KR100538279B1 - 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템 및 웨이퍼 이송방법에 관한 것이다.
본 발명의 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템은 다수개의 웨이퍼가 일정각도로 기울어져 안착되는 웨이퍼보트와, 상기 웨이퍼보트로 상기 웨이퍼를 이송하는 이송장치 및 상기 이송장치의 동작을 제어하도록 제어신호를 인가하는 제어부를 포함하여 이루어지고, 본 발명의 웨이퍼 이송방법은 상기 웨이퍼를 흡착하여 수평이동하는 단계와, 상기 웨이퍼보트를 향해 상기 웨이퍼를 회전시키는 단계와, 상기 웨이퍼를 회전시켜 일정각도로 기울어지게 하는 단계와, 상기 웨이퍼를 상기 웨이퍼보트에 안착시키는 단계 및 다른 웨이퍼를 이송하도록 준비를 하는 단계를 포함하여 이루어진다.
따라서, 웨이퍼보트에 다량의 웨이퍼를 안착시키는 것이 가능하고, 경사진 웨이퍼들 사이의 공간으로 공정가스의 흐름이 원활해지므로 웨이퍼 상에 형성되는 박막층의 균일성을 향상시키며, 웨이퍼의 중심부와 주변부의 온도차에 의한 열팽창의 차이를 해소하여 웨이퍼 상에 균열이 발생하는 슬립현상을 억제하게 하는 효과를 갖는다.

Description

확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템 및 웨이퍼 이송방법
본 발명은 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템 및 웨이퍼 이송방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼를 일정각도로 기울여서 웨이퍼보트에 안착시키므로써 웨이퍼보트에 안착되는 웨이퍼량을 늘리고, 반도체장치의 수율을 향상시키는 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템 및 웨이퍼 이송방법에 관한 것이다.
일반적으로 웨이퍼는 반도체소자 제조공정내에서 사진, 확산, 식각, 화학기상증착 및 금속증착 등의 공정을 반복하여 수행한 후 반도체장치로 제작된다.
웨이퍼가 반도체장치로 제작되는 과정에서 웨이퍼 상에는 다수의 박막층이 형성되고, 이러한 박막층은 웨이퍼 상에서 상호조합되어 유전체나 도체로 작용하게 된다.
여기서, 상기 박막층을 형성하는 공정은 다양하고, 각각의 공정의 특성에 맞는 제조설비가 사용되고 있으며, 상기 박막층을 형성하는 공정중 확산공정은 농도차가 발생할 때 농도가 높은 곳에서 낮은 곳으로 농도 평형상태가 될 때까지 물질이 이동하는 현상을 이용하여 웨이퍼 상에 공정가스를 분포시켜 박막층을 형성하는 공정이다.
확산공정에 사용되는 설비에는 노(Furnace)방식이 있으며, 상기 노방식의 확산공정설비는 웨이퍼 상에 공정가스를 주입하여 박막층을 형성하도록 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼보트와 상기 웨이퍼를 웨이퍼카세트로부터 상기 웨이퍼보트로 이송하는 이송장치를 구비하는 웨이퍼 이송시스템과, 상기 웨이퍼보트가 위치하여 공정을 진행하는 노와, 상기 노의 내부로 공정가스를 공급하는 가스공급원 및 상기 노를 가열하여 공정가스의 흐름을 원활히 하는 가열원을 구비하여 이루어진다.
도1을 참조하여 설명하면, 종래의 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템의 웨이퍼보트(10)는 다수개의 상기 웨이퍼(2)가 지면에 수평하여 등간격으로 위치하도록 지지홈이 형성되어 있는 웨이퍼지지대(11)와, 상기 웨이퍼지지대(11)의 하부에서 상기 웨이퍼지지대(11)를 고정하는 받침판(12) 및 상기 웨이퍼지지대(11)의 흔들림을 방지하도록 상기 웨이퍼지지대(11)의 상부에서 상기 웨이퍼지지대(11)와 결합하는 고정판(13)을 구비하여 이루어지며, 상기 웨이퍼(2)들 사이의 공간으로 상기 공정가스가 유입되어 박막층이 형성된다.
그러나, 상기 웨이퍼가 대구경화되면 상기 웨이퍼보트에 동일한 갯수의 웨이퍼를 안착시킬 경우 상기 웨이퍼의 중심부까지 상기 공정가스가 원활히 유입되지 않으므로, 박막층의 균일성이 떨어지게 된다.
따라서, 박막층의 균일성을 향상시키도록 웨이퍼들 사이의 간격을 넓게 하여 상기 웨이퍼를 상기 웨이퍼보트에 안착시키면 상기 웨이퍼보트에 안착되는 웨이퍼량이 감소하게 되고, 상기 웨이퍼보트에 안착되는 웨이퍼량을 늘이기 위하여 상기 웨이퍼들 사이의 간격을 좁게 하여 상기 웨이퍼를 상기 웨이퍼보트에 안착시키면 상기 웨이퍼들 사이의 간격이 좁아지므로 상기 공정가스의 흐름이 원활하지 못하고, 열의 공급이 고르지 않아 박막층의 균일성이 떨어지는 문제점이 있었다.
또한, 고르지 못한 공정가스 및 열의 공급에 의해 상기 웨이퍼의 중심부와 주변부에 온도차가 발생하고, 이러한 온도차에 의해 열팽창이 다르게 일어나므로 상기 웨이퍼 상에 균열이 생기는 슬립(Slip)현상이 발생하는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 웨이퍼를 일정각도로 기울여 안착시키므로써 웨이퍼보트에 다량의 웨이퍼를 안착시키고, 경사진 상기 웨이퍼들 사이의 공간으로 공정가스가 원활하게 흐르도록 하므로써 상기 웨이퍼 상에 형성되는 박막층의 균일성을 향상시키며, 균일한 공정가스 및 열의 공급에 의해 상기 웨이퍼의 중심부와 주변부의 온도차에 의한 열팽창의 차이를 해소하여 상기 웨이퍼 상에 균열이 발생하는 슬립현상을 억제하게 하는 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템 및 웨이퍼 이송방법을 제공하는 데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템은, 웨이퍼가 위치하는 노의 내부로 공정가스를 주입하고 가열하여 상기 웨이퍼 상에 박막층을 형성하기 위하여 상기 웨이퍼를 웨이퍼카세트로부터 상기 노의 내부로 이송하도록, 다수개의 상기 웨이퍼가 일정각도로 기울어져 안착되는 웨이퍼보트와, 상기 웨이퍼를 상기 웨이퍼카세트로부터 상기 웨이퍼보트로 이송하는 이송장치 및 상기 이송장치의 동작을 제어하도록 제어신호를 인가하는 제어부를 구비하여 이루어진다.
여기서, 상기 이송장치는 상기 웨이퍼를 진공으로 흡착하는 진공부를 구비하는 장축의 아암과, 상기 아암을 지면에 수평하여 직선이동시키는 수평이동부와, 상기 수평이동부를 축으로 상기 웨이퍼를 회전시켜 상기 웨이퍼가 일정각도로 기울어지게 하는 웨이퍼회전부 및 상기 수평이동부를 회전반경으로 하여 상기 웨이퍼를 180°회전시켜 이송하는 회전이동부를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 웨이퍼카세트는 연속하여 상기 웨이퍼를 상기 웨이퍼보트로 이송하도록 상기 웨이퍼카세트에 안착되어 있는 상기 웨이퍼들 사이의 피치만큼 상기 웨이퍼카세트를 상승 또는 하강시키는 웨이퍼카세트엘리베이터 상에 안착되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 상기 웨이퍼보트는 상기 웨이퍼보트를 좌우이동시키는 웨이퍼보트수평이동부 및 상기 웨이퍼보트를 상승 또는 하강시키는 웨이퍼보트엘리베이터를 구비하여 이루어지는 웨이퍼보트이동장치 상에 안착되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 웨이퍼 이송방법은 상기 수평이동부가 상기 웨이퍼카세트로부터 상기 웨이퍼를 흡착하여 수평이동하는 단계와, 상기 회전이동부가 상기 웨이퍼를 지면에 수평하여 180°회전시켜 상기 웨이퍼보트로 이송하는 단계와, 상기 웨이퍼회전부가 상기 웨이퍼를 일정각도로 기울어지도록 회전시키는 단계와, 상기 수평이동부가 상기 웨이퍼를 상기 웨이퍼보트로 로딩하는 단계 및 상기 수평이동부가 상기 웨이퍼카세트를 향해 원위치로 되돌아가고, 상기 웨이퍼카세트 및 상기 웨이퍼보트가 이동하여 다른 웨이퍼를 이송하기 위해 준비하는 단계를 포함하여 이루어진다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도2를 참조하여 설명하면, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의한 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템은 다수개의 상기 웨이퍼(2)가 일정각도로 기울어져 안착되는 웨이퍼보트(20)와 상기 웨이퍼(2)를 웨이퍼카세트(3)로부터 상기 웨이퍼보트(20)로 이송하는 이송장치(30) 및 상기 이송장치(30)에 제어신호를 인가하여 상기 이송장치(30)의 동작을 제어하는 제어부(40)를 구비하여 이루어진다.
먼저 상기 웨이퍼보트(20)는 받침판(21)을 구비하며, 상기 받침판(21)에는 수직지지대(22)가 고정되어 있다.
상기 수직지지대(22)에는 상기 받침판(21)에 평행하여 다수개의 수평지지대(23)가 등간격을 이루며 형성되어 있고, 동일한 높이에 형성되어 있는 2개의 상기 수평지지대(23)의 중심부에는 상기 웨이퍼(2)가 위치하는 웨이퍼지지대(24)가 형성되어 있다.
상기 웨이퍼지지대(24)에는 상기 웨이퍼(2)를 지지하는 지지홈(25)이 상, 하부에 형성되어 있으며, 2개의 상기 웨이퍼지지대(24)가 쌍을 이루어 상기 웨이퍼(2)를 지지한다.
즉, 상부에 위치한 웨이퍼지지대(24)의 하측에 형성된 지지홈(25)과, 하부에 위치한 웨이퍼지지대(24)의 상측에 형성된 지지홈(25)이 쌍을 이루어 상기 웨이퍼(2)를 지지한다.
또한, 상기 수직지지대(22)에는 상기 받침판(21)과 평행하게 형성되어 상기 웨이퍼(2)의 후면을 지지하는 상기 웨이퍼지지대(24)가 더 형성되어 있으며, 상기 받침판(21)에 평행하여 형성된 상기 웨이퍼지지대(24)의 측부에는 상기 웨이퍼(2)를 지지하는 지지홈(25)이 일정각도로 경사져 형성되어 있다.
따라서, 상기 웨이퍼(2)는 상기 웨이퍼지지대(24)의 상, 하 및 후면에 형성되어 있는 상기 지지홈(25)에 의해 일정각도로 기울어져 위치한다.
여기서, 상기 웨이퍼(2)는 공정면이 지면을 기준으로 75°내지 80°의 각도를 이루며 하방을 향하여 기울어져 위치하는 것이 바람직하다.
상기 수직지지대(22)의 상부에는 상기 수직지지대(22)의 흔들림을 방지하도록 상기 수직지지대(22)와 결합하는 고정판(26)이 형성되어 있다.
그리고, 상기 이송장치(30)는 상기 웨이퍼(2)를 흡착하는 진공부를 구비하는 장축의 아암(31)과, 상기 아암(31)을 지면에 수평하여 직선이동시켜 상기 진공부에 흡착된 상기 웨이퍼(2)를 상기 웨이퍼카세트(3) 및 상기 웨이퍼보트(20)로 로딩 및 언로딩시키는 수평이동부(32)가 구비되어 있다.
상기 수평이동부(32)는 웨이퍼회전부(33)와 연결되어 있으며, 상기 웨이퍼회전부(33)는 모터부(도시하지 않음)를 구비하여 상기 모터부에 연결된 상기 수평이동부(32)를 일정각도로 회전시켜 상기 웨이퍼(2)를 일정각도로 기울어지게 한다.
상기 웨이퍼회전부(33)는 회전이동부(34)에 연결되어 있으며, 상기 회전이동부(34)는 별도의 모터부(도시하지 않음)를 구비하여 상기 수평이동부(32) 및 상기 웨이퍼회전부(33)를 지면에 수평하여 180°회전시킨다.
또한, 상기 웨이퍼카세트(3)는 상기 이송장치(30)가 상기 웨이퍼(2)를 상기 웨이퍼카세트(3)로부터 상기 웨이퍼보트(20)로 연속하여 이송하도록 상기 웨이퍼카세트(3)에 안착되어 있는 상기 웨이퍼(2)들 사이의 피치만큼 상기 웨이퍼카세트(3)를 상승 또는 하강시키는 웨이퍼카세트엘리베이터(35) 상에 안착되어 있다.
그리고, 본 발명의 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템은 상기 웨이퍼카세트(3)로부터 이송된 상기 웨이퍼(2)가 연속하여 상기 웨이퍼보트(20)로 이송되도록 상기 웨이퍼보트(20)를 이동시키는 웨이퍼보트이동장치(36)를 구비하고 있다.
상기 웨이퍼보트이동장치(36)는 상기 웨이퍼지지대(24)에 형성된 상기 지지홈(25)들 사이의 피치만큼 상기 웨이퍼보트(20)를 좌우이동시키는 웨이퍼보트수평이동부(37) 및 상기 수평지지대(23) 사이의 거리만큼 상기 웨이퍼보트(20)를 상승 또는 하강시키는 웨이퍼보트엘리베이터(38)를 구비하여 이루어진다.
또한, 상기 이송장치(30)와 상기 웨이퍼보트이동장치(36) 및 상기 웨이퍼카세트엘리베이터(35)는 각각 제어부(40)에 연결되어 있으며, 상기 제어부(40)에서 인가된 신호에 의해 동작이 제어된다.
여기서 상기 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템의 동작관계를 설명하면, 먼저 상기 웨이퍼(2)는 상기 웨이퍼카세트(3)에 안착되고, 상기 웨이퍼카세트(3)는 상기 웨이퍼카세트엘리베이터(35) 상으로 이송되어 위치한다.
상기 수평이동부(32)의 상기 아암(31)은 상기 웨이퍼카세트(3)에 안착되어 있는 상기 웨이퍼(2)를 향해 직선이동하여 신장되고, 상기 진공부가 상기 웨이퍼(2)를 흡착한 다음 상기 아암(31)이 다시 직선이동하여 원위치로 되돌아간다.
그리고, 상기 회전이동부(34)가 동작하여 상기 수평이동부(32)를 회전반경으로 하여 상기 웨이퍼(2)를 지면에 평행하여 180°회전시켜 상기 웨이퍼보트(20)를 향하게 한다.
상기 웨이퍼회전부(33)는 상기 수평이동부(32)를 축으로 상기 웨이퍼(2)를 75° 내지 80°회전시키고, 상기 수평이동부(32)의 상기 아암(31)이 다시 직선이동하여 상기 웨이퍼(2)를 상기 웨이퍼보트(20)의 상기 웨이퍼지지대(24)에 일정각도로 기울여 안착시킨다.
상기 아암(31)이 직선이동하여 원위치로 되돌아오면 상기 회전이동부(34)가 다시 지면에 평행하여 상기 수평이동부(32)를 180°회전시키고, 상기의 동작을 반복하여 실시하여 상기 웨이퍼(2)를 상기 웨이퍼카세트(3)로부터 상기 웨이퍼보트(20)로 모두 이송하여 안착시킨다.
이때, 상기 웨이퍼카세트(3)로부터 1개의 상기 웨이퍼(2)가 이송되면 상기 웨이퍼카세트엘리베이터(35)는 상기 제어부(40)로부터 인가된 신호에 의해 상기 웨이퍼카세트(3)를 상기 웨이퍼카세트(3)에 안착되어 있는 상기 웨이퍼(2)들 사이의 피치만큼 상승시켜 연속적으로 상기 웨이퍼(2)의 이송을 가능하게 한다.
그리고, 상기 웨이퍼보트(20)에 1개의 상기 웨이퍼(2)가 안착되면 상기 웨이퍼보트수평이동부(37)는 상기 제어부(40)에서 인가된 신호에 의해 상기 웨이퍼보트(20)를 상기 웨이퍼지지대(24)에 형성되어 있는 상기 지지홈(25)들 사이의 피치만큼 수평으로 이동시키고, 상기 웨이퍼(2)가 상기 웨이퍼보트(20)의 1열에 모두 안착되면 상기 웨이퍼보트엘리베이터(38)가 상기 제어부(40)에서 인가된 신호에 의해 상기 웨이퍼보트(20)를 상승시킨다.
그리고, 상기의 동작을 반복적으로 실시하여 상기 웨이퍼보트(20)에 상기 웨이퍼(2)를 모두 안착시킨다.
또한, 본 발명에 의한 웨이퍼 이송방법에 대해 설명하면, 상기 수평이동부(32)가 상기 웨이퍼카세트(3)로부터 상기 웨이퍼(2)를 흡착하여 수평이동하는 단계와, 상기 회전이동부(34)가 상기 웨이퍼(2)를 지면에 수평하여 180°회전시켜 상기 웨이퍼보트(20)로 이송하는 단계와, 상기 웨이퍼회전부(33)가 상기 웨이퍼(2)를 회전시켜 일정각도로 기울어지게 하는 단계와, 상기 수평이동부(32)가 상기 웨이퍼(2)를 상기 웨이퍼보트(20)로 로딩하는 단계 및 상기 수평이동부(32)가 상기 웨이퍼카세트(3)를 향해 원위치로 되돌아가고, 상기 웨이퍼카세트(3) 및 상기 웨이퍼보트(20)를 이동시켜 다른 웨이퍼를 이송하기 위해 준비하는 단계를 포함하여 이루어진다.
따라서, 상기 웨이퍼를 일정각도로 기울여 상기 웨이퍼보트에 배치하므로써 다량의 웨이퍼를 안착시킬 수 있고, 경사진 상기 웨이퍼들 사이의 공간으로 공정가스가 원활하게 흐르도록 하므로써 상기 웨이퍼 상에 형성되는 박막층의 균일성을 향상시키며, 균일한 공정가스 및 열의 공급에 의해 상기 웨이퍼의 중심부와 주변부의 온도차에 의한 열팽창의 차이를 해소하여 상기 웨이퍼 상에 균열이 발생하는 슬립현상을 억제할 수 있다.
이상에서와 같이 본 발명에 따른 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템 및 웨이퍼 이송방법에 의하면, 웨이퍼를 일정각도로 기울여 웨이퍼보트에 배치하므로써 다량의 웨이퍼를 안착시킬 수 있고, 경사진 웨이퍼들 사이의 공간으로 공정가스가 원활하게 흐르도록 하므로써 웨이퍼 상에 형성되는 박막층의 균일성을 향상시키며, 균일한 공정가스 및 열의 공급에 의해 웨이퍼의 중심부와 주변부의 온도차에 의한 열팽창의 차이를 해소하여 웨이퍼 상에 균열이 발생하는 슬립현상을 억제하게 하는 효과를 갖는다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상범위내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
도1은 종래의 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템의 웨이퍼보트를 나타낸 사시도이다.
도2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템을 나타낸 사시도이다.
도3은 도2의 웨이퍼보트를 나타낸 정면도이다.
※도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
2 ; 웨이퍼 3 ; 웨이퍼카세트
10, 20 ; 웨이퍼보트 11 ; 웨이퍼지지대
12, 21 ; 받침판 13, 26 ; 고정판
22 ; 수직지지대 23 ; 수평지지대
24 ; 웨이퍼지지대 25 ; 지지홈
30 ; 이송장치 31 ; 아암(Arm)
32 ; 수평이동부 33 ; 웨이퍼회전부
34 ; 회전이동부 35 ; 웨이퍼카세트엘리베이터
36 ; 웨이퍼보트이동장치 37 ; 웨이퍼보트수평이동부
38 ; 웨이퍼보트엘리베이터 40 ; 제어부

Claims (7)

  1. 웨이퍼가 위치하는 노(Furnace)의 내부로 공정가스를 주입하고 가열하여 상기 웨이퍼 상에 박막층을 형성하도록 상기 웨이퍼를 웨이퍼카세트로부터 상기 노의 내부로 이송하는 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템에 있어서,
    다수개의 웨이퍼가 수직축으로부터 일정각도로 각기 기울어진 상태로 수평 방향으로 나란하게 안착되는 웨이퍼보트;
    상기 웨이퍼카세트와 상기 웨이퍼보트 사이에서 상기 웨이퍼들을 각기 상기 일정각도만큼 기울인 상태로 이송하는 이송장치; 및
    상기 이송장치에 제어신호를 인가하여 상기 이송장치의 동작을 제어하는 제어부;
    를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 웨이퍼보트는,
    받침판;
    상기 받침판에 형성되어 있는 수직지지대;
    상기 받침판에 평행하여 형성되며 상기 수직지지대에 고정되어 있는 수평지지대;
    상기 수평지지대와, 상기 수직지지대에 각각 고정되어 형성되고, 상기 웨이퍼를 상, 하 및 후면에서 지지하는 웨이퍼지지대;
    각각의 상기 웨이퍼지지대에 형성되어 있는 지지홈; 및
    상기 수직지지대의 상부에서 상기 수직지지대와 결합하는 고정판;
    을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 지지홈은 상기 웨이퍼의 공정면이 지면을 기준으로 75°내지 80°의 각도를 이루며 하방을 향하여 기울어지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 상기 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 이송장치는,
    상기 웨이퍼를 진공으로 흡착하는 진공부를 구비하는 장축의 아암;
    상기 아암을 지면에 수평하여 직선이동시키는 수평이동부;
    상기 수평이동부를 축으로 상기 웨이퍼를 회전시켜 상기 웨이퍼가 일정각도로 기울어지게 하는 웨이퍼회전부; 및
    상기 수평이동부를 회전반경으로 하여 상기 웨이퍼를 180°회전시켜 이송하는 회전이동부;
    를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 웨이퍼카세트는 상기 웨이퍼카세트에 안착되어 있는 상기 웨이퍼들 사이의 피치만큼 상기 웨이퍼카세트를 상승 또는 하강시키는 웨이퍼카세트엘리베이터 상에 안착되도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 웨이퍼보트는 상기 웨이퍼보트를 이동시키는 웨이퍼보트이동장치 상에 안착되도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 웨이퍼보트이동장치는,
    상기 웨이퍼지지대에 형성된 상기 지지홈들 사이의 피치만큼 상기 웨이퍼보트를 좌우이동시키는 웨이퍼보트수평이동부; 및
    상기 수평지지대 사이의 간격만큼 상기 웨이퍼보트를 상승 또는 하강시키는 웨이퍼보트엘리베이터;
    를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 확산공정설비의 웨이퍼 이송시스템.
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