CN102376526B - 基板清洗/干燥设备及方法、包括该设备的基板处理设备 - Google Patents

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Abstract

提供一种基板清洗/干燥设备及方法、包括该设备的基板处理设备。该基板清洗和干燥设备包括：第一基板传送单元，用以在基架的上部沿水平方向传送基板；第二基板传送单元，用以从第一基板传送单元接收所述基板，并沿垂直方向传送基板；第三基板传送单元，用以从第二基板传送单元接收基板，并在基架的下部沿水平方向传送基板；和基板处理单元，用以从第三基板传送单元接收基板，并对基板执行清洗和干燥工艺以清洗和干燥基板。第二基板传送单元包括可操作用以支撑基板的多个第一手叉。第三基板传送单元包括以固定间隔在水平方向上彼此平行地设置的多个第一辊架，并使得多个第一手叉能够沿垂直方向通过多个第一辊架。

Description

基板清洗/干燥设备及方法、包括该设备的基板处理设备
本申请要求享有2010年8月9日提交的韩国专利申请No.10-2010-0076573的权益，该申请如同在此完全阐述一样，被并入本文以供参考。
技术领域
本发明涉及一种基板处理设备、基板处理方法以及通过使用这种基板处理设备制造显示面板的方法。更具体来讲，本发明涉及一种能够通过减少基板传送时间来改进产量的基板清洗/干燥设备、包括基板清洗/干燥设备的基板处理设备、使用基板清洗/干燥设备的基板清洗/干燥方法以及通过使用基板清洗/干燥设备制造显示面板的方法。
背景技术
一般来讲，半导体器件、太阳能电池和显示设备是通过几个处理步骤制造的，为此应当维护各个处理步骤所必需的各种设施。为了制造半导体器件、太阳能电池和显示设备，存在以下必需的要求：大量成本、这些设施的对应设备、用于维护这些设施的大空间等等。
特别是，必须执行用于清洗和干燥基板(或者半导体基板)的基板清洗/干燥工艺，以去除在制造半导体器件、太阳能电池和显示设备的工艺期间产生的残余物质、颗粒和污染物。
现有技术的用于上述基板清洗/干燥工艺的基板清洗/干燥设备是以双空间结构形成的，该结构具有上部和下部。
在基板清洗/干燥设备的下部，具有沿水平方向传送外部提供的基板的下传送装置；以及对所传送的基板执行清洗和干燥处理的基板处理单元，其中该基板处理单元安装在所述下传送装置上。
在所述基板清洗/干燥设备的上部中，具有通过沿水平方向传送基板以卸载在所述基板处理单元中清洗和干燥后的基板的上传送装置。
在所述下部和上部的一侧，具有向上和向下移动的升降传送装置。
该升降传送装置将在下部中清洗和干燥后的基板传送到上传送装置。
现有技术的基板清洗/干燥设备通过使用升降传送装置将基板从下部传送到上部。这种结构会与用于将升降传送装置移上和移下而消耗的时间量对应地降低产量。也就是说，在现有技术的基板清洗/干燥设备的情况下，下部中的基板清洗和干燥处理在升降传送装置向上移动并向下移动回到它的原始位置为止之前必须停止。因此，由于间歇时间的损失，降低了产量。
同时，用于制造半导体器件、太阳能电池和显示设备的基板处理设备可以包括用于在由上述基板清洗/干燥设备处理的基板上形成预定薄膜的薄膜形成设备。
在上述的基板处理设备中，薄膜形成设备和基板清洗/干燥设备是分开地安装的。因而可能存在额外的基板传送装置，用于将由上述基板清洗/干燥设备处理的基板装载到卡匣中，然后将该卡匣传送到薄膜形成设备。
然而，上述基板处理设备可能致使产量降低，这是因为，由于上述的将清洗/干燥的基板装载到卡匣中、从卡匣中卸载基板和将卸载的基板传送到薄膜形成设备的步骤，增加了基板传送时间。此外，在基板传送过程期间，还可能污染基板。
因此，现有技术的基板清洗/干燥设备和包括这种基板清洗/干燥设备的基板处理设备会导致产量降低。
发明内容
因此，本发明旨在提供一种基板清洗/干燥设备、包括基板清洗/干燥设备的基板处理设备、使用基板清洗/干燥设备的基板清洗/干燥方法和通过使用基板清洗/干燥设备制造显示面板的方法，其基本上避免了由于现有技术的局限性和缺点而导致的一个或多个问题。
根据本发明的一个方面，一种基板清洗和干燥设备包括：第一基板传送单元，其可操作用以在基架的上部沿水平方向传送基板；第二基板传送单元，其可操作用以从所述第一基板传送单元接收所述基板，并沿垂直方向传送所述基板；第三基板传送单元，其可操作用以从所述第二基板传送单元接收所述基板，并在所述基架的下部沿水平方向传送所述基板；和基板处理单元，其可操作用以从所述第三基板传送单元接收所述基板，并对所述基板执行清洗和干燥工艺以清洗和干燥所述基板。所述第二基板传送单元包括可操作用以支撑所述基板的多个第一手叉。所述第三基板传送单元包括以固定间隔在水平方向上彼此平行地设置的多个第一辊架，并使得所述多个第一手叉能够沿垂直方向通过所述多个第一辊架。
根据本发明的另一方面，一种基板清洗和干燥方法包括：将基板装载到第一基板传送单元上；沿水平方向朝着第二基板传送单元传送所述第一基板传送单元；使所述第一基板位于垂直传送位置，其中将所述第二基板传送单元的多个第一手叉插入到所述基板与所述第一基板传送单元之间；将所述多个第一手叉升高到预定高度，以将所述基板传送到所述多个第一手叉上；远离所述第二基板传送单元沿水平方向传送所述第一基板传送单元。
上述方法包括：在远离所述第二基板传送单元将所述第一基板传送单元传送到超出所述多个第一手叉的长度时，沿垂直方向将所述第二传送单元的多个第一手叉传送到第一水平传送位置，其中所述多个第一手叉在沿垂直方向降低时通过第三基板传送单元的多个第一辊架中的每一个第一辊架之间的间隔，并将所述基板传送到所述第三基板传送单元上。所述方法还包括：远离所述第二基板传送单元沿水平方向传送所述第三基板传送单元；将所述多个第一手叉沿垂直方向传送到所述第一垂直传送位置；将所述基板传送到基板处理单元；以及在所述基板处理单元对所述基板执行基板清洗和干燥工艺。
根据上述方法，所述第三基板传送单元的多个第一辊架的每一个第一辊架包括在远离所述基板处理单元的一端的第一叉通过区域，所述第一叉通过区域允许所述多个第一手叉通过其中。将所述多个第一手叉沿垂直方向传送到所述第一垂直传送位置包括：沿着垂直于水平方向的方向滑动处于原始位置的所述多个第一手叉，以避开所述多个第一辊架；将所述多个第一手叉沿垂直方向传送到所述第一垂直传送位置；以及将所述多个第一手叉滑动到所述原始位置。
根据本发明的又一方面，一种基板处理设备包括：清洗室；设置在所述清洗室中的端口，该端口可操作用以装载和卸载基板；设置在所述清洗室中的薄膜形成设备，该薄膜形成设备可操作用以在所述基板上形成预定膜；以及设置在所述清洗室中的基板清洗和干燥设备。所述基板清洗和干燥设备包括：第一基板传送单元，其可操作用以在基架的上部沿水平方向传送所述基板；第二基板传送单元，其可操作用以从所述第一基板传送单元接收所述基板，并沿垂直方向传送所述基板；第三基板传送单元，其可操作用以从所述第二基板传送单元接收所述基板，并在所述基架的下部沿水平方向传送所述基板；和基板处理单元，其可操作用以从所述第三基板传送单元接收所述基板，并对所述基板执行清洗和干燥工艺以清洗和干燥所述基板。所述第二基板传送单元包括可操作用以支撑所述基板的多个第一手叉。所述第三基板传送单元包括以固定间隔在水平方向上彼此平行地设置的多个第一辊架，并使得所述多个第一手叉能够沿垂直方向通过所述多个第一辊架。
所述基板处理设备还包括设置在所述清洗室中的基板传送单元，所述基板传送单元可操作用以：从所述端口接收所述基板，并将所接收的基板传送到所述基板清洗和干燥设备；从所述基板清洗和干燥设备接收所述基板，并将所述基板传送到所述薄膜形成设备；和从所述薄膜形成设备接收所述基板，并将所接收的基板传送到所述端口。
本发明的额外的特征和优点，一部分将在随后的说明书中阐述，一部分根据本说明书将是明显的，或者可以通过本发明的实践而被了解。可以通过在书面说明书及其权利要求书以及所附附图中具体指明的结构来实现和获得本发明的目的及其他优点。
应理解的是，本发明的上述概括说明及随后的详细说明都是示例性的和解释性的，旨在为所请求保护的本发明提供进一步的解释。
附图说明
附图包括在本申请中以提供对于本发明的进一步的理解，它们被并入并构成本申请的一部分，附图示出本发明的实施方式并与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：
图1是示出根据本发明的实施方式的基板清洗/干燥设备的剖面图；
图2是示出根据本发明的实施方式的基板清洗/干燥设备的透视图；
图3A和3B示出图1和2中所示的第一基板传送单元；
图4示出图2中所示的第二基板传送单元；
图5示出图2中所示的第三基板传送单元；
图6示出根据本发明的第二实施方式的基板清洗/干燥设备；
图7示出图2中所示的第二基板传送单元；
图8示出根据本发明的第三实施方式的基板清洗/干燥设备；
图9示出图8中所示的第二基板传送单元；
图10示出图9中所示的第一叉支撑杆(fork support bar)；
图11是沿着图10的I-I’的剖面图；
图12示出图8中所示的第三基板传送单元；
图13A至13H示出根据本发明第一实施方式的通过使用基板清洗/干燥设备来清洗/干燥基板的方法；
图14A和14B示出根据本发明第二实施方式的通过使用基板清洗/干燥设备来清洗/干燥基板的方法中的部分过程；
图15A和15B示出根据本发明第三实施方式的通过使用基板清洗/干燥设备来清洗/干燥基板的方法中的部分过程；和
图16示出根据本发明实施方式的基板处理设备。
具体实施方式
现在将详细参照本发明的优选实施方式进行描述，附图中示出了这些实施方式的一些例子。尽可能地在整个附图中使用相同的参考标记表示相同或相似的部件。
在下文中，将参照附图描述根据本发明的基板清洗/干燥设备、包括基板清洗/干燥设备的基板处理设备、使用基板清洗/干燥设备的基板清洗/干燥方法和通过使用基板清洗/干燥设备制造显示面板的方法。
图1是示出根据本发明的实施方式的基板清洗/干燥设备的剖面图。图2是示出根据本发明的实施方式的基板清洗/干燥设备的透视图。
参见图1和2，根据本发明的实施方式的基板清洗/干燥设备10包括：基架100；第一、第二和第三基板传送单元200、300和400；基板处理单元500；以及第四和第五基板传送单元600和700。
基架100被分成上部110和下部120。
在基架100的上部110中安装第一基板传送单元200；在基架100的下部120中安装第二基板传送单元300、基板处理单元500和第四基板传送单元600。同时，在上部110的中央提供了基板入口(未示出)，可以经由该基板入口，将基板装载到基架100中，或者从基架100中卸载基板。
第三基板传送单元400安装在下部120的一侧；第五基板传送单元700安装在上部110和下部120的另一侧。
第一基板传送单元200安装在基架100的上部110中，其中第一基板传送单元200被设置为沿水平方向可移动。第一基板传送单元200沿水平方向传送经由基板入口装载的基板，以将该基板提供到第二基板传送单元300。第一基板传送单元200还接收由第五基板传送单元700沿垂直方向传送来的基板；并且朝着基板入口传送所接收的基板，以便将该基板从基架100卸载到外部。如图3A中所示，第一基板传送单元200包括一对轨道210、传送架220、支撑板230、和多个支撑销240。
一对轨道210安装在基架100的上部110中，其中轨道210是与水平方向平行地以固定间隔提供的。这对轨道引导传送架220的水平传送。
传送架220被可移动地安装在一对轨道210上，由此，按照一对轨道210的引导，沿水平方向传送该传送架220。在传送架220的两端都提供传送块222，其中传送块222是在一对轨道210上提供的，并可移动地连接到一对轨道210。传送块222和轨道210构成LM引导模块，使得能够沿水平方向传送该传送架220。
将支撑板230安装在传送架220上，以支撑基板。在这种情况下，支撑板230由安装在传送架220上的支撑轴232来支撑。
在支撑板230上以预定高度安装多个支撑销240，多个支撑销240是以网格形图案提供的，用以支撑基板。
如图3B中所示，第一基板传送单元200可以进一步包括基板旋转单元250。
基板旋转单元250在与支撑轴232接触(优选地，耦合)的同时安装在传送架220下方。基板旋转单元250例如可以是驱动马达。基板旋转单元250将支撑轴232旋转预定角度，例如约90°或者约180°，以便将由多个支撑销240支撑的基板旋转约90°或者约180°。旋转基板的原因是，如果基板有缺陷的话，用来检查缺陷发生点。更详细来讲，如果经由基板入口装载的基板在基板处理单元500中完成清洗和干燥处理之后具有缺陷部分，应检查缺陷发生点，以便确定在清洗和干燥工艺期间、或者在装载过程之前是否出现了基板缺陷部分。也就是说，当基板装载方向是固定的时候，无法检测缺陷发生点。然而，如果在将基板旋转预定角度之后执行清洗和干燥工艺，则可以检测缺陷发生点。
在图1和2中，第二基板传送单元300改变基板S的传送方向，并将基板S提供到第三基板传送单元400。也就是说，第二基板传送单元300通过使用如图4中所示的多个第一手叉310，沿垂直方向传送由第一基板传送单元200沿水平方向传送来的基板S。然后，第二基板传送单元300将沿垂直方向传送的基板S提供到第三基板传送单元400。第二基板传送单元300包括多个第一手叉310、第一叉支撑杆320、第一叉架330、和第一升降器340。
多个第一手叉310是以固定间隔提供的，并支撑基板S的背面，其中每一个第一手叉310是以悬臂形状形成的。为了防止多个第一手叉310由于基板S的负荷而向下弯曲，多个第一手叉310的每一个都是以其背面倾斜的方式形成的。也就是说，多个第一手叉310的每一个的厚度从一端到另一端逐渐减少。
同时，每一个第一手叉310可以具有多个弯曲防止部件317和多个传感器319，其中弯曲防止部件317防止基板S向下弯曲，多个传感器319感测是否已将基板S提供到第一手叉310上。弯曲防止部件317可以由在第一手叉310的上表面上以固定间隔安装的多个块、销或者垫形成。并且，传感器319可以安装在每个弯曲防止部件317之间。
第一叉支撑杆320支撑多个第一手叉310的每一个的一端，优选地，其与多个第一手叉310的每一个的一端耦合。因此，通过第一叉支撑杆320来支撑与水平方向平行地以固定间隔提供的多个第一手叉310。
第一叉架330支撑第一叉支撑杆320的横侧或者后侧的中央。第一叉架330和第一叉支撑杆320可以形成为一体。
与第三基板传送单元400的前侧中央邻近地安装第一升降器340，用以沿垂直方向升降第一叉架330。为此，第一升降器340包括用于升降第一叉架330的滚珠丝杆模块(未示出)或者LM引导模块(未示出)。
滚珠丝杆模块包括滚珠丝杆轴(未示出)、旋转马达(未示出)、架升降孔341和滚珠丝杆螺母(未示出)。
滚珠丝杆轴被垂直地安装，以便由多个托架(未示出)支撑，由此，滚珠丝杆轴根据旋转马达(未示出)的旋转而旋转。
在第一升降器340的内表面上形成架升降孔341，并经由该升降孔341来升降第一叉架330。
在第一叉架330的内表面上形成滚珠丝杆螺母，并将该滚珠丝杆螺母设置为经由架升降孔341而与滚珠丝杆轴接触。
包括滚珠丝杆模块的第一升降器340通过经由旋转马达旋转滚珠丝杆轴来升降滚珠丝杆螺母，从而升降第一叉架330。
此外，LM引导模块可以包括LM导轨(未示出)和LM引导块(未示出)。
LM导轨是与第一升降器340的内表面垂直地提供的。
LM引导块是在第一叉架330的内表面上提供的，并且可移动地连接到LM导轨。
包括LM引导模块的第一升降器340沿着LM导轨传送LM引导块，以升降第一叉架330。
上述说明描述了一个第一升降器340，但是本发明不局限于一个。如果基板S是大尺寸的，则可以提供多个第一升降器，以便在多个位置同时升降第一叉支撑杆320。
在图1和2中，第三基板传送单元400接收沿垂直方向从第二基板传送单元300传送来的基板S；沿水平方向传送所接收的基板S；并将该基板提供到基板处理单元500。如图5中所示，第三基板传送单元400包括多个第一辊架410a、410b和410c；第一轴420；第一轴旋转部件430；和第一旋转传输部件(未示出)。
多个第一辊架410a、410b和410c沿水平方向传送由第二基板传送单元300提供的基板S，并将所接收的基板S提供到基板处理单元500。多个第一辊架410a、410b和410c的每一个包括第一支架412和多个第一辊414。
各个第一支架412是沿水平方向、彼此平行地安装的，并被设置为邻近于基板处理单元500的一侧即前侧。第一支架412是以固定间隔提供的，以便可以经由第一支架412之间的间隔来升降多个第一手叉310。也就是说，由于第一支架412是以固定间隔提供的，因此它们不妨碍被降低用以沿垂直方向传送基板S的多个第一手叉310的运动轨迹。
各个第一支架412具有不同的高度，以便放置在多个第一辊414上的基板S以预定角度，例如约5°的角度倾斜。
多个第一辊414安装在每一个第一支架412的一侧或者两侧，其中多个第一辊414是沿着第一支架412的纵向以固定间隔提供的。优选的是，多个第一辊414安装在每一个第一支架412的两侧。在这种情况下，在贯穿第一支架412的每一个辊驱动轴416的两侧提供第一辊414。
第一轴420安装为贯穿每一个第一支架412的远离第二基板传送单元的另一侧，其中第一支架412的该另一侧被设为邻近于基板处理单元500。
第一轴旋转部件430可以是驱动马达。第一轴旋转部件430安装在多个第一支架412中的位置靠外的第一支架412中，从而第一轴旋转部件430使第一轴420旋转。此时，第一轴旋转部件430的旋转力可以经由皮带、链条或者多个齿轮(未示出)而传递到第一轴420。
第一旋转传输部件(未示出)安装在每一个第一支架412的内部，以将第一轴420的旋转力传递到多个第一辊414。第一轴420的旋转力可以经由皮带、链条或者多个齿轮(未示出)而传递到安装在每一个第一支架412中的多个第一辊414。
第三基板传送单元400可以进一步包括多个第一传送引导单元440。
多个第一传送引导单元440安装在多个第一辊架410a、410b和410c中的位置靠外的第一辊架410a和410c中，用于引导通过多个第一辊414沿水平方向传送的基板S。多个第一传送引导单元440的每一个包括导板442、导杆444和导辊446。
导板442安装为在第一支架412的外表面具有预定长度。
导杆444垂直地安装在与基板S的一侧相对应的导板442上。
导辊446可旋转地安装在导杆444的上部中，由此，导辊446在与基板S的横侧接触的同时引导基板S的水平传送。
在图1和2中，基板处理单元500沿水平方向传送由第三基板传送单元400提供的基板S，同时对所传送的基板S执行清洗和干燥工艺，以清洗基板S。基板处理单元500包括辊传送装置510、清洗单元(未示出)和干燥单元(未示出)。
辊传送装置510通过使用多个辊驱动轴513，沿水平方向传送由第三基板传送单元400提供的基板S。辊驱动轴513可旋转地安装在第一和第二传送架511和512之间，并且辊驱动轴513是沿着垂直于水平方向的方向以固定间隔提供的。在多个辊驱动轴513的每一个中，以固定间隔安装多个传送辊514。多个辊驱动轴513与在第一传送架511的一侧安装的驱动马达515连通，由此，多个辊驱动轴513与驱动马达515的旋转一起旋转。驱动马达515的旋转力经由安装在第一和第二传送架511和512的一侧的驱动轴516而传递到多个辊驱动轴513。
可以在第一和第二传送架511和512的外侧安装多个导辊517，以便引导由多个传送辊514沿水平方向传送的基板S的水平传送。多个导辊517在结构上与第三基板传送单元400的上述第一传送引导单元440相同。因此，将省略对于导辊517的结构的详细说明。
辊式送装置510在结构上与上述第三基板传送单元400相同，因而辊传送装置510可以沿水平方向传送基板S。
清洗单元(未示出)包括顺序安装的第一、第二和第三清洗模块(未示出)。
第一清洗模块通过去除其中的有机杂质来清洗基板S。第一清洗模块通过使用常压等离子体，从基板S去除有机杂质。
第二清洗模块将去离子水(DI)喷射到已经去除了有机杂质的基板S上，并且还通过使用刷辊(未示出)来首次清洗基板S。此时，可以在第二清洗模块的一端安装空气喷嘴，以便通过使用空气，从基板S去除去离子水(DI)。
第三清洗模块将去离子水(DI)喷射到首次清洗后的基板S上，以便对基板S进行二次清洗。可以在第三清洗模块的一端安装空气喷嘴，以便通过使用空气，从基板S去除去离子水(DI)。
干燥单元(未示出)对清洗单元(未示出)中清洗的基板S进行干燥。干燥单元可以通过使用安装在基板S的下侧和上侧的气刀来干燥基板S。
第四基板传送单元600安装为邻近于基板处理单元500的后侧，以便沿水平方向传送从基板处理单元500卸下的基板S。第四基板传送单元600包括：多个第二辊架610a、610b和610c；第二轴620；第二轴旋转部件630；第二旋转传输部件(未示出)；以及多个第二传送引导单元640。除了第四基板传送单元600安装为邻近于基板处理单元500的后侧从而与上述第三基板传送单元400对称之外，第四基板传送单元600在结构上与上述第三基板传送单元400相同，尽管它们具有不同的附图标记。因此，将省略对于第四基板传送单元600的详细说明。
第五基板传送单元700沿垂直方向传送由第四基板传送单元600沿水平方向传送来的基板S。然后，第五基板传送单元700将该基板提供到第一基板传送单元200。第五基板传送单元700包括多个第二手叉710、第二叉支撑杆720、第二叉架730和第二升降器740。除了第五基板传送单元700安装为邻近于第四基板传送单元600的后侧从而与上述第二基板传送单元300对称之外，第五基板传送单元700在结构上与上述第二基板传送单元300相同，尽管它们具有不同的附图标记。因此，将省略对于第五基板传送单元700的详细说明。
可以提供多个第二升降器740，以便在多个位置同时升降第二叉支撑杆720。
图6示出根据本发明第二实施方式的基板清洗/干燥设备。
参见图6，根据本发明第二实施方式的基板清洗/干燥设备20包括：基架200；第一、第二和第三基板传送单元200、1300和400；基板处理单元500；以及第四和第五基板传送单元600和1700。除了第二和第五基板传送单元1300和1700，根据本发明第二实施方式的基板清洗/干燥设备20在结构上与根据本发明第一实施方式的基板清洗/干燥设备相同。因此，将省略对于相同部分的详细说明，并且将使用相同的附图标记表示相同的部分。
第二基板传送单元1300通过升降多个可折叠的第一手叉1310，传送第一基板传送单元200沿水平方向提供的基板S，并将基板S提供到第三基板传送单元400。然后，伸展开的多个第一手叉1310沿水平方向折叠，并在不干扰提供给第三基板传送单元400的基板S的情况下升降并恢复到第一垂直传送位置。为此，如图7中所示，第二基板传送单元1300包括多个第一手叉1310、第一叉支撑杆320、第一叉架330和第一升降器340。除多个第一手叉1310之外，根据本发明第二实施方式的基板清洗/干燥设备20中的第二基板传送单元1300在结构上与根据本发明第一实施方式的基板清洗/干燥设备10中的上述第二基板传送单元300相同，由此，将省略对于第二基板传送单元1300的详细说明。
如图7中所示，多个第一手叉1310的每一个包括第一到第三滑动杆1311、1313和1315，滑动杆可被操作为折叠起来。
第一滑动杆1311安装在第一叉支撑杆320处，其中第一滑动杆1311的纵向被设为平行于水平方向。此时，在第一滑动杆1311的一侧形成第一LM导轨。在第一滑动杆1311的上侧，具有多个弯曲防止部件1317和多个传感器1319，其中弯曲防止部件1317防止基板S向下弯曲，传感器1319感测是否已在第一手叉上提供基板S。此时，弯曲防止部件1317可以由在第一滑动杆1311的上表面上以固定间隔安装的多个块、销或者垫来形成。此外，传感器1319可以安装在每一弯曲防止部件1317之间。
第二滑动杆1313安装在第一滑动杆1311的第一LM导轨处，其中第二滑动杆1313的纵向被设为平行于水平方向。在第二滑动杆1313的一侧形成待与第一LM导轨连接的第一LM引导块。由此，通过驱动包括第一导轨和第一引导块的第一LM引导模块，第二滑动杆1313按照第一导轨的引导而沿水平方向滑动。
在第二滑动杆1313的另一侧，形成第二LM引导块。此外，可以在第二滑动杆1313的上侧安装上述弯曲防止部件1317和传感器1319。
第三滑动杆1315安装在第二滑动杆1313的第二LM引导块处，其中第三滑动杆1315的纵向被设为平行于水平方向。在第三滑动杆1315的一侧形成第二LM导轨。由此，通过驱动包括第二导轨和第二引导块的第二LM引导模块，第三滑动杆1315按照第二导轨的引导而沿水平方向滑动。
可以在第三滑动杆1315的上侧安装上述弯曲防止部件1317和传感器1319。
基于第一和第二LM引导模块的同时驱动，多个第一手叉1310的每一个中包括的第二和第三滑动杆1313和1315可以滑动以伸展到基板支撑位置，或者可以滑动以折叠到基板避开(substrate-avoidance)位置。
在上述说明中，多个第一手叉1310的每一个具有第一到第三滑动杆1311、1313和1315。然而，本发明不限于上述说明。根据基板S的尺寸和/或滑动杆的长度，每一个第一手叉1310中包括的滑动杆数目可以是三个或更多。
第五基板传送单元1700沿垂直方向传送由第四基板传送单元600沿水平方向传送来的基板S。然后，第五基板传送单元1700将沿垂直方向传送的基板S提供到第一基板传送单元200。第五基板传送单元1700包括多个第二手叉1710、第二叉支撑杆720、第二叉架730和第二升降器740。除了第五基板传送单元1700安装为邻近于第四基板传送单元600的后侧从而与上述第二基板传送单元1300对称之外，第五基板传送单元1700在结构上与上述第二基板传送单元1300相同，尽管它们具有不同的附图标记。因此，将省略对于第五基板传送单元1700的详细说明。
根据本发明第二实施方式的基板清洗/干燥设备20将置于第二基板传送单元1300的滑动杆1311、1313和1315上的基板S提供到第三基板传送单元400。滑动杆1311、1313和1315立即将滑动杆折叠到基板避开位置，并在不干扰基板S的情况下升降多个第一手叉1310。
此外，根据本发明第二实施方式的基板清洗/干燥设备20将置于第五基板传送单元1700的滑动杆上的基板S提供到第一基板传送单元200。滑动杆立即折叠到基板避开位置，并在不干扰基板S的情况下降低多个第二手叉1710。
图8示出根据本发明第三实施方式的基板清洗/干燥设备。
参见图8，根据本发明第三实施方式的基板清洗/干燥设备30包括：基架100；第一、第二和第三基板传送单元200、2300和2400；基板处理单元500；以及第四和第五基板传送单元2600和2700。除了第二到第五基板传送单元2300、2400、2600和2700以外，根据本发明第三实施方式的基板清洗/干燥设备30在结构上与根据本发明第一实施方式的上述基板清洗/干燥设备10相同。因此，将省略对于相同部分的详细说明，并且将使用相同的附图标记表示相同的部分。
第二基板传送单元2300通过沿垂直方向传送多个第一手叉2310，传送由第一基板传送单元200提供的基板S。然后，第二基板传送单元2300将基板S提供到第三基板传送单元2400。然后，多个第一手叉2310沿第二基板传送单元2300的第一叉架2330的两侧的方向对称地滑动。然后，在不干扰提供到第三基板传送单元2400的基板S的情况下，升降多个第一手叉2310，并将其恢复到第一垂直传送位置。如图9中所示，第二基板传送单元2300包括多个第一手叉2310、第一叉支撑杆2320、第一叉架2330和第一升降器2340。
第一手叉2310是以固定间隔提供的，其中每一个第一手叉2310以悬臂形状形成，用于支撑基板S的背面。为了防止多个第一手叉2310由于基板S的负荷而向下弯曲，多个第一手叉2310的每一个都是以其背面倾斜的方式形成的。也就是说，多个第一手叉2310的每一个的厚度从一端到另一端逐渐减少。在多个第一手叉2310的每一个的上侧，具有多个弯曲防止部件317和多个传感器319。
多个第一手叉2310的每一个通过第一叉支撑杆2320来支撑，并且多个第一手叉2310的每一个沿着第一叉支撑杆2320的纵向滑动。
第一叉支撑杆2320支撑多个第一手叉2310的每一个的一端，并且还允许多个第一手叉2310沿着它的纵向、朝着它的两端滑动。如图10和11中所示，第一叉支撑杆2320包括杆架2322、滑动槽2324(参见图9)和叉滑动模块2326。
杆架2322形成为矩形，并由第一叉架2330支撑。
滑动槽2324沿纵向形成在杆架2322的一侧，以便多个第一手叉2320可以沿着滑动槽2324滑动。
叉滑动模块2326包括滑动引导单元3110、多个滚珠丝杆单元3120和滑动传感器单元3130。优选地，叉滑动模块2326与多个第一手叉耦合，可操作用以沿纵向滑动多个第一手叉。优选地，多个滚珠丝杆单元3120与多个第一手叉的每一个的端部耦合，可操作用以沿着所述多个滑轨沿纵向滑动多个第一手叉。
滑动引导单元3110安装在多个第一手叉2310的每一个处，并且还安装在杆架2322处以便引导多个第一手叉2310的每一个的滑动。滑动引导单元3110包括第一和第二滑轨3112和3114，以及多个滑动块3116。
第一和第二滑轨3112和3114是以固定间隔提供的，并且与杆架2322的纵向平行地形成。此外，在杆架2322的底部安装第一和第二滑轨3112和3114。
在多个第一手叉2310的每一个的底面上，在第一手叉2310的一侧安装多个滑动块3116，并且多个滑动块3116可滑动地连接到第一和第二滑轨3112和3114。多个第一手叉2310的每一个的一侧形成为“∩”形，并且一对滑动块3116安装在该“∩”形的两个侧壁的下部。
多个滚珠丝杆单元3120允许多个第一手叉2310沿着第一和第二滑轨3112和3114，沿水平方向滑动。多个滚珠丝杆单元3120安装在杆架2322内部，同时与第一和第二滑轨3112和3114之间的各个第一手叉2310相对应。如图10中所示，如果第一手叉2310的数目是4，则滚珠丝杆单元3120的数目也是4。
多个滚珠丝杆单元3120的每一个包括滚珠丝杆螺母3122、滚珠丝杆轴3124和驱动马达3126。
在形成为“∩”形的第一手叉2310的一侧安装滚珠丝杆螺母3122。
滚珠丝杆轴3124在与滚珠丝杆螺母3122接触的同时安装在第一和第二滑轨3112和3114之间。此时，多个滚珠丝杆轴3124的每一个的一侧和另一侧由安装在杆架2322底部的一对轴支撑部3123a和3123b可旋转地支撑。
驱动马达3126安装在杆架2322的底部，并通过马达托架支撑。驱动马达3126进一步连接到滚珠丝杆轴3124。此时，可以在驱动马达3126的旋转轴与滚珠丝杆轴3124之间设置耦合，其中该耦合将驱动马达3126的旋转力传递到滚珠丝杆轴3124。
多个滚珠丝杆单元3120的每一个使滚珠丝杆轴3124旋转，以便线性地移动滚珠丝杆螺母3122，由此，对应的第一手叉2310滑动。
在图10和11中，滑动传感器单元3130检测根据多个滚珠丝杆单元3120的每一个的驱动而向左或向右滑动的多个第一手叉2310的每一个的滑动位置。滑动传感器单元3130还产生电信号，以便停止多个滚珠丝杆单元3120的每一个的驱动。滑动传感器单元3130包括传感器轨道3132、多个传感器爪扣(sensor dog)3134和多个位置传感器3136。
传感器轨道3132安装在杆架2322的内表面。可以在将传感器轨道3132分成多个部分以具有与多个第一手叉2310的每一个的滑动距离相对应的长度的同时，安装传感器轨道3132。
多个传感器爪扣3134的每一个安装在多个第一手叉2310的每一个的一侧，其中每一个传感器爪扣3134朝着传感器轨道3132的方向突出预定长度。
多个位置传感器3136的每一个安装在传感器轨道3132上，并且设置在与多个第一手叉2310的每一个的向左/向右滑动距离相对应的位置，以检测传感器爪扣3134的位置。换言之，多个位置传感器3136的每一个检测安装在多个第一手叉2310的每一个中的每一个传感器爪扣3134的位置，并允许多个滚珠丝杆单元3120向左/向右滑动到位于杆架2322的两侧，或者以固定间隔位于杆架2322上的基板支撑位置。
在图9中，第一叉架2330支撑第一叉支撑杆2320的横侧或者后侧的中央。在这种情况下，第一叉架2300和第一叉支撑杆2320可以形成为一体。
第一升降器2340安装为邻近于第三基板传送单元2400的前侧中央，用以沿垂直方向移动第一叉架2330。第一升降器2340包括用于经由架升降孔2341升降第一叉架2330的滚珠丝杆模块(未示出)或者LM引导模块(未示出)。第一升降器2340在结构上与根据本发明第一实施方式的基板清洗/干燥设备10中的上述第一升降器340相同。因此，将省略对于第一升降器2340的详细说明。
在图8中，第三基板传送单元2400接收沿垂直方向从第二基板传送单元2300传送来的基板S；沿水平方向传送所接收的基板S，以将基板S提供到基板处理单元500。如图12中所示，第三基板传送单元2400包括：多个第一辊架410a、410b和410c；第一轴420；第一轴旋转部件430；第一旋转传输部件(未示出)；多个第一传送引导单元440；和叉通过区域(fork passing area)2450。除了第三基板传送单元2400包括额外提供的叉通过区域2450之外，第三基板传送单元2400在结构上与根据本发明第一实施方式的基板清洗/干燥设备10中的上述第三基板传送单元400相同。因此，将省略对于第三基板传送单元2400的详细说明。
叉通过区域2450被形成为
Figure BSA00000400780100161
形，该
Figure BSA00000400780100162
形从每一个第一支架412的邻近于第二基板传送单元2300的前侧朝着每一个第一支架412的另一侧的方向开口。换言之，每一个第一支架412的一侧被形成为具有
Figure BSA00000400780100163
形横截面。此时，叉通过区域2450具有当第一手叉2310向左/向右滑动的时候能够避免与第一手叉2310碰撞的长度。
在图8中，第四基板传送单元2600安装为邻近于基板处理单元500的后侧，以便第四基板传送单元2600沿水平方向传送从基板处理单元500卸下的基板S。第四基板传送单元2600包括：多个第二辊架2610a、2610b和2610c；第二轴2620；第二轴旋转部件2630；第二旋转传输部件(未示出)；多个第二传送引导单元2640；和叉通过区域2650。除了第四基板传送单元2600安装为邻近于基板处理单元500的后侧从而与上述第三基板传送单元2400对称之外，第四基板传送单元2600在结构上与上述第三基板传送单元2400相同，尽管它们具有不同的附图标记。因此，将省略对于第四基板传送单元2600的详细说明。
第五基板传送单元2700沿垂直方向传送由第四基板传送单元2600沿水平方向传送来的基板S。然后，第五基板传送单元2700将沿垂直方向传送的基板S提供到第一基板传送单元200。第五基板传送单元2700包括多个第二手叉2710、第二叉支撑杆2720、第二叉架2730和第二升降器2740。除了第五基板传送单元2700安装为邻近于第四基板传送单元2600的后侧从而与上述第二基板传送单元2300对称之外，第五基板传送单元2700在结构上与上述第二基板传送单元2300相同，尽管它们具有不同的附图标记。因此，将省略对于第五基板传送单元2700的详细说明。此外，第二叉支撑杆2720在结构上与图10和11中所示的第二叉支撑杆2320相同。
根据本发明第三实施方式的基板清洗/干燥设备30将放置在第二基板传送单元2300的第一手叉2310上的基板S提供到第三基板传送单元2400。基板清洗/干燥设备30允许第一手叉2310向左/向右滑动到位于第一叉支撑杆2320的两侧，并升降第一手叉2310以避开基板S。
根据本发明第三实施方式的基板清洗/干燥设备30将放置在第五基板传送单元2700的第二手叉2710上的基板S提供到第一基板传送单元200。基板清洗/干燥设备30允许第二手叉2710向左/向右滑动到位于第二叉支撑杆2720的两侧，并降低第二手叉2710以避开基板S。
在根据本发明第三实施方式的基板清洗/干燥设备30中，第二和第五基板传送单元的手叉2310和2710向左/向右滑动到位于叉支撑杆2320和2720的两侧。然而，本发明不限于上述实施方式。替代地，第二和第五基板传送单元的手叉2310和2710可以向左/向右滑动到位于叉支撑杆2320和2720的一侧。
图13A至13H示出根据本发明第一实施方式的通过使用基板清洗/干燥设备来清洗/干燥基板的方法。
下面将参照图13A至13H描述根据本发明第一实施方式的使用基板清洗/干燥设备10的基板清洗/干燥方法。
首先，如图13A中所示，经由基架100的基板入口，将基板S从外部装载到第一基板传送单元200上(参见图中所示的“a”)。
然后，如图13B中所示，当将基板S支撑在第一基板传送单元200上时，沿水平方向朝着第二基板传送单元300传送第一基板传送单元200，由此，将基板S传送到第一垂直传送位置(参见图中所示的“b”)。在这种情况下，第一基板传送单元200可以将所支撑的基板S旋转预定角度。
然后，如果基板S置于第一垂直传送位置，则将插入到第一基板传送单元200与基板S之间的第二基板传送单元300的第一手叉310升高到预定高度，以便将支撑在第一基板传送单元200上的基板S传送到第一手叉310(参见图中所示的“c”)。
如图13C中所示，朝着基板入口水平地传送第一基板传送单元200(参见图中所示的“d”)。
如果朝着基板入口将第一基板传送单元200水平地传送到超出多个第一手叉310的长度，则朝着第一水平传送位置降低多个第一手叉310，并将由多个第一手叉310支撑的基板S传送到第一水平传送位置(参见图中所示的“e”)。多个第一手叉310在降低时通过多个第一辊架410a、410b和410c的每一个之间的间隔，并且由多个第一手叉310支撑的基板S被放置到多个第一辊架410a、410b和410c上。
然后，如图13D中所示，通过驱动多个第一辊架410a、410b和410c，朝着基板处理单元500水平地传送位于第一水平传送位置的基板S(参见图中所示的“f”)。
当将基板S从第一水平传送位置朝着基板处理单元500水平地传送到超出多个第一手叉310的长度的时候，升高多个第一手叉310(参见图中所示的“g”)。此时，将基板S装载到基板处理单元500中。
然后，如图13E中所示，顺序地升高多个第一手叉310，以便将多个第一手叉310恢复到第一垂直传送位置(参见图中所示的“h”)。此时，在辊传送装置510的驱动下沿水平方向传送基板S的同时，对基板S进行清洗和干燥(参见图中所示的“i”)。此外，第一基板传送单元200通过上述过程“a”和“b”，将经由基板入口装载的新提供的基板S’传送到第一垂直传送位置。
如图13F中所示，第一到第三基板传送单元200、300和400的每一个重复地执行上述过程“a”至“i”，以便以固定的时间间隔将新提供的基板S’装载到基板处理单元500。
然后，通过驱动第四基板传送单元600的第二辊架610a、610b和610c，将在清洗和干燥工艺之后从基板处理单元500卸下的清洗后的基板S水平地传送到第二垂直传送位置(参见图中所示的“j”)。
当清洗后的基板S被传送到位于第二垂直传送位置的时候，使被降低以通过多个第二辊架610a、610b和610c的每一个之间的间隔的多个第二手叉710朝着第二水平传送位置升高(参见图中所示的“k”)。
如图13G中所示，当顺序地将多个第二手叉710升高到位于第二水平传送位置的时候(参见图中所示的“l”)，将第一基板传送单元200水平地传送到第二水平传送位置(参见图中所示的“m”)。
如图13H中所示，当第一基板传送单元200被传送到位于第二水平传送位置的时候，多个第二手叉710被降低到预定高度，然后将清洗后的基板S传送到第一基板传送单元200。
然后，当清洗后的基板S被支撑在第一基板传送单元200上时，朝着基板入口水平地传送第一基板传送单元200(参见图中所示的“n”)。
然后，如果朝着基板入口将第一基板传送单元200水平地传送到超出多个第二手叉710的长度，则朝着第二垂直传送位置降低多个第二手叉710。此时，通过多个第二辊架610a、610b和610c的每一个之间的间隔，多个第二手叉710被降低到垂直传送位置。
此外，当第一基板传送单元200被传送到位于基板入口的时候，由第一基板传送单元200支撑的基板S被卸到外部(参见图中所示的“o”)。
根据本发明第一实施方式的使用基板清洗/干燥设备10的基板清洗/干燥方法可以通过重复地执行图13A至13H中所示的上述过程“a”到“o”，来对基板S执行清洗和干燥工艺，由此清洗基板S。
图14A和14B示出根据本发明第二实施方式的通过使用基板清洗/干燥设备来清洗/干燥基板的方法中的部分过程。
下面将结合图7并参照图14A和14B来描述根据本发明第二实施方式的使用基板清洗/干燥设备20的基板清洗/干燥方法。
首先，通过重复地执行图13A至13C中所示的上述过程“a”至“e”，将基板S传送到第一水平传送位置。
然后，如图14A中所示，当通过降低多个第一手叉1310将由第一手叉1310支撑的基板S放置到多个第一辊架410a、410b和410c上的时候，如上所述，通过驱动多个第一辊架410a、410b和410c，朝着基板处理单元500水平地传送基板S。同时，多个第一手叉1310的每一个中的第一至第三滑动杆1311、1313和1315沿水平方向滑动，以朝着基板避开位置即第一叉支撑杆320的方向折叠。
然后，如图14B中所示，当将基板S朝着基板处理单元500水平地传送到超出处于基板避开位置的多个第一手叉1310的长度的时候，折叠的第一手叉1310被升高到第一垂直传送位置。
然后，当折叠的第一手叉1310被升高到位于第一垂直传送位置的时候，第一手叉1310的每一个中的第一至第三滑动杆1311、1313和1315通过沿水平方向滑动而伸展。可以通过在被升高到第一垂直传送位置的同时沿水平方向滑动，将第一手叉1310的每一个中的第一至第三滑动杆1311、1313和1315伸展到基板支撑位置。
然后，第一至第三基板传送单元200、1300和400的每一个重复地执行图13A至13C中所示的上述过程“a”至“e”以及图14A和14B中所示的上述过程，由此，朝着基板处理单元500传送基板S。
类似于上述图13F，驱动第四基板传送单元600的第二辊架610a、610b和610c，以便将在清洗和干燥工艺之后从基板处理单元500卸下的清洗后的基板S水平地传送到第二垂直传送位置。
然后，当清洗后的基板S被传送到位于第二垂直传送位置的时候，使被降低以通过多个第二辊架610a、610b和610c的每一个之间的间隔的多个第二手叉1710朝着第二水平传送位置升高。
类似于上述图13G，当顺序地将多个第二手叉1710升高到位于第二水平传送位置的时候，将第一基板传送单元200水平地传送到第二水平传送位置。
然后，当第一基板传送单元200被水平地传送到位于第二手叉1710与清洗后的基板S之间的时候，第二手叉1710被降低到预定高度，然后将清洗后的基板S传送到第一基板传送单元200。然后，在朝着基板入口水平地传送第一基板传送单元200并同时折叠第二手叉1710的每一个中的第一至第三滑动杆之后，朝着基板入口水平地传送第一基板传送单元200。当第一基板传送单元200被水平地传送到超出折叠的第二手叉1710的长度的时候，便将折叠的第二手叉1710降低到第二垂直传送位置。如果第一基板传送单元200被传送到基板入口，则将由第一基板传送单元200支撑的基板S卸到外部。
然后，当将折叠的第二手叉1710降低到第二垂直传送位置的时候，通过沿水平方向滑动来伸展第二手叉1710的每一个中的第一至第三滑动杆。可以通过在被降低到第二垂直传送位置的同时沿水平方向滑动，来伸展第二手叉1710的每一个中的第一至第三滑动杆。
图15A和15B示出根据本发明第三实施方式的通过使用基板清洗/干燥设备来清洗/干燥基板的方法中的部分过程。
下面将结合图9并参照图15A和15B来描述根据本发明第三实施方式的使用基板清洗/干燥设备30的基板清洗/干燥方法。
首先，通过重复地执行图13A至13C中所示的上述过程“a”至“e”，将基板S传送到第一水平传送位置。
然后，如图15A中所示，当通过降低多个第一手叉2310将由第一手叉2310支撑的基板S放置到多个第一辊架410a、410b和410c上的时候，如上所述，通过驱动多个第一辊架410a、410b和410c，朝着基板处理单元500水平地传送基板S。同时，第一手叉2310向左/向右滑动，以便对称地位于第一叉支撑杆2320的两侧。之后，朝着第一垂直传送位置升高被折叠以避开基板S的第一手叉2310。
然后，如图15B中所示，当折叠的第一手叉2310被升高到第一垂直传送位置的时候，第一手叉2310滑动以便以固定间隔对称地位于第一叉支撑杆2320上。用于使第一手叉2310以固定间隔位于第一叉支撑杆2320上的滑动过程可以在朝着第一垂直传送位置升高的过程期间进行
然后，第一至第三基板传送单元200、1300和400的每一个重复地执行图13A至13C中所示的上述过程“a”至“e”以及图15A和15B中所示的上述过程，由此，朝着基板处理单元500传送基板S。
类似于上述图13F，驱动第四基板传送单元2600的第二辊架610a、610b和610c，以便将在清洗和干燥工艺之后从基板处理单元500卸下的清洗后的基板S水平地传送到第二垂直传送位置。
然后，当清洗后的基板S被传送到位于第二垂直传送位置的时候，使被降低以通过多个第二辊架610a、610b和610c的每一个之间的间隔的多个第二手叉2710朝着第二水平传送位置升高。
类似于上述图13G，当顺序地将多个第二手叉2710升高到位于第二水平传送位置时，将第一基板传送单元200水平地传送到第二水平传送位置。
然后，当第一基板传送单元200被水平地传送到位于第二手叉2710与清洗后的基板S之间的时候，第二手叉2710被降低到预定高度以便将清洗后的基板S传送到第一基板传送单元200。然后，在朝着基板入口水平地传送第一基板传送单元200并同时允许第二手叉2710向左/向右滑动以便对称地位于第二叉支撑杆2720的两侧之后，使被折叠以避开基板S的第二手叉2710朝着第二垂直传送位置降低。同时，如果第一基板传送单元200被传送到基板入口，则将由第一基板传送单元200支撑的基板S卸到外部。
然后，当折叠的第二手叉2710被降低到第二垂直传送位置的时候，第二手叉2710向左/向右滑动以便以固定间隔对称地位于第二叉支撑杆2720上。用于使第二手叉2710以固定间隔位于第二叉支撑杆2720上的滑动过程可以在朝着第二垂直传送位置升高的过程期间进行。
图16示出根据本发明实施方式的基板处理设备。
参见图16，根据本发明实施方式的基板处理设备包括：清洗室1；端口2；基板传送单元3；基板清洗/干燥设备10、20或者30；和薄膜形成设备5。
清洗室1提供了具有预定清洁级别的空间。端口2，基板清洗/干燥设备10、20、或者30以及薄膜形成设备5安装在清洗室1的内部。
端口2安装在清洗室1的内部，其中端口2装载基板或者卸载清洗后的基板。可以将其中叠放有多个基板的卡匣(未示出)装载到端口2中或者从端口2中卸载。
在端口2，基板清洗/干燥设备10、20或者30以及薄膜形成设备5之间安装基板传送单元3。
基板传送单元3从端口2接收基板，然后将所接收的基板传送到基板清洗/干燥设备10、20或者30。基板可以是用于显示面板、半导体和太阳能电池的各种基板之中的任何一种。
此外，基板传送单元3接收由基板清洗/干燥设备10、20或者30清洗后的基板，并将所接收的基板传送到薄膜形成设备5。此外，基板传送单元3接收通过薄膜形成设备5在其上形成有薄膜的基板，然后将所接收的基板传送到端口2。
与图1至5中所示的根据本发明第一实施方式的基板清洗/干燥设备对应的基板清洗/干燥设备10通过图13A至13H中所示的上述基板清洗/干燥方法，对从基板传送单元3装载的基板执行清洗和干燥工艺。
与图1至3B以及图6和7中所示的根据本发明第二实施方式的基板清洗/干燥设备对应的基板清洗/干燥设备20通过图14A和14B中所示的包括基板传送方法的上述基板清洗/干燥方法，对从基板传送单元3装载的基板执行清洗和干燥工艺。
与图1至3B以及图8至12中所示的根据本发明第三实施方式的基板清洗/干燥设备对应的基板清洗/干燥设备30通过图15A和15B中所示的包括基板传送方法的上述基板清洗/干燥方法，对从基板传送单元3装载的基板执行清洗和干燥工艺。
薄膜形成设备5在由基板传送单元3装载的清洗后的基板上形成预定薄膜。薄膜形成设备5可以包括传送室51、加载互锁室(loadlock chamber)52、预热室53、多个处理室54和冷却室55。
传送室51被设置在室52至55的中央，并且传送室51在室52至55之间传送基板。传送室51包括用于传送基板的传送机械手56。传送室51被串型(cluster type)布置的加载互锁室52、预热室53、多个处理室54和冷却室55所环绕。
加载互锁室52被布置为邻近于基板传送单元3，并与传送室51连接。可以将由基板传送单元3提供的基板临时地存放在加载互锁室52中。也可以将由传送室51提供的具有薄膜的基板临时地存放在加载互锁室52中。
预热室53对通过传送机械手56从加载互锁室52提供的基板进行预热，以使基板温度高于用于薄膜沉积工艺的预定温度。此时，考虑到冷却裕度(margin)，比如从预热室53到多个处理室54的传送时间、多个处理室54中的处理时间以及处理温度，来确定预热基板的温度。预热室53通过使用诸如线圈加热器或者灯加热器等加热设备，将基板预热至预定温度。
可以以堆叠结构形成加载互锁室52和预热室53。也就是说，可以将加载互锁室52设置在预热室53的下方。
多个处理室54通过使用传送机械手56来接收在预热室53中预热后的基板，并使用化学气相沉积或者溅射法对预热后的基板执行薄膜沉积工艺。
冷却室55通过使用传送机械手56接收通过多个处理室54在其上形成有薄膜的基板。然后，冷却室55将通过薄膜沉积工艺预热的基板温度降低到预定温度。如果制造工艺和制造后步骤不需要温度冷却过程，则冷却室55可以由处理室54代替。
基板清洗/干燥设备10、20或者30可以对具有由薄膜形成设备5形成的薄膜的基板执行清洗和干燥工艺。
在不脱离本发明的精神或范围的情况下，对本发明可进行各种修改和变化，这对于所属领域技术人员来说是显而易见的。因而，本发明意在覆盖落入所附权利要求书范围及其等效范围内的对本发明的所有修改和变化。

Claims (16)

1.一种基板清洗和干燥设备，包括：
第一基板传送单元，其可操作用以在基架的上部沿水平方向传送基板；
第二基板传送单元，其可操作用以从所述第一基板传送单元接收所述基板，并沿垂直方向传送所述基板；
第三基板传送单元，其可操作用以从所述第二基板传送单元接收所述基板，并在所述基架的下部沿水平方向传送所述基板；和
基板处理单元，其可操作用以从所述第三基板传送单元接收所述基板，并对所述基板执行清洗和干燥工艺以清洗和干燥所述基板，
其中，所述第二基板传送单元包括可操作用以支撑所述基板的多个第一手叉，以及
其中所述第三基板传送单元包括以固定间隔在水平方向上彼此平行地设置的多个第一辊架，并使得所述多个第一手叉能够通过所述第三基板传送单元的多个第一辊架中的每一个第一辊架之间的间隔，
其中所述多个第一辊架的每一个第一辊架包括：第一支架，以固定间隔提供以便能够经由所述第一支架之间的间隔来升降所述多个第一手叉；以及多个第一辊，安装在每一个第一支架的一侧或者两侧。
2.根据权利要求1所述的设备，其中所述多个第一手叉可操作为被折叠以远离所述第三基板传送单元。
3.根据权利要求1所述的设备，其中：
所述多个第一手叉可操作用以沿垂直于所述水平方向的纵向滑动；以及
所述多个第一辊架的每一个第一辊架包括在远离该基板处理单元的一端的第一叉通过区域，该第一叉通过区域允许所述多个第一手叉通过其中。
4.根据权利要求3所述的设备，其中所述多个第一手叉可操作用以沿所述纵向的两个方向对称地滑动。
5.根据权利要求3所述的设备，其中全部的所述多个第一手叉都可操作用以沿所述纵向的一个方向滑动。
6.根据权利要求3所述的设备，其中所述第二基板传送单元还包括与所述多个第一手叉的每一个第一手叉的一端耦合的第一叉支撑杆，以及可操作用以沿垂直方向移动所述第一叉支撑杆的第一升降器，所述第一叉支撑杆包括：
杆架；
在所述杆架的一侧沿所述纵向设置的滑动槽，该滑动槽允许所述多个第一手叉通过其中；以及
与所述多个第一手叉耦合的叉滑动模块，该叉滑动模块可操作用以沿所述纵向滑动所述多个第一手叉。
7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述叉滑动模块包括：
在所述多个第一手叉的每一个第一手叉的一端设置的滑动引导单元，该滑动引导单元包括在所述杆架的底部以固定间隔与所述杆架的纵向平行地设置的多个滑轨；
与所述多个第一手叉的每一个第一手叉的端部耦合的多个滚珠丝杆单元，所述多个滚珠丝杆单元可操作用以沿着所述多个滑轨沿所述纵向滑动所述多个第一手叉；以及
滑动传感器单元，其可操作用以检测所述多个第一手叉的每一个第一手叉的滑动位置。
8.根据权利要求7所述的设备，其中所述滑动传感器单元包括：
传感器轨道，其设置在所述杆架的内表面并被分成多个部分，所述多个部分的每一部分具有与所述多个第一手叉的每一个第一手叉的滑动距离相对应的长度；
多个传感器爪扣，所述多个传感器爪扣的每一个传感器爪扣安装在所述多个第一手叉的每一个第一手叉的一侧，其中每一个传感器爪扣朝着所述传感器轨道突出预定长度；以及
多个位置传感器，所述多个位置传感器的每一个位置传感器在与所述多个第一手叉的每一个第一手叉的滑动距离相对应的位置设置在所述传感器轨道上。
9.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一基板传送单元包括：
在所述基架的上部设置的多个轨道，所述多个轨道是以预定间隔平行于所述水平方向设置的；
可移动地设置在所述多个轨道上的传送架；
设置在所述传送架上的支撑轴；
设置在所述支撑轴上的支撑板，该支撑板可操作用以支撑所述基板，所述支撑轴支撑所述支撑板；以及
设置在所述支撑板上的具有预定高度的多个支撑销，所述多个支撑销可操作用以支撑所述基板。
10.根据权利要求9所述的设备，其中所述基板传送单元还包括设置在所述传送架下方并与所述支撑轴耦合的基板旋转单元，所述基板旋转单元可操作用以将所述支撑轴旋转预定角度。
11.一种基板清洗和干燥方法，包括：
将基板装载到第一基板传送单元上；
沿水平方向朝着第二基板传送单元传送所述第一基板传送单元；
使所述第一基板位于第一垂直传送位置，其中将所述第二基板传送单元的多个第一手叉插入到所述基板与所述第一基板传送单元之间；
将所述多个第一手叉升高到预定高度，以将所述基板传送到所述多个第一手叉上；
远离所述第二基板传送单元沿水平方向传送所述第一基板传送单元；
在远离所述第二基板传送单元将所述第一基板传送单元传送到超出所述多个第一手叉的长度时，沿垂直方向将所述第二基板传送单元的多个第一手叉传送到第一水平传送位置，其中所述多个第一手叉在沿垂直方向降低时通过第三基板传送单元的多个第一辊架中的每一个第一辊架之间的间隔，并将所述基板传送到所述第三基板传送单元上；
远离所述第二基板传送单元沿水平方向传送所述第三基板传送单元；
将所述多个第一手叉沿垂直方向传送到所述第一垂直传送位置；
将所述基板传送到基板处理单元；以及
在所述基板处理单元对所述基板执行基板清洗和干燥工艺；
其中，所述第三基板传送单元的多个第一辊架的每一个第一辊架包括在远离所述基板处理单元的一端的第一叉通过区域，所述第一叉通过区域允许所述多个第一手叉通过其中；以及
其中，将所述多个第一手叉沿垂直方向传送到所述第一垂直传送位置包括：
沿着垂直于水平方向的方向滑动处于原始位置的所述多个第一手叉，以避开所述多个第一辊架；
将所述多个第一手叉沿垂直方向传送到所述第一垂直传送位置；以及
将所述多个第一手叉滑动到所述原始位置。
12.一种基板处理设备，包括：
清洗室；
设置在所述清洗室中的端口，该端口可操作用以装载和卸载基板；
设置在所述清洗室中的薄膜形成设备，该薄膜形成设备可操作用以在所述基板上形成预定膜；
设置在所述清洗室中的基板清洗和干燥设备；以及
设置在所述清洗室中的基板传送单元，
其中所述基板清洗和干燥设备包括：
第一基板传送单元，其可操作用以在基架的上部沿水平方向传送所述基板；
第二基板传送单元，其可操作用以从所述第一基板传送单元接收所述基板，并沿垂直方向传送所述基板；
第三基板传送单元，其可操作用以从所述第二基板传送单元接收所述基板，并在所述基架的下部沿水平方向传送所述基板；和
基板处理单元，其可操作用以从所述第三基板传送单元接收所述基板，并对所述基板执行清洗和干燥工艺以清洗和干燥所述基板，
其中，所述第二基板传送单元包括可操作用以支撑所述基板的多个第一手叉，
其中所述第三基板传送单元包括以固定间隔在水平方向上彼此平行地设置的多个第一辊架，并使得所述多个第一手叉能够通过所述第三基板传送单元的多个第一辊架中的每一个第一辊架之间的间隔；以及
其中所述基板传送单元可操作用以：
从所述端口接收所述基板，并将所接收的基板传送到所述基板清洗和干燥设备；
从所述基板清洗和干燥设备接收所述基板，并将所述基板传送到所述薄膜形成设备；和
从所述薄膜形成设备接收所述基板，并将所接收的基板传送到所述端口，
其中所述多个第一辊架的每一个第一辊架包括：第一支架，以固定间隔提供以便能够经由所述第一支架之间的间隔来升降所述多个第一手叉；以及多个第一辊，安装在每一个第一支架的一侧或者两侧。
13.根据权利要求12所述的设备，其中所述多个第一手叉可操作为被折叠以远离所述第三基板传送单元。
14.根据权利要求12所述的设备，其中：
所述多个第一手叉可操作用以沿垂直于所述水平方向的纵向滑动；以及
所述多个第一辊架的每一个第一辊架包括在远离基板处理单元的一端的第一叉通过区域，所述第一叉通过区域允许所述多个第一手叉通过其中。
15.根据权利要求14所述的设备，其中，所述多个第一手叉可操作用以沿所述纵向的两个方向对称地滑动。
16.根据权利要求14所述的设备，其中，全部的所述多个第一手叉都可操作用以沿所述纵向的一个方向滑动。
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