CN101583490A - 日光控制多层膜 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种多层膜制品。所述多层膜制品包括：具有第一类聚合物与第二类聚合物的交替层的红外光反射性多层膜、作为硬涂层组合物的反应产物的硬涂层，所述硬涂层组合物包含至少一种有机多烯键式不饱和化合物、至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物、红外光吸收性纳米粒子和聚合引发剂。所述硬涂层邻近所述多层膜设置。
Description
背景技术
本发明主要涉及日光控制多层膜。本发明更具体地讲涉及具有硬涂层的日光控制多层膜，所述硬涂层包含红外吸收性纳米粒子和赋予期望特性的至少一种含氟代硅氧烷的化合物。
染色的和真空镀膜的塑料薄膜已经应用于窗户，用以减少日光所致的热负荷。为了减少热负荷，可以阻挡日光光谱中的可见光或红外光部分(即，波长范围为400nm至2500nm或更大)的日光透射。
染色膜可以主要通过吸收来控制可见光的透射并因此而减少炫光。然而，染色膜通常不能阻挡近红外区的太阳能，因此作为日光控制膜并非完全有效。染色膜还常常会因日光暴晒而褪色。此外，当采用多种染料对膜染色时，各染料往往以不同的速度褪色，从而导致膜在使用期内出现不期望的变色。
其他已知的窗膜是采用诸如不锈钢、因科内尔镍合金、蒙乃尔合金、铬或镍铬合金之类的灰色金属真空沉积加工制成的。沉积的灰色金属膜对日光光谱的可见光部分和红外光部分提供大致相同的透射度。因此，在日光控制的方面，灰色金属膜比染色膜有所改进。当暴露于光、氧和/或水分时，灰色金属膜相对稳定，并且在涂层的透射率由于氧化而增加的这些情况下，通常察觉不到颜色的变化。在透明玻璃上涂覆之后，灰色金属阻挡的光透射与日光的反射和吸收量大致相等。
诸如银、铝和铜的真空沉积层主要通过反射来控制日光辐射，由于可见光反射率水平高，其只适用于有限数目的应用。通过诸如铜和银的某些反射性材料提供适度的选择性(即，可见光透射率高于红外透射率)。
需要得到这样的改进的日光控制膜，其可见光透射率高，基本上能阻挡红外辐射，并且具有所需的清洁和防刮擦特性。
发明内容
本发明包括一种制品，所述制品包括具有第一类聚合物与第二类聚合物的交替层的红外光反射性多层膜；和设置在所述多层膜上的硬涂层，其中所述硬涂层包含一种混合物的反应产物，所述混合物包含至少一种有机多烯键式不饱和化合物、至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物、红外光吸收性纳米粒子和至少一种聚合引发剂。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中
R1是单价烃有机基团；
R2是R1或者是烯键式或多烯键式不饱和基团Z；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
a是0至2000；
b是1至2000；
前提条件是a+b至少为5，并且至少两个所述R2基团是Z。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、Rf、Z、a和b的定义如上。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
(化学式III)，
其中R1、Rf、Z、a和b的定义如上；并且
c是2至2000，
前提条件是a+b+c至少为5。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、Z、a和b的定义如上；并且
c是2至2000，
前提条件是a+b+c至少为5。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、Rf、Z、a和b的定义如上；并且
c是2至2000，
前提条件是a+b+c至少为5。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[(Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH)2、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)或它们的组合。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4F9)O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH＝CH2)、(Me)3SiO-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C3H6NHC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(CH2CH2C(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(CH2CHMeC(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(C4F9CH2CH2)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH2CH2C4F9)或它们的组合。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
(化学式VI)，
其中R1是单价烃有机基团；
R3是H或R1；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
d是0至2000；
e是0至2000；
g是1至2000；
前提条件是d+e+g至少为5，并且至少两个所述R3基团是H。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、Rf、d和g的定义如上，前提条件是d+g至少为5。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、R5、Rf、d、e和g的定义如上。
前提条件是d+e+g至少为5。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、d、e和g的定义如上。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、Rf、d、e和g的定义如上。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-SiH(Me)2、(Et)2SiH-O-[Si(Et)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-SiH(Et)2、(Et)2SiH-O-[Si(Et)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-SiH(Et)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)2-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)2-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-SiH(Me)2、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(CH2C(H)(Me)C(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C3H6NHC(O)HFPO)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(C4F9CH2CH2)Si(Me)2-O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(H)-O]c-Si(Me)2(CH2CH2C4F9)或它们的组合。
本发明还包括具有硬涂层的制品，所述硬涂层是由硬涂层组合物形成，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、R2、R3、a、b、d、e和g的定义如上；并且
R7是R1或Rf，其中R1和Rf的定义如上，前提条件是至少一个R7是Rf，至少两个R2是Z，并且至少两个R3是H。
本发明还包括用于阻挡来自红外光源的红外光的光控制制品，所述制品包括具有第一类聚合物与第二类聚合物的交替层的红外光反射性多层膜、设置在所述多层膜上的硬涂层，其中所述硬涂层包含硬涂层组合物的反应产物，所述硬涂层组合物包含至少一种有机多烯键式不饱和化合物、至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物、红外光吸收性纳米粒子和至少一种聚合引发剂；以及邻近所述红外光反射性多层膜设置的基底。
附图说明
结合附图，考虑以下对本发明的多个实施例的详细描述，可以更全面地理解本专利申请，其中：
图1是多层膜的透视图；
图2示意性地示出日光控制多层膜制品的实施例；并且
图3示意性地示出日光控制多层膜制品的另一实施例。
图4示出具有根据本发明实施例形成的带硬涂层的光学显示器的制品。
虽然本发明可具有多种修改形式和替代形式，但其具体形式已经在附图中以举例的方式示出，并且将进行详细的描述。然而应当理解，其目的不是要将本发明限制于所描述的具体实施例。相反，其目的在于涵盖属于本发明的实质和范围内的所有修改形式、等同形式和替代形式。
具体实施方式
日光控制多层膜被认为可应用于需要进行日光控制的多种应用中，包括例如建筑和运输应用。在一些实施例中，日光控制多层膜制品包括设置在红外反射多层膜上的红外吸收性纳米粒子层。在其他实施例中，日光控制多层膜制品包括设置在红外吸收性纳米粒子层与粘合剂层之间的红外反射多层膜。可以将日光控制膜粘附至光学基底，例如玻璃基底。通过这些实例以及下面讨论的实例可了解所公开的日光控制多层膜的适用性，但不应从限制性的意义上进行理解。
术语“聚合物”或“聚合物的”将被理解为包括聚合物、共聚物(如由两种或更多种不同单体形成的聚合物)、低聚物以及它们的组合，以及聚合物、低聚物或共聚物。除非另外指明，嵌段共聚物和无规共聚物均包括在内。
如本文所用，“含氟代硅氧烷的化合物”或“含氟代硅氧烷的添加剂”；或“具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物”或“具有氟代烷侧基的硅氧烷添加剂”可以指一种具体的化合物，或者指两种或更多种化合物的混合物。
除非另有说明，否则“HFPO-”指甲酯F(CF(CF3)CF2O)yCF(CF3)C(O)OCH3的端基F(CF(CF3)CF2O)yCF(CF3)-，其中“y”平均为2至15。在一些实施例中，y的平均值介于3至10之间，或者y的平均值介于5至8之间。这种物质通常以具有一系列y值的低聚物的分布或混合物的形式存在，这样y的平均值可以是非整数。在一个实施例中，y的平均值为6.2。这种甲酯的平均分子量为1,211g/mol，并且可以根据美国专利No.3,250,808(Moore等人)中报道的方法制备，通过分馏进行纯化。
除非另外指明，在所有情况下，说明书和权利要求书中用来表述特征尺寸、数量和物理特性的所有数字均应理解为由术语“约”来修饰。因此，除有相反的指示外，在前述的说明书和所附权利要求中给出的数值参数均为近似值，这些近似值可能会根据本领域技术人员利用本文所公开的教导内容寻求获得的所需特性而有所不同。
术语“硬树脂”或“硬涂层”表示对所得的固化聚合物按ASTMD-882-91方法进行评价时，显示的断裂伸长率小于50％、或40％、或30％、或20％、或10％、或5％。在一些实施例中，当根据ASTM D-882-91方法评价时，硬树脂聚合物可显示出大于100kpsi(6.89×108帕斯卡)的拉伸模量。在一些实施例中，当根据ASTM D 1044-99使用泰伯(Taber)磨耗试验机在500g的负荷和50次循环下测试时，硬树脂聚合物可显示具有小于10％或小于5％的雾度值(雾度的测量可以使用马里兰州毕克-加特纳公司(BYK-Gardner，MD)的Haze-Gard Plus雾度计)。
就硬涂层组合物所用的特定组分的“重量百分比”或“重量％”是指在已将溶剂从硬涂层组合物中移除之后，但在硬涂层组合物被固化以形成硬涂层之前，硬涂层组合物中特定组分的量(按重量计)。
术语“邻近”指一个元件接近另一个元件，包括元件彼此接触，还包括元件被设置在元件之间的一个或多个层隔开的情况。
术语“光学显示器”或“显示器面板”可以指任何常规的光学显示器，包括(但不限于)多字符多线显示器，例如液晶显示器(“LCD”)、等离子显示器、前投和背投显示器、阴极射线管(“CRT”)和标牌，以及单字符或二进制显示器，例如发光二极管(“LED”)、信号灯及开关。这种显示器面板的暴露表面可称为“透镜”。本发明特别适用于具有观测表面的显示器，所述观测表面易被油墨笔、记号笔和其他标记设备、抹布、纸条等触碰或接触。
由端点表述的数值范围包括归入该范围内的所有数值(如，1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4和5)以及在此范围内的任何范围。
本说明书以及所附权利要求中所用的单数形式“一”、“一个”和“所述”包括复数个指代物，除非上下文明确指出另外的情形。因此，举例来说，提及含有“纳米粒子层”的组合物包括两个或更多个纳米粒子层。本说明书和所附权利要求中使用的术语“或”的含义通常包括“和/或”，除非上下文明确指出另外的情形。
本文的公开内容主要描述包括设置在聚合物多层膜上的红外吸收性纳米粒子层的多层膜。在许多实施例中，红外光反射性多层膜具有第一类聚合物与第二类聚合物交替的层，并且红外光吸收性纳米粒子层邻近该多层膜。所述纳米粒子层包括多个金属氧化物纳米粒子。在一些实施例中，多层膜邻近诸如玻璃的光学基底设置，从而形成日光控制制品。在一些实施例中，多层膜的平均可见光透射率为至少45％，对于波长780nm至2500nm光的平均红外透射率小于15％。
图1示出多层光学膜20。该膜包括单独的层22、24。各层具有不同的折射率特性，从而使一些光在相邻层间的界面处被反射。这些层足够薄，从而使多个界面处的反射光发生相长干涉或相消干涉，以便使膜具有所需的反射或透射特性。对于设计用于反射紫外、可见或近红外波长光的光学膜而言，每层的光学厚度(即，物理厚度乘以折射率)通常小于约1微米。然而也可以包括更厚的层，例如膜外表面的表层或设置在膜内分隔层组件的保护性边界层。
多层光学膜20的反射和透射特性为各层(即，微层)的折射率的函数。至少可以在膜的局部位置用面内折射率nx、ny和与膜厚度轴相关的折射率nz对每一层进行表征。这些折射率分别表示所讨论的材料对沿互相垂直的x、y和z轴偏振的光的折射率(参见图1)。在实施过程中，通过审慎的材料选择及加工条件来控制折射率。膜20可通过以下方式制成：共挤出通常有数十或数百层的两种交替的聚合物A、B，之后可任选地使此多层挤出物通过一个或多个倍增模具，然后对该挤出物进行拉伸或以其他方式取向，从而形成最终的膜。所得的膜由通常数十或数百个单独的层构成，这些单独层的厚度和折射率是受调控的，以在诸如可见光、近红外和/或红外之类的所需光谱区域内提供一个或多个反射谱带。为了用适当的层数获得高反射率，相邻的层对沿x轴偏振的光可显示出至少0.05的折射率差(Δnx)。在一些实施例中，如果期望对两种正交偏振状态的光具有高反射率，则相邻的层对沿y轴偏振的光也要显示出至少0.05的折射率差(Δny)。在其他实施例中，折射率差值Δny可以小于0.05或0，以形成这样一种多层叠堆，该多层叠堆反射某一个偏振态的垂直入射光，并且透射垂直偏振态的垂直入射光。
根据需要，相邻层之间对沿z轴偏振的光的折射率差(Δnz)也可以受到调控，从而对倾斜入射光的p偏振分量获得期望的反射特性。为便于解释，在多层光学膜上的任何关注点处，x轴都被视为是在膜的平面内取向的，从而使Δnx的量值为最大值。因此，Δny的量值可以等于或小于(但不大于)Δnx的量值。此外，必须以Δnx是非负值为条件来选择从哪一材料层开始计算差值Δnx、Δny、Δnz。换句话讲，形成交界的两层之间的折射率差值为Δnj＝n1j-n2j，其中j＝x、y或z，并且其中选择层的标号1、2，使得n1x≥n2x，即，Δnx≥0。
为了维持对以倾斜角度入射的p偏振光的高反射率，可以将各层间的z轴折射率失配量Δnz控制为基本上小于最大面内折射率差Δnx，从而使Δnz≤0.5*Δnx。在一个实施例中，Δnz≤0.25*Δnx。零或接近零量值的z轴折射率失配产生的层间界面对p偏振光的反射率随入射角的变化为常数或接近常数。此外，可以控制z轴折射率失配量Δnz，使之与面内折射率差Δnx相比正负性相反，即Δnz＜0。这种条件下产生的界面对p偏振光的反射率随入射角的增加而增大，如同对s偏振光的情形一样。
多层光学膜已经在(例如)以下文献中描述过：美国专利3,610,724(Rogers)；美国专利3,711,176(Alfrey，Jr.等人)，“Highly ReflectiveThermoplastic Optical Bodies For Infrared，Visible or Ultraviolet Light”(对红外、可见或紫外光具有高反射性的热塑性光学本体)；美国专利4,446,305(Rogers等人)；美国专利4,540,623(Im等人)；美国专利5,448,404(Schrenk等人)；美国专利5,882,774(Jonza等人)“Optical Film”(光学膜)；美国专利6,045,894(Jonza等人)“Clearto Colored Security Film(透明至彩色安全膜)”；美国专利6,531,230(Weber等人)“Color Shifting Film”(色移膜)；PCT公开WO99/39224(Ouderkirk等人)“Infrared Interference Filter”(红外干涉滤波器)；和美国专利公开2001/0022982 A1(Neavin等人)“ApparatusFor Making Multilayer Optical Films”(制备多层光学膜的设备)；这些专利均以引用方式并入本文。在这种聚合物多层光学膜中，在各单层的构成中主要或单独地使用聚合物材料。这种膜可以与高产量制造工艺兼容，并且可以制成大型薄片和卷筒物品。
可以由交替类聚合物层的任意适用的组合形成多层膜。在许多实施例中，交替聚合物层中的至少一个是双折射的和取向的。在一些实施例中，交替的聚合物层中的一者是双折射的和取向的，而交替的聚合物层中的另一者是各向同性的。在一个实施例中，多层光学膜由第一类聚合物与第二类聚合物的交替层形成，所述第一类聚合物包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚对苯二甲酸乙二醇酯的共聚物(coPET)，所述第二类聚合物包括聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)或聚(甲基丙烯酸甲酯)的共聚物(coPMMA)。在另一个实施例中，多层光学膜由第一类聚合物与第二类聚合物的交替层形成，所述第一类聚合物包括聚对苯二甲酸乙二醇酯，所述第二类聚合物包括聚(甲基丙烯酸甲酯-共-丙烯酸乙酯)的共聚物。在另一个实施例中，多层光学膜由第一类聚合物与第二类聚合物的交替层形成，所述第一类聚合物包括二醇化聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG-对苯二甲酸乙二醇酯和第二个二醇部分(例如环己烷二甲醇)的共聚物)或二醇化聚对苯二甲酸乙二醇酯的共聚物(coPETG)，所述第二类聚合物包括聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚萘二甲酸乙二醇酯的共聚物(coPEN)。在另一个实施例中，多层光学膜由第一类聚合物与第二类聚合物的交替层形成，所述第一类聚合物包括聚萘二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯的共聚物，所述第二类聚合物包括聚(甲基丙烯酸甲酯)或聚(甲基丙烯酸甲酯)的共聚物。交替类聚合物层的适用组合公开在US 6,352,761和US6,797,396中，这些专利以引用的方式并入本文。
图2示意性地示出了日光控制多层膜制品的实施例100。膜100包括红外光反射性多层膜110，其具有如上所述的第一类聚合物与第二类聚合物的交替层。邻近多层膜110设置红外光吸收性硬涂层120(本文中也简称为“硬涂层”)。粘合剂层130设置在多层膜110上。剥离层或基底140设置在粘合剂层130上。可以邻近多层膜110设置可选的第二硬涂层150。
在许多实施例中，膜100包括如上所述具有第一类聚合物与第二类聚合物的交替层的红外光反射性多层膜110，并且邻近所述多层膜110设置硬涂层120。在一些实施例中，硬涂层120包含分散在固化的聚合物粘合剂内的金属氧化物。在一些实施例中，硬涂层120的厚度范围是1至20微米、或1至10微米或1至5微米。粘合剂层130设置在多层膜110上。剥离层或光学基底140设置在粘合剂层130上。
图3示意性地示出日光控制多层膜制品的另一实施例200。膜200包括如上所述具有第一类聚合物与第二类聚合物的交替层的红外光反射性多层膜210。邻近多层膜210设置红外光吸收性硬涂层220。可选的中间粘合剂层270设置在硬涂层220与多层膜210之间。粘合剂层230设置在多层膜210上。剥离层或光学基底240可以设置在压敏粘合剂层230上。邻近多层膜210可以设置可选的第二硬涂层250。在可选的第二硬涂层250与中间粘合剂层270之间设置可选的中间聚合物层260。
以上多层膜制品构造可提供改进的日光控制膜制品。在一些实施例中，多层膜制品的平均可见光(400至780nm)透射率为至少45％，对780nm至2500nm光的平均红外光透射率小于10％或小于15％。在一些实施例中，多层膜制品的平均可见光透射率为至少60％，对基本上所有在950nm至2500nm之间的波长而言，红外光透射率为20％或更低。在一些实施例中，对于780至1200nm之间的波长，多层膜制品的平均光反射率为50％或更高，而对于1400至2500nm之间的波长，平均光透射率为50％或更低。在另外的实施例中，对于780至1200nm之间的波长，多层膜制品的平均光反射率为80％或更高，而对于1400至2500nm之间的波长，平均光透射率为20％或更低。在又一些实施例中，对于780至1200nm之间的波长，多层膜制品的平均光反射率为90％或更高，而对于1400至2500nm之间的波长，平均光透射率为5％或更低。
在一个实施例中，硬涂层的水静态接触角大于70度。在另一个实施例中，硬涂层的水静态接触角大于90度。在又一个实施例中，硬涂层的水静态接触角大于100度。在本发明的一个实施例中，硬涂层的十六烷(油)静态接触角大于50度。
在一个实施例中，低表面能(如抗污、耐渍、斥油和/或斥水性)与耐久性(如耐磨性)的组合是硬涂层的期望特性。在一些实施例中，硬涂层还可以起到在提高耐久性和光学清晰度的同时减少眩光损耗的作用。
可以通过多种方法来表征表面能，例如接触角和斥墨性，如按实例中所述的测试方法确定。在这种应用中，“斥污性”是指显示出至少70度的水静态接触角的表面处理。在一个实施例中，接触角为至少80度，而在另一个实施例中为至少90度。作为另外一种选择或除此之外，十六烷静态接触角为至少40度，在另一个实施例中为至少50度，在又一实施例中为至少60度。低表面能可形成抗垢去污性能，并使外露的表面易于清洗。低表面能的另一种表征涉及当将钢笔或记号笔中的墨水施加于暴露表面时墨水聚集的程度。当钢笔和记号笔中的墨水聚集成离散的小滴并且可以通过用薄纸或纸巾(例如可以商品名“SURPASS FACIAL TISSUE”购自Kimberly Clark Corporation，Roswell，GA(佐治亚州罗斯韦尔市的金百利克拉克公司)的薄纸)擦拭暴露表面来轻易地除去时，表面层和制品显示具有“斥墨性”。
可以根据耐溶剂性测试和耐磨性测试的组合结果定义耐久性，这些测试采用以商品名“#0000-Super-Fine”购自美国罗德斯(Rhodes-American)(Homax Products，Bellingham，Washington(华盛顿州贝灵汉市的鸿迈公司)的分公司)的钢丝绒，对触针施加500克的重量，并且刮擦300次，如实例中所述。
上述粘合剂层130可以包含能够将日光控制多层膜附连到基底上的任何类型的粘合剂。为了把日光控制膜附连至玻璃，用粘合剂涂覆日光控制膜的一个表面，在将薄膜施加至基底之前从粘合剂层移除剥离片材。可将紫外光吸收添加剂掺入到粘合剂层中。
在一个实施例中，包含在粘合剂层130中的粘合剂为压敏粘合剂(PSA)。在另一个实施例中，粘合剂为湿固化性粘合剂。在使用PSA的实施例中，PSA为光学透明的PSA膜，例如聚丙烯酸酯压敏粘合剂。压敏胶带协会(Pressure-Sensitive Tape Council)将压敏粘合剂定义为具有以下性质的材料：(1)强力而持久的粘着力；(2)在压力不超过指压的条件下即可粘结；(3)足以保持在附着物上的能力；(4)足够的内聚强度；以及(5)无需通过能量源活化。PSA在组装温度下通常是发粘的，该温度通常为室温或更高(即，约20℃至约30℃或更高)。已发现的非常适合用作PSA的材料为经设计和配制成显示具有必需的粘弹性的聚合物，从而使得在组装温度下粘性、剥离附着力和剪切保持力之间达到所需平衡。制备PSA最常用的聚合物为基于天然橡胶、合成橡胶(如苯乙烯/丁二烯共聚物(SBR)和苯乙烯/异戊二烯/苯乙烯(SIS)嵌段共聚物)、硅氧烷弹性体、聚α-烯烃和各种(甲基)丙烯酸酯(如丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯)的聚合物。在这些聚合物中，基于(甲基)丙烯酸酯的聚合物的PSA逐渐成为可用于本发明的一类PSA，这是由于其具有光学清晰度、随时间推移的特性持久性(老化稳定性)以及粘合力水平的多样性的原因，这些仅是其中的几个优点。
上述隔离衬片可以由任何适用的材料形成，例如聚合物或纸张，并且可以包括防粘涂层。用于防粘涂层的合适材料包括(但不限于)含氟聚合物、丙烯酸类树脂和硅氧烷，这些材料被设计成便于将隔离衬片从粘合剂上剥离。
上述基底可以由任何适用的材料形成，并且在许多实施例中为光学基底。在一些实施例中，基底由聚合物材料形成，例如三乙酸纤维素、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚丙烯或聚对苯二甲酸乙二醇酯。在其他实施例中，基底由无机材料形成，例如石英、玻璃、兰宝石、钇铝石榴石(YAG)或云母。基底可具有任意的适用厚度。在一个实施例中，基底为汽车玻璃或建筑玻璃。在一些实施例中涉及将透明的玻璃基底用作窗系统，在TVIS为70％或更大的条件下，窗系统的遮阳系数为0.68或更小、0.6或更小、0.55或更小、0.50或更小。
在加工以及最终产品的使用过程中，硬涂层可提高基底的耐久性。硬涂层可以包含任何适用的材料，例如基于二氧化硅的硬涂层、硅氧烷硬涂层、三聚氰胺硬涂层、丙烯酸类树脂硬涂层等。硬涂层可以具有任意的适用厚度，例如1至20微米、1至10微米或1至5微米。
所述硬涂层包含一种混合物的反应产物，所述混合物包含至少一种有机多烯键式不饱和化合物；至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物；红外光吸收性纳米粒子；和至少一种聚合引发剂。该混合物在本文中可称为“硬涂层组合物”。
所述硬涂层组合物包含至少一种具有两个或更多个烯键式不饱和可聚合基团的有机多烯键式不饱和组分。多烯键式不饱和组分由化学式R4(Z′)j表示，其中R4是j价的有机部分，j至少是2，并且Z′是烯键式不饱和的可聚合基团，其与所述具有氟代烷侧基的硅氧烷的所述烯键式或多烯键式不饱和基团反应。在一个实施例中，R4部分是烃基(只含碳和氢)，而在另一个实施例中，R4部分是直链、支链、环状或无环的非氨基甲酸酯脂族基团。
烯键式不饱和基团Z′可以包括：链烯基，如乙烯基、烯丙基和丁烯基；炔基，如乙炔基、丙炔基和丁炔基；乙烯氧基亚烷基(如CH2＝CHO-CrH2r-)、烯丙氧基亚烷基(如CH2＝CHCH2O-CrH2r-)和(甲基)丙烯酰基(如CH2＝CR”CO2-CrH2r-，R”＝H、C1-C4烷基、F及其氮类似物)，其中r是1至12的整数。在一个实施例中，多烯键式不饱和化合物的Z′基团是(甲基)丙烯酰基。
多种(甲基)丙烯酰基化合物可用于涂层组合物中，例如含二(甲基)丙烯酰基的化合物，如二丙烯酸-1，3-丁二醇酯、二丙烯酸-1，4-丁二醇酯、二丙烯酸-1，6-己二醇酯、1，6-己二醇单丙烯酸酯单甲基丙烯酸酯、二丙烯酸乙二醇酯、烷氧基化的脂族二丙烯酸酯、烷氧基化的环己烷二甲醇二丙烯酸酯、烷氧基化的己二醇二丙烯酸酯、烷氧基化的新戊二醇二丙烯酸酯、己内酯改性的新戊二醇羟基特戊酸酯二丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、二丙烯酸二乙二醇酯、二丙烯酸二丙二醇酯、乙氧基化(10)双酚A二丙烯酸酯、乙氧基化(3)双酚A二丙烯酸酯、乙氧基化(30)双酚A二丙烯酸酯、乙氧基化(4)双酚A二丙烯酸酯、羟基特戊醛改性的三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、二丙烯酸新戊二醇酯、聚乙二醇(200)二丙烯酸酯、聚乙二醇(400)二丙烯酸酯、聚乙二醇(600)二丙烯酸酯、丙氧基化的新戊二醇二丙烯酸酯、二丙烯酸四乙二醇酯、三环葵烷二甲醇二丙烯酸酯、二丙烯酸三乙二醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯；含三(甲基)丙烯酰基的化合物，如三丙烯酸甘油酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化的三丙烯酸酯(如，乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(20)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)、季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧基化的三丙烯酸酯(如，丙氧基化(3)三丙烯酸甘油酯、丙氧基化(5.5)三丙烯酸甘油酯、丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯；含更高官能度的(甲基)丙烯酰基的化合物，如双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、乙氧基化(4)四丙烯酸季戊四醇酯、己内酯改性的六丙烯酸二季戊四醇酯；低聚(甲基)丙烯酰基化合物，例如聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯；前述物质的聚丙烯酰胺类似物；以及它们的组合。
上述化合物可广泛地得自许多供应商，例如Sartomer Company，Exton，PA(宾夕法尼亚州埃克斯顿的沙多玛公司)；UCB ChemicalsCorporation，Smyrna，GA(乔治亚州士麦那市的UCB化学品公司)；和Aldrich Chemical Company，Milwaukee，WI(威斯康星州密尔沃基的奥尔德里奇化学公司)。另外适用的(甲基)丙烯酸酯材料包括含乙内酰脲部分的聚(甲基)丙烯酸酯，例如如美国专利No.4,262,072(Wendling等人)中所述。
示例的市售(甲基)丙烯酰基化合物包括可得自宾夕法尼亚州埃克斯顿的沙多玛公司的那些，例如以商品名“SR306”购得的二丙烯酸三丙二醇酯、以商品名“SR351”购得的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、以商品名“SR444”购得的季戊四醇三丙烯酸酯、以商品名“SR399LV”购得的双季戊四醇五丙烯酸酯、以商品名“SR454”购得的乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和以商品名“SR494”购得的乙氧基化(4)季戊四醇三丙烯酸酯，以及它们的组合。
虽然对于某些应用来说，低至5重量份的至少一种有机多烯键式不饱和组分(相对于100重量份的所述至少一种有机多烯键式不饱和化合物和所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷)便可以得到适当的耐久性，但特别是因为这些化合物通常比氟化化合物便宜，所以通常使浓度最大化。因此，本文所述的涂层组合物通常包含大于50重量份的非氟化有机多烯键式不饱和化合物。在一些具体实施中，非氟化有机多烯键式不饱和化合物的总量在构成硬涂层的硬涂层组合物中可以占到大于60重量份、至少70重量份、至少80重量份、至少90重量份、甚至约99.5重量份。
作为另外一种选择，多烯键式不饱和组分可以包括表面官能化的无机粒子，在一个实施例中为具有多个多烯键式不饱和基团的纳米粒子(平均粒度小于100纳米)。可以由包括以下物质的组中的胶体材料制备这些粒子及纳米粒子：二氧化硅、氧化锌、二氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化钒、氧化铬、氧化铁、氧化锑、氧化锡、其他胶体金属氧化物，以及它们的混合物，对它们进行官能化，使得(a)粒子分散在可固化组合物中，并且(b)附连到粒子上的烯键式不饱和基团能够聚合；这些粒子可以包含基本上单一的氧化物，如二氧化硅，或者可以包含一种类型氧化物的芯(或材料的芯)，在其上沉积另一种类型的氧化物。粒子的平均粒径可以为5至约1000nm，在一个实施例中小于100nm，在另一个实施例中为10至50nm。可以通过使用透射电子显微镜对给定直径的粒子数目进行计数来测定平均粒度。合适的胶态二氧化硅的另外的例子描述于美国专利No.5,126,394中，该专利以引用的方式并入本文。
这种粒子描述于U.S.6,353,037和6,462,100(Thunhorst等人)以及U.S.6,329,058(Arney等人)中，上述专利以引用的方式并入本文。其他适用的表面改性粒子描述于公布的专利申请US 2002/0128336(Baran等人)中，该申请以引用的方式并入本文。
在一个实施例中，所述粒子为(甲基)丙烯酰基官能化的无机粒子，即用多个(甲基)丙烯酰基官能化的无机粒子。典型的是，通过把甲硅烷基丙烯酸酯加入水基胶态二氧化硅中来对二氧化硅粒子进行官能化。丙烯酸酯官能化的胶态二氧化硅的例子描述于授予Olsen等人的U.S.4,491,508和4,455,205；授予Chung的U.S.4,478,876和4,486,504；以及授予Katsamberis的U.S.5,258,225中，所有这些专利均以引用的方式并入本文。
多烯键式不饱和无机粒子可以取代全部或部分的有机多烯键式不饱和化合物，即，硬涂层组合物可以包含具有氟代烷侧基的硅氧烷、多烯键式不饱和官能化粒子组分、红外吸收性纳米粒子和聚合引发剂。一般来讲，烯键式不饱和组分(无论是有机化合物还是表面官能化的无机粒子组分，或它们的组合)的总量大于50重量份，即51至99.95重量份。
反应产物为硬涂层的硬涂层组合物还包含至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物。
在一个实施例中，具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物可以由以下化学式表示：
其中
R1是单价烃有机基团；
R2是R1或者是烯键式或多烯键式不饱和基团Z；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
a是0至2000；
b是1至2000，
前提条件是a+b至少为5，并且其中至少两个所述R2基团是烯键式不饱和基团Z。
相对于化学式I，氟代烷基硅氧烷可以包括具有至少两个烯键式不饱和端基的化合物，由如下化学式II表示：
其中R1、Z、Rf、a和b的定义如上。
具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物还可以用如下化学式III表示：
其中R1、Z、Rf、a和b的定义如上；并且
c是2至2000，前提条件是a+b+c至少为5。
具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物还可以由如下化学式IV表示：
其中R1、Z、Rf、a、b和c的定义如上。
具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物还可以由如下化学式V表示：
其中R1、Z、Rf、a、b和c的定义如上。
在另一个实施例中，具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物可以由如下化学式VI表示：
其中R1和Rf的定义如上；并且
R3是H或R1；
d是0至2000；
e是0至2000；并且
g是1至2000，前提条件是d+e+g至少为5，并且至少两个R3是H。
本发明还包括具有由硬涂层组合物形成的硬涂层的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1、Rf、d和g的定义如上，前提条件是d+g至少为5。
具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物还可以由如下化学式VII表示：
其中R1、Rf、d、e和g的定义如上，前提条件是d+e+g至少为5。
具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物还可以由化学式VIII表示：
其中R1、Rf、d、e和g的定义如上。
具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物还可以由化学式IX表示：
其中R1、Rf、d、e和g的定义如上。
所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物也可以包含不止一种化合物。在一个实施例中，在存在或不存在催化剂的情况下，可以使两种或更多种化合物在它们被加入到一旦固化后便最终形成硬涂层的混合物之前一起进行反应。在另一个实施例中，可以将两种或更多种化合物合并在最终形成硬涂层的混合物中，它们在硬涂层被固化之前或被固化之时在混合物中发生反应。
实施例可以还包括使由本文中提供的化学式表示的一种或多种化合物与硅氢化催化剂反应。在一个实施例中，可以使根据化学式VI至X中任一化学式的一种或多种化合物与硅氢化催化剂结合。因此，硬涂层组合物中可以包含至少一种硅氢化催化剂(包括光硅氢化催化剂)。可用的硅氢化催化剂包括热催化剂(如铂催化剂)，它能有效地催化硅键合氢基团与硅键合烯键式不饱和基团之间的硅氢加成反应。有关热硅氢化催化剂的进一步的详细资料可在如下专利中找到：例如美国专利No.2,823,218(Speier等人)；No.2,970,150(Bailey)；No.3,159,601和No.3,159,662(Ashby)；No.3,220,972(Lamoreaux)；No.3,516,946(Modic)；No.3,814,730(Karstedt)；No.4,029,629(Jeram)No.4,533,575和No.4,504,645(Melancon)；以及No.5,741,552(Takayama等人)；它们的公开内容以引用的方式并入本文。
在一个实施例中，所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物包括：
其中R1、R2、R3、a、b、d、e和g的定义如上；并且
R7是R1或Rf，其中R1和Rf的定义如上，
前提条件是至少一个R7是Rf，至少两个R2是Z，并且至少两个R3是H。
氟代烷基或全氟聚醚基团Rf可以是CnF2n+1(CH2O)oCmH2m-、CnF2n+1CHXCF2(CmH2mO)oCpH2p-或CnF2n+1OCHXCF2(CmH2mO)oCpH2p-；其中X是H或F；n是1至12的整数；m是1至12的整数；o是0或1；p是2至12的整数。在一个实施例中，n是3至6的整数。Rf也可以指HFPO。选择氟代烷基或全氟聚醚基团的大小以及Rf基团的数目，使得固化的涂层含至少10重量％的氟，在另一个实施例中含至少20重量％的氟。
氟代烷基的代表性实例有CF3CH2CH2-、CF3CF2CF2CF2CH2CH2-、(CF3)2NCF2CF2CH2CH2-、CF3CH2OCH2CH2-、CF3CF2CH2OCH2CH2-、CF3CFHCF2CH2OCH2CH2-、CF3CFHCF2OCH2CH2-、CF3CF2CF2CF2CH2CF2CH2CH2-、HFPO和CF3OCF2CF2CH2CH2-。在另一个实施例中，Rf是HFPO。
R1表示的单价有机基团可以是脂族或芳族的，并且可以具有1至20个碳原子。在另一个实施例中，R1可以具有1至10个碳原子。单价有机基团的例子包括(但不限于)单价的烃基团。单价的烃基团包括(但不限于)：烷基，如甲基、乙基、丙基、戊基、辛基、十一烷基和十八烷基；环烷基，如环己基；和芳族基团(芳基)，如苯基、甲苯基和萘基。
烯键式或多烯键式不饱和基团Z可以包括：链烯基，如乙烯基、烯丙基和丁烯基；炔基，如乙炔基、丙炔基和丁炔基；乙烯氧基亚烷基(如CH2＝CHO-CqH2q-)、烯丙氧基亚烷基(如CH2＝CHCH2O-CqH2q-)和(甲基)丙烯酰基，其中q是1至12的整数。在一个实施例中，Z基团包括乙烯基。
关于化学式I-XII，本领域技术人员将理解，示例的具有氟代烷侧基的硅氧烷可以是无规或嵌段共聚物。在任何一种化合物当中，以整数a、b、c、d、e和g表示的硅氧烷单元的数目一般总共至少为五(5)，不管其化学式表示的具体总和如a+b；或a+b+c是多少。在一些实施例中，硅氧烷单元的数目通常总共至少是10；在另外的实施例中总共至少是20。任何氟代烷基硅氧烷可以还包含可选的R1 3SiO1/2单元、SiO4/2单元、R1SiO3/2单元和R1 2SiO2/2单元或它们的组合。
据报道，某些含全氟辛基的化合物(C8F17-)在活的生物体中往往可能会产生生物积累；这一倾向已被列为关于某些含氟组合物的潜在关注点。例如参见U.S.5,688,884(Baker等人)。因此，期望存在这样的含氟组合物，其能够有效地提供所需的功能特性(如斥水和斥油性、表面活性剂特性等)，同时能更有效地从生物系统中消除。
本文使用的具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物还能提供另外的优点。首先，可以每单位重量为较低的成本制备含较短(即，C3至C6)氟代烷基的硬涂层(因为收率较高)，同时在相同的重量基础上保持其作为有效的低表面能涂层的效力。例如，在电化学氟化方法中，制备七氟丁酰氟前体的产率可以为60％，而相比的全氟辛酰氟前体为31％(Preparation，Properties，and Industrial Applications of OrganofluorineCompounds，R.E.Banks编辑，Ellis Horwood Ltd(1982)，p 26)。此外，短链羧酸(假定的中间降解产物)比较长链的同系物毒性低，并且生物累积量少。
示例的具有氟代烷侧基的硅氧烷包括(但不限于)(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[(Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH)2、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)或它们的组合，其中a和b的定义如上。其他示例的具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物包括(但不限于)(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4F9)O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH＝CH2)、(Me)3SiO-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4Fx)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C3H6NHC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3，(Me)3SiO-[Si(Me)(CH2CH2C(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(CH2CHMeC(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(C4F9CH2CH2)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH2CH2C4F9)或它们的组合，其中a、b和c的定义如上。示例的具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物包括(但不限于)(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-SiH(Me)2、(Et)2SiH-O-[Si(Et)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-SiH(Et)2、(Et)2SiH-O-[Si(Et)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-SiH(Et)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)2-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)2-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-SiH(Me)2、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(CH2C(H)(Me)C(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C3H6NHC(O)HFPO)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3(C4F9CH2CH2)Si(Me)2-O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(H)-O]c-Si(Me)2(CH2CH2C4F9)或它们的组合，其中e、d和g的定义如上。
具有氟代烷侧基的硅氧烷是本领域的技术人员已知的，并且可以通过若干途径制备。在一个示例的方法中，可以将氟代烷基乙烯基化合物与二氯烷基硅烷进行硅氢加成，用水处理形成环状的三聚物(或四聚物)，然后与碱(可选地与二烷基硅氧烷的环状三聚物)聚合形成氟代烷基硅氧烷，如下所示：
RfCH＝CH2→RfCH2CH2SiMeCl2→RfCH2CH2SiMeO2/2的环状三聚物或四聚物→-(SiMe(C2H4Rf)-O)n-或与Me2SiO2/2的环状三聚物或四聚物的共聚物→-(SiMe(C2H4Rf)-O)n-(SiMe2-O)m-。与CH2＝CHSiMeO2/2的环状三聚物或四聚物的聚合→-(SiMe(C2H4Rf)-O)n-(SiMe(CH＝CH2)-O)m。
另一示例的途径是在存在或不存在其他RSiMe(OMe)2的情况下由RfCH2CH2SiMe(OMe)2进行水解，然后对聚合物进行脱水。
又一示例的途径是把氟代烷基侧基直接引入聚硅氧烷中，如JohnTsibouklis等人在J.Fluorine Chem.，104(2000)，37-45中所述。
制备氟代烷基硅氧烷的其他方法在以下文献中有所描述：U.S.2,915,544(Holbrook等人)、P.Tarrant等人，J.Am.Chem.Soc.，vol.79，pp.6536-6540，1957；A.M.Geyer等人，J.Chem.Soc.，pp.4472-9，1957；Y.K.Kim等人，J.Org.Chem.，vol.38，pp1615-6，1973；和E.Beyou等人，Tet.Letters，vol.36(11)，pp.1843-4，1995。
另外，可以使用包含烯键式不饱和基团的封端试剂，通过Daudt等人的二氧化硅水溶胶封闭法制备氟代烷基硅氧烷。Daudt等人的方法公开在美国专利No.2,676,182中。简而言之，Daudt等人的方法涉及在酸性条件下使二氧化硅水溶胶与可水解的三有机硅烷(如三甲基氯硅烷)、硅氧烷(如六甲基二硅氧烷)或它们的混合物进行反应，并且收获具有由此衍生的单元的共聚物。所得到的共聚物通常包含2至5重量％的羟基。
具有氟代烷侧基的硅氧烷(其通常包含小于2重量％的硅键合的羟基)可以通过这样制备：使Daudt等人的产物与含不饱和有机基团的封端试剂和不含脂族不饱和基团的封端试剂进行反应，它们的量足以在终产物中提供3至30摩尔％的不饱和有机基团。封端试剂的例子包括(但不限于)硅氮烷、硅氧烷和硅烷。合适的封端试剂是本领域中已知的，并且例示于U.S.4,584,355；4,591,622和4,585,836中，上述专利以引用的方式并入本文。可以使用单一的封端试剂或这种试剂的混合物来制备树脂。
具有多个多烯键式不饱和基团的市售硅氧烷包括乙烯基封端的氟代硅氧烷，它可以按商品名“SYL-OFF Q2-7785”和“SYL-OFF Q2-7560”商购自Dow Corning Corp(道康宁公司)。
具有氟代烷侧基的硅氧烷可以是单一的流体，或者是包含两种或更多种氟代烷基硅氧烷流体的组合物，这些流体在以下特性的至少一方面是不同的：结构、粘度、平均分子量、硅氧烷单元及顺序。
该混合物任选还可以包含具有官能团的单(甲基)丙烯酰基化合物。这种官能化合物具有如下通式：
其中R6是氢、C1至C4烷基或苯基，优选为氢或甲基；R5是连接(甲基)丙烯酰基至官能团Y的二价连接基团，可包含多达34个碳、在另一个实施例中多达18个碳、在又一实施例中多达10个碳；以及可选的氧和氮原子。R5可选自-O-R8-和-NH-R8-，其中R8是具有1至6个碳原子的亚烷基、具有5至10个碳原子的5或6元亚环烷基或亚烷基氧化烯(其中每个亚烷基包括1至6个碳原子)或者是具有6至16个碳原子的二价芳族基团；Y是用以改善可固化组合物与基底的粘合或粘附性的官能团。在一个实施例中，Y选自由以下基团组成的组：羟基、氨基(包括仲氨基和叔氨基)、羧基、异氰酸根、氮丙啶基、环氧、酰基卤、二氢唑酮、噁唑啉基、乙酰乙酰基、可水解的硅烷(如三烷氧基硅烷)以及环酐基团。基于100重量份的单(甲基)丙烯酰基化合物、多烯键式不饱和组分和氟代烷基硅氧烷组分，这种化合物的用量一般为10重量份。
在某些实施例中，涂覆的组合物包含具有至少两个烯键式不饱和基团的具有氟代烷侧基的硅氧烷与具有至少两个Si-H基团的氢硅氧烷的硅氢加成反应产物。Si-H基团可以为端基、侧基或其组合。具有多个乙烯基的氟代烷基硅氧烷与具有多个Si-H基团的氢硅氧烷通过硅氢加成发生反应。因此，硬涂层组合物中可以包含至少一种硅氢化催化剂(包括光硅氢化催化剂)。适用的硅氢化催化剂包括热催化剂(如铂催化剂)，它能有效地催化硅键合氢基团与硅键合烯键式不饱和基团之间的硅氢加成反应。有关热硅氢化催化剂的进一步的详细资料可见于(例如)美国专利No.2,823,218(Speier等人)；No.2,970,150(Bailey)；No.3,159,601和No.3,159,662(Ashby)；No.3,220,972(Lamoreaux)；No.3,516,946(Modic)；No.3,814,730(Karstedt)；No.4,029,629(Jeram)；No.4,533,575和No.4,504,645(Melancon)；以及No.5,741,552(Takayama等人)；它们的公开内容以引用的方式并入本文。
也可以使用光活化的硅氢化催化剂(即，光硅氢化催化剂)。硅氢加成光催化剂的例子及其使用方法(如，光固化条件)可见于(例如)U.S.4,510,094和4,530,879(Drahnak)；5,145,886(Oxman等人)；U.S.6,376,569(Boardman等人)和U.S.6,451,869(Butts)中，它们的公开内容以引用的方式并入本文。也可以采用硅氢化催化剂与光催化剂和/或固化方法的组合。对于光活化的硅氢加成(如PtCpMe3)，在暴露于紫外光之前不会开始进行硅氢加成反应。因此，可固化组合物具有架藏稳定性。
催化剂的含量通常应能有效地催化硅氢加成反应。更典型地，所述催化剂的含量足以向每百万份具有乙烯基的硅氧烷提供低至一份或更少份的催化剂。另一方面，催化剂的用量还可以足够向每1,000份具有乙烯基的硅氧烷提供高达1至10份或更多份的催化剂。
使用自由基催化剂(在一个实施例中使用紫外催化剂)合并具有至少两个烯键式不饱和基团的氟代烷基硅氧烷与具有至少两个Si-H基团的氢硅氧烷的反应产物并进行固化。交联主要在多烯键式不饱和组分的烯键式不饱和基团与氟代烷基硅氧烷的未反应的烯键式不饱和基团之间进行。
作为另外一种选择，可以将氟代烷基硅氧烷、具有至少两个Si-H基团的氢硅氧烷和多烯键式不饱和组分与硅氢化催化剂合并，从而实施硅氢加成，之后添加自由基催化剂，然后进行固化。硅氢加成将发生在氢硅氧烷与氟代烷基硅氧烷之间和氢硅氧烷与多烯键式不饱和组分之间。然而，由于多烯键式不饱和组分的用量原因，多烯键式不饱和化合物的游离烯键式不饱和基团仍然可以用于后续的自由基交联。
由硬涂层组合物最终形成的硬涂层还包含红外光吸收性粒子。在一个实施例中，选择红外光吸收性粒子以生成具有合格雾度水平的制品。一般来讲，当光学层中粒子的粒度增大时便开始对雾度产生影响。在一个实施例中，粒度比相关波长(即，可见光)小10倍以上的粒子不会对层的雾度产生不可接受程度的影响。在一个实施例中，通常认为雾度值低于5％的制品是合格的。
在一个实施例中，红外光吸收性粒子包括金属氧化物粒子。氧化物纳米粒子通常是有色的，并且在电磁波谱的不同部分有吸收。理想的日光控制制品应具有高的可见光透射率，同时尽可能多地阻隔红外辐射。红外线辐射通常指780nm至2500nm之间的电磁辐射。在一个实施例中，通常选择金属氧化物纳米粒子(例如以下示例的那些)的浓度，使得能够对1800nm以上的波长达到接近100％的消光；在另一个实施例中，对1500nm以上的波长达到100％消光。在这种浓度下，所需的可见光透射率为至少50％；而在另一个实施例中，所需的可见光透射率为至少70％。
可用作本发明的硬涂层组合物中的红外吸收性粒子的示例性金属氧化物纳米粒子包括(但不限于)：氧化锡、氧化锑、氧化铟和氧化锌，以及掺杂型氧化物。在一些实施例中，金属氧化物纳米粒子包括氧化锡、氧化锑、氧化铟、掺铟的氧化锡、掺锑的氧化铟锡、氧化锑锡、掺锑的氧化锡或它们的混合物。在一些实施例中，金属氧化物纳米粒子包括氧化锡或掺杂型氧化锡，并且还可任选地包括氧化锑和/或氧化铟。纳米粒子可以具有任意可用的尺寸，例如1至100纳米、或30至100纳米、或30至75纳米。在一些实施例中，金属氧化物纳米粒子包括分散在聚合物材料中的氧化锑锡或掺杂型氧化锑锡。纳米粒子组合物可从(例如)Advanced Nano Products Co.，LTD.，South Korea(韩国先进纳米制品有限公司)以商品名TRB-PASTETM SM6080(B)、SH7080、SL6060商购获得。在另一个实施例中，金属氧化物纳米粒子包括氧化锌和/或氧化铝，这种氧化物可得自GfE Metalle undMaterialien GmbH，Germany(德国GfE金属材料有限公司)。
在一个实施例中，本发明的硬涂层组合物包含足够量的红外光吸收性粒子，从而得到能提供所需红外吸收量的制品。在一个实施例中，红外吸收性粒子的含量范围是20至65重量％。在另一个实施例中，红外吸收性粒子的含量范围是20至55重量％。
为了有利于固化，根据本发明的硬涂层组合物还包含至少一种聚合引发剂。适用于本发明的引发剂包括自由基热引发剂和/或光引发剂。通常，引发剂和/或光引发剂的含量低于硬涂层组合物的10重量％，在一个实施例中低于5重量％，而在另一个实施例中低于2重量％。自由基固化技术在本领域中是熟知的，包括(例如)热固化方法以及辐射固化方法(例如电子束或紫外线辐射)。有关自由基热聚合技术和光聚合技术的进一步的详细资料可见于(例如)美国专利No.4,654,233(Grant等人)；No.4,855,184(Klun等人)；和No.6,224,949(Wright等人)中。
可用的自由基热引发剂包括(例如)偶氮、过氧化物、过硫酸盐和氧化还原引发剂，以及它们的组合。
可用的自由基光引发剂包括(例如)已知可用于丙烯酸酯聚合物的UV固化的那些。这种引发剂包括(但不限于)：二苯甲酮及其衍生物；安息香、α-甲基安息香、α-苯基安息香、α-烯丙基安息香、α-苄基安息香；安息香醚，例如联苯酰二甲基缩酮(以商品名“IRGACURE651”从Ciba Specialty Chemicals Corporation，Tarrytown，New York(纽约州塔瑞城的汽巴特殊化学品公司)商购获得)、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香正丁基醚；苯乙酮及其衍生物，例如2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(以商品名“DAROCUR 1173”从汽巴特殊化学品公司商购获得)和1-羟基环己基苯基甲酮(以商品名“IRGACURE 184”同样从汽巴特殊化学品公司商购获得)；2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮，以商品名“IRGACURE 907”同样从汽巴特殊化学品公司商购获得；2-苄基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮，以商品名“IRGACURE 369”从汽巴特殊化学品公司商购获得；芳族酮，例如二苯甲酮及其衍生物和蒽醌及其衍生物；鎓盐，例如重氮盐、碘鎓盐、锍盐；钛络合物，例如，以商品名“CGI 784 DC”同样从汽巴特殊化学品公司商购获得的钛络合物；卤甲基硝基苯；以及单和二酰基膦，例如，可以商品名“IRGACURE 1700”、“IRGACURE 1800”、“IRGACURE 1850”、“IRGACURE 819”、“IRGACURE 2005”、“IRGACURE 2010”、“IRGACURE 2020”和“DAROCUR 4265”得自汽巴特殊化学品公司的那些。还可使用两种或更多种光引发剂的组合。另外，敏化剂(例如2-异丙基噻吨酮，可从First Chemical Corporation，Pascagoula，MS(密西西比州帕斯卡谷勒的第一化学公司)商购获得)可与光引发剂(例如“IRGACURE 369”)结合使用。
用作硬涂层的硬涂层组合物可以还包含所需的其他材料，可以选择这些材料以得到更好的涂层和改善的性能，从而满足不同应用的要求。在一个实施例中，可以将一种或多种受阻胺光稳定剂(HALS)和/或一种或多种膦酸酯稳定剂化合物添加至可聚合的涂层组合物中，如US 6,613,819中所述，该专利的内容以引用的方式并入本文。
在硬涂层组合物中存在一种溶剂或者存在混合的溶剂也是可取的，特别是当存在金属氧化物纳米粒子时。用于自由基交联反应的有机溶剂可以是对反应物及产物呈惰性、并且不会另外对反应产生不利影响、但应有助于稳定制剂和保持高品质涂层的任何有机液体。合适的有机溶剂是极性的，包括醇(例如甲醇、乙醇、卡必醇和异丙醇)、酯(例如乙酸乙酯)、芳族溶剂(例如甲苯)、醚(例如二乙醚、THF和叔丁基甲醚)以及酮(例如丙酮和甲基异丁基酮)。也可以使用其他溶剂体系，例如乙腈、N，N-二甲基甲酰胺和二甲基砜。溶剂的量通常可以为反应物和溶剂总重量的约20至90重量％。
硬涂层组合物还可以包含可任选掺入的其他无机粒子，以便减少与层相关的静电。一般来讲，可使用金属氧化物来得到这种特性。还可使用诸如3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷之类的材料对金属氧化物进行表面处理。这些粒子可以提供具有抗静电特性和其他所需特性的构造。可期望在处理和清洁膜的过程中防止产生静电电荷，并且防止由于粉尘和其他不期望的碎片的粘附而导致的污染。在一个此类实施例中，将这种金属氧化物粒子掺入本发明的双层实施例的顶(薄)层中，其中将含氟化丙烯酸酯的硬涂层施加至烃基硬涂层。当这种粒子处于为涂层提供足够的抗静电特性所需的含量(通常为25重量％或更高)时，这些深色的粒子可能会为该构造赋予不需要的颜色。然而，在双层氟化硬涂层构造的薄顶层中，它们对膜的光学和透射特性的影响可以被最小化。适用于此实施例的导电金属氧化物纳米粒子的实例包括二氧化锑，其可以商品名Celnax CXZ-210IP和CXZ-210IP-F2得自Nissan Chemical(日产化学公司)。当将这些粒子以适当的含量包含在本发明的涂层中时，所得的氟化硬涂层可显示具有小于约0.5秒的静电荷衰减时间。在此项测试中，将样品放置在两个电触点之间并充电到+/-5kV。然后将该样品接地，测量电荷衰减到其初始值的10％所需的时间，并记录为静电荷衰减时间。相比之下，不含导电纳米粒子的膜构造显示的静电荷衰减时间大于30秒。
如此前所述，本发明的制品可任选地包含中间粘合剂层270。中间粘合剂层270可以由任何可用的材料形成。在一些实施例中，中间粘合剂层270可包含压敏粘合剂材料，如上所述。在一些实施例中，中间粘合剂层270可包含可固化粘合剂，例如热、UV或湿固化的粘合剂。中间粘合剂层270可具有任意适用的厚度，例如1至100微米、5至50微米、10至50微米或10至30微米。
可选的中间聚合物层260可以由任何可用的材料形成。在一些实施例中，中间聚合物层260可包含聚烯烃、聚丙烯酸酯、聚酯、聚碳酸酯、含氟聚合物等。在一个实施例中，中间聚合物层260可包含聚对苯二甲酸乙二醇酯。中间聚合物层260可具有任意适用的厚度，例如5至500微米、10至100微米、25至75微米或25至50微米。
本发明的制品还可以包括防撕裂膜(未示出)。在许多实施例中，防撕裂膜包括刚性聚合物和延展性聚合物的交替层。在一些实施例中，防撕裂膜160包括刚性聚酯或共聚酯和延展性癸二酸基共聚酯的交替层。在许多实施例中，刚性聚酯或共聚酯层在至少一个方向上是取向的，或者是双轴取向的。这些防撕裂膜的例子描述于US 6,040,061、US 5,427,842和US 5,604,019中，这些专利在与本发明不发生冲突的程度上以引用方式并入本文。
在另一个实施例中，防撕裂膜是能够提供所需防撕裂程度的单个整体式聚合物膜。这种膜是本领域中已知的“坚韧”聚合物膜。韧性可以被描述为对聚合物在断裂之前能吸收的能量的度量，坚韧聚合物的实例包括ABS(聚(丙烯腈丁二烯苯乙烯))、LDPE(线性低密度聚乙烯)、HIPS(高抗冲聚苯乙烯)、聚氨酯等。另外，增加整体式聚合物膜的厚度可以使得能够将某些聚合物(例如PET和尼龙)用作防撕裂膜。
广义地讲，“防撕裂”是指根据本发明的多层膜在其一个方向上展现出的割口面积超过仅包含多层膜的刚性聚合物的单层膜在同方向上的割口面积，所述单层膜的处理方式与多层膜相同，并形成与多层膜大致相等的厚度。在许多实施例中，防撕裂日光控制膜在膜的一个方向上展现出的割口面积至少等于约40+0.4(x)kpsi％，其中x是以微米为单位的膜的标称厚度。更具体地讲，得到割口面积的方式为：把专门为割口面积测试而成形的膜样品夹持在相对的钳夹之间，所述钳夹以恒定速率反向移动，把撕裂应力集中在小块区域上，绘制膜受到的应力(以kpsi为单位测量)与膜在上述测试中的应变(按割口伸长率以％为单位测量，将在下面进行更全面的定义)的关系曲线图，对图中曲线下方的面积进行数学积分。如此，割口面积成为膜的拉伸模量(即，膜的刚度和尺寸稳定性)以及膜的防撕裂能力的组合量度。因此，可将割口面积视为使膜失效所需的总能量的量度；即膜吸收能量的能力。在许多实施例中，在割口面积测试期间，防撕裂日光控制膜有利地显示出至少20％或至少40％的割口断裂伸长率。可以按ASTM测试方法D 1004(也称为割口撕裂测试)测量防撕裂日光控制膜。
此外，根据本发明的许多多层或整体式防撕裂膜在膜的至少一个方向上表现出的拉伸模量(按常规的拉伸测试进行测量)为至少175kpsi(1,208MPa)、至少240kpsi(1,656MPa)或至少450kpsi(3,105MPa)。
防撕裂多层膜的厚度以及构成防撕裂多层膜的各单层的厚度均可以在很大的范围内有所变化。这些膜的标称厚度可以为约7至500微米或约15至185微米。刚性聚酯或共聚酯的各个层的平均标称厚度可以为至少约0.5微米，或者为0.5微米以上至75微米，或者为约1至25微米。在一些实施例中，延展性癸二酸基共聚酯层比刚性聚酯/共聚酯层更薄。延展性材料层的平均标称厚度范围可以是约0.01微米以上至约5微米以下，或者是约0.2至3微米。类似地，单个层的确切顺序并不重要。总层数也可以有显著差别。在许多实施例中，防撕裂多层膜包括至少3层、5至35层或10至15层。
最终形成硬涂层的硬涂层组合物也可以用于多种便携式信息显示制品和非便携式信息显示制品中。这种硬涂层可以包含一种组合物的反应产物，所述组合物包含至少一种多烯键式不饱和化合物；至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物；和至少一种聚合引发剂。这种硬涂层也可以被称为光学硬涂层。
这些制品包括PDA、手机(包括PDA/手机组合)、LCD电视(直接照明式和边缘照明式)、触感屏、腕表、汽车导航系统、全球定位系统、测深器、计算器、电子书、CD和DVD播放器、投影电视屏、电脑显示器、笔记本电脑显示器、仪器测量仪表、仪器仪表盖、诸如图形显示器之类的标牌等。观测表面可以具有任意的常规尺寸和形状，并且可以是平面或非平面的，平板显示器就是其中的一个例子。涂层组合物或带涂层的膜可用于多种其他制品，以及例如照相机镜头、眼镜镜片、双筒望远镜镜头、镜子、反光板、汽车车窗、建筑物窗户、火车车窗、船窗、飞机窗、车辆头灯和尾灯、展示柜、马路路面标志(如凸起标志)和路面标志带、高架投影仪、立体橱柜门、立体盖、手表盖以及光学与磁光记录磁盘等等。
适合用作光学硬涂层的涂层通常基本上无视觉缺陷。可以观察到的视觉缺陷包括(但不限于)麻点、白斑、斑点、团块或大量波纹，或光学和涂料领域的普通技术人员已知的其他视觉指示标记。因此，实验部分中所描述的“粗糙”表面具有这些特征中的一种或多种，并且可以表明涂层材料的组合物中的一种或多种组分彼此不相容。反之，假定就本发明的目的而言，在下文中被表征为“平滑”的基本上平滑的涂层具有这样的涂层组合物，在该涂层组合物中反应后的最终状态下的各组分形成这样一种涂层，该涂层中各组分彼此相容或被改性成彼此相容，并且进一步来说，“粗糙”表面的特征即使有也是很少的。
另外，硬涂层可显示出小于2％的初始雾度和/或至少90％的初始透射率。
现在参见图4，所示为制品(此处是电脑显示器10)的透视图，具有耦合在壳体14内的光学显示器12。光学显示器12是基本上透明的材料，具有视力增强特性，用户通过它可以浏览文本、图形或其他显示的信息。光学显示器12包括施加至光学基底16上的硬涂层18。硬涂层的厚度通常为至少0.5微米，在一个实施例中为至少1微米，在另一个实施例中为至少2微米。硬涂层的厚度通常不超过25微米。在一个实施例中，厚度范围是3微米至5微米。
在另一个实施例中(未示出)，可以提供本文所述的硬涂层(即，包含至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物和至少一种有机多烯键式不饱和化合物)作为最外侧的表面硬涂层，在该最外侧的表面硬涂层下面具有另外的硬涂层。在该实施例中，在该最外侧表面硬涂层下面的另外的硬涂层的厚度通常不超过25微米。在一个实施例中，另外的硬涂层的厚度是3至5微米。
可以把多种持久且可去除等级的粘合剂组合物涂覆到基底16的相对侧(即，硬涂层18侧)，以便可以很容易地把所述制品安装在显示器的表面。合适的粘合剂组合物包括(但不限于)(如氢化的)嵌段共聚物(例如可以商品名“Kraton G-1657”从得克萨斯州Westhollow的科腾聚合物公司(Kraton Polymers)商购获得的那些)以及其他(如类似的)热塑性橡胶。其他示例的粘合剂包括丙烯酸基粘合剂、聚氨酯基粘合剂、硅氧烷基粘合剂和环氧基粘合剂。在一个实施例中，使用具有充分的光学品质和光稳定性的粘合剂，使得粘合剂不会因为随时间或风化作用而发黄，导致光学显示器的视觉品质下降。
在一个实施例中使用压敏粘合剂(PSA)。压敏胶带协会(Pressure-Sensitive Tape Council)将压敏粘合剂定义为具有以下性质的材料：(1)强力和持久的粘着力；(2)在压力不超过指压的条件下即可粘结；(3)足以保持在附着物上的能力；(4)足够的内聚强度；以及(5)无需通过能量源活化。PSA在组装温度下通常是发粘的，该温度通常为室温或更高(即，约20℃至约30℃或更高)。已发现的非常适合用作PSA的材料为经设计和配制以显示出必需的粘弹性的聚合物，从而使得在组装温度下粘性、剥离附着力和剪切保持力之间达到所需平衡。制备PSA最常用的聚合物为基于天然橡胶、合成橡胶(如苯乙烯/丁二烯共聚物(SBR)和苯乙烯/异戊二烯/苯乙烯(SIS)嵌段共聚物)、硅氧烷弹性体、聚α-烯烃和各种(甲基)丙烯酸酯(如丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯)的聚合物。在这些聚合物中，基于(甲基)丙烯酸酯聚合物的PSA逐渐成为用于本发明的优选类PSA，这是由于其具有光学清晰度、随时间推移的特性持久性(老化稳定性)以及粘合力水平的多样性的原因，这些仅是其中的几个优点。
可采用多种已知的涂覆技术(例如转移涂覆法、刮涂法、旋涂法、模具涂布法等)来施加粘合剂。示例性的粘合剂在美国专利申请公开No.2003/0012936中有所描述。数种此类粘合剂可以商品名8141、8142和8161从3M Company，St.Paul，MN(明尼苏达州圣保罗的3M公司)商购获得。
基底16可以包括任意的多种材料，包括(但不限于)：非聚合物材料，例如玻璃；或聚合物材料，例如常用于多种光学装置的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、双酚A聚碳酸酯、三乙酸纤维素、聚(甲基丙烯酸甲酯)和双轴取向的聚丙烯。基底还可以包括聚酰胺、聚酰亚胺、酚醛树脂、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、环氧树脂等。本发明的硬涂层也可以用于光学基底上；本文中所用的光学基底包括(但不限于)透明基底、透射基底、微结构化基底和多层膜基底。
通常，部分地基于预期用途所需的光学和机械性能来选择基底。例如，可以选择具有多种光学特性(包括(但不限于)透光率、光反射率和不透明度)的基底。机械性能通常包括柔性、尺寸稳定性和抗冲击性。基底厚度通常也取决于预期的用途。对于大多数应用而言，可采取小于0.5mm的基底厚度，而在其他实施例中，基底厚度为0.02至0.2mm。在一个实施例中使用自支承型聚合物膜作为基底。可用常规的制膜技术(例如挤出和对挤出膜进行可任选的单轴或双轴取向)使聚合物材料成膜。可对基底进行处理(如化学处理、电晕(例如空气或氮电晕)处理、等离子体处理、火焰处理或光化辐射处理)以改善基底与硬涂层之间的附着力。根据需要，可以在基底和/或硬涂层上施加可选的粘结层或底漆以增加层间附着力。基底也可以是其上已涂布有多种类型的层的预涂制品。
就显示器面板而言，基底16是透光性的，这意味着光可以透射穿过基底16，使得可以看到显示器。显示器面板10中可以使用透明的(如光亮的)和糙面的光透射基底16。糙面基底16通常具有比典型光亮膜更低的透射率和更高的雾度值。糙面膜显示出这种镜面性能通常是由于存在着散射光的微米尺寸分散的无机填充剂，例如二氧化硅。示例的糙面膜可以商品名“N4D2A”从U.S.A.Kimoto Tech，Cedartown，GA(佐治亚州雪松镇的木本技术美国公司)商购获得。就透明基底、涂以硬涂层的透明基底以及由透明基底构成的显示器制品而言，雾度值可小于5％，在另一个实施例中其可小于2％，而在又一个实施例中其可小于1％。作为另外一种选择或除此之外，透射率可大于90％。
多种透光性光学膜是已知的，包括(但不限于)多层光学薄、微结构化膜(如反光片和增亮膜)、(如反射或吸收性)偏振膜、扩散膜，以及如美国专利No.7,099,083中所述的(如，双轴)延迟膜和补偿膜。
如美国专利No.6,991,695中所述，多层光学膜至少部分地通过布置不同折射率的微层来提供期望的透射和/或反射特性。这些微层具有不同的折射率特性，使得一些光在相邻微层间的界面被反射。微层是足够薄的，以使得多个界面处的反射光发生相长干涉或相消干涉，以便使膜主体具有所需的反射或透射特性。对于设计用于反射紫外、可见或近红外波长光的光学膜而言，每层的光学厚度(即，物理厚度乘以折射率)通常小于1μm。然而也可以包括更厚的层，例如膜外表面的表层或设置在膜内分隔微层组件的保护性边界层。多层光学膜主体还可以包括一个或多个厚粘合剂层，用以将多层光学膜的两个或多个薄片粘结在层叠制品中。
有关合适的多层光学膜和相关构造的进一步的详细资料可见于美国专利No.5,882,774(Jonza等人)和PCT专利公开WO 95/17303(Ouderkirk等人)和WO 99/39224(Ouderkirk等人)中。聚合物多层光学膜和膜主体可以包括为满足其光学、机械和/或化学特性而选择的附加层和涂层。参见美国专利No.6,368,699(Gilbert等人)。聚合物膜和膜主体还可以包括无机层，例如金属或金属氧化物涂层或层。
硬涂层组合物还可以用于在光学装置的内部元件上形成硬涂层。这种硬涂层可用于在光学装置的组装期间使内部元件的损坏最小化。使用这种硬涂层可以在组装之前和组装期间减少缺陷部件的发生率。在内部元件中使用硬涂层的另外的实施例及讨论可见于2005年11月3日提交的标题为“INTERNAL COMPONENTS OF OPTICAL DEVICECOMPRISING HARDCOAT(包括硬涂层的光学装置的内部元件)”的美国专利申请No.11/267790，该专利的公开内容以引用的方式并入本文。
可以提供硬涂层作为设置在基底上的单层。在这种构造中，硬涂层组合物中所有氟化化合物的重量％可以是1至40重量％。在另一个实施例中，硬涂层组合物中所有氟化化合物的重量％可以是1至20重量％。在又一个实施例中，硬涂层组合物中所有氟化化合物的重量％可以是1至10重量％。
硬涂层由一种混合物的反应产物形成，所述混合物包含至少一种如上讨论的有机多烯键式不饱和化合物。这种至少一种有机多烯键式不饱和化合物也可被称为常规硬涂层材料。这种材料的例子包括(但不限于)光学领域中普通技术人员熟知的烃基材料。在一个实施例中，所述烃基材料为基于丙烯酸酯的硬涂层材料。用于本发明的一种示例性硬涂层材料基于PETA(季戊四醇三/四丙烯酸酯)。季戊四醇三丙烯酸酯(“PET3A”)的一种市售形式为SR444C，季戊四醇四丙烯酸酯(“PET4A”)的一种市售形式为SR295，每种均可得自宾夕法尼亚州埃克斯顿的沙多玛公司。然而，也可以使用其他的有机多烯键式不饱和化合物，如上文例示的那些。
有利的是，特别是因为(甲基)丙烯酸酯交联剂通常比氟化化合物(例如本文中所述的具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物)便宜，所以可以使所述至少一种有机多烯键式不饱和化合物的浓度最大化。因此，本文所述的组合物通常包含至少20重量％的有机多烯键式不饱和化合物。在一个实施例中，组合物可以包含至少50重量％的有机多烯键式不饱和化合物，并且可以包含例如至少60重量％、至少70重量％、至少80重量％、至少90重量％和至少95重量％的有机多烯键式不饱和化合物。
为了有利于固化，组合物还可以包含至少一种聚合引发剂，如上文所讨论和例示的那样。
根据需要，组合物还可以包含有机溶剂或混合溶剂。用于自由基交联反应的有机溶剂可以是对反应物及产物呈惰性并且不会另外对反应产生不利影响的任何有机液体。合适的溶剂包括醇(例如甲醇、乙醇、异丙醇和卡必醇)、酯(例如乙酸乙酯)、芳族溶剂(例如甲苯)、氯化或氟化的溶剂(例如CHCl3和C4F9OCH3)、醚(例如二乙醚、THF和叔丁基甲醚)以及酮(例如丙酮和甲基异丁基酮)。也可以使用其他溶剂体系。溶剂的量通常可以为反应物和溶剂总重量的约20至90重量％。应该指出的是，除溶液聚合外，可以采用其他熟知的技术实施交联，例如悬浮液聚合、乳液聚合及本体聚合技术。
可以把其反应产物将是硬涂层的组合物施加至基底层(例如可透光基底)并进行光固化，以形成易于清洁、斥污和斥墨的硬涂层。
用作表面层或下伏硬涂层的组合物还可以包含能够增加所得涂层的机械强度或其他所需特性的无机粒子。上文针对日光控制制品所讨论的红外吸收性纳米粒子是这种无机粒子的一个实例。在一个实施例中，无机粒子可以是经表面改性的粒子。经表面改性的粒子通常在美国专利No.6,376,590和美国专利申请公布No.2006/0148950中有所描述，上述专利的公开内容以引用方式并入本文。
硬涂层中可以使用多种无机氧化物粒子。粒子形状通常基本上是球形的，并且具有相对均匀的尺寸。粒子可以具有基本上单分散的粒度分布，或具有由两种或多种基本上单分散分布的混合得到的多峰分布。无机氧化物粒子通常是非聚集的(基本上离散的)，因为聚集会导致无机氧化物粒子的沉淀或硬涂层的胶凝。无机氧化物粒子的尺寸通常是胶体级的，平均粒径为0.001至0.2微米、小于0.05微米和小于0.03微米。这种尺寸范围可有利于无机氧化物粒子向粘结剂树脂中的分散，并提供具有所需表面特性和光学清晰度的陶瓷聚合体。可以通过使用透射电子显微镜对给定直径的无机氧化物粒子的数目进行计数来测定无机氧化物粒子的平均粒度。
无机氧化物粒子可以包含单一的氧化物，例如二氧化硅，或者可以包含氧化物的组合，例如二氧化硅与氧化铝，或者是其上沉积有另一种类型的氧化物的一种类型氧化物的芯(或金属氧化物以外的材料的芯)。二氧化硅是常用的无机粒子。
通常以包含无机氧化物粒子在液体介质中的胶态分散体的溶胶形式提供无机氧化物粒子。可以采用多种技术制备溶胶，并且可以制备多种形式的溶胶，包括水溶胶(其中以水作为液体介质)、有机溶胶(其中以有机液体作为液体介质)和混合溶胶(其中液体介质包含水和有机液体两者)，如美国专利No.5,648,407(Goetz等人)；No.5,677,050(Bilkadi等人)和No.6,299,799(Craig等人)中所述，该专利的公开内容以引用的方式并入本文。可以使用(例如无定形二氧化硅的)水溶胶。基于溶胶的总重量而言，溶胶通常包含至少2重量％、至少10重量％、至少15重量％、至少25重量％和常常是至少35重量％的胶态无机氧化物粒子。胶态无机氧化物粒子的量通常不超过50重量％(如45重量％)。无机粒子的表面可以被“丙烯酸酯官能化”，如美国专利No.5,677,050中所述。还可以使溶胶与粘结剂的pH值相匹配，并且可以包含抗衡离子或水溶性化合物(如铝酸钠)，均如美国专利No.6,238,798(Kang等人)中所述。
这种粒子的一个实例是与甲基丙烯酰基硅烷偶联剂(例如A-174，可得自Natrochem公司)、其他分散助剂(例如N，N二甲基丙烯酰胺)和各种其他添加剂(稳定剂、引发剂等)反应了的胶态二氧化硅。
还可以在可聚合的组合物中掺入粒状消光剂，用以为表面层赋予抗眩光特性。粒状消光剂还可以防止由相关硬涂层的干涉所造成的反射率下降和不均匀着色。粒状消光剂一般是透明的，显示出大于约90％的透射率值。作为另外一种选择或除此之外，雾度值可小于5％，并且在一个实施例中小于2％，而在另一个实施例中小于1％。
硬涂层中掺入了消光剂、但具有不同硬涂层组合物的示例性体系在(例如)美国专利No.7,101,618中有所描述，该专利以引用方式并入本文。此外，示例的糙面膜可以商品名“N4D2A”从U.S.A.KimotoTech of Cedartown，Georgia(佐治亚州雪松镇的木本技术美国公司)商购获得。
粒状消光剂的添加量可以在0.5至10重量％之间，这取决于硬涂层的厚度。在一个实施例中，添加量为2重量％左右。还要起抗眩光层作用的硬涂层可以具有0.5至10微米的厚度，在另一个实施例中为0.8至7微米，这通常与光亮硬涂层的厚度范围相同。
粒状消光剂的平均粒径具有预定的最小值和最大值，这部分地取决于层的厚度。然而一般来讲，1.0微米以下的平均粒径不能提供足够的抗炫光程度以确保内包含物，而超过10.0微米的平均粒径则会使透射图像的清晰度下降。因此按Coulter方法测定的数均值来说，平均粒度通常为1.0至10.0微米，在另一个实施例中为1.7至3.5微米。
作为粒状消光剂，使用无机粒子或树脂粒子，包括(例如)无定形二氧化硅粒子、TiO2粒子、Al2O3粒子、交联的丙烯酸类聚合物粒子(例如由交联的聚(甲基丙烯酸甲酯)制成的那些)、交联的聚苯乙烯粒子、三聚氰胺树脂粒子、苯并胍胺树脂粒子和交联的聚硅氧烷粒子。考虑到在制造过程中用于抗眩光层和/或硬涂层的涂料混合物中的粒子的分散稳定性和沉淀稳定性，可以使用树脂粒子，在一个实施例中可以使用交联的聚苯乙烯粒子，因为树脂粒子对粘结剂材料具有高亲和力且比重小。
至于粒状消光剂的形状，可以使用球形和无定形的粒子。然而为了获得一致的抗眩光特性，球形粒子是期望的。也可以组合使用两种或更多种粒状材料。
可以采用多种技术将硬涂层组合物施加到基底16上，从而形成硬涂层18，这些技术包括浸涂、正向辊涂法及逆向辊涂法、线绕棒涂和模具涂布法。模具涂布机包括：刮刀涂布机、狭缝涂布机、滑动式涂布机、液压轴承涂布机、滑动幕式涂布机、降模幕式涂布机和挤出涂布机等。许多类型的模具涂布机在文献中有所描述，例如，EdwardCohen和Edgar Gutoff所著的Modern Coating and Drying Technology(现代涂覆和干燥技术)，VCH Publishers，NY 1992，ISBN 3-527-28246-7，以及Gutoff和Cohen所著的Coating and Drying Defects：TroubleshootingOperating Problems(涂覆和干燥的缺点：操作问题疑难排解)，WileyInterscience，NY ISBN 0-471-59810-0。
模具涂布机通常指利用第一模块和第二模块形成歧管腔体和模具狭槽的装置。涂层流体在压力的作用下流过歧管腔体并流出涂层狭槽而形成涂层材料带状物。可以单层或者以两个或更多个叠加层的形式施加涂层。虽然基底的形式为连续的纤维网通常是较为方便的，但基底也可以为一系列散片的形式。
可以使用多种基底。合适的基底材料包括(但不限于)纤维基底(例如织造、非织造和针织织物、纺织物、毯、皮革和纸张)和硬质基底(例如乙烯树脂、木材、玻璃、陶瓷、砖石、混凝土、天然石材、人造石材、灰浆、金属片和箔、木材、油漆、塑料和诸如聚酯、聚酰胺(尼龙)、聚烯烃、聚碳酸酯和聚氯乙烯等之类的热塑性树脂膜)。特别值得关注的是那些光学透明的基底。
当通过部分地基于活性基团的存在而选择基底时，所述活性基团能够与涂层组合物中的活性基团形成共价键或氢键，可以提高基底与硬涂层之间的粘附力。这种活性基团的例子包括(但不限于)氯化物基团、溴化物基团、碘化物基团、烯基(C＝C)、炔基、-OH、-CO2、CONH基团等。可以对基底进行处理以进一步提高基底与硬涂层之间的粘附力，例如通过化学处理等将活性基团整合进基底表面来实现。根据需要，可以在基底和/或硬涂层上施加可选的粘结层或底漆，从而增大层间粘合力。
实验
材料
除非另有说明，否则如实例中所用，“HFPO-”指端基F(CF(CF3)CF2O)xCF(CF3)-。HFPO-CO2CH3是根据美国专利No.3,250,808(Moore等人)中记录的方法制备的F(CF(CF3)CF2O)xCF(CF3)C(O)OCH3，该专利的公开内容以引用的方式并入本文，其中采用分馏进行纯化。
HFPO-OH，HFPO-C(O)NHCH2CH2OH，根据美国专利公布No.20060148350中公布的专利的第[0058]段中所述，由HFPO-C(O)OCH3(分子量为～1313)和NH2CH2CH2OH进行制备。平均分子量为约1344。
HFPO-MA，HFPO-C(O)N(H)CH2CH2OC(O)C(CH3)＝CH2通过与美国专利公布No.20040077775中针对(HFPO)k-甲基丙烯酸酯合成所述的类似的工序由HFPO-OH制备。
HFPO-C(O)NHCH2CH＝CH2(HFPO-AA)根据US 20060148350中公布的专利的第[0058]段中所述由HFPO-C(O)OCH3和NH2CH2CH＝CH2(替换NH2CH2CH2OH)进行制备。平均分子量为约1045。
甲基苯基硅氧烷-甲基氢硅氧烷共聚物，-(SiMePh-O)x-(SiMeH-O)y-(PS129.5，包含45～50％的甲基氢硅氧烷，可得自Huls Petrarch Systems，Bristol，PA)。
三甲基甲硅烷基封端的二甲基硅氧烷-甲基氢硅氧烷共聚物，Me2SiO-(SiMe2-O)x-(SiMeH-O)y-SiMe3，包含50-55％的二甲基硅氧烷；可得自奥尔德里奇公司。
聚甲基氢硅氧烷，-(SiMeH-O)y-(PS-120，可得自Huls PetrarchSystems，Bristol，PA)。
乙烯基三甲氧基硅烷，CH2＝CHSi(OMe)3，可得自奥尔德里奇公司。
TMPTA，三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，(SR351，可得自SartomerCompany，Exton，PA(宾夕法尼亚州埃克斯顿的沙多玛公司))。
D-1173，(DarocurTM 1173；2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮，引发剂，可得自Ciba Specialty Chemicals，Tarrytown NY(纽约州塔瑞城的汽巴特殊化学品公司))。
Pt-1：催化剂，乙烯基封端的硅氧烷中的3～3.5％铂-二乙烯基四甲基二硅氧烷络合物，可得自Gelest，Inc.，Morrisville PA(美国宾夕法尼亚州莫里斯维尔的盖勒斯特公司)，用庚烷稀释成0.15％的溶液。
Pt-2：氢六氯铂酸(IV)水合物，可得自奥尔德里奇公司，在二甘醇二甲醚中稀释成～7.5％的溶液后使用。
tBME：叔丁基甲醚，可得自EMD Chemicals Inc.，Gibbstown，NJ(新泽西州Gibbstown的EMD化学公司)。
MEK：甲基乙基酮，可得自EM Industries，Inc.，Gibbstown，NJ(新泽西州Gibbstown的EM Industries公司)。
ATO-1是指锑锡氧化物(ATO)涂层制剂，其包含62.5％的ATO(得自Inframat Corporation，Farmington CT)、15％的HDDA(二丙烯酸1，6-己二醇酯，SR238，得自宾夕法尼亚州埃克斯顿的沙多玛公司)、15％的PETA(季戊四醇三丙烯酸酯，PETA-K，得自UCB-Radcure，Smyrna GA)和7.5％的聚合物分散剂(Solplus D510，得自Noveon Inc.，Cleveland OH)。使用具有MoliNExTM偏心盘和一升不锈钢腔室的Netzsch LME-1盘磨机(Netzsch Incorporated，Exton PA)研磨分散体8小时。由Zetasizer Nano ZS(Malvern Instruments Ltd，Worcestershire，UK(英国伍斯特郡的马尔文仪器有限公司))测定的最终粒度为～60nm(PDI＝0.21)。然后通过制备所述制剂在1-甲氧基-2-丙醇中的45％溶液来制备ATO-1。配制时用甲基乙基酮或叔丁基甲醚将溶液稀释成30％的溶液，并加入2％的D-1173光引发剂。
ATO-2是指ATO涂层制剂，包含80g的TRB Paste 6070(得自Advanced Nano Products，S.Korea(韩国的先进纳米产品公司))；和20g的ATO预混物制剂，所述预混物制剂包含：24.58％的HDDA、1.59％的Tinuvin 123(汽巴)、1.11％的Irgacure 819(汽巴)、1.11％的Irgacure184(汽巴)和71.36％的MEK。
FA-1，带有C4F9-的氟化氢硅氧烷HMe2Si-[O-SiHMe]y-[O-SiMeC2H4C4F9]x-OSiMe2H，可以Q2-7560名称得自Dow Corning，Midland，MI(密歇根州米德兰市的道康宁公司)，用庚烷稀释成10％。
FA-2，带有C4F9-的氟化乙烯基硅氧烷CH2＝CHSiMe2-[O-SiMe2]y-[O-SiMeC2H4C4F9]x-OSiMe2CH＝CH2，可以Q2-7785得自密歇根州米德兰市的道康宁公司，为庚烷中的10％的溶液。
FA-3，FA-1与FA-2重量比为1/9的氟化的氢硅氧烷，用庚烷稀释成10％的溶液。
FA-4，FA-1与FA-2重量比为4/6的氟化的氢硅氧烷，用庚烷稀释成10％的溶液。
具有多丙烯酸酯基团的氟化硅氧烷由17/83重量比的Q2-7560与过量的TMPTA的硅氢加成反应制备(MEK中的20％溶液)。在50ml烧瓶中装入0.52g的Q2-7560、2.506g的TMPTA、10.021g的t-BME和2.015g庚烷。对溶液进行FTIR分析，2165.31cm-1的信号归于Q2-7560的Si-H，而1635.42/1621.92cm-1的信号归于TMPTA的CH2＝CHCO2-。加入3滴Pt-2，使溶液在66℃的氮气氛下反应一个小时。进行FTIR分析，Si-H的2165.31cm-1信号消失，同时1634.95cm-1和1621.24cm-1的信号降低，表明发生了硅氢加成。使用20％的溶液为添加剂。
FA-6，具有多丙烯酸酯基团的氟化硅氧烷，由按重量计1/2的Q2-7560与过量TMPTA的硅氢加成反应制备，MEK中的20％溶液。
在50ml烧瓶中装入1.013g的Q2-7560、2.013g的TMPTA、8.975g的t-BME和2.883g庚烷。对溶液进行FTIR分析，2165.31cm-1的信号归于Q2-7560的Si-H，而1635.42/1621.92cm-1的信号归于TMPTA的CH2＝CHCO2-。加入3滴Pt-2，使溶液在66℃的氮气氛下反应一个小时。进行FTIR分析，Si-H的2165.31cm-1信号消失，同时1635.02cm-1和1620.46cm-1的信号降低，表明发生了硅氢加成。使用20％溶液为添加剂。
具有HFPO尾基和多丙烯酸酯基团的氟化硅氧烷，由按1.5/1/2.5重量比的聚(甲基氢硅氧烷/甲基苯基硅氧烷)与(HFPO)xC(O)NHCH2CH＝CH2和过量TMPTA的硅氢加成制备(23.8％溶液)。在50ml烧瓶中装入1.5289g甲基苯基硅氧烷-甲基氢硅氧烷共聚物、1.006g的HFPO-C(O)NHCH2CH＝CH2、0.107g的Pt-2(在二甘醇二甲醚中为7.5％)和16.027g的t-BME。使混合物在65℃的氮气氛下反应一小时。进行FTIR分析，归于Si-H的2159.34cm-1信号降低，而CH2＝CHCH2-的信号消失。然后在室温下加入2.51g的TMPTA并在65℃下再反应一小时。进行FTIR分析，Si-H的2159.34cm-1信号随TMPTA的丙烯酸酯信号消失。将23.8％的溶液用MEK稀释成20％的溶液，作为评估用的添加剂。
含三甲氧基硅烷的氟化硅氧烷Q2-7560/CH2＝CHSi(OMe)3的制备如下。在备有磁力搅拌棒的烧瓶中使20g的Q2-7560与11.70g的CH2＝CHSi(OMe)3(分子量＝148.24，78.9meq CH2＝CH-)在氮气氛下混合。进行FTIR分析，2167.09cm-1的吸收归于Si-H，1599.79cm-1的吸收归于CH2＝CH-。向溶液中加入5滴0.15％的铂催化剂(Pt-1)并在70℃的氮气氛下磁力搅拌反应8小时。进行FTIR分析，2160.31cm-1的Si-H信号显著降低，而1599.79cm-1的CH2＝CH-信号消失，表明CH2＝CHSi(OMe)3对Q2-7560的硅氢加成的完成。用7g的t-BuOMe稀释3g样品，得到10g透明溶液(30％)用于评估。
按如下方式制备具有HFPO的氟化氢硅氧烷，即聚甲基氢硅氧烷/HFPO-MA。于氮气氛下在50ml瓶中装入1.0g聚甲基氢硅氧烷(-(SiMeH-O)y-)、1.0g的HFPO-Mar、3.0g的t-BuOMe。进行FTIR分析，鉴定2163.76cm-1的Si-H信号和1641.05cm-1的CH2＝CMeCO-信号。加入3滴Pt-2，使混合物在70℃下反应两小时。FTIR中的1641.05cm-1的信号消失，而2167.07cm-1的Si-H信号降低，表明发生了硅氢加成。加入1.67g的t-BuOMe制成～30％的溶液用于评估。
FA-10，具有HFPO的氟化氢硅氧烷，聚甲基氢硅氧烷/HFPO-MA：于氮气氛下在50ml瓶中装入1.0g聚甲基氢硅氧烷(-(SiMeH-O)y-)、2.0g的HFPO-Mar、6.0g的t-BuOMe。加入3滴Pt-2催化剂之后将瓶密封，使混合物在70℃下反应两小时。FTIR中1640.27cm-1的CH2＝CHCO2-信号消失，而2163.67cm-1的Si-H信号降低，表明发生了硅氢加成反应。加入1.0g的t-BuOMe制成～30％的溶液用于评估。
FA-11，具有HFPO的氟化氢硅氧烷，聚(二甲基-甲基氢硅氧烷)/HFPO-MA：于氮气氛下在50ml瓶中装入1.0g三甲基甲硅烷基封端的二甲基硅氧烷-甲基氢硅氧烷共聚物、1.0g的HFPO-Mar、3.0g的t-BuOMe。加入3滴Pt-2催化剂之后将瓶密封，使混合物在70℃下反应两小时。FTIR中1640.69cm-1的CH2＝CHCO2-信号消失，而2160.28cm-1的Si-H信号降低，表明发生了硅氢加成反应。加入1.67g的t-BuOMe制成～30％的溶液用于评估。
FA-12，具有HFPO的氟化氢硅氧烷，聚(二甲基-甲基氢硅氧烷)/HFPO-MA：于氮气氛下在50ml瓶中装入1.0g三甲基甲硅烷基封端的二甲基硅氧烷-甲基氢硅氧烷共聚物、2.0g的HFPO-Mar、6.0g的t-BuOMe。加入3滴Pt-2催化剂之后将瓶密封，使混合物在70℃下反应两小时。FTIR中1639.30cm-1的CH2＝CHCO2-信号消失，而2159.95cm-1的Si-H信号降低，表明发生了硅氢加成反应。加入1.0g的t-BuOMe制成～30％的溶液用于评估。
测定接触角的方法：
在进行水接触角和十六烷接触角测定之前，用IPA通过手动搅拌将涂层冲洗一分钟。使用可直接使用的试剂级十六烷“油”(奥尔德里奇公司)和去离子水(其通过可购自Millipore Corporation，Billerica，MA(马萨诸塞州比勒里卡的密理博公司)的过滤系统过滤)，在产品编号为VCA-2500XE的视频接触角分析仪(可得自AST Products，Billerica，MA(马萨诸塞州比勒里卡的AST产品公司)上进行测量。记录的值是对至少三滴(在液滴右侧和左侧测量)所测量的平均值。对于静态接触角的测量而言，液滴体积为5μL，而对于前进接触角和后退接触角测量而言则为1-3μL。对于十六烷而言，仅记录前进接触角和后退接触角，因为，据发现其静态接触角和前进接触角的值几乎相等。
测定记号笔排斥性的方法：
对于此项测试，使用Sharpie永久记号笔(Sharpie PermanentMarker)、Vis-à-vis永久高架投影笔(Vis-à-vis Permanent OverheadProject Pen)或King Size永久记号笔(King Size Permanent Marker)(均可从美国三福公司(Sanford，USA)商购获得)中的一种作为记号笔。首先，将选定的记号笔的笔尖削成刀片状从而得到宽而平坦的标记端。然后，使用该记号笔并以直尺边缘作为引导，以大约15厘米/秒的速度在施加于PET基底上的样品涂层上画一条直线。观察画在涂层上的直线的外观，并指定一个数字来反映样品涂层对记号笔的排斥性的程度。指定的数字1表明极佳的排斥性，而指定的数字5则表明较差的排斥性。根据所使用的记号笔的类型，以Sharpie测试、Vis-à-vis测试或King Size记号笔测试记录结果。测定耐溶剂性的方法：对于此项测试而言，先向施加在PET基底上的样品涂层滴加一滴(直径为约1.25cm)甲乙酮(MEK)或其他有机溶剂，再在室温下使其干燥。然后，对样品涂层的外观进行视觉观察，并评级为模糊(H)，其表明较差的斥溶剂性，或透明(C)，其表明良好的斥溶剂性。此外，使用上述“记号笔测试方法”，在进行了一滴MEK或有机溶剂斥性测试的位置重复Sharpie测试，并使用1至5指定记号笔排斥性编号。
钢丝棉测试：
使用能够在整个膜表面上振荡扎牢在触针上(使用胶圈)的粗棉布或钢丝棉的机械装置，在涂层方向的横维上测试固化膜的耐磨性。触针以10cm宽的扫描宽度摆动，速率为3.5次擦拭/秒，其中“擦拭”定义为单程通过10cm。触针具有平坦的圆柱形几何形状，直径为1.25英寸(3.2cm)。该装置配备有平台，其上放有砝码以增加触针垂直于膜表面所施加的力。粗棉布可以商品名“Mil Spec CCC-c-440产品编号S12905”(Mil Spec CCC-c-440 Product#S12905)购自EMS AcquisitionCorp.，Hatsfield，Pennsylvania(宾夕法尼亚州哈特菲尔德的EMS采集公司)的分部Summers Optical，EMS Packaging(EMS包装萨默斯光学)。将粗棉布折叠成12层。钢丝棉可以商品名“#0000超细”(#0000-Super-Fine)购自美国罗德斯(华盛顿州贝灵汉市鸿迈公司的分公司)，并且可直接使用。针对每一个例子测试单个样品，并记录施加到触针的重量(克)和测试期间采用的擦拭次数。无可见刮痕在表格中记为“NS”。
使用氟化硅氧烷作为添加剂的UV固化性ATO硬涂层制剂
使用不同氟化硅氧烷添加剂(FA)的ATO硬涂层制剂连同观察到的涂层质量列于表I中；“去湿”表示没有得到合格的涂层。
在改性ATO-1纳米粒子硬涂层中加入1％的D-1173光引发剂(MEK中的10％溶液)，然后用MEK或t-BME稀释成20～30％溶液。当具有Si-H官能团的含氟硅氧烷添加剂溶液与ATO硬涂层混配时，加入0.015重量％的硅氢化催化剂铂-二乙烯基四甲基二硅氧烷络合物(Pt-1)。所详述的不同重量比的制剂概述于表I中，用#10号线材棒将其涂覆在PET膜上。在110℃烘箱中干燥带涂层的膜～5分钟，然后于氮气氛下使用Fusion Systems(Gaithersberg，MD)500瓦H-灯以每分钟20英尺的速度进行UV固化。记号笔排斥性(分1至5级，1为排斥性最佳)、接触角数据和耐溶剂性(后续记号笔排斥性测试时为透明或模糊)的结果概述于表II和III中。代表性制剂的钢丝棉耐久性测试结果记录于表IV中。
表I
具有氟化硅氧烷添加剂的ATO硬涂层制剂
| 制剂编号 | ATO-1(％溶液) | FA(溶剂) | ATO/FA(按重量计) | 涂层质量 |
| 1 | 20％(MEK) | FA-1(庚烷) | 99.5/0.5 | 良好 |
| 2 | 20％(MEK) | FA-1(庚烷) | 99/1 | 良好 |
| 3 | 20％(MEK) | FA-1(庚烷) | 98/2 | 良好 |
| 4 | 20％(MEK) | FA-2(庚烷) | 99.75/0.25 | 去湿 |
| 5 | 20％(MEK) | FA-2(庚烷) | 99.5/0.5 | 去湿 |
| 6 | 20％(MEK) | FA-2(庚烷) | 99/1 | 尚可 |
| 7 | 30％(tBME) | FA-2(庚烷) | 98/2 | 尚可 |
| 8 | 30％(tBME) | FA-3(庚烷) | 99/1 | 良好 |
| 9 | 30％(tBME) | FA-3(庚烷) | 98/2 | 良好 |
| 10 | 30％(tBME) | FA-4(庚烷) | 99/1 | 良好 |
| 11 | 30％(tBME) | FA-4(庚烷) | 98/2 | 良好 |
| 12 | 20％(MEK) | FA-5(tBME) | 99/1 | 良好 |
| 13 | 20％(MEK) | FA-6(tBME) | 99/1 | 尚可 |
| 14 | 20％(MEK) | FA-6(tBME)/FA-2(庚烷) | 99/0.5/0.5 | 去湿 |
| 15 | 20％(MEK) | FA-7(tBME) | 99/1 | 良好 |
| 16 | 30％(MEK) | FA-7(tBME) | 99/1 | 良好 |
| 17 | 30％(MEK) | FA-7(tBME) | 98/2 | 良好 |
| 18 | 30％(MEK) | FA-7(tBME) | 95/5 | 良好 |
| 19 | 30％(MEK) | FA-5/FA-7(庚烷) | 99/0.5/0.5 | 良好 |
| 20 | 30％(tBME) | FA-8(tBME) | 99.5/0.5 | 良好 |
| 21 | 30％(tBME) | FA-8(tBME) | 99/1 | 良好 |
| 22 | 30％(tBME) | FA-8(tBME) | 98/2 | 良好 |
| 23 | 30％(tBME) | FA-9(tBME) | 98/2 | 良好 |
| 24 | 30％(tBME) | FA-9(tBME) | 95.5/4.5 | 良好 |
| 25 | 30％(tBME) | FA-10(tBME) | 95/5 | 良好 |
| 对照物1 | ATO-1 | 无 | 100/0 | 良好 |
| 对照物2 | ATO-2 | HFPO-U-(Ar)n*(MEK) | 99.94/0.06 | 良好 |
*：HFPO-U-(Ar)n为HFPO-OH/N100/SR-444C(15/100/88.5)，按以下工序制备：在装配有磁力搅拌棒的500ml圆底2颈烧瓶中装入25.00g(0.131当量，191EW)的Des N100、26.39g(0.0196当量，1344EW)的F(CF(CF3)CF2O)6.85CF(CF3)C(O)NHCH2CH2OH和109.62g的MEK，旋动产生均匀的溶液。把烧瓶放到摄氏80度的浴中，加入2滴二月桂酸二丁基锡催化剂，并配好冷凝器。该反应开始为浑浊，但两分钟之内即变澄清。在约1.75小时，从水浴中移出烧瓶并加入2.42g MEK以补偿损失的溶剂。从烧瓶中取出2.0g样品，留下该反应物的(1-2.0/161.01)或0.9876重量分数，再向反应物中加入57.51g(58.23g，98.76％)(0.116摩尔，494.3当量)SR-444C，并将其置于摄氏63度的水浴中。在约5.25小时，FTIR示出在2273cm-1处无异氰酸酯吸收，加入0.56g MEK以补偿溶剂损失，从而使材料的固体含量为50％。计算出产物的重量％F为15.6％F。
表II
具有氟化硅氧烷添加剂时的记号笔排斥性和接触角结果
| 制剂编号 | Sharpie测试 | King Size测试 | Vis-à-vis测试 | 水接触角前进/后退/静态(°) | 油接触角前进/后退/静态(°) |
| 1 | 1 | 1 | 1 | 113/100/112 | 34/30/32 |
| 2 | 1 | 1 | 1 | 112/93/105 | 33/28/31 |
| 3 | 1 | 1 | 1 | 108/93/105 | 35/30/32 |
| 5 | 1 | 1 | 1 | 103/80/98 | 53/38/54 |
| 6 | 1 | 1 | 1 | 109/97/105 | 49/37/45 |
| 8 | 1 | 1 | 1 | 101/85/99 | 39/28/33 |
| 9 | 1 | 1 | 1 | 108/85/108 | 41/28/39 |
| 10 | 1 | 1 | 1 | 107/85/99 | 46/29/43 |
| 11 | 1 | 1 | 1 | 109/88/100 | 40/29/39 |
| 12 | 2 | 2 | 2 | 97/80/97 | 52/47/53 |
| 13 | 1 | 1 | 1 | 103/86/100 | 55/39/50 |
| 14 | 1 | 1 | 1 | 121/82/113 | 68/35/53 |
| 15 | 2 | 1 | 1 | 104/82/98 | 60/44/59 |
| 16 | 1 | 1 | 1 | 107/81/99 | 62/34/60 |
| 17 | 1 | 1 | 1 | 113/83/105 | 61/29/60 |
| 18 | 1 | 1 | 1 | 115/81/108 | 66/32/63 |
| 19 | 1 | 1 | 1 | 105/77/99 | 56/37/52 |
| 20 | 1 | 1 | 1 | 100/81/97 | 无 |
| 21 | 1 | 1 | 1 | 101/85/100 | 无 |
| 22 | 1 | 1 | 1 | 102/82/98 | 无 |
| 23 | 1 | 1 | 1 | 101/-/94 | 68/45/66 |
| 24 | 1 | 1 | 1 | 102/-/97 | 70/40/65 |
| 25 | 1 | 1 | 1 | 106/84/104 | 72/42/66 |
| 对照物1 | 5 | 5 | 5 | 79/45/71 | 10/5/13 |
| 对照物2 | 3 | 5 | 3 | 110/53/99 | 55/43/54 |
表III
具有氟化硅氧烷添加剂时的耐溶剂性和Sharpie排斥性
| 制剂编号 | IPA | 甲苯 | MIBK | 丙酮 | EtOAc | MEK | DMF |
| 1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 |
| 2 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 |
| 3 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 |
| 6 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 |
| 8 | C/2 | C/2 | C/2 | C/2 | C/2 | C/2 | C/2 |
| 10 | C/2 | C/2 | C/2 | C/2 | C/2 | C/2 | C/2 |
| 12 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 |
| 18 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 |
| 20 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 |
| 23 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 | C/1 |
| 对照物1 | C/5 | C/5 | C/5 | C/5 | C/5 | C/5 | C/5 |
| 对照物2 | C/3 | C/3 | C/3 | C/3 | C/3 | C/3 | C/3 |
表IV
钢丝棉耐久性测试结果*
*：钢丝棉测试采用1.25英寸触针、500g重量和300次刮擦。
本发明不应被视为局限于上述的具体实例，而应当理解成涵盖所附权利要求中明确叙述的本发明的所有方面。对于本发明所涉及的领域的技术人员来说，在阅读本说明书后，本发明适用的多种修改形式、等同工艺和多种结构将是显而易见的。
Claims (29)
1.一种制品，包括：
具有第一类聚合物与第二类聚合物的交替层的红外光反射性多层膜；和
设置在所述多层膜上的硬涂层，其中所述硬涂层包含硬涂层组合物的反应产物，所述硬涂层组合物包含：
至少一种有机多烯键式不饱和化合物；
至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物；
红外线吸收性纳米粒子；和
至少一种聚合引发剂。
2.根据权利要求1所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是
其中
R1是单价烃有机基团；
R2是R1或者是烯键式或多烯键式不饱和基团Z；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
a是0至2000；
b是1至2000；
前提条件是a+b至少为5，并且至少两个所述R2基团是Z。
3.根据权利要求2所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
其中R1是单价烃有机基团；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
a是0至2000；
b是1至2000，
前提条件是a+b至少为5。
4.根据权利要求2所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
R1是单价烃有机基团；
Z是烯键式或多烯键式不饱和基团；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
a是0至2000；
b是1至2000；
c是2至2000，
前提条件是a+b+c至少为5，并且至少两个所述R2基团是Z。
5.根据权利要求2所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是
(化学式IV)，
R1是单价烃有机基团；
Z是烯键式或多烯键式不饱和基团；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
a是0至2000；
b是1至2000；
c是2至2000，
前提条件是a+b至少为5。
6.根据权利要求2所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是
R1是单价烃有机基团；
Z是烯键式或多烯键式不饱和基团；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
a是0至2000；
b是1至2000；
c是2至2000，
前提条件是a+b+c至少为5。
7.根据权利要求2所述的制品，其中Rf是CnF2n+1(CH2O)oCmH2m-、CnF2n+1CHXCF2(CmH2mO)oCpH2p-或CnF2n+1OCHXCF2(CmH2mO)oCpH2p-
其中X是H或F；
n是1至12的整数；
m是1至12的整数；
o是0或1；并且
p是2至12的整数。
8.根据权利要求7所述的制品，其中Rf是HFPO。
9.根据权利要求2所述的制品，其中Z包含CH2＝CH-、CH2＝CHCO2-L-或其组合，其中L是键合基团。
10.根据权利要求2所述的制品，其中所述具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[(Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH)2、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-Si(Me)2(CH＝CH2)或它们的组合，
其中
a是0至2000；
b是1至2000；
c是2至2000，
前提条件是a+b+c至少为5。
11.根据权利要求5所述的制品，其中所述具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4F9)O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH＝CH2)、(CH2＝CH)Si(Me)2O-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH＝CH2)、(Me)3SiO-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)2-O]a-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(C3H6NHC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3，(Me)3SiO-[Si(Me)(CH2CH2C(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(Me)3SiO-[Si(Me)(CH2CHMeC(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]b-[Si(Me)(C2H4CO2C((Et)(CH2OC(O)CH＝CH2)2))-O]c-Si(Me)3、(C4F9CH2CH2)Si(Me)2O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(CH＝CH2)-O]c-Si(Me)2(CH2CH2C4F9)或它们的组合，其中
a是0至2000；
b是1至2000；
c是2至2000，
前提条件是a+b+c至少为5。
12.根据权利要求1所述的制品，其中所述具有氟代烷侧基的硅氧烷是
其中R1是单价烃有机基团；
R3是H或R1；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
d是0至2000；
e是0至2000；
g是1至2000；
前提条件是d+e+g至少为5，并且至少两个所述R3基团是H。
13.根据权利要求12所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
R1是单价烃有机基团；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
d是0至2000；
g是1至2000，
前提条件是d+g至少为5。
14.根据权利要求12所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
R1是单价烃有机基团；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
d是0至2000；
e是0至2000；
g是1至2000；
前提条件是d+e+g至少为5。
15.根据权利要求12所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
R1是单价烃有机基团；
d是0至2000；
e是0至2000；
g是1至2000，
前提条件是d+e+g至少为5。
16.根据权利要求12所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物是：
R1是单价烃有机基团；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
d是0至2000；
e是0至2000；
g是1至2000，
前提条件是d+e+g至少为5。
17.根据权利要求12所述的制品，其中Rf是CnF2n+1(CH2O)oCpH2p-、CnF2n+1CHXCF2(CmH2mO)oCpH2p-或CnF2n+1OCHXCF2(CmH2mO)oCpH2p-
其中X是H或F；
n是1至12的整数；
m是1至12的整数；
o是0或1；并且
p是2至12的整数。
18.根据权利要求12所述的制品，其中Rf是HFPO。
19.根据权利要求12所述的制品，其中所述具有氟代烷侧基的硅氧烷是(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-SiH(Me)2、(Et)2SiH-O-[Si(Et)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-SiH(Et)2、(Et)2SiH-O-[Si(Et)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-SiH(Et)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)2-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)2-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-SiH(Me)2、(Me)2SiH-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-SiH(Me)2、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4CF3)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]g-[Si(Me)(Ph)-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(CH2C(H)(Me)C(O)OC2H4OC(O)HFPO)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(Me)3Si-O-[Si(Me)(H)-O]e-[Si(Me)(C3H6NHC(O)HFPO)-O]g-[Si(Me)2-O]d-Si(Me)3、(C4F9CH2CH2)Si(Me)2-O-[Si(Me)(C2H4C4F9)-O]b-[Si(Me)(H)-O]c-Si(Me)2(CH2CH2C4F9)或它们的组合，
其中
d是0至2000；
e是0至2000；
g是1至2000，
前提条件是d+e+g至少为5。
20.根据权利要求12所述的制品，其中所述混合物还包含硅氢化催化剂。
21.根据权利要求1所述的制品，其中所述至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷包括：
其中R1是单价烃有机基团；
R2是R1或者是烯键式或多烯键式不饱和基团Z；
R3是H或R1；
R7是R1或Rf；
Rf是氟代烷基或全氟聚醚基团；
a是0至2000；
b是1至2000；
d是0至2000；
e是0至2000；
g是1至2000，
前提条件是d+e+g至少为5，a+b至少为5，至少一个R7是Rf，至少两个R2是Z，并且至少两个R3是H。
22.根据权利要求21所述的制品，其中所述混合物还包含硅氢化催化剂。
23.根据权利要求1所述的制品，其中所述混合物还包含至少一种具有以下化学式的化合物：
其中R4是氢、C1至C4烷基或苯基；
Y是用以改善所述可固化组合物与基底的粘合或粘附的官能团；并且
R5为连接(甲基)丙烯酰基至Y的二价连接基团。
24.根据权利要求1所述的制品，其中所述红外光吸收性粒子是氧化锑锡。
25.根据权利要求1所述的制品，还包括粘合剂层。
26.一种用于阻挡红外光源发出的红外光的光控制制品，包括：
具有第一类聚合物与第二类聚合物的交替层的红外光反射性多层膜；
设置在所述多层膜上的硬涂层，其中所述硬涂层包含硬涂层组合物的反应产物，所述硬涂层组合物包含：
至少一种有机多烯键式不饱和化合物；
至少一种具有氟代烷侧基的硅氧烷化合物；
红外光吸收性纳米粒子；和
至少一种聚合引发剂；以及
邻近所述红外光反射性多层膜设置的基底。
27.根据权利要求26所述的光控制制品，还包括设置在所述红外光反射性多层膜与所述玻璃基底之间的压敏粘合剂层。
28.根据权利要求26所述的光控制制品，还包括防撕裂聚合物膜。
29.根据权利要求26所述的光控制制品，其中所述硬涂层的厚度范围是1至20微米。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102031566A (zh) * | 2010-09-20 | 2011-04-27 | 哈尔滨工业大学 | 基于表面等离子体效应的全有机一维光子晶体及制备方法 |
| CN102800379A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-28 | 江苏科技大学 | 一种用于线路制造的无需丝网印刷的银导电组合物 |
| CN103265829A (zh) * | 2011-11-04 | 2013-08-28 | Sk新技术株式会社 | 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置 |
| CN106832539A (zh) * | 2016-12-08 | 2017-06-13 | 福建恒安集团有限公司 | 一种一次性吸收用品 |
| WO2022089460A1 (zh) * | 2020-10-29 | 2022-05-05 | 广东广山新材料股份有限公司 | 一种反应型氟硅树脂及其制备方法和应用 |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011508265A (ja) * | 2007-12-21 | 2011-03-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 球形コア及び２つの同心光学干渉層を含む、再帰反射性物品及び再帰反射素子 |
| US20100028684A1 (en) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | Jose Mariscal | Conductive multilayer stack |
| JP6120481B2 (ja) * | 2009-02-06 | 2017-04-26 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光制御フィルム及び多層光学フィルムスタック |
| JP5602379B2 (ja) * | 2009-04-03 | 2014-10-08 | 日東電工株式会社 | 金属酸化物微粒子含有シリコーン樹脂組成物 |
| BRPI1010736A2 (pt) * | 2009-06-12 | 2016-03-15 | Ppg Ind Ohio Inc | transparência para aeronave com propriedade de controle solar |
| JP5755405B2 (ja) * | 2009-11-02 | 2015-07-29 | 恵和株式会社 | 太陽電池モジュール裏面用放熱シート及びこれを用いた太陽電池モジュール |
| KR101851027B1 (ko) * | 2010-06-10 | 2018-04-20 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 디스플레이 장치 및 lc 패널 보호 방법 |
| US8659829B2 (en) | 2010-08-05 | 2014-02-25 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer film comprising matte surface layer and articles |
| TWI447441B (zh) | 2010-11-08 | 2014-08-01 | Ind Tech Res Inst | 紅外光阻隔多層膜結構 |
| US9309589B2 (en) | 2011-06-21 | 2016-04-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Outboard durable transparent conductive coating on aircraft canopy |
| US9979425B2 (en) * | 2011-08-03 | 2018-05-22 | Stephen Carmody | Cellular telephone shield for the reduction of electromagnetic radiation exposure |
| DE102012101434B4 (de) * | 2012-02-23 | 2023-05-04 | HELLA GmbH & Co. KGaA | Linsenhalter zur Aufnahme einer Linse in einem Scheinwerfer |
| JP6062680B2 (ja) * | 2012-08-01 | 2017-01-18 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 防汚性ハードコートおよび防汚性ハードコート前駆体 |
| US9546300B2 (en) | 2012-09-28 | 2017-01-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating composition for coated substrates and methods of making the same |
| US8956730B2 (en) | 2012-09-28 | 2015-02-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Conductive multilayer stack, coated substrates including the same, and methods of making the same |
| US9326327B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-04-26 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Stack including heater layer and drain layer |
| US20140272217A1 (en) * | 2013-03-18 | 2014-09-18 | Apple Inc. | Methods and structures for thermal management in an electronic device |
| WO2014178276A1 (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-06 | コニカミノルタ株式会社 | 赤外線遮蔽フィルム、赤外線遮蔽フィルムの設置方法及び赤外線遮蔽フィルムの虹彩防止方法 |
| US9885885B2 (en) * | 2013-11-27 | 2018-02-06 | 3M Innovative Properties Company | Blue edge filter optical lens |
| JP6303455B2 (ja) * | 2013-12-03 | 2018-04-04 | 三菱マテリアル株式会社 | 赤外線カット機能を有する低屈折率膜形成用組成物及びこれを用いた低屈折率膜の形成方法 |
| US9545042B2 (en) | 2014-03-14 | 2017-01-10 | Ppg Industries Ohio, Inc. | P-static charge drain layer including carbon nanotubes |
| WO2015146564A1 (ja) * | 2014-03-28 | 2015-10-01 | コニカミノルタ株式会社 | 光学遮蔽フィルム、光学遮蔽体および光学遮蔽フィルムの製造方法 |
| WO2016117407A1 (ja) * | 2015-01-19 | 2016-07-28 | 東レ株式会社 | 積層基材、カバーガラス、タッチパネル及び積層基材の製造方法 |
| US10442549B2 (en) | 2015-04-02 | 2019-10-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Liner-type, antistatic topcoat system for aircraft canopies and windshields |
| JP6744011B2 (ja) * | 2015-07-03 | 2020-08-19 | 日東電工株式会社 | 画像表示装置 |
| US10625580B1 (en) * | 2016-08-26 | 2020-04-21 | Apple Inc. | Systems with adjustable windows |
| KR102321243B1 (ko) * | 2017-03-29 | 2021-11-02 | 데이진 가부시키가이샤 | 하드 코트층이 부착된 고분자 기판 |
| KR102535564B1 (ko) | 2018-06-08 | 2023-05-23 | 삼성전자주식회사 | 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 |
| WO2020176221A1 (en) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | Lux Labs, Inc. | Angular selective film |
| TW202102882A (zh) * | 2019-03-11 | 2021-01-16 | 美商3M新設資產公司 | 具有減少色彩之高效率紅外線反射器 |
| CN112318893B (zh) * | 2020-10-19 | 2022-06-28 | 广西北海跃达玻璃钢制品有限公司 | 一种玻璃钢夹砂管的制备方法 |
Family Cites Families (72)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2676182A (en) * | 1950-09-13 | 1954-04-20 | Dow Corning | Copolymeric siloxanes and methods of preparing them |
| BE553159A (zh) * | 1955-12-05 | |||
| US2915544A (en) * | 1957-12-11 | 1959-12-01 | Dow Corning | Fluoroalkylsilane diols |
| US2970150A (en) * | 1957-12-17 | 1961-01-31 | Union Carbide Corp | Processes for the reaction of silanic hydrogen-bonded siloxanes with unsaturated organic compounds with a platinum catalyst |
| US3220972A (en) * | 1962-07-02 | 1965-11-30 | Gen Electric | Organosilicon process using a chloroplatinic acid reaction product as the catalyst |
| US3159662A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Addition reaction |
| US3159601A (en) * | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Platinum-olefin complex catalyzed addition of hydrogen- and alkenyl-substituted siloxanes |
| US3250808A (en) * | 1963-10-31 | 1966-05-10 | Du Pont | Fluorocarbon ethers derived from hexafluoropropylene epoxide |
| US3516946A (en) * | 1967-09-29 | 1970-06-23 | Gen Electric | Platinum catalyst composition for hydrosilation reactions |
| US3610724A (en) * | 1969-06-19 | 1971-10-05 | Potomac Research Inc | Photographic dodging apparatus |
| US3814730A (en) * | 1970-08-06 | 1974-06-04 | Gen Electric | Platinum complexes of unsaturated siloxanes and platinum containing organopolysiloxanes |
| US3711176A (en) * | 1971-01-14 | 1973-01-16 | Dow Chemical Co | Highly reflective thermoplastic bodies for infrared, visible or ultraviolet light |
| US4029629A (en) * | 1975-10-06 | 1977-06-14 | General Electric Company | Solvent resistant room temperature vulcanizable silicone rubber composition |
| US4262072A (en) * | 1979-06-25 | 1981-04-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Poly(ethylenically unsaturated alkoxy) heterocyclic protective coatings |
| US4478876A (en) * | 1980-12-18 | 1984-10-23 | General Electric Company | Process of coating a substrate with an abrasion resistant ultraviolet curable composition |
| US4446305A (en) * | 1981-03-02 | 1984-05-01 | Polaroid Corporation | Optical device including birefringent polymer |
| US4455205A (en) * | 1981-06-01 | 1984-06-19 | General Electric Company | UV Curable polysiloxane from colloidal silica, methacryloyl silane, diacrylate, resorcinol monobenzoate and photoinitiator |
| US4491508A (en) * | 1981-06-01 | 1985-01-01 | General Electric Company | Method of preparing curable coating composition from alcohol, colloidal silica, silylacrylate and multiacrylate monomer |
| US4486504A (en) * | 1982-03-19 | 1984-12-04 | General Electric Company | Solventless, ultraviolet radiation-curable silicone coating compositions |
| US4530879A (en) * | 1983-03-04 | 1985-07-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation activated addition reaction |
| US4504645A (en) * | 1983-09-23 | 1985-03-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Latently-curable organosilicone release coating composition |
| US4533575A (en) * | 1983-09-23 | 1985-08-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Latently-curable organosilicone release coating composition |
| US4540623A (en) * | 1983-10-14 | 1985-09-10 | The Dow Chemical Company | Coextruded multi-layered articles |
| US4510094A (en) * | 1983-12-06 | 1985-04-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Platinum complex |
| US4591622A (en) * | 1984-10-29 | 1986-05-27 | Dow Corning Corporation | Silicone pressure-sensitive adhesive process and product thereof |
| US4584355A (en) * | 1984-10-29 | 1986-04-22 | Dow Corning Corporation | Silicone pressure-sensitive adhesive process and product with improved lap-shear stability-I |
| US4585836A (en) * | 1984-10-29 | 1986-04-29 | Dow Corning Corporation | Silicone pressure-sensitive adhesive process and product with improved lap-shear stability-II |
| US4654233A (en) * | 1984-11-21 | 1987-03-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable thermoplastic coating |
| US4855184A (en) * | 1988-02-02 | 1989-08-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable protective coating composition |
| US5145886A (en) * | 1988-05-19 | 1992-09-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation activated hydrosilation reaction |
| US5126394A (en) * | 1989-10-18 | 1992-06-30 | Dow Corning Corporation | Radiation curable abrasion resistant coatings from colloidal silica and acrylate monomer |
| US5258225A (en) * | 1990-02-16 | 1993-11-02 | General Electric Company | Acrylic coated thermoplastic substrate |
| US6376569B1 (en) * | 1990-12-13 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Hydrosilation reaction utilizing a (cyclopentadiene)(sigma-aliphatic) platinum complex and a free radical photoinitiator |
| EP0666993B1 (en) | 1992-10-29 | 1999-06-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Formable reflective multilayer body |
| AU1866395A (en) | 1993-12-21 | 1995-07-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multilayered optical film |
| US5882774A (en) * | 1993-12-21 | 1999-03-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical film |
| US5648404A (en) * | 1994-04-11 | 1997-07-15 | Borden Inc. | Curatives for phenolic novolacs |
| US5648407A (en) | 1995-05-16 | 1997-07-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Curable resin sols and fiber-reinforced composites derived therefrom |
| US5677050A (en) * | 1995-05-19 | 1997-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Retroreflective sheeting having an abrasion resistant ceramer coating |
| AU6390396A (en) * | 1995-06-26 | 1997-01-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multilayer polymer film with additional coatings or layers |
| US5741552A (en) * | 1995-06-27 | 1998-04-21 | Nippon Paint Co., Ltd. | Coating composition and method for forming multi-layer coating |
| US5688884A (en) * | 1995-08-31 | 1997-11-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymerization process |
| US6087010A (en) * | 1996-06-10 | 2000-07-11 | Nof Corporation | Fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylate composition low refractivity material and reflection reducing film |
| JPH11170442A (ja) * | 1997-12-17 | 1999-06-29 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 透明性赤外線カットオフフィルム |
| US6045894A (en) * | 1998-01-13 | 2000-04-04 | 3M Innovative Properties Company | Clear to colored security film |
| US6531230B1 (en) * | 1998-01-13 | 2003-03-11 | 3M Innovative Properties Company | Color shifting film |
| EP1548045B1 (en) * | 1998-01-13 | 2009-06-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Modified copolyesters |
| US6808658B2 (en) * | 1998-01-13 | 2004-10-26 | 3M Innovative Properties Company | Method for making texture multilayer optical films |
| EP1569015A3 (en) | 1998-01-28 | 2006-03-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An optical detector system |
| US7351470B2 (en) * | 1998-02-19 | 2008-04-01 | 3M Innovative Properties Company | Removable antireflection film |
| US6224949B1 (en) * | 1998-06-11 | 2001-05-01 | 3M Innovative Properties Company | Free radical polymerization method |
| US6329058B1 (en) * | 1998-07-30 | 2001-12-11 | 3M Innovative Properties Company | Nanosize metal oxide particles for producing transparent metal oxide colloids and ceramers |
| US6238798B1 (en) * | 1999-02-22 | 2001-05-29 | 3M Innovative Properties Company | Ceramer composition and composite comprising free radically curable fluorochemical component |
| US6150546A (en) * | 1999-05-03 | 2000-11-21 | General Electric Company | Irradiation-curable silicone compositions, photo-active platinum (IV) compounds, and method |
| US6299799B1 (en) * | 1999-05-27 | 2001-10-09 | 3M Innovative Properties Company | Ceramer compositions and antistatic abrasion resistant ceramers made therefrom |
| US6376590B2 (en) * | 1999-10-28 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia sol, process of making and composite material |
| US6797396B1 (en) * | 2000-06-09 | 2004-09-28 | 3M Innovative Properties Company | Wrinkle resistant infrared reflecting film and non-planar laminate articles made therefrom |
| US6353037B1 (en) * | 2000-07-12 | 2002-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Foams containing functionalized metal oxide nanoparticles and methods of making same |
| US6911254B2 (en) * | 2000-11-14 | 2005-06-28 | Solutia, Inc. | Infrared absorbing compositions and laminates |
| US6565770B1 (en) * | 2000-11-17 | 2003-05-20 | Flex Products, Inc. | Color-shifting pigments and foils with luminescent coatings |
| US6572784B1 (en) * | 2000-11-17 | 2003-06-03 | Flex Products, Inc. | Luminescent pigments and foils with color-shifting properties |
| US6586483B2 (en) * | 2001-01-08 | 2003-07-01 | 3M Innovative Properties Company | Foam including surface-modified nanoparticles |
| US6991695B2 (en) * | 2002-05-21 | 2006-01-31 | 3M Innovative Properties Company | Method for subdividing multilayer optical film cleanly and rapidly |
| DE60317663T2 (de) * | 2002-05-24 | 2008-10-30 | 3M Innovative Properties Co., St. Paul | Fluorchemische zusammensetzung enthaltend einen fluorierten polyether und dessen verwendung zur behandlung von fasermaterialien |
| US6965474B2 (en) * | 2003-02-12 | 2005-11-15 | 3M Innovative Properties Company | Polymeric optical film |
| US7101618B2 (en) * | 2004-05-07 | 2006-09-05 | 3M Innovative Properties Company | Article comprising fluorochemical surface layer |
| US7241437B2 (en) * | 2004-12-30 | 2007-07-10 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia particles |
| CA2593694A1 (en) * | 2004-12-30 | 2006-07-13 | 3M Innovative Properties Company | Articles comprising a fluorochemical surface layer and related methods |
| US7632568B2 (en) * | 2005-01-07 | 2009-12-15 | 3M Innovative Properties Company | Solar control multilayer film |
| US7349151B2 (en) * | 2005-07-12 | 2008-03-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | IR absorbing reflector |
| US7919158B2 (en) * | 2006-06-06 | 2011-04-05 | 3M Innovative Properties Company | Infrared radiation reflecting insulated glazing unit |
| US20080292820A1 (en) * | 2007-05-23 | 2008-11-27 | 3M Innovative Properties Company | Light diffusing solar control film |
-
2007
- 2007-01-19 US US11/625,001 patent/US7709092B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
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- 2008-01-04 EP EP20080713497 patent/EP2121314A1/en not_active Withdrawn
- 2008-01-18 TW TW97102114A patent/TW200848259A/zh unknown
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102031566A (zh) * | 2010-09-20 | 2011-04-27 | 哈尔滨工业大学 | 基于表面等离子体效应的全有机一维光子晶体及制备方法 |
| CN103265829A (zh) * | 2011-11-04 | 2013-08-28 | Sk新技术株式会社 | 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置 |
| CN103265829B (zh) * | 2011-11-04 | 2016-07-06 | Sk新技术株式会社 | 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置 |
| CN102800379A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-28 | 江苏科技大学 | 一种用于线路制造的无需丝网印刷的银导电组合物 |
| CN102800379B (zh) * | 2012-07-31 | 2014-05-07 | 江苏科技大学 | 一种用于线路制造的无需丝网印刷的银导电组合物 |
| CN106832539A (zh) * | 2016-12-08 | 2017-06-13 | 福建恒安集团有限公司 | 一种一次性吸收用品 |
| CN106832539B (zh) * | 2016-12-08 | 2021-05-04 | 福建恒安集团有限公司 | 一种一次性吸收用品 |
| WO2022089460A1 (zh) * | 2020-10-29 | 2022-05-05 | 广东广山新材料股份有限公司 | 一种反应型氟硅树脂及其制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20080176973A1 (en) | 2008-07-24 |
| EP2121314A1 (en) | 2009-11-25 |
| KR20090101495A (ko) | 2009-09-28 |
| JP2010516499A (ja) | 2010-05-20 |
| US7709092B2 (en) | 2010-05-04 |
| WO2008088939A1 (en) | 2008-07-24 |
| TW200848259A (en) | 2008-12-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20091118 |