CN103265829A - 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置 - Google Patents

用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN103265829A
CN103265829A CN2012104360613A CN201210436061A CN103265829A CN 103265829 A CN103265829 A CN 103265829A CN 2012104360613 A CN2012104360613 A CN 2012104360613A CN 201210436061 A CN201210436061 A CN 201210436061A CN 103265829 A CN103265829 A CN 103265829A
Authority
CN
China
Prior art keywords
refractive
index layer
forming low
chemical formula
reflective film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2012104360613A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103265829B (zh
Inventor
孙晟豪
金润凤
张元硕
赵容均
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Innovation Co Ltd
Original Assignee
SK Innovation Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SK Innovation Co Ltd filed Critical SK Innovation Co Ltd
Publication of CN103265829A publication Critical patent/CN103265829A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103265829B publication Critical patent/CN103265829B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • C08F230/085—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon the monomer being a polymerisable silane, e.g. (meth)acryloyloxy trialkoxy silanes or vinyl trialkoxysilanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/38—Anti-reflection arrangements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31544—Addition polymer is perhalogenated
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
    • Y10T428/31612—As silicone, silane or siloxane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明提供用于低折射层的含有下面化学式1的含氟化合物的涂覆组合物、使用该组合物的抗反射膜，以及含有该抗反射膜的偏光片与图像显示装置，其中下述化学式1的含氟化合物具有低的折光率1.28-1.40，从而能够容易地调节抗反射膜的折光率，并且有效地用作抗反射膜的涂层材料，该反射膜具有优异的机械性能例如耐久性等。[化学式1]

Description

用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置
相关申请的交叉引用 
本申请根据美国法典第35章第119条(35U.S.C.§119)，要求于2011年11月4日在韩国知识产权局递交的韩国专利申请No.10-2011-0114392的优先权，该申请的内容以参阅的方式全文并入本文中。 
技术领域
本申请涉及用于低折射层的含有下面化学式1的含氟化合物的涂覆组合物、使用该组合物的抗反射膜，以及含有该抗反射膜的偏光片与图像显示装置，其中下述化学式1的含氟化合物具有低的折光率1.28-1.40，从而能够容易地调节抗反射膜的折光率，并且有效地用作抗反射膜的涂层材料，该反射膜具有优异的机械性能例如耐久性等； 
[化学式1] 
Figure BDA00002357736600011
背景技术
现代人已接触到各种显示器例如显像管，诸如监视器的阴极射线管(CRT)、电视的彩色显像管(CPT)，薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)偏光片、等离子显示板(PDP)滤光器、RPTS滤光器、移动电话的液晶、手表、照片和相框。在这些显示器暴露在光线例如自然光的情况下，反射光可能造成眼睛疲劳或头痛，眼睛可能无法清楚地聚焦于在显示屏上显示的图像，使得对比度可能会变差。为了解决这些问题，人们已经开展了形成抗反射膜的技术研究，采用形成在基底上的折射率低 于基底的折射率的膜的方法以减少反射。为了得到这样的抗反射功能，该抗反射膜具有如下结构，其中在玻璃、塑料膜上涂覆含有在其中应用了硬涂覆溶液的硬涂覆层、含有在其中应用了折光率为1.6或更高的涂覆溶液的高折射层，以及含有在其中应用了低折光率1.3-1.5的涂覆溶液的低折射层。近来，为了减少复杂的工艺，抗反射膜的结构已被改变为双层结构，其中低折射层被直接应用于硬涂覆层。除了低折光率外，该低折射层应具有诸如高可见光透光度、耐久性、抗污染、机械强度等物理性能。此外，同时，该低折射层应容易通过大规模涂覆方法，诸如卷筒涂覆法、凹版涂覆法、坡流涂覆法、喷涂法、丝网印刷法等进行涂覆，并且容易通过连续的固化方法例如紫外线固化法进行固化。 
作为用于抗反射的具有低折光率的基于氟的材料，日本公开专利公报No.1998-182745公开了通过聚合含有多功能的（multi-functional）含氟的(甲基)丙烯酸酯的单体组合物制得的具有低折光率的基于氟的材料。然而，对于含有氟烷基的丙烯酸酯，当氟的含量下降时，折光率可能下降，当氟的含量增高时，透明度可能变差。 
如上所述，相关现有技术中已经检验了作为用于低折射层的抗反射材料的多种基于氟的涂覆溶液组合物。然而，现有技术中仍需要具有低的折光率足以获得抗反射效果和使用单涂层来抵抗刮痕的机械强度的材料，以及使用该材料的涂覆方法。 
发明概述 
本发明的一个实施方案涉及提供一种用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物，该组合物作为一种具有低折光率的材料，足以获得抗反射的效果以及强的机械强度以使用单涂层来对抗刮痕，本发明的实施方案还涉及使用该组合物的抗反射膜以及含有该抗反射膜的偏光片和图像显示装置。 
在一个通常的方面，本发明提供用于低折射层的含有下面化学式 1的含氟化合物的涂覆组合物、使用该组合物的抗反射膜，以及含有该抗反射膜的偏光片与图像显示装置，其中下述化学式1的含氟化合物具有低的折光率1.28-1.40，从而能够容易地调节抗反射膜的折光率，并且有效地用作抗反射膜的涂层材料，该反射膜具有优异的机械性能例如耐久性等。 
[化学式1] 
Figure BDA00002357736600031
在化学式1中， 
R1-R4各自独立地为氢、(C1-C20)烷基、或(C6-C20)芳基，且R1和R2不同时为氢； 
m和n各自独立地为2-10的整数，A、B、D和E各自独立地为氢、氟或(C1-C4)烷基，前提是氟的含量占A、B、D和E的总原子含量的50%或更多，并且 
R1-R4的烷基和芳基可进一步被氟取代。 
化学式1的含氟化合物的折光率为1.28-1.40，优选低的折光率1.28-1.35，从而能够容易地调节抗反射膜的折光率，并且有效地用作抗反射膜的涂层材料，该反射膜具有优异的机械性能例如耐久性等。 
化学式1的含氟化合物的实例包括但不限于下面的化合物： 
Figure BDA00002357736600041
化学式1的含氟化合物通过使化学式2的氟化二烷基硅烷化合物、化学式3-1的酰氯化合物以及化学式3-2的酰氯化合物在脱氯化氢试剂存在下相互反应而制备。 
[化学式1] 
Figure BDA00002357736600042
[化学式2] 
Figure BDA00002357736600043
[化学式3-1] 
Figure BDA00002357736600044
[化学式3-2] 
Figure BDA00002357736600045
在这些化学式中，R1、R2、m、n、A、B、D和E各自具有与化学式1中相同的定义。 
在该方法中用作无水溶剂的有乙醚、四氢呋喃、二氯甲烷等，并且基于化学式2的氟化二烷基硅烷化合物，脱氯化氢试剂的用量为2.0-2.5当量。此外，用作脱氯化氢试剂的有吡啶、三乙胺等。反应温度可根据使用的溶剂而改变，但通常为0-25℃。反应时间可根据反应温度和所用溶剂而改变，但通常可为30分钟至6小时，优选2小时或更短。 
化学式2的氟化二烷基硅烷化合物通过两种方法制备：一种方法是通过使用镁作为催化剂在-78℃至25℃的温度下，使下面化学式4的硅烷化合物、化学式5-1的氟化溴代醇（bromoalcohol）化合物以及化学式5-2的氟化溴代醇（bromoalcohol）化合物与格氏试剂(Grignard reagent)反应；另一种方法是在(C1-C10)烷基锂存在下，在-78℃至25℃的温度下使化学式4的硅烷化合物、化学式5-1的氟化溴代醇化合物以及化学式5-2的氟化溴代醇化合物与阴离子试剂反应。 
[化学式2] 
Figure BDA00002357736600051
[化学式4] 
[化学式5-1] 
Figure BDA00002357736600053
[化学式5-2] 
在这些化学式中，R1、R2、m、n、A、B、D和E各自具有与化学式1中相同的定义。 
在该方法中，使用单独的溶剂例如乙醚、四氢呋喃、己烷、庚烷等以及至少两种溶剂互相混合的混合溶剂作为无水溶剂。基于化学式4的硅烷化合物，镁通常的用量为2.0-2.1当量。作为烷基锂有机金属试剂的有正丁基锂、仲丁基锂、叔丁基锂等。通常，基于化学式4的硅烷化合物，烷基锂有机金属试剂的用量为2.0-2.1当量。反应温度可根据所用溶剂而改变，但通常为-78℃至25℃。优选地，氯代锂取代反应在-78℃下进行，化学式5-1和5-2的氟化溴代醇化合物在-10℃至25℃下反应。反应时间可根据反应温度和所用溶剂而改变，但通常为30分钟至6小时，优选2小时或更短。 
化学式1的含氟化合物的含量为用于低折射层的涂覆组合物的总固体含量的1-50wt%（重量百分比）。在含量低于1wt%的情况中，难以获得抗反射效果，在含量高于50wt%的情况中，难以获得机械性能。因此，优选保持该含量范围。 
按照本发明示例性的实施方案，用于低折射层的涂覆组合物可包含化学式1的含氟化合物、具有丙烯酸不饱和基团的化合物、低折光率的颗粒和溶剂。 
更具体地，所述用于低折射层的涂覆组合物包含化学式1的含氟化合物、具有丙烯酸不饱和基团的化合物、低折光率的颗粒和溶剂，具有3-8wt%的固体含量，其中所述固体可含有1-50wt%的化学式1的含氟化合物，5-40wt%的具有丙烯酸不饱和基团的化合物以及1-60wt%的低折光率的颗粒。 
在用于低折射层的涂覆组合物的固体含量低于3wt%的情况下，固化过程可能消耗长时间且经济效益可能降低，在固体含量高于8 wt%的情况下，涂覆溶液的粘度增加，这样可能难以进行薄膜涂覆并且涂覆膜的平面化程度可能变差。具有丙烯酸不饱和基团的化合物用于提高固化层的固化程度。本文中，在该具有丙烯酸不饱和基团的化合物含量低于用于低折射层的涂覆组合物的固体含量的5wt%的情况下，固化该低折射层表面时可能存在问题，在含量高于40wt%的情况下，该低折射层的折光率升高，这样抗反射效果可能变差。具有丙烯酸不饱和基团的化合物可为(甲基)丙烯酸酯，在本发明中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸酯的具体实例包括乙基(甲基)丙烯酸酯、乙基己基(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。 
作为低折射的颗粒，可使用LiF、MgF、3NaF、AlF、Na3AlF6或具有真空区的中空二氧化硅。使用低折射的颗粒来降低折光率以提高抗反射特性和抗刮痕，所述颗粒可具有1nm-100nm的颗粒尺寸。在颗粒尺寸小于1nm的情况下，凝结（coagulation）现象可能增多，在颗粒尺寸大于100nm的情况下，由于白化现象，透明度可能降低。该低折射颗粒的含量可占用于低折射层的涂覆组合物的总固体含量的1-60wt%。当该低折射的颗粒的含量小于1wt%时，通过提高夹层粘附强度来提高抗刮痕的效果及抗反射的效果可能减弱，当该含量高于60wt%时，可见光透光率可能与所用颗粒的量成比例的略微降低。因此，可优选维持该含量范围。 
可不受限制地使用任何有机溶剂，只要该溶剂适于溶解所述固体成分。例如，可使用醇类、醋酸酯类、酮类或芳香溶剂。更具体地，可使用甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、2-异丙基乙醇、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲 乙酮、甲基异丁基酮、环己烷、环己酮、甲苯、二甲苯或苯等，以及可将其中至少两种混合应用。可加入溶剂使得用于低折射层的涂覆组合物的固体含量为3-8wt%。在固体含量小于3wt%的情况下，固化过程可能需要长时间，这样经济效益可能降低，在固体含量大于8wt%的情况下，涂覆溶液的粘度增加，这样薄膜涂覆可能变得困难并且涂覆膜的平面化可能变差。 
本发明的用于低折射层的涂覆组合物还可包括光引发剂，其中该光引发剂是紫外线可降解化合物，例如α-氨基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮、苄基二甲基缩酮、羟基二甲基苯乙酮、安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚、安息香丁醚等，而且基于100重量份的化学式1的含氟化合物，该光引发剂的含量可为1-20重量份。在光引发剂的含量低于1重量份的情况下，该较低涂覆组合物可能不会固化，在含量高于20重量份的情况下，由于涂覆组合物的过度固化，在低折射层中可能产生裂缝，这样抗裂痕与抗磨损性可能变差。 
此外，本发明的用于低折射层的涂覆组合物还可包括需要的添加剂，只要该添加剂是现有技术中常规使用的，任何添加剂都可应用而不受限制。例如，可使用光刺激剂、抗氧化剂、UV吸收剂、UV稳定剂、热稳定剂、热聚合抑制剂、均化剂、表面活性剂、润滑剂等。此外，添加剂的含量可在使涂覆组合物的性能不会变差的范围内。 
在另一个通常的方面，本发明提供由用于低折射层的含氟化合物的涂覆组合物制备的抗反射膜。该抗反射膜通过已知方法，采用用于低折射层的含氟化合物的涂覆组合物制备。 
在所述抗反射膜中，依次形成于透明基底上的硬涂覆层和低折射层可通过应用适于硬涂覆层的组合物以及本发明的适于较低折射层的涂覆组合物以合适的方法来形成，所述方法例如模具涂覆方法、气刀涂覆方法、逆转辊涂布方法、喷射涂布方法、叶片涂覆方法、铸造方法、凹版涂布和旋转涂布方法等。 
该抗反射膜可包括使用适于低折射层的涂覆组合物形成的低折射层，其具有这样的结构，在该结构中，低折射层独立地涂覆于透明基底上，或者硬涂覆层和低折射层顺序地涂覆在透明基底上。作为透明基底，只要该膜是透明的塑料膜，可使用任何膜，可优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或三乙酸纤维素膜。该透明基底膜可具有8-300μm的厚度，优选40-100μm。形成于透明基底上的低折射层的折光率在25℃可为1.28-1.40。当低折射层的折光率低于该范围时，抗反射效果可能降低，当低折射层的折光率高于该范围时，预定的颜色可能被反射光增强。除了优异的抗反射特性外，上述制备的抗反射膜具有优异的抗刮痕和粘附特性。 
在另一个通常的方面，提供含有该抗反射膜的偏光片。该偏光片不作具体限制，可使用多种偏光片。例如，作为偏光片，可以是通过使亲水的聚合物膜(例如聚乙烯醇膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物部分皂化膜（saponificated film）等)吸收碘或双色材料(例如双色染料)经单轴拉伸获得的膜，以及多烯定向膜例如聚乙烯醇的脱水材料或聚氯乙烯的脱氯化氢材料。在这些偏光片中，可优选由聚乙烯醇膜和诸如碘等的双色材料构成的偏光片。偏光片的厚度不作具体限制，通常可为约5-80μm。 
在另一个通常的方面，本发明提供包括该抗反射膜或在显示器上表面形成的偏光片的图像显示装置。例如，将本发明形成的具有抗反射膜的偏光片嵌入显示装置中，这样可制得多种具有优异可视性的显示装置。而且，本发明的抗反射膜可附于显示装置的窗口上。本发明的抗反射膜可优选应用于反射型液晶显示器(LCD)、穿透式LCD、半穿透式LCD或具有不同驱动方案的LCD，这些方案诸如扭曲向列型(TN)模式、超扭曲向列型(STN)模式、分支编码本(OCB)模式、混合对准向列(HAN)模式、垂直对齐(VA)模式、内启动开关(IPS)模式等。此外，本发明的抗反射膜可用于不同的显示装置，例如等离子显示器、 场发射显示器、有机电致发光(EL)显示器、无机EL显示器、电子纸等。 
具体实施方式
在下面的实施例以及对比例中，将详细描述本发明的效果。提供下面的实施例用于说明的目的，而不用来限制本发明的范围。 
[制备例1]含氟化合物的制备 
本发明的不同含氟化合物通过下面的第一和第二反应过程制备。 
<第一反应过程> 
在5L反应瓶中注入四氢呋喃(THF)，冷却至-78℃。然后将下表1中描述的5mol硅烷化合物(反应剂I)、5mol镁屑以及5mol氟化溴代醇化合物(反应剂II)依次放入反应瓶中，搅拌10min，然后将该混合物搅拌1.5小时，同时使温度缓慢升高至室温。搅拌完成后，通过将500g氢氯酸(HCl)溶解于1L水中然后将该溶解物质加入到反应瓶中终止反应，然后静置20min。当生成物分散入水中，THF层变得透明，在THF层完全蒸发后，通过柱层析分离和纯化产物即氟化二羟基硅烷化合物。下表1显示了每个制得的化合物的收率(56.6-66.7%)和1H NMR。 
[表1] 
Figure BDA00002357736600101
<第二反应过程> 
在3L反应瓶中，注入二氯甲烷(MC)，然后在室温下加入下表2中描述的3mol酰氯化合物(反应物III)以及3mol在第一反应过程中获得的物质，然后加入11mol三乙胺与上述混合物反应1h。当反应完成时，加水然后将生成物静置20min。当该生成物分散入水中，MC层变得透明，在MC层完全蒸发后，通过柱层析分离和纯化产物即氟化二烷基二丙烯酸硅烷化合物。收率为70.3-90.5%，各制得化合物的收率以及 1H NMR如下表2所示。各化合物的折光率通过使用589nm的D-光钨丝灯作为光源，经折射计(型号名称：2T，日本ATAGO ABBE)检测。各化合物的折光率为1.28-1.40，如表3所示。 
[表2] 
Figure BDA00002357736600121
[表3] 
Figure BDA00002357736600131
[实施例1]用于低折射层的涂覆溶液的制备 
将3g的含氟化合物(6)以及2.5g二季戊四醇六丙烯酸酯(NK化学公司，A-DPH)与224g的甲基异丁基酮(MIBK)混合，完全溶解，然后与6g中空的二氧化硅(JGCCC)混合。随后加入0.3g的α-氨基苯乙酮(BASF,Irgacure 907)作为光引发剂，由此制备用于低折射层的涂覆溶液。 
Figure BDA00002357736600132
[实施例2]用于低折射层的涂覆溶液的制备 
除了使用含氟化合物(4)以外，通过与实施例1相同的方法制备用于低折射层的涂覆溶液。 
[实施例3]用于低折射层的涂覆溶液的制备 
除了使用含氟化合物(7)以外，通过与实施例1相同的方法制备用于低折射层的涂覆溶液。 
Figure BDA00002357736600141
[实施例4]用于低折射层的涂覆溶液的制备 
除了使用含氟化合物(2)以外，通过与实施例1相同的方法制备用于低折射层的涂覆溶液。 
Figure BDA00002357736600142
[实施例5]抗反射膜的制作 
在将硬涂覆层和低折射层层压在厚度为80μm的透明三乙酸纤维素(TAC)膜表面的过程中，使用线锭将实施例1制备的用于低折射层的涂覆溶液以及硬涂覆溶液(Kyoeisha,HX-610UV)分别调整至120nm和5μm。在层压每一层后，通过独立的干燥和固化过程制作抗反射膜。干燥在90℃下进行1分钟，UV固化使用高压汞灯(120W/cm)进行10秒钟。 
[实施例6]抗反射膜的制作 
除了使用实施例2中制备的涂覆溶液以外，通过与实施例5相同的方法制备抗反射膜。 
[实施例7]抗反射膜的制作 
除了使用实施例3中制备的涂覆溶液以外，通过与实施例5相同的方法制备抗反射膜。 
[实施例8]抗反射膜的制作 
除了使用实施例4中制备的涂覆溶液以外，通过与实施例5相同的方法制备抗反射膜。 
[实验例1] 
测量制得的抗反射膜的平均反射比、透光度以及雾度（haze），结果如表4所示。 
1)反射比估计：将涂覆膜的背面变黑后，使用固体Spec 3700分光光度计(Shimadzu公司)测量反射比以估计最小反射比的值。 
2)透光度和雾度估计：按照JIS K7105标准，使用HM-150(Murakami公司)测量涂覆层的透光度和雾度。 
[表4] 
如表4所示，令人欣喜的是使用实施例1-4的用于低折射层的涂覆溶液制备的抗反射膜的平均反射比为1.1-1.3%，具有优异的抗反射效果。此外，氟含量越高，雾度可能越大。然而，使用实施例1-4的用于低折射层的涂覆溶液制备的抗反射膜的显示了低的雾度0.3-0.4%。除了氟化合物的种类外，实施例1-4的用于低折射层的涂覆溶液具有相同组成。结果，令人欣喜的是，作为必要成分包含于用于低折射层的涂覆组合物内的具有特殊结构的含氟化合物，其通过使用例如中空的二氧化硅等低折射材料来辅助抗反射效果。 
如上所述，本发明的用于低折射层的涂覆组合物包括含氟化合物，该化合物具有优异的光学性能例如低至1.28-1.40的折光率以及优异的机械性能，能够容易地调节抗反射膜的折光率。此外，使用用于 低折光率层的涂覆组合物制作的抗反射膜可具有优异的光学和机械性能，例如低的反射比和优异的可见光透光率。 

Claims (13)

1.一种用于低折射层的涂覆组合物，其含有化学式1表示的含氟化合物
[化学式1]
Figure FDA00002357736500011
在化学式1中，
R1-R4各自独立地为氢、(C1-C20)烷基或(C6-C20)芳基，且R1和R2不同时为氢；
m和n各自独立地为2-10的整数；
A、B、D和E各自独立地为氢、氟或(C1-C4)烷基，前提是氟含量占A、B、D和E的总原子含量的50%或更多；以及
R1-R4的烷基和芳基可进一步被氟取代。
2.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中化学式1的含氟化合物的含量占所述用于低折射层的涂覆组合物的总固体含量的1-50wt%。
3.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述组合物含有化学式1的含氟化合物、具有丙烯酸不饱和基团的化合物、低折光率的颗粒、光引发剂和溶剂。
4.根据权利要求3所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述具有丙烯酸不饱和基团的化合物的含量占所述用于低折射层的涂覆组合物的总固体含量的5-40wt%。
5.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述化学式1的含氟化合物的折光率为1.28-1.40。
6.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述化学式1的含氟化合物选自具有如下结构的化合物：
Figure FDA00002357736500021
7.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述组合物的折光率为1.28-1.4。
8.一种抗反射膜，其含有由权利要求1-7中任一项所述的用于低折射层的涂覆组合物制成的低折射层。
9.根据权利要求8所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜含有独立涂覆于透明基底上的低折射层。
10.根据权利要求8所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜含有依次涂覆于透明基底上的硬涂覆层以及低折射层。
11.一种偏光片，其含有权利要求8所述的抗反射膜。
12.一种图像显示装置，其含有在其上表面形成的权利要求8所述的抗反射膜。
13.一种图像显示装置，其含有在其上表面形成的权利要求11所述的偏光片。
CN201210436061.3A 2011-11-04 2012-11-05 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置 Active CN103265829B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2011-0114392 2011-11-04
KR1020110114392A KR101369381B1 (ko) 2011-11-04 2011-11-04 함불소 화합물을 포함하는 저굴절 코팅 조성물, 이를 이용한 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103265829A true CN103265829A (zh) 2013-08-28
CN103265829B CN103265829B (zh) 2016-07-06

Family

ID=47115546

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210436061.3A Active CN103265829B (zh) 2011-11-04 2012-11-05 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9023479B2 (zh)
EP (1) EP2589628A1 (zh)
JP (1) JP2013097385A (zh)
KR (1) KR101369381B1 (zh)
CN (1) CN103265829B (zh)
TW (1) TWI480347B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107406608A (zh) * 2015-08-11 2017-11-28 株式会社Lg化学 可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3555191A4 (en) 2016-12-15 2020-08-19 The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy SILYLIC ALCOHOLS AND AMINES FOR DUROPLASTS FOR DISMANTLING ON REQUEST
JP7105063B2 (ja) * 2017-12-21 2022-07-22 クラレノリタケデンタル株式会社 歯科材料に好適な重合性単量体及びそれを用いた歯科用組成物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0401990A2 (en) * 1989-06-07 1990-12-12 BAUSCH &amp; LOMB INCORPORATED Prepolymers useful in biomedical devices
CN101484541A (zh) * 2006-07-10 2009-07-15 Lg化学株式会社 Uv-可固化的减反射涂层组合物、使用该组合物的减反射涂层膜及其制备方法
CN101511955A (zh) * 2006-10-16 2009-08-19 第一毛织株式会社 用于低折射层的涂层组合物、使用其的抗反射膜以及包括所述抗反射膜的图像显示装置
CN101583490A (zh) * 2007-01-19 2009-11-18 3M创新有限公司 日光控制多层膜
KR20100121284A (ko) * 2009-05-08 2010-11-17 동우 화인켐 주식회사 저굴절층 형성용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름 및 이를 포함하는 화상 표시 장치

Family Cites Families (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2800494A (en) * 1954-10-22 1957-07-23 Dow Corning Unsaturated fluorocarbon silanes and their hydrolysis products
US2956044A (en) * 1956-08-06 1960-10-11 Dow Corning Acryloxymethylsilicon polymers
US2922806A (en) * 1957-02-01 1960-01-26 Dow Corning Preparation of acryloxyalkyl substituted siloxanes
US3427336A (en) * 1958-10-23 1969-02-11 Minnesota Mining & Mfg Fluorine containing organosilicon compounds and method of making
US3317369A (en) * 1961-04-07 1967-05-02 Dow Corning Acryloxyalkylsilane compositions and the fabrication of structures therewith
US3377371A (en) * 1964-09-03 1968-04-09 Dow Corning Tris-siloxy acrylic silanes
US3324074A (en) * 1965-01-06 1967-06-06 Monsanto Co Methacrylate polymers with fillers and coupling agents
US3700714A (en) * 1971-06-24 1972-10-24 Stephen B Hamilton Curable compositions
BE794485A (fr) * 1972-02-04 1973-05-16 Gen Electric Acryloxy et methacryloxy silanes et procede de fabrication
US3818064A (en) * 1973-08-31 1974-06-18 Dow Corning Low temperature fluorosilicone compositions
US4189546A (en) * 1977-07-25 1980-02-19 Bausch & Lomb Incorporated Polysiloxane shaped article for use in biomedical applications
US4486577A (en) * 1982-10-12 1984-12-04 Ciba-Geigy Corporation Strong, silicone containing polymers with high oxygen permeability
US4759991A (en) * 1984-03-06 1988-07-26 Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. Magnetic recording medium having a lubricating coating layer
US4605712A (en) * 1984-09-24 1986-08-12 Ciba-Geigy Corporation Unsaturated polysiloxanes and polymers thereof
JPS62294690A (ja) * 1986-06-13 1987-12-22 Agency Of Ind Science & Technol 新規ケイ素含有不飽和エステル化合物
JPS63145310A (ja) * 1986-12-06 1988-06-17 Agency Of Ind Science & Technol 光学用プラスチツク材料
US4810764A (en) * 1988-02-09 1989-03-07 Bausch & Lomb Incorporated Polymeric materials with high oxygen permeability and low protein substantivity
US5204441A (en) * 1990-03-12 1993-04-20 Fluorochem Inc. Polyfluorinated, branched-chain diols and diisocyanantes and fluorinated polyurethanes prepared therefrom
US5240774A (en) * 1990-10-25 1993-08-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Fluorocarbon-based coating film and method of manufacturing the same
US5158717A (en) * 1990-11-27 1992-10-27 Bausch & Lomb Incorporated Method of molding shaped polymeric articles
US5177165A (en) * 1990-11-27 1993-01-05 Bausch & Lomb Incorporated Surface-active macromonomers
US5219965A (en) * 1990-11-27 1993-06-15 Bausch & Lomb Incorporated Surface modification of polymer objects
US5135297A (en) * 1990-11-27 1992-08-04 Bausch & Lomb Incorporated Surface coating of polymer objects
FR2720744A1 (fr) * 1994-06-01 1995-12-08 Dow Corning Procédé de préparation de silanes fluorés inertes.
FR2739289B1 (fr) * 1995-09-29 1997-11-07 Oreal Composition cosmetique comprenant au moins un polymere silicone greffe et au moins une association d'un polymere anionique et d'un polymere cationique
FR2739285B1 (fr) * 1995-09-29 1997-11-07 Oreal Composition pour le traitement des matieres keratiniques comprenant au moins un polymere silicone greffe et au moins un polymere ou copolymere epaississant de (meth)acrylamide ou d'un derive de (meth)acrylamide et ses applications
FR2740032B1 (fr) * 1995-10-18 1997-11-21 Oreal Laque a l'eau pour le traitement des matieres keratiniques, conditionnee dans un dispositif aerosol, comprenant au moins un polymere silicone greffe et applications
JP3724144B2 (ja) 1996-09-17 2005-12-07 日本油脂株式会社 含フッ素単量体組成物及び減反射フィルム
US6323361B1 (en) * 1997-04-17 2001-11-27 Corning Inc. Photocurable halofluorinated acrylates
JP3875439B2 (ja) * 1999-01-25 2007-01-31 花王株式会社 フッ素変性シリコーン重合体
US6306563B1 (en) * 1999-06-21 2001-10-23 Corning Inc. Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
KR100522339B1 (ko) * 1999-12-16 2005-10-20 아사히 가세이 아이미 가부시끼가이샤 장기간 착용이 가능한 소프트 콘택트 렌즈
AU2001260143A1 (en) * 2000-03-24 2001-10-03 Novartis Ag Crosslinkable or polymerizable prepolymers
JP2002250807A (ja) * 2000-12-22 2002-09-06 Dainippon Printing Co Ltd レンズシート、それを用いたプロジェクションスクリーン、及びレンズシートの成形方法
US20020115820A1 (en) * 2001-01-25 2002-08-22 Fang Wang Hyperbranched fluorinated multifunctional alcohols and derivatives
US7078445B2 (en) * 2001-02-01 2006-07-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive acrylate composition and waveguide device
US6815074B2 (en) * 2001-05-30 2004-11-09 Novartis Ag Polymeric materials for making contact lenses
US6716534B2 (en) * 2001-11-08 2004-04-06 3M Innovative Properties Company Coating composition comprising a fluorochemical polyether silane partial condensate and use thereof
KR20030097532A (ko) * 2002-06-21 2003-12-31 한국화학연구원 불소화된 카보네이트기-함유 아크릴레이트 유도체 및 이를포함하는 중합성 조성물
US8158695B2 (en) * 2002-09-06 2012-04-17 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Forming clear, wettable silicone hydrogel articles without surface treatments
ATE532825T1 (de) * 2003-04-10 2011-11-15 Kaneka Corp Härtbare zusammensetzung
TWI265956B (en) * 2003-10-07 2006-11-11 Shinetsu Chemical Co Polymerizable fluorinated ester compounds and their preparing
US7247386B2 (en) * 2003-12-23 2007-07-24 3M Innovative Properties Company Composition of an oligomeric fluorosilane and surface treatment of retroreflective sheet
WO2006101218A1 (en) * 2005-03-22 2006-09-28 Fujifilm Corporation Antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP5050473B2 (ja) * 2005-09-28 2012-10-17 Ｊｎｃ株式会社 フッ素系重合体および樹脂組成物
US20070190008A1 (en) * 2005-12-20 2007-08-16 Catherine Campain Process for permanently reshaping the hair, comprising applying to the hair at least one precipitated fixing polymer, and multi-compartment device
US8686101B2 (en) * 2005-12-22 2014-04-01 Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. Coating liquid for forming low dielectric constant amorphous silica-based coating film and the coating film obtained from the same
US20070184002A1 (en) * 2006-01-20 2007-08-09 Sabine Vrignaud Non-washing cosmetic composition comprising at least one ionic fixing polymer and at least one ester of polyethylene glycol and of fatty acid, and method for fixing a hairstyle
JP2007233185A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Fujifilm Corp 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置
US8231218B2 (en) * 2006-06-15 2012-07-31 Coopervision International Holding Company, Lp Wettable silicone hydrogel contact lenses and related compositions and methods
US7540609B2 (en) * 2006-06-15 2009-06-02 Coopervision International Holding Company, Lp Wettable silicone hydrogel contact lenses and related compositions and methods
US20080004410A1 (en) * 2006-06-30 2008-01-03 Yu-Chin Lai Hydrophilic macromonomers having alpha,beta-conjugated carboxylic terminal group and medical devices incorporating same
US20080003252A1 (en) * 2006-06-30 2008-01-03 Yu-Chin Lai Functionalized hydrophilic macromonomers and medical devices incorporating same
US8058463B2 (en) * 2007-12-04 2011-11-15 E. I. Du Pont De Nemours And Compnay Fluorosilanes
US8153834B2 (en) * 2007-12-05 2012-04-10 E.I. Dupont De Nemours And Company Surface modified inorganic particles
US8030423B2 (en) * 2008-01-25 2011-10-04 Salamone Joseph C Multi-armed macromonomers
MX2010008174A (es) * 2008-02-08 2010-08-11 Asahi Kasei Aime Co Ltd Monomero de polisiloxano hidrofilico, metodo de produccion y aplicaciones del mismo.
WO2009132265A2 (en) * 2008-04-25 2009-10-29 The University Of North Carolina At Chapel Hill Degradable compounds and methods of use thereof, particularly with particle replication in non-wetting templates
JP4709256B2 (ja) * 2008-07-30 2011-06-22 信越化学工業株式会社 パーフルオロエーテル部含有ポリマー及び該ポリマーを含む面処理剤
BRPI1007675A2 (pt) * 2009-05-06 2019-09-24 3M Innovative Properties Co "dispositivo para inalação de insumos medicinais"
GB0917806D0 (en) * 2009-10-12 2009-11-25 Sauflon Cl Ltd Fluorinated silicone hydrogels
JP5654050B2 (ja) * 2010-02-04 2015-01-14 エルジー・ケム・リミテッド 新規のフッ素化化合物、これを含む組成物、これを利用した成形体、及び成形体の製造方法
FR2964565B1 (fr) * 2010-09-14 2012-09-07 Oreal Composition cosmetique comprenant un polymere fixant et un agent antipelliculaire
JP2012068490A (ja) * 2010-09-24 2012-04-05 Fuji Xerox Co Ltd 帯電部材、プロセスカートリッジおよび画像形成装置
CA2808462C (en) * 2010-10-06 2016-01-12 Novartis Ag Water-processable silicone-containing prepolymers and uses thereof
TWI506334B (zh) * 2011-02-28 2015-11-01 Coopervision Int Holding Co Lp 具有可接受程度之能量損失的聚矽氧水凝膠隱形眼鏡
JP5712100B2 (ja) * 2011-09-29 2015-05-07 富士フイルム株式会社 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、塗布組成物
US9523795B2 (en) * 2011-11-25 2016-12-20 Fujifilm Corporation Antistatic antireflection film, method for manufacturing antistatic antireflection film, polarizing plate and image display device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0401990A2 (en) * 1989-06-07 1990-12-12 BAUSCH &amp; LOMB INCORPORATED Prepolymers useful in biomedical devices
CN101484541A (zh) * 2006-07-10 2009-07-15 Lg化学株式会社 Uv-可固化的减反射涂层组合物、使用该组合物的减反射涂层膜及其制备方法
CN101511955A (zh) * 2006-10-16 2009-08-19 第一毛织株式会社 用于低折射层的涂层组合物、使用其的抗反射膜以及包括所述抗反射膜的图像显示装置
CN101583490A (zh) * 2007-01-19 2009-11-18 3M创新有限公司 日光控制多层膜
KR20100121284A (ko) * 2009-05-08 2010-11-17 동우 화인켐 주식회사 저굴절층 형성용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름 및 이를 포함하는 화상 표시 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107406608A (zh) * 2015-08-11 2017-11-28 株式会社Lg化学 可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜

Also Published As

Publication number Publication date
CN103265829B (zh) 2016-07-06
KR20130049392A (ko) 2013-05-14
EP2589628A1 (en) 2013-05-08
US20130302623A1 (en) 2013-11-14
KR101369381B1 (ko) 2014-03-06
JP2013097385A (ja) 2013-05-20
TWI480347B (zh) 2015-04-11
TW201323541A (zh) 2013-06-16
US9023479B2 (en) 2015-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7060333B2 (en) Phase difference plate comprising polymer film containing compound having rod-shaped molecular structure
CN103955013B (zh) 光学层积体、偏振片、图像显示装置及其制造方法和可见性改善方法
US6974608B2 (en) Cellulose ester film, cellulose ester dope, protective film of polarizing plate and polarizing plate
CN104178180B (zh) 一种具有大双折射率的向列相液晶材料及其应用
EP2735894B1 (en) Composition having superior fingerprint resistance for glare prevention coating and glare prevention film manufactured using same
CN102482534A (zh) 用于硬涂层的组合物、其制备方法和使用所述组合物制备的硬涂膜
TW201339628A (zh) 抗反射薄膜
CN103265829B (zh) 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置
CN102898817A (zh) 分散体及制备方法、含有该分散体的防静电硬涂层组合物、防静电薄膜、偏光板及显示装置
TW200525197A (en) Polarizing plate and liquid crystal display
CN102958963A (zh) 抗静电层用固化性树脂组合物、光学薄膜、偏振片以及显示面板
CN102792191B (zh) 防眩薄膜、具有该防眩薄膜的偏光板及显示装置
CN102557866B (zh) 液晶化合物、液晶组合物及包括该化合物或组合物的液晶显示器及光电装置
EP3436523B1 (en) Curable composition, cured product and optical member
KR101889981B1 (ko) 불소화 다이알킬 다이아크릴레이트 실란 화합물 및 이의 제조방법
KR100904037B1 (ko) 반사방지 코팅용 조성물 및 이를 이용한 반사방지 필름
CN100390580C (zh) 偏振片和液晶显示器
JP2016118616A (ja) 光学用透明樹脂組成物およびそれを用いた反射防止膜
CN113912496A (zh) 有反向波长色散性的化合物、含该化合物的组合物和光学膜
JP5353039B2 (ja) 液晶表示装置
JP2002098812A (ja) 光学フィルム及びそれを用いた光学用フィルム、液晶表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant