CN104640884A - 光固化性组合物和使用所述组合物的膜的制造方法 - Google Patents

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Abstract

要用于制造具有高生产性的膜的本发明的光固化性组合物是一种光固化性组合物，其要用于在所述光固化性组合物与在其表面上具有凹凸图案的模具接触的状态下，通过将所述光固化性组合物使用光来固化而制造具有预定图案形状的膜，所述光固化性组合物包括：聚合性化合物；光聚合引发剂；用于通过光刺激来产生气体的感光性气体产生剂；和用于增加在所述模具和所述光固化性组合物之间的界面处的产生自所述感光性气体产生剂的所述气体的聚集速率的气体产生促进剂，其中所述气体产生促进剂包括没有聚合性取代基的含氟原子的表面活性剂。

Description

光固化性组合物和使用所述组合物的膜的制造方法
技术领域
本发明涉及一种光固化性组合物和使用所述组合物的膜的制造方法。
背景技术
UV纳米压印法是在基板例如要加工的基板上生产具有预定图案形状的抗蚀膜的一种方法，并且具有例如包括步骤(a)至(d)的以下制造方法：
(a)配置抗蚀剂(光固化性组合物)；
(b)将所述光固化性组合物和具有形成在其表面上的微细凹凸图案的模具彼此接触；
(c)将所述光固化性组合物使用光照射；和
(d)将所述光固化性组合物和所述模具在照射后彼此脱离。
应该注意的是，将通过包括步骤(a)至(d)的制造方法生产的抗蚀膜的图案形状通过将模具的凹凸转印至配置在基板上的抗蚀膜上来形成。
通过此方法，在利用UV纳米压印法时，降低在脱模步骤(步骤(d))中从抗蚀剂固化物脱离模具需要的力,即，脱模力，已经是重要的问题。这样因为以下原因。当脱模力大时，产生例如图案缺陷的发生和由于基板从平台(stage)浮起导致的定位精度(positioning accuracy)降低等问题。
作为所述问题的解决方法可用的是在PTL 1中提出的方法。具体地，已经提出了以下方法。使用了已经添加通过光反应产生例如氮气或二氧化碳的气体的感光性气体产生剂的光固化性组合物。当使用所述方法时，在模具和光固化性组合物之间的界面结合通过在光照射步骤中产生的气体的压力而开裂，因此脱模力降低。
然而，PTL 1中提出的方法已经涉及以下问题。用于产生气体要进行的光照射需要长时间，因此生产性低。
引用列表
专利文献
PTL 1：日本专利申请特开No.2010-262980
非专利文献
NPL 1：SPIE，第3676卷，第379页
发明内容
发明要解决的问题
本发明提供一种光固化性组合物，其用于以高生产性制造膜。
用于解决问题的方案
本发明的光固化性组合物是一种光固化性组合物，其要用于在所述光固化性组合物与在其表面上具有凹凸的模具接触的状态下，通过将所述光固化性组合物使用光来固化而制造具有预定图案形状的膜，所述光固化性组合物包括：聚合性化合物；光聚合引发剂；用于通过光刺激产生气体的感光性气体产生剂；和用于增加在所述模具和所述光固化性组合物之间的界面处的产生自所述感光性气体产生剂的所述气体的聚集速率的气体产生促进剂，其中所述气体产生促进剂包括没有聚合性取代基的含氟原子的表面活性剂。
根据本发明，可以提供一种光固化性组合物，其要用于以高生产性制造膜。
本发明的进一步特征将参考附图从示例性实施方案的以下说明变得明显。
附图说明
图1是表明在模具与光固化性组合物接触时，在模具和光固化性组合物之间的界面外观的示例性截面图。
图2A、2B、2C、2D、2E、2F和2G是表明本发明的膜的制造方法的实施方案的实例的示例性截面图。
具体实施方式
现在，适当地参考附图详细地描述本发明的实施方案，条件是本发明不限于下述实施方案。另外，在本发明中，例如，通过将下述实施方案基于本领域技术人员的常识适当地改变和修改至所述改变和修改不偏离其要旨的这样的程度而获得的实施方案也包括于本发明的范围。
另外，后述根据本发明的膜的制造方法是例如包括利用光压印法的膜的制造方法。此处，在利用光压印法时，优选具有尺寸为1nm至10mm的图案的膜的形成方法，并且更优选具有尺寸为大约10nm至100μm的图案的膜的形成方法。用于通过光来制造具有图案(凹凸结构)为纳米尺寸(1nm至100nm)的膜的图案形成技术通常称为UV纳米压印法。本发明利用UV纳米压印法。
(光固化性组合物)
本发明的光固化性组合物用于在所述光固化性组合物与在其表面上具有凹凸的模具接触的状态下，通过将所述光固化性组合物使用光来固化而制造具有预定图案形状的膜。另外，本发明的光固化性组合物具有以下组分(A)至(D)：
(A)聚合性化合物；
(B)光聚合引发剂；
(C)感光性气体产生剂；和
(D)气体产生促进剂.
现在，详细地描述各个组分。
<聚合性化合物(组分(A))>
在本发明中，聚合性化合物(组分(A))是与产生自光聚合引发剂(组分(B))的聚合因子(例如自由基或阳离子)反应的化合物。另外，在与聚合因子反应之后，聚合性化合物(组分(A))通过链反应(聚合反应)形成由高分子化合物形成的膜。
构成本发明的光固化性组合物的聚合性化合物的实例包括自由基聚合性化合物和阳离子聚合性化合物。
具有一个以上的丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物优选作为自由基聚合性化合物。具有一个以上的乙烯基醚基、环氧基或氧杂环丁基(oxetanylgroups)的化合物优选作为阳离子聚合性化合物。
(聚合性化合物(A)-自由基聚合性组分)
作为具有一个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的单官能(甲基)丙烯酸化合物，列举的是，例如，苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基-2-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-苯氧基-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、4-苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-(2-苯基苯基)-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、EO-改性的对枯基苯基(甲基)丙烯酸酯、2-溴苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2,4-二溴苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2,4,6-三溴苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、EO-改性的苯氧基(甲基)丙烯酸酯、PO-改性的苯氧基(甲基)丙烯酸酯、聚氧化乙烯壬基苯基醚(甲基)丙烯酸酯、异冰片基(甲基)丙烯酸酯、1-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、冰片基(甲基)丙烯酸酯、三环癸基(甲基)丙烯酸酯、二环戊基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯、4-丁基环己基(甲基)丙烯酸酯、丙烯酰基吗啉、2-羟基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羟基丁基(甲基)丙烯酸酯、甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯酸酯、异丙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、正戊基(amyl)(甲基)丙烯酸酯、异丁基(甲基)丙烯酸酯、叔丁基(甲基)丙烯酸酯、戊基(pentyl)(甲基)丙烯酸酯、异戊基(甲基)丙烯酸酯、己基(甲基)丙烯酸酯、庚基(甲基)丙烯酸酯、辛基(甲基)丙烯酸酯、异辛基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、壬基(甲基)丙烯酸酯、癸基(甲基)丙烯酸酯、异癸基(甲基)丙烯酸酯、十一烷基(甲基)丙烯酸酯、十二烷基(甲基)丙烯酸酯、月桂基(甲基)丙烯酸酯、硬脂基(甲基)丙烯酸酯、异硬脂基(甲基)丙烯酸酯、苯甲基(甲基)丙烯酸酯、四氢糠基(甲基)丙烯酸酯、丁氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙氧基二甘醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、双丙酮(甲基)丙烯酰胺、异丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、叔辛基(甲基)丙烯酰胺、二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、7-氨基-3,7-二甲基辛基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、和N,N-二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺等，但不限于此。
作为单官能(甲基)丙烯酸化合物的市售产品，列举的是，Aronix M101、M102、M110、M111、M113、M117、M5700、TO-1317、M120、M150和M156(以上全部由TOAGOSEI CO.,LTD制造)；MEDOL10、MIBDOL10、CHDOL10、MMDOL30、MEDOL30、MIBDOL30、CHDOL30、LA、IBXA、2-MTA、HPA，和Viscoat#150、#155、#158、#190、#192、#193、#220、#2000、#2100和#2150(以上全部由OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.制造)；Light Acrylate BO-A、EC-A、DMP-A、THF-A、HOP-A、HOA-MPE、HOA-MPL、PO-A、P-200A、NP-4EA和NP-8EA，和Epoxy Ester M-600A(以上全部由KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD制造)；KAYARAD TC110S、R-564和R-128H(以上全部由NIPPON KAYAKU Co.,Ltd.制造)；NK Ester AMP-10G和AMP-20G(以上两者由Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)；FA-511A、512A和513A(以上全部由Hitachi Chemical Co.,Ltd.制造)；PHE、CEA、PHE-2、PHE-4、BR-31、BR-31M和BR-32(以上全部由Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co.,Ltd.制造)；VP(BASF制造)；和ACMO、DMAA和DMAPAA(以上全部由KOHJINCo.,Ltd.制造)等，但不限于此。
各自具有两个以上丙烯酰基或甲基丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸化合物包括，但不限于，三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO-改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO-改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO,PO-改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟基乙基)异氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基)异氰脲酸酯、双(羟基甲基)三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO-改性的2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基)苯基)丙烷、PO-改性的2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基)苯基)丙烷和EO,PO-改性的2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基)苯基)丙烷。
多官能(甲基)丙烯酸化合物的市售产品的实例包括，但不限于：UpimerUV SA1002和SA2007(以上两者由Mitsubishi Chemical Corporation制造)；Viscoat#195、#230、#215、#260、#335HP、#295、#300、#360、#700、GPT和3PA(以上全部由OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.制造)；Light Acrylate 4EG-A、9EG-A、NP-A、DCP-A、BP-4EA、BP-4PA、TMP-A、PE-3A、PE-4A和DPE-6A(以上全部由KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD制造)；KAYARAD PET-30，TMPTA，R-604，DPHA，DPCA-20、-30、-60和-120，和HX-620、D-310和D-330(以上全部由NIPPON KAYAKU Co.,Ltd.制造)；Aronix M208、M210、M215、M220、M240、M305、M309、M310、M315、M325和M400(以上全部由TOAGOSEI CO.,LTD制造)；和LipoxyVR-77、VR-60和VR-90(以上全部由SHOWA HIGHPOLYMER CO.,LTD.制造)。
以上列出的自由基聚合性化合物的一种可以单独使用，或其两种以上可以以组合使用。注意的是，在上述化合物组中，术语“(甲基)丙烯酸酯”是指与其对应的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。术语“(甲基)丙烯酰基”是指与其对应的丙烯酰基和甲基丙烯酰基。缩写“EO”是指氧化乙烯，并且术语“EO-改性的化合物”是指具有氧化乙烯基的嵌段结构的化合物。进一步，缩写“PO”是指氧化丙烯，并且术语“PO-改性的化合物”是指具有氧化丙烯基的嵌段结构的化合物。
(聚合性化合物(A)-阳离子聚合性组分)
各自具有一个乙烯基醚基的化合物的实例包括，但不限于，甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、正丁基乙烯基醚、叔丁基乙烯基醚、2-乙基己基乙烯基醚、正壬基乙烯基醚、月桂基乙烯基醚、环己基乙烯基醚、环己基甲基乙烯基醚、4-甲基环己基甲基乙烯基醚、苯甲基乙烯基醚、二环戊烯基乙烯基醚、2-二环戊烯氧基乙基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、丁氧基乙基乙烯基醚、甲氧基乙氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙氧基乙基乙烯基醚、甲氧基聚乙二醇乙烯基醚、四氢糠基乙烯基醚、2-羟基乙基乙烯基醚、2-羟基丙基乙烯基醚、4-羟基丁基乙烯基醚、4-羟基甲基环己基甲基乙烯基醚、二甘醇单乙烯基醚、聚乙二醇乙烯基醚、氯乙基乙烯基醚、氯丁基乙烯基醚、氯乙氧基乙基乙烯基醚、苯基乙基乙烯基醚和苯氧基聚乙二醇乙烯基醚。
各自具有两个以上乙烯基醚基的化合物的实例包括，但不限于：二乙烯基醚，例如乙二醇二乙烯基醚、二甘醇二乙烯基醚、聚乙二醇二乙烯基醚、丙二醇二乙烯基醚、丁二醇二乙烯基醚、己二醇二乙烯基醚、双酚A烯化氧二乙烯基醚和双酚F烯化氧二乙烯基醚；和多官能乙烯基醚，例如三羟甲基乙烷三乙烯基醚、三羟甲基丙烷三乙烯基醚、二三羟甲基丙烷四乙烯基醚、甘油三乙烯基醚、季戊四醇四乙烯基醚、二季戊四醇五乙烯基醚、二季戊四醇六乙烯基醚、三羟甲基丙烷三乙烯基醚的氧化乙烯加成物、三羟甲基丙烷三乙烯基醚的氧化丙烯加成物、二三羟甲基丙烷四乙烯基醚的氧化乙烯加成物、二三羟甲基丙烷四乙烯基醚的氧化丙烯加成物、季戊四醇四乙烯基醚的氧化乙烯加成物、季戊四醇四乙烯基醚的氧化丙烯加成物、二季戊四醇六乙烯基醚的氧化乙烯加成物和二季戊四醇六乙烯基醚的氧化丙烯加成物。
各自具有一个环氧基的化合物的实例包括，但不限于，苯基缩水甘油醚、对叔丁基苯基缩水甘油醚、丁基缩水甘油醚、2-乙基己基缩水甘油醚、烯丙基缩水甘油醚、1,2-环氧丁烷、一氧化1,3-丁二烯、1,2-环氧基十二烷、表氯醇、1,2-环氧基癸烷、氧化苯乙烯、氧化环己烯、3-甲基丙烯酰氧甲基环氧环己烷、3-丙烯酰氧甲基环氧环己烷和3-乙烯基环氧环己烷。
各自具有两个以上环氧基的化合物的实例包括，但不限于，双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、溴化双酚A二缩水甘油醚、溴化双酚F二缩水甘油醚、溴化双酚S二缩水甘油醚、环氧酚醛清漆树脂、氢化双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚F二缩水甘油醚、氢化双酚S二缩水甘油醚、3,4-环氧基环己基甲基-3',4'-环氧基环己烷羧酸酯、2-(3,4-环氧基环己基-5,5-螺-3,4-环氧基)环己烷-间-二氧六环、双(3,4-环氧基环己基甲基)己二酸酯、氧化乙烯基环己烯(vinylcyclohexene oxide)、4-乙烯基环氧基环己烷、双(3,4-环氧基-6-甲基环己基甲基)己二酸酯、3,4-环氧基-6-甲基环己基-3',4'-环氧基-6'-甲基环己烷羧酸酯、亚甲基双(3,4-环氧基环己烷)、二环氧化二环戊二烯(dicyclopentadiene diepoxide)、乙二醇的二(3,4-环氧基环己基甲基)醚、亚乙基双(3,4-环氧基环己烷羧酸酯)、二辛基环氧基六氢化邻苯二甲酸酯、二-2-乙基己基环氧基六氢化邻苯二甲酸酯、1,4-丁二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、二氧化1,1,3-四癸二烯、二氧化柠檬烯、1,2,7,8-二环氧基辛烷和1,2,5,6-二环氧基环辛烷。
各自具有一个氧杂环丁基的化合物的实例包括，但不限于，3-乙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-(甲基)烯丙氧基甲基-3-乙基氧杂环丁烷、(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基苯、4-氟代[1-(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]苯、4-甲氧基[1-(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]苯、[1-(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)乙基]苯基醚、异丁氧基甲基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、异冰片氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、异冰片基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-乙基己基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、乙基二甘醇(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二环戊二烯(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二环戊烯氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二环戊烯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、四氢糠基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、四溴苯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-四溴苯氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、三溴苯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-三溴苯氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-羟基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-羟基丙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、丁氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、五氯苯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、五溴苯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚和冰片基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚。
各自具有两个以上氧杂环丁基的化合物的实例包括，但不限于，多官能氧杂环丁烷，例如3,7-双(3-氧杂环丁基)-5-氧杂-壬烷、3,3'-(1,3-(2-亚甲基)丙烷二基双(氧亚甲基))双(3-乙基氧杂环丁烷)、1,4-双[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]苯、1,2-双[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]乙烷、1,3-双[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]丙烷、乙二醇双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二环戊烯基双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、三甘醇双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、四甘醇双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、三环癸烷二基(tricyclodecanediyl)二亚甲基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、三羟甲基丙烷三(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、1,4-双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)丁烷、1,6-双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)己烷、季戊四醇三(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、季戊四醇四(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、聚乙二醇双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二季戊四醇六(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二季戊四醇五(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二季戊四醇四(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、己内酯改性的二季戊四醇六(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、己内酯改性的二季戊四醇五(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二三羟甲基丙烷四(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、EO-改性的双酚A双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、PO-改性的双酚A双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、EO-改性的氢化双酚A双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、PO-改性的氢化双酚A双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚和EO-改性的双酚F(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚。
以上列出的阳离子聚合性化合物的一种可以单独使用，或其两种以上可以以组合使用。应该注意的是，在上述化合物组中，缩写“EO”表示氧化乙烯，并且术语“EO-改性的化合物”是指具有氧化乙烯基的嵌段结构的化合物。另外，缩写“PO”表示氧化丙烯，并且术语“PO-改性的化合物”是指具有氧化丙烯基的嵌段结构的化合物。另外，术语“氢化”是指将氢原子添加至苯环等的C＝C双键。
<光聚合引发剂(组分(B))>
在本发明中，光聚合引发剂(组分(B))是通过感应具有预定波长的光产生聚合因子(例如自由基或阳离子)的化合物。具体地，当作为组分(A)的聚合性化合物是自由基聚合性化合物时，光聚合引发剂(组分(B))是使用光(照射，例如，红外光、可见光、紫外光、远紫外光、X射线、或例如电子射线的带电粒子射线)产生自由基的聚合引发剂。另一方面，当作为组分(A)的聚合性化合物是阳离子聚合性化合物时，光聚合引发剂是使用光产生酸的聚合引发剂。
作为自由基产生剂的化合物的实例包括，但不限于：可以具有取代基的2,4,5-三芳基咪唑二聚体，例如2-(邻氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体、2-(邻氯苯基)-4,5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚体、2-(邻氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体和2-(邻或对甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体；苯甲酮衍生物，例如苯甲酮、N,N′-四甲基-4,4′-二氨基苯甲酮(米蚩酮(Michler's ketone))、N,N′-四乙基-4,4′-二氨基苯甲酮、4-甲氧基-4′-二甲基氨基苯甲酮、4-氯苯甲酮、4,4'-二甲氧基苯甲酮和4,4'-二氨基苯甲酮；芳香族酮衍生物，例如2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1,2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基-丙-1-酮；醌类，例如2-乙基蒽醌、菲醌、2-叔丁基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2-苯并蒽醌、2,3-苯并蒽醌、2-苯基蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、1-氯蒽醌、2-甲基蒽醌、1,4-萘醌、9,10-菲醌、2-甲基-1,4-萘醌和2,3-二甲基蒽醌；苯偶姻醚衍生物，例如苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚和苯偶姻苯基醚；苯偶姻衍生物，例如苯偶姻、甲基苯偶姻、乙基苯偶姻和丙基苯偶姻；苯甲基衍生物，例如苯甲基二甲基缩酮；吖啶衍生物，例如9-苯基吖啶和1,7-双(9,9′-吖啶基)庚烷；N-苯基甘氨酸衍生物，例如N-苯基甘氨酸；乙酰苯衍生物例如乙酰苯、3-甲基乙酰苯、乙酰苯基苯甲基缩酮、1-羟基环己基苯基酮和2,2-二甲氧基-2-苯基乙酰苯；噻吨酮衍生物，例如噻吨酮、二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮和2-氯代噻吨酮；和呫吨酮、芴酮、苯甲醛、芴、蒽醌、三苯胺、咔唑、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、和双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦。应该注意的是，以上列出的化合物的一种可以单独使用，或其两种以上可以以组合使用。
光自由基产生剂的市售产品的实例包括，但不限于，Irgacure 184、369、651、500、819、907、784和2959，CGI-1700、-1750和-1850，CG24-61，和Darocur 1116和1173(以上全部由Ciba Japan制造)；Lucirin TPO、LR8893和LR8970(以上全部由BASF制造)；和Ubecryl P36(UCB制造)。
例如，给出鎓盐化合物、砜化合物、磺酸酯化合物、磺酰亚胺化合物和重氮甲烷化合物作为要用作使用光产生酸的聚合引发剂的化合物。化合物不限于那些化合物。在本发明中，那些化合物中，优选使用鎓盐化合物。
鎓盐化合物的实例包括碘鎓盐、锍盐、鏻盐、重氮盐、铵盐、和吡啶鎓盐。鎓盐化合物的具体实例包括，但不限于，双(4-叔丁基苯基)碘鎓全氟正丁烷磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓三氟甲烷磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓2-三氟甲基苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓芘磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓正十二烷基苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓对甲苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓10-樟脑磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓正辛烷磺酸盐、二苯基碘鎓全氟正丁烷磺酸盐、二苯基碘鎓三氟甲烷磺酸盐、二苯基碘鎓2-三氟甲基苯磺酸盐、二苯基碘鎓芘磺酸盐、二苯基碘鎓正十二烷基苯磺酸盐、二苯基碘鎓对甲苯磺酸盐、二苯基碘鎓苯磺酸盐、二苯基碘鎓10-樟脑磺酸盐、二苯基碘鎓正辛烷磺酸盐、三苯基锍全氟正丁烷磺酸盐、三苯基锍三氟甲烷磺酸盐、三苯基锍2-三氟甲基苯磺酸盐、三苯基锍芘磺酸盐、三苯基锍正十二烷基苯磺酸盐、三苯基锍对甲苯磺酸盐、三苯基锍苯磺酸盐、三苯基锍10-樟脑磺酸盐、三苯基锍正辛烷磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍全氟正丁烷磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍三氟甲烷磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍2-三氟甲基苯磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍芘磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍正十二烷基苯磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍对甲苯磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍苯磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍10-樟脑磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍正辛烷磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍全氟正丁烷磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍三氟甲烷磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍2-三氟甲基苯磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍芘磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍正十二烷基苯磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍对甲苯磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍苯磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍10-樟脑磺酸盐和三(4-甲氧基苯基)锍正辛烷磺酸盐。
砜化合物的实例可以包括β-酮砜、β-磺酰基砜、和其α-重氮化合物。砜化合物的具体实例包括，但不限于，苯甲酰甲基苯基砜、2,4,6-三甲苯基苯甲酰甲基砜、双(苯基磺酰)甲烷和4-三苯甲酰甲基砜。
磺酸酯化合物的实例可以包括烷基磺酸酯、卤代烷基磺酸酯、芳基磺酸酯和亚氨基磺酸酯。磺酸酯化合物的具体实例包括，但不限于，α-羟甲基苯偶姻全氟正丁烷磺酸酯、α-羟甲基苯偶姻三氟甲烷磺酸酯和α-羟甲基苯偶姻2-三氟甲基苯磺酸酯。
磺酰亚胺化合物的具体实例包括，但不限于，N-(三氟甲基磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(4-氟苯基)邻苯二甲酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺和N-(4-氟苯基磺酰氧基)萘酰亚胺。
重氮甲烷化合物的具体实例包括，但不限于，双(三氟甲基磺酰基)重氮甲烷、双(环己基磺酰基)重氮甲烷、双(苯基磺酰基)重氮甲烷、双(对甲苯磺酰基)重氮甲烷、甲基磺酰基对甲苯磺酰基重氮甲烷、(环己基磺酰基)(1,1-二甲基乙基磺酰基)重氮甲烷和双(1,1-二甲基乙基磺酰基)重氮甲烷。
光致产酸剂(photoacid generating agent)中，优选鎓盐化合物。在本发明中，光致产酸剂的一种可以单独使用，或其两种以上可以作为混合物使用。
相对于作为组分(A)的聚合性化合物的总量，作为组分(B)的聚合引发剂的配混比是0.01wt％以上且10wt％以下，优选0.1wt％以上且7wt％以下。如果聚合引发剂的配混比小于0.01wt％，则固化速度降低，因此导致较低的反应效率。另一方面，如果聚合引发剂的配混比超过10wt％，则光固化性组合物在固化物的机械性能方面会恶化。
<感光性气体产生剂(组分(C))>
在本发明中，感光性气体产生剂(组分(C))是通过感应例如紫外光的光(光刺激)产生气体的物质。即，当感光性气体产生剂(组分(C))吸收特定的光时，化学反应(消去反应)发生并且气体在化学反应时产生。感光性气体产生剂的实例包括偶氮系化合物、重氮盐系化合物、叠氮系化合物、重氮基萘醌系化合物、磺基酰肼系化合物、肼系化合物、硝基苯甲基氨基甲酸酯系化合物、苯偶姻氨基甲酸酯系化合物、和重氮甲烷磺酸系化合物。应该注意的是，要产生自感光性气体产生剂的气体是例如二氧化碳、一氧化碳、氮气、氧气或氢气，并且优选二氧化碳或氮气。作为产生氮气的化合物，列举的是，例如，例如2,2'-偶氮二-(N-丁基-2-甲基丙酰胺)(VAm-110，WAKO Pure ChemicalIndustries,Ltd.制造)等的偶氮系化合物，重氮盐系化合物，和例如1,2-重氮化萘醌(naphthoquinone diazide)-5-磺酸酯化合物等的重氮基萘醌系化合物。另外，作为产生二氧化碳的化合物，提出了苯偶姻氨基甲酸酯系化合物和硝基苯甲基氨基甲酸酯系化合物。
相对于在光固化性组合物中的聚合性化合物(组分(A))的总量，作为组分(C)的感光性气体产生剂以例如0.1wt％至50wt％配混。
相对于聚合性化合物(组分(A))的总量，感光性气体产生剂(组分(C))以优选0.5wt％至20wt％，更优选1wt％至15wt％配混。此处，当感光性气体产生剂(组分(C))的配混比小于0.1wt％时，不会充分地获得本发明的效果。另外，当感光性气体产生剂(组分(C))的配混比超过50wt％时，不可以充分地确保要制造的膜的机械强度，因此图案缺陷在一些情况下发生。
<气体产生促进剂(组分(D))>
本发明中，气体产生促进剂(组分(D))是用于将在后述光照射步骤中产生自作为组分(C)的感光性气体产生剂的气体聚集至在光固化性组合物和模具之间的界面的、要引入光固化性组合物的组分。
在光照射步骤中产生自感光性气体产生剂的气体在开始时溶解在光固化性组合物的膜中。然后，光反应进行，并且当溶解的气体的量超过光固化性组合物的饱和溶解度时，气体在预定的位置聚集(起泡)。此处，在预定位置处每单位时间的气体的聚集量定义为聚集速率。在本发明中，在光固化性组合物和模具之间的界面处的气体的聚集速率最重要。
此处，当气体的聚集发生在模具和光固化性组合物之间的界面处时，光固化性组合物在模具和光固化性组合物之间的界面处从模具脱离，因此脱模力降低。然而，当气体的聚集发生在光固化性组合物的固化膜中时，脱模不发生在模具和光固化性组合物之间的界面处，结果脱模力不降低。
此处，以下描述了在模具和光固化性组合物之间的界面处气体的聚集速率的评价方法。在光固化性组合物中，在气体产生促进剂添加至光固化性组合物的情况下和在不添加该促进剂的情况下，在特定光照射时间之后，在光固化性组合物和模具之间的界面处气体的产生量彼此比较。采用该方法能够判别聚集速率的增加存在或不存在。
在本发明中，将用于将气体选择性地聚集至预定位置的气体产生促进剂引入光固化性组合物。脱模操作需要的时间可以使用气体产生促进剂通过将产生自感光性气体产生剂的气体选择性地聚集至在光固化性组合物和模具之间的界面处而缩短。另外，产生自感光性气体产生剂的气体可以有效地用于降低脱模力。
没有聚合性取代基(例如双键、三键或极性取代基)的含氟原子的表面活性剂具体地用作作为组分(D)的气体产生促进剂。
含氟原子的表面活性剂可以由以下通式(1)至(3)的任何一种表示。
Rf1-Rc1-X1  (1)
Rf1-Rc1-Rf2  (2)
X1-Rc1-Rf3-Rc2-X2  (3)
在式(1)中，Rf1表示由氟原子和碳原子形成的一价拒水拒油性官能团。其具体实例包括具有2至20个碳原子并且由氟原子取代的链状烷基，例如全氟乙基、全氟丙基、全氟丁基、全氟戊基、全氟己基、全氟庚基、全氟辛基、全氟壬基或全氟癸基。从良好的环境安全性的观点，碳原子数优选7以下。
在式(1)中，Rc1表示二价亲油性官能团。其具体实例包括具有1至100个重复单元数的聚氧化乙烯链、具有1至100个重复单元数的聚氧化丙烯链、和可以包含具有2至100个碳原子的链状或环状结构的烷基。
在式(1)中，X1表示羟基、羧基、磺基、氨基、或烷氧基。
在式(2)中，Rf1和Rf2各自表示由氟原子和碳原子形成的一价拒水拒油性官能团。其具体实例包括具有2至20个碳原子并且由氟原子取代的链状烷基，例如全氟乙基、全氟丙基、全氟丁基、全氟戊基、全氟己基、全氟庚基、全氟辛基、全氟壬基或全氟癸基。从良好的环境安全性的观点，碳原子数优选7以下。在式(2)中，Rf1和Rf2可以彼此相同或不同。
在式(2)中，Rc1表示二价亲油性官能团。其具体实例包括具有1至100个重复单元数的聚氧化乙烯链、具有1至100个重复单元数的聚氧化丙烯链、和可以包含具有2至100个碳原子的链状或环状结构的烷基。
在式(3)中，X1和X2各自表示羟基、羧基、磺基、氨基、或烷氧基。在式(3)中，X1和X2可以彼此相同或不同。
在式(3)中，Rf3表示由氟原子和碳原子形成的二价拒水拒油性官能团。其具体实例包括具有2至20个碳原子并且由氟原子取代的链状亚烷基，例如全氟亚乙基、全氟亚丙基、全氟亚丁基、全氟亚戊基、全氟亚己基、全氟亚庚基、全氟亚辛基、全氟亚壬基或全氟亚癸基。从良好的环境安全性的观点，碳原子数优选7以下。
在式(3)中，Rc1和Rc2各自表示二价亲油性官能团。其具体实例包括具有1至100个重复单元数的聚氧化乙烯链、具有1至100个重复单元数的聚氧化丙烯链、和可以包含具有2至100个碳原子的链状或环状结构的烷基。在式(3)中，Rc1和Rc2可以彼此相同或不同。
只要表面活性剂是由通式(1)至(3)的任何表示的化合物，可以使用市售的含氟原子的表面活性剂。市售的含氟原子的表面活性剂的实例包括MEGAFACE F-444、TF-2066(各自由DIC制造)，Fluorad FC-430、FC-431(各自由Sumitomo 3M Limited制造)，SURFLON S-382(AGC SEIMI CHEMICALCO.,LTD.制造)，EFTOP EF-122A、122B、122C、EF-121、EF-126、EF-127、MF-100(各自由Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co.,Ltd.制造)，PF-636、PF-6320、PF-656、PF-6520(各自由OMNOVA Solutions,Inc.制造)，和UNIDYNE DS-401、DS-403、DS-451(各自由DAIKIN INDUSTRIES,LTD制造)。
本发明的发明人已经做出努力地研究，结果，已经发现将作为组分(D)的含氟原子的表面活性剂引入光固化性组合物可以缩短用于将气体产生自感光性气体产生剂(组分(C))而要进行的光照射步骤需要的时间。前述是指本发明的膜的制造方法具有高生产性。此处，本发明的发明人已经认为使用本发明的光固化性组合物可以降低脱模力的原因如下所述。
图1是表明在模具与光固化性组合物接触时在模具和光固化性组合物之间的界面外观的示例性截面图。
当模具和光固化性组合物彼此接触时，作为组分(D)的气体产生促进剂偏析至光固化性组合物1和模具3之间的界面，这是因为该促进剂也是表明活性剂。因此，由气体产生促进剂形成的气体产生层10形成在模具3和光固化性组合物1之间。
在模具3和光固化性组合物1已经彼此接触之后，光固化性组合物使用光隔着模具3照射。此时，在光固化性组合物1中的聚合性化合物(组分(A))与产生自光聚合引发剂(组分(B))的聚合因子(例如自由基或阳离子)聚合，但形成气体产生层10的气体产生促进剂(组分(D))不与聚合因子反应。因此，气体产生促进剂(组分(D))即使在光照射之后也不固化，并且在保持与光照射之前相同的状态(液体或固体)的同时存在于气体产生层10中。此处，在图1中的气体产生层10是机械地弱于模具3和通过固化光固化性组合物1获得的固化膜的层。因此，在光照射步骤中将聚合性化合物(组分(A))固化之后产生的气体远离光固化性组合物1从而集中地聚集至具有与光固化性组合物1相比较低的物理强度的气体产生层10。推测的是，作为前述的结果，通过气体聚集在气体产生层10中，气体产生层10本身的物理强度变得更加低，因此脱模可以容易地进行。
在本发明中，作为组分(D)的气体产生促进剂的一种可以单独使用，或其两种以上可以作为混合物使用。
另外，在本发明中，相对于聚合性化合物(组分(A))的总重量，作为组分(D)的气体产生促进剂仅以例如0.001wt％至10wt％引入。该促进剂以优选0.002wt％至5wt％，更优选0.005wt％至3wt％引入。此处，当相对于聚合性化合物的总重量的配混比小于0.001wt％时，本发明的效果不可以充分地发挥。另一方面，当相对于聚合性化合物的总重量的配混比超过10wt％时，由于光固化性组合物的表面张力降低或光固化性组合物相对于模具或基板的接触角降低，本发明的光固化性组合物的填充性能降低。
<其它添加组分>
另外，本发明的光固化性组合物可以进一步包含除了组分(A)至组分(D)以外的添加组分。即，根据各种目的，除了聚合性化合物、聚合引发剂、感光性气体产生剂和气体产生促进剂以外，例如敏化剂、抗氧化剂、溶剂或聚合物组分的添加组分可以引入本发明的光固化性组合物，至不损害本发明的效果的这样的程度。
敏化剂是为了促进聚合反应或改善反应转化率的目的而适当地添加的化合物。敏化剂的实例包括氢供体和敏化染料。
氢供体是与产生自作为组分(B)的聚合引发剂的引发自由基(initiationradical)或在聚合生长末端的自由基反应从而产生具有更加高的反应性的自由基的化合物。氢供体优选在光自由基产生剂(optical radical generating agent)用作聚合引发剂时添加。
氢供体的具体实例包括，但不限于，N-丁胺、二正丁胺、三正丁基膦、烯丙基硫脲、s-苄基异硫脲鎓-对甲苯次磺酸盐、三乙胺、二乙氨基乙基甲基丙烯酸酯、三亚乙基四胺、4,4'-双(二烷基氨基)二苯甲酮、N,N-二甲基氨基苯甲酸乙酯、N,N-二甲基氨基苯甲酸异戊酯、戊基-4-二甲基氨基苯甲酸酯、三乙醇胺，例如N-苯基甘氨酸、2-巯基-N-苯基苯并咪唑的胺系化合物，和例如巯基丙酸酯等的巯基系化合物。
敏化染料是通过吸收具有特定波长的光而激发，从而示出与作为组分(B)的聚合引发剂的相互作用的化合物。应当注意的是，此处使用的术语“相互作用”是指例如能量或电子从激发态的敏化染料转移至作为组分(B)的聚合引发剂。
敏化染料的具体实例包括，但不限于，蒽衍生物、蒽醌衍生物、芘衍生物、苝衍生物、咔唑衍生物、苯甲酮衍生物、噻吨酮衍生物、呫吨酮衍生物、噻吨酮衍生物、香豆素衍生物、吩噻嗪衍生物、樟脑醌衍生物、吖啶系染料、硫代吡喃鎓(thiopyrylium)盐系染料、部花青素(merocyanine)系染料、喹啉系染料、苯乙烯基喹啉系染料、香豆素酮(ketocoumarin)系染料、噻吨系染料、呫吨系染料、氧杂菁(oxonol)系染料、花青系染料、罗丹明系染料和吡喃鎓盐系染料。
敏化剂的一种可以单独使用，或其两种以上可以作为混合物使用。
在本发明的光固化性组合物中，相对于作为组分(A)的聚合性化合物的总量，敏化剂的含量优选0wt％至20wt％，更优选0.1wt％至5.0wt％，又更优选0.2wt％至2.0wt％。当敏化剂的含量设定为至少0.1wt％以上时，敏化剂的效果可以以更加有效的形式表达。另外，当敏化剂的含量设定为5.0wt％以下时，构成要生产的光固化物的高分子化合物具有充分高的分子量，并且可以抑制溶解不良和贮存稳定性的恶化。
<在配混光固化性组合物时的温度>
光固化性组合物通过将试剂和溶剂混合和溶解来制备在预定温度条件下进行。具体地，该制备在0℃至100℃范围内的温度下进行。
<光固化性组合物的粘度>
在除了溶剂以外的组分的混合物中，本发明的光固化性组合物在23℃下的粘度优选1cP至100cP，更优选3cP至50cP，又更优选3cP至20cP。在光固化性组合物的粘度高于100cP的情况下，为了在光固化性组合物与模具接触时，将光固化性组合物填充入模具上微细图案以外的凹部(recessed portion)中，会需要长时间，或者图案缺陷会由于填充不良而发生。另一方面，在粘度低于1cP的情况下，在施涂光固化性组合物时会发生施涂不均匀，或在光固化性组合物与模具接触时，光固化性组合物会流出模具的末端部。
<光固化性组合物的表面张力>
在除了溶剂以外的组分的混合物中，本发明的光固化性组合物具有在23℃下的表面张力为优选5mN/m至70mN/m，更优选7mN/m至35mN/m，又更优选10mN/m至32mN/m。此处，如果表面张力小于5mN/m，则当光固化性组合物与模具接触时，需要长时间来使组合物填充入模具上微细图案以外的凹部中。另一方面，当表面张力大于70mN/m时，表面平滑性变低。
<例如包括于光固化性组合物的颗粒的杂质>
期望从本发明的光固化性组合物除去杂质至可能的程度。例如，为了可防止由包括于光固化性组合物的颗粒引起的光固化物中凹凸图案毫无准备的出现所发生的图案缺陷，期望除去例如颗粒的杂质。具体地，优选的是在光固化性组合物中的各个组分混合，然后将混合物使用具有孔径为例如0.001μm至5.0μm的过滤器来过滤。更优选的是使用过滤器的过滤以多阶段进行或重复多次。另外，过滤液可以再次过滤。由例如聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、氟树脂或尼龙树脂制成的过滤器可以用作要用于过滤的过滤器。然而，过滤器不特别限于此。
应该注意的是，在将本发明的光固化性组合物用于制造半导体集成电路时，为了不会阻害制品的操作，要包括于该组合物的金属杂质的量优选地降低至可能的程度。因此，在本发明的光固化性组合物中，可以引入该组合物的金属杂质的浓度设定为优选10ppm以下，更优选100ppb以下。
(膜的形成方法)
下一步，描述本发明的膜的形成方法。图2A至2G是表明在本发明的膜的制造方法中的实施方案的实例的示例性截面图。在图2A至2G中表明的制造方法是由以下项(1)至(5)或(6)中描述的步骤组成的制造方法：
(1)施涂步骤(图2A)；
(2)接触步骤(图2B和2C)；
(3)光照射步骤(图2D)；
(4)脱模步骤(图2E)；
(5)残膜(residual film)除去步骤(图2F)；和
(6)基板加工步骤(图2G)。
在制造方法中，残膜除去步骤(图2F)是将在脱模步骤(图2E)之后残留在光固化性组合物的凹部的膜(残膜)通过蚀刻除去，从而在图案的凹部中露出要处理基板的基板2的表面的步骤。期望在将光学元件或电子组件通过利用该制造方法来生产时，进行残膜除去步骤(图2F)。
在本发明中，在接触步骤中模具的与光固化性组合物接触的表面优选石英。
另外，在本发明中，光照射步骤优选是将光固化性组合物使用光隔着模具照射的步骤，并且要使用的模具在其表面上具有凹凸。使用该模具可以形成具有与设置在模具的表面上的凹凸对应的图案形状的膜。
通过在项(1)至(6)中描述的步骤(或在项(1)至(5)中描述的步骤)，光固化物12和具有光固化物12的电子组件(电子器件)或光学组件可以由光固化性组合物1获得。下文中，描述各个步骤的细节。
<配置步骤(图2A)>
首先，将光固化性组合物1配置(施涂)在基板2上从而形成涂布膜(图2A)。此处使用的术语“光固化性组合物”是指本发明的光固化性组合物。
硅片通常用于与基板2对应的要加工的基板，但基板用材料不限于此。除了硅片以外，可以使用任意选自任何已知的半导体装置的基板用材料的材料，例如铝、钛-钨合金、铝-硅合金、铝-铜-硅合金、氧化硅，和氮化硅。应当注意的是，作为要使用的基板(要加工的基板)，可以使用将对光固化性组合物的粘合性通过表面处理例如硅烷偶联处理、硅氮烷处理或有机薄膜的成膜来改善的基板。
作为将本发明的光固化性组合物配置在要加工的基板的方法，可以使用，例如，喷墨法、浸涂法、气刀涂布法、帘式涂布法、线棒涂布法、凹版涂布法、挤出涂布法、旋涂法或狭缝扫描法。应该注意的是，要进行形状转印的层(涂布膜)的厚度根据用途而改变，并且是例如0.01μm至100.0μm。
<模具接触步骤(图2B和2C)>
下一步，进行将模具与在先前步骤(配置步骤)中形成的由光固化性组合物1形成的涂布膜接触的步骤(接触步骤，图2B，图2C)。应该注意的是，该步骤也称为模具接触步骤，这是因为模具3被认为是印章(stamp)。当模具3在该步骤(图2B)中与光固化性组合物1(要进行形状转印的层)接触时，形成在模具3上的微细图案的凹部填充有(一部分)涂布膜11(图2C)。
鉴于下一步(光照射步骤)，要用于接触步骤的模具3需要由光透过性材料构成。玻璃、石英、例如PMMA或聚碳酸酯树脂等的光透过性树脂、透明金属-沉积膜、由聚二甲基硅氧烷等制成的柔软膜、光固化膜、和金属膜可以提出作为模具3的构成材料的具体实例。应该注意的是，当光透过性树脂用作模具3的构成材料时，需要选择不溶解在光固化性组合物1中的溶剂中的树脂。
为了改善在光固化性组合物1和模具3的表面之间的剥离性，要用于本发明的光固化物的制造方法的模具3在使用前可以进行表面处理。表面处理的方法是例如：包括在进行模具接触步骤之前将脱模剂施涂至模具的表面从而形成脱模剂层的方法。此处，要施涂至模具的表面的脱模剂的实例包括硅氧烷系脱模剂、氟系脱模剂、聚乙烯系脱模剂、聚丙烯系脱模剂、石蜡系脱模剂、褐煤蜡(montan)系脱模剂和巴西棕榈蜡系脱模剂。例如，可以适当地使用例如Daikin Industries,Ltd.制造的OPTOOL DSX的市售涂布型脱模剂。应该注意的是，那些脱模剂的一种可以单独使用，或其两种以上可以以组合使用。其中，特别优选氟系脱模剂。
虽然对压力没有特别限制，在模具接触步骤中，如图2B中表明，当模具3与光固化性组合物1接触时，要施加至光固化性组合物1的压力典型地是0.1MPa至100MPa。在这样的范围内，优选压力为0.1MPa至50MPa，更优选压力为0.1MPa至30MPa，并且又更优选压力为0.1MPa至20MPa。另外，虽然对时间没有特别限制，在接触步骤中，模具3与要进行形状转印的层1接触的时间典型地是0.1秒至600秒，优选0.1秒至300秒，更优选0.1秒至180秒，特别优选0.1秒至120秒。
另外，模具接触步骤可以在以下条件的任何一种下进行：在空气气氛下、在减压气氛下、和在惰性气体气氛下。优选减压气氛或惰性气体气氛，这是因为可抑制氧或水分对光固化反应的影响。当接触步骤在惰性气体气氛下进行时，要使用的惰性气体的具体实例包括氮气、二氧化碳、氦气、氩气、各种氯氟烃(chlorofluorocarbon)气体，和其混合气体。当该步骤(接触步骤)在包括空气气氛的特定气体气氛下进行时，优选压力是0.0001大气压至10大气压。应该注意的是，优选减压气氛或惰性气体气氛，这是因为可以抑制氧或水分对光固化反应的影响。
在本发明中，冷凝性气体可以用作气氛气体。即，本发明包括一种膜的制造方法，该方法包括进行将光固化性组合物和模具在冷凝性气体气氛或冷凝性气体和非冷凝性气体的混合气体气氛下彼此接触的步骤。
在本发明中，冷凝性气体不仅是在具有期望图案的光固化性组合物的制造设备中的温度条件和压力条件下作为标准气体存在的气体，也是在预定条件下冷凝(液化)的气体。以下将要说明该预定条件的细节。
这样的冷凝性气体是具有沸点为-10℃至23℃或在室温下的蒸气压为0.1至0.4MPa的气体。其中，具有沸点为10℃至23℃的冷凝性气体是特别优选的。
如果气体具有蒸气压为0.1至0.4MPa，则气体容易地通过在光固化性组合物1进入在基板2和模具3之间的空隙或在模具3上的凹部时产生的毛细管压力而冷凝，并且液化，导致了气泡消失。
当蒸气压高于0.4MPa时，不可以充分获得气泡消失的效果，这不是优选的。另一方面，当蒸气压在常温下小于0.1MPa时，需要压力降低并且设备变得复杂，这是不优选的。
注意的是，紫外线固化型压印设备的压印区域通常在室温下使用。当冷凝性气体是具有低于压印区域的温度的沸点的气体时，该气体通过控制温度变为压印时的气体。结果，设备不变得复杂，这是优选的。此处，“室温”定义为20℃至25℃。
冷凝性气体具体地包括例如氯氟烃(CFC)、氟烃(fluorocarbon)(FC)和氢氯氟烃(hydrochlorofluorocarbon)(HCFC)，氢氟烃(hydrofluorocarbon)(HFC)、氢氟醚(hydrofluoroether)(HFE)等的氟利昂(Freon frons)。特别地，1,1,1,3,3-五氟丙烷(CHF2CH2CF3，HFC-245fa，PFP)是优选的。PFP具有在室温附近的23℃下的蒸气压为0.1MPa，并且具有沸点为15℃。
可以使用单一冷凝性气体或两种以上的冷凝性气体的混合物。进一步，冷凝性气体可以以该气体与例如空气、氮气、二氧化碳、氦气和氩气等的非冷凝性气体混合的状态使用。
<光照射步骤(图2D)>
下一步，将涂布膜11使用光隔着模具3照射(图2D)。在该步骤中，涂布膜11使用施加的光固化从而形成光固化物12。
在该步骤(光照射步骤)中，接收具有预定波长的本发明的光固化性组合物进行以下化学反应(d1)和(d2)：
(d1)聚合性化合物的聚合反应；和
(d2)感光性气体产生剂的光分解反应(气体产生反应)。
虽然化学反应(d1)和(d2)竞争地发生，但在本发明中，优选地控制反应(d1)的反应速度(聚合反应的反应速度)以致高于反应(d2)的反应速度(气体产生反应的反应速度)。这是因为以下原因。当反应(d1)的反应速度设定为高于反应(d2)的反应速度时，在固化作为组分(A)的聚合性化合物之后，气体集中地聚集在模具3和光固化性组合物1之间的界面处，因此可以获得脱模力降低效果。相反地，当反应(d2)的反应速度高于反应(d1)的反应速度时，以下问题出现：气体在固化膜12中起泡或不获得脱模力降低的效果。
顺便地，当在包括利用光压印法的膜制造方法中，将作为组分(C)的感光性气体产生剂引入光固化性组合物时，随着产生自感光性气体产生剂的气体的量增加，脱模力变得较小。前述导致了随着光照射时间增长，脱模力变得较小的事实。在本发明中，除了作为组分(C)的感光性气体产生剂以外，作为组分(D)的气体产生促进剂进一步引入。因此，如图1中表明，该气体立即聚集至形成在模具3和光固化性组合物1之间的界面处的由气体产生促进剂形成的气体产生层。因此，用于获得需要的脱模力需要的光照射时间变得相对短。因此，本发明的膜的制造方法具有高生产性。
此处，照射构成涂布膜11的光固化性组合物1的光依照光固化性组合物1的感应波长选择。具体地，优选的是适当地选择和使用具有波长为大约150nm至400nm的紫外光、X射线、或电子束等。此处，很多作为固化助剂(光聚合引发剂)市售的化合物具有对紫外光的感应性。因此，照射光固化性组合物1的光(照射光4)特别优选是紫外光。此处，紫外光的光源的实例包括高压汞灯、超高压汞灯、低压汞灯、深-UV灯、碳弧灯、化学灯、金属卤化物灯、氙灯、KrF准分子激光、ArF准分子激光和F2准分子激光。其中，特别优选超高压汞灯。要使用的光源数可以是一种以上。进一步，当光固化性组合物1使用光照射时，其全部表面可以使用光照射，或其表面的一部分可以使用光照射。
另外，当要进行形状转印的层也使用热来固化时，热固化可以进一步进行。当热固化进行时，对加热气氛和加热温度等没有特别限制。例如，在惰性气氛下或在减压下，光固化性组合物1可以在40℃至200℃范围内的温度下加热。另外，热板、烤箱或炉等可在加热要进行形状转印的层1时使用。
<脱模步骤(图2E)>
下一步，进行将模具3从光固化物12剥离从而在基板2上形成具有预定图案形状的固化膜的步骤(脱模步骤，图2E)。该步骤(脱模步骤)是将模具3从光固化物12剥离的步骤，在先前步骤(光照射步骤)中形成在模具3上的微细图案的反向图案作为光固化物12的图案获得。
只要光固化物12的一部分不在剥离时物理断裂，对将模具3从光固化物12剥离的方法没有特别限制，并且对剥离的各种条件等也没有特别限制。例如，模具3可以如下述剥离。将要加工的基板(基板2)固定并且将模具3除去，以致模具可以远离要加工的基板。选择性地，模具3可以如下述剥离。将模具固定并且将要加工的基板除去，以致基板可以远离模具。选择性地，模具可以通过将基板和模具二者以彼此完全相反的方向牵拉来剥离。
<残膜除去步骤(图2F)>
虽然在脱模步骤进行时要获得的固化膜具有特定图案形状，但即使在除了形成图案形状的区域以外的区域中，该膜的一部分可以作为残膜存在。鉴于前述，进行除去残留在图案形状以外的光固化物应该除去的区域的光固化膜(残膜)的步骤(残膜除去步骤，图2F)。
此处，残膜的除去方法是例如，包括将残留在光固化物12的凹部的膜(残膜)通过蚀刻除去从而露出在图案的凹部中的基板2的表面的方法。
当利用蚀刻时，对其具体方法没有特别限制，并且期望的图案形状可以通过传统已知的方法，例如，通过进行干法蚀刻来形成。传统已知的干法蚀刻设备可以用于干法蚀刻。另外，在干法蚀刻时的气源适当地根据要蚀刻的膜的元素组成选择。例如，可以使用含有氧原子的气体，例如O2、CO或CO2；惰性气体，例如He、N2或Ar；氯系气体例如Cl2或BCl3；或H2或NH3的气体。应该注意的是，那些气体可以作为混合物使用。
具有期望的凹凸图案形状(由模具3的凹凸形状产生的图案形状)的光固化物12可以通过包括步骤(1)至(5)的制造方法来获得。此处，当基板2通过利用光固化物12来加工时，后述的基板的加工步骤进一步在一些情况下进行。
同时，所得光固化物12可以用作光学构件(包括制品用作光学构件的一种构件的情况)。在这样的情况下，光固化物12可以设置为具有至少基板2和配置在所述基板2上的光固化物12的光学构件。
<基板加工步骤(图2G)>
通过本发明的制造方法获得的具有期望的凹凸图案形状的光固化物12可以用作例如在电子组件中的层间绝缘膜用膜，所述电子组件典型的是半导体元件例如LSI、系统LSI、DRAM、SDRAM、RDRAM或D-RDRAM。同时，光固化物12也可以在制造半导体元件时用作抗蚀膜。
当光固化物12用作抗蚀膜时，具体地，如图2G中表明，其表面已经通过蚀刻步骤露出的基板的一部分(由附图标记20表示的区域)进行例如蚀刻或离子注入。应该注意的是，此时，光固化物12用作掩膜。因此，基于光固化物12的图案形状的电路结构(未示出)可以形成于基板2上。因此，可以制造要用于半导体元件等的具有电路的基板。应该注意的是，电子组件通过设置具有电路的基板用电子构件来形成。
应该注意的是，当生产具有电路的基板或电子组件时，光固化物的图案可以最后从加工的基板除去，但也优选图案保留为构成元件用构件的这样的构成。
下文中，通过实施例更详细地描述本发明，但本发明的技术范围不限于下述实施例。
实施例1
(1)光固化性组合物
首先，将以下组分(A)、组分(B)、组分(C)和组分(D)配混从而提供混合溶液。
(1-1)组分(A)：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(Sigma-Aldrich Co.LLC.制造)：100重量份；
(1-2)组分(B)：2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮(Darocur 1173，Ciba Japan制造)：3重量份；
(1-3)组分(C)：2,2'-偶氮二-(N-丁基-2-甲基丙酰胺)(VAm-110，WAKOPure Chemical Industries,Ltd.制造)：15重量份；和
(1-4)组分(D)：以下示出的六甘醇单(1H,1H-全氟庚基)醚：2重量份
F(CF2)6CH2(OCH2CH2)6OH)
下一步，所得混合溶液使用网孔是0.2μm的由超高分子量聚乙烯制成的过滤器过滤。因此，制备了本实施例(实施例1)的光固化性组合物(a-1)。
(2)施涂步骤
将4.8微升的光固化性组合物(a-1)的液滴使用分配器滴加在已经在其上形成厚度为60nm的粘合促进层作为粘合层的200-mm硅片上。
(3)模具接触步骤和光照射步骤
下一步，液滴的外周由氮气气氛代替。之后，将在其上没有形成图案的由合成石英制成的模具与液滴接触。此处，在液滴和模具之间的接触面积是大约50mm2。下一步，将光固化性组合物使用具有波长为365nm和照明强度为19.1mW/cm2的光隔着模具照射一定时间。因此，将光固化性组合物固化并且气体产生自作为组分(C)的感光性气体产生剂。
(4)脱模步骤
下一步，将石英模具提起，因此模具从光固化物剥离。固化膜通过前述步骤获得。应该注意的是，所得膜的平均厚度是大约100μm。
(5)光固化物的评价(脱模力测量)
将在脱模步骤时脱模需要的力使用负载传感器(load cell)测量。应该注意的是，在测量时，测量(脱模力测量)在相同条件下进行10次，并且测量的值的平均值定义为脱模力。表1示出测量的结果。
比较例1
除了在实施例1中，不添加组分(D)以外，通过与实施例1相同的方法来制备光固化性组合物(b-1)。另外，通过与实施例1相同的方法使用光固化性组合物(b-1)来获得固化膜。
此处，在脱模步骤时脱模需要的力以与实施例1相同的方式使用负载传感器来测量。表2示出测量的结果。
表1
曝光时间[sec] 脱模力[N]
6 14
20 17
40 19
100 2.0
200 1.2
600 0.7
表2
曝光时间[sec] 脱模力[N]
6 81
100 63
200 46
600 13
在基于UV纳米压印法的膜的制造方法中，在实施例1中，用于获得需要的脱模力(15N以下)需要的曝光时间是40秒至100秒。相反地，在比较例1中，曝光时间是200秒至600秒。前述结果示出在通过使用光压印法使用含有感光性气体产生剂的光固化性组合物来生产具有期望的图案形状的膜时，如本发明，将气体产生促进剂引入光固化性组合物改善了生产性。
实施例2
(1)光固化性组合物
首先，将以下组分(A)、组分(B)、组分(C)和组分(D)配混从而提供混合溶液。
(1-1)组分(A)：总计94重量份
<A-1>异冰片基丙烯酸酯(KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD.制造，商品名：IB-XA)：61.6重量份
<A-2>(2-甲基-2-乙基-1,3-二氧戊-4-基)甲基丙烯酸酯(OSAKAORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.制造，商品名：MEDOL-10)：10重量份
<A-3>己二醇二丙烯酸酯(OSAKA ORGANIC CHEMICALINDUSTRY LTD.制造，商品名：Viscoat#230):22.4重量份
(1-2)组分(B)：3重量份
Darocur 1173(BASF制造)
(1-3)组分(C)：15重量份
2,2'-偶氮二(N-丁基-2-甲基丙酰胺)(VAm-110，Wako Pure ChemicalIndustries,Ltd.制造)：15重量份
(1-4)组分(D)：1.1重量份
十五甘醇单(1H,1H,2H,2H-全氟辛基)醚
(F(CF2)6CH2CH2(OCH2CH2)15OH，DIC制造)：1.1重量份
下一步，所得混合溶液使用网孔是0.2μm的由超高分子量聚乙烯制成的过滤器过滤。因此，制备了本实施例(实施例2)的光固化性组合物(a-2)。
(2)施涂步骤
16微升的实施例2的组合物(a-2)使用微量吸液管滴加在其上已经形成厚度为60nm的粘合促进层作为粘合层的4英寸的硅片。应该注意的是，在后述脱模步骤之后获得的膜的平均厚度是大约10μm。
(3)模具接触步骤和光照射步骤
下一步，将尚未进行任何表面处理并且在其上尚未形成图案的40-mm乘以40-mm的石英模具压印在硅片上。
将设置有200-W的汞-氙灯的UV光源EXECURE 3000(HOYA CANDEOOPTRONICS CORPORATION制造)用作照射光源。将干涉滤光片VPF-50C-10-25-36500(SIGMA KOKI CO.,LTD.制造)配置在光源和石英模具之间。石英模具正下方的照明强度在365nm的波长下是100mW/cm2。
光照射步骤在前述条件下进行60秒。因此，将光固化性组合物(a-2)固化并且气体产生自作为组分(C)的感光性气体产生剂。
(4)脱模步骤
下一步，将石英模具提起，因此模具从光固化物剥离。固化膜通过前述步骤获得。应该注意的是，所得膜的平均厚度是大约10μm。
(5)光固化物的评价(脱模力测量)
将在脱模步骤时脱模需要的力使用负载传感器测量。结果，脱模力几乎是0(负载传感器的噪声水平以下)。
比较例2
除了在实施例2中，不添加组分(D)以外，通过与实施例2相同的方法来制备光固化性组合物(b-2)。另外，通过与实施例2相同的方法使用光固化性组合物(b-2)获得固化膜。
此处，将在脱模步骤时脱模需要的力以与实施例2相同的方式使用负载传感器测量。脱模力测量在相同条件下进行4次。从第二次至第四次测量测定的脱模力的平均值是111N。
在基于UV纳米压印法的膜的制造方法中，在实施例2中，用于获得需要的脱模力(15N以下)需要的曝光时间是60秒以下。相反地，在比较例2中，曝光时间需要是60秒以上。前述结果示出在通过使用光压印法使用含有感光性气体产生剂的光固化性组合物来生产具有期望的图案形状的膜时，如本发明，将气体产生促进剂引入光固化性组合物改善了生产性。
虽然参考示例性实施方法已经描述了本发明，但要理解的是本发明不限于公开的示例性实施方案。以下权利要求的范围符合最广泛的解释从而涵盖全部的这样的修改和等同的结构和功能。
本申请要求2012年9月24日提交的日本专利申请No.2012-209327的权益，在此将其整体并入作为参考。

Claims (14)

1.一种光固化性组合物，其要用于在所述光固化性组合物与在表面上具有凹凸的模具接触的状态下，通过将所述光固化性组合物使用光来固化而制造具有预定图案形状的膜，所述光固化性组合物包括：
聚合性化合物；
光聚合引发剂；
用于通过光刺激来产生气体的感光性气体产生剂；和
用于增加在所述模具和所述光固化性组合物之间的界面处的产生自所述感光性气体产生剂的所述气体的聚集速率的气体产生促进剂，
其中所述气体产生促进剂包括没有聚合性取代基的含氟原子的表面活性剂。
2.根据权利要求1所述的光固化性组合物，其中：
相对于所述聚合性化合物的总重量，包含1wt％至15wt％所述感光性气体产生剂；和
相对于所述聚合性化合物的总重量，包含0.005wt％至3wt％所述气体产生促进剂。
3.根据权利要求1或2所述的光固化性组合物，其中所述气体产生促进剂包括由下式(1)表示的化合物：
Rf1-Rc1-X1   (1)
在式(1)中，Rf1表示由氟原子和碳原子组成的一价官能团，Rc1表示由氢原子、氧原子和碳原子组成的二价官能团，并且X1表示羟基、羧基、磺基、氨基或烷氧基。
4.根据权利要求1或2所述的光固化性组合物，其中所述气体产生促进剂包括由下式(2)表示的化合物：
Rf1-Rc1-Rf2   (2)
在式(2)中，Rf1和Rf2各自表示由氟原子和碳原子组成的一价官能团，并且Rf1和Rf2可以彼此相同或不同，并且Rc1表示由氢原子、氧原子和碳原子组成的二价官能团。
5.根据权利要求1或2所述的光固化性组合物，其中所述气体产生促进剂包括由下式(3)表示的化合物：
X1-Rc1-Rf3-Rc2-X2   (3)
在式(3)中，Rf3表示由氟原子和碳原子组成的二价官能团，Rc1和Rc2各自表示由氢原子、氧原子和碳原子组成的二价官能团，并且Rc1和Rc2可以彼此相同或不同，并且X1和X2各自表示羟基、羧基、磺基、氨基或烷氧基，并且X1和X2可以彼此相同或不同。
6.根据权利要求1或2所述的光固化性组合物，其中所述气体产生促进剂包括由下式(4)表示的化合物：
F(CF2)6CH2CH2(OCH2CH2)15OH   (4)。
7.根据权利要求1或2所述的光固化性组合物，其中所述气体产生促进剂包括由下式(5)表示的化合物：
F(CF2)6CH2(OCH2CH2)6OH   (5)。
8.一种膜的制造方法，其包括：
将根据权利要求1至7任一项所述的光固化性组合物配置在基板上；
将所述光固化性组合物和模具彼此接触；
将所述光固化性组合物使用光照射；和
将所述光固化性组合物和所述模具在照射后彼此脱离，
其中具有预定图案形状的膜在所述基板上获得。
9.根据权利要求8所述的膜的制造方法，其中所述模具的与所述光固化性组合物接触的表面包括石英。
10.根据权利要求8或9所述的膜的制造方法，其中：
所述照射包括将所述光固化性组合物使用光隔着所述模具照射；和
所述模具在其表面上具有凹凸。
11.一种具有电路的基板的制造方法，其包括：基于通过根据权利要求8至10任一项所述的方法获得的膜的图案形状来进行蚀刻和离子注入中之一从而基于所述图案形状在所述基板上形成电路结构。
12.一种光学构件，其包括：
基板；和
配置在所述基板上的膜，
其中所述膜包括通过根据权利要求8至10任一项所述的方法制造的膜。
13.根据权利要求8所述的膜的制造方法，其中所述将所述光固化性组合物和模具彼此接触在冷凝性气体气氛中进行。
14.根据权利要求8所述的膜的制造方法，其中所述将所述光固化性组合物和模具彼此接触在冷凝性气体和非冷凝性气体的混合气体的气氛中进行。
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