JP5697207B2 - 両面研磨装置および研磨方法 - Google Patents
両面研磨装置および研磨方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5697207B2 JP5697207B2 JP2011093008A JP2011093008A JP5697207B2 JP 5697207 B2 JP5697207 B2 JP 5697207B2 JP 2011093008 A JP2011093008 A JP 2011093008A JP 2011093008 A JP2011093008 A JP 2011093008A JP 5697207 B2 JP5697207 B2 JP 5697207B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- surface plate
- fluid
- pressure fluid
- fluid discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
特許文献1に記載の両面研磨装置では、上定盤上昇時、全てのスラリー供給口から加圧スラリーを適宜供給するというものであり、特に上定盤の全域にスラリー供給口を形成してワークがどの場所に位置しても効果があるようにしている。また、スラリー供給口を用いることから上定盤に別途供給口を開けないで済むようにしている。また、スラリー供給量を個別に制御して高品質の加工を行なっている。
特許文献2に記載の研磨装置では、ワーク保持孔と同数の吐出孔をワークの外周側に設け、ワークにミスト状流体を吐出する。ミスト状流体を吐出する理由は、「水」のみではワークが浮遊・移動し、傷が付くおそれがあるためであり、また、「エアー」のみでは大きな吐出圧が必要になってワークに歪が発生し、さらにワーク表面が乾く懸念があるためである。
また、定盤外周側でのスラリー供給口は一般に配置密度は疎であり、ワークの停止位置によってはほとんど貼り付き防止効果がない場合があった。
また、多数あるスラリー供給口毎に流量調整弁を設ける構造を採用しているが、このような構造は設備費が増大すると同時に、定盤上の設置スペースを確保する必要があり、さらに各制御弁を制御装置に接続して個別に制御することになるので、全体の制御系が非常に繁雑になっていた。
上定盤と下定盤とによりワークの表裏両面をラッピングまたはポリッシングする両面研磨装置において、
前記上定盤の下面であって、研磨加工終了後の各ワークの停止位置に対応する位置に設けられる各々適数の流体吐出孔と、
該流体吐出孔からワークの上面に圧力流体を少量づつ間欠的に吐出させる圧力流体吐出装置と、
を備え、上定盤下面とワークとの間に圧力流体を流入させるように構成されていると共に、
前記圧力流体吐出装置は、
圧力流体が充填される流体溜まり部と、この流体溜まり部と連通する複数の流路空間の開口部であって円上に形成される複数の孔と、シール用ボールを孔に押接させて孔から突出させた状態とする機能を有し、それぞれの流路空間内に設けられる複数のボールプランジャ型バルブと、流体溜まり部内に設けられ、回転移動により所定期間シール用ボールを押して流体溜まり部と流路空間とを連通させる旋回ロッドと、旋回ロッドを回転駆動する回転駆動部と、を備え、
旋回ロッドがシール用ボールを押して形成する隙間を通じて微少量の圧力流体を流路空間へ進入させる供給を順次行い、複数の流路空間を通じて、前記上定盤上の各流体吐出孔へ圧力流体を吐出するようになされていることを特徴とする両面研磨装置とした。
請求項1記載の両面研磨装置を用いてワークの表裏両面をラッピングまたはポリッシングする研磨方法において、
ワークの研磨加工終了後、各ワークを取出す所定の位置へワークを移動するとともに、該ワークの停止位置に対応する位置に前記上定盤を移動させて、前記流体吐出孔を各ワーク上へ位置決めする第1の工程と、
前記圧力流体吐出装置を作動させると同時に、前記上定盤を低速度で上昇させる第2の工程と、
前記上定盤を所定量上昇させた後、前記圧力流体吐出装置の作動を停止し、前記上定盤を中速度から高速度で上昇させて所定位置へ到達させた後、前記下定盤上のワークを順次取出す第3の工程と、
からなることを特徴とするワークの研磨方法とした。
下定盤1は、図1,図2で示すように、環状円板であり、上面にワーク200を研磨するラップ面/ポリッシュ面を有する。なお、図示しないが、下定盤1の上面に図示しない研磨布を貼り付け、研磨布によりワークを研磨することもある。
上定盤2は、図1で示すように、環状円板であり、下面にワーク200を研磨するラップ面/ポリッシュ面を有する。なお、図示しないが、上定盤2の下面に図示しない研磨布を貼り付け、研磨布によりワークを研磨することもある。
ここに下定盤1および上定盤2は、共通回転軸を回転中心として回転するように支持される。
ベース部4は、図示しない台座に固定される堅牢な構造体であり、回転体形状を有し、重量物を支持することができる。
サンギア6は、外周側に歯が形成されており、下定盤1の内周側(中心側)に配置されている。
上定盤駆動ドラム8は、図1で示すように円柱体であり、側面に複数の嵌合溝が設けられている。下定盤1および上定盤2の中央孔に上定盤駆動ドラム8が貫通するようになされ、上定盤2の中央孔の開口部からは上定盤駆動ドラム8が突出するように設けられている。後述する昇降機構により上定盤2を下降させると上定盤2の中央の孔部に上定盤駆動ドラム8が貫通する構造となっている。
ドラム駆動軸10は、上側に上定盤駆動ドラム8が固定される。ドラム駆動軸10はサンギア駆動軸7の中心孔内に配置されており、サンギア駆動軸7から独立して回転する。ドラム駆動軸10は、図示しない上定盤回転駆動部により回転力が付与される。
インターナルギア支持部12は、多段筒状部材を含む構成であり、上側にインターナルギア11が形成される。インターナルギア支持部12は、図示しないインターナルギア回転駆動部により回転力が付与され、インターナルギア支持部12とともにインターナルギア11が回転駆動される。インターナルギア支持部12の中心孔内にはベース部4が配置されており、インターナルギア支持部12はベース部4から独立して回転する。
上定盤支持軸15は、上定盤昇降駆動部14内を移動するようになされており、先端で自在継手16と連結される。
上定盤吊り板17は、堅牢な板体であり、例えば上定盤2と同径の円板体である。
供給チューブ20は、圧力流体供給装置19と圧力流体吐出装置21とを連結する流路であり、流体を圧力流体吐出装置21へ送る。なお、実際の両面研磨装置では上定盤吊り板17の回転時でも供給チューブ20が絡まらないように配慮して接続されるが、種々の技術を用いることが可能である。
接続チューブ22は、圧力流体吐出装置21から供給される圧力流体を流す。圧力流体吐出装置21には接続チューブ22が複数本(本形態ではワークと同じ数である20本)接続される。
V≒H’(D/H)
γ’≒V/H
σ=ηγ’
H(P−P0)=−Dσ
P−P0=−{(D/H)2}η(H’/H)
F={(D/H)3}ηH’D
G=(D/H)ηVD
(2)圧力流体として大量の加圧水を吐出すると下定盤上に大量の滞留水が残って次工程に支障を来たすと同時に、下定盤上のワークが浮遊してワーク保持孔からワークが飛び出る現象が発生する。
(3)圧力流体として大量の加圧エアーを噴出するとワークが下定盤方向へ吹飛ばされて、ワークキャリアのワーク保持孔から外れる懸念があると同時に、下定盤とワークキャリアあるいはワークとの界面に加圧エアーが浸入して夫々を浮遊させることになり、場合のよってはワークキャリアやワークが再び上定盤へ貼り付いてしまう懸念がある。
(4)圧力流体を大量に供給することは上定盤に貼り付いたワークを流体のエネルギーで吹き飛ばす方法といってよく、ワーク界面へ介在物の層をできるだけ厚く形成するものではない。
(a)上定盤2からワーク200を引き剥がす工程において、ワーク200が上定盤2に貼り付いて流体吐出孔23からの流路がほぼ閉塞している箇所やワーク200と上定盤2との間に既にやや厚い液体膜が形成されている箇所などが混在することになるが、このような状況下で同時に複数の流体吐出孔23から圧力流体を吐出した場合、圧力流体は後者の流路が存在する箇所へ集中的に流れて行き、流体自身の圧力低下が生じると同時に、前者の流路が閉塞している箇所即ち引き剥がしたいワーク200の界面へは流体がほとんど流れないことになり、貼り付き防止効果は不十分となる。
なお、実用面では、加圧エアの吐出の条件によっては下定盤とワークあるいはワークキャリア間の界面に加圧エアが入り込んで、ワークあるいはキャリアを浮遊させて上定盤へワークが再び貼りついたり、ワークがキャリア穴から飛び出すなどの懸念がある。そこで、加圧エアの吐出の条件(圧力や流量)の調整を必要とする。
また、実用面では、ワーク表面を乾かしてしまう懸念が指摘されている。そこで、スラリー供給口から水を滴下させながら行う方法や上部の円筒容器の中に間欠的に水を供給するなどの対策を用いてもよい。
このように加圧エアまたは加圧水による圧力流体を採用することができる。
装置本体211は、詳しくは図5で示すように、さらに底板211a、中板211b、蓋211cおよび円筒211dとを有し、内部には中板211b、蓋211cおよび円筒211dにより仕切られる流体溜り部217が形成されている。
ロッド回転用モータ212は、装置本体211の蓋211cの上側に配置されており、図5で示すように、回転軸215が流体溜り部217内に突出するように設けられる。
流体吐出管214は、装置本体211の外周側にある円筒211dに複数個(本形態では20個)配置されている。全ての流体吐出管214は、流路空間222を介して流体溜り部217に連通する。
軸受け部216は、図5で示すように、上側の蓋211cと下側の中板211bという2箇所で回転軸215を支持しており、回転する回転軸215がぶれないようになされている。軸受け部216は、圧力流体が漏れないようにシール機能も有している。
旋回ロッド218は、回転軸215に軸支されており、図5(a)で示すように、流体溜り部217内を回転する。後述するが回転する旋回ロッド218は、シール用ボール220に接触し、シール用ボール220を押し下げるようになされている。
シール用ボール220は、流体溜り部217と連通する孔219に当接して孔219を塞ぐときは流路空間222や流体吐出管214へ圧力流体を流さないようにし、また、孔219から離れるときは圧力流体を流路空間222や流体吐出管214へ流す機能を有している。シール用ボール220は円筒型収容部である流路空間222内に配置される。
流路空間222は、円筒型の空間である。この流路空間222にシール用ボール220、および、圧縮バネ221が配置されてプランジャー型バルブを形成する。このプランジャー型バルブは円上に複数(本形態では20個)形成されることとなる。
まず、図6(a)で示すように、シール用ボール220は孔219から流体溜り部217側へ僅かに突出しており、孔219を塞いでいる。そして、旋回ロッド218が回転し、シール用ボール220へ近づいていくものとする。
上定盤支持軸15に支持される環状の上定盤2は、上定盤支持軸15とともに昇降駆動が行われ、ワーク200に対して適正圧力で接するような位置に決定される。
上定盤2に設けられた図示しないスラリー供給穴からスラリーの供給を開始しつつ、図示しない上定盤回転駆動部がドラム駆動軸10および上定盤駆動ドラム8を回転させると、連結部9を介して上定盤2の回転が開始される。
なお、図示しないがスラリー供給方法自身は重力落下方式を採用するものであり、加圧設備を設けて圧送したり個々の流路に流量制御弁を設けるという非常に繁雑でコスト高な方法を採るものではなく、この点でもコスト低減を実現している。
ワーク200が目標厚さに達し、図示しない厚みセンサから加工終了信号が制御装置へ出力されたら、制御装置は、これと同時に各ワークキャリア13の停止位置へ最短距離で停止できるように動作量を生成して停止動作に入る。各ワークの加工後停止位置を一定の位置とする。そのため、ワークキャリアの位置決めを行うサンギア6とインターナルギア11の位置決め制御を行う。上定盤2も同様に、上記の各ワークに対応する位置(加工後停止位置)に各キャリア位置上へ流体吐出孔23が来る最短動作の位置決めを行う動作量を生成して上定盤2の回転位置決めを行う停止動作に入る。
上定盤2、下定盤1、およびワークキャリア13が所定の位置で停止したら、「貼り付き防止工程」を行いながら上定盤を上昇させる。具体的には上記したよう圧力流体吐出装置21の旋回ロッド218が回転してボールプランジャ型バルブを順次押下して、各流体吐出孔23から圧力流体の間欠的な供給を行い、全てのワーク200に対して剥がし力を与える。
この時、上定盤2は特別な姿勢保持機構がなければ、任意の位置のワーク面から剥離が進行する。(厳密には上定盤2が僅かに傾く)この時、上定盤2ではワーク200から離れた(剥離した)部分とワーク200と接している部分などが混在した状態となっている。少しするとワーク200は上定盤から離れた(剥離した)状態となっている。なお、これら(5),(6)は本発明の第2の工程に相当する。
加工動作はこのようなものである。
つまり、旋回ロッド218がシール用ボール220に接触する時間が長くなり、流れ込む流体が増える。このような構成を採用しても良い。また、この際、回転速度を調節すればさらに流れ込む流体の増減を調節することができる。
また、圧力流体吐出装置や接続チューブ、流体吐出孔という比較的簡素で安価な構成を追加するのみでよく、流量制御弁を多数用いる従来技術と比較しても大幅なコストダウンを実現している。
また、本発明の両面研磨装置は、スラリーのような洗浄が難しいものではなく、間欠的に少量の圧力流体を吐出するだけなので、ワーク面を含めて後工程に及ぼす影響を低くしている。
また、圧力流体は微少量であるため、大量の加圧エアのように吹き飛ばしたり、大量の加圧水のように流れる事態を防止する。
また、ワークの有無によらず、全ての流体吐出孔から出る圧力流体の圧力をほぼ一定に維持できるので、一定の剥がし力を付与でき、利便性を高めている。
また、本発明の両面研磨装置は、圧力流体として加圧エアや加圧水を用いるので効率が良い、環境悪化しない、低コストという利点がある。なお、定盤上を汚さない観点からは加圧エアの使用が好ましい。
1:下定盤
2:上定盤
3:下定盤受け
4:ベース部
5:支持部
6:サンギア
7:サンギア駆動軸
8:上定盤駆動ドラム
9:連結部
10:ドラム駆動軸
11:インターナルギア
12:インターナルギア支持部
13:ワークキャリア
14:上定盤昇降装置
15:上定盤支持軸
16:自在継手
17:上定盤吊り板
18:上定盤連結ロッド
19:圧力流体供給装置
20:供給チューブ
21:圧力流体吐出装置
211:装置本体
211a:底板
211b:中板
211c:蓋
211d:円筒
212:ロッド回転用モータ
213:流体受入口
214:流体吐出管
215:回転軸
216:軸受け部
217:流体溜まり部
218:旋回ロッド
219:孔
220:シール用ボール
221:圧縮バネ
222:流路空間
22:接続チューブ
23:流体吐出孔
Claims (2)
- 上定盤と下定盤とによりワークの表裏両面をラッピングまたはポリッシングする両面研磨装置において、
前記上定盤の下面であって、研磨加工終了後の各ワークの停止位置に対応する位置に設けられる各々適数の流体吐出孔と、
該流体吐出孔からワークの上面に圧力流体を少量づつ間欠的に吐出させる圧力流体吐出装置と、
を備え、上定盤下面とワークとの間に圧力流体を流入させるように構成されていると共に、
前記圧力流体吐出装置は、
圧力流体が充填される流体溜まり部と、この流体溜まり部と連通する複数の流路空間の開口部であって円上に形成される複数の孔と、シール用ボールを孔に押接させて孔から突出させた状態とする機能を有し、それぞれの流路空間内に設けられる複数のボールプランジャ型バルブと、流体溜まり部内に設けられ、回転移動により所定期間シール用ボールを押して流体溜まり部と流路空間とを連通させる旋回ロッドと、旋回ロッドを回転駆動する回転駆動部と、を備え、
旋回ロッドがシール用ボールを押して形成する隙間を通じて微少量の圧力流体を流路空間へ進入させる供給を順次行い、複数の流路空間を通じて、前記上定盤上の各流体吐出孔へ圧力流体を吐出するようになされていることを特徴とする両面研磨装置。 - 請求項1記載の両面研磨装置を用いてワークの表裏両面をラッピングまたはポリッシングする研磨方法において、
ワークの研磨加工終了後、各ワークを取出す所定の位置へワークを移動するとともに、該ワークの停止位置に対応する位置に前記上定盤を移動させて、前記流体吐出孔を各ワーク上へ位置決めする第1の工程と、
前記圧力流体吐出装置を作動させると同時に、前記上定盤を低速度で上昇させる第2の工程と、
前記上定盤を所定量上昇させた後、前記圧力流体吐出装置の作動を停止し、前記上定盤を中速度から高速度で上昇させて所定位置へ到達させた後、前記下定盤上のワークを順次取出す第3の工程と、
からなることを特徴とするワークの研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011093008A JP5697207B2 (ja) | 2011-04-19 | 2011-04-19 | 両面研磨装置および研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011093008A JP5697207B2 (ja) | 2011-04-19 | 2011-04-19 | 両面研磨装置および研磨方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012223852A JP2012223852A (ja) | 2012-11-15 |
JP5697207B2 true JP5697207B2 (ja) | 2015-04-08 |
Family
ID=47274610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011093008A Expired - Fee Related JP5697207B2 (ja) | 2011-04-19 | 2011-04-19 | 両面研磨装置および研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5697207B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101924279B1 (ko) * | 2017-02-16 | 2018-11-30 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼의 양면 연마장치 |
KR102037746B1 (ko) * | 2018-02-27 | 2019-10-29 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 양면 연마 장치 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63120077A (ja) * | 1986-11-08 | 1988-05-24 | Otani Reiji | ロボツト装填・装出用ラツピング及びポリシングマシン駆動方法 |
JP3891675B2 (ja) * | 1998-02-13 | 2007-03-14 | 昭和電工株式会社 | ワークの研磨装置及び研磨方法 |
JP2001025964A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-30 | Systemseiko Co Ltd | 研磨方法および研磨装置 |
JP4163485B2 (ja) * | 2002-10-25 | 2008-10-08 | 不二越機械工業株式会社 | 両面研磨装置およびこれを用いた研磨加工方法 |
JP2004193289A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Ebara Corp | ポリッシング方法 |
US8342905B2 (en) * | 2009-08-31 | 2013-01-01 | Elm Inc. | Optical disk restoration method and apparatus |
JP2011115873A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Taiyo:Kk | 両面研磨装置 |
-
2011
- 2011-04-19 JP JP2011093008A patent/JP5697207B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012223852A (ja) | 2012-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4030247B2 (ja) | ドレッシング装置及びポリッシング装置 | |
US7585205B2 (en) | Substrate polishing apparatus and method | |
JP4163485B2 (ja) | 両面研磨装置およびこれを用いた研磨加工方法 | |
TW201812928A (zh) | 研磨基板表面的裝置及方法 | |
JP7267847B2 (ja) | 研磨ヘッド、当該研磨ヘッドを備える研磨装置、および当該研磨装置を用いた研磨方法 | |
US20130288578A1 (en) | Methods and apparatus for pre-chemical mechanical planarization buffing module | |
CN103894919A (zh) | 研磨设备和研磨方法 | |
US20230302604A1 (en) | Substrate polishing apparatus and polishing liquid discharge method in substrate polishing apparatus | |
JP5697207B2 (ja) | 両面研磨装置および研磨方法 | |
TW202147424A (zh) | 研磨裝置及研磨方法 | |
WO2012124663A1 (ja) | 板状体の研磨方法 | |
JP4440237B2 (ja) | ドレッシング装置 | |
JP2007313644A (ja) | ドレッシング装置 | |
KR20110090044A (ko) | 렌즈 자동 연마장치 | |
WO2012077427A1 (ja) | 研磨具 | |
CN102950538A (zh) | 板状体研磨装置及研磨系统 | |
JP2002178258A (ja) | 砥石の洗浄装置を備える両頭平面研削装置および砥石の洗浄方法 | |
TW201302381A (zh) | 板狀體之研磨裝置 | |
CN214025069U (zh) | 一种具备定位抛磨功能的三轴传感器生产设备 | |
WO2013118578A1 (ja) | 研磨パッド及び研磨装置 | |
JP3891675B2 (ja) | ワークの研磨装置及び研磨方法 | |
CN112371614A (zh) | 研磨头清洗装置 | |
JP2001341063A (ja) | 平面研磨装置 | |
JP2015015292A (ja) | 配線形成装置 | |
CN101992413A (zh) | 研磨装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140331 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141210 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141211 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5697207 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |