（ｍ４ｈ１）の製造〕
　積層フィルム（ｍ１）に代えて積層フィルム（ｍ４）を使用する以外は、実施例１と同様にして、片面にハードコート層（ｈ１）を積層した多層フィルム（ｍ４ｈ１）を製造した。製造した多層フィルム（ｍ４ｈ１）は、（ｆ１）／（ｅ３）／（ｆ１）／（ｈ１）の４層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４３μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ／３μｍ）であった。製造した多層フィルム（ｍ３ｈ１）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
（実施例５）多層フィルム（ｍ５ｈ１）
〔積層フィルム（ｍ５）の製造〕
　樹脂組成物（Ｅ１）に代えて、樹脂組成物（Ｅ４）を使用する以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（Ｅ４）を含む層（ｅ４）が中間層、開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）を含む樹脂層（ｆ１）が表層を形成する２種３層の積層フィルム（ｍ５）を製造した。
　製造した積層フィルム（ｍ５）は、（ｆ１）／（ｅ４）／（ｆ１）の３層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４０μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ）であった。
〔ハードコート層（ｈ１）を有する多層フィルム（ｍ５ｈ１）の製造〕
　積層フィルム（ｍ１）に代えて積層フィルム（ｍ５）を使用する以外は、実施例１と同様にして、片面にハードコート層（ｈ１）を積層した多層フィルム（ｍ５ｈ１）を製造した。製造した多層フィルム（ｍ５ｈ１）は、（ｆ１）／（ｅ４）／（ｆ１）／（ｈ１）の４層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４３μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ／３μｍ）であった。
　製造した多層フィルム（ｍ５ｈ１）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
（実施例６）多層フィルム（ｍ６ｈ１）
〔積層フィルム（ｍ６）の製造〕
　樹脂組成物（Ｅ１）に代えて樹脂組成物（Ｅ５）を使用する以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（Ｅ５）を含む層（ｅ５）が中間層、開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）を含む樹脂層（ｆ１）が表層を形成する２種３層の積層フィルム（ｍ６）を製造した。
　製造した積層フィルム（ｍ６）は、（ｆ１）／（ｅ５）／（ｆ１）の３層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４０μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ）であった。
〔ハードコート層（ｈ１）を有する多層フィルム（ｍ６ｈ１）の製造〕
　積層フィルム（ｍ１）に代えて積層フィルム（ｍ６）を使用する以外は、実施例１と同様にして、片面にハードコート層（ｈ１）を積層した多層フィルム（ｍ６ｈ１）を製造した。製造した多層フィルム（ｍ６ｈ１）は、（ｆ１）／（ｅ５）／（ｆ１）／（ｈ１）の４層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４３μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ／３μｍ）であった。
　製造した多層フィルム（ｍ６ｈ１）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
（比較例１）積層フィルム（ｍ１）
　ハードコート層（ｈ）を積層していない実施例１で製造した２種３層の積層フィルム（ｍ１）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
（比較例２）積層フィルム（ｍ７）
〔積層フィルム（ｍ７）の製造〕
　熱可塑性樹脂としての開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）に代えて製造例１で製造したブロック共重合体水素化物（Ｄ１）を使用する以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（Ｅ１）を含む層（ｅ１）が中間層、ブロック共重合体水素化物（Ｄ１）を含む樹脂層（ｄ１）が表層を形成する２種３層の積層フィルム（ｍ７）を製造した。
　製造した積層フィルム（ｍ７）は、（ｄ１）／（ｅ１）／（ｄ１）の３層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４０μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ）であった。ハードコート層（ｈ）を積層しないで、製造した積層フィルム（ｍ７）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
（比較例３）多層フィルム（ｍ７ｈ１）
〔ハードコート層（ｈ１）を有する多層フィルム（ｍ７ｈ１）の製造〕
　比較例２で製造した積層フィルム（ｍ７）を使用する以外は、実施例１と同様にして、片面にハードコート層（ｈ１）を積層した多層フィルム（ｍ７ｈ１）を製造した。製造した多層フィルム（ｍ７ｈ１）は、（ｄ１）／（ｅ１）／（ｄ１）／（ｈ１）の４層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４３μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ／３μｍ）であった。
　製造した多層フィルム（ｍ７ｈ１）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
（比較例４）積層フィルム（ｍ８）
〔積層フィルム（ｍ８）の製造〕
　樹脂組成物（Ｅ１）に代えて、樹脂組成物（Ｅ４）を使用し、熱可塑性樹脂として、開環メタセシス重合体水素化ポリマー（Ｆ１）に代えて製造例４で製造したブロック共重合体水素化物（Ｄ４）を使用する以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（Ｅ４）を含む層（ｅ４）が中間層、ブロック共重合体水素化物（Ｄ４）を含む樹脂層（ｄ４）が表層を形成する２種３層の積層フィルム（ｍ８）を製造した。
　製造した積層フィルム（ｍ８）は、（ｄ４）／（ｅ４）／（ｄ４）の３層構造を有し、幅２３０ｍｍ、総厚み４０μｍ（各層厚み：１０μｍ／２０μｍ／１０μｍ）であった。
　ハードコート層（ｈ）を積層しないで、製造した積層フィルム（ｍ８）を使用して、複屈折、紫外線遮蔽性能、水蒸気遮蔽性（透湿度）、表面の耐傷付き性を評価した。評価結果を表２にまとめて記載した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　本実施例及び比較例の結果から以下のことがわかる。
　ブロック共重合体水素化物（Ｄ）に紫外線吸収剤を配合した樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）を中間層とし、これにブロック共重合体水素化物（Ｄ）を含む樹脂層（ｄ）を表層として積層した積層フィルムは、傷が付き易い（比較例２、４）。透湿度は比較的低く、複屈折が最も小さく優れるが、表面の引っかき硬度は６Ｂ以下と低い。
　ブロック共重合体水素化物（Ｄ）に紫外線吸収剤を配合した樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）を中間層、ブロック共重合体水素化物（Ｄ）を含む樹脂層（ｄ）を表層とする積層フィルムの表面にさらにハードコート層（ｈ）を積層した場合は、傷付き易さは依然として不十分である（比較例３）。透湿度は比較的低く、複屈折が最も小さく優れるが、表面引っかき硬度はＢ程度までしか高められない。
　ブロック共重合体水素化物（Ｄ）に紫外線吸収剤を配合した樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）を中間層とし、これに単独での表面引っかき硬度がＢである熱可塑性樹脂（Ｆ）である開環メタセシス重合体水素化ポリマーを含む樹脂層（ｆ）を積層して積層フィルムにした場合は、耐傷付き性は不十分である（比較例１）。透湿度は最も低く、複屈折も小さく良好であるが、表面引っかき硬度は２Ｂで傷付き易い。ブロック共重合体水素化物（Ｄ）を表層とする積層フィルム（比較例２、４）に比較すると、表面引っかき硬度は高くなるが、不十分である。
　ブロック共重合体水素化物（Ｄ）に紫外線吸収剤を配合した樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）を中間層とし、これに熱可塑性樹脂（Ｆ）である開環メタセシス重合体水素化ポリマーを含む樹脂層（ｆ）を積層し、さらに表面にハードコート層（ｈ）を積層した場合は、耐傷付き性は許容できるレベル以上になる（実施例１、２、４、５）。透湿度は最も低く、複屈折も小さく良好であり、表面引っかき硬度もＨ～２Ｈ程度まで高くなっている。
　ブロック共重合体水素化物（Ｄ）に紫外線吸収剤を配合した樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）を中間層とし、これに硬度の高い熱可塑性樹脂（Ｆ）であるポリスチレンを含む樹脂層（ｆ）を積層し、さらに表面にハードコート層（ｈ）を積層した場合は、耐傷付き性は大きく改善されている（実施例３）。透湿度は高くなるがトリアセチルセルロースフィルムに比較すれば非常に低い値であり、複屈折は大きくなるが液晶ディスプレイの最表面側に使用する場合には十分許容でき、表面引っかき硬度は３Ｈ程度まで高くなる。
　本発明で用いるブロック共重合体水素化物（Ｄ）の中では、ブロック共重合体（Ｃ）の重量平均分子量Ｍｗをほぼ同じにした場合、Ｍｗ（Ａ２）をブロック共重合体水素化物（Ｄ）の機械的強度が維持できる範囲内で小さくして、Ｍｗ（Ａ１）を大きくして、Ｍｗ（Ａ１）とＭｗ（Ａ２）が大きく異なる非対称のトリブロック共重合体とすることにより、本発明の多層フィルムは、表面引っかき硬度をより高くすることができる（実施例１、４と実施例５、６を比較した場合）。
　本発明の多層フィルムは、複屈折が小さく、優れた紫外線遮蔽性能と水蒸気遮蔽性とを有し、且つ、表面の耐傷付き性が改良された特定のブロック共重合体水素化物を含む多層フィルムであり、偏光フィルムの偏光子保護フィルム等の光学用フィルムとして有用である。

Claims (3)

  1. 　（ｉ）芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも２つの重合体ブロック（Ａ）と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも１つの重合体ブロック（Ｂ）とを含むブロック共重合体（Ｃ）であって、全重合体ブロック（Ａ）及び全重合体ブロック（Ｂ）がブロック共重合体（Ｃ）に占める重量分率をｗＡ及びｗＢとしたときに、ｗＡとｗＢとの比ｗＡ：ｗＢが６０：４０～９０：１０であるブロック共重合体（Ｃ）の、主鎖及び側鎖の炭素－炭素不飽和結合及び芳香環の炭素－炭素不飽和結合の９０％以上を水素化したブロック共重合体水素化物（Ｄ）１００重量部に対して、
    　紫外線吸収剤が１．０重量部以上１５．０重量部以下配合されてなる樹脂組成物（Ｅ）を含む層（ｅ）と、
    　（ｉｉ）前記層（ｅ）の１方の面又は両面に積層された、ポリエステル、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、スチレン共重合体及び（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体からなる群より選ばれる１種類以上の熱可塑性樹脂（Ｆ）を含む樹脂層（ｆ）と、
    　（ｉｉｉ）少なくとも１つの前記樹脂層（ｆ）の、前記層（ｅ）に接する面と反対側の面に積層されたハードコート層（ｈ）と
    　を含むことを特徴とする多層フィルム。
  2. 　前記ブロック共重合体（Ｃ）が、重量平均分子量（Ｍｗ）が、４０，０００以上１００，０００以下であるとともに、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする２つの重合体ブロック（Ａ１）と重合体ブロック（Ａ２）がそれぞれブロック共重合体（Ｃ）の両末端を形成し、前記重合体ブロック（Ａ１）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ１）が２０，０００以上８０，０００以下であり、前記重合体ブロック（Ａ２）の重量平均分子量Ｍｗ（Ａ２）が４，０００以上７，０００以下であることを特徴とする、請求項１に記載の多層フィルム。
  3. 　前記ハードコート層（ｈ）が積層された面の、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４に規定する引っかき硬度がＨ以上であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の多層フィルム。
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