CN102067216A - 光盘的修复方法以及修复装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光盘修复装置以及光盘修复方法，光盘损伤的修复能力高，不浪费操作者的劳力，能够较低地抑制装置的制造成本。在研磨中，使用研磨剂供给泵(40)向被修复盘(100)的读出面滴下适量的研磨剂，向被修复盘(100)和研磨垫(24a、24b)之间供给研磨剂，同时使用研磨用水供给泵(30)补给由研磨热而蒸发的研磨剂的水分。由此，能够长期地确保存在于被修复盘(100)和研磨垫(24a、24b)之间的研磨剂的量和物理性能，从而能够维持高修复能力。

Description

光盘的修复方法以及修复装置

技术领域

本发明涉及一种修复CD、DVD、蓝光盘(以下记作BD)等光盘的读出面上生成的擦伤等的方法以及用于此的装置。

背景技术

CD、DVD、BD等光盘由透明(其中，一部分产品针对可视光线被着色)树脂构成，一般地厚度约1.2mm、直径120mm，在中心部上设置有直径15mm的孔。

图8是表示一般的光盘100的结构的图，图8(a)为平面图，图8(b)为图8(a)的X-X向视剖视图，它们都是右半部分表示CD以及DVD，左半部分表示BD。

光盘所保持的信息，例如在CD的情况下记录在读出面的相反侧的面上，在DVD的情况下记录在距读出面约0.6mm之下的层上，对于BD，记录在距读出面0.1mm之下的层上，从读出面向保持所述信息的信息记录层照射激光线，通过检测来自该信息记录层检测反射光，来读取信息。

根据这样的原理，由于当光盘的读出面上出现伤损，则信息读取用的激光或从信息记录层反射来的光由该伤损的部分反射和/或散乱，所以不能够准确地读取信息。

如上所述，光盘所保持的信息不记录在读出面上，而记录在其下方的信息记录层上，所以读出面的伤损不会损伤到信息本身。这样，只要信息记录层没有故障，通过修复读出面的损伤，就能够再次再生信息。

使用图9以及图10说明光盘修复的原理。图9是使读出面为上而放大表示单层BD的剖面的图，在约1.1mm的聚碳酸酯树脂等构成的基板120上设置信息记录层130，在其上设置有约0.1mm的罩层140和2～5μm的硬涂层150。

图10(a)、(b)都是使光盘的读出面为上的状态的放大剖视图，相当于图9中的由圆A包围的区域。图10(a)表示读出面表面受到伤损160的状态，图10(b)表示切去该部分的状态。

以像这样相当于大致伤损的深度的厚度的量，磨削盘表面，进行镜面研磨，光盘能够得以修复。

因此，以往已知如上所述通过研磨光盘来对读出面的损伤进行修复的光盘修复装置(例如参照专利文献1)。这样的光盘修复装置具有例如载置作为修复对象的光盘的旋转台和圆盘状的研磨体等，通过使该研磨体与光盘的读出面接触，使该研磨体以及所述旋转台旋转，从而研磨该光盘的读出面。

专利文献1：日本特开2005-310211号公报

如上述那样以往的光盘修复装置的研磨方法能够大致分为三种。其一称为干式，是在主要由海绵，毛毡，布等的构成的抛光轮中预先保持粘度较高的研磨剂，通过该抛光轮研磨盘的方法。第二方法称为湿式，是一边洒着水一边由砂纸等研磨盘后，与干式同样地通过保持由研磨剂的抛光轮进行镜面研磨的方法。第三方法是两者中间的、稀释高粘度的胶质状的研磨剂，形成如牛奶那样的低粘度的液状，连续使用泵等将该液状体流在该盘上，以抛光轮进行研磨的方法。

第一干式研磨方法，由于装置结构简单，能够提供低价的装置，利用抛光轮和研磨剂的研磨仅当主要在抛光轮和盘之间以润湿的状态存在研磨剂的期间起作用，当干燥时研磨力急速降低。因此，存在修复能力低，受到较深的损伤的情况下需要长时间修复的问题。另外，还存在操作者每次修复开始前必须进行研磨剂的涂敷，浪费劳力的问题。

第二湿式的研磨方法，由于一边洒着水一边磨削盘，所以能够排除发热以及切屑，能够利用砂纸等进行较强的磨削，所以修复能力高，需要进行利用砂纸等的粗研磨和利用抛光轮及研磨剂的精研磨两个研磨工序，所以装置的结构复杂，存在装置高价的倾向。

另外，第三方法即流洒稀释过的研磨剂的方式的研磨方法，由于始终持续向修复期间的盘供给研磨剂，所以与干式的修复装置相比，修复能力高，但由于持续供给牛奶状的研磨剂，所以盘容易弄脏。因此，存在修复后需要将盘洗净或清扫，该操作浪费劳力的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而研发的，其目的在于提供一种光盘的损伤的修复能力高，不浪费操作者的劳力，能够较低抑制装置的制造成本的光盘修复装置以及光盘修复方法。

为解决上述问题而研发的本发明所涉及的光盘修复装置，

是通过使保持有研磨剂的研磨垫和被修复盘以接触状态彼此相对旋转，而研磨被修复盘的读出面的干式的光盘修复装置，其特征在于，具有：

a)向被修复盘的读出面或研磨垫供给研磨剂的研磨剂供给机构；

b)向被修复盘的读出面或研磨垫供给研磨用水的研磨用水供给机构；

c)供给控制机构，其使所述研磨剂供给机构间歇动作，以维持研磨中保持于研磨垫的研磨剂的量，并且使所述研磨用水供给机构间歇动作，以补给由研磨热而蒸发的研磨剂的水分。

上述本发明所涉及的光盘修复装置是通过研磨剂和抛光轮等的研磨垫进行研磨的干式的修复装置，具有对研磨面供给研磨剂的研磨剂供给机构和对研磨面供给研磨用水的研磨用水供给机构。供给控制机构为了使研磨剂长期有效地持续存在于研磨垫和被修复盘之间而使研磨剂供给机构间歇动作，对其供给适时适量的研磨剂。另外，为了冷却由研磨而发热的被修复盘，以及为了使由研磨剂干燥而降低的研磨能力恢复，使研磨用水供给机构间歇动作，对研磨面适时适量地供给研磨用水。

为了解决上述问题而研发的本发明所涉及的光盘修复方法，

具有通过使保持有研磨剂的研磨垫和被修复盘以接触状态彼此相对旋转而研磨被修复盘的读出面的干式的研磨工序的光盘修复方法，其特征在于，所述研磨工序具有：

a)向被修复盘的读出面或研磨垫间歇供给研磨剂，以维持研磨中保持于研磨垫的研磨剂的量的研磨剂供给工序；

b)向被修复盘的读出面或研磨垫间歇供给研磨用水，以补给由研磨热而蒸发的研磨剂的水分的研磨用水供给工序。

(发明效果)

本发明所涉及的光盘修复装置以及光盘修复方法是使研磨剂保持在研磨垫中而进行研磨的干式的光盘修复装置以及光盘修复方法，在研磨中对研磨垫和被修复盘之间间歇供给研磨剂，并同时间歇补给由摩擦引起的发热而蒸发的研磨剂的水分。由此，能够长期适当地保证研磨垫和被修复盘之间存在的研磨剂的量和物理性能，与以前的干式的修复装置及修复方法相比，修复能力高。

以往的干式修复装置由于研磨中的研磨面不具有供给研磨剂的研磨剂供给机构，所以需要在修复开始时由人力涂敷研磨剂，在一次研磨行程中仅能够进行涂敷一次研磨剂。

抛光轮和研磨剂的研磨当抛光轮和盘之间以适当的物理性能存在适量的研磨剂时具有如期待的研磨能力，该研磨由于伴随着发热，所以会立刻干燥，保持适当的物理性能的时间很少。因此，例如为了以1μm研磨被修复盘，需要多次反复进行研磨剂的涂敷和研磨，浪费操作者的劳力。

另一方面，本发明的修复装置由于具有对研磨中的研磨面供给研磨剂的研磨剂供给机构，能够在一次研磨工序之间多次供给研磨剂。进而，由于具有对研磨中的研磨面供给微量的水分的研磨用水供给机构，所以能够使由研磨剂的干燥而降低的研磨能力恢复。因此，能够长期地维持研磨力，不会劳烦操作者动手，能够修复较深的伤损。

本发明所涉及的光盘的修复装置由于仅通过研磨垫和研磨剂的研磨来修复光盘，所以与湿式的修复装置相比，装置的结构简单，能够以低成本制造。另外，与同样结构简单的流洒稀释过的研磨剂的方式相比，光盘难以弄脏，没必要洗净修复后的盘。

附图说明

图1是表示本发明所涉及的光盘修复装置的概略的模式图。

图2是研磨垫的剖视图。

图3是表示研磨剂供给泵的结构的立体图。

图4是该研磨剂供给泵中核部的平面图。

图5是一般的管泵的立体图。

图6是说明本发明所涉及的光盘修复装置的组装型管泵的动作的模式图，(a)表示非动作时的状态，(b)表示动作时的状态。

图7是表示研磨用水供给泵的结构的模式图，(a)是泵部的立体图，(b)是表示泵的原理的侧面图，(c)是表示阀的实施例的剖视图，(d)是表示研磨用水罐、研磨用水供给泵、喷雾头的构成例。

图8是表示一般的光盘的结构的图，(a)是平面图，(b)是(a)的X-X向视剖视图，分别是右半部分表示CD以及DVD，左半部分表示BD。

图9是单层BD的放大剖视图。

图10是将图9的圆内放大的图，(a)是表示修复前的受到损伤的状态的放大剖面图，(b)是表示由修复而削去表面的状态的放大剖视图。

附图标记说明

10……修复装置

20……上盖

21……修复台

22……控制部

23……开盖机构

24a、24b……研磨垫

241……研磨垫保持部

26a、26b……研磨剂供给喷嘴

27a、27b……研磨用水供给喷嘴

28……轴承部

30……研磨用水供给泵

31a、31b……阀

32……管

33……推杆

34，59……电磁螺线管

37……研磨用水罐

38……喷雾头

40……研磨剂供给泵

41……外壳

42……管

43a、43b……辊

44……转子

45、51……减速器

46，53……电机

47……研磨剂罐

54……轴

55……杆

56……惰轮

57……外部齿轮

58……内部齿轮

60……动铁芯

61……圆盘

100……光盘

120……基板

130……信息记录层

140……罩层

150……硬涂层(ハ一ドコ一ト層)

160……损伤

具体实施方式

图1是表示本发明的修复装置10的内部结构的立体图。修复装置10具有载置进行修复的光盘100的修复台21和使该修复台21旋转的电机53。修复台21的周围由未图示的板部材包围，修复台21的上方由作为开闭自如的顶盖的上盖20覆盖。上盖20当光盘100的研磨结束时由开盖机构23打开。开盖机构23例如能够使用由电机等驱动机构打开上盖20的结构、或通过将上盖20向开方向施力的弹簧、用于将上盖20维持在闭状态的钩和为打开上盖20而解除钩的钩解除机构构成的结构等各种结构。在上盖20的下表面旋转自如地安装有研磨垫保持部241，安装在研磨垫保持部241的下表面的研磨垫24a、24b以适当的压力靠压修复的光盘100。

保持研磨剂的研磨剂罐47经由后述的研磨剂供给泵40，与对光盘100表面供给研磨剂的两个研磨剂供给喷嘴26a、26b连接。保持研磨用水的研磨用水罐37同样地经由详细后述的研磨用水供给泵30与对光盘100表面供给研磨用水的两个研磨用水供给喷嘴27a、27b连接。

电机53、研磨用水供给泵30、开盖机构23等依据控制部22的指示动作。

另外，在本实施例中研磨垫24a、24b、研磨剂供给喷嘴26a、26b、研磨用水供给喷嘴27a、27b都展示了使用两个的例子，但只要分别为一个以上，就能够实现功能。

作为以适当的压力使研磨垫24a、24b靠压光盘100的方法，如图2所示有在保持研磨垫保持部241的旋转轴的轴承部28上，在内部设置盘簧29，使研磨垫保持部241下表面的研磨垫24a、24b以适当的压力靠压光盘100的方法。

此外，也可以是对垫保持部组装多个盘簧的方法、或者是垫使用如海绵这样具有适当的弹力的垫，利用该弹力的方法等。

另外，在本实施例中作为使研磨垫24a、24b和光盘100旋转的方法，展示了在使研磨垫24a、24b以适当的压力接触光盘100的状态通过电机53使光盘100旋转，以该应力使研磨垫24a、24b以及研磨垫保持部241被动旋转的例子，但也有通过电机使研磨垫24a、24b以及研磨垫保持部241主动地旋转，由其应力使光盘100被动旋转的方法、或使两者主动地旋转的方法，以及使一方主动地旋转，使对另一方制动的方法等其他多种方法。

接下来，说明实际的修复顺序。

在修复装置10的待机状态中，上盖20以如图1虚线所示打开的状态待机。

该状态下，将使读出面朝上的被修复光盘100载置于修复台21上，关闭上盖20，开始进行修复。此时，首先，根据控制部22的指示，使电机53开始旋转，同时研磨剂供给泵40开始动作，在光盘100的上表面从两个研磨剂供给喷嘴26a、26b以规定的时序每一滴或数滴的程度地滴下研磨剂。研磨剂进入旋转的光盘100和研磨垫24a、24b之间，开始研磨。

通过该动作，光盘100和研磨垫24a、24b由摩擦而发热，通过该热，含于研磨剂中的水分气化，研磨剂干燥。

由于当研磨剂干燥时磨削光盘100的能力消失，经过适当的时间后，控制部22使研磨用水供给泵30动作，使水分(研磨用水)以规定的时序以每一滴或数滴的程度向光盘100的上表面滴下。研磨用水与上述研磨剂同样地，向旋转的光盘100的上表面滴下，进入光盘100和研磨垫24a、24b之间。由此，能够防止研磨剂的干燥，能够长时间地保持研磨剂的磨削能力。另外，能够通过适时地供给研磨剂，长时间维持较强的磨削能力。

当该磨削进行，修复基本结束后，控制部22通过电机53使光盘100旋转并保持该状态下，停止研磨剂以及研磨用水的供给。由此，研磨垫24和光盘100间的摩擦引起的发热使存在于研磨垫24和光盘100表面的水分气化，研磨垫24变为干拭光盘100的状态。当该状态长时间持续，则由发热使光盘100熔化或变形，当以比其短的适当的时间继续进行，则光盘100表面的研磨剂等被研磨垫24a、24b擦拭，光盘100的上表面变为清净的状态。

另外，修复结束，研磨垫24a、24b接触光盘100的状态下使电机53的旋转停止，然后打开上盖20，则在光盘100的表面容易残留研磨垫24a、24b的痕迹。因此，优选控制部22在停止电机53之前由开盖机构23打开上盖20，使研磨垫24和光盘100形成为非接触状态。由此，在光盘100的读出面上不残留研磨垫24的接触痕。

接着，关于供给研磨剂的研磨剂供给泵40进行说明。

图3是表示研磨剂供给泵40的概要的立体图。在一部分开放的圆环状的外壳41的内壁沿设作为研磨剂的流路的由柔软的树脂构成的管42。在外壳41的内侧配置有中心挖空的开口中插通有电机53的轴54的转子44。在转子44的缘部安装有多个辊43a、43b，辊43a、43b分别将管42在其与外壳41的内壁之间压塌。转子44经由后述的减速器51与电机53连接，当减速器51在后述的规定状态时电机53旋转，则转子44也旋转。

图4是研磨剂供给泵40的平面图。由于当转子44在箭头的方向上旋转，则压塌管42的位置在同方向上移动，所以管42的内容物也被向箭头的方向送出。这样的泵称作管泵，由于作为内容物的输送对象物不与阀或活塞等的伴随摩擦或滑动的机械要素接触，所以适合处理研磨剂这样地会除去与其接触的部件的物质。

图1所示的作为本实施例的管泵的研磨剂供给泵40是通过减速器51减速使光盘100旋转的电机53的旋转运动并由此进行驱动的方式，通过电磁螺线管59切换泵动作的开/闭。另外，研磨剂供给泵也能够利用例如图5所示的、与电机46以及减速器45一体的一般管泵。在一般的管泵中，通过使与使光盘100旋转的电机53分体的电机46旋转或停止，从而切换泵动作的开/闭。

根据图1、图6(a)、图6(b)说明本实施例的研磨剂供给泵40的减速器51的动作。

在减速器51的中心部具有电机53的轴54，该轴54插通在板状的杆55上挖空的长圆状的贯通孔551中。在杆55上表面的中央附近旋转自如地安装有惰轮(游动轮)56。在杆55的端部安装有电磁螺线管59的动铁芯60。

当动铁芯60在前后移动，则杆55以与轴54的旋转中心54a不同的位置55a作为旋转中心，在轴54和贯通孔551的彼此侧面不接触的范围内往复移动。通过该往复移动，轴54和惰轮56或远离(图6(a))或接触(图6(b))。

惰轮56的旋转轴贯通杆55，在其下端连结外部齿轮57。在外部齿轮57的周围具有以与杆55的旋转中心(位置55a)相同的位置为中心旋转的内部齿轮58，该内部齿轮58和外部齿轮57始终啮合。在内部齿轮58的下表面固定有中央开口的圆盘61，在圆盘61的下表面旋转自如地安装有辊43a、43b。

在驱动研磨剂供给泵40中，控制部22对螺线管59通电，如图6(b)所示，使动铁芯60后退，使杆55在逆时针方向上旋转。由此，惰轮56和轴54以彼此的侧面接触，轴54的旋转运动传递给惰轮56，经由与惰轮56连结的外部齿轮57而使内部齿轮58旋转。

此时，当轴54的直径为10mm，惰轮56的直径为40mm，外部齿轮57的齿数为15，内部齿轮58的齿数为60，则内部齿轮58以轴54的1/16的转速旋转。

当内部齿轮58旋转，则前述的管泵(图3、4)的辊43a、43b一边压塌位于与外壳41的内壁之间的管42一边旋转。

这样，研磨剂供给泵40在进行向螺线管59通电期间，起到作为以电机53作为驱动源的管泵的作用，将蓄积在研磨剂罐47上的研磨剂向研磨剂供给喷嘴26送出。另外，在进行向螺线管59通电的期间，通过未图示的弹簧的作用，动铁芯60返回原来的位置(图6(a)所示的位置)，由于轴54和惰轮56远离，所以辊43a、43b在该位置停止，研磨剂供给泵40的动作停止。

在本实施例中使用了两个研磨垫24a、24b，为了均匀地对两垫供给研磨剂和研磨用水，相对于光盘100的中心点对称地配置两个研磨剂供给喷嘴26a、26b。这种情况下，特别是供给粘度高的研磨剂时，当使一根管42分支，在各前端设置两个研磨剂供给喷嘴26a、26b，则难以控制从各喷嘴流出的研磨剂的量，另外，在泵停止时若喷嘴前端部的高度稍有差异，则会出现空气从高的一方的喷嘴侵入，研磨剂从另一方漏出等不良情况。

这种不良情况在图1的研磨剂供给泵40中，能够通过将对每个研磨剂供给喷嘴26a、26b独立的两根管42配置在外壳41和辊43之间来消除。

另外，在泵停止时当残留在研磨剂供给喷嘴26前端部的研磨剂因振动等落下，则最终成为产生擦痕(拭き残し)等不良情况的原因，所以当螺线管59拉动杆55，研磨剂供给泵40起作用时，优选由与后述的图7(b)的研磨用水供给泵30同样的方法，预先将研磨剂供给泵40的出口侧的管42由螺线管59稍稍压塌，在泵停止时螺线管59复归，管的压塌回复，从而实现回吸(逆吸引)。由此，能够防止研磨剂的无用垂落。另外，同样的功能在研磨剂供给泵40的动作中也能够通过使电机53逆转来实现。

接着，关于研磨用水供给泵30，使用图7进行说明。研磨用水供给泵30是用于补给在上述的修复工序中，由研磨垫24a、24b和光盘100的摩擦热而蒸发的研磨剂的水分的泵，该喷出量不需要大量，需要能够稳定地供给微量的水的能力。另外，由于在一个修复工序中多次进行动作，所以需要耐久性高。

图7(a)是表示为了满足上述的功能而研发的研磨用水供给泵30的结构的立体图。通过由推杆33如图7(b)所示压塌在两端支持用于使研磨用水以规定的单向流动的阀31a、31b的管32的侧面，从而将管32内的水向单向送出，释放推杆33，从而吸入研磨用水。

图7(c)是表示阀31a、31b的结构的剖视图。在本实施例中通过弹簧35和球36实现阀的功能，但是也能够由多种方法满足同样的功能。

在图7(a)中，表示了由电磁螺线管34驱动推杆33的例子，在推杆33的驱动中也能够利用组合电机和凸轮的驱动机构等。

图7(d)是表示研磨用水从研磨用水罐37经由研磨用水供给泵30供给光盘100的状态的图。在图1中表示通过细管状的研磨用水供给喷嘴27a、27b对光盘100供给研磨用水的例子，如图7(d)所示，也可以在研磨用水的喷出口的前端安装喷雾头38，对光盘100的表面较广且均匀地供给研磨用水。

通过使用具有图7(d)所示的喷雾头38的喷雾喷嘴和由电磁螺线管34而管32内的压力急剧上升的结构的研磨用水供给泵30，从而研磨用水喷出时的喷嘴内部的压力高，能够使大致均等的量的研磨用水从喷雾喷嘴喷雾。另外，在泵停止时喷雾喷嘴的喷出口也小，所以表面张力会使空气不能从喷雾喷嘴侵入，不必担心磨用水的垂落。

控制部22优选根据装置的工作履历、装置内或装置周围的气温或湿度，来调节研磨剂或研磨用水的喷出量或喷出间隔。

例如，控制部22内的存储器等中记录装置的工作履历，当日进行最初的研磨的情况下使研磨剂和研磨用水的供给量大，在该日已经进行了很多次研磨的情况下也可以根据至此的研磨次数或从前次的研磨结束时的经过时间等来调节这些供给量。

另外，通过温度传感器或湿度传感器来测量装置内或装置周围的气温或湿度，根据其测量值，在研磨剂容易干燥的状況时使研磨剂或研磨用水的供给量增多，或相反在难以干燥的状況时使其供给量减少。

通过这样的调节，能够将研磨剂和研磨用水的供给量变为与研磨时的状況最适的量。

由于光盘100的损伤修复所需的时间因损伤的深度和研磨剂的种类等各种原因而不同，所以光盘修复装置10优选是操作者能够根据损伤的状态等来选择修复时间的。例如优选当操作者选择呈多阶段设定的修复时间中的一个，则与此对应地，控制部22控制研磨剂或研磨用水的喷出量或喷出间隔。研磨中供给的研磨剂的量只要维持研磨垫24所保持的研磨剂的量的程度的量即可。另外，研磨中供给的研磨用水的量只要补给由研磨热而蒸发的研磨剂的水分的程度的量即可。

具体地，例如预先设定修复需要一分钟的一分钟模式、需要二分钟的二分钟模式、需要三分钟的三分钟模式的三阶段的修复模式，若为一分钟模式，则修复开始后研磨40秒钟，此后的20秒钟分别分配给干拭。并且，以研磨剂的一次喷出量为0.1g，在修复开始时以及经过20秒时分别进行一次喷出，或以一次的喷出量为0.05g，以10秒间隔进行喷出。关于研磨用水，例如以一次的喷出量为0.04g，以大致5秒钟间隔进行喷出。另外，也可以研磨用水的供给在修复开始时不进行，在修复开始后经过5秒左右后开始。

当然，此仅为一例，也可以增加一次的喷出量，扩大喷出间隔，或者相反减少一次的喷出量，减小喷出间隔，或者，或增或减总喷出量，根据装置的工作履历或气温，湿度等来变更喷出量或喷出间隔，或者对每次修复模式改变一次的喷出量或喷出间隔，也可以不是阶段性而是连续地进行修复时间的设定。另外，喷出间隔也可以不是周期的而是间歇性的。

关于分配给干拭的时间，20秒钟是一例，例如可以在空气干燥的情况下短(例如10秒)，在三分钟模式时如已进行了很多次修复操作时那样、研磨垫24非常润湿的情况下长(例如30秒)。

如以上所说明，根据上述本发明所涉及的光盘的修复装置10，将作为被修复盘的光盘100放置在修复台21上，仅通过关闭上盖20的简单操作开始光盘100的修复，另外，在修复结束时光盘被擦拭得非常干净。

具体地，控制电机53或研磨剂供给泵40、研磨用水供给泵30的开/闭的控制部22在修复的最终阶段在使研磨用水以及研磨剂的供给停止的状态下使研磨垫24和光盘100旋转。由此，由研磨垫24和光盘100的摩擦热使盘表面干燥，光盘100被研磨垫24擦拭。因此，不会浪费操作者的劳力，能够使修复后的光盘100变为清洁的状态，操作性非常高。

另外，作为在研磨垫24中保持研磨剂而进行研磨的干式的修复装置，还具有研磨中对研磨垫24和被修复盘100之间间歇供给研磨剂的研磨剂供给泵40、和补给由摩擦引起的发热而蒸发的水分的研磨用水供给泵30，所以能够长时间适当保持存在于研磨垫24和被修复盘100之间的研磨剂的量和物理性能，与以前的干式的修复装置相比，能够保持高的修复能力。

另外，同样的高修复能力也能够不使用研磨用水供给泵30而仅通过研磨剂供给泵40来实现，但是在该情况下，由于大量使用高价的研磨剂，所以修复费用高额。另外，由于大量的研磨剂会在短时间弄脏研磨垫24a、24b，所以需要高频率更换研磨垫24a、24b。这些问题如本发明的修复装置10那样能够通过使用研磨用水供给泵30来消除。

本发明不限于上述实施例，在本发明的技术构思的范围内允许适当变更。例如、研磨剂或研磨用水也可以不供给光盘的读出面，而供给研磨垫。另外，研磨用水不限于水，也可以是对水稍稍地增加界面活性剂，将具有界面活性效应和挥发性的酒精等液体与水混合的材料等。

Claims (11)

1.一种光盘修复装置，其是通过使保持有研磨剂的研磨垫和被修复盘以接触状态彼此相对旋转，从而对被修复盘的读出面进行研磨的干式的光盘修复装置，其特征在于，具有：

a)向被修复盘的读出面或研磨垫供给研磨剂的研磨剂供给机构；

b)向被修复盘的读出面或研磨垫供给研磨用水的研磨用水供给机构；

c)供给控制机构，其使所述研磨剂供给机构间歇动作，以维持研磨中保持于研磨垫的研磨剂的量，并且使所述研磨用水供给机构间歇动作，以补给由研磨热而蒸发的研磨剂的水分。

2.如权利要求1所述的光盘修复装置，其特征在于，具有：

a)在下表面安装有保持研磨垫的研磨垫保持部的项盖；

b)用于打开所述顶盖的开盖机构；

c)在被修复盘的研磨结束后使所述开盖机构动作的开盖控制机构。

3.如权利要求2所述的光盘修复装置，其特征在于，

在被修复盘及研磨垫的旋转停止之前，所述开盖控制机构使所述开盖机构动作。

4.如权利要求1～3中任一项所述光盘修复装置，其特征在于，

所述研磨剂供给机构具有：

a)作为研磨剂的喷出口的多个研磨剂供给喷嘴；

b)通过与每个所述研磨剂供给喷嘴对应而独立的流路，向各研磨剂供给喷嘴送出研磨剂的研磨剂供给泵。

5.如权利要求1～4中任一项所述的光盘修复装置，其特征在于，

所述研磨剂供给机构具有用于防止研磨剂的无用垂落的回吸功能。

6.如权利要求1～5中任一项所述的光盘修复装置，其特征在于，

具有控制使被修复盘及研磨垫的旋转停止的时序的旋转停止控制机构，

a)当被修复盘的研磨结束时，所述供给控制机构使研磨剂及研磨用水的供给停止，

b)所述旋转停止控制机构通过所述供给控制机构停止研磨剂及研磨用水的供给后，在经过规定时间之后，使所述被修复盘和所述研磨垫的旋转停止，以通过研磨热使所述被修复盘和所述研磨垫之间的研磨剂干燥后，由所述研磨垫干拭所述被修复盘。

7.如权利要求1～6中任一项所述的光盘修复装置，其特征在于，

所述研磨用水供给机构具有：

a)在两端具有用于使研磨用水向规定的单向流动的阀且具有柔软性的管；

b)配置在所述管的侧方的推杆；

c)使所述推杆动作，以由所述推杆压塌所述管侧面，并将该管内的研磨用水向所述规定的单向送出的驱动机构。

8.如权利要求1～7中任一项所述的光盘修复装置，其特征在于，

所述供给控制机构具有调节研磨剂或研磨用水的喷出量或喷出间隔的喷出条件调节机构。

9.如权利要求8所述的光盘修复装置，其特征在于，

具有记录装置的工作履历的记录机构，

所述喷出条件调节机构根据记录在所述记录机构中的工作履历，来调节研磨剂或研磨用水的喷出量或喷出间隔。

10.如权利要求8或9所述的光盘修复装置，其特征在于，

具有用于测量气温或湿度的测量机构，

所述喷出条件调节机构根据所述测量机构的测量值，来调节研磨剂或研磨用水的喷出量或喷出间隔。

11.一种光盘修复方法，该方法具有通过使保持有研磨剂的研磨垫和被修复盘以接触状态彼此相对旋转，从而对被修复盘的读出面进行研磨的干式的研磨工序，其特征在于，

所述研磨工序具有：

a)向被修复盘的读出面或研磨垫间歇供给研磨剂，以维持研磨中保持于研磨垫的研磨剂的量的研磨剂供给工序；

b)向被修复盘的读出面或研磨垫间歇供给研磨用水，以补给由研磨热而蒸发的研磨剂的水分的研磨用水供给工序。

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