JP2008302469A - 研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置及びカラーフィルタ研磨方法及びカラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】研磨剤の点滴供給ホース先端の開口部への研磨剤の付着防止および基板への落下を防止するカラーフィルタ用研磨装置及びカラーフィルタの研磨方法を提供する。
【解決手段】テンプレート４上にカラーフィルタ１０を固着させた後、上下定盤２，３を偏心させて水平回転と左右往復運動させながら、研磨剤の溶液を滴下しバフ研磨する研磨プロセスと、サックバック機構により研磨剤を研磨剤供給用ホース５先端開口部６に保持し、純水リンス液を噴射して洗浄する純水リンスプロセスにより処理する研磨方法であって、純水リンスプロセスの処理時は研磨剤供給用ホース５先端開口部６から８．５ｍｍ以上研磨剤供給タンク側へ研磨剤の液面を吸引する。
【選択図】図１

Description

本発明は、研磨剤の溶液を滴下してバフ研磨する研磨プロセスと、純水リンス液を噴射して洗浄する純水リンスプロセスとを処理する研磨方法に関し、特に研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置およびカラーフィルタの研磨方法及びカラーフィルタの製造方法に関する。

液晶表示装置に用いるカラーフィルタでは、ＲＧＢ画素層（以下画素と記す）の段差、すなわち層厚の差がある場合、液晶表示装置を製造する際に行なわれる配向処理で液晶の配向性を損なうため、画素上にオーバーコート層（以下ＯＣと記す）を形成してカラーフィルタの画素面の平坦化を行っている。

近年、液晶表示装置の価格低減に伴い、カラーフィルタのコスト削減の要望が激しくなってきた。従って、カラーフィルタの製造方法では、その工程数を削減する方法、よりコスト低減するためのプロセスを変更する方法等の対応策が検討されている。

カラーフィルタの製造においても対応策が検討されており、例えば前記ＯＣを形成する工程を削減し、画素段差を平坦化するプロセスで、直接に画素面を研磨する研磨プロセスを再度導入する要求が大きくなっている。従来の研磨プロセスは、研磨剤の溶液（以下研磨剤と記す）を用いる研磨方法であり、品質面で、特に被研磨基板の清浄度の維持管理が不安定となる問題があり、研磨後の基板のクリーン度の安定確保が重要な課題となる。

現状、カラーフィルタの品質においては、基板の大型化、画素の微細化、基板の超清浄化への要求があり、それに対応する高品質レベルの維持と、それらに対応する製造工程の構築が重要となる。研磨プロセスの導入でも従来技術以上の高レベルのプロセス管理が必要となり、研磨剤の残渣の完全排除が必要となる。

図４は、従来のカラーフィルタ用研磨装置の概要を説明する概念図で、（ａ）は、研磨装置の側断面図であり、（ｂ）は研磨プロセスのフロー図である。

従来の研磨プロセスを説明する。図４（ａ）のカラーフィルタ用研磨装置１は、装置中央に下定盤２と、下定盤２の天面にテンプレート４と、テンプレート４の上方で、テンプレート４に向き合うように上定盤３が配置されている。下定盤２及びテンプレート４は回転軸を有し、回転軸を回転中心とした水平方向の回転駆動を備えている。上定盤３は回転軸を有し、回転軸を回転中心とした水平方向の回転駆動と、及び上定盤３の回転中心位置を左右方向へ往復させる往復駆動とを備えている。上定盤の軸中心位置は下定盤２及びテンプレート４の回転軸位置と異なり装置の端部方向に偏心させており、互いに独立した円運動と、上定盤中心位置が往復運動をする。

テンプレートの上方に研磨剤供給用ホース５が付設され、その先端の開口部６よりテンプレート方へ研磨剤を供給する。

カラーフィルタ研磨装置１では、テンプレート４上にカラーフィルタ１０を固着した後、カラーフィルタの画素面と上定盤３の下底面とを加圧接触させ、画素上に研磨剤を滴下しながら、上定盤３と下定盤２及びテンプレート４を同一方向の円回転をさせて、上定盤３の回転軸位置を往復移動させながら、カラーフィルタの画素段差を研磨し、平坦化する。なお、上定盤の底面側に研磨クロスがあり、研磨クロスと画素面を直接接触させ、加圧させており、所定の加圧に制御する圧調整機構を備えている。研磨剤供給用ホース５は、研磨剤供給タンク５ａに付設され、その途中に供給ポンプ８が配置されている。先端開口部６の近傍には、リンス液供給部７が付設され、テンプレート４方へリンス液を供給する。カラーフィルタ研磨装置１では、上定盤３と下定盤２及びテンプレート４を同一方向の円回転をさせて、上定盤３の回転軸位置を往復移動させながら、研磨剤を滴下しながら研磨する工程と、研磨剤の滴下を停止後にリンス液を吐出しながら、研磨剤を除去洗浄するリンス工程を実行する。

図４（ｂ）の従来の研磨プロセスで、ａは、画素面を上にしてカラーフィルタ１０をテンプレート４上に固着する。

ｂは、上定盤３を画素面へ下降する。

ｃは、カラーフィルタ上１０へ研磨剤を滴下させながら上定盤及び下定盤を回転、往復運動させ画素面を研磨する。

ｄは、設定した研磨時間に達したら研磨剤の滴下を停止し、カラーフィルタ上に純水のリンス液を供給させながら上定盤及び下定盤を回転、往復運動させカラーフィルタの研磨剤を除去し、洗浄する。

ｅは、設定した純水リンス時間に達したら上定盤及び下定盤を回転、往復運動を停止する。

ｆは、上定盤３を画素面から上昇する。

ｇは、研磨したカラーフィルタ１０をテンプレート４から取り外して、洗浄プロセスに投入する。

図５は、従来のカラーフィルタの研磨装置の部分側面図で、（ａ）は、研磨プロセスの状態図であり、（ｂ）は、純水リンスプロセスである。

従来のカラーフィルタ研磨装置１での研磨剤の滴下の方法を説明する。図５（ａ）は、研磨プロセスである。研磨プロセスは、下定盤２のテンプレート４上にカラーフィルタ１０を固着し、カラーフィルタ上へ研磨剤を滴下と上定盤３を回転及び往復移動しながら研磨する。研磨剤の滴下は、ローラーポンプ方式の供給ポンプ８を用いた方法である。すなわち、供給ポンプ中の複数のローラ９を一方方向に回転（正回転１９ａ）させて、ゴム弾性を有する研磨剤供給用ホース５を円型台１８に圧縮し、先端開口部方向にホースをローラーでしごきながら液を押し送液を行なう方法である。ローラ９が研磨剤供給用ホース５と接触時に研磨剤を滴下しながら、上定盤３と、下定盤２を回転及び往復駆動させカラーフィルタを研磨するプロセスである。なお、研磨剤の滴下の間隔は、ローラの回転速度で所定量を設定する。

研磨剤の滴下時では、研磨剤供給用ホース５は、ホース内には研磨剤の溶液が充満されており、供給ポンプ８のローラ９を正回転１９ａにより円型台１８に加圧し、研磨剤供給タンク５ａ側から先端の開口部６側へ研磨剤を送り出す。研磨プロセスが終了すると、上、下定盤の駆動のまま、ローラ９の回転を停止１９ｃして研磨剤の滴下を停止し、純水リンス液７がカラーフィルタ上へ供給され、研磨装置は純水リンスプロセスに切り替わる。供給ポンプのローラ９は、一方方向の正回転１９ａにより加圧されて研磨剤を滴下し、ローラ９の停止１９ｃにより研磨剤の滴下を停止する。すなわち、ローラの回転を停止させ、研磨剤供給用ホース５内の研磨剤が停止する。以上のように加圧、停止を繰り返しながら研磨剤を点滴、又は研磨剤の滴下を停止する。

図５（ｂ）は、純水リンスプロセスである。純水リンスプロセスは、上、下定盤の駆動したまま、研磨剤の滴下は停止状態で待機し、純水リンス液がカラーフィルタ上へ供給され、カラーフィルタ上に純水リンス液を噴出しながら上定盤３を回転及び往復移動して洗浄する。研磨剤の滴下は停止状態で待機した場合、研磨剤供給用ホースの先端開口部６まで研磨剤が充満した状態であり、この状態のままで待機する。

従来のカラーフィルタの研磨プロセスは、研磨プロセス、純水リンスプロセスを繰り返し実行する。カラーフィルタの研磨プロセスは、研磨のプロセスではガラス基板へ研磨剤を供給し、純水リンスプロセスでは供給された研磨剤を除去することが重要であり、残渣のないカラーフィルタの洗浄することが重要となる。

従来のカラーフィルタ研磨プロセスでは、基板上に研磨剤の残渣による工程不良が発生する場合がある。

カラーフィルタ研磨装置では、研磨剤を点滴供給する研磨工程が終了後、研磨剤供給を停止し、カラーフィルタと上定盤の研磨クロスを対向密着させながら純水供給させてカラーフィルタ上の研磨剤を洗い流す純水リンス工程により残留研磨剤を除去している。

この場合、研磨工程中に供給された研磨剤が所定量より多く残留していると、その後のカラーフィルタを洗浄する純水リンス工程で除去しきれずに不良となる問題があり、研磨剤の残渣による工程不良が発生する問題がある。

この研磨工程の場合、従来のカラーフィルタ研磨装置では、点滴供給、又は供給停止時に、先端の開口部６に研磨剤の残渣が付着堆積する問題がある。洗浄する純水リンス工程後に、研磨装置の動作等の振動により先端の開口部６の付着堆積した研磨剤の固形物がカラーフィルタ上に落下する場合があり、その後工程での洗浄工程で除去できず残渣となる問題がある。この場合、先端開口部に研磨剤の固形物が付着することを防止する必要があり、重要な課題となる。カラーフィルタの品質不良、特に基板のクリーン度が低下する場合があり、不良基板の増加する問題がある（図３の参考図を参照）。

以下に公知文献を記す。
特開平７−８４１１３号公報

本発明の課題は、研磨剤の点滴供給時に、先端の開口部に研磨剤が付着を防止する方法であり、付着堆積した研磨剤の基板への落下を防止するカラーフィルタ用研磨装置及びカラーフィルタの研磨方法を提供することである。

本発明の請求項１に係る発明は、水平方向の回転駆動機構を備えた下定盤、その表面にテンプレートと、テンプレートの上方で向き合う位置に水平方向の回転駆動及び左右方向の往復機構を備えた上定盤と、テンプレートの上方の近傍にリンス液供給部および研磨剤の溶液を供給するホースの先端開口部と、供給ポンプのローラを一方向に回転させて、研磨剤供給タンクから研磨剤の溶液を研磨剤供給用ホースの先端開口部から滴下する滴下機構とを備えたカラーフィルタ研磨装置であって、
供給ポンプのローラの回転を停止と同時に、研磨剤の溶液を研磨剤供給用ホースの先端開口部より研磨剤供給タンク側へ吸引するサックバック機構を追加したことを特徴とする研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置である。

本発明の請求項２に係る発明は、前記サックバック機構は、滴下機構に追加した機構であって、研磨剤供給ポンプのローラの回転方向を研磨剤供給時と逆方向に回転することで研磨剤供給用ホース内の研磨剤の溶液を研磨剤供給タンク側へ吸引することを特徴とする請求項１記載の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置である。

本発明の請求項３に係る発明は、前記サックバック機構による吸引する量は、研磨剤供給用ホース先端の開口部から８．５ｍｍ以上まで研磨剤供給タンク側へ研磨剤の溶液を吸引することを特徴とする請求項１、又は２記載の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置である。

本発明の請求項４に係る発明は、前記請求項１乃至３のいずれか１項記載の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置を用いたカラーフィルタ研磨方法であって、カラーフィルタ研磨方法は、テンプレート上にカラーフィルタを固着させた後、上下定盤を偏心させて水平回転と左右往復運動させながら、研磨剤の溶液を滴下したバフ研磨する研磨プロセスと、研磨剤サックバック機構を用いた状態に研磨剤供給用ホース先端の開口部を保持し、純水リンス液を噴射して洗浄する純水リンスプロセスとを有し、
純水リンスプロセスの処理時は研磨剤供給用ホース先端の開口部から８．５ｍｍ以上まで研磨剤供給タンク側へ研磨剤の液面を吸引したサックバック機構に保持することを特徴とするカラーフィルタ研磨方法である。

本発明の請求項５に係る発明は、感光性着色樹脂を塗布した後に所定のパターン露光、現像を行ない基板上に着色画素を形成した後に着色画素の研磨を行なうカラーフィルタの製造方法において、
前記請求項１乃至３のいずれか１項記載の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。

本発明の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置によれば、先端の開口部６ａから研磨剤の溶液が研磨剤供給用ホース内部に吸引され、研磨剤が先端部に残留することがなく、先端の開口部に付着することが防止され、カラーフィルタに不要な研磨剤が落下する問題を解消できる効果がある。

本発明の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置及びカラーフィルタ研磨方法を一実施形態に基づいて以下説明する。

図１は、本発明のカラーフィルタの研磨装置の部分側面図で、（ａ）は、研磨プロセスの状態図であり、（ｂ）は、研磨プロセスと純水リンスプロセスの変更時の状態であり、（ｃ）は、純水リンスプロセスの状態図である。なお、研磨及びリンス時カラーフィルタ１０と上定盤３とは近接させるが、説明の都合上、図では両者は離している。

図１では、本発明の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置を用いたカラーフィルタ研磨方法を説明する図である。本発明のカラーフィルタ研磨方法は、研磨プロセスと純水リンスプロセスを実行する研磨方法である。

図１（ａ）のカラーフィルタ研磨方法は、テンプレート４上にカラーフィルタ１０を固
着させた後、上下定盤３、２を偏心させて水平回転と左右往復運動させながら、研磨剤の溶液を滴下したバフ研磨する研磨プロセスを実行する。研磨剤の供給では、ローラーポンプ方式の供給ポンプ８を介しており、先端開口部６方向にホースをしごく方向に複数のローラ９を正回転１９ａさせながら、先端開口部６からカラーフィルタ１０へ研磨剤を滴下する。ローラの正回転１９ａにより円型台１８上のホース５が押圧されしごかれることで、研磨剤は先端開口部方向に押し出されて滴下する。滴下する研磨剤量はローラの回転速度に比例すらためその速度設定が重要となる。

図１（ｂ）では、研磨剤の滴下を中断し、研磨剤サックバック機構を用いた状態である。上下定盤３、２を水平回転と左右往復運動させながら、次のリンス液供給部７を用いた純水リンス液の供給を準備する。研磨剤の供給では、先端開口部６方向とは逆にホースをしごく方向にローラ９を逆回転１９ｂさせながら、先端開口部６から研磨剤を吸引する、すなわちサックバックする。ローラの正回転１９ａは逆回転１９ｂに切り替わり、円型台１８上のホース５が押圧され研磨剤供給タンク方向に押し戻される。研磨剤サックバック機構を用いた状態では、先端開口部は空洞となり研磨剤の液面は後退する。なお、ローラの逆回転１９ｂは短時間の駆動であり、所定の吸引する量に左右される。

図１（ｃ）では、研磨剤供給用ホース先端の開口部を保持し、純水リンス液を噴射して洗浄する純水リンスプロセスを処理する状態である。本発明では純水リンスプロセスの処理時は研磨剤供給用ホース先端の開口部から８．５ｍｍ以上研磨剤供給タンク側へ研磨剤の液面を吸引したサックバック機構に保持する研磨方法も有する。

図２は、本発明のカラーフィルタ用研磨装置の概要を説明する概念図で、（ａ）は、研磨装置の側断面図であり、（ｂ）は、研磨プロセスのフロー図である。

本発明の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置は、水平方向の回転駆動機構を備えた下定盤２、その表面にテンプレート４と、テンプレート４の上方で向き合う位置に水平方向の回転駆動及び左右方向の往復機構を備えた上定盤３と、テンプレートの上方の近傍にリンス液供給部と研磨剤の溶液を供給するホースの先端開口部とを備えた装置である。テンプレート４の上方には、先端開口部６および研磨剤供給用ホース５と研磨剤供給ポンプ５ａが付設されている。研磨剤供給用ホース５の途中に供給ポンプ８が配置され、供給ポンプのローラを一方向に正回転させて、研磨剤供給タンク５ａから研磨剤の溶液を研磨剤供給用ホース５の先端開口部６から滴下する滴下機構を備えたカラーフィルタ研磨装置ある。供給ポンプのローラ９は、逆回転の機構を備えており、ローラの正回転、又は逆回転、若しくは停止と自在に駆動する機能がある。同様に、研磨剤の溶液を研磨剤供給用ホースの先端開口部６より供給する、又はサックバック機構による内側へ吸引する、若しくは停止することを特徴とする。

前記サックバック機構は、滴下機構に追加した機構であって、研磨剤供給ポンプのローラの回転方法を研磨剤供給時の逆方向に、すなわち逆回転することで研磨剤供給用ホース内の研磨剤の溶液を研磨剤供給タンク側へ吸引する研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置である。

図２（ｂ）の本発明の研磨プロセスであり、ａは、画素面を上にしてカラーフィルタ１０をテンプレート４上に固着する。カラーフィルタはブラックマトリックスを形成した基板上に所定の感光性着色樹脂を塗布した後に、所定のパターン露光、現像を行ない、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）画素が形成されている。

ｂは、上定盤３を画素面へ下降する。

ｃは、カラーフィルタ上１０へ研磨剤を滴下させながら上定盤及び下定盤を回転、往復運動させ画素面を研磨する。

ｄは、設定した研磨時間に達したら研磨剤の滴下を停止し、研磨剤サックバックを実行する。

ｅは、研磨剤サックバックのまま、カラーフィルタ上に純水のリンス液を供給させながら上定盤及び下定盤を回転、往復運動させカラーフィルタの研磨剤を除去し、洗浄する。

ｆは、設定した純水リンス時間に達したら上定盤及び下定盤を回転、往復運動を停止する。

ｇは、上定盤３を画素面へ上昇する。

ｈは、研磨したカラーフィルタ１０をテンプレート４から取り外して、洗浄プロセスに投入する。

図３は、本発明のカラーフィルタ研磨装置での研磨剤の供給機構の概要図を説明する側断面図である。

図３に示すように、本発明のサックバック機構による吸引する量２０は、研磨剤供給用ホース先端の開口部から所定距離、例えば図上Ｄ以上研磨剤供給タンク側へ研磨剤の溶液を吸引することを特徴とする。先端の開口部６ａから研磨剤の溶液が研磨剤供給用ホース内部に吸引され、研磨剤が先端部に残留することがなく、先端の開口部に研磨剤が付着することが防止される。このため、カラーフィルタは、純水リンスプロセス以降での研磨剤が落下する問題を解消でき、残渣のないクリーンなカラーフィルタが提供できる。なお、参考図は、従来の先端開口部６の部分拡大図であり、研磨剤の滴下を停止した時の状態である。

次いで、本発明の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置を用いたカラーフィルタ研磨方法の実施例を実行した。以下に実施例を説明する。

実施例１では、同一品種のカラーフィルタを１００枚準備し、本発明の研磨処理を実施した。研磨時間は、６０ｓｅｃ、リンス時間は、６０ｓｅｃで設定した。研磨剤供給用ホースの内径は、２．５ｍｍ、研磨剤の供給量は、０．１６７ｍｌ／ｓｅｃに設定した。サックバックの条件は、０〜３ｓｅｃの間の６水準であり、０、１．０、１．５、２．０、２．５、３．０に条件変更した。評価方法は、暗室内で資料のカラーフィルタをプロジェクタ反射による視認により、残渣の数量を実測した。同時に研磨剤供給ホースの先端開口部での引き込み量（Ｄ）を実測した。評価結果は下記の表１に示す。

なお、Ｄは、先端開口部から引き込まれた研磨剤の液面までの距離である。

評価結果では、引き込み量は、純水リンスプロセスの処理時は研磨剤供給用ホース先端の開口部から８．５ｍｍ以上研磨剤供給タンク側へ研磨剤の液面を吸引したサックバック機構に保持することにより、残渣の発見が完全に押さえ込まれたことを示している。

本発明のカラーフィルタの研磨装置の部分側面図で、（ａ）は、研磨プロセスの状態図であり、（ｂ）は、研磨プロセスと純水リンスプロセスの変更時の状態であり、（ｃ）は、純水リンスプロセスである。 本発明のカラーフィルタ用研磨装置の概要を説明する概念図で、（ａ）は、研磨装置の側断面図であり、（ｂ）は、研磨プロセスのフロー図である。 本発明のカラーフィルタ研磨装置での研磨剤の供給機構の概要図を説明する側断面図である。 従来のカラーフィルタ用研磨装置の概要を説明する概念図で、（ａ）は、研磨装置の側断面図であり、（ｂ）は、研磨プロセスのフロー図である。 従来のカラーフィルタの研磨装置の部分側面図で、（ａ）は、研磨プロセスの状態図であり、（ｂ）は、純水リンスプロセスである。

符号の説明

１…カラーフィルタ研磨装置
２…下定盤
３…上定盤
４…テンプレート
５…研磨剤供給用ホース
５ａ…研磨剤供給タンク
６…先端開口部
７…リンス液供給部
８…供給ポンプ
９…（供給ポンプの）ローラ
１０…カラーフィルタ
１８…円型台
１９ａ…正回転
１９ｂ…逆回転
１９ｃ…停止
２０…サックバック機構による吸引量

Claims (5)

1. 水平方向の回転駆動機構を備えた下定盤、その表面にテンプレートと、テンプレートの上方で向き合う位置に水平方向の回転駆動及び左右方向の往復機構を備えた上定盤と、テンプレートの上方の近傍にリンス液供給部および研磨剤の溶液を供給するホースの先端開口部と、供給ポンプのローラを一方向に回転させて、研磨剤供給タンクから研磨剤の溶液を研磨剤供給用ホースの先端開口部から滴下する滴下機構とを備えたカラーフィルタ研磨装置であって、
   供給ポンプのローラの回転を停止と同時に、研磨剤の溶液を研磨剤供給用ホースの先端開口部より研磨剤供給タンク側へ吸引するサックバック機構を追加したことを特徴とする研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置。
2. 前記サックバック機構は、滴下機構に追加した機構であって、研磨剤供給ポンプのローラの回転方向を研磨剤供給時と逆方向に回転することで研磨剤供給用ホース内の研磨剤の溶液を研磨剤供給タンク側へ吸引することを特徴とする請求項１記載の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置。
3. 前記サックバック機構による吸引する量は、研磨剤供給用ホース先端の開口部から８．５ｍｍ以上まで研磨剤供給タンク側へ研磨剤の溶液を吸引することを特徴とする請求項１、又は２記載の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置。
4. 前記請求項１乃至３のいずれか１項記載の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置を用いたカラーフィルタ研磨方法であって、
   カラーフィルタ研磨方法は、テンプレート上にカラーフィルタを固着させた後、上下定盤を偏心させて水平回転と左右往復運動させながら、研磨剤の溶液を滴下したバフ研磨する研磨プロセスと、研磨剤サックバック機構を用いた状態に研磨剤供給用ホース先端の開口部を保持し、純水リンス液を噴射して洗浄する純水リンスプロセスとを有し、
   純水リンスプロセスの処理時は研磨剤供給用ホース先端の開口部から８．５ｍｍ以上まで研磨剤供給タンク側へ研磨剤の液面を吸引したサックバック機構に保持することを特徴とするカラーフィルタ研磨方法。
5. 感光性着色樹脂を塗布した後に所定のパターン露光、現像を行ない、基板上に着色画素を形成した後に着色画素の研磨を行なうカラーフィルタの製造方法において、
   前記請求項１乃至３のいずれか１項記載の研磨剤サックバック機構を有するカラーフィルタ研磨装置を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。