KR101768556B1 - 광학 필름, 편광판, 투명 도전성 필름, 표면 보호 필름 및 액정 표시 장치 - Google Patents

광학 필름, 편광판, 투명 도전성 필름, 표면 보호 필름 및 액정 표시 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 내열성이나 내습성이 우수하고, 또한 시인성을 충분히 확보할 수 있는 광학 필름을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명은, 편광자를 갖는 표시 장치에 이용되는 광학 필름으로서, Re=1000~30000nm이며, Rth=-30000~-1000nm인 광학 필름에 관한 것이다. 또한 본 발명은 광학 필름을 갖는 편광판, 투명 도전성 필름, 표면 보호 필름 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.

Description

광학 필름, 편광판, 투명 도전성 필름, 표면 보호 필름 및 액정 표시 장치{OPTICAL FILM, POLARIZATION PLATE, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, SURFACE PROTECTION FILM, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS}
본 발명은, 광학 필름 및 표시 장치에 관한 것이다. 구체적으로는, 본 발명은, 편광자를 갖는 표시 장치에 이용되는 광학 필름으로서, 면내 방향의 리타데이션(Re)과, 두께 방향의 리타데이션(Rth)이 특정 범위 내에 있는 광학 필름에 관한 것이다.
최근, 액정 표시 장치(LCD)의 용도가 확대되고 있으며, 옥외에서 이용되는, 스마트 폰, 카 내비게이션, 디지털 카메라, 디지털 사이니지 등에 이용되고 있다. 또, 액정 디스플레이 시장의 융성에 따라, 다양한 필름이 개발되고 있다. 일반적으로, LCD용의 광학 필름은, 비교적, 광학 이방성이 작은 필름이 이용되어 왔다. 그러나, 최근에는, 광학 이방성이 큰 폴리에스터 필름을, 액정 표시 장치에 도입하여 사용하는 제안이 이루어지고 있다(특허문헌 1 및 2).
예를 들면, 특허문헌 1에는, 면내 방향의 리타데이션(Re)이 3000~30000nm인 폴리에스터 필름이 개시되어 있다. 또, 특허문헌 2에는, 면내 방향의 리타데이션(Re)이 3000~30000nm인 폴리에스터 필름으로서, Re/Rth≥0.2의 필름이 개시되어 있다. 또한, 이들 폴리에스터 필름의 두께 방향의 리타데이션(Rth)은 정의 값이다.
특허문헌 1 및 2에서는, 이러한 광학 이방성이 큰 폴리에스터 필름을 표시 장치 등에 이용함으로써, 편광 선글라스를 이용한 경우이더라도 양호한 시인성이 얻어진다고 하고 있다. 또, 이들 폴리에스터 필름을 편광자 보호 필름으로서 이용한 경우, 경사 방향으로부터 관찰해도, 무지개 형상의 색 불균일(무지개 불균일)이 발생하지 않는다고 하고 있다.
특허문헌 1: 일본 특허공보 4888853호 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2012-256014호
그러나, 상기 폴리에스터 필름에서는, 시야각을 변화시켰을 때에, 무지개 불균일이 발생해 버리기 때문에, 무지개 불균일의 개량이 불충분하여, 추가적인 개량이 요구되고 있었다.
또, 종래의 광학 이방성이 큰 폴리에스터 필름은, 내열성이나 내습성이 불충분하여, 가열 공정을 거쳐 형성되는 투명 도전성 필름의 용도에는, 부적합하다는 문제가 있었다.
따라서 본 발명자들은, 이러한 종래 기술의 과제를 해결하기 위하여, 시인성을 충분히 확보할 수 있고, 또한, 내열성이나 내습성이 우수한 광학 필름을 제공하는 것을 목적으로 하여 검토를 진행시켰다.
상기의 과제를 해결하기 위하여 예의검토를 행한 결과, 본 발명자들은, 편광자를 갖는 표시 장치에 이용되는 광학 필름에 있어서, 면내 방향의 리타데이션(Re)을 1000~30000nm로 하고, 두께 방향의 리타데이션(Rth)을 0nm 미만으로 함으로써, 내열성이나 내습성을 높일 수 있으며, 또한 시인성을 양호하게 할 수 있는 것을 발견했다.
구체적으로, 본 발명은, 이하의 구성을 갖는다.
[1] 편광자를 갖는 표시 장치에 이용되는 광학 필름으로서, Re=1000~30000nm이며, Rth=-30000~-1000nm인 광학 필름.
[2] 광학 필름의 두께가, 10~500μm인 [1]에 따른 광학 필름.
[3] 광학 필름의, 25℃, 상대 습도 60%에 있어서의 평형 함수율은 0.1wt% 이하인 [1] 또는 [2]에 따른 광학 필름.
[4] 광학 필름의 하중 변형 온도가, 105℃ 이상인 [1]~[3] 중 어느 하나에 따른 광학 필름.
[5] 광학 필름이, 폴리스타이렌계 필름인 [1]~[4] 중 어느 하나에 따른 광학 필름.
[6] 폴리스타이렌계 필름이, 결정성의 폴리스타이렌을 포함하는 [5]에 따른 광학 필름.
[7] 폴리스타이렌계 필름이, 신디오택틱 구조를 갖는 [5] 또는 [6]에 따른 광학 필름.
[8] [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 따른 광학 필름과, 편광자를 갖는 편광판.
[9] [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 따른 광학 필름과, 도전층을 갖는 투명 도전성 필름.
[10] [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 따른 광학 필름을 이용한 표면 보호 필름.
[11] [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 따른 광학 필름을 이용한 액정 표시 장치.
본 발명에 의하면, 시인성을 충분히 확보할 수 있고, 또한, 내열성이나 내습성이 우수한 광학 필름을 얻을 수 있다. 본 발명의 광학 필름은, 상기와 같은 특성을 가지기 때문에, 투명 도전성 필름의 용도로서도 바람직하게 이용할 수 있다.
이하에 있어서, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다. 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 대표적인 실시형태나 구체예에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그러한 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 있어서 "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는 "~" 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로 하여 포함하는 범위를 의미한다.
(광학 필름)
본 발명은, 편광자를 갖는 표시 장치에 이용되는 광학 필름에 관한 것이다. 본 발명의 필름은, 편광자를 갖는 표시 장치에 이용되는 광학 용도용 필름으로서 바람직하게 이용할 수 있고, 광학 보상 필름으로서 특히 바람직하게 이용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름은, Re=1000~30000nm이며, Rth=-30000~-1000nm이다. 즉, 본 발명의 광학 필름의 양태 중 하나는, 부의 복굴절성 수지를 함유하는 것이다. 부의 복굴절성을 나타내는 수지란, 분자가 1축성의 배향을 취하여 형성된 층에 광이 입사했을 때, 배향 방향의 광의 굴절률이 배향 방향에 직교하는 방향의 광의 굴절률보다 작아지는 수지를 말한다.
본 발명의 광학 필름은, Re=1000~30000nm이며, Rth=-30000~-1000nm이다. Re는, 3000~20000nm인 것이 보다 바람직하고, 5000~20000nm인 것이 더 바람직하다. 또, Rth는, -20000~-3000nm인 것이 보다 바람직하고, -20000~-5000nm인 것이 더 바람직하다. 이와 같이, 광학 필름의 면내 방향과 두께 방향의 리타데이션을 상기 범위 내로 함으로써, 광학 필름을 표시 장치에 도입했을 때에, 무지개 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있으며, 특히, 선행기술에 비하여, 무지개 불균일이 발생하지 않는 시야각을 넓게 할 수 있다.
여기에서, 광학 필름의 면내 방향의 리타데이션(Re)은, 하기 식 (1)로 규정되고, 두께 방향의 리타데이션(Rth)은, 하기 식 (2)로 규정된다.
Re=(nx-ny)×d (1)
Rth={(nx+ny)/2-nz}×d (2)
식 (1) 및 (2) 중, nx는 광학 필름면 내의 지상축(遲相軸) 방향의 굴절률이고, ny는 광학 필름면 내의 진상축(進相軸) 방향의 굴절률이며, nz는 광학 필름의 두께 방향의 굴절률이고, d는 광학 필름의 두께를 나타낸다.
광학 필름의 면내 방향의 리타데이션(Re)과 두께 방향의 리타데이션(Rth)은, 오지 게이소쿠 기키(주)제 KOBRA 21ADH 또는 WR을 사용하여, 광선 파장 550nm로 측정할 수 있다. Re는, 입사 광선이 필름면에 수직인 상태에서 측정한 것이다. Rth는, 입사 광선과 필름면과의 각도를 조금씩 변경하여 각각의 각도에서의 위상차 값을 측정하고, 공지의 굴절률 타원체의 식으로 커브 피팅함으로써 3차원 굴절률인 nx, ny, nz를 구하여, Rth={(nx+ny)/2-nz}×d에 대입함으로써 구했다. 또한 그 때, 필름의 평균 굴절률이 필요하게 되지만, 별도로 아베 굴절계((주)아타고사제 상품명 "아베 굴절계 2-T")를 이용하여 측정할 수 있다.
본 발명의 광학 필름의 막 두께는, 10~500μm인 것이 바람직하다. 광학 필름의 막 두께는, 15~400μm인 것이 보다 바람직하고, 15~300μm인 것이 더 바람직하며, 20~200μm인 것이 보다 더 바람직하다. 또한, 본 발명의 광학 필름을 표시 장치 등에 이용하는 경우, 박형화의 관점에서, 광학 필름의 막 두께를 100μm 이하로 하는 것도 가능하며, 80μm 이하로 하는 것이 보다 바람직하고, 60μm 이하로 하는 것이 더 바람직하다.
본 발명의 광학 필름의, 25℃, 상대 습도 60%에 있어서의 평형 함수율은 0.1wt% 이하인 것이 바람직하고, 0.05wt% 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.03wt% 이하인 것이 더 바람직하다. 평형 함수율을 상기 범위 내로 함으로써, 정전 용량식의 터치 패널이 도입된 표시 장치 등에 이용한 경우에, 흡수율을 억제할 수 있고, 이로써, 유전율의 변화를 작게 할 수 있다. 이로 인하여, 고습도 환경하에 둔 경우이더라도 응답 속도가 느려지지 않아, 표시 장치의 용도로서 바람직하게 이용된다.
또, 본 발명에서는, 광학 필름의 하중 변형 온도는, 105℃ 이상인 것이 바람직하고, 120℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 150℃ 이상인 것이 더 바람직하다. 하중 변형 온도를 상기 범위 내로 함으로써, 고온 환경하에 있어서도 광학 필름을 이용할 수 있으며, 특히, 투명 도전성 필름의 지지체 등에 적합하다.
여기에서, 광학 필름의 하중 변형 온도는, 열기계 장치(TMA)를 이용하여, 0.1N/mm2의 하중을 가하고, 온도 25℃에서 200℃의 사이에서, 필름의 치수가 변화하기 시작하는 온도를, 하중 변형 온도로서 구할 수 있다.
본 발명에 이용하는 부의 복굴절성 수지의 유리 전이 온도는, 100℃ 이상인 것이 바람직하다. 본 발명의 필름의 유리 전이 온도는, 100~200℃인 것이 바람직하고, 110~175℃인 것이 보다 바람직하며, 110~150℃인 것이 특히 바람직하다. 또한, 본 발명의 필름의 유리 전이 온도는, 주사형 시차 열량계(DSC)를 이용하여, 측정 팬에 본 발명의 필름을 넣고, 이를 질소 기류 중에서, 10℃/분으로 30℃에서 300℃까지 승온한 후(1st-run), 30℃까지 -10℃/분으로 냉각하고, 재차 10℃/분으로 30℃에서 300℃까지 승온했다(2nd-run). 2nd-run으로 베이스 라인이 저온측으로부터 편기(偏奇)하기 시작하는 온도를 유리 전이 온도(Tg)로서 구할 수 있다.
(복굴절성 수지)
본 발명의 광학 필름은, 부의 복굴절성을 나타내는 수지를 함유한다. 부의 복굴절성을 나타내는 수지는, 이들 조건을 충족시키는 한 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 필름이 용융 압출법을 이용하여 제작하는 경우는, 용융 압출 성형성이 양호한 재료를 이용하는 것이 바람직하고, 그 관점에서는, 환상 올레핀계 수지(단, 정의 복굴절성 수지, 즉 분자가 1축성의 배향을 취하여 형성된 층에 광이 입사했을 때, 배향 방향의 광의 굴절률이 배향 방향에 직교하는 방향의 광의 굴절률보다 커지는 수지를 제외함), 셀룰로스아실레이트계 수지(단, 정의 복굴절성 수지인 것을 제외함), 말레이미드계 수지, 폴리스타이렌계 수지, 아크릴계 수지, 폴리스타이렌류 등의 스타이렌계 수지, 폴리아크릴로나이트릴계 수지, 폴리바이닐아세탈계 수지를 이용할 수 있다. 본 발명에서는, 그 중에서도, 폴리스타이렌계 수지를 이용하는 것이 특히 바람직하고, 본 발명의 광학 필름은, 폴리스타이렌계 필름인 것이 바람직하다.
본 발명에서 이용되는 부의 복굴절성 수지는 1종의 수지를 함유하고 있어도 되고, 서로 다른 2종 이상의 수지를 함유하고 있어도 된다. 또, 1종 단독으로 부의 복굴절성을 갖는 수지를 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 블렌드한 경우에 부의 복굴절성을 나타내는 경우는, 2종 이상을 병용해도 된다. 부의 복굴절성 수지가, 단독으로 부의 복굴절성 수지인 수지와, 단독으로 정의 복굴절성 수지인 수지로 이루어지는 폴리머 블렌드인 경우, 단독으로 부의 복굴절성 수지인 수지의, 단독으로 정의 복굴절성 수지인 수지에 대한 배합 비율로서는, 양자의 고유 복굴절값의 절댓값의 크기나, 성형 온도에 있어서의 복굴절성의 발현성 등에 따라 다르다. 또, 폴리머 블렌드는, 단독으로 부의 복굴절성 수지인 수지와, 단독으로 정의 복굴절성 수지인 수지 이외에, 그 외의 성분을 함유하고 있어도 된다. 그 외의 성분은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들면, 상용화제 등을 적합하게 들 수 있다. 상용화제는, 블렌드 시에 상 분리가 발생해 버리는 경우 등에 적합하게 사용할 수 있으며, 상용화제를 사용함으로써, 단독으로 부의 복굴절성 수지인 수지와, 단독으로 정의 복굴절성 수지인 수지와의 혼합 상태를 양호하게 할 수 있다.
(폴리스타이렌계 필름)
본 발명에서 이용되는 복굴절성 수지는, 폴리스타이렌계 수지인 것이 보다 바람직하고, 본 발명에 사용 가능한 폴리스타이렌계 수지란, 주성분으로서 스타이렌 및 그들의 유도체를 중합하여 얻어지는 수지 및 그 외의 수지의 공중합체를 가리키고, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한 특별히 한정되지 않으며, 공지의 폴리스타이렌계 열가소성 수지 등을 이용할 수 있다. 특히 복굴절, 필름 강도, 내열성을 개량할 수 있는, 공중합체 수지를 이용하는 것이 바람직하다.
공중합체 수지로서는, 예를 들면, 스타이렌-아크릴로나이트릴계 수지, 스타이렌-아크릴계 수지, 스타이렌-무수 말레산계 수지, 혹은 이들의 다원(2원, 3원 등) 공중합 폴리머 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 스타이렌-아크릴계 수지나 스타이렌-무수 말레산계 수지가 내열성·필름 강도의 관점에서 바람직하다.
스타이렌-무수 말레산계 수지는, 스타이렌과 무수 말레산과의 질량 조성비가, 스타이렌:무수 말레산=95:5~50:50인 것이 바람직하고, 스타이렌:무수 말레산=90:10~70:30인 것이 보다 바람직하다. 또, 고유 복굴절을 조정하기 위하여, 스타이렌계 수지의 수소 첨가를 행하는 것도 바람직하게 이용할 수 있다. 스타이렌-무수 말레산계 수지로서는, 예를 들면, 노바 케미컬사제의 "Daylark D332" 등을 들 수 있다. 또, 스타이렌-아크릴계 수지로서는, 후술하는, 아사히 가세이 케미컬사제의 "델펫 980N" 등을 이용할 수 있다.
본 발명의 폴리스타이렌계 필름은, 결정성의 폴리스타이렌을 포함하는 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 폴리스타이렌계 필름은 신디오택틱 구조를 갖고 있어도 되고, 아이소택틱 구조여도 되며, 어택틱 구조를 갖고 있어도 되지만, 신디오택틱 구조를 갖는 것이 바람직하다. 신디오택틱 구조를 갖는 폴리스타이렌계 수지는, 역학적 강도가 높고, 열수축률도 작아 특히 우수하다. 본 발명에서 이용하는 신디오택틱-폴리스타이렌계 중합체란, 탄소-탄소 결합으로 형성되는 주쇄에 대하여 측쇄인 페닐기나 그 유도체가 교대로 반대 방향에 위치하는 입체 구조를 갖는 것이며, 그 입체 규칙성(택티시티)은 동위 탄소에 의한 핵자기 공명법(13C-NMR법)에 의하여 정량되는 것이 일반적이고 또한 정밀도가 우수하다. 이 13C-NMR법에 의하여 측정되는 입체 규칙성은, 연속하는 복수 개의 구성 단위의 존재 비율, 예를 들면, 2개의 경우는 다이아드, 3개의 경우는 트라이아드, 5개의 경우는 펜타드에 의하여 나타낼 수 있다. 본 발명에서 말하는 신디오택틱 구조를 갖는 스타이렌계 중합체란, 통상은 라세믹 다이아드로 75~100%, 바람직하게는 85~100%, 혹은 라세믹 펜타드로 30~100%, 바람직하게는 50~100%의 입체 규칙성을 갖는 것이다. 구체적으로는 입체 규칙성의 폴리스타이렌, 폴리(알킬스타이렌), 폴리(할로젠화 스타이렌), 폴리(할로젠화 알킬스타이렌), 폴리(알콕시스타이렌), 폴리(바이닐벤조산 에스터)를 들 수 있다. 여기에서 폴리(알킬스타이렌)으로서는, 폴리(메틸스타이렌), 폴리(에틸스타이렌), 폴리(프로필스타이렌), 폴리(뷰틸스타이렌), 폴리(페닐스타이렌), 폴리(바이닐나프탈렌), 폴리(바이닐스타이렌), 폴리(아세나프틴) 등이 있다. 또, 폴리(할로젠화 스타이렌)으로서는, 폴리(클로로스타이렌), 폴리(브로모스타이렌), 폴리(플루오로스타이렌) 등이 있다. 또, 폴리(알콕시스타이렌)으로서는, 폴리(메톡시스타이렌), 폴리(에톡시스타이렌) 등이 있다. 이들 중에서, 보다 바람직한 것은, 폴리(스타이렌), 폴리(메틸스타이렌)이며, 더 바람직한 것이, 폴리(스타이렌)이다.
이들 신디오택틱-폴리스타이렌계 중합체는, 상술과 같은 호모폴리머 이외의 공중합체여도 된다. 공중합체의 코모노머 성분으로서는, 상술한 스타이렌계 중합체를 구성하는 모노머 외, 에틸렌, 프로필렌, 뷰텐, 헥센, 옥텐 등의 올레핀 모노머, 뷰타다이엔, 아이소프렌 등의 다이엔 모노머, 환상 올레핀 모노머, 환상 다이엔 모노머나 메타크릴산 메틸, 무수 말레산, 아크릴로나이트릴 등의 극성 바이닐 모노머 등을 들 수 있다. 이들 중, 스타이렌을 주성분으로 하여, 이것에, 알킬스타이렌, 수소화 스타이렌, 할로젠화 스타이렌을 공중합한 것이 바람직하다. 이들 중에서도, 바람직한 것이 p-메틸스타이렌, m-메틸스타이렌, p-터셔리뷰틸스타이렌, p-클로로스타이렌, m-클로로스타이렌, p-플루오로스타이렌, 수소화 스타이렌이며, 특히 바람직한 것이 p-메틸스타이렌이다. 이들의 첨가량은, 바람직하게는, 폴리머 전체의 0~30wt%, 보다 바람직하게는 1~20wt%, 더 바람직하게는 3~10wt%이다. 이들의 공중합에 의하여, 결정화 속도를 늦춰 구정(球晶)의 생성을 억제한다. 그 결과 투명성이 높고, 내절강도가 높은 신디오택틱-폴리스타이렌계 필름을 달성할 수 있다.
또, 신디오택틱-폴리스타이렌계 중합체와 다른 폴리머를 블렌드하여 사용해도 된다. 바람직한 폴리머 블렌드 성분으로서는, 상술과 같은 신디오택틱 구조를 갖는 스타이렌계 중합체나, 어택틱 구조를 갖는 스타이렌계 중합체가 상용성의 관점에서 바람직하다. 이들 중에서도 특히, 신디오택틱 구조를 갖는 폴리스타이렌을 주성분으로 하고, 이것에, p-메틸스타이렌, m-메틸스타이렌, p-터셔리뷰틸스타이렌, p-클로로스타이렌, m-클로로스타이렌, p-플루오로스타이렌, 수소화 스타이렌 등을 구성 성분으로 하여 이루어지는 신디오택틱 구조 혹은 어택틱 구조의 호모폴리머, 혹은/및 이들 모노머 중 적어도 1종과 스타이렌으로 이루어지는 신디오택틱 구조 혹은 어택틱 구조를 갖는 코폴리머를 블렌드하는 것이 바람직하다. 특히, 신디오택틱 구조를 갖는 p-메틸스타이렌이나 신디오택틱 구조를 갖는 p-메틸스타이렌과 스타이렌의 공중합체를, 신디오택틱 구조를 갖는 폴리스타이렌과 블렌드한 것이 바람직하다. 이들 블렌드하는 폴리머의 첨가량은 바람직하게는, 폴리머의 합계량의 0~30wt%, 보다 바람직하게는 1~20wt%, 더 바람직하게는 3~10wt%이다.
본 발명에서 이용하는 신디오택틱-폴리스타이렌계 중합체의 분자량은, 중량 평균 분자량이 10만~80만인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는, 20만~60만인 것이다. 또한 분자량 분포는, 중량 평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn)이 1.5~5인 것이 바람직하며, 2~4가 더 바람직하다. 이러한 신디오택틱-폴리스타이렌계 중합체는, 예를 들면, 불활성 탄화수소 용매 중 또는, 용매의 부존재하에, 타이타늄 화합물 및 물과 트라이알킬알루미늄의 축합 생성물을 촉매로 하여, 스타이렌계 단량체(상기 스타이렌계 중합체의 구성 성분에 대응하는 단량체)를 중합함으로써 제조할 수 있다(일본 공개특허공보 소62-187708호). 혹은 타이타늄 화합물 및 양이온과 복수의 기가 원소에 결합한 음이온으로 이루어지는 화합물을 촉매로 하여 중합함으로써 제조할 수 있다(일본 공개특허공보 평4-249504).
상기, 신디오택틱 폴리스타이렌의 시판품으로서는, 자렉(이데미쓰 고산사제)을 들 수 있다.
(첨가제)
본 발명의 광학 필름은, 상기 부의 복굴절성을 나타내는 수지 이외의 재료를 함유하고 있어도 된다. 수지 이외의 재료로서는, 다양한 첨가제를 들 수 있으며, 그 예에는, 안정화제, 자외선 흡수제, 광안정화제, 가소제, 미립자 및 광학 조정제가 포함된다. 또한, 첨가제의 구체예에 대해서는, 일본 공개특허공보 2010-137422호의 단락 [0054]~[0065]의 기재를 참조할 수 있다.
(그 외의 양태)
또한, 본 발명의 광학 필름은, 고 리타데이션 필름과 저 리타데이션 필름을 적층한 복층 필름이어도 된다. 예를 들면, 본 발명의 광학 특성(Re=1000~30000nm이며, Rth=-30000~-1000nm)을 만족하는 필름으로서는, TAC 필름 등의 위상차가 작은 필름에, 비액정성 고분자 유기 화합물을 주성분으로서 함유하는 층, 및 봉 형상 액정을 주성분으로서 포함하는 조성물의 호메오트로픽 배향을 고정하여 이루어지는 층을 적층한 복층 필름을 들 수 있다. 또한, 비액정성 고분자 유기 화합물이나, 봉 형상 액정의 구체예에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-50482호의 기재를 참조할 수 있다.
(광학 필름의 제조 방법)
본 발명의 광학 필름은 용액 제막법, 용융 제막법 중 어느 방법으로도 제막할 수 있다. 본 발명의 광학 필름의 면내 방향 및 두께 방향의 리타데이션을 달성하기 위해서는, 연신 공정이 마련되는 것이 바람직하다. 이하, 본 발명의 광학 필름으로서, 단층의 광학 필름의 제막법에 대하여, 자세하게 설명한다.
(용융 제막)
(1) 용융
부의 복굴절성을 나타내는 수지는 용융 제막에 앞서 혼합하여 펠릿화하는 것이 바람직하다. 펠릿화함으로써, 용융 압출기의 호퍼에서의 서징을 억제하여, 안정공급이 가능해진다. 바람직한 펠릿의 크기는 단면적이 1mm2~300mm2, 길이가 1mm~30mm이다.
이 수지의 펠릿을 용융 압출기에 넣고, 100℃~200℃에서 1분~10시간 탈수한 후, 혼련 압출한다. 혼련은 1축 혹은 2축의 압출기를 사용하여 행할 수 있다.
압출기의 종류로서, 일반적으로는 설비 코스트가 비교적 싼 단축 압출기가 이용되는 경우가 많고, 풀플라이트(full-flight), 매독(maddok), 덜메이지(dulmage) 등의 스크류 타입이 있지만, 풀플라이트 타입이 바람직하다. 또, 스크류 세그먼트를 변경함으로써, 도중에 벤트구를 마련하여 불필요한 휘발 성분을 탈휘시키면서 압출할 수 있는 2축 압출기를 이용하는 것이 가능하다. 2축 압출기에는 크게 분류하여 동방향과 이방향의 타입이 있으며 어느쪽도 이용하는 것이 가능하지만, 체류 부분이 발생하기 어렵고 셀프 클리닝 성능이 높은 동방향 회전의 타입이 바람직하다. 2축 압출기는, 혼련성이 높고, 수지의 공급 성능이 높기 때문에, 저온에서의 압출이 가능해져, 본 발명의 제막에 적합하다.
(2) 여과
수지 중의 이물 여과를 위해서나 이물에 의한 기어 펌프 손상을 피하기 위하여, 압출기 출구에 필터 여과재를 마련하는 이른바 브레이커 플레이트식의 여과를 행하는 것이 바람직하다. 또 더 높은 정밀도로 이물 여과를 하기 위하여, 기어 펌프 통과 후에 이른바 리프형 디스크 필터를 도입한 여과 장치를 마련하는 것이 바람직하다. 여과는, 여과부를 1개소 마련하여 행할 수 있으며, 또 복수 개소 마련하여 행하는 다단 여과여도 된다. 필터 여과재의 여과 정밀도는 높은 쪽이 바람직하지만, 여과재의 내압이나 여과재의 막힘에 의한 여과압 상승으로부터, 여과 정밀도는 15μm~3μm가 바람직하고, 더 바람직하게는 10μm~3μm이다. 특히 최종적으로 이물 여과를 행하는 리프형 디스크 필터 장치를 사용하는 경우에는 품질상 여과 정밀도가 높은 여과재를 사용하는 것이 바람직하고, 내압, 필터 라이프의 적성을 확보하기 위하여 장전 매수로 조정하는 것이 가능하다. 여과재의 종류는, 고온 고압하에서 사용되는 점에서 철강 재료를 이용하는 것이 바람직하고, 철강 재료 중에서도 특히 스테인리스강, 스틸 등을 이용하는 것이 바람직하며, 부식의 점에서 특히 스테인리스강을 이용하는 것이 바람직하다. 여과재의 구성으로서는, 선재를 엮은 것 외에, 예를 들면, 금속 장섬유 혹은 금속 분말을 소결하여 형성하는 소결 여과재를 사용할 수 있고, 여과 정밀도, 필터 라이프의 점에서 소결 여과재가 바람직하다.
(3) 기어 펌프
두께 정밀도를 향상시키기 위해서는, 토출량의 변동을 감소시키는 것이 중요하고, 압출기와 다이스의 사이에 기어 펌프를 마련하여, 기어 펌프로부터 일정량의 수지를 공급하는 것이 바람직하다. 기어 펌프란, 드라이브 기어와 드리븐 기어로 이루어지는 한 쌍의 기어가 서로 맞물린 상태로 수용되고, 드라이브 기어를 구동하여 양 기어를 맞물림 회전시킴으로써, 하우징에 형성된 흡인구로부터 용융 상태의 수지를 캐비티 내에 흡인하고, 동일하게 하우징에 형성된 토출구로부터 그 수지를 일정량 토출하는 것이다. 압출기 선단 부분의 수지 압력에 약간의 변동이 있어도, 기어 펌프를 이용함으로써 변동을 흡수하여, 제막 장치 하류의 수지 압력의 변동은 매우 작은 것이 되어, 두께 변동이 개선된다. 기어 펌프를 이용함으로써, 다이 부분의 수지 압력의 변동 폭을 ±1% 이내로 하는 것이 가능하다.
기어 펌프에 의한 정량 공급 성능을 향상시키기 위하여, 스크류의 회전수를 변화시켜, 기어 펌프 전의 압력을 일정하게 제어하는 방법도 이용할 수 있다. 또, 기어 펌프의 기어의 변동을 해소한 3매 이상의 기어를 이용한 고정밀도 기어 펌프도 유효하다.
(4) 다이
상기와 같이 구성된 압출기에 의하여 수지가 용융되고, 필요에 따라 여과기, 기어 펌프를 경유하여 용융 수지가 다이에 연속적으로 보내진다. 다이는 다이스 내의 용융 수지의 체류가 적은 설계이면, 일반적으로 이용되는 T 다이, 피쉬테일 다이, 행거코트 다이 중 어느 타입을 이용할 수 있다. 또, 다이의 직전에 수지 온도의 균일성 향상을 위한 스태틱 믹서를 넣어도 된다. 다이 출구 부분의 클리어런스는 일반적으로 필름 두께의 1.0~5.0배가 좋고, 바람직하게는 1.2~3배, 더 바람직하게는 1.3~2배이다. 립 클리어런스가 필름 두께의 1.0배 이상이면, 제막에 의하여 면상이 양호한 시트를 얻기 쉽기 때문에 바람직하다. 또, 립 클리어런스가 필름 두께의 5.0배 이하이면, 시트의 두께 정밀도를 높게 하기 쉽기 때문에 바람직하다. 다이는 필름의 두께 정밀도를 결정하는 매우 중요한 설비이며, 두께 조정을 엄밀하게 컨트롤할 수 있는 것이 바람직하다. 또, 다이의 온도 불균일이나 폭 방향의 유속 불균일이 가능한 한 적은 설계가 중요하다.
(5) 캐스트
상기 방법으로, 다이로부터 시트 형상으로 압출된 용융 수지를 캐스팅 드럼 상에서 냉각 고화하여, 미연신 필름을 얻는다. 이 때, 정전 인가법, 에어 나이프법, 에어 챔버법, 진공 노즐법, 터치 롤법 등의 방법을 이용하여, 캐스팅 드럼과 용융 압출한 시트의 밀착을 향상시키는 것이 바람직하다. 이러한 밀착 향상법은, 용융 압출 시트의 전체면에 실시해도 되고, 일부에 실시해도 된다. 특히 에지 피닝으로 불리는, 필름의 양단부만을 밀착시키는 방법이 취해지는 경우도 많지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
캐스팅 드럼은 복수 개의 냉각 롤을 이용하여 서랭하는 것이 보다 바람직하다. 특히 일반적으로는 3개의 냉각 롤을 이용하는 것이 비교적 자주 행해지고 있지만, 반드시 그런 것은 아니다. 롤의 직경은 50mm~5000mm가 바람직하고, 복수 개 있는 롤의 간격은, 면간 0.3mm~300mm가 바람직하다.
캐스팅 드럼은, 부의 복굴절성을 나타내는 수지의 Tg-70℃~Tg+20℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 Tg-50℃~Tg+10℃, 더 바람직하게는 Tg-30℃~Tg+5℃이다.
또, 이른바 터치 롤법을 이용하는 경우, 터치 롤 표면은, 고무, 테프론(등록상표) 등의 수지여도 되고, 금속 롤이어도 된다. 또한, 금속 롤의 두께를 얇게 함으로써 터치했을 때의 압력에 의하여, 롤의 표면이 약간 오목하게 되어, 압착 면적이 넓어지는 플레시블 롤로 불리는 롤을 이용하는 것도 가능하다.
터치 롤 온도는 Tg-70℃~Tg+20℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 Tg-50℃~Tg+10℃, 더 바람직하게는 Tg-30℃~Tg+5℃이다.
(6) 연신
상기와 같이 캐스트 드럼 상에 압출된 캐스트 필름(미연신 원단)은, 본 발명의 광학 특성을 발현시키도록, 연신을 행하는 것이 바람직하다. 그 경우, 세로(MD) 또는 가로(TD) 중 적어도 1축 방향으로 연신되는 것이 바람직하지만, 세로(MD) 및 가로(TD)로 2축 연신되어 있어도 된다. 세로 및 가로로 2축 연신하는 경우는, 세로→가로, 가로→세로와 같이 순차로 행해도 되고, 동시에 2방향으로 연신해도 상관없다. 또한, 예를 들면, 세로→세로→가로, 세로→가로→세로, 세로→가로→가로와 같이 다단으로 연신하는 것도 바람직하다.
세로 연신은, 통상 2쌍 이상의 닙 롤을 설치, 그 사이를 가열한 원단을 통과시키면서, 출구측 닙 롤의 주속을 입구측보다 빠르게 함으로써 달성할 수 있다. 이 때, 상기와 같이 표리에 온도차를 부여하는 것이 바람직하다.
또, 세로 연신 전에 원단을 예열하는 것이 바람직하다. 예열 온도는 부의 복굴절성을 나타내는 수지의 Tg-50~Tg+30℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 Tg-40~Tg+15℃, 더 바람직하게는 Tg-30~Tg이다. 이러한 예열은, 가열 롤과 접촉시켜도 되고, 방사열원(IR 히터, 할로젠 히터 등)을 이용해도 되며, 열풍을 불어 넣어도 된다.
세로 연신은 Tg-10~Tg+50℃에서 행하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 Tg~Tg+40℃, 더 바람직하게는 Tg~Tg+30℃에서 행하는 것이 바람직하다. 연신 배율은 1.1~5.5배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.3~3배이다. 또한, 여기에서 말하는 연신 배율은 이하의 식에 의하여 구한 값이다.
연신 배율=(연신 후의 길이-연신 전의 길이)/(연신 전의 길이)
세로 연신 후, 냉각하는 것이 바람직하고, Tg-50~Tg가 바람직하며, 보다 바람직하게는 Tg-45~Tg-5℃이며, 더 바람직하게는 Tg-40~Tg-10℃이다. 이러한 냉각은, 냉각 롤에 접촉시켜도 되고, 냉풍을 분출해도 된다.
가로 연신은 텐터를 이용하여 행하는 것이 바람직하다. 즉 필름의 양단을 클립으로 파지하면서 열처리 존을 반송하면서, 클립을 폭 방향으로 벌림으로써 행할 수 있다.
바람직한 연신 온도는 Tg-10~Tg+50℃, 보다 바람직하게는 Tg~Tg+40℃, 더 바람직하게는 Tg~Tg+30℃이다. 연신 배율은 1.1~5.5배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.3~3배이다.
연신 공정에 있어서는, 연신 처리 후에, 필름에 열처리를 행하는 것이 바람직하다.
열처리란, Tg+10~Tg+50℃ 정도(더 바람직하게는, Tg+15~Tg+30℃)에서 1~60초간(더 바람직하게는 2~30초간)의 열처리를 필름에 실시하는 것을 말한다. 열고정은, 가로 연신에 이어서, 텐터 내에서 척에 파지한 상태로 행하는 것이 바람직하고, 이 때 척 간격은 가로 연신 종료 시의 폭으로 행해도 되고, 더 벌려도 되며, 혹은 폭을 줄여 행해도 된다. 열처리를 실시함으로써, Re, Rth를 본 발명의 범위 내로 조정할 수 있다.
(7) 권취
이와 같이 하여 얻은 시트는 양단을 트리밍하여, 권취하는 것이 바람직하다. 트리밍된 부분은, 분쇄 처리된 후, 혹은 필요에 따라 조립(造粒) 처리나 해중합·재중합 등의 처리를 행한 후, 동일한 품종의 필름용 원료로서, 또는 다른 품종의 필름용 원료로서 재이용해도 된다. 트리밍 커터는 로터리 커터, 시어스 날, 나이프 등 중 어느 타입의 것을 이용해도 상관없다. 재질에 대해서도, 탄소강, 스테인리스강 어느 것을 이용해도 상관없다. 일반적으로는, 초경 날, 세라믹 날을 이용하면 커터의 수명이 길고, 또 절단 부스러기의 발생이 억제되어 바람직하다.
또, 권취 전에, 적어도 편면에 래미네이트 필름을 붙이는 것도, 흠집 방지의 관점에서 바람직하다. 바람직한 권취 장력은 1kg/m폭~50kg/폭, 보다 바람직하게는 2kg/m폭~40kg/폭, 더 바람직하게는 3kg/m폭~20kg/폭이다. 권취 장력이 1kg/m폭 이상이면, 필름을 균일하게 권취하기 쉽기 때문에 바람직하다. 또, 권취 장력이 50kg/폭 이하이면, 필름이 과하게 권취되지 않고, 권취 외관이 아름다우며, 필름의 마디 부분이 크리프 현상에 의하여 늘어나 필름의 주름 원인이 되거나, 필름의 연신에 의한 잔류 복굴절이 발생하는 경우도 없다. 권취 장력은, 라인의 도중의 텐션 컨트롤에 의하여 검지하여, 일정한 권취 장력이 되도록 컨트롤되면서 권취하는 것이 바람직하다. 제막 라인의 장소에 따라, 필름 온도에 차가 있는 경우에는 열팽창에 의하여, 필름의 길이가 약간 상이한 경우가 있기 때문에, 닙 롤간의 드로 비율을 조정하여, 라인 도중에서 필름에 규정 이상의 장력이 가해지지 않게 하는 것이 필요하다.
권취 장력은 텐션 컨트롤의 제어에 의하여, 일정 장력으로 권취할 수도 있지만, 권취한 직경에 따라 테이퍼를 붙여, 적정한 권취 장력으로 하는 것이 보다 바람직하다. 일반적으로는 권취 직경이 커짐에 따라 장력을 조금씩 작게 하지만, 경우에 따라서는, 권취 직경이 커짐에 따라 장력을 크게 하는 쪽이 바람직한 경우도 있다. 이러한 권취 방법은, 하기 설명한 용액 제막법에도 동일하게 적용할 수 있다.
(용액 제막)
(1) 제막
광학 필름을 용액 제막법에 의하여 제막할 때에는, 먼저 부의 복굴절성을 나타내는 수지를 용매에 용해시킨다. 용매에 용해시킬 때의 수지의 합계 농도는 3~50질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5~40질량%, 더 바람직하게는 10~35질량%이다. 얻어지는 용액의 실온에 있어서의 점도는, 통상은 1~1,000,000(mPa·s), 바람직하게는 10~100,000(mPa·s), 더 바람직하게는 100~50,000(mPa·s), 특히 바람직하게는 1,000~40,000(mPa·s)이다.
사용하는 용매로서는, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족계 용매, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올 등의 셀로솔브계 용매, 다이아세톤알코올, 아세톤, 사이클로헥산온, 메틸에틸케톤, 4-메틸-2-펜탄온, 에틸사이클로헥산온, 1,2-다이메틸사이클로헥세인 등의 케톤계 용매, 락트산 메틸, 락트산 에틸 등의 에스터계 용매, 2,2,3,3-테트라플루오로-1-프로판올, 염화 메틸렌, 클로로폼 등의 할로젠 함유 용매, 테트라하이드로퓨란, 다이옥세인 등의 에터계 용매, 1-펜탄올, 1-뷰탄올 등의 알코올계 용매를 들 수 있다.
또, 상기 이외에도, SP값(용해도 파라미터)이 통상 10~30(MPa1 / 2)의 범위인 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 용매는 단독으로 혹은 2종 이상 병용하여 사용할 수 있다. 용매를 2종 이상 병용하는 경우에는, 혼합물로서의 SP값의 범위를 상기 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 이 때, 혼합물로서의 SP값의 값은, 그 질량비로부터 구할 수 있으며, 예를 들면, 2종의 혼합물의 경우는, 각 용매의 질량분율을 W1, W2, 또한 SP값을 SP1, SP2로 하면 혼합 용매의 SP값은 하기 식에 의하여 계산한 값으로서 구할 수 있다.
SP값=W1·SP1+W2·SP2
또한 광학 필름의 표면 평활성을 향상시키기 위하여 레벨링제를 첨가해도 된다. 일반적인 레벨링제이면 어느 것이라도 사용할 수 있는데, 예를 들면, 불소계 비이온 계면활성제, 특수 아크릴 수지계 레벨링제, 실리콘계 레벨링제 등을 사용할 수 있다.
광학 필름을 용제 캐스트법에 의하여 제조하는 방법으로서는, 상기 용액을 다이스나 코터를 사용하여 금속 드럼, 스틸 벨트, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)나 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스터 필름, 폴리테트라플루오로에틸렌제 벨트 등의 기재 위에 도포하고, 그 후 용제를 건조·제거하여 기재로부터 필름을 박리하는 방법을 일반적으로 들 수 있다.
또, 스프레이, 브러시, 롤 스핀코트, 디핑 등의 수단을 이용하여, 수지 용액을 기재에 도포하고, 그 후 용제를 건조·제거하여 기재로부터 필름을 박리함으로써 제조할 수도 있다. 또한, 도포의 반복에 의하여 두께나 표면 평활성 등을 제어해도 된다.
또, 기재로서 폴리에스터 필름을 사용하는 경우에는, 표면 처리된 필름을 사용해도 된다. 표면 처리의 방법으로서는, 일반적으로 행해지고 있는 친수화 처리 방법, 예를 들면, 아크릴계 수지나 설폰산 염기 함유 수지를 코팅이나 래미네이트에 의하여 적층하는 방법, 혹은 코로나 방전 처리 등에 의하여 필름 표면의 친수성을 향상시키는 방법 등을 들 수 있다.
(2) 건조
상기 용제 캐스트법의 건조(용제 제거) 공정에 대해서는, 특별히 제한은 없고 일반적으로 이용되는 방법, 예를 들면, 다수의 롤러를 통하여 건조로 안을 통과시키는 방법 등으로 실시할 수 있지만, 건조 공정에 있어서 용매의 증발에 따라 기포가 발생하면, 필름의 특성을 현저하게 저하시키기 때문에, 이를 피하기 위하여, 건조 공정을 2단 이상의 복수 공정으로 하고, 각 공정에서의 온도 혹은 풍량을 제어하는 것이 바람직하다.
또, 광학 필름 중의 잔류 용매량은, 통상은 10질량% 이하이다. 이와 같이 잔류 용제를 줄임으로써, 보다 더 점착흔적 고장을 경감할 수 있기 때문에, 바람직하다.
(3) 연신
상술과 같이 하여 얻어진 광학 필름은, 세로(MD) 또는 가로(TD) 중 적어도 1축 방향으로 연신되는 것이 바람직하고, 세로(MD) 및 가로(TD)로 2축 연신되는 것이 보다 바람직하다. 연신 방법으로서는, 용융 제막 시의 연신 방법을 채용할 수 있다.
(편광판)
본 발명의 편광판은, 상술한 광학 필름과 편광자를 갖는다. 편광판은, 편광자와, 편광자의 양측에 마련된 보호 필름을 갖는 것으로서, 보호 필름의 적어도 한쪽이 본 발명의 광학 필름이다. 광학 필름은, 광산란층이나 반사 방지층을 갖는 측과는 반대측인 투명 지지체의 표면, 즉 편광자와 첩합하는 측의 표면의 물에 대한 접촉각이 10~50도의 범위에 있는 것이 바람직하다. 예를 들면, 본 발명의 광학 필름의 편면에 점착층을 마련하여 디스플레이의 최표면에 배치할 수 있다.
(투명 도전성 필름)
본 발명의 광학 필름은, 투명 도전성 필름에 이용할 수 있다. 투명 도전성 필름은, 도전층과, 투명 수지 필름으로서 광학 필름을 갖는다. 도전층은 층 형상으로 형성되어도 되지만, 간헐부(間歇部)를 갖도록 형성되는 것이 바람직하다. 간헐부란, 도전층이 마련되어 있지 않은 부분을 말하고, 간헐부의 외주는 도전층에 의하여 둘러싸여 있는 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 간헐부를 갖도록 도전층이 형성되는 것을, 패턴 형상이나 메시 형상으로 도전층이 형성된다고도 말한다. 도전층으로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2013-1009호, 일본 공개특허공보 2012-216550호, 일본 공개특허공보 2012-151095호, 일본 공개특허공보 2012-25158호, 일본 공개특허공보 2011-253546호, 일본 공개특허공보 2011-197754호, 일본 공개특허공보 2011-34806호, 일본 공개특허공보 2010-198799호, 일본 공개특허공보 2009-277466호, 일본 공개특허공보 2012-216550호, 일본 공개특허공보 2012-151095호, 국제 공개공보 2010/140275호, 국제 공개공보 2010/114056호에 기재된 도전층을 예시할 수 있다.
본 발명에서 이용하는 도전층은, 은과 친수성 수지를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 수용성 수지로서는, 예를 들면, 젤라틴, 폴리바이닐알코올(PVA), 폴리바이닐피롤리돈(PVP), 전분 등의 다당류, 셀룰로스 및 그 유도체, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리바이닐아민, 키토산, 폴리라이신, 폴리아크릴산, 폴리알진산, 폴리하이알루론산, 카복시셀룰로스 등을 들 수 있다. 이들은, 관능기의 이온성에 따라 중성, 음이온성, 양이온성의 성질을 갖는다. 이들 중에서 특히 바람직한 것이, 젤라틴이다.
본 발명에서 이용하는 도전층에는, 할로젠화 은 사진 감광 재료를 이용하는 것이 특히 바람직하다. 할로젠화 은 사진 감광 재료를 이용하는 경우, 도전층의 제조 방법에는, 감광 재료와 현상 처리의 형태에 따라, 다음의 3가지 형태가 포함된다.
(1) 물리 현상핵을 포함하지 않는 감광성 할로젠화 은 흑백 감광 재료를 화학 현상 또는 열 현상하여 금속 은부를 감광 재료 상에 형성시키는 양태.
(2) 물리 현상핵을 할로젠화 은 유제층 중에 포함하는 감광성 할로젠화 은 흑백 감광 재료를 용해 물리 현상하여 금속 은부를 감광 재료 상에 형성시키는 양태.
(3) 물리 현상핵을 포함하지 않는 감광성 할로젠화 은 흑백 감광 재료와, 물리 현상핵을 포함하는 비감광성층을 갖는 수상(受像) 시트를 중첩하여 확산 전사 현상하여 금속 은부를 비감광성 수상 시트 상에 형성시키는 양태.
상기 (1)의 양태는, 일체형 흑백 현상 타입이며, 감광 재료 상에 광투과성 도전성막 등의 투광성 도전성막이 형성된다. 얻어지는 현상은은 화학 현상은 또는 열 현상은이며, 고비표면적의 필라멘트인 점에서 후속하는 도금 또는 물리 현상 과정에서 활성이 높다.
상기 (2)의 양태는, 노광부에서는, 물리 현상핵 근연(近緣)의 할로젠화 은 입자가 용해되어 현상핵 상에 침적함으로써 감광 재료 상에 광투과성 도전성막 등의 투광성 도전성막이 형성된다. 이것도 일체형 흑백 현상 타입이다. 현상 작용이, 물리 현상핵 상으로의 석출이므로 고활성이지만, 현상은은 비표면적이 작은 구형이다.
상기 (3)의 양태는, 미노광부에 있어서 할로젠화 은 입자가 용해되어 확산하여 수상 시트 상의 현상핵 상에 침적함으로써 수상 시트 상에 광투과성 도전성막 등의 투광성 도전성막이 형성된다. 이른바 세퍼레이트 타입으로서, 수상 시트를 감광 재료로부터 박리하여 이용하는 양태이다.
어느 양태도 네거티브형 현상 처리 및 반전 현상 처리 중 어느 현상을 선택할 수 있다. 또한 확산 전사 방식의 경우는, 감광 재료로서 오토포지티브형 감광 재료를 이용함으로써 네거티브형 현상 처리가 가능해진다.
여기에서 말하는 화학 현상, 열 현상, 용해 물리 현상, 확산 전사 현상은, 당업계에서 통상 이용되고 있는 용어와 같은 의미이며, 사진 화학의 일반 교과서, 예를 들면, 기구치 신이치저 "사진 화학"(교리쓰 슛판사, 1955년 간행), C. E. K. Mees편 "The Theory of Photographic Processes, 4th ed."(Mcmillan사, 1977년 간행)에 해설되어 있다. 본 건은 액 처리에 관한 발명이지만, 그 외의 현상 방식으로서 열 현상 방식을 적용하는 기술도 참고로 할 수 있다. 예를 들면, 일본 공개특허공보 2004-184693호, 동 2004-334077호, 동 2005-010752호의 각 공보, 일본 특허출원 2004-244080호, 동 2004-085655호의 각 명세서에 기재된 기술을 적용할 수 있다.
본 발명에 있어서 도전층이 되는 은염 유제층은, 은염과 바인더 외에, 용매나 염료 등의 첨가제를 함유해도 된다. 은염으로서는, 할로젠화 은 등의 무기 은염 및 아세트산 은 등의 유기 은염을 들 수 있다. 본 발명에서는, 광센서로서의 특성이 우수한 할로젠화 은을 이용하는 것이 바람직하다.
은염 유제층의 형성에 이용되는 용매는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 물, 유기 용매(예를 들면, 메탄올 등의 알코올류, 아세톤 등의 케톤류, 폼아마이드 등의 아마이드류, 다이메틸설폭사이드 등의 설폭사이드류, 아세트산 에틸 등의 에스터류, 에터류 등), 이온성 액체 및 이들의 혼합 용매를 들 수 있다.
은염 유제층 위에는, 보호층을 마련해도 된다. 본 발명에 있어서 보호층이란, 젤라틴이나 고분자 폴리머와 같은 바인더로 이루어지는 층을 의미하고, 마찰흠집 방지나 역학 특성을 개량하는 효과를 발현하기 위하여 감광성을 갖는 은염 유제층 상에 형성된다. 그 두께는 0.5μm 이하가 바람직하다. 보호층의 도포 방법 및 형성 방법은 특별히 한정되지 않으며, 공지의 도포 방법 및 형성 방법을 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 보호층에 관해서는, 일본 공개특허공보 2008-250233호 등의 기재를 참조할 수 있다.
또한, 본 발명에서는, 언더코팅층이나 대전 방지층과 같은 다른 기능층을 마련해도 된다. 언더코팅층으로서는, 일본 공개특허공보 2008-250233호의 단락 [0021]~[0023]의 것을 적용할 수 있다. 또, 대전 방지층으로서는, 일본 공개특허공보 2008-250233호의 단락 [0012], [0014]~[0020]의 것을 적용할 수 있다
또한, 상술한 투명 도전성 필름은, 터치 패널 용도에 적합하고, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2009-176608의 단락 [0073]~[0075]의 기재에 따라, 터치 패널을 제작할 수 있다.
(반사 방지 필름)
본 발명의 광학 필름은, 반사 방지 필름의 지지체로서 이용할 수 있다. 액정 표시 장치(LCD)와 같이 고정세(高精細), 고품위화된 화상 표시 장치의 경우에는, 상기의 방진성(防塵性) 외에, 표시면에서의 외광의 반사에 의한 콘트라스트 저하나 상의 반사 글레어를 방지하기 위한 투명하고 대전 방지 성능을 갖는 반사 방지 필름을 이용하는 것이 바람직하다.
(표시 장치)
본 발명의 광학 필름은, 휴대전화, 스마트 폰, 휴대 정보 단말, 카 내비게이션, 태블릿 PC, 판매기기, ATM, FA 기기 등에 제한없이 사용할 수 있다. 또, 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD)나 음극관 표시 장치(CRT) 등의 각종 표시 장치에 이용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름 또는 편광판은, 화상 표시 장치의 표시 화면의 시인측에 배치되는 것이 바람직하다.
<액정 표시 장치>
본 발명의 광학 필름 또는 편광판은, 특히 액정 표시 장치 등의 디스플레이의 최표층에 이용하는 것이 바람직하다. 액정 표시 장치는, 액정 셀 및 그 양측에 배치된 2매의 편광판을 갖고, 액정 셀은, 2매의 전극 기판의 사이에 액정을 담지하고 있다. 또한, 광학 이방성층이, 액정 셀과 한쪽의 편광판과의 사이에 1매 배치되거나, 혹은 액정 셀과 쌍방의 편광판과의 사이에 2매 배치되는 경우도 있다.
액정 셀은, TN 모드, VA 모드, OCB 모드, IPS 모드 또는 ECB 모드인 것이 바람직하다.
TN 모드의 액정 셀에서는, 전압 무인가 시에 봉 형상 액정성 분자가 실질적으로 수평 배향하고, 또한 60~120°로 비틀림 배향하고 있다.
TN 모드의 액정 셀은, 컬러 TFT 액정 표시 장치로서 가장 많이 이용되고 있으며, 다수의 문헌에 기재가 있다.
VA 모드의 액정 셀에서는, 전압 무인가 시에 봉 형상 액정성 분자가 실질적으로 수직으로 배향하고 있다.
VA 모드의 액정 셀에는, (1) 봉 형상 액정성 분자를 전압 무인가 시에 실질적으로 수직으로 배향시키고, 전압 인가 시에 실질적으로 수평으로 배향시키는 좁은 의미의 VA 모드의 액정 셀(일본 공개특허공보 평2-176625호 기재)에 더하여, (2) 시야각 확대를 위하여, VA 모드를 멀티 도메인화한 (MVA 모드의)액정 셀(SID97, Digest of Tech. Papers(예고집) 28(1997) 845 기재), (3) 봉 형상 액정성 분자를 전압 무인가 시에 실질적으로 수직 배향시키고, 전압 인가 시에 비틀림 멀티 도메인 배향시키는 모드(n-ASM 모드)의 액정 셀(일본 액정 토론회의 예고집 58~59(1998) 기재) 및 (4) SURVAIVAL 모드의 액정 셀(LCD 인터내셔널 98에서 발표)이 포함된다.
OCB 모드의 액정 셀은, 봉 형상 액정성 분자를 액정 셀의 상부와 하부에서 실질적으로 역의 방향으로(대칭적으로) 배향시키는 벤드 배향 모드의 액정 셀이며, 미국 특허 제4583825호, 동 5410422호의 각 명세서에 개시되어 있다. 봉 형상 액정성 분자가 액정 셀의 상부와 하부에서 대칭적으로 배향하고 있기 때문에, 벤드 배향 모드의 액정 셀은, 자기 광학 보상 기능을 갖는다. 이로 인하여, 이 액정 모드는, OCB(Optically Compensatory Bend) 액정 모드로 불린다. 벤드 배향 모드의 액정 표시 장치는, 응답 속도가 빠르다는 이점이 있다.
IPS 모드의 액정 셀은, 네마틱 액정에 횡전계를 가하여 스위칭하는 방식이며, 자세하게는 Proc. IDRC(Asia Display '95), p.577-580 및 동 p.707-710에 기재되어 있다.
ECB 모드의 액정 셀은, 전압 무인가 시에 봉 형상 액정성 분자가 실질적으로 수평 배향하고 있다. ECB 모드는, 가장 단순한 구조를 갖는 액정 표시 모드의 하나로서, 예를 들면, 일본 공개특허공보 평5-203946호에 상세가 기재되어 있다.
<플라즈마 디스플레이 패널(PDP)>
플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은, 일반적으로, 가스, 유리 기판, 전극, 전극 리드 재료, 후막 인쇄 재료, 형광체에 의하여 구성된다. 유리 기판은, 전면 유리 기판과 후면 유리 기판의 2매이다. 2매의 유리 기판에는 전극과 절연층을 형성한다. 후면 유리 기판에는, 추가로 형광체층을 형성한다. 2매의 유리 기판을 조립하고, 그 사이에 가스를 봉입한다.
플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은, 이미 시판되고 있는 것을 이용할 수 있다. 플라즈마 디스플레이 패널에 대해서는, 일본 공개특허공보 평5-205643호, 동 9-306366호의 각 공보에 기재가 있다.
전면판을 플라즈마 디스플레이 패널의 전면에 배치하는 경우가 있다. 전면판은 플라즈마 디스플레이 패널을 보호하기 위하여 충분한 강도를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 전면판은, 플라즈마 디스플레이 패널과 간극을 두고 사용할 수도 있으며, 플라즈마 디스플레이 본체에 직접 붙여 사용할 수도 있다.
플라즈마 디스플레이 패널과 같은 화상 표시 장치에서는, 광학 필터를 디스플레이 표면에 직접 첩부할 수 있다. 또, 디스플레이의 앞에 전면판이 마련되어 있는 경우는, 전면판의 표면측(외측) 또는 이면측(디스플레이측)에 광학 필터를 첩부할 수도 있다.
(유기 EL 소자)
본 발명의 광학 필름은, 유기 EL 소자 등의 기판(기재 필름)이나 보호 필름으로서 이용할 수 있다. 본 발명의 필름을 유기 EL 소자 등에 이용하는 경우에는, 일본 공개특허공보 평11-335661호, 일본 공개특허공보 평11-335368호, 일본 공개특허공보 2001-192651호, 일본 공개특허공보 2001-192652호, 일본 공개특허공보 2001-192653호, 일본 공개특허공보 2001-335776호, 일본 공개특허공보 2001-247859호, 일본 공개특허공보 2001-181616호, 일본 공개특허공보 2001-181617호, 일본 공개특허공보 2002-181816호, 일본 공개특허공보 2002-181617호, 일본 공개특허공보 2002-056976호 등의 각 공보에 기재된 내용을 응용할 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2001-148291호, 일본 공개특허공보 2001-221916호, 일본 공개특허공보 2001-231443호의 각 공보에 기재된 내용과 아울러 이용하는 것이 바람직하다.
실시예
이하에 실시예와 비교예를 들어 본 발명의 특징을 더 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 의하여 한정적으로 해석되어야 하는 것은 아니다.
(실시예 1)
시판 중인 신디오택틱 폴리스타이렌 수지 자렉 S105(이데미쓰 고산사제)에, 산화 방지제 "Irganox1010"을 0.3wt% 혼합하고, 30mmφ 단축 압출기를 이용하여, 300℃에서 용융 압출하고, 정전 피닝법으로 50℃의 냉각 롤에 밀착시켜, 미연신 필름을 제막했다. 이 때 압출기와 다이의 사이에 스크린 필터, 기어 펌프, 리프형 디스크 필터를 이 순서로 배치하고, 이들을 멜트 배관으로 연결하여, 폭 450mm, 립갭 1mm의 다이로부터 압출했다.
다음으로, 미연신 필름을 횡방향으로 115℃에서 3.8배로 연신 후, 200℃에서 폭 방향으로 5% 이완시키면서 10초간 열처리를 실시하고, 두께 100μm의 연신 필름을 제작하여, 얻어진 연신 필름의 물성을 측정하고, 그 결과를 표 1에 나타냈다.
(실시예 2~6)
실시예 1에서, 압출량을 변경하고, 미연신 필름의 두께를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2~6의 연신 필름을 얻었다.
(실시예 7)
실시예 6에서, 재료를, 시판 중인 어택틱 폴리스타이렌 수지 HF77(폴리스타이렌 재팬사제)로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 6의 연신 필름을 얻었다.
(실시예 8)
실시예 6에서, 재료를, 시판 중인 변성 아크릴 수지 델펫 980N(아사히 가세이사제)로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 7의 연신 필름을 얻었다.
(비교예 1)
일본 공개특허공보 2011-215646의 실시예에 기재된 방법에 따라, 비교예 1의 필름을 제작하고, 평가 결과를 표 1에 정리했다.
(평가 방법)
(Re, Rth)
오지 게이소쿠 기키(주)제 KOBRA 21ADH 또는 WR을 사용하여, 광선 파장 550nm로 측정했다. 면내 위상차 값 Re는, 입사 광선이 필름면에 수직인 상태에서 측정한 것이다. 막 두께 방향 위상차 값 Rth는, 입사 광선과 필름면과의 각도를 조금씩 변경하여 각각의 각도에서의 위상차 값을 측정하고, 공지의 굴절률 타원체의 식으로 커브 피팅함으로써 3차원 굴절률인 nx, ny, nz를 구하여, Rth={(nx+ny)/2-nz}×d에 대입함으로써 구했다. 또한 그 때, 필름의 평균 굴절률이 필요하게 되지만, 별도로 아베 굴절계((주)아타고사제 상품명 "아베 굴절계 2-T")를 이용하여 측정했다.
(파장 분산)
오지 게이소쿠 기키(주)제 KOBRA 21ADH 또는 WR을 사용해, 광선 파장 450nm와 650nm의 면내 위상차 Re를 측정하고, 하기 식으로부터, 파장 분산을 측정했다.
파장 분산=Re(450nm)/Re(650nm)
(함수율)
필름을 25℃, 상대 습도 60%의 환경하에 24시간 방치한 후에, 교토 덴시 고교(주)제 칼피셔 수분계 MKC610으로 함수율을 측정했다.
(하중 변형 온도)
TA Instrument(주)제 Q400을 이용하여, 0.1N/mm2의 하중을 가하여, 온도 25℃에서 160℃로, 5℃/min으로 승온하고, 치수가 변화하는 온도를 측정했다.
(도포 공정에서의 주름)
본원에서 제작한 필름을, 후술한 은 메시 방식의 투명 도전성 필름을 제작하는 공정을 거쳤을 때에, 발생한 주름 고장을 4단계로 평가했다.
A: 주름 없이 공정을 거칠 수 있었다.
B: 주름이 일부 발생했지만, 품질에 영향이 없었다.
C: 주름이 일부 발생하여, 일부 품질에 영향을 주었다.
D: 주름이 발생하여, 품질을 악화시켰다.
(시인성)
PVA와 아이오딘으로 이루어지는 편광자의 편측에, 제작한 필름을, 편광자의 흡수축과 필름의 배향 주축이 수직, 또는 병행이 되도록 첩부하고, 그 반대의 면에 TAC 필름(후지 필름(주)사제, 두께 80μm)을 첩부하여 편광판을 제작했다. 얻어진 편광판을, 청색 발광 다이오드와 이트륨·알루미늄·가넷계 황색 형광체를 조합한 발광 소자로 이루어지는 백색 LED를 광원(니치아 가가쿠, NSPW500CS)으로 하는 액정 표시 장치의 출사광측에 폴리에스터 필름이 시인측이 되도록 설치했다. 이 액정 표시 장치는, 액정 셀의 입사광측에 2매의 TAC 필름을 편광자 보호 필름으로 하는 편광판을 갖는다. 액정 표시 장치의 편광판의 정면 및 경사 방향으로부터 육안으로 관찰하여, 무지개 불균일이 발생하는 시야각(패널 정면을 0°)에 대하여 측정했다.
(고습도 환경하에서의 응답성)
본원에서 제작한 투명 도전성 필름에, 후술하는 투명 도전층을 형성하고, 터치 패널에 도입하며, 25℃, 상대 습도 60% 및 60℃, 상대 습도 90%의 환경하에 24hr 방치하여, 2개의 환경에서의, 터치 패널의 응답성의 차를 하기 4단계로 평가했다.
A: 터치 패널의 동작에 차이가 보이지 않는다.
B: 터치 패널의 동작에 약간 차이가 보이는 부분이 있지만, 실용상 문제없다.
C: 터치 패널의 특히 액자부에서, 터치 패널의 동작에 차이가 보인다.
D: 터치 패널의 전체면에서, 터치 패널의 동작에 차이가 보인다.
[표 1]
Figure 112015116488479-pct00001
표 1의 실시예 1 및 비교예 1을 비교하면, 실시예 1의 필름은 비교예 1에 비하여, 무지개 불균일이 보이지 않는 시야각이 넓다. 이것은 놀랄 만한 결과이다.
고이케 등의 공지 문헌(Japanese Journal of Applied Physics 50(2011) 042602)에 의하면, 필름의 리타데이션이 크고, 파장 분산이 크면 무지개 불균일의 개량 효과가 큰 것이 설명되어 있다. 그러나, 본 발명의 필름은, 실시예 1과 Re, Rth가 동일하고, 파장 분산이 작음에도 불구하고, 시야각이 넓은 것을 알 수 있다. 또, 내열성도 높고, 함수율도 낮기 때문에, 비교예 1에 비하여, 터치 패널의 응답성의 습도 변화가 적고, 언더코팅층·도전층을 형성하기 위한 도포 공정에 있어서의 주름의 발생도 문제가 되지 않는다.
실시예 2~6에서는, 필름의 두께를 변경함으로써, Re, Rth를 변화시키고 있다. 실시예 2~6에서는, 시야각이 넓고, 도포 공정에 있어서의 주름의 발생도 문제가 되지 않았다. 특히 실시예 2~4에서는, 터치 패널의 응답성의 습도 변화가 적어 양호하다는 것을 알 수 있다.
실시예 7, 8에서는, 신디오택틱 폴리스타이렌 이외의 부의 복굴절성 수지를 이용하여, 본 발명의 효과를 확인했다. 이 경우도 넓은 시야각이 얻어지고 있으며, 도포 공정에 있어서의 주름의 발생 및 터치 패널의 응답성의 습도 변화에 대해서도, 어느 정도 양호하게 되어 있다.
이상으로부터, 본 발명의 필름은, 종래의 필름에 비하여, 시야각이 넓고, 투명 도전성 필름의 지지체에 이용한 경우에, 양호한 성능이 얻어지는 것을 알 수 있었다.
(투명 도전성 필름의 제작)
<언더코팅층 도포>
상기와 같이 제막한, 실시예 및 비교예의 광학 필름의 편면에, 코로나 처리를 행한 후, 제1 언더코팅층, 제2 언더코팅층을 도설(塗設)했다. 제1 언더코팅층, 제2 언더코팅층의 조성 및 도포 방법은, 일본 공개특허공보 2010-256908의 단락 [0117]~[0120]에 기재된 대로 했다.
(수용성 수지와 은을 포함하는 도전층의 형성)
상기 언더코팅층 위에, 하기 할로젠화 은 감광 재료를 도설하여 투명 도전성 필름을 제작했다.
<할로젠화 은 감광 재료>
수 매체 중의 Ag 150g에 대하여 젤라틴 10.0g을 포함하는, 구상당(球相當) 직경 평균 0.1μm의 옥취(沃臭)염화 은 입자(I=0.2몰%, Br=40몰%)를 함유하는 유제를 조제했다. 또한, 이 유제 중에는 K3Rh2Br9 및 K2IrCl6을 농도가 10-7(몰/몰 은)이 되도록 첨가하고, 브로민화 은 입자에 Rh 이온과 Ir 이온을 도프했다. 이 유제에 Na2PdCl4를 첨가하고, 또한 염화 금산과 싸이오 황산 나트륨을 이용하여 금황 증감을 행한 후, 젤라틴 경막제와 함께, 은의 도포량이 10g/m2가 되도록, 투명 수지 필름의 상기 언더코팅층 상에 도포했다. 이 때, Ag: 젤라틴의 체적비는 2:1로 했다.
0.7m의 폭으로 500m분의 도포를 행하고, 도포의 중앙부 0.5m를 남기도록 양단을 잘라 잘라내어 롤 형상의 할로젠화 은 감광 재료를 얻었다.
<노광>
노광의 패턴은, 일본 특허공보 4820451호의 도 1에 나타내는 패턴에 준하여 형성했다. 소격자 18의 배열 피치 Ps를 200μm로 하고, 중격자 20a~h의 배열 피치 Pm을 2×Ps로 했다. 또, 소격자 18의 도전부의 두께를 2μm로 하고, 폭을 10μm로 했다. 노광은 상기 패턴의 포토마스크를 통하여 고압 수은 램프를 광원으로 한 평행광을 이용하여 노광했다.
또, 일본 특허공보 4820451의 도 5에 준해서도 도전 패턴을 형성했는데, 하기 평가 결과는 도 1의 경우와 동일한 결과가 얻어졌다.
<현상 처리>
현상액 1L의 처방은 하기와 같다.
하이드로퀴논 20g
아황산 나트륨 50g
탄산 칼륨 40g
에틸렌다이아민·4아세트산 2g
브로민화 칼륨 3g
폴리에틸렌글라이콜 2000 1g
수산화 칼륨 4g
pH는 10.3으로 조정했다.
정착액 1L의 처방은 하기와 같다.
싸이오 황산 암모늄액(75%) 300ml
아황산 암모늄·1수염 25g
1,3-다이아미노프로페인·4아세트산 8g
아세트산 5g
암모니아수(27%) 1g
pH는 6.2로 조정했다.
상기 처리제를 이용하여 노광이 완료된 감재를, 후지필름사제 자동 현상기 FG-710PTS를 이용하여 처리 조건: 현상 35℃, 30초, 정착 34℃, 23초, 수세, 유수(5L/분)의 20초 처리로 행했다.
(터치 패널의 제작)
상술한 투명 도전성 필름을 이용하여 일본 공개특허공보 2009-176608의 단락 [0073]~[0075]의 기재에 따라, 터치 패널을 제작했다. 본 발명의 필름은, 인성(靭性)이 우수하며, 색미 변화가 작은, 양호한 성능을 갖는 것을 확인했다.
(반사 방지 필름의 제작)
본 발명의 필름을 이용하여, 일본 발명 협회 공개 기보(공기 번호 2001-1745)의 실시예 47에 따라 저반사 필름을 제작한 바, 양호한 광학 성능이 얻어졌다.
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 내열성이나 내습성이 우수하고, 또한 시인성이 충분히 확보된 광학 필름을 얻을 수 있다. 이로 인하여, 본 발명 광학 필름은, 투명 도전성 필름 등의 용도로서도 바람직하게 이용되어, 산업상의 이용 가능성이 높다.

Claims (11)

  1. 편광자를 갖는 표시 장치에 이용되는 광학 필름으로서,
    Re=2000~30000nm이며, Rth=-30000~-1000nm인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 광학 필름의 두께가 10~500μm인 광학 필름.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 광학 필름의, 25℃, 상대 습도 60%에 있어서의 평형 함수율은 0.1wt% 이하인 광학 필름.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 필름의 하중 변형 온도가 105℃ 이상 150℃ 이하인 광학 필름.
  5. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 필름이 폴리스타이렌계 필름인 광학 필름.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 폴리스타이렌계 필름이, 결정성의 폴리스타이렌을 포함하는 광학 필름.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 폴리스타이렌계 필름이, 신디오택틱 구조를 갖는 광학 필름.
  8. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름과, 편광자를 갖는 편광판.
  9. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름과, 도전층을 갖는 투명 도전성 필름.
  10. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 이용한 표면 보호 필름.
  11. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 이용한 액정 표시 장치.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6275961B2 (ja) 2013-06-26 2018-02-07 富士フイルム株式会社 光学フィルム及び表示装置
JP6290628B2 (ja) * 2014-01-09 2018-03-07 富士フイルム株式会社 画像表示装置
JP6542089B2 (ja) * 2015-09-30 2019-07-10 富士フイルム株式会社 車両用ミラー
JP6811060B2 (ja) 2016-09-09 2021-01-13 富士フイルム株式会社 剥離性積層フィルム及び偏光板の製造方法
JP7129830B2 (ja) * 2018-06-19 2022-09-02 日東電工株式会社 樹脂フィルム、導電性フィルム及び積層フィルムの製造方法
KR102568167B1 (ko) * 2018-09-12 2023-08-18 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 윈도우 및 이를 포함하는 플렉서블 표시장치
CN109438888B (zh) * 2018-10-31 2021-07-30 中国石油化工股份有限公司 一种不同立构含量的聚乙烯醇系膜及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008146003A (ja) * 2006-09-14 2008-06-26 Asahi Kasei Chemicals Corp アクリル系樹脂およびスチレン系樹脂を含む位相差フィルム
JP2008225452A (ja) * 2007-02-14 2008-09-25 Asahi Kasei Chemicals Corp 光学素子用成形体
JP2010078905A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Nippon Zeon Co Ltd 光学フィルムおよび液晶表示装置
JP2012073646A (ja) * 2011-12-26 2012-04-12 Nippon Zeon Co Ltd 位相差板の製造方法

Family Cites Families (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4583825A (en) 1983-12-27 1986-04-22 Tektronix, Inc. Electro-optic display system with improved viewing angle
USRE35289E (en) 1985-11-11 1996-07-02 Idemitsu Kosan Company Limited Process for production of styrene polymers
JPS62187708A (ja) 1985-11-11 1987-08-17 Idemitsu Kosan Co Ltd スチレン系重合体の製造法
JP2548979B2 (ja) 1988-12-28 1996-10-30 富士通株式会社 液晶表示装置
JP2888648B2 (ja) 1990-12-28 1999-05-10 出光興産株式会社 スチレン系重合体の製造方法及びその触媒
JP3121090B2 (ja) 1992-01-24 2000-12-25 富士通株式会社 プラズマディスプレイパネル
JP3118054B2 (ja) 1992-01-29 2000-12-18 株式会社リコー 液晶表示素子
US5410422A (en) 1993-03-03 1995-04-25 Tektronix, Inc. Gray scale liquid crystal display having a wide viewing angle
JP3674146B2 (ja) 1996-05-07 2005-07-20 株式会社富士通ゼネラル 光学フィルタ装置
JP3630284B2 (ja) 1998-03-24 2005-03-16 富士写真フイルム株式会社 新規メチン化合物、有機発光素子材料およびそれを使用した有機発光素子
US6458474B1 (en) 1998-03-24 2002-10-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Methine compound, material for organic luminescence element, organic luminescence element using the same
JP3674820B2 (ja) 1998-03-25 2005-07-27 富士写真フイルム株式会社 新規メチン化合物、有機発光素子材料及びそれを使用した有機発光素子
JP4686011B2 (ja) 1999-07-22 2011-05-18 富士フイルム株式会社 新規ヘテロ環化合物、発光素子材料およびそれを使用した発光素子
US6461747B1 (en) 1999-07-22 2002-10-08 Fuji Photo Co., Ltd. Heterocyclic compounds, materials for light emitting devices and light emitting devices using the same
JP3949363B2 (ja) 1999-10-26 2007-07-25 富士フイルム株式会社 芳香族縮環化合物、発光素子材料およびそれを使用した発光素子
US6620529B1 (en) 1999-10-27 2003-09-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Materials for light emitting devices and light emitting devices using the same
JP4116225B2 (ja) 1999-10-27 2008-07-09 富士フイルム株式会社 新規縮合へテロ環化合物、発光素子材料およびそれを使用した発光素子
JP2001148291A (ja) 1999-11-19 2001-05-29 Sony Corp 表示装置及びその製造方法
US6821645B2 (en) 1999-12-27 2004-11-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-emitting material comprising orthometalated iridium complex, light-emitting device, high efficiency red light-emitting device, and novel iridium complex
JP2001181616A (ja) 1999-12-27 2001-07-03 Fuji Photo Film Co Ltd オルトメタル化パラジウム錯体からなる発光素子材料および発光素子
JP2001181617A (ja) 1999-12-27 2001-07-03 Fuji Photo Film Co Ltd オルトメタル化白金錯体からなる発光素子材料および発光素子
JP3929690B2 (ja) 1999-12-27 2007-06-13 富士フイルム株式会社 オルトメタル化イリジウム錯体からなる発光素子材料、発光素子および新規イリジウム錯体
JP4067259B2 (ja) 2000-01-12 2008-03-26 富士フイルム株式会社 縮環多環式炭化水素化合物、発光素子材料およびそれを使用した発光素子
KR100807140B1 (ko) 2000-01-27 2008-02-27 후지필름 가부시키가이샤 광산란형 편광소자 및 광흡수형 편광소자가 적층된 편광판
JP2001221916A (ja) 2000-02-08 2001-08-17 Toshiba Corp 偏光フィルム、それを使用した平面表示装置、及び、その検査方法
KR100350444B1 (ko) 2000-02-22 2002-08-28 만도공조 주식회사 복합형 김치저장고
JP4578642B2 (ja) 2000-08-09 2010-11-10 富士フイルム株式会社 有機発光素子
JP2002181816A (ja) 2000-12-08 2002-06-26 Univ Waseda 二本鎖核酸の検出試薬と二本鎖核酸検出方法
JP3587165B2 (ja) 2000-12-12 2004-11-10 株式会社寺岡精工 廃棄物の計量管理システム
JP2004085655A (ja) 2002-08-23 2004-03-18 Asahi Kasei Aimii Kk 耐汚染性の含水ソフトコンタクトレンズ
JP4084645B2 (ja) 2002-12-03 2008-04-30 富士フイルム株式会社 熱現像感光材料
US20060014113A1 (en) 2004-07-16 2006-01-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photothermographic material
US7381520B2 (en) 2002-12-03 2008-06-03 Fujifilm Corporation Photothermographic material
JP2004244080A (ja) 2003-02-17 2004-09-02 Maruha Corp 冷凍ころも付きえび用収納トレー
JP4322549B2 (ja) 2003-05-12 2009-09-02 富士フイルム株式会社 熱現像感光材料
JP2005010752A (ja) 2003-05-22 2005-01-13 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料及び画像形成方法
US7144688B2 (en) 2003-05-22 2006-12-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photothermographic material and image forming method
JP4479175B2 (ja) 2003-06-06 2010-06-09 コニカミノルタオプト株式会社 ハードコートフィルム、その製造方法、偏光板及び表示装置
TWI406899B (zh) 2006-09-05 2013-09-01 Tosoh Corp Optical compensation film and phase difference film
JP4887198B2 (ja) 2007-03-30 2012-02-29 富士フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料、及び画像形成方法
JP2008274043A (ja) * 2007-04-26 2008-11-13 Asahi Kasei Corp 膜及びその製造方法
JP5376808B2 (ja) 2008-01-25 2013-12-25 Ｄｉｃ株式会社 透明導電性フィルムの製造方法、透明導電性フィルム及びタッチパネル
JP5104373B2 (ja) 2008-02-14 2012-12-19 日本ゼオン株式会社 位相差板の製造方法
JP2009277466A (ja) 2008-05-14 2009-11-26 Konica Minolta Holdings Inc 透明導電性フィルム及びその製造方法
US7948592B2 (en) 2008-06-23 2011-05-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Display device for increasing viewing angle
JP5421045B2 (ja) 2008-10-01 2014-02-19 富士フイルム株式会社 フィルムおよびフィルムの製造方法
JP5411489B2 (ja) 2008-12-10 2014-02-12 富士フイルム株式会社 フィルム、フィルムの製造方法、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置
JP5400420B2 (ja) 2009-02-23 2014-01-29 三菱製紙株式会社 透明導電性材料
JP5531452B2 (ja) * 2009-02-28 2014-06-25 日本ゼオン株式会社 偏光板、偏光板の製造方法、および液晶表示装置
EP2415591A4 (en) 2009-03-31 2013-11-20 Teijin Ltd TRANSPARENT CONDUCTIVE LAMINATE AND TRANSPARENT TOUCH PANEL
TWI445624B (zh) 2009-06-03 2014-07-21 Toyo Boseki 透明導電性積層薄膜
JP2011034806A (ja) 2009-07-31 2011-02-17 Nissha Printing Co Ltd 貼合わせ適性に優れた透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル
JP5811431B2 (ja) 2009-09-11 2015-11-11 住友化学株式会社 偏光板および液晶表示装置
JP4888853B2 (ja) 2009-11-12 2012-02-29 学校法人慶應義塾 液晶表示装置の視認性改善方法、及びそれを用いた液晶表示装置
JP2012014669A (ja) 2009-11-20 2012-01-19 Fujifilm Corp 導電シート、導電シートの使用方法及び静電容量方式タッチパネル
JP4820451B2 (ja) 2009-11-20 2011-11-24 富士フイルム株式会社 導電シート、導電シートの使用方法及びタッチパネル
KR101641402B1 (ko) 2009-12-10 2016-07-20 도판 인사츠 가부시키가이샤 도전성 기판 및 그 제조 방법 및 터치 패널
JP5375692B2 (ja) 2010-03-17 2013-12-25 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサの製造方法
JP2010256908A (ja) 2010-05-07 2010-11-11 Fujifilm Corp 映画用ハロゲン化銀写真感光材料
EP2824506B1 (en) 2010-06-22 2020-05-20 Toyobo Co., Ltd. Liquid crystal display device, polarizer and protective film
JP5709311B2 (ja) 2010-06-25 2015-04-30 グンゼ株式会社 透明面状体及び透明タッチパネル
JP2012151095A (ja) 2010-12-27 2012-08-09 Dic Corp 透明導電性フィルム、静電容量式タッチパネルの透明電極及びタッチパネル
US20120162763A1 (en) 2010-12-28 2012-06-28 Lg Display Co., Ltd. Image display device
JP2012216550A (ja) 2011-03-31 2012-11-08 Mitsubishi Materials Corp 透明導電膜形成用分散液、透明導電膜、および透明導電膜の製造方法
JP5995407B2 (ja) 2011-04-01 2016-09-21 山本光学株式会社 色ムラを改善した偏光光学物品
JP5473990B2 (ja) 2011-06-17 2014-04-16 日東電工株式会社 導電性積層体、パターン配線付き透明導電性積層体、および光学デバイス。
JP5396439B2 (ja) 2011-07-22 2014-01-22 学校法人慶應義塾 液晶表示装置の視認性改善方法、及びそれを用いた液晶表示装置
JP5877017B2 (ja) 2011-08-30 2016-03-02 富士フイルム株式会社 光学積層フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置
KR101315530B1 (ko) 2011-09-30 2013-10-08 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 액정 표시 장치 및 편광판 보호 필름
JP5051328B1 (ja) 2012-01-27 2012-10-17 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
WO2014119577A1 (ja) * 2013-02-01 2014-08-07 三井化学株式会社 表示装置及び積層光学フィルム
JP6275961B2 (ja) 2013-06-26 2018-02-07 富士フイルム株式会社 光学フィルム及び表示装置
JP6290628B2 (ja) * 2014-01-09 2018-03-07 富士フイルム株式会社 画像表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008146003A (ja) * 2006-09-14 2008-06-26 Asahi Kasei Chemicals Corp アクリル系樹脂およびスチレン系樹脂を含む位相差フィルム
JP2008225452A (ja) * 2007-02-14 2008-09-25 Asahi Kasei Chemicals Corp 光学素子用成形体
JP2010078905A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Nippon Zeon Co Ltd 光学フィルムおよび液晶表示装置
JP2012073646A (ja) * 2011-12-26 2012-04-12 Nippon Zeon Co Ltd 位相差板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US10317598B2 (en) 2019-06-11
KR20160003826A (ko) 2016-01-11
JP6275961B2 (ja) 2018-02-07
WO2014208309A1 (ja) 2014-12-31
CN105324690A (zh) 2016-02-10
JP2015011065A (ja) 2015-01-19
CN105324690B (zh) 2019-06-11
US20160109632A1 (en) 2016-04-21

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