CN102762510B - 在电极涂层下用高指数层涂布的玻璃基材、以及包含所述基材的有机发光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及玻璃基材(10)，其包含第一面(11)和背对第一面的第二面(12)，所述基材(10)在其第二面上包含电极层(5)，该电极层(5)包含至少一个导电层，特征在于所述基材(10)在其第二面(12)和电极层(5)之间包含至少一个指数为1.7?2.4且包括这些值的玻璃材料层(3)，该玻璃材料层一方面包含40?60wt%且包括这些值、或甚至45?58wt%且包括这些值的氧化铋Bi2O3，以及另一方面包含5?30wt%且包括这些值、优选10?25wt%且包括这些值的ZnO。

Description

在电极涂层下用高指数层涂布的玻璃基材、以及包含所述基 材的有机发光装置
本发明涉及在其面之一上具有电极的玻璃基材。
本发明更特别地涉及用作具有被称作OLED的有机发光二极管的装置的支撑介质的结构的玻璃基材。
OLED包含一种材料，或材料的堆叠，所述材料是有机发光的，并封装在两个电极之间，一个电极被称为下电极，通常是阳极，通过与玻璃基材结合形成，而另一个电极，被称为上电极，通常是阴极，布置在有机发光系统上。
OLED是一种装置，通过使用由阳极注射的孔隙和由阴极注射的电子的重组的能量而电致发光来发射光。
存在的各种OLED的构造为：
●使用底部发光的装置，即具有下部(半)透明电极和上部反射电极；
●使用顶部发光的装置，即具有上部(半)透明电极和下部反射电极；
●使用顶部和底部发光的装置，即既具有下部(半)透明电极，又具有上部(半)透明电极。
本发明涉及使用底部发光和可能也是用顶部发光的OLED装置。
OLED通常可用于显示屏或具有不同约束的照明装置。
对于通常的照明系统，从OLED中提取的光是以光谱的某一特定波长或者甚至是全部波长发射的“白”光。而且必须以均匀的方式发射。在这方面，发射更准确地说是Lambert的，即遵守Lambert定律，特征在于在所有方向上具有相等光度的辐射。
而且，OLED显示低的光提取效率：从玻璃基材中有效发出的光和通过发光材料发出的光的比例相当低，在0.25的数量级上。
一方面，这种现象被解释为由于在电极间，一定量的光子在引导模式下被捕获，另一方面，其被解释为由于基材的玻璃(n约为1.5)和装置外部的空气(n＝1)间的指数的不同造成玻璃基材中的光的反射。
因而需要寻求解决方法，以改善OLED的效率，即增加提取率，同时提供“白”光，换句话说，以可见光谱的特定波长或甚至全部波长发射。
通常提出的解决方法涉及玻璃基材，在玻璃-空气界面情况下，解决方法由于最通常利用几何光学而被称为几何光学解决方案，或者在玻璃-下电极界面的情况下，解决方案由于通常利用衍射光学而被称为衍射光学解决方法。
一种已知的衍射光学型解决方法提供给玻璃-下电极界面以具有形成衍射光栅的周期性突出物的结构。美国专利US 2004/0227462显示一种衍射光学解决方法。为此，所述文献公开了一种OLED，其透明基材，用于下电极和有机层的支撑介质，是具有纹理的。因此，基材的表面具有交替的峰和谷，沉积在其顶部上的下电极和有机层沿袭其轮廓。
然而，尽管所述解决方法对于提取单色光是有效地，即在空间的给定方向上，但是对于单色光而言，其性能不如照明应用中的多色光如白光好。
而且，在所述文献US 2004/0227462中，通过在基材的表面上施加光刻胶掩膜，其图案符合峰谷追求的图案，而后通过掩膜蚀刻表面得到基材的轮廓。所述方法不易于在工业规模上在基材的大表面区域上实施，并且尤其非常昂贵，特别是对于照明应用而言。
国际专利申请WO 05/081334公开了另一种衍射光学解决方法，其包含用通过印花得到的具有纹理的聚合物层覆盖平板玻璃，随后沿聚合物层的轮廓沉积下电极和有机层。规定层的或者周期性或者非周期性波动的尺寸，以使分隔波峰和波谷的距离为0.5μm-200μm。
然而，用此解决方法，已经发现OLED的许多电缺陷。
用沉积在高指数基材上的OLED已经得到最好的电流性能。实际上，通过调节玻璃基材的指数，模型的分布完全可以改进。
实际上，在指数为1.5的玻璃基材的情况下，仅有约50％的光子可以到达基材，剩余的被有机层和下电极捕获。
通过采用与阳极和有机层的指数匹配的指数(约1.8)的基材，先已捕获进阳极和/或有机层中的模式可以被提取，从而可以使约80％的光子可用。
然而，目前可得到的高指数基材非常昂贵并含有有毒元素铅。
在美国专利申请US 2009/0153972中呈现了另一个解决方法：在所述文献中，在玻璃基材的一面上提供玻璃材料层，在所述面和电极层间，玻璃材料层包含漫射元素，所述漫射元素在玻璃材料层中的分布沿电极层方向减少。
因此，玻璃材料层的指数沿电极层的方向增大。
然而，玻璃材料层未显示对通常施加在用电极层涂布的基材上的酸和碱化学蚀刻反应的足够化学耐受性。
因此，本发明的目标是提供由在其表面之一上具有透明电极的无机玻璃制成的基材，基材设计为形成对OLED装置的支撑，所述OLED装置适于照明，其设计简单、可靠并相对于现有解决方法能够改善所述装置发射的光的提取，同时对于生产而言是便宜的。
另一个重要目标是无需任何严重环境限制而制造这样的基材。
另一个重要目标是使制造的基材与有机发光系统的层沉积过程兼容。
本发明基于至少一个特定层的应用，所述层由玻璃材料制成，具有高指数(即大于基材的指数，并且可以低于、等于或高于OLED的指数)，并沉积在基材的第二面和相邻电极层之间。所述层尽管相对是厚的，但是比基材本身薄的多(至少10-100倍薄)，因而比具有高指数的特定基材的制造成本低，同时显示改善的化学耐受性，可以在工业规模上，在有机发光系统的电极层上沉积。
因此，本发明就其最广泛的意义而言，涉及由玻璃制成的基材，所述基材包含第一面和背对第一面的第二面，在其第二面上，所述基材包含电极层，其包含至少一个导电层，特征在于所述基材在其第二面和电极层间，包含至少一个指数为1.7-2.4(包括所述值)的玻璃材料层，一方面，包含40-60wt％(包含所述值)、或甚至45-58wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，以及另一方面，5-30wt％(包含所述值)、优选10-25wt％(包含所述值)的ZnO。
因此，基材具有低指数，范围为1.4-1.6，而玻璃材料层的玻璃材料具有高指数，高于基材的低指数。所述高指数低于、等于或高于光线发射源的通常高指数，和有机发光系统显著高指数。
贯穿本说明书，本发明的基材被认为是水平放置的，其第一面朝下，背对第一面的第二面朝上；因而，表述“之上”和“低于/之下”的方向考虑上述取向。没有特别规定，表述“之上”和“低于/之下”不必意味着两个元件彼此接触放置。
在此所用的术语“下”和“上”参考上述定位。
贯穿本说明书，术语“指数”参考光学折射率，在590nm的波长下测量。
玻璃材料层可以是本领域内的技术人员称为搪瓷或玻璃料的那些。
所述玻璃材料层的厚度优选为1μm-100μm，或2μm-80μm，或甚至5μm-60μm。
在第二面和电极层间，依据本发明的基材可包含若干各自具有不同指数的玻璃材料层，在基材的所述第二面的方向上放置的一个玻璃材料层的指数低于另一个在所述电极层的方向放置的玻璃材料层，所述玻璃材料层优选全部包含，一方面，40-60wt％(包含所述值)、或甚至45-58wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，以及另一方面，5-30wt％(包含所述值)、优选10-25wt％(包含所述值)的ZnO。
因此，可以在电极层和低指数基材间产生二阶(二层)、或更多的具有逐步降低的指数的指数梯度，每个玻璃材料层的指数范围优选在1.7-2.4之间。
然而，对于至少两个玻璃材料层，可能不具有相同比例的氧化铋Bi2O3和/或不具有相同比例的氧化锌ZnO，而仍然保留上述宽广的范围。因此，一方面，对于一个玻璃材料层，可以包含40-60wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，而另一个玻璃材料层包含45-58wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，和/或另一方面，对于一个玻璃材料层，可以包含5-30wt％(包含所述值)的ZnO，而另一个玻璃材料层包含10-25wt％(包含所述值)的ZnO。
依据本发明的一个变体实施方案，至少一个玻璃材料层，如果有若干层，优选每个玻璃材料层，包含漫射元件，特别是气泡和/或指数与玻璃材料层不同的颗粒，如含有氧化钛的颗粒，其指数为2.4-2.7，和/或晶体，如锆石或斜锆石晶体。
因此，依据本变体，所述玻璃材料层或至少所述玻璃材料层之一，或甚至全部玻璃材料层为固有漫射层。
依据另一个变体实施方案，至少一个玻璃材料层，如果有若干层，优选每个玻璃材料层，包含以重量计：
●0％-10％，优选0-5％的SiO2，
●0％-5％，优选0-1％的Al2O3，
●8％-25％，优选10-22％的B2O3，
●0％-10％，优选0-5％的CaO，
●0％-20％，优选0-15％的BaO，
●0％-5％，优选0-3％的Li2O，
●0％-10％，优选0-5％的Na2O，
●0％-5％，优选0-3％的K2O，
●0％-5％，优选0-4％的ZrO2，
●0％-5％的SrO，
●0％-5％的La2O3，
在这些范围中包括所述值。
依据另一个变体实施方案，所述基材包含漫射元件，特别是气泡和/或指数与玻璃材料层不同的材料的颗粒，如含有氧化钛的颗粒，其指数为2.4-2.7，和/或晶体，如锆石或斜锆石晶体。
基材的一面或基材的每一面(基材的所述第一面和/或所述第二面)可以是漫射面，和/或可以用漫射层涂布。
因此，所述玻璃材料层和基材间的界面显示的形态学具有特征标度，以使光反射(特征标度大于可见波长的3倍，以所述方式，几何光学的定律可以适用)，或散射(特征标度与可见波长相当，以使波动光学适用)。因此，通过有机材料发射并穿过高指数玻璃材料传播的可见光更有效地传输进具有低指数的基材中。
基材可以是粗糙的，在15mm的分析长度上，用具有0.8mm的截止频率的高斯滤波器，通过粗糙度参数Ra定义的粗糙度为1-5μm，优选1-3μm。
基材的粗糙度的特征在于公知的粗糙度参数Ra，其是轮廓的算术平均偏差，相当于平均振幅。为了定义粗糙基材，可以使用公知的粗糙度参数RSm作为补充，其是轮廓的元件宽度的平均值。因此，在15mm的分析长度上，用具有0.8mm的截止频率的高斯滤波器，参数RSm可以为40μm-100μm，或更优选45-65μm。
通过玻璃基材的磨砂，例如通过氢氟酸得到粗糙度。粗糙基材的一个实例为由Omnidecor公司生产的玻璃(丝绸纹理)。
其他类型的可以用酸蚀刻的玻璃可以选择例如：
●由Sevasa公司生产的玻璃，
●由The Veneciana of Saint-Gobain公司生产的玻璃，
●由Dekormat Glass公司生产的玻璃。
依据扩展视野彩色显微镜的原理，例如用STIL公司的MIM2基站，使用光学剖面测定器测量粗糙度。
可以重复30次测量，轮廓间隔为1mm。
粗糙基材的突出物例如基本上成角锥状，随机型分布，各向同性漫射光。
依据本发明的基材特别设计为在电极层上包含有机发光系统。此OLED装置具有高指数(或中间范围指数)：其等于或高于基材自身的指数。
因此本发明涉及下列类型的结构：低指数基材/具有高指数的玻璃材料层/电极层。
具有此结构的此基材的可见光透射率可以等于或高于80％。
本发明因此涉及一种装置，其具有可以发射多色光的有机发光二极管，包含依据本发明的基材，以及形成装置的一个电极的电极层。
本发明还涉及依据本发明的基材在具有有机发光二极管(如发光系统)、形成装置的一个电极的电极层的装置中作为支撑介质的用途。
本发明还涉及一种制造玻璃基材的方法，所述玻璃基材包含第一面和背对第一面的第二面，尤其是制造依据本发明的基材的方法，所述基材在其第二面上包含电极层，该电极层包含至少一个导电层，特征在于在沉积所述电极层之前，在所述基材的所述第二面上沉积至少一个指数为1.7-2.4(包括所述值)的玻璃材料层，所述玻璃材料层一方面，包含40-60wt％(包含所述值)、或甚至45-58wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，以及另一方面，5-30wt％(包含所述值)、优选10-25wt％(包含所述值)的ZnO，所述玻璃材料层优选由玻璃料沉积，尤其通过丝网印刷或通过溅射涂覆。
有利的，一方面，玻璃材料层(优选每个玻璃材料层)中的氧化铋的比例和，另一方面，氧化锌的比例容许形成具有高指数，并具有强化的化学耐受性的一层(或若干层)。通过至少在其特定区域上的所述两种氧化物的组合作用得到所述耐受性。
特别的，此化学耐受性使得用玻璃材料层涂布的基材能够用于电子组件和装置的制造过程中。
实际上，电子工业用于洁净室基材，首先，其必须承受浴中的手动或自动清洁程序。所述清洁程序必须在沉积有机发光系统之前，从基材上去除任何痕量的有机或无机材料，以及任何痕量的颗粒。因此在每个步骤间的中间冲洗阶段，每个基材连续与碱性或酸性清洁液接触穿过。而且，在洗涤剂存在下和/或超声和/或通过使用接近约40℃的温度，清洁能力通常得到强化。
因而，一系列浴的实例包含：
●第一浴具有包含碱性洗涤剂的去离子水溶液，设计为溶解沉积或凝结在表面上的有机材料，而后
●用于在硬水中冲洗的第二浴，设计为冲洗并消除任何痕量的碱性洗涤剂，而后
●具有酸性洗涤剂的去离子水溶液的第三浴，设计为溶解任何潜在污染物，如无机材料的盐或金属氧化物的盐，而后
●具有硬水的第四浴，用于冲洗和消除任何痕量的酸洗涤剂，而后
●去离子水的第五和第六浴，用于消除任何来自第四硬水浴的无机盐，以及公知的对应于特别在玻璃基材上的痕量物质的无机盐。
每个浴被规定在至少30-40℃的温度，清洗浴，在前面被称为一和二，可以配有超声源，其有利于活性溶液的恢复并增强清洁过程的效率。第五浴可以具有更高频率的超声源，目的在于消除固体颗粒或纤维。
所述一系列浴的实例设计为在沉积依据本发明的一个(或多个)玻璃材料层之前，用于基材清洗，并可以在沉积任何其他层或堆叠之前，用于清洗所述玻璃材料层。
还有利的，依据本发明的解决方案可允许高指数层用在标准低指数的标准玻璃基材的顶部上，其允许单独具有类似高指数基材+漫射元素组装的光学行为。因此，用于增加提取率的两个基础元素(指数和漫射)组合进提供的玻璃材料层(或层的组装)。
本发明将通过阅读以下非限制性示例性实施方案的详细说明以及附图更好地理解。
●图1图解说明了依据本发明的第一变体实施方案涂布的基材的截面图；和
●图2图解说明了依据本发明的第二变体实施方案涂布的基材的截面图。
要注意的是，在所述附图中，为了便于阅读，显示的各种元件并未遵循其之间的比例。
依据本发明的基材10，如图1和2中所示，是由玻璃制成的，包含第一面11和背对第一面的第二面12，共同具有圆周边缘。
此基材具有常规指数，在这个意义上，对于其无需采用特别措施以具有高指数，其范围为1.4-1.6。在此考虑的范围中，所述指数被称为“低”。
在其第二面12之上，基材10包含电极层5，其是透明的，并包含至少一个导电层，如透明导电氧化层，TCO，或一个或多个薄金属层，如在国际专利申请WO 2008/029060中教导的。
依据本发明，在其第二面12和电极层5之间，基材10包含至少一个指数为1.7-2.4(包括所述值)的玻璃材料层3，在此更准确的是1.8-2.0(包括所述值)。在此讨论的范围中，所述指数被称为“高”。
玻璃材料可以包含若干不同组合物的层，如在以下所解释的。
玻璃材料的总厚度优选为1μm-100μm，或2μm-80μm，或甚至为5μm-60μm或者5μm-80μm。
当最终沉积在基材上时，用于玻璃材料层的玻璃材料包含：
●一方面，40-60wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，另一方面，5-30wt％(包含所述值)，或甚至10-25wt％(包含所述值)的氧化锌ZnO；或，
●一方面，45-58wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，另一方面，5-30wt％(包含所述值)，或甚至10-25wt％(包含所述值)的氧化锌ZnO。
在图1和2中，在电极层5的顶部示出了有机发光系统7。双箭头说明光通过所述系统发射。
在图1说明的第一变体中，所述玻璃材料层3全部由依据本发明的高指数单层制成。
在图2说明的第二变体中，作为第一变体的替代，玻璃材料层3包含依据本发明的高指数单层，并且还包含漫射元件。这些漫射元件能够使漫射光给予到玻璃材料层。所述漫射元件具有与高指数介质中的光的波长相当或更大的特征尺寸，其相当于几百纳米到几微米范围内的尺寸。
所述漫射元件例如为：
●在层中的尺寸和浓度受到控制的气泡，和/或
●不同指数的材料的颗粒，例如含有氧化钛的颗粒，其具有2.4-2.7的指数，和/或
●晶体，如锆石或斜锆石晶体。
如在先指出的，在第二面12和电极层5之间，优选可以放置若干玻璃材料层3，每个玻璃材料层具有不同的指数，在基材10的所述第二面12的方向上放置的一个玻璃材料层的指数比在所示电极层5的方向上放置的另一个玻璃材料层的指数低。
因此，可以用若干玻璃材料层3产生指数梯度，由于具有不同的指数，每个玻璃材料层具有不同的组合物。那么，每个玻璃材料层3的指数优选为1.7-2.4。
因此，可以用2、3、4、或甚至更多玻璃材料层3产生玻璃涂层。为了使其具有化学耐受性，每个玻璃材料层3包含：
●一方面，40-60wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，另一方面，5-30wt％(包含所述值)，或甚至10-25wt％(包含所述值)的氧化锌ZnO；或，
●一方面，45-58wt％(包含所述值)的氧化铋Bi2O3，另一方面，5-30wt％(包含所述值)，或甚至10-25wt％(包含所述值)的氧化锌ZnO。依据本发明的一个(或每个)玻璃材料层3的组合物优选以重量计为
表1
对于在基材上沉积的单层玻璃材料层3，以下两个组合物(以wt％计)已被测试：
表2
实例1 实例2
SiO2 12.1 3.8
Al2O3 0.2 0.40
B2O3 27.75 15.60
CaO 0 0
BaO 0 0
Li2O 0 0
Na2O 16.7 2.50
K2O 0 0.80
ZnO 41.5 17.40
Bi2O3 0 54.60
ZrO2 0.1 4.40
F 1.6 0
SrO 0 0
La2O3 0 0
指数n(590nm) 1.58 1.90
(考虑测量误差，每个成分的比例的总和等于100)
使用下表中列出的酸、碱、市售洗涤剂和溶剂对每一个上述两个实例进行全部系列的测试：
表3
(RBS 2％是碱的碱性溶液，其是离子和非离子洗涤剂+磷酸盐和多磷酸盐的混合物，浓度以体积计为2％，即，pH约为11)
用于测试的基材(实例1和2)不具有适于提取光的粗糙度；其上已经沉积玻璃材料层的基材的面不包含漫射方式。
通过将4cm宽和7cm高以及2mm厚的测试片浸入左手列中指定的浴中实施每次测试，每个测试片在浴中浸没至多其高度的80％，测试片仅由用约15μm的玻璃材料层3涂布的基材10构成。
两个实例的化学耐受性可以依据下列耐受性级别而视觉上可见：
●水平N5：层的全部损失
●水平N4：随着通过溶解的局部消失而严重退化
●水平N3：随着诸如表面腐蚀、漂白或消光的颜色改变而显著退化
●水平N2：随着局部浸渍并相应于液气界面的边界的出现而开始蚀刻反应
●水平N1：没有可见的反应
通过改变透光率(TL)和漫透射(TD)值，也可以发现纹理的变化。用Hazemeter BYK型装置测量所述值。
如表3可见，包含铋的实例2的层接受在下列浴中在25℃或40℃下10mn的浸渍：
●pH4的酸：盐酸、硫酸、磷酸。
●市售洗涤剂：Franklab neutrax 1％pH 4、Franklab TFD 66 4％pH 11和2％的RBS 25
相对于实例1的层，在下列浴中浸渍10mn时，实例2的所述层显示强化的耐受性：
●25℃下pH2的酸：盐酸、磷酸。
●25和40℃下的市售洗涤剂：Franklab neutrax 1％pH 4、Franklab TFD 66 4％pH 11和2％的RBS。
显示良好化学耐受性的这些结果已被在pH11和13的苛性钠中的测试以及超声测试证实。
下列两个组合物(以wt％计)已经用于单个玻璃材料层3的测试，所述两个组合物给出类似实例2的结果：
表4
实例3 实例4
SiO2 3.9 4.14
Al2O3 0.4 0.6
B2O3 16.4 10
CaO 0 0.04
BaO 0 0
Li2O 0 <0.05
Na2O 2.6 2.15
K2O 0.8 0.03
ZnO 18.3 25.4
Bi2O3 57.5 57.6
ZrO2 0 0
SrO 0 0
La2O3 0 0
指数n(590nm) 1.83 1.91
(考虑测量误差，每个成分的比例的总和等于100)
对于基材一个面或基材的每一面(基材的所述第一面和/或所述第二面)，还可以是漫反射面和/或用至少一个漫反射层涂布。
玻璃材料层3可以由玻璃料沉积，尤其通过下文中解释的丝网印刷。
具有强化的化学耐受性的玻璃材料层3的制造可以依据不同工业方法实施，优选通过丝网印刷。
胶
用于丝网印刷的胶包含以重量计10-50％的丝网印刷介质，其用于携带颗粒，以穿过应用丝网。所述介质可以是有机的，包含醇、二醇、酯、松油醇，当与最终的无机颗粒或纤维素醚结合时，其赋予胶临界流体性质。所述介质还可以是矿物，如钠、钾或锂的硅酸盐，或者硅胶。固体部分基本上含有金属氧化物或矿物质，如具有高比例的氧化铋的玻璃料。氧化铋提供层的化学耐受性和其高指数属性。至少还可以通过更小量的诸如钛、钡、锌、钙等的元素的氧化物、硫酸盐或碳酸盐类型的亚微颗粒的组合而强化。
在行星搅拌器中用盘式分散器在高速下使成分成浆。也可以使用低速系统作为补充，无论其在高速操作之前或者之后。所述第三系统包含捏合机或打浆机型搅拌器、或烧瓶搅拌器，包含在辊搅拌器上处理若干小时的球，在几转每分钟的低速下操作。使用Egman测量器，通过缺乏颗粒或缺乏聚集体而认可胶的质量。
沉积
沉积机械可以是电子型的缩减版(EKRA、DEK)或关于平板玻璃的工业尺寸(THIEME)。丝网包含织物网(例如聚酯)或金属网。掩膜可以包含光刻胶或金属箔。拉绒工具和刮刀由聚合物、碳或金属制成。沉积厚度为在玻璃基材上10-100μm。首先通过选择丝网的目径及其张力提供厚度的控制。还通过调节丝网和基材间的距离以及压力和用于刮刀的位移速度控制厚度。通过在涂布或未涂布区域间使用Rodenstock型激光光学测试台检查厚度。在约100-150℃下，依据使用的介质的属性，在红外或紫外辐射通道中干燥沉积物。
高指数层的沉积还可以通过丝网印刷外的其他方式实施：例如辊涂、浸渍涂布、刮涂、溅射、旋涂或通过垂直流涂布。
改变粉末-液体比率和添加剂，以适应对所选沉积模型的组合物的流变性。两个不同的沉积模型可以连续使用，以形成类似层的堆叠，或者用不同组合物，或者用一个或多个成分的梯度。
固化
所用的烘箱可以在辊上的输送而处于动态，像汽车后窗的固化，或优选位于金属或玻璃-陶瓷板上而处于静态，用于保持基材平坦。一个优选方式是用5-10℃/mn的缓慢升温固化，包含若干分钟到几十分钟的平台。固化时间和处于550-670℃间的温度使粗糙度最小化，气泡的数量和尺寸可控，以及晶体的生长被限制。
对清洗的耐受性
电子工业通常用于洁净室基材，包含或不包含层，其首先必须承受浴中的手动或自动清洗过程。所述清洗过程必须从基材上去除任何痕量的有机或无机材料，以及颗粒。因此，基材连续穿过浴碱和酸洗涤剂溶液接触的阶段，具有中间清洗步骤。通过洗涤剂的存在、超声以及通常接近40℃的温度可以强化清洗能力。
富含铋并含有高指数玻璃层的锌的组合物赋予其在诸如上述浴的所述攻击环境的高耐受性。依据相同制造方法形成的硼酸锌型玻璃层(如实例1)在相同清洗条件下被完全毁坏。通过用Hazemeter(Hazeguard BYK)测量光和漫透射的值的变化对所述漫射层的退化进行评估。
两个类型的电极已被沉积在实例2的两个样品上：
●一方面，由基于ITO沉积热(300℃)的TCO电极在基材的快速升温(约50℃每分钟)制成电极
●和，另一方面，通过依据国际专利申请WO 2008/029060中教导的冷溅射，由TCC制成电极，
并使每个样品在每个电极的沉积之前经历上述需要的清洗。
在电极沉积之前，或者之后，未观察到玻璃材料层的退化。
依据本发明的玻璃材料层的化学耐受性通过如下事实强化，即玻璃材料层具有低组成的水溶性氧化物。水溶性氧化物尤其是钠和钾型的碱性氧化物，其浓度低于15wt％，优选低于5wt％。
在上文中通过实例描述了本发明。不言而喻，本领域内的那些技术人员可以实施本发明的变体，然而不偏离如通过权利要求确定的本发明的范围。

Claims (20)

1.玻璃基材(10)，其包含第一面(11)和背对第一面的第二面(12)，所述基材(10)在其第二面上包含电极层(5)，该电极层(5)包含至少一个导电层，特征在于所述基材(10)在其第二面(12)和电极层(5)之间包含各自具有不同指数的若干玻璃材料层(3)，至少一个玻璃材料层(3)的指数为1.7-2.4且包括这些值，在基材(10)的所述第二面(12)的方向放置的一个玻璃材料层的指数低于在所述电极层(5)的方向放置的另一个玻璃材料层的指数，所述玻璃材料层一方面包含40-60wt％且包括这些值的氧化铋Bi2O3，以及另一方面包含5-30wt％且包括这些值的ZnO。
2.权利要求1的基材(10)，所述玻璃材料层一方面包含45-58wt％且包括这些值的氧化铋Bi2O3，以及另一方面包含10-25wt％且包括这些值的ZnO。
3.权利要求1的基材(10)，特征在于所述玻璃材料层(3)的厚度为1μm-100μm。
4.权利要求3的基材(10)，特征在于所述玻璃材料层(3)的厚度为2μm-80μm。
5.权利要求3的基材(10)，特征在于所述玻璃材料层(3)的厚度为5μm-60μm。
6.权利要求1或2的基材(10)，特征在于至少一个玻璃材料层(3)包含漫射元件。
7.权利要求1或2的基材(10)，特征在于至少一个玻璃材料层(3)包含气泡和/或指数与玻璃材料层的指数不同的材料的颗粒和/或晶体。
8.权利要求1或2的基材(10)，特征在于至少一个玻璃材料层(3)以重量计包含：
● 0％-10％的SiO2，
● 0％-5％的Al2O3，
● 8％-25％的B2O3，
● 0％-10％的CaO，
● 0％-20％的BaO，
● 0％-5％的Li2O，
● 0％-10％的Na2O，
● 0％-5％的K2O，
● 0％-5％的ZrO2，
● 0％-5％的SrO，
● 0％-5％的La2O3，
在这些范围中包括端点值。
9.权利要求1或2的基材(10)，特征在于至少一个玻璃材料层(3)以重量计包含：
● 0-5％的SiO2，
● 0-1％的Al2O3，
● 10-22％的B2O3，
● 0-5％的CaO，
● 0-15％的BaO，
● 0-3％的Li2O，
● 0-5％的Na2O，
● 0-3％的K2O，
● 0-4％的ZrO2，
● 0％-5％的SrO，
● 0％-5％的La2O3，
在这些范围中包括端点值。
10.权利要求1或2的基材(10)，特征在于所述基材(10)包含漫射元件。
11.权利要求1或2的基材(10)，特征在于所述基材(10)包含气泡和/或指数不同于玻璃材料层的指数的材料的颗粒和/或晶体颗粒。
12.权利要求1或2的基材(10)，特征在于基材(10)的所述第一面(11)是漫射表面和/或用漫射层涂布。
13.权利要求1或2的基材(10)，特征在于基材(10)的所述第二面(12)是漫射表面和/或用漫射层涂布。
14.权利要求1或2的基材(10)，特征在于其在电极层(5)之上包含有机发光系统(7)。
15.具有发射多色光的有机发光二极管的装置，其包含权利要求1-14之一的基材(10)，且电极层(5)形成装置的一个电极。
16.权利要求1-14之一的基材(10)作为具有有机发光二极管的装置中的支撑物的用途，电极层(5)形成装置的一个电极。
17.权利要求16所述的用途，所述具有有机发光二极管的装置为照明系统。
18.一种制造依据权利要求1-14之一的基材(10)的方法，所述基材(10)在其第二面上包含电极层(5)，该电极层包含至少一个导电层，特征在于在沉积所述电极层(5)之前，在所述基材(10)的所述第二面(12)上沉积至少一个指数为1.7-2.4且包括这些值的玻璃材料层(3)，所述玻璃材料层(3)一方面包含40-60wt％且包括这些值的氧化铋Bi2O3，以及另一方面包含5-30wt％且包括这些值的ZnO，所述玻璃材料层(3)由玻璃料沉积。
19.权利要求18的方法，所述玻璃材料层一方面包含45-58wt％且包括这些值的氧化铋Bi2O3，以及另一方面包含10-25wt％且包括这些值的ZnO。
20.权利要求18的方法，所述玻璃材料层(3)通过丝网印刷或通过溅射涂覆由玻璃料沉积。
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