JP2016508952A - 有機発光ダイオードを有するデバイスのための基材 - Google Patents

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Abstract

本発明は、有機発光ダイオードを有するデバイスのための散乱基材であり、その面のうちの１つをガラス質材料を含む層で被覆されたガラスシートを含む散乱基材であって、前記ガラス質材料が、以下に規定する重量範囲内で変動する以下の成分、すなわち、Ｂｉ2Ｏ3６０〜８５％、Ｂ2Ｏ3５〜１２％、ＳｉＯ2６〜２０％、ＭｇＯ＋ＺｎＯ ０〜９．５％、Ａｌ2Ｏ3０〜７％、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ ０〜５％、ＣａＯ ０〜５％、ＢａＯ ０〜２０％、を含む化学組成を有する、有機発光ダイオードを有するデバイスのための散乱基材に関する。

Description

本発明は、有機発光ダイオードを有するデバイスのための基材の分野に関する。より詳細には、本発明は、層の形成に特に適するガラス質材料及びガラスフリットの化学組成に関する。
本技術分野にて通常用いられるように本書の以下においてＯＬＥＤと称する有機発光ダイオードを有するデバイスは、エレクトロルミネッセンス現象によって光を発するデバイスである。これらのＯＬＥＤデバイスは一般的に、２つの電極の間の有機発光系を含む。電極のうちの一方は、電気伝導性電気層の形でガラスシート上に被着される。ＯＬＥＤデバイスは、視覚化スクリーンとして、又は照明デバイスとして使用することができる。
照明デバイス（ランプなど）としての１つの用途において、デバイスから抽出される光は多色性白色光である。しかし、光抽出効率は、本質的に低く、約０．２５であり、光はデバイスの様々な構成要素間の様々な屈折率のためデバイス内に捕捉される。
この問題を解決するために、例えば国際公開第２０１１／０８９３４３号から、ガラスシート（ソーダ石灰シリカガラスから作られる場合、屈折率１．５）と電極との間に高屈折率（典型的には１．７と２．０の間）を持つガラス質材料と、粒子を例とする散乱要素とを含む内部散乱層を設けることが公知の手法となっている。上述の特許出願明細書には、化学組成が４０重量％〜６０重量％のＢｉ2Ｏ3及び５重量％〜３０重量％のＺｎＯを含むガラス質材料が記載されている。
ガラス質材料は、一般的に、ガラスフリット（当該材料と同じ化学組成を有する）及び典型的には有機物の媒体を混合してペーストを作製し、それをガラスシート上に被着させてからそれを焼成する方法によって得られる。
ガラスフリットのガラス転移温度は、ガラスシートが変形し得ない温度で焼成できるようにするために、充分に低くなければならない。同時に、焼成の際に、過大な粗さ及びさらにはたくさんの光の吸収を発生させる効果を持つフリットの結晶化（失透）が起こってはならない。
フリットの線熱膨張係数もまた、ガラスシートのそれに相応している必要があり、冷却の過程で損傷を起こす可能性のある機械的応力がガラス質材料に発生することを回避するため、一般的にはガラスシートのそれに近いか、又は僅かにそれよりも低くなければならない。
短絡を起こす可能性のある層上へのダストの被着を回避する目的で、電気伝導性層の被着の前に層の充分な洗浄を行うことが一般的な手法である。この洗浄では一般的に、超音波槽を通過させることが行われ、そこにおいて層は逐次的な塩基性洗浄剤（表面に残った粒子を取り除くため）及び酸性洗浄剤（層の表面の中和及び粒子の再被着の防止のため）の作用を受ける。酸による攻撃は、ガラス質材料を劣化させて、最終用途にとって許容できない表面粗さを生じさせかねない。
本発明の目的は、改善された耐化学薬品性、特に耐酸性、高い屈折率、適切な熱膨張係数、及び適切なガラス転移温度、そして低い失透可能性をうまく兼ね備えるガラス質材料（及びガラスフリット）の組成を提供することである。
この趣旨で、本発明が対象とするものは、片面をガラス質材料を含む層で被覆されたガラスシートを含む、有機発光ダイオードを有するデバイスのための散乱基材であって、当該ガラス質材料が、以下で規定する重量範囲内で変動する以下の成分、すなわち、
Ｂｉ2Ｏ3 ６０〜８５％
Ｂ2Ｏ3 ５〜１２％
ＳｉＯ2 ６〜２０％
ＭｇＯ＋ＺｎＯ ０〜９．５％
Ａｌ2Ｏ3 ０〜７％、特に０〜５％
Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ ０〜５％
ＣａＯ ０〜５％
ＢａＯ ０〜２０％
を含む化学組成を有する、有機発光ダイオードを有するデバイスのための散乱基材である。
本発明が対象とするものはまた、本発明による散乱基材を含む、有機発光ダイオードを有するデバイスであって、電気導電性層がガラス質材料を含む層上に配置されている、有機発光ダイオードを有するデバイスでもある。
「上に」又は「下に」という用語の使用は、必ずしも層が接触していることを意味するつもりではなく、層が基材に近い（「下に」）又はそれから遠い（「上に」）ことのみを意味することを意図している。しかし、層が接触している場合を除外するものではない。
本発明が対象とするものはまた、化学組成が以下で規定する重量範囲内で変動する以下の成分、すなわち、
Ｂｉ2Ｏ3 ６５〜８５％
Ｂ2Ｏ3 ５〜１２％
ＳｉＯ2 ６〜２０％
ＭｇＯ＋ＺｎＯ ０〜９．５％
Ａｌ2Ｏ3 ０〜５％
Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ ０〜５％
ＣａＯ ０〜５％
ＣａＯ＋ＭｇＯ ≧０．５
ＢａＯ ０〜２０％
を含むガラスフリットでもある。
以降で詳細に述べる酸化物含有量に関する好ましい特徴は、ガラスシート上に被着したガラス質材料の化学組成と、ガラスフリット（被着に用いられる）の化学組成の両方に関する。本書全体を通して、記載する含有量は重量含有量である。
Ｂｉ2Ｏ3の重量含有量は、有利には少なくとも６２％、特に６３％、あるいはさらには６４％若しくは６５％であり、及び／又は最大で８３％、特に８２％、あるいはさらには８１％、さらには８０％、７９％若しくは７８％である。それは好ましくは、６５％〜８０％の範囲、特に６８％〜７５％の範囲に含まれる。Ｂｉ2Ｏ3の含有量が少な過ぎると、所望される屈折率を得ることが可能でなくなり、その一方含有量が多過ぎると、ガラスが許容されない黄変を起こす結果となる。
Ｂ2Ｏ3の重量含有量は、好ましくは少なくとも６％、特に７％若しくは７．５％であり、及び／又は最大で１１％、特に１０％、さらには９．５％若しくは９％である。それは好ましくは、６％〜１１％の範囲、特に７％〜１０％の範囲に含まれる。Ｂ2Ｏ3の含有量が多いと、ガラス転移温度を上昇させ、材料の耐化学薬品性を低下させることになり、その一方含有量が少な過ぎると、ガラスをより容易に失透させる。
ＳｉＯ2の重量含有量は、好ましくは少なくとも７％、特に７．５％、さらには８％であり、及び／又は最大で１８％、１７％、１６％、１５％、１４％、若しくは１３％、特に１２％若しくは１１％、さらには１０％若しくは９％である。それは好ましくは、７％〜１２％の範囲、特に７．５％〜１０％の範囲に含まれる。ＳｉＯ2の含有量が多過ぎることは、屈折率の不利な低下をもたらし、その一方含有量が少な過ぎると、耐化学薬品性及び熱安定性の両方が低下する。
ＺｎＯの重量含有量は、好ましくは最大で９．５％、特に９％若しくは８％、或いは７％若しくは６％若しくは５％であり、さらには５％未満である。１つの実施形態によると、ＺｎＯ含有量は、最大で１％、特に０．５％、又は０．１％、或いはさらにはゼロである。ＺｎＯの重量含有量は好ましくは、２％〜８％の範囲、特に３％〜６％の範囲に含まれる。大きいＺｎＯ含有量は、良好な耐化学薬品性、特に耐酸性に悪影響を及ぼし、失透のリスクを上昇させる。
ＭｇＯの重量含有量は、好ましくは最大で３％、特に２．５％、さらには２％である。特定の実施形態では、この含有量は０．５％未満、さらには０．１％未満、さらにはゼロである。別の実施形態では、ＭｇＯ含有量は、少なくとも０．５％、特に１％であり、もっと言えば０．５％〜３％の範囲、特に１％〜２．５％の範囲に含まれる。ＭｇＯの添加により、ガラス質材料の耐化学薬品性を改善することが可能になる。
ＭｇＯとＺｎＯの重量含有量の合計（ＭｇＯ＋ＺｎＯ）は、有利には少なくとも１％、特に２％若しくは３％、さらには４％若しくは５％であり、及び／又は最大で９％、特に８％、さらには７％である。それは好ましくは、２％〜９％の範囲、特に３％〜８％又は２％〜５％の範囲に含まれる。ＭｇＯとＺｎＯの累積含有量が多過ぎると、フリット製造時の失透のリスクの原因になることが分かってきた。
ＣａＯの重量含有量は、好ましくは最大で４％、さらには３％又は２％である。特定の実施形態では、この含有量は０．５％未満、さらには０．１％未満、又はさらにはゼロである。別の実施形態では、ＣａＯ含有量は少なくとも０．５％、特に１％であり、もっと言えば１％〜４％、特に１．５％〜３．５％の範囲に含まれる。
ＣａＯとＭｇＯの重量含有量の合計は、好ましくは少なくとも０．５％、特に１％若しくは１．５％、さらには２％若しくは３％である。しかし、１つの実施形態によると、それは０．５％未満、さらには０．１％未満、又はさらにはゼロでよい。ＣａＯとＭｇＯの重量含有量の合計は、好ましくは０．５％〜４％の範囲に含まれる。ＺｎＯ含有量の減少を補充するものとしてのＣａＯ及び／又はＭｇＯの添加は、ガラス質材料の耐酸性を改善する。
Ａｌ2Ｏ3の含有量は、好ましくは少なくとも１％、特に２％である。それは好ましくは、１％〜６％又は１％〜４％の範囲、特に２％〜３％の範囲に含まれる。アルミナの添加により、材料の耐化学薬品性の改善が可能になる。
ＢａＯの含有量は、有利には最大で１０％、特に５％、さらには３％、或いは１％若しくは０．５％、さらには０．１％である。それはゼロであってもよい。
アルカリ金属酸化物（Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ）の合計含有量は、好ましくは最大で３％、特に２％、及びさらには１％若しくは０．５％である。１つの好ましい実施形態によると、この含有量は好ましくは、０．０２％〜１％の範囲、特に０．０５％〜０．２％の範囲に含まれる。この場合、存在する唯一のアルカリ金属酸化物はＮａ2Ｏであるのが有利である。アルカリ金属酸化物の添加には、低含有量であってもガラス転移温度を大きく低下させる効果がある。
上述の酸化物、又は酸化物の群の各々について、下限の各々を上限の各々と組み合わさることができるが、簡潔とするために、考え得る範囲のすべてをここで振り返ることはしない。同様に、所定の酸化物についての各範囲を、他の酸化物の他のいずれの範囲と組み合わせてもよい。やはりここでも、本書を必要以上に大部としないように、すべての組み合わせを示さなくてもよかろう。特定の好ましい組み合わせを、以下の表１及び２にまとめて示す。
Figure 2016508952
Figure 2016508952
表１及び表２は、これまでに規定した範囲の組み合わせから得られる特に好ましい１０の組成を明らかにするものである。これらの範囲の各々は、これらの表から得られる他の酸化物に対する他のいずれの範囲とも組み合わせてよいことは言うまでもない。
好ましくは、Ｂｉ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＢａＯ及びＣａＯの重量含有量の合計は、少なくとも９５％、特に９６％又は９７％、さらには９８％又は９９％である。好ましくは、Ｂｉ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、ＭｇＯ及びＣａＯの重量含有量の合計は、少なくとも９５％、特に９６％又は９７％、さらには９８％又は９９％である。
Ｐ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5及びＶ2Ｏ5の合計含有量は、好ましくは最大で１％、特に０．５％、さらにはゼロである。この組成は、酸化鉛を含まないことが好ましい。
ガラス質材料又はフリットの化学組成は、有利には、酸化物ＴｉＯ2及び／又はＳｎＯ2を含むことができ、これらは酸に対する耐性を改善するという点で特に有効であることが示されている。ＴｉＯ2含有量は、好ましくは少なくとも０．５％若しくは１％であり、及び／又は最大で５％、特に２％である。ＳｎＯ2含有量は、好ましくは少なくとも０．２％若しくは０．５％であり、及び／又は最大で５％、特に３％若しくは２％である。
別の実施形態によると、ＴｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量は最大で１％、特に０．５％、さらには０．１％、或いはさらにはゼロであり、これらの酸化物はこの種のガラスの失透を阻害する作用を示すことができる。
着色成分（Ｆｅ2Ｏ3、ＣｕＯ、ＣｏＯ、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｎＯ2、Ｓｅ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｎｄ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3）の合計含有量も、ゼロであることが好ましい（不可避不純物を除いて）。
層の光吸収率を低減する目的で、特にその黄色を弱めるために、組成に酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）を加えてもよい。その含有量は、好ましくは少なくとも１％、特に２％であり、及び／又は最大で５％、特に４％又は３％である。
ガラス質材料又はガラスフリットを構成するガラスの５５０ｎｍの波長に対する屈折率は、好ましくは１．８〜２．２の範囲、特に１．８５〜２．１、さらには１．８８〜２．０、さらには１．８９〜１．９８の範囲に含まれる。
ガラス質材料又はガラスフリットを構成するガラスのガラス転移温度Ｔｇは、好ましくは４４０〜５００℃の範囲、特に４５０〜４８０℃の範囲に含まれる。ガラス転移温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により、窒素下で、１０℃／分の昇温速度で測定される。ここでは、Ｔｇを測定するために曲線の発端（開始温度）を考慮する。
結晶化温度Ｔｘとガラス転移温度Ｔｇとの差は、ガラス質材料を作製する過程でのガラス質材料のいかなる失透も回避する目的で、少なくとも１００℃であることが好ましい。結晶化温度は、示差走査熱量測定から得られた結晶化曲線の発端（開始温度）を考慮に入れることによって測定される。
ガラス質材料又はガラスフリットを構成するガラスの２０℃と３００℃の間での線熱膨張係数は、好ましくは７０〜１００×１０-7／℃の範囲、特に７５〜９５×１０-7／℃、さらには８０〜９０×１０-7／℃の範囲に含まれる。
ガラスシートの波長５５０ｎｍに対する屈折率は、１．４〜１．６の範囲に含まれるのが好ましい。それは、溶融ガラスを溶融スズの浴上に流し込むものであるフロート法によって得られるソーダ石灰シリカタイプのガラスであることが好ましい。ガラスシートは、好ましくは無色であり、標準規格ＥＮ４１０：１９９８による光透過係数が少なくとも８０％、さらには９０％である。ガラスシートの厚さは、好ましくは０．１〜６ｍｍの範囲、特に０．３〜３ｍｍの範囲に含まれる。
ガラスシートは、その面のうちの１つをガラス質材料を含む層で被覆される。好ましくは、この層はガラスシートと接触して被着される。有利には、層はガラスシートの表面の少なくとも８０％、特に９０％、さらには９５％を被覆する。
本発明の１つの実施形態によると、この層はガラス質材料からなるのが有利である。この場合、散乱基材を得る目的で、ガラスシートで光を散乱させるか（それは特に、例えば酸処理によってサテン仕上げを施した、サテンガラスであることができる）、又は散乱層をガラス質材料を含む層の下に、特にガラスシート及びガラス質材料からなる層の両方と接触して配置することが好ましい。従って、この散乱は、当該層自体によって得られるものではない。
本発明の別の実施形態によると、ガラス質材料を含む層はまた、散乱要素も含む。この層は、ガラス質材料及び散乱要素からなるのがさらに有利である。この実施形態では、層自体が散乱性であり、散乱層と称される。
好ましくは、散乱要素は粒子及び空孔から選択される。散乱層は粒子と空孔の両方を含有してもよい。
粒子は、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、炭酸カルシウム粒子及び硫酸バリウム粒子から選択するのが好ましい。散乱層は、単一種の粒子を含んでもよく、或いは複数種類の異なる粒子を含んでもよい。
空孔は、好ましくは、媒体を例とする有機化合物を除去することによって焼成の過程で形成される。それらは、閉じていて且つ連結していないことが好ましい。
散乱要素は、可視光の散乱を可能にする、特に２００ｎｍと５μｍの間の、特性寸法を有するのが好ましい。特性寸法はメジアン径でよい。
散乱層中の粒子の重量濃度は、好ましくは０．２％〜１０％の範囲、特に０．５％〜８％、さらには０．８％〜５％の範囲に含まれる。
散乱要素は、ガラス質材料中に均一に分布することができる。それらは、別の選択肢として、例えば勾配をつけることにより、不均一に分布させてもよい。散乱層はまた、散乱要素の種類、大きさ又は割合の違いによって互いに異なる複数の単純な層からなるものでもよい。
ガラス質材料を含む層の物理的な厚さは、好ましくは０．５〜１００μｍの範囲、特に１〜８０μｍ、もっと言えば２〜６０μｍ、さらには２〜３０μｍの範囲に含まれる。
ガラス質材料を含む層の上には、特に当該層と接触して、その他の層を配置してもよい。
これは、例えば、ガラス質材料を含む層の、特に散乱層の、表面に位置する粒子を、後者の粗さを低減するように新たに覆うのを目的とする、平坦化層でよい。平坦化層は、例えば、先に明示したガラス質材料、又は別のガラス質材料からなることができる。
ガラス質材料を含む層の上、又は平坦化層の上に、当該層と接触して、厚さが特に５〜３０ｎｍの範囲に含まれるバリア層、例えばシリカ又は窒化ケイ素のバリア層を被着させてもよい。
基材、及び該当する場合にはガラスシート又はガラス質材料を含む層について説明するのに使用する「散乱」なる形容詞は、好ましくは、曇り度が少なくとも４０％、特に５０％、さらには６０％又は７０％、さらには８０％であることを意味することを意図している。ときにより「ブラー（ｂｌｕｒ）」と称される曇り度は、標準規格ＡＳＴＭ Ｄ１００３に従って、ヘイズメーターを用いて測定される。
ガラス質材料を含む層は、電気伝導性層で被覆されるのが有利である。後者は、ガラス質材料を含む層と、又は該当する場合、平坦化層若しくはバリア層と、直接接触しているのが好ましい。電気伝導性層は、好ましくは、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電性酸化物（ＴＣＯ）を基礎材料とする。その他の導電性材料が考えられ、例えば銀又は導電性ポリマーの層が考えられる。
従って、散乱基材は、例えば、以下のものを含む（又は以下のものからなる）ことができる。
・非散乱ガラスシート、次にガラス質材料及び散乱要素からなる散乱層、次に（所望に応じて存在してよい）平坦化層、次に（所望に応じて存在してよい）バリア層、そして最後に電気伝導性層。ここに挙げた各層は、それに先行する層及びそれに続く層と直接接触する。
・非散乱ガラスシート、次に散乱層、次にガラス質材料からなる層、次に（所望に応じて存在してよい）バリア層、そして最後に電気伝導性層。ここに挙げた各層は、それに先行する層及びそれに続く層と直接接触する。
・散乱ガラスシート、次にガラス質材料からなる層、次に（所望に応じて存在してよい）バリア層、そして最後に電気伝導性層。ここに挙げた各層は、それに先行する層及びそれに続く層と直接接触する。
本発明による有機発光ダイオードを有するデバイスにおいて、ガラス質材料を含む層及び電気伝導性層（第一の電極として働く）で被覆されたガラスシートは、第二の電極として働く電気伝導性層でそれ自体が被覆された有機材料の少なくとも１つの層の形をした有機発光系と組み合わされる。従って、この有機発光系は、基材と第二の電極との間に、第一及び第二の電極と直接接触して位置する。
当該発光系は、好ましくは、複数の層、すなわち、正孔注入層（例えば、ポリスチレンスルホン酸をドープされたポリエチレンジオキシチオフェンの、又は銅フタロシアニンの）、正孔輸送層（例えば、トリフェニルアミン誘導体の）、発光層（例えば、キノリン誘導体の金属錯体の）、電子輸送層（例えば、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、バトフェナントロリン誘導体などの）、電子注入層（例えば、リチウム又はセシウムの）、などから構成される。
本発明によるＯＬＥＤデバイスは、好ましくは、多色照明の、特に白色光の、光源として用いられる。それは、光がガラスシートを通して発光されるという意味で、底面発光型デバイスであることが好ましい。この場合、第二の電極は、反射性材料、例えば金属フィルム、特にアルミニウム、銀、マグネシウムなどの金属フィルムからなる。
このように、ＯＬＥＤデバイスは、ガラスシート、ガラス質材料を含む層、所望に応じて存在してよいバリア層若しくは平坦化層、電気伝導性層（典型的にはＩＴＯ）、複数の層から構成される発光系、及び反射性電極を、連続して含むのが好ましい。
本発明によるガラスフリットは、好ましくは、出発物質を溶融させ、その後フリットにすることによって得られる。出発物質（酸化物、炭酸塩など）は、約９５０〜１１００℃の温度で溶融させることができ、得られたガラスをその後成形すること、例えば２つのロール間で圧延することができる。次に、得られたガラスを、例えばボールミル、ジェットミル、ビーズミル、又はアトリションミルで、粉砕することができる。
ガラスフリットは、好ましくは、ｄ90が最大で１０μｍ、特に５μｍ、さらには４μｍである粒子の形をしている。粒子径分布は、レーザー粒径分析器を用いて測定することができる。
ガラス質材料を含む層は、好ましくは、次の方法、すなわち、
・本発明によるガラスフリットを有機媒体と混合してペーストを作り、
・このペーストをガラスシート上に被着させ、
・組み合わせた全体を焼成する、
方法により得られる。
有機媒体は、典型的には、アルコール、グリコール、及びテルピネオールエステルから選択される。媒体の重量比率は、好ましくは１０％〜５０％の範囲に含まれる。
ペーストの被着は、特に、スクリーン印刷、ロール塗布、浸漬被覆、ナイフ塗布、スプレー、スピンコーティング、フローコーティング、又はスロットダイコーティングによって行うことができる。
スクリーン印刷の場合、布又は金属メッシュを有するスクリーン、流し塗り工具、及びドクターブレードを用いるのが好ましく、スクリーンの網目とその張力の選択、ガラスシートとスクリーンとの間隔の選択、及びドクターブレードの圧力と移動の速度によって厚さを制御する。被着物を、典型的には、媒体の種類に応じて赤外又は紫外線により１００〜１５０℃の温度で乾燥させる。
焼成は、５００〜６００℃の範囲、特に５１０〜５８０℃の範囲に含まれる温度の炉で行うのが好ましい。
電気伝導性層は、薄層を被着するための種々の技術、例えばスパッタリング、特にマグネトロンスパッタリング（マグネトロンプロセス）、化学気相成長（ＣＶＤ）、特にプラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ、ＡＰＰＥＣＶＤ）、又は液体被着技術など、によって被着させることができる。
以下の実施例は、本発明を限定されない形で説明するものである。
〔第一の一連の例〕
種々のガラスフリットを、出発物質を溶融させることによって得た。これを行うために、３００ｇのガラスを得るのに充分な出発物質を、ジュール効果によって加熱される４００ｃｍ3のるつぼ中で１時間３０分の間１０００℃の温度にした。
表３、４、５に、得られた結果をまとめて示す。これらの表では以下が示される。
・フリットの化学組成（酸化物の重量パーセントとして）。
・「Ｔｇ」で示され、℃で表されるガラス転移温度。
・Ｔxで示され、℃で表される結晶化温度。
・αで示され、１０-7／Ｋで表される線熱膨張係数。
・ｎで示され、偏光解析法によって測定される、５５０ｎｍの波長に対する屈折率。
・ＡＬで示され、分光光度法によって測定される、３ｍｍの厚さについての光吸収率。
・Ｌで示され、ｍｇ／ｌで表される、酸性媒体中でのビスマスの浸出量。
Ｔｇと同様に、Ｔxは示差走査熱量測定によって測定される。
ビスマスの浸出は、検討するガラス質材料の層で被覆されたガラス基材を酸性溶液中に浸漬させることによって測定した。これを行うために、３．４μｍのｄ９０及び１．７μｍのｄ５０を持つフリットを用いたスクリーン印刷により、厚さ１０μｍの層をソーダ石灰シリカガラス基材上に被着させた。酸性溶液は、Ｆｒａｎｋｌａｂ社からＮｅｕｔｒａｘの名称で販売されている酢酸ベースの溶液であって、ｐＨを３にするため脱イオン水で１．３体積％に希釈したものである。サンプルを、この溶液中に５０℃の温度で１時間浸漬させ、１０分間ごとに少量の溶液を取り出し、その後分析して、溶液中に移行したＢｉ2Ｏ3の量を推定した。表中に示した数値は、１０分後におけるこの腐食溶液中のＢｉ2Ｏ3の濃度に相当する。
例１〜１０（表３及び４）は本発明による例であり、例Ｃ１〜Ｃ６は比較例である。
Figure 2016508952
Figure 2016508952
Figure 2016508952
比較例Ｃ１〜Ｃ５は、失透が容易に起こり過ぎてガラス質材料にすることができず、従ってそれらは非常に高い光吸収率となっている。本発明による例はすべて、酸に対する耐性を示し、それは比較例Ｃ６よりも有意に良好である。
〔第二の一連の例〕
本発明によるその他のガラスを、第一の一連の例の場合と同様に、溶融によって得た。それらの化学組成を下記の表６に示す。
これらのガラスの酸に対する耐性を、バルクのガラスサンプルで評価した。すべて同一の表面積を有するサンプルを、上述のものと同じ腐食溶液中に１８時間浸漬させた。ｍｇ／ｃｍ2で表されるサンプルの質量喪失を、表６中にて「Ｍａ」と称する。比較例のガラスＣ６の場合における質量喪失は１５ｍｇ／ｃｍ2である。
塩基に対する耐性も、サンプルをｐＨが１１の溶液（Ｂｏｒｅｒ社からｄｅｃｏｎｅｘ（登録商標）ＰＶ１１０の商品名で販売されている濃縮溶液を１％に希釈した溶液）中に５０℃で１８時間浸漬させて得られた質量の喪失（「Ｍｂ」で示す）を測定することによって評価した。
Figure 2016508952

Claims (15)

  1. 有機発光ダイオードを有するデバイスのための散乱基材であり、その面のうちの１つをガラス質材料を含む層で被覆されたガラスシートを含む散乱基材であって、当該ガラス質材料が下記で規定する重量範囲内で変動する下記の成分を含む化学組成を有する、有機発光ダイオードを有するデバイスのための散乱基材。
    Ｂｉ2Ｏ3 ６０〜８５％
    Ｂ2Ｏ3 ５〜１２％
    ＳｉＯ2 ６〜２０％
    ＭｇＯ＋ＺｎＯ ０〜９．５％
    Ａｌ2Ｏ3 ０〜７、特に０〜５％
    Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ ０〜５％
    ＣａＯ ０〜５％
    ＢａＯ ０〜２０％
  2. Ｂｉ2Ｏ3の重量含有量が６５％〜８０％の範囲、特に６８％〜７５％の範囲に含まれる、請求項１に記載の散乱基材。
  3. ＺｎＯの重量含有量が最大で８％、特に５％未満である、請求項１又は２に記載の散乱基材。
  4. ＳｉＯ2の重量含有量が７％〜１２％の範囲に含まれる、請求項１から３の一項に記載の散乱基材。
  5. ＭｇＯとＺｎＯの重量含有量の合計が２％〜９％の範囲に含まれる、請求項１から４の一項に記載の散乱基材。
  6. ＣａＯとＭｇＯの重量含有量の合計が０．５％〜４％の範囲に含まれる、請求項１から５の一項に記載の散乱基材。
  7. 前記ガラス質材料の化学組成が酸化物ＴｉＯ2及び／又はＳｎＯ2を含む、請求項１から６の一項に記載の散乱基材。
  8. ＴｉＯ2の含有量が少なくとも０．５％又は１％、且つ最大で５％、特に２％である、請求項７に記載の散乱基材。
  9. ＳｎＯ2の含有量が少なくとも０．２％又は０．５％、且つ最大で５％、特に３％又は２％である、請求項７又は８に記載の散乱基材。
  10. ガラス質材料を含む前記層が粒子及び空孔から選択される散乱要素も含む、請求項１から９の一項に記載の散乱基材。
  11. 前記粒子が、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、炭酸カルシウム粒子及び硫酸バリウム粒子から選択される、請求項１０に記載の基材。
  12. ガラス質材料を含む前記層が前記ガラス質材料からなること、且つ、前記ガラスシートが光を散乱するか、又はガラス質材料を含む前記層の下に散乱層が配置されている、請求項１から９の一項に記載の基材。
  13. ガラス質材料を含む前記層の上に電気伝導性層が配置されている、請求項１から１２の一項に記載の散乱基材。
  14. 有機発光ダイオードを有し、請求項１３に記載の散乱基材を含むデバイス。
  15. 化学組成が以下で規定する重量範囲内で変動する以下の成分を含むガラスフリット。
    Ｂｉ2Ｏ3 ６５〜８５％
    Ｂ2Ｏ3 ５〜１２％
    ＳｉＯ2 ６〜２０％
    ＭｇＯ＋ＺｎＯ ０〜９．５％
    Ａｌ2Ｏ3 ０〜５％
    Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ ０〜５％
    ＣａＯ ０〜５％
    ＣａＯ＋ＭｇＯ ≧０．５
    ＢａＯ ０〜２０％
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