CN102236024A - 自动分析装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种自动分析装置。提高反应容器的清洗效率。本实施方式涉及的自动分析装置具有反应盘、清洗机构以及覆盖物。反应盘被构成为能够保持容纳有试样与试剂的反应容器。清洗机构使用喷嘴清洗上述反应容器。覆盖物设置成能沿上述喷嘴的轴移动，并构成为覆盖上述反应容器的开口部。

Description

自动分析装置
相关申请的交叉引用
本申请基于2010年4月1日提交的在先的日本专利申请No.2010-85239并要求其优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。
技术领域
本实施方式涉及自动分析装置。
背景技术
自动分析装置将生物化学检查项目和免疫检查项目等测定项目作为测定对象。自动分析装置将试样和与各测定项目对应的试剂分注到反应容器内，并加以搅拌。当试样与试剂被混合时，混合液进行化学反应，色调和浊度等发生变化。自动分析装置通过关于该色调和浊度等的变化测定光的透过量，从而测定试样中的各种成分的浓度或酶的活性。测定后，废弃混合液。并且，装过混合液的反应容器例如如专利文献1和专利文献2所公开那样，利用清洗喷嘴(nozzle)用洗液或水来清洗，用干燥喷嘴来干燥。被干燥后的反应容器可以被再次用于测定。
反应容器的最佳清洗模式根据测定项目、即试样或试剂而不同。另外，所谓清洗模式是指例如所使用的清洗水的种类和使用次数、使用顺序等。然而，例如，如专利文献1和专利文献2所公开的那样，各清洗喷嘴的分工被固定。即反应容器与试样或试剂的种类无关地在固定的清洗模式下被清洗。因此，大多数情况下无法在最适合于测定项目的清洗模式下清洗反应容器，希望提高反应容器的清洗精度、清洗效率。
另外，存在以下的情况，即、在向反应容器内插入清洗喷嘴、或者从反应容器提起清洗喷嘴时，清洗水和容纳在反应容器内的混合液等将从清洗喷嘴飞散，并进入其他反应容器内。通过向这种反应容器混入清洗水，反应容器的清洗精度、清洗效率变得恶化。
【以往技术文献】
【专利文献1】日本特开平6-102282
【专利文献2】日本特开平6-160398
发明内容
目的在于：提供使反应容器的清洗效率提高的自动分析装置。
本实施方式涉及的自动分析装置包括：反应盘，能够保持容纳有试样与试剂的反应容器；清洗机构，使用喷嘴清洗上述反应容器；以及覆盖物，被设置成能够沿上述喷嘴的轴移动，用于覆盖上述反应容器的开口部。
能够提供使反应容器的清洗效率提高的自动分析装置。
附图说明
图1为表示第1实施方式涉及的自动分析装置的结构的图。
图2为表示图1的分析机构的构造的立体图。
图3为表示通过图1的清洗模式设定部设定的清洗模式的一个例子的图。
图4为表示通过图1的清洗模式设定部针对每一反应容器所设定的清洗模式的一个例子的图。
图5为示意性地表示第1实施方式的第1实施例涉及的清洗机构的构造的图。
图6为概略地表示图5的清洗机构的构造的立体图。
图7为第1实施例涉及的自动分析装置的清洗系统的功能框图。
图8为用于说明由图7的清洗机构控制部控制的清洗机构的动作例子的图，对每一旋转周期表示配置在各清洗位置的反应容器的图。
图9为示意性地表示第1实施方式的变形例1涉及的清洗机构的构造的图。
图10为第1实施例的变形例1涉及的由喷嘴与覆盖物组成的组件的立体图。
图11为示意性地表示第1实施例的变形例2涉及的清洗机构的构造的图。
图12为示意性地表示第1实施方式的第2实施例涉及的清洗机构的构造的图。
图13为与图12的清洗机构的正面方向有关的概略立体图。
图14为与图12的清洗机构的侧面方向有关的概略立体图。
图15为第1实施方式的第2实施例涉及的自动分析装置的清洗系统的功能框图。
图16为表示通过第2实施方式的清洗模式设定部设定的清洗模式的一个例子的图。
图17为表示通过第2实施方式的清洗模式设定部针对每一反应容器设定的清洗模式的一个例子的图。
图18为用于说明第2实施方式涉及的喷嘴与覆盖物的构造的立体图。
图19为用于说明第2实施方式涉及的喷嘴与覆盖物的构造的其他立体图。
图20为第2实施方式涉及的自动分析装置的清洗系统的功能框图。
图21为关于由图20的清洗机构控制部控制的喷嘴与覆盖物的动作例子的说明，表示待机时的喷嘴与覆盖物与反应容器之间的位置关系的图。
图22为关于由图20的清洗机构控制部控制的喷嘴与覆盖物的动作例子的说明，表示清洗动作跳过(OFF)时的喷嘴与覆盖物与反应容器之间的位置关系的图。
图23为关于由图20的清洗机构控制部控制的喷嘴与覆盖物的动作例子的说明，表示清洗动作时的喷嘴与覆盖物与反应容器之间的位置关系的图。
图24为表示变形例1涉及的覆盖物的构造的截面图。
图25为表示粘着在图24的喷嘴上的覆盖物的构造的截面图。
图26为表示变形例2涉及的覆盖物的构造的平面图。
符号说明
1...自动分析装置、10...分析部、11...分析机构、12...分析机构控制部、13...分析机构驱动部、20...数据处理部、21...运算部、22...存储部、30...输出部、31...印刷部、32...显示部、40...操作部、50...清洗模式设定部、60...系统控制部、72...反应容器、101...纯水箱(tank)、103...碱性洗液箱、105...酸性洗液箱、107...纯水管线、109...碱性洗液管线、111...酸性洗液管线、113...流路切换阀、115...喷嘴、117...干燥芯片、119...供给管线、121...高浓度废液管线、123...低浓度废液管线、125...吸引管线
具体实施方式
本实施方式涉及的自动分析装置具有反应盘、清洗机构以及覆盖物。反应盘被构成为能够保持容纳有试样与试剂的反应容器。清洗机构使用喷嘴清洗上述反应容器。覆盖物被设置为能够沿上述喷嘴的轴移动，并构成为覆盖上述反应容器的开口部。
以下，参照附图对本实施方式涉及的自动分析装置进行说明。
(第1实施方式)
图1为表示第1实施方式涉及的自动分析装置1的结构的图。如图1所示，自动分析装置1具备分析部10、数据处理部20、输出部30、操作部40、清洗模式设定部50以及系统控制部60。
分析部10对每一测定项目使用试剂来测定血清和尿液等试样，并生成与试样有关的测定数据。分析部10具备分析机构11、分析机构控制部12以及分析机构驱动部13。
图2为表示分析机构11的构造的立体图。如图2所示，分析机构11具备反应盘71。反应盘71将多个(m个)反应容器72以可旋转的方式进行保持，该多个反应容器72在圆周上被等间隔地排列。反应盘71交替重复进行既定角度的旋转与固定期间的停止。在此，将由一次旋转和随之继续的一次停止组成的一连串的动作单位称为旋转周期(cycle)。旋转角度例如根据反应盘71的围绕周期来规定。围绕周期是用于使反应容器72移动一个单元(cell)量的一连串的动作单位。例如，旋转角度为1/3周程度。此时，反应盘71当旋转3次时，旋转一个单元量而旋转为一周。换而言之，反应容器72在每一围绕周期移动一个单元。并且，当重复了反应盘71的单元数量的围绕周期时，反应容器72返回至原单元位置。例如，在对反应盘71设置40个单元时，为了使反应容器72返回至原单元位置，需要重复40次的围绕周期。这样，将用于使反应容器72在开始旋转后按照顺序被配置在所有单元位置并返回至原单元位置的一连串的动作单位称为分析周期。
分析机构11在反应盘71的附近具有盘取样器73。盘取样器73以可旋转的方式保持试样容器74。试样容器74容纳标准试料和被检试料等试样。另外，分析机构11在反应盘71的附近具有第1试剂库75。第1试剂库75以可旋转的方式保持第1试剂容器76。第1试剂容器76容纳对试样中包含的各测定项目的成分起反应的第1试剂。另外，分析机构11在反应盘71的内周侧具有第2试剂库77。第2试剂库77以可旋转的方式保持第2试剂容器78。第2试剂容器78容纳与第1试剂对应的第2试剂。
分析机构11在反应盘71与盘取样器73之间具备取样臂81。取样臂81以可旋转以及可上下移动的方式支撑取样探头82。取样探头82从位于盘取样器73上的试样吸引位置的试样容器74中吸引试样，并将试样吐出至位于反应盘71上的试样吐出位置的反应容器72内。分析机构11在反应盘71与第1试剂库75之间具备第1试剂臂83。第1试剂臂83以可旋转以及可上下移动的方式支撑第1试剂探头84。第1试剂探头84从位于第1试剂库75上的第1试剂吸引位置的第1试剂容器76中吸引第1试剂，并将第1试剂吐出至位于反应盘71上的第1试剂吐出位置的反应容器72内。分析机构11在反应盘71的附近具备第2试剂臂85。第2试剂臂85以可旋转以及可上下移动的方式支撑第2试剂探头86。第2试剂探头86从位于第2试剂库77上的第2试剂吸引位置的第2试剂容器78中吸引第2试剂，并将第2试剂吐出至位于反应盘71上的第2试剂吐出位置的反应容器72内。
另外，分析机构11具有搅拌机构87、测光机构88以及清洗机构89。搅拌机构87使用搅拌子搅拌位于反应盘71上的搅拌位置的反应容器72内的试样以及第1试剂的混合液、或者试样、第1试剂以及第2试剂的混合液。测光机构88向通过反应盘71旋转的反应容器72照射光(测光束)，并将透过含有试样的混合液的光变换为吸光度从而生成测定数据。并且，测光机构88将所生成的测定数据输出至数据处理部20。
清洗机构89使用清洗用喷嘴清洗分别配置在反应盘71上的多个清洗位置的多个反应容器72。另外，清洗机构89使用干燥用喷嘴干燥被清洗的反应容器72。更详细而言，清洗机构89按照与清洗对象的反应容器72内的试样的测定项目对应的清洗模式，清洗其清洗对象反应的反应容器72。清洗模式可对每一测定项目来设定。清洗模式可以按照用户经由操作部40的指示任意设定。
分析机构控制部12为了驱动各机构而控制分析机构驱动部13。具体而言，按照分析机构控制部12的控制，分析机构驱动部13分别旋转反应盘71、盘取样器73、第1试剂库75以及第2试剂库77。另外，分析机构驱动部13按照分析机构控制部12的控制，分别旋转或上下移动取样臂81、第1试剂臂83以及第2试剂臂85。另外，分析机构驱动部13按照分析机构控制部12的控制，控制清洗机构89。
另外，分析机构驱动部13按照分析机构控制部12的控制，驱动试样分注泵，使取样探头82吸引或吐出试样。另外，分析机构驱动部13按照分析机构控制部12的控制来驱动第1试剂分注泵，使第1试剂探头84吸引或吐出第1试剂。另外，分析机构驱动部13按照分析机构控制部12的控制来驱动第2试剂分注泵，使第2试剂探头86吸引或吐出第2试剂。分析机构驱动部13按照分析机构控制部12的控制来驱动清洗泵，使清洗机构89的喷嘴吸引反应容器72内的混合液、或将清洗液吐出至反应容器72内、或吸引反应容器72内的清洗液。另外，分析机构驱动部13按照分析机构控制部12的控制驱动干燥泵，使清洗机构89的干燥用喷嘴干燥反应容器72内。
如上所述，反应盘71在每一旋转周期交替重复旋转与停止。分析机构控制部12一边重复这种旋转与停止一边执行分注、搅拌、测光、清洗。例如，分析机构控制部12在反应盘71的停止期间执行分注、清洗、搅拌，在反应盘71的旋转期间执行测光。
数据处理部20对通过分析部10生成的各种数据进行运算或存储。数据处理部20具有运算部21与存储部22。运算部21基于通过测光机构88生成的各测定项目的测定数据来作成校准曲线，并将所作成的校准曲线的数据存储至存储部22，并且供给至输出部30。另外，运算部21利用所作成的校准曲线的数据，根据测定数据而生成测定项目成分的浓度和活性值等分析数据，并将所生成的分析数据存储至存储部22，并且供给至输出部30。存储部22具备硬盘等存储介质。存储部22对每一测定项目存储通过运算部21生成的校准曲线的数据，或对每一试样保存各测定项目的分析数据。
输出部30以各种方式输出由数据处理部20所作成的校准曲线和所生成的分析数据等。具体情况是，输出部30具备印刷部31与显示部32。作为印刷部31可利用打印机等输出设备。该打印机以规定的布局将从数据处理部20输出的校准曲线和分析数据等印刷于打印用纸上。显示部32显示从数据处理部20输出的校准曲线或分析数据，或者显示与各测定项目有关的试样的液量、第1试剂的液量、第2试剂的液量、用于设定测光束的波长等分析条件的分析条件设定画面、用于设定被检体ID和被检体名等的被检体信息设定画面。另外，显示部32显示用于选择每一试样的测定项目的测定项目选择画面、用于对每一测定项目设定清洗模式的清洗模式设定画面等。作为显示部32可适当利用例如CRT(cathode-ray tube：阴极射线管)显示器、液晶显示器、有机EL(electro luminescence：电致发光)显示器和等离子显示器等显示设备。
操作部40进行各测定项目的分析条件的输入和各种指令信号的输入等。具体情况是，操作部40具备键盘、鼠标、各种按钮、触摸屏等输入设备。操作部40按照来自用户的指示经由输入设备，输入对每一试样测定的测定项目、各测定项目的分析条件、被检体信息(例如，被检体ID和被检体名等)、各测定项目的清洗模式等。
清洗模式设定部50按照与用户经由操作部40输入的清洗模式有关的指示来设定清洗模式。
系统控制部60为了进行与测定项目有关的测定，综合地控制自动分析装置1具备的各部分。另外，作为本实施方式特征性的技术，系统控制部60按照针对每一测定项目所设定的清洗模式来控制各部分。
其次，针对清洗模式设定部50执行的清洗模式的设定处理进行说明。图3为表示通过清洗模式设定部50设定的清洗模式的一个例子的图。如图3所示，清洗模式通过反应盘71上的各清洗位置上的清洗动作来被规定。清洗动作例如高浓度废液的排出、低浓度废液的排出、利用纯水进行清洗、利用碱性洗液进行清洗、利用酸性洗液进行清洗、吸引、干燥。在高浓度废液或低浓度废液的排出、利用纯水进行清洗时，使用喷嘴将反应容器72内的废液吸引、排出后，纯水从喷嘴被吐出至反应容器72。在利用碱性洗液进行清洗时，使用喷嘴将反应容器72内的废液吸引、排出后，碱性洗液从喷嘴被吐出至反应容器72。在利用酸性洗液进行清洗时，使用喷嘴将反应容器72内的废液吸引、排出后，酸性洗液从喷嘴被吐出至反应容器72。
反应容器72在每一围绕周期从清洗位置a到清洗位置h按顺序被配置，并在各清洗位置被清洗。即，清洗位置是指反应容器72的清洗动作的顺序。例如，在清洗模式A时，首先在清洗位置a处，反应容器72被注入纯水，并且进行高浓度废液的排出。其次，在清洗位置b处，反应容器72使用碱性洗液来清洗。其次，在清洗位置c处，反应容器72使用酸性洗液来清洗。其次，在清洗位置d处，反应容器72使用纯水来清洗。其次，在清洗位置e处，反应容器72使用纯水来清洗。其次，在清洗位置f处，反应容器72使用纯水来清洗。其次，在清洗位置g处，反应容器72吸引纯水等溶液。然后，在清洗位置h处，反应容器72被干燥。
如图3所示，由于对每一清洗位置规定清洗动作，因此，可以在多个清洗位置使用同类清洗水。例如，可以像清洗模式B那样在清洗位置b与清洗位置c这两位置处执行利用碱性洗液的清洗。另外，可以像清洗模式E那样在清洗位置b与清洗位置c这两位置处执行利用酸性洗液的清洗。
清洗模式的设定例如可以在测定项目的设定后来执行。在清洗模式的设定阶段，用户经由操作部40针对每一测定项目从多个规定的清洗模式中选择出一种。清洗模式设定部50对设定对象的测定项目设定所选择的清洗模式。测定项目与反应容器72例如通过系统控制部60被对应在一起。清洗模式设定部50对供测定设定对象的测定项目的反应容器72设定所设定的清洗模式。因此，通过对测定项目设定清洗模式，从而供测定其测定项目的反应容器72按照对其测定项目所设定的清洗模式来进行清洗。
图4为表示通过清洗模式设定部50对每一反应容器72所设定的清洗模式的一个例子的图。比较图3与图4可知，对各反应容器72(图4的反应容器A、反应容器B、反应容器C、反应容器D、反应容器E、反应容器F、反应容器G)分配既定的清洗模式中的某一种。例如，对反应容器A设定图3的清洗模式A。
另外，在上述中，设清洗模式被预先规定。然而，本实施方式并不限定于此。例如，清洗模式设定部50也可以按照经由操作部40的来自用户的指示，针对各测定项目对每一清洗位置设定清洗动作。另外，清洗模式设定部50也可以按照经由操作部40的来自用户的指示，变更清洗模式的各清洗动作。
其次，针对用于实现这种清洗动作的构成或动作在第1实施例与第2实施例中分开进行详细说明。
[第1实施例]
图5为示意性地表示第1实施方式的第1实施例涉及的清洗机构89的构造的图。如图5所示，清洗机构89具有纯水箱101、碱性洗液箱103以及酸性洗液箱105等多个清洗水容器。纯水箱101储存作为清洗水之一的纯水。纯水箱101连接有作为纯水的流路的纯水管线107。纯水管线107连接纯水箱101与流路切换阀113。碱性洗液箱103储存作为清洗水之一的碱性洗液。碱性洗液箱103连接作为碱性洗液的流路的碱性洗液管线109。碱性洗液管线109连接有碱性洗液箱103与流路切换阀113。酸性洗液箱105储存作为清洗水之一的酸性洗液。酸性洗液箱105连接有作为酸性洗液的流路的酸性洗液管线111。酸性洗液管线111连接酸性洗液箱105与流路切换阀113。
另外，在反应盘71上的多个清洗位置a-h处分别设置多个喷嘴115。即，一个清洗位置处设置一个喷嘴115。多个喷嘴115以可通过未图示的铅直方向支撑机构在铅直方向独立地移动的方式被支撑。清洗位置a-f的各喷嘴115为了使用清洗水进行清洗而被利用。清洗位置g的喷嘴115为了吸引而被利用。清洗位置h的喷嘴115为了吸引与基于干燥芯片117的干燥而被利用。
多个喷嘴115分别连接有多个供给用流路(以下，称为供给管线)119。多个供给管线119连接多个喷嘴115与流路切换阀113。供给管线119中在每一旋转周期选择性地流入用于吐出至反应容器72的纯水、碱性洗液、或酸性洗液。
另外，多个喷嘴115连接有多个排出用流路(以下，称为排出管线)。排出管线为高浓度废液管线121、低浓度废液管线123、或吸引管线125。高度废液管线121为用于比较高浓度的废液的流路。例如，高浓度废液管线121被连接至配置在清洗位置a处的喷嘴115。低浓度废液管线123为用于比较低浓度的废液的流路。例如，低浓度废液管线123被连接至清洗位置b～清洗位置f处的各喷嘴115。吸引管线125为用于反应容器72内的水分(例如，基于纯水)的流路。例如，吸引管线125被连接至配置在清洗位置h处的喷嘴115。
流路切换阀113为切换各喷嘴115(供给管线119)与各洗液管线(纯水管线107、碱性洗液管线109以及酸性洗液管线111)的之间的连接的机构。流路切换阀113为了使依照清洗模式的清洗水流入各喷嘴115，切换各喷嘴115与各洗液管线之间的连接。流路切换阀113例如通过电磁阀被构成。流路切换阀113接受来自后述的阀驱动部的驱动信号进行动作。流路切换阀113可以将1根清洗管线同时连接至多个喷嘴115(供给管线119)。例如，纯水管线107可以同时连接至清洗位置c的供给管线119、清洗位置d的供给管线119以及清洗位置e的供给管线119。
其次，针对第1实施例涉及的清洗机构89的构造进行说明。图6为概略地表示第1实施例涉及的清洗机构89的构造的立体图。如图6所示，清洗机构89具有可独立上下移动多个喷嘴115的构造。具体情况是，清洗机构89具有多个导螺杆(lead screw)131。导螺杆131典型地为表面形成有螺旋状槽的圆柱形状的构造物。导螺杆131被固定为轴心大致沿铅直方向。导螺杆131上安装有臂133。臂133的一端形成贯通孔。贯通孔的里面形成嵌合在导螺杆131的表面槽的槽。臂133在该贯通孔内与导螺杆131螺合。这样导螺杆131作为以可沿铅直方向上下移动的方式支撑臂133的铅直方向支撑机构而发挥功能。臂133的另一端安装有喷嘴115。另外，导螺杆131的一端设有DC电动机(直流电动机)135。DC电动机135作为铅直方向驱动部而发挥功能。DC电动机135按照来自后述的清洗机构控制部141的控制进行驱动，并通过使导螺杆131旋转，从而使喷嘴115沿铅直方向上下移动。
导螺杆131的两端安装有光电传感器(photo sensor)137。光电传感器137以光学方式检测臂133到达导螺杆131的端部的情况。当通过光电传感器137检测出臂133到达了端部时，则DC电动机135停止。
图7为本实施方式的第1实施例涉及的自动分析装置1的清洗系统的功能框图。如图7所示，自动分析装置1的清洗系统以系统控制部60为中枢，具备显示部32、操作部40、清洗模式设定部50、清洗机构控制部141、铅直方向驱动部(DC电动机)135以及阀驱动部143。另外，关于显示部32、操作部40以及清洗模式设定部50，由于已在之前叙述，因此在此省略说明。
清洗机构控制部141为上述分析机构控制部12的一部分。清洗机构控制部141按照由清洗模式设定部50设定的清洗模式控制阀驱动部143与铅直方向驱动部135。阀驱动部143为上述分析机构驱动部13的一部分。阀驱动部143按照清洗机构控制部141的控制进行驱动，并使流路切换阀113动作，切换清洗管线与喷嘴115之间的连接。更详细而言，清洗机构控制部141使流路切换阀113动作，以使与对清洗对象的反应容器72所设定的清洗动作相应的清洗水流通于设置在清洗位置处的喷嘴115。铅直方向驱动部135为上述分析机构驱动部13的一部分。铅直方向驱动部135按照清洗机构控制部141的控制进行驱动，使铅直方向支撑机构(导螺杆)131动作，并上下移动喷嘴115。
其次，针对由清洗机构控制部141控制的清洗机构89的动作例子进行具体说明。图8为针对每一旋转周期表示配置在各清洗位置处的反应容器72的图。如图8所示，围绕周期由n(例如，3)次旋转周期组成，分析周期由m(例如，40)次围绕周期组成。反应容器72在每一旋转周期一个单元地移动清洗位置。在反应盘71的旋转期间移动反应容器72，在反应盘71的停止期间清洗反应容器72。
清洗机构控制部141在每一旋转周期，按照配置在各清洗位置处的反应容器72的清洗模式来控制阀驱动部143，并将与各清洗位置的反应容器72相应的清洗水供给喷嘴115。具体情况是，清洗机构控制部141在每一旋转周期识别配置在各清洗位置的反应容器72。配置在各清洗位置的反应容器通过现有技术来识别。当识别出反应容器72时，清洗机构控制部141确定对被识别出的反应容器所设定的清洗模式，并确定被确定的清洗模式中的被配置的清洗位置的清洗动作。并且，清洗机构控制部141根据所确定的清洗动作控制阀驱动部143，使流路切换阀113动作。流路切换阀113例如在反应盘71的旋转期间或反应盘的停止期间的初始阶段通过阀驱动部143来进行动作。在所确定的清洗动作为高浓度废液的排出或低浓度废液的排出、水清洗的情况下，控制阀驱动部143，连接其清洗位置的喷嘴115与纯水管线107。另外，清洗机构控制部141在所确定的清洗动作为碱性洗液清洗时，控制阀驱动部143，连接其清洗位置的喷嘴115与碱性洗液管线109。另外，清洗机构控制部141在所确定的清洗动作为酸性洗液清洗时，控制阀驱动部143，连接其清洗位置的喷嘴115与酸性洗液管线111。
当喷嘴115与供给管线之间的连接结束时，清洗机构控制部141控制铅直方向驱动部135，使各清洗位置的喷嘴115下降。然后从喷嘴115中吐出与各清洗位置的反应容器72相应的清洗水。例如，在喷嘴115与纯水管线107被连接时，从喷嘴115中吐出纯水。在喷嘴115与碱性洗液管线109被连接时，从喷嘴115中吐出碱性洗液。在喷嘴115与酸性洗液管线111被连接时，从喷嘴115中吐出酸性洗液。当清洗水被吐出时，清洗机构控制部141控制铅直方向驱动部135，使各清洗位置的喷嘴115上升。当喷嘴115上升时，反应盘71旋转了旋转角度。并且，再次同样重复流路切换阀113的动作与清洗水的吐出。
这样在清洗机构控制部141的控制下，从各清洗位置的喷嘴115中吐出依照对各清洗位置的反应容器72所设定的清洗模式的清洗水。例如，在旋转周期C1中，从清洗位置a的喷嘴115中吐出与对反应容器A所设定的清洗模式内的清洗位置a(第1次清洗动作)对应的清洗水，从清洗位置b的喷嘴115中吐出与对反应容器B所设定的清洗模式内的清洗位置b(第2次清洗动作)对应的清洗水，从清洗位置c的喷嘴115中吐出对反应容器C所设定的清洗模式内的清洗位置c(第3次清洗动作)对应的清洗水，从清洗位置d的喷嘴115中吐出与对反应容器D所设定的清洗模式内的清洗位置d(第4次清洗动作)对应的清洗水，从清洗位置e的喷嘴115中吐出与对反应容器E所设定的清洗模式内的清洗位置e(第5次清洗动作)对应的清洗水，从清洗位置f的喷嘴115中吐出与对反应容器F所设定的清洗模式内的清洗位置f(第6次清洗动作)对应的清洗水，从清洗位置g的喷嘴115中吐出与对反应容器G所设定的清洗模式内的清洗位置g(第7次清洗动作)对应的清洗水，从清洗位置h的喷嘴115中吐出与对反应容器H所设定的清洗模式内的清洗位置h(第8次清洗动作)对应的清洗水。另外，根据所设定的清洗动作，也可以从喷嘴115中不吐出清洗水。
另外，例如，存在在旋转周期C1碱性洗液流通而在旋转周期C2酸性洗液流通时等在旋转周期间1根供给管线119内有不同种类的清洗水流通的情况。此时，存在在供给管线119内不同种类的清洗水混合，清洗精度恶化或供给管线119劣化的危险。
以下对这种清洗精度恶化或供给管线119劣化的预防策略进行说明。例如，清洗机构控制部141为了清洗供给管线119内，而与用于清洗动作的清洗水的供给不同地在每一旋转周期将纯水供给至供给管线119。被供给的纯水也可以一直供给到残留在供给管线119内的碱性洗液或酸性洗液从喷嘴115中被挤押出为止。另外，用于清洗供给管线119内的纯水的供给也可以从清洗水的供给结束后到反应盘71开始旋转的期间。另外，也可以在反应盘71的旋转中供给纯水。此时，也可以为了防止从喷嘴115中被挤押出的溶液混入旋转中的反应容器内，而例如使喷嘴115从清洗位置躲避开。喷嘴115的躲避场所例如可以是为了供给管线119的清洗而设置的清洗池(pool)等。另外，供给管线119的清洗中所使用的溶液并不只限定于纯水。例如，也可以将在清洗对象的供给管线119中在下一旋转周期内使用的清洗水供给至供给管线119。
另外，在各清洗位置清洗反应容器72时，存在清洗水等反应容器72内的溶液飞散，并进入其他反应容器72内的情况。此时，存在使其他反应容器72的清洗精度或测定精度恶化的危险。
以下对这种用于防止溶液飞散的的预防策略进行说明。如图5所示，铅直方向支撑机构131搭载用于覆盖反应容器72的开口部的覆盖物127。覆盖物127也可以与喷嘴115一体地上下移动地被设置，也可以与喷嘴115独立地上下移动地被设置。以下，设覆盖物127与喷嘴115被设置为一体。此时，通过使喷嘴115下降，利用覆盖物127堵塞反应容器72的开口部。即，覆盖物127被粘着在当喷嘴115下降时可覆盖反应容器72的开口部的喷嘴115的位置。覆盖物127具有可进入反应容器72的开口部的顶端部。通过顶端部进入开口部，从而密闭反应容器72。因此，可以在开口部被堵塞的状态下清洗反应容器72。由此，可以防止清洗水等溶液向配置在其他清洗位置处的反应容器72飞散。
当经过一个分析周期时，测定项目的测定结束。因此，当经过一个分析周期时，对反应容器72所设定的清洗模式通过清洗模式设定部50解除。然后，在下一分析周期中测定新的测定项目时，清洗模式设定部50对反应容器72设定与该新的测定项目有关的清洗模式。然后，其反应容器72一边通过反应盘71旋转，一边供分注、测光、搅拌、清洗。
如上所述，第1实施例涉及的自动分析装置1可以对每一测定项目设定供其测定项目的测定的反应容器72的清洗模式(清洗水的种类、清洗水的顺序、清洗水的使用次数)。另外，自动分析装置1具备切换洗液管线(纯水管线107、碱性洗液管线109、酸性洗液管线111)与喷嘴115之间的连接的流路切换阀113。自动分析装置1为了在所设定的清洗模式下清洗反应容器72而驱动流路切换阀113。通过这种结构，第1实施例涉及的自动分析装置1可以在每一旋转周期变更每一清洗位置的清洗动作。因此，自动分析装置1可以在适合于各个测定项目的清洗模式下清洗反应容器72。这样，第1实施例涉及的自动分析装置1可以提高反应容器72的清洗效率。
第1实施例的变形例1：
在上述实施方式中，设在一个清洗位置设置一个喷嘴。然而，第1实施例并不限定于此。例如，也可以在一个清洗位置设置与清洗水的种类相应的数的喷嘴。以下针对具有这种构造的第1实施例的变形例1涉及的清洗机构89进行说明。另外，在以下说明中，对具有与第1实施例大致相同功能的构成要素，添加同一符号，只在需要时进行重复说明。
图9为示意性地表示第1实施例的变形例涉及的清洗机构89的构造的图。如图9所示，在各清洗位置设置3个喷嘴115(纯水用喷嘴115a、碱性洗液用喷嘴115b以及酸性洗液用喷嘴115c)。3个喷嘴115例如被安装在覆盖物127上。这样3个喷嘴115与覆盖物127被组件化。3个喷嘴通过未图示的铅直方向支撑机构以可一体地上下移动的方式被支撑。纯水管线107与纯水用流路切换阀113a连接。流路切换阀113a与各清洗位置的喷嘴115a被连接到纯水用供给管线119a。碱性洗液管线109与碱性洗液用流路切换阀113b连接。流路切换阀113b与各清洗位置的喷嘴115b被连接到碱性洗液用供给管线119b。酸性洗液管线111与酸性用流路切换阀113c连接。流路切换阀113c与各清洗位置的喷嘴115c被连接到酸性洗液用供给管线119c。
清洗机构控制部141按照对配置在各清洗位置处的反应容器72设定的清洗模式控制阀驱动部143，为了向各清洗位置处的反应容器72内流入依照清洗模式的清洗水，使各流路切换阀113a、113b、113c动作。当使流路切换阀113动作，流路被切换时，清洗机构控制部141控制支撑机构驱动部145，统一使喷嘴115a与喷嘴115b与喷嘴115c下降。不管清洗水的种类如何，该各清洗位置的3种喷嘴115a、115b以及115c总是一起上下移动。
图10为第1实施例的变形例1涉及的由多个喷嘴115(纯水用喷嘴115a、碱性洗液用喷嘴115b、酸性洗液用喷嘴115c、吸引用喷嘴115d)与覆盖物127组成的组件的立体图。如图10所示，4个喷嘴115被粘着在覆盖物127上。多个喷嘴115也可以以可统一地进入反应容器72内的方式互相贴紧地粘着在覆盖物127上。
第1实施例的变形例2：
在上述实施方式中清洗机构89设为配备可独立地上下移动在多个清洗位置分别设置的多个喷嘴115的独立驱动机构。然而，本实施方式并不限定于此。例如，变形例2涉及的清洗机构89可以配备能够统一地上下移动多个喷嘴115的机构。以下针对变形例2涉及的自动分析装置进行说明。另外，在以下说明中，对具有与第1实施方式大致相同功能的构成要素，添加同一符号，只在需要时进行重复说明。
图11为示意性地表示变形例2涉及的清洗机构89的构造的图。如图11所示，变形例2涉及的清洗机构89具有以可统一沿铅直方向上下移动的方式支撑多个清洗位置的多个喷嘴115的铅直方向支撑机构129。多个喷嘴115通过铅直方向驱动部135的驱动沿铅直方向统一地上下移动。
[第2实施例]
如上所述，第1实施例中设按照清洗模式切换流路切换阀115。然而，本实施方式并不限定于此。第2实施例对一个清洗位置设置多个喷嘴，并按照清洗模式水平移动喷嘴，机械地选择所使用的喷嘴。以下，针对第2实施例涉及的自动分析装置进行说明。
图12为示意性地表示本实施方式的第2实施例涉及的清洗机构89的构造的图。另外，图12为了便于理解，只示出了与1个清洗位置有关的机构。实际上，第2实施例涉及的清洗机构89像第1实施例1那样具备与多个清洗位置有关的机构。
如图12所示，在各清洗位置按照功能设置有与清洗水的种类相应的多个喷嘴115(纯水用喷嘴115a、碱性洗液用喷嘴115b以及酸性洗液用喷嘴115c)。纯水用喷嘴115a连接有纯水管线107。碱性洗液用喷嘴115b连接有碱性洗液管线109。酸性洗液用喷嘴115c连接有酸性洗液管线111。另外，多个喷嘴115连接有例如低浓度废液管线123等排出管线。
多个喷嘴115以可通过图12中未图示的铅直方向支撑机构沿铅直方向独立移动的方式被支撑。另外，多个喷嘴115在以可基于图12中未图示的水平方向支撑机构沿水平方向移动的方式被支撑。
其次，针对第2实施例涉及的清洗机构89的构造进行说明。图13为与第2实施例涉及的清洗机构89的正面方向有关的概略立体图。图14为与第2实施例涉及的清洗机构89的侧面方向有关的概略立体图。如图13与图14所示，第2实施例涉及的清洗机构89具有可水平移动配置在各清洗位置的多个喷嘴115的构造。具体情况是，第2实施例涉及的清洗机构89具备形成螺旋状槽的导螺杆151。导螺杆151被固定为轴心沿大致铅直方向。导螺杆151安装有支撑板153。支撑板153的端部形成贯通孔。贯通孔的里面形成嵌合在导螺杆151的表面槽内的槽。支撑板153在该贯通孔中与导螺杆151螺合。这样导螺杆151以可沿大致铅直方向上下移动的方式支撑支撑板153。另外，支撑板153安装有多个喷嘴115。导螺杆151的一端设有铅直移动用步进电动机155。步进电动机155作为铅直方向驱动部发挥功能。步进电动机155按照来自后述的清洗机构控制部的控制进行驱动，并通过使导螺杆151旋转，从而使喷嘴115沿铅直方向上下移动。
另外，在各清洗位置设有臂157。臂157安装有设置在各清洗位置的多个喷嘴115。臂157的一端设有水平移动用步进电动机159。步进电动机159作为水平方向驱动部发挥功能。步进电动机159按照来自后述的清洗机构控制部161的控制进行驱动，并通过使臂157沿水平方向横向移动，从而使多个喷嘴115水平移动。
图15为第2实施例涉及的自动分析装置1的清洗系统的功能框图。如图15所示，第2实施例涉及的自动分析装置1的清洗系统以系统控制部60为中枢，具有显示部32、操作部40、清洗模式设定部50、铅直方向驱动部155、水平方向驱动部159以及清洗机构控制部161。另外，关于显示部32、操作部40以及清洗模式设定部50，由于已经在之前叙述过，所以在此省略说明。
清洗机构控制部161为上述分析机构控制部12的一部分。清洗机构控制部161按照对配置在各清洗位置的反应容器72设定的清洗模式控制水平方向驱动部(水平移动用步进电动机)159与铅直方向驱动部(铅直移动用步进电动机)155。水平方向驱动部159按照清洗机构控制部161的控制在水平方向横向移动喷嘴115，并在清洗位置配置按照配置在清洗位置的反应容器72的清洗模式的清洗水用喷嘴115。更详细而言，清洗机构控制部161在清洗位置配置设置在各清洗位置的多个喷嘴115中的、与对清洗对象的反应容器72设定的清洗动作相应的清洗水用的喷嘴115。由此，可以机械地选择与配置在各清洗位置的反应容器72的清洗模式相应的喷嘴115。铅直方向驱动部155按照清洗机构控制部161的控制在铅直方向上下移动喷嘴115。
其次，针对由清洗机构控制部161控制的清洗机构89的动作例子进行说明。清洗机构控制部161在每一旋转周期，按照配置在各清洗位置的反应容器的清洗模式控制水平方向驱动部159，并在清洗位置配置与各清洗位置相应的清洗水用的喷嘴115。具体情况是，清洗机构控制部161在每一旋转周期识别配置在各清洗位置的反应容器72。当识别反应容器72时，清洗机构控制部161确定对所识别的反应容器72设定的清洗模式，并确定对所确定的清洗模式中的被配置的清洗位置的清洗动作。然后，清洗机构控制部161按照所确定的清洗动作控制水平方向驱动部159，在水平方向上横向移动多个喷嘴115，在清洗位置配置与所确定的清洗动作相应的喷嘴115。例如，在所确定的清洗动作为高浓度废液的排出或低浓度废液的排出、水清洗时，控制水平方向驱动部159，在其清洗位置配置纯水用的喷嘴115a。另外，清洗机构控制部161在所确定的清洗动作为碱性洗液清洗时，控制水平方向驱动部159，在其清洗位置配置碱性洗液用的喷嘴115b。另外，清洗机构控制部161在所确定的清洗动作为酸性洗液清洗时，控制水平方向驱动部159，在其清洗位置配置酸性洗液用的喷嘴115c。喷嘴115例如在反应盘71的旋转期间或反应盘的停止期间的初始阶段，通过水平方向驱动部159横向移动。
当对各清洗位置的喷嘴115的配置结束时，清洗机构控制部161控制铅直方向驱动部155，使对各清洗位置配置的喷嘴115下降。然后，从喷嘴115中吐出与各清洗位置的反应容器72相应的清洗水。当清洗水被吐出时，清洗机构控制部161控制铅直方向驱动部155，使各清洗位置的喷嘴115上升。当使喷嘴115上升时，反应盘71只旋转了旋转角度。然后，再次同样重复执行对清洗位置的喷嘴115的配置与清洗水的吐出。
这样，在清洗机构控制部161的控制下，从各清洗位置的喷嘴115中吐出依照对各清洗位置的反应容器72设定的清洗模式的清洗水。
如上所述，第2实施例涉及的自动分析装置1在每一清洗位置设置与清洗水的种类相应的喷嘴(纯水用喷嘴115a、碱性洗液用喷嘴115b、酸性洗液用喷嘴115c)。另外，自动分析装置1具备用于水平移动这些喷嘴115的水平方向支撑机构(臂157)。自动分析装置1为了在所设定的清洗模式下清洗反应容器72，使水平方向支撑机构动作，并在清洗位置配置与清洗对象的反应容器72对应的喷嘴115。
因此，第2实施例涉及的自动分析装置1可以在与各测定项目相应的清洗模式下清洗反应容器。这样，第2实施例涉及的自动分析装置1能够提高反应容器的清洗效率。
(第2实施方式)
混合液的最佳反应时间根据测定项目或试剂而不同。随之存在希望使反应时间延长得比通常反应时间长的情况。作为反应时间的延长方法，有降低反应盘71的旋转速度的方法。然而，在该方法中，处理速度(吞吐量)明显下降。作为其他延长方法，考虑到对延长对象的反应容器跳过清洗动作的方法。但是仅仅跳过清洗动作，仍然存在在延长对象的反应容器内混入其附近的反应容器的清洗中使用的洗液或水的危险。第2实施方式涉及的自动分析装置在抑制吞吐量下降，并进一步抑制试样的测定结果恶化之上，实现各反应容器的反应时间的延长。以下针对第2实施方式涉及的自动分析装置进行说明。另外，在以下说明中，对具有与第1实施方式大致相同功能的构成要素，添加同一符号，只在需要时进行重复说明。
首先针对第2实施方式涉及的清洗模式设定部50执行的清洗模式的设定处理进行说明。图16为表示通过第2实施方式涉及的清洗模式设定部50设定的清洗模式的一个例子的图。如图16所示，第2实施方式涉及的清洗模式至少包含一个无清洗动作(OFF)来作为清洗动作。换而言之，清洗模式设定部50可以对每一清洗位置设定清洗动作的有无。例如，清洗模式F在清洗位置a跳过清洗动作(不进行清洗动作)。即，通过清洗模式F，可以使反应时间延长1围绕周期量。另外，清洗模式G在所有清洗位置跳过清洗动作。即，通过清洗模式G可以使反应时间延长1个分析周期量。另外，在设定清洗模式G时，在其分析周期内，反应容器72未被清洗。因此，为了清洗其反应容器72还需要对设定了清洗模式G的分析周期的下一分析周期的清洗模式进行设定。另外，清洗动作OFF的清洗位置可以经由操作部40任意进行设定。
清洗模式设定部50按照用户经由操作部40的指示对设定对象的测定项目的清洗模式进行设定。并且，清洗模式设定部50对供设定对象的测定项目的测定的反应容器72设定所设定的清洗模式。图17为表示通过清洗模式设定部50对反应容器72设定的清洗模式的一个例子的图。如图16与图17所示，对反应容器G设定图16的清洗模式F。这样对各反应容器72设定各种清洗模式。
其次，针对用于实现反应时间的延长的喷嘴115与覆盖物127的构造进行说明。图18与图19为用于说明喷嘴115与覆盖物127的构造的立体图。如图18与图19所示，覆盖物127具有贯通孔171。贯通孔171的直径被设计为喷嘴115可通过的大小。典型而言，贯通孔171的直径被设计为与喷嘴115的直径大致相同。喷嘴115与覆盖物127以使彼此轴心173大致一致的方式并以可通过未图示的支撑机构独立地沿轴心173上下移动的方式被支撑。喷嘴115与覆盖物127被支撑为轴线173沿铅直方向。
图20为第2实施方式涉及的自动分析装置1的清洗系统的功能框图。如图20所示，第2实施方式涉及的自动分析装置1以系统控制部60为中枢，具有显示部32、操作部40、清洗模式设定部50、清洗机构控制部181、阀驱动部143、第1铅直方向驱动部183以及第2铅直方向驱动部185。另外，针对显示部32、操作部40、清洗模式设定部50以及阀驱动部143，由于已在之前叙述过，因此在此省略说明。
清洗机构控制部181为分析机构控制部12的一部分。清洗机构控制部181按照通过清洗模式设定部50设定的清洗模式，控制阀驱动部143、第1铅直方向驱动部183以及第2铅直方向驱动部185。第1铅直方向驱动部183为分析机构驱动部13的一部分。第1铅直方向驱动部183按照清洗机构控制部181的控制进行驱动，与覆盖物127独立地沿铅直方向(轴心173)上下移动喷嘴115。第2铅直方向驱动部185为分析机构驱动部13的一部分。第2铅直方向驱动部185按照清洗机构控制部181的控制进行驱动，与喷嘴115独立地沿铅直方向(轴心173)上下移动覆盖物127。
其次，针对由清洗机构控制部181控制的喷嘴115与覆盖物127的动作例子进行说明。图21与图22与图23为表示喷嘴115与覆盖物127的动作例子的图。图21示出了待机时的喷嘴115与覆盖物127与反应容器72之间的位置关系。图22示出了清洗动作跳过(OFF)时的喷嘴115与覆盖物127与反应容器72之间的位置关系。图23为示出了清洗动作时的喷嘴115与覆盖物127与反应容器72之间的位置关系。
如图21所示，在待机时，喷嘴115与覆盖物127被配置在初始位置。初始位置为喷嘴115与覆盖物127两者在下降前采取的配置。例如，在初始位置处喷嘴115被插入覆盖物127的贯通孔171的状态下通过未图示的支撑机构被支撑。
清洗机构控制部181确定配置在清洗位置的反应容器72的清洗动作。然后，在确定出跳过清洗动作时(清洗动作跳过时)，清洗机构控制部181如图22所示，控制第2铅直方向驱动部185，直到通过覆盖物127堵塞反应容器72的开口部为止，使覆盖物127沿铅直方向173下降。在清洗动作跳过时，喷嘴115保持不下降而配置在初始位置的状态。这样在清洗动作跳过时，通过覆盖物127堵塞反应时间的延长对象的反应容器72的开口部。然后，经过一定时间后(例如，反应盘71的停止期间结束时。换而言之，其他清洗位置的清洗动作结束时)，清洗机构控制部181控制第2铅直方向驱动部185，使覆盖物127沿铅直方向173上升，并使覆盖物127配置在初始位置。因此，降低清洗水等溶液进入延长对象的反应容器72的可能性。
另一方面，在确定进行清洗动作时(清洗动作时)，清洗机构控制部181如图23所示，控制第1铅直方向驱动部183与第2铅直方向驱动部185，使喷嘴115与覆盖物127沿铅直方向173下降。具体情况是，与清洗动作跳过时一样覆盖物127被下降到堵塞反应容器72的开口部为止。喷嘴115被下降到进入反应容器72内为止。喷嘴115与覆盖物127也可以被同时下降，也可以按照各自的定时下降。然后，经过一定时间后(例如，反应盘71的停止期间结束时。换而言之，清洗动作结束时)，清洗机构控制部181控制第1铅直方向驱动部183与第2铅直方向驱动部185，使喷嘴115与覆盖物127沿铅直方向173上升，将喷嘴115与覆盖物127配置在初始位置。
通过上述构成，第2实施方式涉及的自动分析装置1配备可上下移动的覆盖物127。自动分析装置1使用覆盖物127堵塞反应时间的延长对象的反应容器72的开口部。由此，可以明显降低清洗水等溶液进入反应时间的延长对象的反应容器72内的可能性。另外，自动分析装置1可通过独立驱动机构对每一清洗位置单独设定清洗动作。因此，无需对配置在多个清洗位置的所有反应容器延长反应时间，就可对所有反应容器中的延长对象的反应容器72延长反应时间。另外，无需像以往那样为了延长反应时间而降低反应盘71的旋转速度，就可在保持旋转速度的状态下延长反应时间。因此，自动分析装置1可以在抑制伴随反应时间延长的吞吐量的降低之上，延长各个反应容器72的反应时间。这样，第2实施方式涉及的自动分析装置1可以提高反应容器72的清洗效率。
另外，在上述第2实施方式中，设清洗机构89具有可通过流路切换阀113切换清洗水的构成。然而，第2实施方式并不限定于此。例如，将第2实施方式涉及的清洗机构89如图13或图14所示，设为可通过水平方向支撑机构(臂157)切换清洗水的构成。
另外，第1实施方式与第2实施方式可适当地组合。即，在1个旋转周期，可以在某清洗位置进行清洗动作，也可以在某清洗位置跳过清洗动作。
(变形例1)
在第1以及第2实施方式中，设覆盖物127完全堵塞反应容器72的开口部。具体情况是，例如，如图22以及图23所示，覆盖物127具有可进入反应容器72的开口部的顶端部。通过该顶端部进入开口部来密闭反应容器72。多个反应容器72被轮换的覆盖物127堵塞。在某一反应容器72的开口部被污染时，存在经由覆盖物127的顶端部，其他反应容器72被污染的情况。以下，针对变形例1涉及的覆盖物进行说明。另外，在以下说明中，对具有与第1以及第2实施方式大致相同功能的构成要素，添加同一符号，只在需要时进行重复说明。
图24为表示变形例1涉及的覆盖物201的构造的截面图。如图24所示，变形例1涉及的覆盖物201具有无需进入反应容器72内就可覆盖开口部的形状。例如，覆盖物201具有斗笠形状。覆盖物201具有用于喷嘴115的贯通孔。覆盖物201与喷嘴115以使轴心173相互地大致一致的方式，并以可通过未图示的支撑机构独立地沿轴心173上下移动的方式被支撑。
另外，覆盖物201如图25所示，也可以粘着在可在喷嘴115下降时覆盖反应容器72的开口部的喷嘴115的位置。如上述构造那样，覆盖物201不具有可进入反应容器72的开口部的部分。因此，覆盖物201与第1以及第2实施方式涉及的覆盖物127相比，难以污染反应容器72。
(变形例2)
设第1以及第2实施方式涉及的覆盖物具有喷嘴可通过的贯通孔。变形例2涉及的覆盖物具有喷嘴可通过的间隙来代替贯通孔。以下，针对变形例2涉及的覆盖物进行说明。另外，在以下说明中，对具有与第1以及第2实施方式大致相同功能的构成要素，添加同一符号，只在需要时进行重复说明。
图26为表示变形例2涉及的覆盖物203的构造的平面图。另外，在图26中，设喷嘴115从纸面的靠近自己侧向里侧、或从里侧向靠近自己侧移动。如图26所示，覆盖物203包含多个覆盖部分205。例如，覆盖物203包含两个覆盖部分205。多个覆盖部分205具有喷嘴115可通过多个覆盖部分205之间的大小的间隙206。覆盖部分205的数量也可以是3个以上。
虽然已经描述了某些实施例，但是这些实施例只是以示例的方式呈现，并不意图限制本发明的范围，实际上，这里描述的新颖的方法和系统可以以各种其他形式实施；此外，可以在偏离本发明的精神的情况下，进行这里描述的方法和系统的形式方面的各种省略、替换和改变。所附的权利要求及其等同物旨在覆盖这些形式和改变，只要这些形式或改变落在本发明的范围和精神之内。

Claims (8)

1.一种自动分析装置，包括：
反应盘，能够保持容纳有试样与试剂的反应容器；
清洗机构，使用喷嘴清洗上述反应容器；以及
覆盖物，被设置成能够沿上述喷嘴的轴移动，用于覆盖上述反应容器的开口部。
2.根据权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于：
上述覆盖物在能够在上述喷嘴下降时覆盖上述反应容器的开口部的位置被粘着在上述喷嘴上。
3.根据权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于：
上述覆盖物被设置成能够与上述喷嘴独立地沿上述轴移动。
4.根据权利要求3所述的自动分析装置，其特征在于，还包括：
设定部，设定是否使上述反应容器延长反应时间；以及
控制部，在通过上述设定部设定为延长时，为了通过上述覆盖物堵塞上述开口部而使上述覆盖物沿上述轴下降，在通过上述设定部设定为不延长时，为了通过上述覆盖物堵塞上述开口部且使上述喷嘴的包含顶端的一部分进入上述反应容器内，而使上述覆盖物与上述喷嘴沿上述轴下降。
5.一种自动分析装置，包括：
反应盘，保持容纳有试样与试剂的多个反应容器；
清洗机构，使用多个喷嘴清洗上述多个反应容器；
设定部，针对上述试样的多个测定项目的各个，对上述多个反应容器中的供上述测定项目的测定的特定的反应容器设定清洗模式，该清洗模式至少包含清洗水的种类、使用顺序以及使用次数中的一个；以及
控制部，为了按照上述设定的清洗模式清洗上述特定的反应容器，控制上述清洗机构。
6.根据权利要求5所述的自动分析装置，其特征在于：
上述清洗机构包括：
第1喷嘴支撑机构，以能够铅直移动的方式支撑设置在上述反应盘上的清洗位置的上述多个喷嘴；以及
第2喷嘴支撑机构，以能够水平移动的方式支撑上述多个喷嘴，
上述控制部按照上述设定的清洗模式，使上述第1喷嘴支撑机构与上述第2喷嘴支撑机构动作。
7.根据权利要求6所述的自动分析装置，其特征在于：
上述清洗机构还包括：
多个清洗水容器，储存用于清洗上述多个反应容器的多种清洗水；以及
多个流路，分别连接上述多个喷嘴与上述多个清洗水容器，
上述控制部使上述第2喷嘴支撑机构动作，以使得在上述清洗位置配置上述多个喷嘴中的上述设定的种类的清洗水用的喷嘴。
8.根据权利要求5所述的自动分析装置，其特征在于：
上述多种清洗水为水、碱性洗液、酸性洗液。
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