CN105324690A

CN105324690A - 光学膜、偏振片、透明导电性薄膜、表面保护膜及液晶显示装置

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Publication number: CN105324690A
Application number: CN201480035306.9A
Authority: CN
Inventors: 竹上龙太; 山田直良
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2013-06-26
Filing date: 2014-06-06
Publication date: 2016-02-10
Anticipated expiration: 2034-06-06
Also published as: US10317598B2; KR20160003826A; KR101768556B1; JP6275961B2; WO2014208309A1; JP2015011065A; CN105324690B; US20160109632A1

Abstract

本发明的课题在于提供一种耐热性和耐湿性优异且能够充分确保可见性的光学膜。本发明涉及一种光学膜，其使用于具有偏振器的显示装置，其中，Re＝1000～30000nm，Rth＝-30000～-1000nm。本发明还涉及具有光学膜的偏振片、透明导电性薄膜、表面保护膜及液晶显示装置。

Description

光学膜、偏振片、透明导电性薄膜、表面保护膜及液晶显示装置

技术领域

本发明涉及一种光学膜及显示装置。具体而言，本发明涉及使用于具有偏振器的显示装置的光学膜，其面内方向的延迟(Re)和厚度方向的延迟(Rth)在特定的范围内。

背景技术

近年来，液晶显示装置(LCD)的用途扩大，被利用于在室外使用的智能手机、汽车导航、数码相机、数字标牌等。并且，随着液晶显示器市场的繁荣，已经开发出各种薄膜。LCD用的光学膜一股使用光学各向异性比较小的薄膜。但是，近年来提出了将光学各向异性较大的聚酯薄膜组装于液晶显示装置来进行使用(专利文献1及2)。

例如，专利文献1中公开有面内方向的延迟(Re)为3000～30000nm的聚酯薄膜。并且，专利文献2中公开有面内方向的延迟(Re)为3000～30000nm的聚酯薄膜，该薄膜的Re/Rth≥0.2。另外，这些聚酯薄膜的厚度方向的延迟(Rth)为正值。

专利文献1及2中，通过将这种光学各向异性较大的聚酯薄膜使用于显示装置等，即使在使用偏光太阳镜的情况下，也能够得到良好的可见性。并且，当将这些聚酯薄膜用作偏振器保护膜时，即使从倾斜方向观察，也不会产生彩虹状的颜色不均匀(彩虹状不均匀)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利4888853号公报

专利文献2：日本专利公开2012-256014号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

然而，上述聚酯薄膜中，在改变视角时产生彩虹状不均匀，因此彩虹状不均匀的改进不充分，要求进一步改进。

并且，现有的光学各向异性较大的聚酯薄膜的耐热性和耐湿性不充分，存在不适合于经加热工序而形成的透明导电性薄膜的用途的问题。

因此，本发明人等为了解决这种现有技术的问题，以提供一种能够充分确保可见性且耐热性和耐湿性优异的光学膜为目的进行了研究。

用于解决技术课题的手段

为了解决上述课题而进行了深入研究的结果，本发明人等发现，在使用于具有偏振器的显示装置的光学膜中，通过将面内方向的延迟(Re)设为1000～30000nm且将厚度方向的延迟(Rth)设为小于0nm，能够提高耐热性和耐湿性，且能够优化可见性。

具体而言，本发明具有以下结构。

[1]一种光学膜，其使用于具有偏振器的显示装置，其中，Re＝1000～30000nm，Rth＝-30000～-1000nm。

[2]根据[1]所述的光学膜，其中，光学膜的厚度为10～500μm。

[3]根据[1]或[2]所述的光学膜，其中，光学膜在25℃、相对湿度60％下的平衡含水率为0.1wt％以下。

[4]根据[1]至[3]中任一项所述的光学膜，其中，光学膜的载荷挠曲温度为105℃以上。

[5]根据[1]至[4]中任一项所述的光学膜，其中，光学膜为聚苯乙烯系薄膜。

[6]根据[5]所述的光学膜，其中，聚苯乙烯系薄膜含有结晶性的聚苯乙烯。

[7]根据[5]或[6]所述的光学膜，其中，聚苯乙烯系薄膜具有间规立构结构。

[8]一种偏振片，其具有[1]至[7]中任一项所述的光学膜及偏振器。

[9]一种透明导电性薄膜，其具有[1]至[7]中任一项所述的光学膜及导电层。

[10]一种表面保护膜，其使用[1]至[7]中任一项所述的光学膜。

[11]一种液晶显示装置，其使用[1]至[7]中任一项所述的光学膜。

发明效果

根据本发明，可得到能够充分确保可见性且耐热性和耐湿性优异的光学膜。由于本发明的光学膜具有如上述的特性，因此即使作为透明导电性薄膜的用途，也能够优选地进行使用。

具体实施方式

以下，对本发明进行详细说明。以下记载的构成要件的说明是基于代表性的实施方式和具体例来进行的，但本发明并不限定于这种实施方式。另外，本说明书中，用“～”表示的数值范围是指将“～”前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的范围。

(光学膜)

本发明涉及一种使用于具有偏振器的显示装置的光学膜。本发明的薄膜可优选用作使用于具有偏振器的显示装置的光学用途用薄膜，尤其可优选用作光学补偿膜。本发明的光学膜中，Re＝1000～30000nm，Rth＝-30000～-1000nm。即，本发明的光学膜的方式之一为含有负的双折射性树脂。显示出负的双折射性的树脂是指在光入射到分子呈单轴性的取向而形成的层时，取向方向的光的折射率小于与取向方向正交的方向的光的折射率的树脂。

本发明的光学膜中，Re＝1000～30000nm，Rth＝-30000～-1000nm。Re更优选为3000～20000nm，进一步优选为5000～20000nm。并且，Rth更优选为-20000～-3000nm，进一步优选为-20000～-5000nm。如此，通过将光学膜的面内方向和厚度方向的延迟设在上述范围内，在将光学膜组装于显示装置时，能够抑制产生彩虹状不均匀，尤其，与先前技术相比，能够扩大不产生彩虹状不均匀的视角。

在此，由下述式(1)规定光学膜的面内方向的延迟(Re)，由下述式(2)规定厚度方向的延迟(Rth)。

Re＝(nx-ny)×d(1)

Rth＝{(nx+ny)/2-nz}×d(2)

式(1)及(2)中，nx为光学膜面内的慢轴方向的折射率，ny为光学膜面内的快轴方向的折射率，nz为光学膜的厚度方向的折射率，d表示光学膜的厚度。

光学膜的面内方向的延迟(Re)和厚度方向的延迟(Rth)能够通过使用OjiScientificInstrumentsCo.，Ltd.制KOBRA21ADH或WR，在光线波长550nm下进行测定。Re是以入射光线与薄膜面垂直的状态测定的值。Rth通过如下来求出：一点点改变入射光线与薄膜面之间的角度，测定各角度下的相位差值，并通过利用公知的折射率椭圆体公式进行曲线拟合来求出作为三维折射率的nx、ny、nz并代入Rth＝{(nx+ny)/2-nz}×d中。另外，此时，需要薄膜的平均折射率，其能够使用另外的阿贝折射仪(ATAGOCO.，LTD.制，商品名“阿贝折射仪2-T”)进行测定。

本发明的光学膜的膜厚优选为10～500μm。光学膜的膜厚更优选为15～400μm，进一步优选为15～300μm，更进一步优选为20～200μm。另外，当将本发明的光学膜使用于显示装置等时，从薄型化的观点考虑，也可以将光学膜的膜厚设为100μm以下，更优选设为80μm以下，进一步优选设为60μm以下。

本发明的光学膜在25℃、相对湿度60％下的平衡含水率优选为0.1wt％以下，更优选为0.05wt％以下，进一步优选为0.03wt％以下。通过将平衡含水率设在上述范围内，当使用于组装有静电电容式的触摸面板的显示装置等时，能够抑制吸水率，由此能够减小介电常数的变化。因此，即使置于高湿度环境下，响应速度也不会变慢，优选用作显示装置的用途。

并且，本发明中，光学膜的载荷挠曲温度优选为105℃以上，更优选为120℃以上，进一步优选为150℃以上。通过将载荷挠曲温度设在上述范围内，即使在高温环境下也可以使用光学膜，尤其适合于透明导电性薄膜的支撑体等。

在此，就光学膜的载荷挠曲温度而言，能够使用热机械装置(TMA)施加0.1N/mm²的载荷，在温度25℃至200℃之间将薄膜的尺寸开始发生变化的温度作为载荷挠曲温度来求出。

使用于本发明的负的双折射性树脂的玻璃化转变温度优选为100℃以上。本发明的薄膜的玻璃化转变温度优选为100～200℃，更优选为110～175℃，尤其优选为110～150℃。另外，就本发明的薄膜的玻璃化转变温度而言，使用差示扫描量热仪(DSC)，将本发明的薄膜放入测定盘中，将其在氮气流中以10℃/分钟从30℃升温至300℃之后(1st-run)，以-10℃/分钟冷却至30℃，再次以10℃/分钟从30℃升温至300℃(2nd-run)。能够将在2nd-run中基线开始从低温侧偏离的温度作为玻璃化转变温度(Tg)来求出。

(双折射性树脂)

本发明的光学膜含有显示出负的双折射性的树脂。显示出负的双折射性的树脂只要满足这些条件，则并没有特别限定，当利用熔融挤出法制作本发明的薄膜时，优选利用熔融挤出成型性良好的材料，在该观点上，可以使用环状烯烃系树脂(其中，正的双折射性树脂除外，即光入射到分子呈单轴性的取向而形成的层时，取向方向的光的折射率大于与取向方向正交的方向的光的折射率的树脂除外)、纤维素酰化物系树脂(其中，正的双折射性树脂除外)、马来酰亚胺系树脂、聚苯乙烯系树脂、丙烯酸系树脂、聚苯乙烯类等苯乙烯系树脂、聚丙烯腈系树脂、聚乙烯醇缩乙醛系树脂。本发明中，其中尤其优选使用聚苯乙烯系树脂，本发明的光学膜优选为聚苯乙烯系薄膜。

本发明中所使用的负的双折射性树脂可以含有1种树脂，也可以含有相互不同的2种以上的树脂。并且，可以单独使用单独1种具有负的双折射性的树脂，当共混2种以上时显示出负的双折射性时，可以同时使用2种以上。当负的双折射性树脂为由作为单独时负的双折射性树脂的树脂和作为单独时正的双折射性树脂的树脂构成的聚合物共混物时，就作为单独时负的双折射性树脂的树脂相对于作为单独时正的双折射性树脂的树脂的配合比例而言，因两者的固有双折射值的绝对值的大小和成型温度下的双折射性的显现性等而不同。并且，聚合物共混物除了作为单独时负的双折射性树脂的树脂和作为单独时正的双折射性树脂的树脂以外，还可以含有其他成分。其他成分只要不损害本发明的效果，则可以无限制地根据目的适当进行选择，例如可适当举出相溶化剂等。相溶化剂可以在共混时产生相分离的情况等适当地进行使用，通过使用相溶化剂，能够使作为单独时负的双折射性树脂的树脂和作为单独时正的双折射性树脂的树脂的混合状态变良好。

(聚苯乙烯系薄膜)

本发明中所使用的双折射性树脂更优选为聚苯乙烯系树脂，本发明中可使用的聚苯乙烯系树脂是指将作为主成分的苯乙烯及它们的衍生物进行聚合而得到的树脂及其他树脂的共聚物，只要不损害本发明的效果，则可以没有特别限定地使用公知的聚苯乙烯系热塑性树脂等。尤其优选使用能够改进双折射、薄膜强度、耐热性的共聚物树脂。

作为共聚物树脂，例如可以举出苯乙烯-丙烯腈系树脂、苯乙烯-丙烯酸系树脂、苯乙烯-马来酸酐系树脂、或它们的多元(二元、三元等)共聚聚合物等。在这些之中，从耐热性、薄膜强度的观点考虑，优选苯乙烯-丙烯酸系树脂和苯乙烯-马来酸酐系树脂。

苯乙烯-马来酸酐系树脂中，苯乙烯与马来酸酐的质量组成比优选为苯乙烯∶马来酸酐＝95∶5～50∶50，更优选为苯乙烯∶马来酸酐＝90∶10～70∶30。并且，为了调整固有双折射，也可以优选利用进行苯乙烯系树脂的氢化的步骤。作为苯乙烯-马来酸酐系树脂，例如可以举出NOVAChemicalsCorporation制的“DaylarkD332”等。并且，作为苯乙烯-丙烯酸系树脂，可以使用后述的AsahiKaseiChemicalsCorporation制的“DELPET980N”等。

本发明的聚苯乙烯系薄膜优选含有结晶性的聚苯乙烯。并且，本发明的聚苯乙烯系薄膜可以具有间规立构结构或全同立构结构或无规立构结构，优选具有间规立构结构。具有间规立构结构的聚苯乙烯系树脂，其力学强度较高，热收缩率也较小，尤其优异。本发明中所使用的间规立构-聚苯乙烯系聚合物是指具有作为侧链的苯基或其衍生物相对于由碳-碳键形成的主链交替地位于相反方向的立体结构的聚合物，其立构规整性(立构规整度)一股通过基于同位碳的核磁共振法(¹³C-NMR法)进行定量，且精度优异。通过该¹³C-NMR法测定的立构规整性能够由连续的多个结构单元的存在比例、例如2个时二元组、3个时三元组、5个时五元组表示。本发明中所说的具有间规立构结构的苯乙烯系聚合物是指通常具有以外消旋二元组计为75～100％、优选为85～100％、或以外消旋五元组计为30～100％、优选为50～100％的立构规整性的聚合物。具体而言，可以举出立构规整性的聚苯乙烯、聚(烷基苯乙烯)、聚(卤代苯乙烯)、聚(卤代烷基苯乙烯)、聚(烷氧基苯乙烯)、聚(乙烯基苯甲酸酯)。在此，作为聚(烷基苯乙烯)，有聚(甲基苯乙烯)、聚(乙基苯乙烯)、聚(丙基苯乙烯)、聚(丁基苯乙烯)、聚(苯基苯乙烯)、聚(乙烯基萘)、聚(乙烯基苯乙烯)、聚(苊)等。并且，作为聚(卤代苯乙烯)，有聚(氯苯乙烯)、聚(溴苯乙烯)、聚(氟苯乙烯)等。并且，作为聚(烷氧基苯乙烯)，有聚(甲氧基苯乙烯)、聚(乙氧基苯乙烯)等。在这些之中，更优选的是聚(苯乙烯)、聚(甲基苯乙烯)，进一步优选的是聚(苯乙烯)。

这些间规立构-聚苯乙烯系聚合物也可以是如上述的均聚物以外的共聚物。作为共聚物的共聚单体成分，除了构成上述苯乙烯系聚合物的单体以外，还可以举出乙烯、丙烯、丁烯、己烯、辛烯等烯烃单体、丁二烯、异戊二烯等二烯单体、环状烯烃单体、环状二烯单体和甲基丙烯酸甲酯、马来酸酐、丙烯腈等极性乙烯单体等。在这些之中，优选以苯乙烯为主成分且其与烷基苯乙烯、氢化苯乙烯、卤代苯乙烯进行共聚而得到的物质。在这些之中，优选的是对甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、对氯苯乙烯、间氯苯乙烯、对氟苯乙烯、氢化苯乙烯，尤其优选的是对甲基苯乙烯。它们的添加量优选为聚合物整体的0～30wt％，更优选为1～20wt％，进一步优选为3～10wt％。通过它们的共聚，减缓结晶化速度并抑制球晶的生成。其结果，能够实现透明性较高且耐折强度较高的间规立构-聚苯乙烯系薄膜。

并且，也可以将间规立构-聚苯乙烯系聚合物和其他聚合物共混使用。作为优选的聚合物共混成分，从相溶性的观点考虑，优选如上述的具有间规立构结构的苯乙烯系聚合物、具有无规立构结构的苯乙烯系聚合物。在这些之中，尤其优选以具有间规立构结构的聚苯乙烯为主成分且其与以对甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、对氯苯乙烯、间氯苯乙烯、对氟苯乙烯、氢化苯乙烯等为构成成分而成的间规立构结构或无规立构结构的均聚物、和/或由这些单体中的至少一种和苯乙烯构成的具有间规立构结构或无规立构结构的共聚物进行共混而得到的物质。尤其优选将具有间规立构结构的对甲基苯乙烯或具有间规立构结构的对甲基苯乙烯与苯乙烯的共聚物和具有间规立构结构的聚苯乙烯进行共混而得到的物质。它们共混而得到的聚合物的添加量优选为聚合物合计量的0～30wt％，更优选为1～20wt％，进一步优选为3～10wt％。

就本发明中所使用的间规立构-聚苯乙烯系聚合物的分子量而言，优选重均分子量为10万～80万的聚合物，尤其优选20万～60万的聚合物。另外，就分子量分布而言，重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn)优选为1.5～5，进一步优选为2～4。这种间规立构-聚苯乙烯系聚合物例如能够通过在惰性烃溶剂中或溶剂的不存在下，将钛化合物及水与三烷基铝的缩合产物作为催化剂，使苯乙烯系单体(与上述苯乙烯系聚合物的构成成分对应的单体)进行聚合来制造(日本专利公开昭62-187708号公报)。或者，能够通过将钛化合物及由阳离子和多个基团键合于元素而得到的阴离子构成的化合物作为催化剂进行聚合来制造(日本专利公开平4-249504)。

作为上述间规立构聚苯乙烯的市售品，例如可以举出XAREC(IdemitsuKosanCo.，Ltd.制)。

(添加剂)

本发明的光学膜可以含有上述显示出负的双折射性的树脂以外的材料。作为树脂以外的材料，可以举出各种添加剂，其例子包括稳定化剂、紫外线吸收剂、光稳定化剂、增塑剂、微粒及光学调整剂。另外，关于添加剂的具体例，可以参考日本专利公开2010-137422号公报的[0054]～[0065]段落的记载。

(其他方式)

另外，本发明的光学膜也可以是将高延迟薄膜和低延迟薄膜层叠而得到的多层薄膜。例如，作为满足本发明的光学特性(Re＝1000～30000nm，Rth＝-30000～-1000nm)的薄膜，可以举出在TAC膜等相位差较小的薄膜上层叠含有非液晶性高分子有机化合物作为主成分的层、以及将含有棒状液晶作为主成分的组合物的垂直取向固定而成的层而得到的多层薄膜。另外，关于非液晶性高分子有机化合物、棒状液晶的具体例，可以参考日本专利公开2013-50482号公报的记载。

(光学膜的制造方法)

利用溶液制膜法、熔融制膜法中的任意一种方法，都能够制造本发明的光学膜。为了实现本发明的光学膜的面内方向及厚度方向的延迟，优选设置拉伸工序。以下，对作为本发明的光学膜的单层的光学膜的制膜法进行详细说明。

(熔融制膜)

(1)熔融

显示出负的双折射性的树脂优选在熔融制膜之前混合而颗粒化。通过颗粒化，能够抑制熔融挤出机料斗中的喘振，能够进行稳定供给。优选的颗粒的大小是剖面积为1mm²～300mm²、长度为1mm～30mm。

将该树脂的颗粒放入熔融挤出机中，在100℃～200℃下脱水1分钟～10小时之后进行混炼挤出。混炼可以使用单螺杆或双螺杆挤出机来进行。

作为挤出机的种类，一股使用设备成本比较低的单螺杆挤出机的情况较多，有全螺纹(fullflight)、马多克(Maddock)、杜尔麦基(Dulmage)等螺杆类型，优选全螺纹型。并且，也可以使用能够通过改变螺杆部分并在中途设置排气口而一边使不需要的挥发成分脱挥一边挤出的双螺杆挤出机。双螺杆挤出机大体分为同向型和异向型，可以使用任何类型，优选不易产生滞留部分且自清洁性能较高的同向旋转型。双螺杆挤出机的混炼性较高，且树脂的供给性能较高，因此能够在低温下挤出，适合于本发明的制膜。

(2)过滤

为了过滤树脂中的异物以及避免由异物引起的齿轮泵的损坏，优选进行在挤出机出口设置过滤器滤材的所谓的多孔板(breakerplate)式的过滤。并且，为了更高精度地过滤异物，优选在通过齿轮泵后设置组装有所谓的叶片型圆盘过滤器的过滤装置。可以在1处设置过滤部来进行过滤，并且也可以是设置多处过滤部来进行的多级过滤。优选过滤器滤材的过滤精度较高，从滤材的耐压以及由滤材的堵塞引起的滤压上升的角度来看，过滤精度优选为15μm～3μm，进一步优选为10μm～3μm。尤其，当使用最终进行异物过滤的叶片型圆盘过滤器装置时，优选使用在品质方面过滤精度较高的滤材，为了确保耐压、过滤器寿命的适性，可以利用装填数量来进行调整。就滤材的种类而言，从高温高压下使用的观点考虑，优选使用钢铁材料，钢铁材料中，尤其优选使用不锈钢、钢等，从腐蚀的观点考虑，尤其优选使用不锈钢。作为滤材的结构，除了编织线材而成的材料以外，例如还可以使用金属长纤维或烧结金属粉末而形成的烧结滤材，从过滤精度、过滤器寿命的观点考虑，优选烧结滤材。

(3)齿轮泵

为了提高厚度精度，减少喷出量的变动是非常重要的，优选在挤出机与模具之间设置齿轮泵，从该齿轮泵供给一定量的树脂。齿轮泵是由传动齿轮和从动齿轮构成的一对齿轮以相互啮合的状态容纳，通过驱动传动齿轮使两个齿轮啮合旋转，由此将熔融状态的树脂从形成于机架的吸引口吸引至腔体内，从同样形成于机架的喷出口喷出一定量的该树脂的机构。即使挤出机顶端部分的树脂压力有轻微的变化，也通过使用齿轮泵来吸收变动，制膜装置下游的树脂压力的变动变得非常小，厚度变动得到改善。通过使用齿轮泵，能够使模具部分的树脂压力的变动幅度在±1％以内。

为了提高基于齿轮泵的定量供给性能，也可以使用改变螺杆的转速来将齿轮泵前的压力控制成恒定的方法。并且，消除了齿轮泵的齿轮变动且使用3个以上的齿轮的高精度齿轮泵也是有效的。

(4)模具

通过如上构成的挤出机，树脂被熔融，根据需要经由过滤器、齿轮泵，熔融树脂连续送至模具。模具只要是模具内的熔融树脂的滞留较少的设计，则可以使用一股使用的T型模具、鱼尾模具、衣架式模具中的任意一种类型。并且，也可以在模具跟前插入用于提高树脂温度的均匀性的静态混合器。模具出口部分的间隙一股是薄膜厚度的1.0～5.0倍即可，优选为1.2～3倍，进一步优选为1.3～2倍。若模唇间隙为薄膜厚度的1.0倍以上，则容易通过制膜得到面状良好的片材，因此优选。并且，若模唇间隙为薄膜厚度的5.0倍以下，则容易提高片材的厚度精度，因此优选。模具是决定薄膜的厚度精度的非常重要的设备，优选能够严密地控制厚度调整的模具。并且，尽可能减少模具的温度不均匀和宽度方向的流速不均匀的设计是很重要的。

(5)流延

利用上述方法将从模具以片材状挤出的熔融树脂在流延鼓上冷却固化以得到未延伸膜。此时，优选利用静电施加法、气刀法、气室法、真空喷嘴(vacuumnozzle)法、接触辊法等方法来提高流延鼓与熔融挤出的片材的粘附。这种粘附提高法可以在熔融挤出片材的整个面实施，也可以在一部分实施。尤其，采用被称作边缘销接(edgepinning)的仅粘附薄膜两端部的方法的情况也较多，但并不限定于此。

流延鼓更优选使用多个冷却辊来缓慢冷却，尤其，一股使用3根冷却辊是比较常用的方法，但并不限于此。辊的直径优选为50mm～5000mm，多个辊的间隔在面间优选为0.3mm～300mm。

流延鼓优选为显示出负的双折射性的树脂的Tg-70℃～Tg+20℃，更优选为Tg-50℃～Tg+10℃，进一步优选为Tg-30℃～Tg+5℃。

并且，当利用所谓的接触辊法时，接触辊表面可以是橡胶、特氟隆(注册商标)等树脂，也可以是金属辊。另外，还可以使用被称作柔性辊的辊：该辊通过减薄金属辊的厚度，利用接触时的压力，辊表面稍微凹陷，压接面积变宽。

接触辊温度优选为Tg-70℃～Tg+20℃，更优选为Tg-50℃～Tg+10℃，进一步优选为Tg-30℃～Tg+5℃。

(6)拉伸

如上在流延鼓上挤出的流延膜(未延伸卷材)优选进行拉伸以显现出本发明的光学特性。此时，优选沿纵向(MD)或横向(TD)中的至少单轴方向进行拉伸，但也可以沿纵向(MD)及横向(TD)进行双轴拉伸。当沿纵向及横向进行双轴拉伸时，可以如纵向→横向、横向→纵向这样的顺序进行，也可以同时沿两个方向进行拉伸。另外，例如，也优选如纵向→纵向→横向、纵向→横向→纵向、纵向→横向→横向那样以多阶段进行拉伸。

纵向拉伸通常能够通过设置2对以上的夹持辊、使加热的卷材在之间通过并且将出口侧夹持辊的圆周速度设为比入口侧快来实现。此时，优选如上述那样对表背赋予温度差。

并且，优选在纵向拉伸之前对卷材进行预热。预热温度优选为显示出负的双折射性的树脂的Tg-50～Tg+30℃，更优选为Tg-40～Tg+15℃，进一步优选为Tg-30～Tg。进行这种预热时，可以与加热辊接触，也可以使用放射热源(IR加热器、卤素加热器等)，还可以吹入热风。

纵向拉伸优选在Tg-10～Tg+50℃下进行，更优选在Tg～Tg+40℃进行，进一步优选在Tg～Tg+30℃下进行。延伸倍率优选为1.1～5.5倍，更优选为1.3～3倍。另外，在此所述的延伸倍率是通过以下式求出的值。

延伸倍率＝(拉伸后的长度-拉伸前的长度)/(拉伸前的长度)

优选在纵向拉伸后进行冷却，优选为Tg-50～Tg，更优选为Tg-45～Tg-5℃，进一步优选为Tg-40～Tg-10℃。进行这种冷却时，可以与冷却辊接触，也可以吹入冷风。

横向拉伸优选使用拉幅机来进行。即，能够通过一边用夹子把持薄膜的两端一边在热处理区传送，同时使夹子沿宽度方向扩展来进行。

优选的拉伸温度为Tg-10～Tg+50℃，更优选为Tg～Tg+40℃，进一步优选为Tg～Tg+30℃。延伸倍率优选为1.1～5.5倍，更优选为1.3～3倍。

在拉伸工序中，优选在拉伸处理后对薄膜进行热处理。

热处理是指在Tg+10～Tg+50℃左右(进一步优选为Tg+15～Tg+30℃)下对薄膜实施1～60秒钟(进一步优选为2～30秒钟)的热处理。热定型优选紧接着横向拉伸以在拉幅机内把持于卡盘的状态进行，此时，卡盘间隔可以以横向拉伸结束时的宽度进行，也可以进一步扩大或者缩小宽度来进行。通过实施热处理，能够将Re、Rth调整在本发明的范围内。

(7)卷取

如此得到的片材优选将两端修整并进行卷取。被修整的部分经粉碎处理之后、或者根据需要进行造粒处理或解聚/再聚合等处理之后，作为相同品种的薄膜用原料或作为不同品种的薄膜用原料而进行再利用。修整刀具可以使用旋转式刀具、剪切刀片、刀等任意一种类型的物体即可。关于材质，可以使用碳钢、不锈钢中的任意一种。一股，若使用硬质刀片、陶瓷刀片，则刀具的寿命较长，并且还可以抑制切屑的产生，因此优选。

并且，在卷取前，从防止损伤的观点考虑，还优选在至少单面附加层压膜。优选的卷取张力为1kg/m宽度～50kg/宽度，更优选为2kg/m宽度～40kg/宽度，进一步优选为3kg/m宽度～20kg/宽度。若卷取张力为1kg/m宽度以上，则容易均匀地卷取薄膜，因此优选。并且，若卷取张力为50kg/宽度以下，则薄膜不会被紧紧地卷取，卷取外观美观，薄膜的凸起部分也不会由于蠕变现象而伸长进而成为薄膜起伏的原因，或者也不会因薄膜的伸长而产生残留双折射。通过生产线途中的张力控制(tensioncontrol)来检测卷取张力，优选被控制成恒定的卷取张力的同时进行卷取。由于制膜生产线场所的不同而存在薄膜温度差时，有时因热膨胀而薄膜的长度略微不同，因此需要调整夹持辊之间的拉伸比率，以免在生产线途中规定以上的张力施加于薄膜。

也可以通过张力控制对卷取张力进行控制而以恒定张力进行卷取，但更优选根据卷取的直径施加锥度而使得成为适当的卷取张力。一股，随着卷取直径变大，张力一点点变小，但根据情况，有时还优选随着卷取直径变大而加大张力。这种卷取方法同样也能够适用于下述溶液制膜法。

(溶液制膜)

(1)制膜

当通过溶液制膜法制造光学膜时，首先，使显示出负的双折射性的树脂溶解于溶剂中。溶解于溶剂中时的树脂的合计浓度优选为3～50质量％，更优选为5～40质量％，进一步优选为10～35质量％。所得到的溶液在室温下的粘度通常是1～1,000,000(mPa·s)，优选为10～100,000(mPa·s)，进一步优选为100～50,000(mPa·s)，尤其优选为1,000～40,000(mPa·s)。

作为所使用的溶剂，可以举出苯、甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、1-甲氧基-2-丙醇等溶纤剂系溶剂、二丙酮醇、丙酮、环己酮、甲乙酮、4-甲基-2-戊酮、乙基环己酮、1，2-二甲基环己烷等酮系溶剂、乳酸甲酯、乳酸乙酯等酯系溶剂、2，2，3，3-四氟-1-丙醇、二氯甲烷、氯仿等含卤素溶剂、四氢呋喃、二噁烷等醚系溶剂、1-戊醇、1-丁醇等醇系溶剂。

并且，除上述以外，优选使用SP值(溶解度参数)通常在10～30(MPa^1/2)的范围的溶剂。上述溶剂可以单独使用或同时使用2种以上。当同时使用2种以上溶剂时，优选将作为混合物的SP值的范围设在上述范围内。此时，作为混合物的SP值的值能够由其质量比求出，例如，当为两种的混合物时，若将各溶剂的质量分数设为W1、W2并且将SP值设为SP1、SP2，则混合溶剂的SP值能够作为通过下述式计算出的值来求出。

SP值＝W1·SP1+W2·SP2

另外，也可以为了提高光学膜的表面平滑性而添加流平剂。只要是一股的流平剂，则可以使用任何流平剂，例如可以使用氟系非离子表面活性剂、特殊丙烯酸树脂系流平剂、硅酮系流平剂等。

作为通过溶剂流延法制造光学膜的方法，一股可以举出使用模具或涂布机，将上述溶液涂布于金属滚筒、铁制输送带、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯薄膜、聚四氟乙烯制输送带等基材上，其后，进行干燥并去除溶剂，从基材剥离薄膜的方法。

并且，也能够通过使用喷涂、刷涂、辊旋涂、浸涂等方法，将树脂溶液涂布于基材，其后，进行干燥并去除溶剂，从基材剥离薄膜来制造。另外，可以通过反复进行涂布来控制厚度和表面平滑性等。

并且，当使用聚酯薄膜作为基材时，可以使用经表面处理的薄膜。作为表面处理的方法，可以举出一股进行的亲水化处理方法，例如通过涂布或层压来层叠丙烯酸系树脂或含磺酸盐基的树脂的方法、或通过电晕放电处理等来提高薄膜表面的亲水性的方法等。

(2)干燥

关于上述溶剂流延法的干燥(溶剂去除)工序，并没有特别限制，可以利用一股使用的方法例如经由多个辊在干燥炉中通过的方法等来实施，但若在干燥工序中伴随溶剂的蒸发而产生气泡，则会使薄膜的特性显著下降，因此为了避免该情况，优选将干燥工序设为两级以上的多个工序，并控制各工序中的温度或风量。

并且，光学膜中的残留溶剂量通常是10质量％以下。如此，通过减少残留溶剂，能够进一步减少粘合痕迹故障，因此优选。

(3)拉伸

如上得到的光学膜优选沿纵向(MD)或横向(TD)中的至少单轴方向进行拉伸，更优选沿纵向(MD)及横向(TD)进行双轴拉伸。作为拉伸方法，可以采用熔融制膜时的拉伸方法。

(偏振片)

本发明的偏振片具有上述光学膜及偏振器。偏振片具有偏振器及设置于偏振器两侧的保护膜，保护膜的至少一个为本发明的光学膜。光学膜中，与具有光散射层或防反射层的一侧相反侧的透明支撑体的表面即与偏振器贴合的一侧的表面相对于水的接触角优选在10～50度的范围。例如，可以在本发明的光学膜的单面设置粘合层并配置于显示器的最表面。

(透明导电性薄膜)

本发明的光学膜可以使用于透明导电性薄膜。透明导电性薄膜具有导电层及作为透明树脂薄膜的光学膜。导电层可以以层状形成，优选以具有间歇部的方式形成。间歇部是指未设置导电层的部分，优选间歇部的外周被导电层所包围。本发明中，以具有间歇部的方式形成导电层还称为以图案状或网格状形成导电层。作为导电层，例如可以例示出日本专利公开2013-1009号公报、日本专利公开2012-216550号公报、日本专利公开2012-151095号公报、日本专利公开2012-25158号公报、日本专利公开2011-253546号公报、日本专利公开2011-197754号公报、日本专利公开2011-34806号公报、日本专利公开2010-198799号公报、日本专利公开2009-277466号公报、日本专利公开2012-216550号公报、日本专利公开2012-151095号公报、国际公开2010/140275号小册子、国际公开2010/114056号小册子中所记载的导电层。

更优选本发明中所使用的导电层含有银和亲水性树脂。作为水溶性树脂，例如可以举出明胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖类、纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、聚乙烯胺、壳聚糖、聚赖氨酸、聚丙烯酸、聚藻酸、聚透明质酸、羧基纤维素等。它们通过官能团的离子性而具有中性、阴离子性、阳离子性的性质。在这些之中，尤其优选的是明胶。

尤其优选在本发明中所使用的导电层中使用卤化银照片感光材料。当使用卤化银照片感光材料时，根据感光材料与显影处理的形态，导电层的制造方法包含以下三种形态。

(1)将不含物理显影核的感光性卤化银黑白感光材料进行化学显影或热显影来在感光材料上形成金属银部的方式。

(2)将在卤化银乳剂层中含有物理显影核的感光性卤化银黑白感光材料进行溶解物理显影来在感光材料上形成金属银部的方式。

(3)将不含物理显影核的感光性卤化银黑白感光材料与具有含有物理显影核的非感光性层的受像片材重叠，进行扩散转印显影来在非感光性受像片材上形成金属银部的方式。

上述(1)的方式为一体型黑白显影型，在感光材料上形成光透射性导电性膜等透光性导电性膜。所得到的显影银为化学显影银或热显影银，由于是高比表面积的细丝，因此在后续的电镀或物理显影过程中活性较高。

上述(2)的方式为，在曝光部中，与物理显影核相近的卤化银颗粒被溶解而在显影核上沉积，由此在感光材料上形成光透射性导电性膜等透光性导电性膜。该方式也是一体型黑白显影型。由于显影作用是在物理显影核上的析出，因此是高活性，而显影银是比表面积较小的球形。

上述(3)的方式为，在未曝光部中，卤化银颗粒被溶解并扩散，在受像片材上的显影核上沉积，由此在受像片材上形成光透射性导电性膜等透光性导电性膜。该方式为所谓的分离型，是将受像片材从感光材料剥离后使用的方式。

任何方式都可以选择负型显影处理及反转显影处理中的任意一种显影。另外，在扩散转印方式的情况下，通过使用直接正片(autopositive)型感光材料作为感光材料，能够进行负型显影处理。

在此所说的化学显影、热显影、溶解物理显影、扩散转印显影的含义如本行业中通常使用的术语中所述，照片化学的一股教科书例如菊地真一著“照片化学”(KYORITSUSHUPPANCO.，LTD.，1955年发行)、C.E.K.Mees编“TheTheoryofPhotographicProcesses，4thed.”(McmillanCo.，1977年发行)中作了解说。本案为与液体处理有关的发明，但也可以参考适用热显影方式作为其他显影方式的技术。例如，可以适用日本专利公开2004-184693号、日本专利公开2004-334077号、日本专利公开2005-010752号的各公报、日本专利申请2004-244080号、日本专利申请2004-085655号的各说明书中所记载的技术。

本发明中成为导电层的银盐乳剂层除了银盐和粘结剂以外，还可以含有溶剂或染料等添加剂。作为银盐，可以举出卤化银等无机银盐及乙酸银等有机银盐。本发明中，优选使用作为光传感器的特性优异的卤化银。

银盐乳剂层的形成中所使用的溶剂并没有特别限定，例如可以举出水、有机溶剂(例如，甲醇等醇类、丙酮等酮类、甲酰胺等酰胺类、二甲基亚砜等亚砜类、乙酸乙酯等酯类、醚类等)、离子性液体及它们的混合溶剂。

在银盐乳剂层上可以设置保护层。本发明中，保护层是指由明胶或高分子聚合物这样的粘结剂构成的层，为了显现出防止擦伤或改进力学特性的效果而形成于具有感光性的银盐乳剂层上。其厚度优选为0.5μm以下。保护层的涂布方法及形成方法并没有特别限定，可以适当选择公知的涂布方法及形成方法。例如，关于保护层，可以参考日本专利公开2008-250233号公报等的记载。

另外，本发明中，也可以设置底涂层或抗静电层这样的其他功能层。作为底涂层，可以适用日本专利公开2008-250233号公报的[0021]～[0023]段落的底涂层。并且，作为抗静电层，可以适用日本专利公开2008-250233号公报的[0012]、[0014]～[0020]段落的抗静电层。

另外，上述透明导电性薄膜适合于触摸面板用途，例如能够按照日本专利公开2009-176608的[0073]～[0075]段落的记载来制作触摸面板。

(防反射膜)

本发明的光学膜能够用作防反射膜的支撑体。在如液晶显示装置(LCD)那样为高精细、高品质化的图像显示装置的情况下，优选使用具有上述防尘性并且透明且具有抗静电性能的防反射膜，以防止在显示面上由外光的反射引起的对比度下降及图像的反射眩光。

(显示装置)

本发明的光学膜可以无限制地使用于手机、智能手机、便携式信息终端、汽车导航、平板式PC、销售设备、ATM、FA设备等。并且，可以使用于液晶显示装置(LCD)、等离子体显示器面板(PDP)、电致发光显示器(ELD)或阴极管显示装置(CRT)等各种显示装置。本发明的光学膜或偏振片优选配置于图像显示装置的显示画面的视认侧。

<液晶显示装置>

本发明的光学膜或偏振片尤其优选使用于液晶显示装置等显示器的最表层。液晶显示装置具有液晶单元及配置于其两侧的两片偏振片，液晶单元在两片电极基板之间载持有液晶。另外，有时在液晶单元与一个偏振片之间配置一片光学各向异性层、或者在液晶单元与两个偏振片之间配置两片光学各向异性层。

液晶单元优选为TN模式、VA模式、OCB模式、IPS模式或ECB模式。

TN模式的液晶单元中，无电压施加时，棒状液晶性分子实质上水平取向，并且以60～120°扭曲取向。

TN模式的液晶单元最多用作彩色TFT液晶显示装置，在多数文献中有记载。

VA模式的液晶单元中，无电压施加时，棒状液晶性分子实质上垂直取向。

VA模式的液晶单元中，除了(1)使棒状液晶性分子在无电压施加时实质上垂直取向、在电压施加时实质上水平取向的狭义的VA模式的液晶单元(记载于日本专利公开平2-176625号公报)以外，还包括(2)为了扩大视角，将VA模式多域化的(MVA模式的)液晶单元(记载于SID97、DigestofTech.Papers(预稿集)28(1997)845)、(3)使棒状液晶性分子在无电压施加时实质上垂直取向、电压施加时扭曲多域取向的模式(n-ASM模式)的液晶单元(记载于日本液晶讨论会的预稿集58～59(1998))及(4)SURVAIVAL模式的液晶单元(在LCDInternational98发表)。

OCB模式的液晶单元为使棒状液晶性分子在液晶单元的上部和下部实质上沿相反方向(对称地)取向的弯曲取向模式的液晶单元，其公开于美国专利第4583825号、美国专利5410422号的各说明书。由于棒状液晶性分子在液晶单元的上部和下部对称地取向，因此弯曲取向模式的液晶单元具有自光学补偿功能。因此，该液晶模式被称作OCB(OpticallyCompensatoryBend)液晶模式。弯曲取向模式的液晶显示装置具有响应速度较快的优点。

IPS模式的液晶单元是在向列型液晶上施加横向电场来进行转换的方式，其详细内容记载于Proc.IDRC(AsiaDisplay’95)，p.577-580及Proc.IDRCp.707-710。

ECB模式的液晶单元在无电压施加时棒状液晶性分子实质上水平取向。ECB模式是具有最简单结构的液晶显示模式之一，例如其详细内容记载于日本专利公开平5-203946号公报。

<等离子体显示器面板(PDP)>

等离子体显示器面板(PDP)一股由气体、玻璃基板、电极、电极引线材料、厚膜印刷材料、荧光体构成。玻璃基板为前面玻璃基板和背面玻璃基板这两片。在两片玻璃基板上形成电极和绝缘层。进而还在背面玻璃基板上形成荧光体层。将两片玻璃基板装配在一起，并在之间封入气体。

等离子体显示器面板(PDP)可以使用已经市售的等离子体显示器面板。关于等离子体显示器面板，在日本专利公开平5-205643号、日本专利公开平9-306366号的各公报中有记载。

有时将前面板配置于等离子体显示器面板的前面。前面板优选为了保护等离子体显示器面板而具备充分的强度。前面板即可以与等离子体显示器面板保持间隙地放置来进行使用，也可以直接贴合于等离子体显示器主体来进行使用。

如等离子体显示器面板这样的图像显示装置中，可以将滤光器直接贴合于显示器表面。并且，当在显示器前设有前面板时，也可以在前面板的表侧(外侧)或背侧(显示器侧)贴附滤光器。

(有机EL元件)

本发明的光学膜可以用作有机EL元件等基板(基材薄膜)或保护膜。当将本发明的薄膜使用于有机EL元件等时，可以应用日本专利公开平11-335661号、日本专利公开平11-335368号、日本专利公开2001-192651号、日本专利公开2001-192652号、日本专利公开2001-192653号、日本专利公开2001-335776号、日本专利公开2001-247859号、日本专利公开2001-181616号、日本专利公开2001-181617号、日本专利公开2002-181816号、日本专利公开2002-181617号、日本专利公开2002-056976号等各公报中所记载的内容。并且，优选与日本专利公开2001-148291号、日本专利公开2001-221916号、日本专利公开2001-231443号的各公报中所记载的内容一起使用。

实施例

以下，举出实施例和比较例对本发明的特征进行进一步具体的说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的宗旨，则可以适当进行变更。因此，本发明的范围不应解释为受以下所示的具体例的限定。

(实施例1)

在市售的间规立构聚苯乙烯树脂XARECS105(IdemitsuKosanCo.，Ltd.制)中混合抗氧化剂“Irganox1010”0.3wt％，使用30mmΦ单螺杆挤出机在300℃下熔融挤出，并利用静电销接(pinning)法粘附于50℃的冷却辊，制造出未延伸膜。此时，在挤出机与模具之间依次配置网版过滤器、齿轮泵、叶片型圆盘过滤器，并将这些用熔体配管进行连接，从宽度450mm、模唇间隙1mm的模具中挤出。

接着，将未延伸膜沿横向在115℃下拉伸至3.8倍之后，在200℃下一边沿宽度方向松弛5％一边实施10秒钟热处理，制作厚度100μm的延伸膜，并测定所得到的延伸膜的物性，将其结果示于表1。

(实施例2～6)

在实施例1中改变挤出量并改变未延伸膜的厚度，除此以外，与实施例1同样地得到实施例2～6的延伸膜。

(实施例7)

在实施例6中将材料改变为市售的无规立构聚苯乙烯树脂HF77(PSJapanCorporation制)，除此以外，与实施例1同样地得到实施例6的延伸膜。

(实施例8)

在实施例6中将材料改变为市售的改性丙烯酸树脂DELPET980N(AsahiKaseiCorporation制)，除此以外，与实施例1同样地得到实施例7的延伸膜。

(比较例1)

按照日本专利公开2011-215646的实施例中所记载的方法来制作比较例1的薄膜，将评价结果总结于表1。

(评价方法)

(Re、Rth)

使用OjiScientificInstrumentsCo.，Ltd.制KOBRA21ADH或WR，在光线波长550nm下进行测定。面内相位差值Re是以入射光线与薄膜面垂直的状态测定的值。膜厚方向相位差值Rth通过如下来求出：一点点改变入射光线与薄膜面之间的角度，测定各角度下的相位差值，并通过利用公知的折射率椭圆体公式进行曲线拟合来求出作为三维折射率的nx、ny、nz并代入Rth＝{(nx+ny)/2-nz}×d中。另外，此时，需要薄膜的平均折射率，其能够使用另外的阿贝折射仪(ATAGOCO.，LTD.制，商品名“阿贝折射仪2-T”)进行测定。

(波长分散)

使用OjiScientificInstrumentsCo.，Ltd.制KOBRA21ADH或WR，测定光线波长450nm和650nm的面内相位差Re，并由下述式测定波长分散。

波长分散＝Re(450nm)/Re(650nm)

(含水率)

在25℃、相对湿度60％的环境下将薄膜放置24小时之后，用KYOTOELECTRONICSMANUFACTURINGCO.，LTD.制KarlFischer水分测定仪MKC610测定含水率。

(载荷挠曲温度)

使用TAInstrumentCo.，Ltd.制Q400施加0.1N/mm²的载荷，以5℃/min温度从25℃升温至160℃，测定尺寸发生变化的温度。

(涂布工序中的皱纹)

在使本申请中制作的薄膜通过后述的制作银网格方式的透明导电性薄膜的工序时，以四个阶段对所产生的皱纹故障进行评价。

A：能够以无皱纹的状态通过工序。

B：局部产生皱纹，但对品质没有影响。

C：局部产生皱纹，对一部分品质带来影响。

D：产生皱纹，品质恶化。

(可见性)

在由PVA和碘构成的偏振器的一侧，以偏振器的吸收轴与薄膜的取向主轴垂直或平行的方式贴附已制作的薄膜，在其相反面贴附TAC膜(FUJIFILMCorporation制，厚度80μm)来制作偏振片。将所得到的偏振片以聚酯薄膜成为视认侧的方式设置于液晶显示装置的射出光侧，所述液晶显示装置将由发光元件构成的白色LED作为光源(NICHIACORPORATION，NSPW500CS)，所述发光元件是将蓝色发光二极管和钇/铝/石榴石系黄色荧光体组合而得到。该液晶显示装置在液晶单元的入射光侧具有将两片TAC膜作为偏振器保护膜的偏振片。从液晶显示装置的偏振片的正面及倾斜方向进行目视观察，对产生彩虹状不均匀的视角(将面板正面设为0°)进行测定。

(高湿度环境下的响应性)

在本申请中所制作的透明导电性薄膜上形成后述的透明导电层，并组装于触摸面板中，在25℃、相对湿度60％及60℃、相对湿度90％的环境下放置24hr，以下述四个阶段对两种环境下的触摸面板的响应性之差进行评价。

A：触摸面板的动作未观察到差异。

B：存在触摸面板的动作稍微观察到差异的部分，但实用上没有问题。

C：在触摸面板的、特别是边缘部，触摸面板的动作观察到差异。

D：在触摸面板的整个面，触摸面板的动作观察到差异。

若比较表1的实施例1及比较例1，则与比较例1相比，实施例1的薄膜的观察不到彩虹状不均匀的视角较广。这是惊人的结果。

根据小池等的公知文献(JapaneseJournalofAppliedPhysics50(2011)042602)，陈述有以下内容：若薄膜的延迟较大且波长分散较大，则彩虹状不均匀的改进效果较大。然而，可知尽管本发明的薄膜的Re、Rth与实施例1相同，且波长分散较小，但视角较广。并且，耐热性也较高，且含水率也较低，因此与比较例1相比，触摸面板的响应性的湿度变化较少，用于形成底涂层、导电层的涂布工序中的皱纹的产生也不成问题。

实施例2～6中，通过改变薄膜的厚度来使Re、Rth变化。实施例2～6中，视角较广，且涂布工序中的皱纹的产生也不成问题。尤其，在实施例2～4中，可知触摸面板的响应性的湿度变化较少且良好。

实施例7、8中，使用间规立构聚苯乙烯以外的负的双折射性树脂来确认本发明的效果。此时，也能够得到较广的视角，关于涂布工序中的皱纹的产生及触摸面板的响应性的湿度变化，也在一定程度上得到改善。

由以上可知，与现有的薄膜相比，本发明的薄膜的视角较广，当使用于透明导电性薄膜的支撑体时，能够得到良好的性能。

(透明导电性薄膜的制作)

<底涂层的涂布>

对如上制膜的实施例及比较例的光学膜的单面进行电晕处理之后，涂布设置第一底涂层、第二底涂层。第一底涂层、第二底涂层的组成及涂布方法如日本专利公开2010-256908的[0117]～[0120]段落中所记载。

(含有水溶性树脂和银的导电层的形成)

在上述底涂层上涂布设置下述卤化银感光材料来制作透明导电性薄膜。

<卤化银感光材料>

制备相对于水介质中的150g的Ag含有明胶10.0g且含有球当量直径平均0.1μm的碘溴氯化银颗粒(I＝0.2摩尔％，Br＝40摩尔％)的乳剂。另外，将K₃Rh₂Br₉及K₂IrCl₆以浓度成为10^-7(摩尔/摩尔银)的方式添加于该乳剂中，在溴化银颗粒中掺杂Rh离子和Ir离子。在该乳剂中添加Na₂PdCl₄，进而使用氯金酸和硫代硫酸钠进行金硫增感之后，以银的涂布量成为10g/m²的方式，与明胶硬膜剂一起涂布于透明树脂薄膜的上述底涂层上。此时，Ag∶明胶的体积比设为2∶1。

以0.7m的宽度涂布500m分钟，以残留所涂布的中央部0.5m的方式，将该两端切除来得到辊状的卤化银感光材料。

<曝光>

关于曝光的图案，按照日本专利4820451号的图1所示的图案来形成。将小格子18的排列间距Ps设为200μm，将中格子20a～h的排列间距Pm设为2×Ps。并且，将小格子18的导电部的厚度设为2μm，将宽度设为10μm。曝光是经由上述图案的光掩膜，使用将高压汞灯作为光源的平行光来进行曝光。

并且，按照日本专利4820451的图5也可以形成导电图案，下述评价结果可以得到与图1的情况相同的结果。

<显影处理>

定影液1L的配方如下所述。

使用上述处理剂，将曝光后的感光材料使用FujifilmCorporation制自动显影机FG-710PTS，在处理条件：显影35℃、30秒、定影34℃、23秒、水洗、流水(5L/分钟)下进行20秒处理。

(触摸面板的制作)

使用上述透明导电性薄膜，按照日本专利公开2009-176608的[0073]～[0075]段落的记载制作出触摸面板。确认到本发明的薄膜具有韧性优异且色调变化较小的良好的性能。

(防反射膜的制作)

使用本发明的薄膜，按照发明协会公开技报(公技号2001-1745)的实施例47制作出低反射膜，其结果得到了良好的光学性能。

产业上的可利用性

根据本发明，能够得到耐热性和耐湿性优异且充分确保可见性的光学膜。因此，本发明光学膜还优选用作透明导电性薄膜等，其产业上的可利用性较高。

Claims

1.一种光学膜，其使用于具有偏振器的显示装置，其特征在于，

Re＝1000～30000nm，Rth＝-30000～-1000nm。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其中，

所述光学膜的厚度为10～500μm。

3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，

所述光学膜在25℃、相对湿度60％下的平衡含水率为0.1wt％以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学膜，其中，

所述光学膜的载荷挠曲温度为105℃以上。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学膜，其中，

所述光学膜为聚苯乙烯系薄膜。

6.根据权利要求5所述的光学膜，其中，

所述聚苯乙烯系薄膜含有结晶性的聚苯乙烯。

7.根据权利要求5或6所述的光学膜，其中，

所述聚苯乙烯系薄膜具有间规立构结构。

8.一种偏振片，其特征在于，具有权利要求1至7中任一项所述的光学膜及偏振器。

9.一种透明导电性薄膜，其特征在于，具有权利要求1至7中任一项所述的光学膜及导电层。

10.一种表面保护膜，其特征在于，使用权利要求1至7中任一项所述的光学膜。

11.一种液晶显示装置，其特征在于，使用权利要求1至7中任一项所述的光学膜。