CN104060074B - 磁性退火装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。

Description

磁性退火装置
技术领域
本发明要求以2013年3月21日提出申请的日本出愿特愿第2013－058324号和2013年3月21日提出申请的日本出愿特愿第2013－058327号为基础的优先权，并将其公开内容全部引入此。
本发明涉及一种磁性退火装置。
背景技术
近年来，作为下一代半导体存储器设备，作为非易失性存储器之一的MRAM（Magnetic Random Access Memory：磁性随机存取存储器）备受关注。MRAM是通过在强磁场中对形成在例如作为半导体晶圆（以后，称作晶圆）的被处理体上的磁性体膜进行热处理（磁性退火）、而表现其磁特性来制造的。
例如在日本特开2004－263206号中，公开了一种使用了螺线管型的超导磁体作为用于磁性退火的磁场产生部件的、设置面积比较小的磁性退火装置。
发明内容
本发明的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，其中，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
上述发明内容只是单纯用于说明，在任意方式中意图均不是进行限制。除了上述说明的方式、实施例以及特征以外，追加的方式、实施例以及特征通过参照附图和以下详细的说明也能够变明确。
附图说明
图1是晶圆的载体的一例的概略立体图。
图2是磁性退火装置的一例的概略俯视图。
图3是磁性退火装置的载体输送区域附近的概略纵剖视图。
图4是磁性退火装置的晶圆输送区域附近的概略俯视图。
图5是用于说明保持于说明晶圆舟皿内的晶圆的配置例的概略图。
图6是用于说明由晶圆输送机构进行的晶圆输送的一例的概略图。
图7是用于说明由晶圆输送机构进行的晶圆输送的其他例的概略图。
图8是磁性退火装置的另一例的概略俯视图。
图9是磁性退火装置的载体输送区域附近的概略纵剖视图。
图10是磁性退火装置的晶圆输送区域附近的概略俯视图。
图11是用于说明晶圆输送区域内的气流的概略图。
具体实施方式
在以下详细说明中，参照形成了说明书的一部分的添加的附图。详细的说明、附图以及权利要求书所记载的说明的实施例的意图并不在于进行限制。在不脱离在此所示的本发明的思想或范围的前提下能够使用其他实施例，而且能够进行其他变形。
晶圆的磁性退火处理公知有向与晶圆的主表面垂直的方向施加磁场的垂直磁化方式和向与晶圆的主表面平行的方向施加磁场的面内磁化方式这两种方式。
当前，两种方式的磁性退火处理分别利用单独的装置来实施。今后，哪一种方式的磁性退火处理成为主流还是不明确的，但是要求一种能够利用同一磁性退火装置来实施两种方式的磁性退火的磁性退火装置。
针对上述问题，目的在于提供一种能够实施垂直磁化方式和面内磁化方式这两种方式的磁性退火处理的磁性退火装置。
本发明的一技术方案的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件，上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体输送机构具有用于保持上述被处理体的水平延伸的臂部，上述臂部能够以上述臂部延伸的方向为轴线转动。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体输送机构利用卡盘机构来保持上述被处理体。
在上述磁性退火装置中，上述磁性退火装置还具有用于进行上述被处理体的对位的对准器，上述被处理体输送机构将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述对准器，将进行对位后的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体为晶圆，上述收纳容器为FOUP，上述FOUP能够收纳25张上述晶圆，上述被处理体保持部件能够保持100张上述晶圆。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够以上述晶圆的主表面为铅垂的状态堆叠100张上述晶圆。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够保持两个以上述晶圆的主表面为水平的状态堆叠50张上述晶圆而成的堆叠体。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够堆叠以上述晶圆的主表面为水平的状态堆叠50张上述晶圆而成的第1堆叠体，并且能够堆叠以上述晶圆的主表面铅垂的状态堆叠50张上述晶圆而成的第2堆叠体。
在本发明的其他技术方案的磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送上述被处理体的被处理体输送区域，在上述收纳容器输送区域内配置有：第1载置台，其用于载置被输入到该磁性退火装置的收纳容器；多个第2载置台，其用于载置上述收纳容器，以使得经由上述开闭门从上述收纳容器输送区域向上述被处理体输送区域气密地输送上述被处理体；保存部，其用于保存多个上述收纳容器；以及收纳容器输送机构，其用于在上述第1载置台、上述第2载置台以及上述保存部之间输入、输出上述收纳容器；在上述被处理体输送区域内配置有：对准器，其用于进行上述被处理体的对位；被处理体保持部件，其能够保持进行上述对位后的上述被处理体；被处理体输送机构，其用于在载置于上述第2载置台的收纳容器、上述对准器以及上述被处理体保持部件之间输送上述被处理体；加热部件，其用于对上述被处理体进行加热；磁场产生部件，其用于对保持于上述被处理体保持部件的被处理体施加磁场并具有卧式超导磁体；以及移载机构，其用于将保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体移载到上述磁场产生部件内；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
本发明的另一其他技术方案的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对被处理体进行磁性退火处理，其中，该磁性退火装置包括：被处理体保持部件，其能够保持上述被处理体；被处理体输送机构，其用于在收纳上述被处理体的收纳容器与上述被处理体保持部件之间输送上述被处理体；移载机构，其用于将保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体移载到上述磁场产生部件内；洁净气体导入部件，其用于导入洁净气体；以及排气部件，其用于排出洁净气体；上述洁净气体的由上述洁净气体导入部件和上述排气部件形成的流动的方向与保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体的主表面平行。
在上述磁性退火装置中，上述洁净气体导入部件相对于上述被处理体保持部件而言配置在上述被处理体输送机构向上述被处理体保持部件输送上述被处理体的输送方向的下游侧，上述排气部件相对于上述被处理体输送机构而言配置在上述被处理体输送机构向上述被处理体保持部件输送上述被处理体的输送方向的上游侧。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够水平或铅垂地保持上述被处理体的主表面，上述洁净气体的流动为侧流。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体为晶圆，上述收纳容器为FOUP，上述FOUP能够收纳25张上述晶圆，上述被处理体保持部件能够保持100张上述晶圆。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够以上述轴线的方向为堆叠方向并以预定的间隔保持100张上述晶圆。
在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够沿上述轴线方向并列保持两个以与上述轴线铅垂的方向为堆叠方向并以预定的间隔堆叠50张上述晶圆而成的堆叠体。
在上述磁性退火装置中，上述洁净气体导入部件具有HEPA过滤器或ULPA过滤器。
在上述磁性退火装置中，上述排气部件具有形成于上述磁性退火装置的顶面的排气口。
在本发明的另一其他技术方案的磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送上述被处理体的被处理体输送区域，在上述收纳容器输送区域内配置有：第1载置台，其用于载置被输入到该磁性退火装置的收纳容器；多个第2载置台，其用于载置上述收纳容器，以使得经由上述开闭门从上述收纳容器输送区域向上述被处理体输送区域气密地输送上述被处理体；保存部，其用于保存多个上述收纳容器；以及收纳容器输送机构，其用于在上述第1载置台、上述第2载置台以及上述保存部之间输入输出上述收纳容器；在上述被处理体输送区域内配置有：对准器，其用于上述被处理体的对位；被处理体保持部件，其能够保持进行上述对位后的上述被处理体；被处理体输送机构，其用于在载置于上述第2载置台的收纳容器、上述对准器以及上述被处理体保持部件之间输送上述被处理体；加热部件，其用于对上述被处理体进行加热；磁场产生部件，其用于对上述被处理体施加磁场并具有卧式超导磁体；移载机构，其用于将保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体移载到上述磁场产生部件内；洁净气体导入部件，其用于导入洁净气体；以及排气部件，其用于排出洁净气体；上述洁净气体的由上述洁净气体导入部件和上述排气部件形成的流动的方向与保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体的主表面平行。
能够提供一种能够实施铅垂磁化方式和面内磁化方式这两种方式的磁性退火处理的磁性退火装置。
以下，参照附图，说明用于实施本发明的实施方式。
（载体）
图1中表示晶圆W的载体C的一例的概略立体图。另外，在本实施方式中，说明使用密闭型的FOUP（Front Opening Unified Pod：前开式晶圆传送盒）作为用于收纳晶圆W的载体C的情况，但是本发明并不限定于这一点。
晶圆W的载体C的一端部形成为开口部，另一端部形成为例如大致半椭圆形状。
在载体C的内壁面上形成有能够多层配置晶圆W的支承部。通过在该支承部载置并支承例如直径300mm的晶圆W的周缘部，能够以大致等间距多层收纳晶圆W。一般来说，一个载体C能够收纳25张晶圆W。
在载体C的顶部设有在把持载体C时能够抓住的把手10。
如图1所示，在载体C的开口部，以能够拆卸的方式安装有与该开口部对应的开闭盖12，载体C内利用开闭盖12实质上成为气密状态。一般来说，载体的内部的气氛气体为洁净空气。
在开闭盖12上设有例如两个锁定机构14，对锁定机构14进行上锁或开锁，从而成为能够相对于开口部安装和拆卸开闭盖12的结构。
在载体C的底部的下表面上设有未图示的多个定位凹部，成为在载置于后述的载置台时能够对该载体进行定位的结构。另外，在载体的底部的下表面上设有未图示的锁定片，成为在载置于载置台时能够进行锁定的结构。
第一实施方式
（磁性退火装置）
接着，说明本实施方式的磁性退火装置。图2中表示磁性退火装置的一例的概略俯视图。另外，关于后述的晶圆舟皿128、绝热部134、盖136以及移载机构138，实线表示将晶圆W输送到晶圆舟皿128时的位置，虚线表示对晶圆W进行磁性退火处理时的位置。
如图2所示，磁性退火装置100收纳于壳体102而构成。壳体102构成磁性退火装置的外壳体，在该壳体102内形成有载体输送区域S1和晶圆输送区域S2。
载体输送区域S1是相对于磁性退火装置输入、输出收纳有作为被处理体的晶圆W的载体C的区域。另外，晶圆输送区域S2是用于输送载体C内的晶圆W、并将该晶圆W输入到后述的磁性退火炉内的移载区域。
载体输送区域S1和晶圆输送区域S2被分隔壁104分隔开来。
载体输送区域S1是处于大气气氛下的区域，是用于输送收纳于载体C的晶圆W的区域。各个处理装置之间的区域相当于载体输送区域S1，在本实施方式中，磁性退火装置100的外部的洁净室内的空间相当于载体输送区域S1。
另一方面，作为晶圆输送区域S2的气氛，并不特别限制，既可以是大气气氛，也可以是非活性气体气氛、例如氮（N2）气气氛。根据被处理体的结构，在需要进行更低氧气氛下的处理的情况下，例如在要防止形成氧化膜等的情况等下，可以设为非活性气体气氛。另外，一般来说，晶圆输送区域S2的洁净度高于载体输送区域S1的洁净度，并且晶圆输送区域S2被维持为低氧浓度。
在本实施方式中，将载体输送区域S1侧作为前方（图2的X方向），将晶圆输送区域S2侧作为后方（图2的Y轴方向）。将水平面内与前后方向垂直的方向作为左右方向。另外，图2的Z轴方向表示铅垂方向。
[载体输送区域S1]
更详细地说明载体输送区域S1。图3中表示磁性退火装置的载体输送区域附近的概略纵剖视图。
载体输送区域S1包括第1输送区域106和位于第1输送区域106的后方侧的第2输送区域108。
如图2所示，在第1输送区域106的左右方向上设有分别载置载体C的第1载置台110a、110b这两个载置台。在各个第1载置台110a、110b的载置面上，例如设有三处与载体C的定位凹部对应的、用于对载体C进行定位的销112。
在第2输送区域108内设有相对于左右的第1载置台的任一者（在本实施方式为载置台110a）沿前后方向排列、并且沿图3的上下方向串联配置的第2载置台114a、114b这两个载置台。各个第2载置台114构成为在前后方向上移动自如。
在第2载置台114的载置面上也与第1载置台110相同地设有例如三处用于对载体C进行定位的销112。另外，在上述载置面上设有用于固定载体C的未图示的钩。
如图3所示，在第2输送区域108和/或第1输送区域106的上部侧设有用于保存载体C的第1载体保存部116a、116b。载体保存部116a、116b例如由两层以上的架子构成，各个架子能够在左右方向上载置例如两个载体C。
另外，如图2所示，在第2载置台114的左右方向上设有由多层架子构成的第2载体保存部116c。
通过设有第1载体保存部116a、116b与第2载体保存部116c，能够在载体输送区域S1内保持足够数量的载体C（即，足够张数的晶圆W）。
在第2输送区域108内设有用于在第1载置台110、第2载置台114以及第1、第2载体保存部116之间输送载体C的载体输送机构118。该载体输送机构118包括在上下方向上升降自如的引导部118a、一边被引导部118a引导一边上下移动的移动部118b以及设于该移动部118b、支承载体C的底部并沿水平方向输送的输送臂118c。
在分隔壁104上设有使载体输送区域S1与晶圆输送区域S2连通的晶圆W的输送口120。在输送口120处设有用于从晶圆输送区域S2侧堵塞该输送口120的开闭门122。在开闭门122上连接有未图示的驱动机构，开闭门122构成为借助驱动机构在前后方向和上下方向上移动自如，对输送口120进行开闭。
＜载体输送区域S1内的晶圆W的输送＞
说明晶圆W的从载体输送区域S1向晶圆输送区域S2的输送。另外，在该载体输送区域S1中，以晶圆W收纳于载体C内的状态输送晶圆W。
首先，利用上述输送臂118c，从第1载置台110、第1载体保存部116a、116b或第2载体保存部116c向第2载置台114移载载体C。载体C以其定位凹部与销112相卡合的方式被载置。若载体C载置于第2载置台114，则第2载置台114向分隔壁104侧移动，载体C与分隔壁104相抵接。载体C的抵接状态由未图示的固定机构保持。
之后，在形成于分隔壁104的开闭门122和载体C的开闭盖12密闭的状态下，利用未图示的开闭机构打开开闭盖12。在将晶圆输送区域S2的气氛设为非活性气体气氛的情况下，首先，在载体C的开闭盖12密闭的状态下，利用未图示的非活性气体置换部件进行非活性气体置换，去除开闭门122与开闭盖12之间的大气并充满非活性气体。接着，利用非活性气体置换部件对载体C内进行非活性气体置换。
然后，打开形成于载体C的分隔壁104的开闭门122，利用后述的晶圆输送机构124输入、输出载体C内的晶圆W。
在更换载体C和输出晶圆W时，实施与上述相反的动作。
[晶圆输送区域S2]
图4中表示磁性退火装置100的晶圆输送区域S2附近的概略俯视图。如图4所示，在晶圆输送区域S2内主要设置有晶圆输送机构124、对准器装置126、晶圆舟皿128以及磁场产生部件130（参照图2）。
晶圆输送机构124承担晶圆输送区域S2内的晶圆W的输送，并设置在晶圆舟皿128与分隔壁104的输送口120之间。晶圆输送机构124沿着上下延伸的引导机构124a进行移动，并且在绕铅垂轴线转动的移动体124b上设置例如5个进退自如的臂124c而构成，在晶圆舟皿128、第2载置台114上的载体C以及对准器装置126之间输送晶圆。
另外，本实施方式的移动体124b构成为能够以臂部124c延伸的方向为轴线绕该轴线转动。由此，在利用臂部124c输送晶圆W的期间，能够将晶圆W的主表面的面方向从例如水平自由变更为铅垂或者从铅垂自由变更为水平。即，本实施方式的晶圆输送机构124能够将晶圆W保持为水平状态，并且也能够保持为铅垂状态。另外，一般来说，晶圆输送机构124利用卡盘机构保持晶圆W，作为保持方法，可以是静电卡盘方式、真空卡盘方式、机械卡盘方式中的任一方式。
本实施方式的晶圆输送机构124通过具有上述结构，从而构成为在上述前后方向（XY方向）、左右方向以及铅垂的Z方向上移动自如，并且绕水平轴线和铅垂轴线移动自如，以使得在载体C、对准器装置126、晶圆舟皿128之间进行晶圆W的交接。
对准器装置126例如把持晶圆W的边缘，进行定心与切口等的角度对准（对位）。
晶圆舟皿128能够保持多个载体C、例如4个载体C内的许多张晶圆W，隔着绝热部134载置于盖136的后方侧。盖136支承于移载机构138的后方侧，利用该移载机构138相对于磁场产生部件130输入或输出晶圆舟皿128。
在晶圆舟皿128的后方侧配置有用于对晶圆W实施磁性退火处理的磁场产生部件130。磁场产生部件130使用右端为炉口的、由卧式的螺线管型磁体（超导磁体）构成的磁性退火炉。螺线管型磁体配置为其中心线轴线方向实质上水平，并连接于未图示的电源装置。利用卧式的螺线管型磁体产生的磁场的方向为上述前后方向。
另外，在磁场产生部件130上，沿着其内周配置有加热部件132，能够将晶圆W加热到预定的温度。即，利用加热部件132，在均匀的磁场下对晶圆W进行加热处理。
在使用螺线管型磁体对多张、例如100张晶圆W实施相同的磁性退火处理的情况下，为了对所有的晶圆W实施均匀的处理，需要将晶圆W配置在匀强磁场区域内。螺线管型磁体的匀强磁场区域为其轴线方向长度的大约20%左右的区域。因此，在利用磁性退火装置对例如100张φ300mm的晶圆W进行处理的情况下，作为卧式的螺线管型磁体的设计例，能够设为内径（孔径）φ570mm、外径φ1900mm、长度2500mm（该情况下的匀强磁场区域的长度约为680mm左右）。
另外，上述设计的卧式的螺线管型磁体的重量为大致25吨左右。因此，在螺线管型磁体的底部设有用于保持螺线管型磁体的、未图示的保持台，并且在该保持台的底部设有未图示的保持板。
另外，如图2所示，在该磁性退火装置100中设有例如由计算机构成的控制部140。控制部140包括程序、存储器、由CPU构成的数据处理部等，在程序中嵌入有命令（各个步骤），以使得从控制部向磁性退火装置的各部分发送控制信号，并进行各个处理工序。利用该控制信号，进行载体C的输送、晶圆W的输送、开闭门的开闭、盖体的开闭、各个处理。该程序存储于计算机存储介质、例如软盘、光盘、硬盘、MO（磁光盘）以及存储卡等存储介质中并安装于控制部。
＜晶圆输送区域S2内的晶圆W的输送＞
说明将晶圆W从载置于第2载置台114a、114b的载体C借助晶圆舟皿128输送至磁场产生部件130的一系列的流程。
首先，参照图5说明在晶圆舟皿128内的、利用晶圆输送机构124输送到晶圆舟皿128的晶圆W的配置例。
图5中表示用于说明保持在晶圆舟皿128内的晶圆W的配置例的概略图。更具体地说，图5的（a）是以晶圆W的主表面为铅垂的方式配置的情况的配置例，图5的（b）是以晶圆W的主表面为水平的方式配置的情况的配置例，图5的（c）是组合了以晶圆W的主表面为铅垂的方式配置的情况和以晶圆W的主表面为水平的方式配置的情况的配置例。另外，图5的XY轴方向和Z轴方向分别与图2的XY轴方向和Z轴方向对应。
晶圆W的磁性退火处理公知有向与晶圆W的主表面垂直的方向施加磁场的垂直磁化方式和向与晶圆W的主表面平行的方向施加磁场的面内磁化方式这两种方式。像本实施方式这样，在采用卧式的超导磁体作为磁场产生部件130的情况下，磁体内的磁场（磁力线）的方向为XY轴方向。因此，在通过垂直磁化方式来同时对例如100张晶圆W进行磁性退火处理的情况下，如图5的（a）所示，在晶圆舟皿128内配置一个堆叠体，该堆叠体是以晶圆W的堆叠方向为上述XY轴方向的方式以预定的间隔呈架状堆叠了晶圆W而成的。另一方面，在通过面内磁化方式同时对例如100张晶圆W进行磁性退火处理的情况下，如图5的（b）所示，在晶圆舟皿128内沿XY轴方向排列配置两个堆叠体，该堆叠体是以晶圆W的堆叠方向为上述Z轴方向的方式以预定的间隔呈架状堆叠了50张晶圆W而成的。
当前，上述两种方式的磁性退火处理分别利用单独的装置来实施。但是，本实施方式的磁性退火装置100构成为，晶圆输送机构124的移动体124b能够以臂部124c延伸的方向为轴线进行转动。因此，能够利用同一装置来实施垂直磁化方式和面内磁化方式这两种方式的磁性退火处理。
另外，如图5的（c）所示，通过使用本实施方式的磁性退火装置100，从而也能够配置为，以堆叠方向为XY轴方向的方式堆叠50张晶圆W、而且以堆叠方向为Z轴方向的方式堆叠剩余的50张晶圆W。因此，能够通过一次磁性退火处理而实施垂直磁化方式和面内磁化方式这两种方式的磁性退火处理。
今后，上述两种方式中的哪一种方式的磁性退火处理成为主流还是不明确的，但是无论本实施方式的磁性退火装置100变换为哪一种方式的磁性退火处理的情况下，都能够通过更换晶圆舟皿128来实施两种方式的磁性退火处理。
接着，参照图6和图7进一步详细地说明晶圆输送区域S2内的、晶圆W的输送。
图6中表示用于说明由晶圆输送机构进行的晶圆输送的一例的概略图，图7中表示用于说明由晶圆输送机构进行的晶圆输送的其他例的概略图。更具体地说，图6是以垂直磁化方式对晶圆W进行处理的情况下的晶圆W的输送例，图7是面内磁化方式的情况下的晶圆W的输送例。
首先，参照图6，说明以垂直磁化方式对晶圆W进行处理的情况下的晶圆W的输送。另外，在图6和图7中，为简单起见，省略了分隔壁104和开闭门122。
如图6的（a）所示，首先，收纳于载体C的晶圆W被交接到晶圆输送机构124。如上所述，一般来说，在载体C内水平收纳有晶圆W，晶圆输送机构124将晶圆W水平保持并输送。接着，如图6的（b）所示，移动体124b沿铅垂轴线方向转动，晶圆W向对准器装置126的前方移载，并被交接到对准器装置126（图6的（c））。在对准器装置126中，如图6的（d）所示，对晶圆W进行定心与切口等的角度对准。接着，角度对准结束后的晶圆W被交接到晶圆输送机构124（图6的（e）），移动体124b沿铅垂轴线方向转动，并将晶圆W移载到晶圆舟皿128侧（图6的（f））。接着，移动体124b以臂部124c延伸的方向为轴线绕该轴线转动90度。由此，晶圆W被臂部124c铅垂保持。如图6的（h）所示，铅垂保持的晶圆W被交接到晶圆舟皿128，晶圆W的输送完成（图6的（i））。在晶圆W的向晶圆舟皿128的移载结束之后，晶圆输送机构124返回载体C，利用上述相同的方法来移载下一个晶圆W。
保持在一个载体C内的晶圆W的张数一般来说为25张，利用晶圆输送机构124进行输送的晶圆W的输送张数一般来说为5张。因此，针对一个载体C，进行5次晶圆W的从载体C经由对准器装置126向晶圆舟皿128的移载。在来自载置于一个第2载置台（例如第2载置台114a）的载体C的晶圆W的移载结束之后，利用晶圆输送机构124进行来自载置于另一个第2载置台（例如第2载置台114b）的载体C的晶圆W的移载。此时，在进行来自载置于另一个第2载置台114b的载体C的晶圆W的移载的期间，载置于第2载置台114a的变空的载体C被替换为保存于载体保存部116的其他载体C。
另一方面，参照图7，说明以面内磁化方式对晶圆W进行处理的情况下的晶圆W的输送。
在以面内磁化方式对晶圆W进行处理的情况下，也利用同样的方法来输送晶圆W，直至图6的（f）所示的移动体124b沿铅垂轴线方向转动，并将晶圆W移载到晶圆舟皿128侧（图7的（a）～图7的（f））。在面内磁化方式中，之后，移动体124b不进行转动，将水平保持的晶圆W以该状态交接到晶圆舟皿128（图7的（g）），晶圆W的输送完成（图7的（h））。
另外，本实施方式的磁性退火装置100也能够配置为，以堆叠方向为XY轴方向的方式堆叠50张晶圆W，并且以堆叠方向为Z轴方向的方式堆叠剩余的50张晶圆W。在以上述配置来配置100张晶圆W的情况下，首先利用图6所示的方法输送50张晶圆W，之后，利用图7所示的方法输送剩余的50张晶圆W。另外，也可以是，首先利用图7所示的方法输送50张晶圆W，之后利用图6所示的方法输送剩余的50张晶圆W。
在向晶圆舟皿128输送了预定的张数、例如100张晶圆W之后，晶圆舟皿128被移载机构138装载于磁场产生部件130。图2的虚线处的晶圆舟皿128的位置是装载后的位置。然后，对晶圆W实施预定的磁性退火处理。处理结束后的晶圆W的输出通过以下方法来执行：首先从磁场产生部件130上卸载晶圆舟皿128，并与上述输入相反，使用晶圆输送机构124来通过位于第2载置台114a或114b的开闭门来将晶圆W移载至载体C。在利用晶圆输送机构124将晶圆W输送到载体C之后，利用未图示的开闭机构来将开闭盖安装于载体C，利用载体输送机构118输出载体C，进入下一工序。
第二实施方式
（磁性退火装置）
接着，说明本实施方式的磁性退火装置。图8中表示磁性退火装置的一例的概略俯视图。另外，关于后述的晶圆舟皿228、绝热部234、盖236以及移载机构238，实线表示将晶圆W输送到晶圆舟皿228时的位置，虚线表示对晶圆W进行磁性退火处理时的位置。
如图8所示，磁性退火装置200收纳于壳体202而构成。壳体202构成磁性退火装置的外壳体，在该壳体202内形成有载体输送区域S1和晶圆输送区域S2。
载体输送区域S1是相对于磁性退火装置输入、输出收纳有作为被处理体的晶圆W的载体C的区域。另外，晶圆输送区域S2是用于输送载体C内的晶圆W、并将该晶圆W输入到后述的磁性退火炉内的移载区域。
载体输送区域S1和晶圆输送区域S2被分隔壁204分隔开来。
载体输送区域S1是处于大气气氛下的区域，是用于输送收纳于载体C的晶圆W的区域。各个处理装置之间的区域相当于载体输送区域S1，在本实施方式中，磁性退火装置200的外部的洁净室内的空间相当于载体输送区域S1。
另一方面，作为晶圆输送区域S2的气氛，并不特别限制，既可以是大气气氛，也可以是非活性气体气氛、例如氮（N2）气气氛。根据被处理体的结构，在需要进行更低氧气氛下的处理的情况下，例如在要防止形成氧化膜等的情况等下，可以设为非活性气体气氛。另外，一般来说，晶圆输送区域S2的洁净度高于载体输送区域S1的洁净度，并且晶圆输送区域S2被维持为低氧浓度。
在本实施方式中，将载体输送区域S1侧作为前方（图8的X方向），将晶圆输送区域S2侧作为后方（图8的Y方向）。将水平面内与前后方向垂直的方向作为左右方向。
[载体输送区域S1]
更详细地说明载体输送区域S1。图9中表示磁性退火装置的载体输送区域附近的概略纵剖视图。
载体输送区域S1包括第1输送区域206和位于第1输送区域206的后方侧的第2输送区域208。
如图8所示，在第1输送区域206的左右方向上设有分别载置载体C的第1载置台210a、210b这两个载置台。在各个第1载置台210a、210b的载置面上，例如设有三处与载体C的定位凹部对应的、用于对载体C进行定位的销212。
在第2输送区域208内设有相对于左右的第1载置台的任一者（在本实施方式为载置台210a）沿前后方向排列、并且沿图9的上下方向配置的第2载置台214a、214b这两个载置台。各个第2载置台214构成为在前后方向上移动自如。
在第2载置台214的载置面上也与第1载置台210相同地设有例如三处用于对载体C进行定位的销212。另外，在上述载置面上设有用于固定载体C的未图示的钩。
如图9所示，在第2输送区域208和/或第1输送区域206的上部侧设有用于保存载体C的第1载体保存部216a、216b。载体保存部216a、216b例如由两层以上的架子构成，各个架子能够在左右方向上载置例如两个载体C。
另外，如图8所示，在第2载置台214的左右方向上设有由多层架子构成的第2载体保存部216c。
通过设有第1载体保存部216a、216b与第2载体保存部216c，能够在载体输送区域S1内保持足够数量的载体C（即，足够张数的晶圆W）。
在第2输送区域208内设有用于在第1载置台、第2载置台以及第1、第2载体保存部之间输送载体C的载体输送机构218。该载体输送机构218包括在上下方向上升降自如的引导部218a、一边被引导部218a引导一边上下移动的移动部218b以及设于该移动部218b、支承载体C的底部并沿水平方向输送的输送臂218c。
在分隔壁204上设有使载体输送区域S1与晶圆输送区域S2连通的晶圆W的输送口220。在输送口220处设有用于从晶圆输送区域S2侧堵塞该输送口220的开闭门222。在开闭门222上连接有未图示的驱动机构，开闭门222构成为借助驱动机构在前后方向和上下方向上移动自如，对输送口220进行开闭。
＜载体输送区域S1内的晶圆W的输送＞
说明晶圆W的从载体输送区域S1向晶圆输送区域S2的输送。首先，利用上述输送臂218c，从第1载置台210、第1载体保存部216a、216b或第2载体保存部216c向第2载置台214移载载体C。载体C以其定位凹部与销212相卡合的方式被载置。若载体C载置于第2载置台214，则第2载置台214向分隔壁204侧移动，载体C与分隔壁204相抵接。载体C的抵接状态由未图示的固定机构保持。
之后，在形成于分隔壁204的开闭门222和载体C的开闭盖22密闭的状态下，利用未图示的开闭机构打开开闭盖22。在将晶圆输送区域S2的气氛设为非活性气体气氛的情况下，首先，在载体C的开闭盖22密闭的状态下，利用未图示的非活性气体置换部件进行非活性气体置换，去除开闭门222与开闭盖22之间的大气并充满非活性气体。接着，利用非活性气体置换部件对载体C内进行非活性气体置换。
然后，打开形成于载体C的分隔壁204的开闭门222，利用后述的晶圆输送机构224输入、输出载体C内的晶圆W。
在更换载体C和输出晶圆W时，实施与上述相反的动作。
[晶圆输送区域S2]
图10中表示磁性退火装置200的晶圆输送区域S2附近的概略俯视图。如图10所示，在晶圆输送区域S2内主要设置有晶圆输送机构224、对准器装置226、晶圆舟皿228以及磁场产生部件230。
另外，在本实施方式的磁性退火装置200的晶圆输送区域S2内设置有用于将洁净气体导入到晶圆输送区域S2的洁净气体导入部件260和用于将导入的洁净气体从晶圆输送区域S2排出的排气部件265。
另外，在本说明书中，“洁净气体”是指洁净空气或氮（N2）气等非活性气体等。洁净气体导入部件260例如是能够经由空气过滤器产生上述洁净气体的空气源，由此，能够向晶圆输送区域S2内导入洁净气体。作为空气过滤器，一般使用HEPA（High EfficiencyParticulate Air：高效空气）过滤器、UPLA（Ultra Low Penetration Air：超高效空气）过滤器等。
另外，排气部件265能够设为形成于晶圆输送区域S2的侧壁面或顶面的排气口。在排气口处，也可以设有用于促进气流的排气扇，从排气扇排出了的气体能够自壳体202排出到系统外部。另外，为了进行循环使用排出了的气体，也可以是将排出了的气体返回到洁净气体导入部件260的结构。在该情况下，在未图示的循环路径上设置例如N2的纯度监视装置，在纯度为预定值以下的情况下，停止循环。
气流的流速依赖于装置的大小等，但是一般设定为0.25m/秒～0.35m/秒左右。另外，晶圆输送区域S2内被设定为相对于系统外部的大气稍微正压的状态，大气不会侵入该晶圆输送区域S2内。
后面说明由本实施方式的磁性退火装置200的晶圆输送区域S2内的由洁净气体导入部件260与排气部件265形成的气流。
晶圆输送机构224承担晶圆输送区域S2内的晶圆W的输送，并设置在晶圆舟皿228与分隔壁204的输送口220之间。晶圆输送机构224沿着上下延伸的引导机构224a进行移动，并且在绕铅垂轴线转动的移动体224b上设置例如5个进退自如的臂224c而构成，在晶圆舟皿228、第2载置台214上的载体C以及对准器装置226之间输送晶圆。
对准器装置226例如把持晶圆W的边缘，进行定心与切口等的角度对准。
晶圆舟皿228能够保持多个载体C、例如4个载体C内的许多张晶圆W，隔着绝热部234载置于盖236的后方侧。盖236支承于移载机构238的后方侧，利用该移载机构238相对于磁场产生部件230输入或输出晶圆舟皿228。
在晶圆舟皿228的后方侧配置有用于对晶圆W实施磁性退火处理的磁场产生部件230。磁场产生部件230使用右端为炉口的、由卧式的螺线管型磁体（超导磁体）构成的磁性退火炉。螺线管型磁体配置为其中心线轴线方向实质上水平，并连接于未图示的电源装置。利用卧式的螺线管型磁体产生的磁场的方向为上述前后方向。
另外，在磁场产生部件230上，沿着其内周配置有加热部件232，能够将晶圆W加热到预定的温度。即，利用加热部件132，在均匀的磁场下对晶圆W进行加热处理。
在使用螺线管型磁体对多张、例如100张晶圆W实施相同的磁性退火处理的情况下，为了对所有的晶圆W实施均匀的处理，需要将晶圆W配置在匀强磁场区域内。螺线管型磁体的匀强磁场区域为其轴线方向长度的大约20%左右的区域。因此，在利用磁性退火装置对例如100张φ300mm的晶圆W进行处理的情况下，作为卧式的螺线管型磁体的设计例，能够设为内径（孔径）φ570mm、外径φ1900mm、长度2500mm（该情况下的匀强磁场区域的长度约为680mm左右）。
另外，上述设计的卧式的螺线管型磁体的重量为大致25吨左右。因此，在螺线管型磁体的底部设有用于保持螺线管型磁体的、未图示的保持台，并且在该保持台的底部设有未图示的保持板。
另外，如图8所示，在该磁性退火装置200中设有例如由计算机构成的控制部240。控制部240包括程序、存储器、由CPU构成的数据处理部等，在程序中嵌入有命令（各个步骤），以使得从控制部向磁性退火装置的各部分发送控制信号，并进行各个处理工序。利用该控制信号，进行后述的洁净气体的流速的控制、载体C的输送、晶圆W的输送、开闭门的开闭、盖体的开闭、各个处理。该程序存储于计算机存储介质、例如软盘、光盘、硬盘、MO（磁光盘）以及存储卡等存储介质中并安装于控制部。
＜晶圆输送区域S2内的晶圆W的输送＞
说明将晶圆W从载置于第2载置台214a、214b的载体C借助晶圆舟皿228输送至磁场产生部件230的一系列的流程。
在打开形成于载体C的分隔壁204的开闭门222之后，首先，利用晶圆输送机构224将晶圆W移载到对准器装置226，进行定心与切口等的角度对准。接着，利用晶圆输送机构224将角度对准结束后的晶圆W从对准器装置226向晶圆舟皿228移载。在晶圆W的向晶圆舟皿228的移载结束之后，晶圆输送机构224返回载体C，并移载下一个晶圆W。图8的实线和图10中的晶圆舟皿228的位置是输送晶圆W时的位置。
保持在一个载体C内的晶圆W的张数一般来说为25张，利用晶圆输送机构224进行输送的晶圆W的输送张数一般来说为5张。因此，针对一个载体C，进行5次晶圆W的从载体C经由对准器装置226向晶圆舟皿228的移载。在来自载置于一个第2载置台（例如第2载置台214a）的载体C的晶圆W的移载结束之后，利用晶圆输送机构224进行来自载置于另一个第2载置台（例如第2载置台214b）的载体C的晶圆W的移载。此时，在进行来自载置于另一个第2载置台214b的载体C的晶圆W的移载的期间，载置于第2载置台214a的变空的载体C被替换为保存于载体保存部216的其他载体C。
在向晶圆舟皿228输送了预定的张数、例如100张晶圆W之后，晶圆舟皿228被移载机构238装载于磁场产生部件230。图8的虚线处的晶圆舟皿228的位置是装载后的位置。然后，对晶圆W实施预定的磁性退火处理。处理结束后的晶圆W的输出通过以下方法来执行：首先从磁场产生部件230上卸载晶圆舟皿228，并与上述输入相反，使用晶圆输送机构224来通过位于第2载置台214a或214b的开闭门来将晶圆W移载至载体C。在利用晶圆输送机构224将晶圆W输送到载体C之后，利用未图示的开闭机构来将开闭盖安装于载体C，利用载体输送机构218输出载体C，进入下一工序。
＜晶圆输送区域S2内的气流＞
如上所述，在本实施方式的磁性退火装置200的晶圆输送区域S2内设置有用于将洁净气体导入到晶圆输送区域S2的洁净气体导入部件260和用于将导入的洁净气体从晶圆输送区域S2排出的排气部件265。
优选的是，洁净气体导入部件260和排气部件265配置为产生使洁净气体向晶圆输送区域S2的横向流动的侧流。更优选的是，如图10所示，洁净气体导入部件260配置在晶圆输送机构224向晶圆舟皿228输送晶圆W的输送方向的下游侧，排气部件265配置在该输送方向的上游侧。通过如此配置洁净气体导入部件260和排气部件265，从而如图10的箭头所示，能够产生使洁净气体自晶圆输送机构224向晶圆舟皿228输送晶圆W的下游侧向上游侧流动的侧流。
说明能够通过产生侧流来减少磁性退火处理前后的杂质（颗粒）向晶圆W的附着的理由。
图11中表示用于说明保持在晶圆舟皿228内的晶圆W的配置例与气流之间的关系的概略图。更具体地说，图11的（a）是晶圆W的堆叠方向为上述前后方向（在图11中，为XY方向）时的配置例，图11的（b）是晶圆W的堆叠方向为铅垂方向时的配置例。另外，在图11的（a）和图11的（b）中，用Z轴表示优选的气流的方向。
晶圆W的磁性退火处理公知有向与晶圆W的主表面垂直的方向施加磁场的垂直磁化方式和向与晶圆W的主表面平行的方向施加磁场的面内磁化方式这两种方式。像本实施方式这样，在采用卧式的螺线管型磁体作为磁场产生部件230的情况下，磁体内的磁场（磁力线）的方向为上述前后方向。因此，在通过垂直磁化方式对晶圆W进行磁性退火处理的情况下，如图11的（a）所示，以晶圆W的堆叠方向成为上述前后方向的方式进行配置。在对例如100张晶圆W进行处理的情况下，如图11的（a）所示，在晶圆舟皿228内配置一个堆叠体，该堆叠体是以预定的间隔呈架状堆叠了100张晶圆W而成的。另一方面，在通过面内磁化方式对晶圆W进行磁性退火处理的情况下，如图11的（b）所示，在上述前后方向上并列排列两个堆叠体并配置在晶圆舟228内，该堆叠体是以预定的间隔堆叠了50张晶圆W而成的。
通过采用图11的Z轴的方向、即侧流作为洁净气体的气流，从而即使在图11的（a）和图11的（b）所示的任意的晶圆W的配置的情况下，洁净气体也以与晶圆W的主表面方向平行的方式流动。因此，不会由于等待状态的晶圆W阻碍侧流的流动（抑制紊流的产生），能够维持层流状态的流动，能够保持晶圆输送区域S2的气氛洁净。另外，即使在对多张晶圆W进行磁性退火处理的情况下，也能够对所有的晶圆W实施颗粒的借助于气流的去除。
作为产生附着于晶圆W的颗粒的产尘源，主要列举有载体C、晶圆输送机构224、开闭门222等。特别是晶圆输送机构224、开闭门222等由于结构元件较多，因此堆积于可动部等的颗粒飞散的可能性较高。因此，如图10所示，优选的是，相对于晶圆输送机构224向晶圆舟皿228输送晶圆W的输送方向，产生使洁净气体从下游侧向上游侧沿横向流动的侧流。由此，即使在例如产生了颗粒的情况下，也能够防止颗粒向晶圆W的输送的下游侧（即，后面的磁性退火处理工序侧）移动。因此，能够将磁场产生部件230侧的区域保持为洁净气氛。
而且，洁净气体的流动能够使晶圆舟皿228内的晶圆W的温度冷却。因此，能够高效地冷却磁性退火处理结束并返回到晶圆输送位置（参照图8的晶圆舟皿228的实线）的晶圆舟皿228和晶圆W。通过高效地降低晶圆W的温度，能够使处理后的晶圆W迅速地返回到载体C，因此能够减少TAT（Turn Around Time：周转时间）。
进而，能够防止存在于系统内部的凝缩性的有机物质、离子成分所导致的有机污染、化学污染，该有机污染、化学污染会引起半导体晶圆上的氧化膜的耐压劣化、成膜异常、蚀刻不良等的。
根据上述内容，本发明的各种实施例是出于说明的目的而记载的，而且，希望理解为在不脱离本发明的范围和思想的前提下能够进行各种变形。因而，在此所公开的各种实施例并不是对上述各项权利要求所指定的本质的范围和思想进行限制。

Claims (16)

1.一种磁性退火装置，其使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，在该磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送上述被处理体的被处理体输送区域，其中，
在上述收纳容器输送区域内配置有：
第1载置台，其用于载置被输入到该磁性退火装置的收纳容器；
多个第2载置台，其用于载置上述收纳容器，以使得经由上述开闭门从上述收纳容器输送区域向上述被处理体输送区域气密地输送上述被处理体；
保存部，其用于保存多个上述收纳容器；以及
收纳容器输送机构，其用于在上述第1载置台、上述第2载置台以及上述保存部之间输入、输出上述收纳容器；
在上述被处理体输送区域内配置有：
对准器，其用于进行上述被处理体的对位；
上述被处理体保持部件，其能够保持进行上述对位后的上述被处理体；
被处理体输送机构，其用于在载置于上述第2载置台的收纳容器、上述对准器以及上述被处理体保持部件之间输送上述被处理体；
加热部件，其用于对上述被处理体进行加热；
上述磁场产生部件，其用于对保持于上述被处理体保持部件的被处理体施加磁场；以及
移载机构，其用于将保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体移载到上述磁场产生部件内；
上述被处理体输送机构能够相对于上述磁场产生部件所产生的磁场转动上述被处理体，以将上述被处理体的主表面保持为水平状态或铅垂状态。
2.根据权利要求1所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体输送机构具有用于保持上述被处理体的水平延伸的臂部，上述臂部能够以上述臂部延伸的方向为轴线转动。
3.根据权利要求1所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体输送机构利用卡盘机构来保持上述被处理体。
4.根据权利要求1所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体输送机构将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述对准器，将进行对位后的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件。
5.根据权利要求1所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体为晶圆，上述收纳容器为FOUP，
上述FOUP能够收纳25张上述晶圆，
上述被处理体保持部件能够保持100张上述晶圆。
6.根据权利要求5所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体保持部件能够以上述晶圆的主表面为铅垂的状态堆叠100张上述晶圆。
7.根据权利要求5所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体保持部件能够保持两个以上述晶圆的主表面为水平的状态堆叠50张上述晶圆而成的堆叠体。
8.根据权利要求5所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体保持部件能够堆叠以上述晶圆的主表面为水平的状态堆叠50张上述晶圆而成的第1堆叠体，并且能够堆叠以上述晶圆的主表面为铅垂的状态堆叠50张上述晶圆而成的第2堆叠体。
9.一种磁性退火装置，其使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对被处理体进行磁性退火处理，在磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送上述被处理体的被处理体输送区域，其中，
在上述收纳容器输送区域内配置有：
第1载置台，其用于载置被输入到该磁性退火装置的收纳容器；
多个第2载置台，其用于载置上述收纳容器，以使得经由上述开闭门从上述收纳容器输送区域向上述被处理体输送区域气密地输送上述被处理体；
保存部，其用于保存多个上述收纳容器；以及
收纳容器输送机构，其用于在上述第1载置台、上述第2载置台以及上述保存部之间输入、输出上述收纳容器；
在上述被处理体输送区域内配置有：
对准器，其用于进行上述被处理体的对位；
被处理体保持部件，其能够保持进行上述对位后的上述被处理体；
被处理体输送机构，其用于在载置于上述第2载置台的收纳容器、上述对准器以及上述被处理体保持部件之间输送上述被处理体；
加热部件，其用于对上述被处理体进行加热；
上述磁场产生部件，其用于对上述被处理体施加磁场；
移载机构，其用于将保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体移载到上述磁场产生部件内；
洁净气体导入部件，其用于导入洁净气体；以及
排气部件，其用于排出洁净气体；
上述洁净气体的由上述洁净气体导入部件和上述排气部件形成的流动的方向与保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体的主表面平行，
上述被处理体输送机构能够相对于上述磁场产生部件所产生的磁场转动上述被处理体，以将上述被处理体的主表面保持为水平状态或铅垂状态。
10.根据权利要求9所述的磁性退火装置，其中，
上述洁净气体导入部件相对于上述被处理体保持部件而言配置在上述被处理体输送机构向上述被处理体保持部件输送上述被处理体的输送方向的下游侧，
上述排气部件相对于上述被处理体输送机构而言配置在上述被处理体输送机构向上述被处理体保持部件输送上述被处理体的输送方向的上游侧。
11.根据权利要求9所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体保持部件能够水平或铅垂地保持上述被处理体的主表面，
上述洁净气体的流动为侧流。
12.根据权利要求9所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体为晶圆，上述收纳容器为FOUP，
上述FOUP能够收纳25张上述晶圆，
上述被处理体保持部件能够保持100张上述晶圆，
上述被处理体输送机构具有用于保持上述被处理体的水平延伸的臂部，上述臂部能够以上述臂部延伸的方向为轴线转动。
13.根据权利要求12所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体保持部件能够以上述轴线的方向为堆叠方向并以预定的间隔保持100张上述晶圆。
14.根据权利要求12所述的磁性退火装置，其中，
上述被处理体保持部件能够沿上述轴线方向并列保持两个以与上述轴线铅垂的方向为堆叠方向并以预定的间隔堆叠50张上述晶圆而成的堆叠体。
15.根据权利要求9所述的磁性退火装置，其中，
上述洁净气体导入部件具有HEPA过滤器或ULPA过滤器。
16.根据权利要求9所述的磁性退火装置，其中，
上述排气部件具有形成于上述磁性退火装置的顶面的排气口。
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