CN102270594A - 搬送室、基板处理装置和基板异常的检测方法 - Google Patents

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CN102270594A CN201110201338XA CN201110201338A CN102270594A CN 102270594 A CN102270594 A CN 102270594A CN 201110201338X A CN201110201338X A CN 201110201338XA CN 201110201338 A CN201110201338 A CN 201110201338A CN 102270594 A CN102270594 A CN 102270594A
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冈部星儿
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Abstract

本发明提供一种能够对大型FPD基板在搬送室内的位置偏移和缺口等异常可靠地进行检测的基板处理装置和一种基板异常的检测方法。将基板(S)载置在搬送装置(50)的滑动拾取器(513)上，从搬送室(20)内经过闸门开口(22d)向处理腔室(10b)搬入时，由左右配置的一对传感器(70、70)向基板(S)两端部附近的虚线(A、B)表示的部位照射光线，根据其反射率或透过率，对基板(S)的位置偏移和缺陷等进行检测。

Description

搬送室、基板处理装置和基板异常的检测方法
本申请是2006年9月5日提出的申请号为200610128960.1的同名申请的分案申请
技术领域
本发明涉及搬送室、基板处理装置和基板异常的检测方法，例如，涉及对平板显示器(FPD)用玻璃基板等进行蚀刻等处理的基板处理装置的搬送室、具有该搬送室的基板处理装置、和检测基板的位置偏移和缺口等的基板异常的检测方法。
背景技术
在以液晶显示器(LCD)为代表的平板显示器(FPD)的制造过程中，使用包括多个在真空下对玻璃基板实施蚀刻、灰化(ashing)、成膜等规定的处理的真空处理装置的所谓多腔室型的真空处理系统。
这样的真空处理系统具有配置有搬送基板的搬送装置的搬送室、和设置在其周围的多个处理腔室(process chamber)，利用搬送室内的搬送臂将被处理基板搬入各处理腔室内、并且将处理结束的基板从各真空处理装置的处理腔室搬出。负载锁定室与搬送室连接，在大气侧的基板搬入搬出时，将处理腔室和搬送室维持在真空状态，能够对多个基板进行处理。
可是，最近强烈要求FPD用玻璃基板的大型化，以至出现了一边超过2m的巨大的玻璃基板，与此对应，装置也要大型化，装置中使用的各种构成要素也要大型化。伴随玻璃基板的大型化，在搬送途中即使产生极小的位置偏移，在处理腔室中也会出现较大的位置偏移，所以担心对蚀刻等处理内容造成影响。
关于搬送室内的位置检测，是关于半导体晶片的，已提出一种位置偏移检测装置，该位置偏移检测装置包括：检测单元，利用光学测定求出静止的圆盘状的晶片的弦长和该弦的中心位置；保持单元，预先保持晶片位于预先确定的基准位置时的检测单元的输出数据；计算单元，根据晶片位于期望的测定位置时的检测单元的输出数据和上述保持单元中保持的数据，计算晶片偏离基准位置的程度(例如专利文献1等)。
【专利文献1】特开平10-223732号公报(图1等)
专利文献1的位置偏移检测装置是以圆形的小型半导体晶片为对象，无法应用于矩形的大型FPD用玻璃基板的位置偏移检测。另外，专利文献1的位置偏移检测装置在晶片静止的状态下进行测定，所以能够对位置偏移进行正确的测定，但另一方面，难以对FPD用玻璃基板经常发生的边缘部的缺口等基板异常进行检测。
发明内容
本发明鉴于上述情况而做出，其目的在于提供一种能够对大型FPD基板在搬送室内的位置偏移和缺口等异常可靠地进行检测的基板处理装置和一种基板异常的检测方法。
为了解决上述课题，本发明的第一方面提供一种搬送室，该搬送室与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括：搬入搬出由上述搬送装置搬送的基板的开口部；与上述开口部对应，在其附近以比基板的宽度窄的间隔配置的一对光学传感器。
另外，本发明的第二方面提供一种搬送室，该搬送室与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括：搬入搬出由上述搬送装置搬送的基板的开口部；在能够对由上述搬送装置向上述开口部搬送的基板进行检测的位置，以比基板的宽度窄的间隔配置的一对光学传感器。
在上述第一方面和第二方面中，优选：上述一对光学传感器在基板上的光照射部位，在基板的两端部附近，平行于与基板的搬送方向相同的方向，连续地或间歇地形成。
另外，上述搬送装置优选具有上下两层的搬送机构部、和使该搬送机构部旋转的旋转驱动部。在这种情况下，上述搬送机构部优选具有基座、在上述基座上直进运动的臂、和在上述臂上直进运动并支撑基板的拾取器(pick)。
另外，基板优选是平板显示器用的大型基板。另外，搬送室优选是在真空状态下利用上述搬送装置进行基板搬送的真空搬送室。另外，优选：与多个上述处理室邻接配置，具有将基板搬入搬出各处理室的多个开口部，与各开口部对应，配置上述一对光学传感器。
另外，本发明的第三方面提供一种基板处理装置，其特征在于，具有上述第一方面或第二方面的搬送室。
另外，本发明的第四方面提供一种基板异常的检测方法，其特征在于：在搬送室内由搬送装置支撑、向处理室搬送的途中，利用一对光学传感器连续地或间歇地、并且以光照射部位被形成为与搬送方向平行的方式，向移动的矩形基板的两端部附近部位照射光线，检测由上述搬送装置支撑的基板的位置偏移和破损。
在上述的第四方面中，优选根据上述左右一对光学传感器对有无基板的检测结果的差异，检测基板的位置偏移和破损，或者优选根据上述左右一对光学传感器对有无基板的检测定时的差异，检测由上述搬送装置支撑的基板的位置偏移。
本发明的搬送室，由于在对由搬送装置搬送的基板进行搬入搬出的开口部附近，以比被支撑在搬送装置上的基板的宽度窄的间隔配置有一对光学传感器，所以能够一边使基板向开口部移动，一边用光学的方法对基板进行检测。另外，由于基板不是在静止的状态、而是在移动的状态下进行该检测，所以，不仅能够检测被支撑在搬送装置上的基板的位置偏移，而且也能够检测其破损、例如端部的缺口和裂纹等。
另外，由于在搬送室内与作为基板必须通过的部位的开口部的跟前的搬送路径对应，配置有光学传感器，所以例如在利用上下具有多个基板支撑拾取器的搬送机构搬送基板的情况下，能够减少光学传感器的设置个数。
附图说明
图1是概略地表示本发明的一个实施方式的等离子体处理装置的立体图。
图2是图1的等离子体处理装置的水平截面图。
图3是表示搬送装置的搬送单元的立体图。
图4是说明搬送室中的传感器的配置的例子的图。
图5是表示控制部的概略结构的框图。
图6是表示对移动中的基板进行传感的状态的图。
图7是表示传感(sensing)的一个实施方式的搬送室的截面图。
图8是说明显示出基板异常的检测结果的图。
图9是说明基板的位置偏移的检测结果的图。
图10是说明基板的局部缺口的检测结果的图。
图11是表示传感的另一个实施方式的搬送室的截面图。
符号说明
1等离子体处理装置
10a、10b、10c处理腔室
20搬送室
21a、21b、21c、21d、21e闸门(gate)开口
30负载锁定室
50搬送装置
60控制部
70传感器
71反射器(reflector)
513、523滑动拾取器(slide pick)
A、B传感部位
具体实施方式
下面，参照附图对本发明优选的实施方式进行说明。在此，作为基板处理装置，对于在用于对FPD用玻璃基板(以下简称为“基板”)S进行等离子体处理的多腔室型的等离子体处理装置中使用的搬送室中，对基板异常进行检测的例子进行说明。在此，作为FPD，例如是液晶显示器(LCD)、发光二极管(LED)显示器、电致发光(Electro Luminescence，EL)显示器、荧光显示管(Vacuum FluorescentDisplay，VFD)、等离子体显示板(PDP)等。
图1是概略地表示本发明的基板处理装置的一个实施方式的等离子体处理装置的立体图，图2是概略地表示其内部的水平截面图。
该真空处理装置1中，搬送室20和负载锁定室30在其中央部连接设置。在搬送室20的周围，配置有三个处理腔室10a、10b、10c。
在搬送室20和负载锁定室30之间、搬送室20和各处理腔室10a、10b、10c之间、以及连通负载锁定室30和外侧的大气气氛的开口部，分别插入有将它们之间气密地密封并且构成为能够开关的闸阀22。
在负载锁定室30的外侧设置有两个盒式分配器(cassette index)41，在其上分别载置有收容基板S的盒(cassette)40。这些盒40的一个例如可以收容未处理基板，另一个可以收容处理结束的基板。这些盒40能够通过升降机构42进行升降。
在这两个盒40之间，在支撑台44上设置有搬送机构43，该搬送机构43具备设置在上下两层的拾取器45、46以及能够一体地进出退避和旋转地支撑它们的基座47。
上述处理腔室10a、10b、10c，其内部空间能够被保持在规定的减压气氛下，在其内部进行等离子体处理、例如蚀刻处理和灰化处理等。由于这样具有三个处理腔室，所以，例如可以将其中的两个处理腔室构成为蚀刻处理室，将剩下的一个处理腔室构成为灰化处理室，或者将三个处理腔室全部构成为进行相同处理的蚀刻处理室或灰化处理室。此外，处理腔室的个数不限于三个，也可以是四个以上。
搬送室20与真空处理室同样地能够保持在规定的减压气氛下，其中，如图2所示，配置有搬送装置50。利用该搬送装置50，在负载锁定室30和三个处理腔室10a、10b、10c之间搬送基板S。
图3是表示搬送装置50的搬送单元501的立体图。该搬送装置50具有进行搬送动作的搬送单元501、使搬送单元501升降的未图示的升降机构。搬送单元501是将滑动拾取器设置成两层，能够分别独立地进行基板的存入取出的类型，具有上层搬送机构部510和下层搬送机构部520。
上层搬送机构部510包括：基座部511；能够滑动地设置在基座部511上的滑动臂512；和能够滑动地设置在该滑动臂512上的、作为支撑基板的支撑台的滑动拾取器513。另外，在滑动臂512的侧壁上设置有用于滑动拾取器513相对于滑动臂512滑动的导轨515和用于滑动臂512相对于基座部511滑动的导轨516。在滑动拾取器513上设置有沿着导轨515滑动的滑块(silder)517，在基座部511上设置有沿着导轨516滑动的滑块518。
下层搬送机构部520包括：基座部521；能够滑动地设置在基座部521上的滑动臂522；和能够滑动地设置在该滑动臂522上的、作为支撑基板的支撑台的滑动拾取器523。另外，在滑动臂522的侧壁上设置有用于滑动拾取器523相对于滑动臂522滑动的导向机构525和用于滑动臂522相对于基座部521滑动的导向机构526。在滑动拾取器523上设置有沿着导轨525滑动的滑块527，在基座部521上设置有沿着导轨526滑动的滑块(省略图示)。
基座部511和基座部521通过连接部531和532连接，由基座部511和521、连接部531和532构成箱(box)形支撑部530，该箱形支撑部530能够旋转地设置在支撑板551上，通过箱形支撑部530旋转，上层搬送机构部510和下层搬送机构部520旋转。呈同轴状配置的三根圆筒轴540从箱形支撑部530的下部向搬送室20的底板201的下方延伸，其下端与未图示的驱动部连接。在该驱动部中内置有驱动上层搬送机构部510的滑动臂512和滑动拾取器513的驱动机构、驱动下层搬送机构部520的滑动臂522和滑动拾取器523的驱动机构、以及使箱形支撑部530旋转的旋转驱动机构(均未图示)，这些驱动机构的驱动力通过三根圆筒轴540传递到各部。此外，圆筒轴540在底板201以下的部分的周围，设置有作为密封机构的波纹管(bellows)(未图示)。
在下层搬送机构部520中，来自上述驱动机构(未图示)的动力通过内置在滑动臂522中的多个滑轮(pulley)和卷挂在其上的带(belt)等进行传递，由此，滑动臂522和滑动拾取器523直线地滑动。此时，通过调整滑轮的直径比，相对于滑动臂522的移动行程，能够使滑动拾取器523的移动行程变大，容易应对大型的基板。
在上层搬送机构部510中，来自上述驱动机构(未图示)的动力通过由内置在基座部521、连接部531、基座部511内的滑轮和带等构成的动力传递机构进行传递，再通过内置在滑动臂512中的多个滑轮和卷挂在其上的带等进行传递，由此，滑动臂512和滑动拾取器513直线地滑动。与下层搬送机构部520同样，通过调整滑轮的直径比，相对于滑动臂512的移动行程，能够使滑动拾取器513的移动行程变大。
在搬送室20中，除了搬送装置50以外，还配置有用于检测基板S的位置偏移和缺口等的检测装置。图4是表示作为配置在搬送室20内部的检测装置的传感器70和反射器71的配置的例子的透视图。此外，为了便于说明，省略了搬送装置50的图示。如图4所示，在搬送室20中，在与负载锁定室30相邻的侧壁上，以与闸阀22对应的方式，上下两层地形成有在与负载锁定室20之间搬入搬出基板S的闸门开口22a、22b。另外，在与处理腔室10a、10b、10c相邻的侧壁上，同样配置有在与各处理腔室10a、10b、10c之间搬入搬出基板S的闸门开口22c、22d、22e。
在搬送室20内的各闸门开口22a～22e的附近位置，左右各配置一组传感器70和反射器71。例如在形成为上下两层的闸门开口22a、22b的左端附近和右端附近，分别配置有传感器70和反射器71。优选将这一对传感器70、70配置成与通过闸门开口22a、22b的基板S的相对位置关系相同。即，配置成左右一对传感器70、70位于与搬送途中的基板S形成的平面平行的平面上。同样，在闸门开口22c、闸门开口22d、闸门开口22e的左端和右端附近，也分别配置有传感器70和反射器71。即，在搬送室20内的8个位置配置有传感器70和反射器71。
传感器70是光学传感器，被构成为：内置有照射例如红外线激光等光线的二极管等光源、以及接收由基板S或反射器71反射的反射光的受光部，通过向基板S的移动轨迹照射光线并测定其反射率，能够检测出基板S的存在。此外，在图4中，用箭头表示光线的照射方向(在图6、图7和图11中也是同样)。另外，各传感器70被配置成：该照射光在由滑动拾取器513、523正常地支撑并搬送的基板S的两端部的稍内侧入射、即在与边缘部大致正交的方向入射。此外，作为传感器70可以使用原来测定透过率的传感器。
再参照图2，负载锁定室30能够与各处理腔室10和搬送室20同样地被保持在规定的减压气氛下。另外，负载锁定室30用于在处于大气气氛中的盒40和减压气氛的处理腔室10a、10b、10c之间进行基板S的传递，由于在大气气氛和减压气氛之间反复的关系，其构成为其内部容积尽量小。
负载锁定室30的基板收容部31被设置成上下两层(在图2中仅图示上层)，在各基板收容部31中设置有支撑基板S的多个缓冲器(buffer)32，在这些缓冲器32之间形成有搬送臂的退避槽32a。另外，在负载锁定室30内，在矩形的基板S的互相相对的角部附近，设置有进行位置对准的定位器(positioner)33。
等离子体处理装置1的各结构部成为与控制部60连接并由其控制的结构(在图1中省略了图示)。将控制部60的概况示于图5。控制部60包括具有CPU的处理控制器(process controller)61。由工序管理者为了管理等离子体处理装置1而进行指令的输入操作等的键盘、可视化显示等离子体处理装置1的运转状况的显示器等构成的用户接口(user interface)62与该处理控制器61连接。
另外，控制部60包括存储有用于通过处理控制器61的控制而实现在等离子体处理装置1中运行的各种处理的控制程序(软件)、和记录有处理条件数据等的方案(recipe)的存储部63，该存储部63与处理控制器61连接。
根据需要，按照来自用户接口62的指示等，从存储部63调出任意的方案并由处理控制器61运行，在处理控制器61的控制下，在等离子体处理装置1中进行期望的处理。另外，例如在由传感器70检测出基板S的位置偏移或缺口等的情况下，该检测数据被发送到处理控制器61时，能够在用户接口62的显示器上显示其内容，或者能够通过从处理控制器61向等离子体处理装置1的各部发送控制信号，在处理控制器61的控制下采取停止处理等必要的措施。
上述控制程序和处理条件数据等方案可以利用存储在计算机可读取的存储介质、例如CD-ROM、硬盘、软盘、快速存储器(flashmemory)等中的状态的方案，或者也可以从其它装置、例如通过专用线路随时传送，在线利用。
接着，对如以上那样构成的等离子体处理装置1的动作进行说明。
首先，对搬送机构43的两个拾取器45、46进行进退驱动，从收容有未处理基板的一个盒40中，将两块基板S搬入负载锁定室30的上下两层的基板收容部31中。
拾取器45、46退避后，将负载锁定室30的大气侧的闸阀22关闭。此后，对负载锁定室30内进行排气，将内部减压到规定的真空度。抽真空结束后，通过用定位器33按压基板，进行基板S的位置对准。
如以上那样位置对准后，将搬送室20和负载锁定室30之间的闸阀22打开，利用搬送室20内的搬送装置50取出被收容在负载锁定室30的基板收容部31中的基板S，并将其搬入处理腔室10a、10b、10c的任一个中。
在从负载锁定室30取出基板S时，将搬送装置50的上层搬送机构部510的滑动拾取器513和/或下层搬送机构部520的滑动拾取器523插入负载锁定室30，利用滑动拾取器513和/或523取出基板S。滑动拾取器513和/或523将取出的基板S搬入到处理腔室10a、10b、10c的任一个中。
图6表示将基板S载置在搬送装置50的滑动拾取器513(滑动拾取器523)上，从搬送室20内经过闸门开口22d向处理腔室10b搬入时，由左右配置的一对传感器70、70对位置偏移、缺口、裂纹等缺陷进行检测(传感)的状态。图6中，基板S两端部附近的虚线A、B表示来自传感器70、70的光线照射的基板S上的传感部位。这样，在本实施方式中，来自传感器70的光线的照射，直线而且连续地进行。此外，也可以间歇地进行光线的照射，但是为了检测出基板S上的小的裂纹和缺口等，优选连续地进行光线的照射。由传感器70检测出的反射率的数据被发送到处理控制器61，连续地判别在照射光路径上是否存在有基板S，例如将其结果显示在用户接口62的显示画面等上。
另外，在处理腔室10a、10b、10c中处理后的基板S，由搬送装置50从处理腔室10a、10b、10c搬入到搬送室20内。此时也能够利用传感器70、70进行基板S的传感。然后，基板S经过负载锁定室30，由搬送机构43将其收容到盒40中。此时，可以返回到原来的盒40中，也可以收容到另一个盒40中。
接着，参照图7～图10，对本发明优选的实施方式的基板异常的检测方法进行说明。
图7示意性地表示搬送室20的截面。传感器70a、70b被配置在搬送室20的上部，通过在搬送室20的顶板20a上形成的窗72、72，向被支撑在滑动拾取器513(或滑动拾取器523)上的基板S的左右边缘部(与前进方向正交的宽度方向的边缘部)照射光，进行传感。此外，以规定速度、例如1000mm/秒，将基板S向图7的纸面的前面搬送。
如前所述，从传感器70a、70b同时照射光，对移动的基板S的移动方向的两端部内侧的传感部位A、B连续地进行传感检测。传感部位A、B例如被设定在距基板S的两端部分别为5～10mm左右的内侧。于是，在从传感器70a、70b分别向反射器71a、71b照射光时，在其间存在基板S的情况和不存在基板S的情况，反射率产生差异，所以可检测出是否存在基板S。基板S由于被支撑在滑动拾取器513(或滑动拾取器523)上并在水平方向移动，所以本来用左右的传感器70a、70b检测有无基板S(反射率的变化)是同步的。
但是，例如如图8所示，有时会得到一个传感器70a检测到基板S(有基板)，而另一个传感器70b没有检测到基板S(没有基板)的检测结果。在这种情况下，被支撑在滑动拾取器513(或滑动拾取器523)上的基板S有可能产生了没有被载置在正常的支撑位置上的位置偏移、边缘部的裂纹、缺口等某种异常。
另外，由左右的传感器70a、70b检测基板S的定时(检测的起点和终点)应该是相同的定时。该检测的定时、例如检测开始/结束的时间，可以由未图示的编码器(encoder)的读入值来把握。但是，例如如图9所示，在由传感器70a检测基板S的定时与由传感器70b检测基板S的定时产生偏差的情况下，被支撑在滑动拾取器513(或滑动拾取器523)上的基板S有可能发生了位置偏移、例如水平方向的倾斜等。因此，例如对传感器70a、70b的检测定时的偏差预先设定阈值，在超过该阈值的情况下，可以判定为位置偏移。
另外，例如如图10所示，即使传感器70a、70b的检测定时(检测的起点和终点)一致，但在一侧的传感器70b的检测区间(有基板)中局部包括未检测出(没有基板)的部位(在该图中用箭头表示)的情况下，可以判断在那里存在有局部的缺陷(裂纹、缺口)等。
通过像以上那样用传感器70a、70b同时对移动中的基板S的两端部附近进行传感，能够检测出基板S的位置偏移、基板S的缺口、裂纹等。
但是，以往的基板S的传感，例如在将基板S搬入各处理腔室10a～10c之前，在搬送室20内、在将基板S支撑在滑动拾取器513(或滑动拾取器523)上的状态下，使搬送装置50的运动停止，对其角部两个部位进行光学的传感。但是，在该方法中，由于使基板S静止以进行传感，只能检测基板S是否被支撑在正常的载置位置的位置偏移。
另外，由于滑动拾取器513(或滑动拾取器523)的停止位置和方向对于预定要搬送的每个处理腔室10a～10c是不同的，所以为了对基板S的两个角部进行传感，必须在共计6个部位设置传感器，而且，在图3所示的具有上下两层的滑动拾取器513、523的双臂结构的搬送装置50的情况下，由于被支撑在上层的滑动拾取器513上的基板S的静止位置和被支撑在下层的滑动拾取器523上的基板S的静止位置不同，所以，需要每个滑动拾取器513、523各配置6个部位、共计12个部位的传感器。
与此相对，在本实施方式中，在搬送基板S的途中，一边使其移动一边进行传感，不仅能够检测基板S的位置偏移，而且能够检测其端部的缺口和裂纹等。另外，由于将传感器70配置在搬送室20内作为基板S必须通过的部位的闸门开口22a～22e的跟前，所以，即使在包括图3所示的具有上下两层的滑动拾取器513、523的双臂结构的搬送装置50的搬送室中，也不需要对每个滑动拾取器改变位置设置传感器，能够使用共同的传感器70对分别由滑动拾取器513、523搬送的基板S进行传感检测。
此外，本发明并不限定于上述实施方式，可以进行各种变形。
例如，在图7的实施方式中，采用将传感器70a、70b配置在搬送室20的外侧、通过窗72向基板S照射光线以进行传感检测的结构，但传感器70a、70b的配置并不限于此，例如如图11所示，也可以采用将传感器70a、70b配置在搬送室20的内部的结构。另外，从传感器70a、70b到基板S的距离也可以在能够测定的范围内任意设定。
另外，例如，在上述实施方式中，对利用在上下两层设置有直动式的搬送机构部的搬送装置50来搬送基板S时的传感检测进行了说明，但是不限于两层，也可以是三层以上，不限于直动式，例如利用多关节型的搬送装置搬送基板S的情况也可以应用本发明。

Claims (10)

1.一种搬送室，与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括：
搬入搬出由所述搬送装置搬送的基板的开口部；和
与所述开口部对应，在所述搬送室内的所述开口部附近，以与基板的相对位置关系相同的方式，以比基板的宽度窄的间隔左右配置的一对光学传感器，
所述一对光学传感器，以对距经由所述开口部搬入搬出的基板的两端部分别为5～10mm的内侧的部位照射光的方式设置。
2.一种搬送室，与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括：
搬入搬出由所述搬送装置搬送的基板的开口部；和
在能够对由所述搬送装置向所述开口部搬送的基板进行检测的位置，以与基板的相对位置关系相同的方式，以比基板的宽度窄的间隔左右配置的一对光学传感器，
所述一对光学传感器，以对距经由所述开口部搬入搬出的基板的两端部分别为5～10mm的内侧的部位照射光的方式设置。
3.如权利要求1或2所述的搬送室，其特征在于：
所述一对光学传感器在基板上的光照射部位，在基板的两端部附近，平行于与基板的搬送方向相同的方向，连续地或间歇地形成。
4.如权利要求1～3中任一项所述的搬送室，其特征在于：
所述搬送装置具有上下两层的搬送机构部、和使该搬送机构部旋转的旋转驱动部。
5.如权利要求4所述的搬送室，其特征在于：
所述搬送机构部具有基座、在所述基座上直进运动的臂、和在所述臂上直进运动并支撑基板的拾取器。
6.如权利要求1～5中任一项所述的搬送室，其特征在于：
基板是平板显示器用的大型基板。
7.如权利要求1～6中任一项所述的搬送室，其特征在于：
所述搬送室是在真空状态下利用所述搬送装置进行基板搬送的真空搬送室。
8.如权利要求1～7中任一项所述的搬送室，其特征在于：
与多个所述处理室邻接配置，具有将基板搬入搬出各处理室的多个开口部，与各开口部对应，配置所述一对光学传感器。
9.一种基板处理装置，其特征在于，具有：
对矩形基板进行规定处理的处理室；和
权利要求1～8中任一项所述的搬送室。
10.一种基板异常的检测方法，其特征在于：
在搬送室内由搬送装置支撑、向处理室搬送的途中，利用一对光学传感器连续地或间歇地、并且以光照射部位被形成为与搬送方向平行的方式，向距移动的矩形基板的两端部分别为5～10mm的内侧的部位照射光线，
当一个光学传感器检测到基板，另一个光学传感器未检测到基板时，判定为由所述搬送装置支撑的基板发生位置偏移或产生破损，
当一个光学传感器的检测定时与另一个光学传感器的检测定时产生偏差时，判定为由所述搬送装置支撑的基板发生位置偏移，
当在至少一个光学传感器检测到基板的区间，局部包括未检测出基板的部位时，判定为由所述搬送装置支撑的基板产生局部的破损。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102854301A (zh) * 2012-08-10 2013-01-02 江阴沐祥节能装饰工程有限公司 一种透明度检测装置
CN114441556A (zh) * 2021-12-28 2022-05-06 蚌埠中光电科技有限公司 一种用于基板玻璃传输过程在线无损检知报警系统

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007084124A1 (en) * 2006-01-18 2007-07-26 Applied Materials, Inc. Sensors for dynamically detecting substrate breakage and misalignment of a moving substrate
JP5013987B2 (ja) * 2007-06-22 2012-08-29 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および基板搬送装置
JP4778546B2 (ja) * 2007-11-30 2011-09-21 東京エレクトロン株式会社 半導体製造装置における地震被害拡散低減方法及び地震被害拡散低減システム
JP2010016340A (ja) * 2008-07-02 2010-01-21 Advanced Display Process Engineering Co Ltd 基板感知方法、基板処理装置及び基板処理方法
JP5185054B2 (ja) * 2008-10-10 2013-04-17 東京エレクトロン株式会社 基板搬送方法、制御プログラム及び記憶媒体
CN101417747B (zh) * 2008-12-11 2011-11-23 友达光电股份有限公司 传送台机构
CN101633441B (zh) * 2009-08-19 2012-05-23 友达光电股份有限公司 基板处理系统及其基板搬运装置
CN101826478B (zh) * 2010-03-30 2012-06-20 东莞宏威数码机械有限公司 缓冲传输装置
CN102347224B (zh) * 2010-08-02 2015-08-26 北京中科信电子装备有限公司 一种注入机用晶片缺口定位装置
JP2011139074A (ja) * 2011-01-07 2011-07-14 Applied Materials Inc 基板の破損及び移動中の基板のずれを動的に検出するセンサ
JP2012238762A (ja) * 2011-05-12 2012-12-06 Tokyo Electron Ltd 基板搬送装置、これを備える塗布現像装置、及び基板搬送方法
JP5248662B2 (ja) * 2011-07-15 2013-07-31 シャープ株式会社 基板処理装置、および薄膜太陽電池の製造装置
US9151597B2 (en) * 2012-02-13 2015-10-06 First Solar, Inc. In situ substrate detection for a processing system using infrared detection
KR101269856B1 (ko) * 2012-06-04 2013-06-07 엘아이지에이디피 주식회사 평판표시소자 제조장비의 기판 감지장치
US10289930B2 (en) * 2017-02-09 2019-05-14 Glasstech, Inc. System and associated for online measurement of the optical characteristics of a glass sheet
CN107942553B (zh) * 2018-01-02 2020-05-22 京东方科技集团股份有限公司 一种稳定装置及其工作方法、机械臂、显示面板生产设备
CN110767563B (zh) * 2019-10-25 2022-05-27 上海华力集成电路制造有限公司 检测晶圆完整性的方法、rtp机台
JP7263225B2 (ja) * 2019-12-12 2023-04-24 東京エレクトロン株式会社 搬送するシステム及び方法
KR102297045B1 (ko) * 2020-03-03 2021-09-02 주식회사 로스코 플립 유닛
CN117096067B (zh) * 2023-10-17 2024-03-01 广州市艾佛光通科技有限公司 干法刻蚀机台及干法刻蚀方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002093882A (ja) * 2000-09-20 2002-03-29 Olympus Optical Co Ltd 基板搬送装置及び基板検査システム
JP4060098B2 (ja) * 2002-03-14 2008-03-12 株式会社アルバック 真空処理装置およびゲートバルブ
JP4228634B2 (ja) * 2002-09-03 2009-02-25 東京エレクトロン株式会社 回転駆動機構及び被処理体の搬送装置
KR100510720B1 (ko) * 2002-10-25 2005-08-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유리기판 파손감지 수단을 구비한 기판 이송장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102854301A (zh) * 2012-08-10 2013-01-02 江阴沐祥节能装饰工程有限公司 一种透明度检测装置
CN114441556A (zh) * 2021-12-28 2022-05-06 蚌埠中光电科技有限公司 一种用于基板玻璃传输过程在线无损检知报警系统

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