CN101632138B - 透明导电膜形成用组合物、透明导电膜和显示器 - Google Patents

透明导电膜形成用组合物、透明导电膜和显示器 Download PDF

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Abstract

本发明提供了组合物，其特征在于包含粘合剂组分和均分散在该粘合剂组分中的导电性粉末和高折射率粉末，其中，所述导电性粉末包含0.1-30质量％的氧化锡粉末和70-99.9质量％的其它导电性粉末。所述组合物可形成具有优异抗刮性、优异抗静电性、极高可见光透射率和可控折射率的透明导电膜。本发明还提供了透明导电膜。以及在显示器表面上具有所述透明导电膜的显示器。

Description

透明导电膜形成用组合物、透明导电膜和显示器
技术领域
本发明涉及透明导电膜形成用组合物，涉及透明导电膜和在其显示屏上具有透明导电膜的显示器。更具体地，本发明涉及可形成透明导电膜的组合物，其通过经涂覆或印刷将所述组合物施加到各种透明基材的表面上，特别是LCD、等离子体显示器等的显示屏上，然后再固化所施加的组合物来形成透明导电膜；涉及透明导电膜；还涉及在其显示屏上具有透明导电膜的显示器。所形成的透明导电膜表现出极其优异的抗刮性和优异的抗静电效果并具有非常高的可见光透射率。
背景技术
通常，图像显示装置和光学仪器，例如液晶显示器和阴极射线管显示器，被提供有防反射膜。该防反射膜不仅必须具有高透明性和低反射率，还必须具有抗刮性和防止异物(例如灰尘)在膜上沉积的功能。因此，防反射膜中的高折射率层要求高透明性、高折射率、优异的抗刮性和优异的抗静电性能。
为防反射膜的高折射率层赋予抗静电性的一种可能的手段是将表面活性剂、导电性聚合物或导电性金属氧化物添加至该高折射率层。从获得所形成膜的长期抗静电效果和高折射率的观点考虑，在通常所采用的技术中使用导电性金属氧化物微粒。通常，在防反射膜的高折射率层的制备中，使用含有一种或多种高折射率的金属氧化物微粒和粘合剂的涂层材料(比如，参见专利文件1，2和3)。
[专利文件1]日本专利特开平11-181335号公报
[专利文件2]日本专利特开2006-124406号公报
[专利文件3]日本专利特开2006-188588号公报
发明内容
本发明解决的问题
然而，当增加防反射膜的高折射率层的金属氧化物微粒量，以增大高折射率层的折射率时，树脂含量随金属氧化物微粒量的增加而降低。结果，高折射率层的抗刮性，即防反射膜的抗刮性降低。与之相反，当减少该高折射率层中金属氧化物微粒的量时，防反射膜的高折射率层的导电性和折射率降低。因此，在具有令人满意特性，包括抗刮性、高透明性、高折射率和抗静电性的透明导电膜的生产中遇到了困难。
本发明已成功地解决了上述难题，且本发明的目的在于提供可形成透明导电膜的组合物，所述膜表现出极其优异的抗刮性和优异的抗静电效果并具有非常高的可见光透射率，而且它可赋予所述膜理想的折射率。本发明的另一目的在于提供这类透明导电膜。本发明的又一目的在于提供在其显示屏上具有这类透明导电膜的显示器。
解决问题的手段
发明人进行了深入研究以实现上述目的，发现了可形成透明导电膜的组合物，该膜表现出极其优异的抗刮性和优异的抗静电效果并具有非常高的可见光透射率，而且它可为透明导电膜形成用组合物形成的膜赋予期望的折射率，所述透明导电膜形成用组合物包括粘合剂组分和分散于该粘合剂组分中的导电性粉末和高折射率粉末，其中所述导电性粉末由特定量的氢氧化锡粉末和非氢氧化锡粉末的导电性粉末构成。本发明基于这些发现得以完成。
因此，本发明提供透明导电膜形成用组合物，其特征在于包含粘合剂组分和分散在该粘合剂组分中的导电性粉末和高折射率粉末，其中，所述导电性粉末由0.1-30质量％的氧化锡粉末和70-99.9质量％的非氢氧化锡粉末的导电性粉末构成。
本发明还提供了透明导电膜，其特征在于，经涂覆或印刷来施加透明导电膜形成用组合物，并固化所施加的组合物来制备所述膜。
本发明还提供了显示器，其特征在于，在其显示屏上具有由透明导电膜形成用组合物制备的透明导电膜。
发明效果
本发明的透明导电膜形成用组合物可通过经涂覆或印刷以涂料或油墨的形式将所述组合物施加到基材的表面上，然后再固化所施加的组合物来提供透明导电膜。所形成的透明导电膜表现出极其优异的抗刮性和优异的抗静电效果，并具有非常高的可见光透射率，并且可根据期望控制该膜的折射率。因此，该组合物可应用于具有低耐热性的树脂基材和具有各种形状的基材，并且透明导电膜可连续地大量生产。自不必说可容易地生产具有大面积的这种透明膜。通过调节掺入至组合物中的高折射率粉末的相对量，可以根据期望控制膜的折射率。此外，通过改变膜形成的条件，可以生产具有优异透明性、导电性和抗刮性的透明导电膜，例如：106-1011Ω/平方(square)的表面电阻率，更优选107-1010Ω/平方，优选85％或更高的光透射率，优选1.5％或更低的浊度和1.55-1.90的折射率。因此，本发明的透明导电膜形成用组合物可以用于各种领域，其包括液晶显示器的透明电极、太阳能电池的窗口材料(windowmaterial)、或红外线反射膜、抗静电膜、接触面板(touch panels)、平面状加热器和电子照相记录器等，并且在上述领域中表现出优异的性能。
实施本发明的最佳模式
在本发明的透明导电膜形成用组合物中，氢氧化锡粉末和高折射率粉末分散在粘合剂组分中，其中所述导电性粉末由0.1-30质量％的氢氧化锡粉末和70-99.9质量％的非氢氧化锡粉末的导电性粉末构成。本发明所采用的氢氧化锡粉末可以是氢氧化锡自身的粉末或含有选自P、Al、In、Zn和Sb的至少一种作为掺杂剂的氢氧化锡的粉末。这类氢氧化锡粉末可单独或两种以上种类(species)组合使用。
在本发明中可使用的氢氧化锡粉末可以是其市售品或通过已知方法来制备(例如，用碱中和溶解有氯化锡的酸性溶液，从而使氢氧化物共沉淀，再干燥该共沉淀)。
本发明中可使用的，含有选自P、Al、In、Zn和Sb的至少一种作为掺杂剂的氢氧化锡粉末可市售获得。可选地，可通过已知的技术生产掺杂氢氧化锡粉末：例如，用碱中和溶解有氯化磷和氯化锡的酸性溶液，从而使氢氧化磷/锡共沉淀，再干燥该共沉淀。该氢氧化锡粉末中含有选自P、Al、In、Zn和Sb的至少一种作为掺杂剂，掺杂剂的量相对于(掺杂剂+Sn)优选为0.1-20at％，更优选为1-15at％。当该掺杂剂的量低于0.1at％时，则掺杂剂的效果不充分，而当该掺杂剂的量超出20at％时，则含有掺杂剂的氢氧化锡颗粒通常具有高电阻，从而降低所形成导电膜的导电性。
根据本发明，氢氧化锡粉末通过与非氢氧化锡导电性粉末和高折射率粉末的协同作用，增强了膜强度以提高抗刮性而未降低所形成膜的导电性。在本发明中，氢氧化锡粉末在导电性粉末中的相对量优选为0.1-30质量％，更优选为1-20质量％。当氢氧化锡粉末在导电性粉末中的相对量低于0.1质量％时，则所形成膜具有不能令人满意的抗刮性，而当氢氧化锡粉末的相对量超过30质量％时，所形成膜表现出增强的透射率，但由于氢氧化锡过量而使得抗刮性降低。
在本发明中，非氢氧化锡粉末的导电性粉末可由氧化锌、氧化锡、ATO、ITO、氧化铟、氧化锌铝、五氧化锑和锑酸锌构成。这类非氢氧化锡粉末的导电性粉末可单独或两种以上种类组合使用。
在本发明中，将高折射率粉末掺入至所述组合物中以控制所形成透明导电膜的折射率。因而，所用高折射率粉末优选具有1.8-3.0的折射率。应注意的是，粉末折射率是粉末的固有值，这些折射率数值记载于许多文献中。当使用具有低于1.8的折射率的粉末时，不能形成具有高折射率的膜，而当使用具有超过3.0的折射率的粉末时，所形成膜的透明性容易降低。对于本发明高折射率粉末的种类没有特别限定，只要可以实现本发明的目标即可，并且可以使用已知的产品，包括市售品。这类粉末的实例包括金属氧化物，例如氧化锆(折射率n＝2.4)，氧化钛(n＝2.76)和氧化铈(n＝2.2)。
当氢氧化锡粉末，含有选自P、Al、In、Zn和Sb的至少一种作为掺杂剂的氢氧化锡粉末，非氢氧化锡粉末的导电性粉末和高折射率粉末均具有0.2μm或更低的平均原生粒径时，可以生产透明导电膜。然而，当该平均原生粒径高于0.2μm时，则所形成膜的透明性容易降低。因此，氢氧化锡粉末优选由具有0.2μm或更低平均原生粒径的超微粒构成。当所生产的透明膜的透明性对于膜用途而言并不是重要因素时，也可使用具有大于0.2μm的粒径的氢氧化锡粉末。该导电性粉末的压实体(compact)优选具有1×109Ω·cm或更小的电阻。
在本发明的透明导电膜形成用组合物中，所使用的导电性粉末比高折射率粉末的质量比(导电性粉末/高折射率粉末)优选为30/70-90/10，更优选为35/65-85/15。当导电性粉末的量按上述质量比小于30/70时，所形成膜通常具有高折射率，但导电性变差。与之相反，当导电性粉末按上述质量比多于90/10时，则所形成膜具有良好的导电性，但通常不会具有目标折射率。
在本发明的透明导电膜形成用组合物中，(导电性粉末+高折射率粉末)比粘合剂组分的质量比[(导电性粉末+高折射率粉末)/粘合剂组分]优选为5/95-95/5，更优选为20/80-90/10，最优选为30/70-85/15。当导电性粉末和高折射率粉末的总量按上述质量比小于5/95时，所形成膜通常具有充分的透明性，但导电性变差。与之相反，当导电性粉末和高折射率粉末的总量按上述质量比超过95/5时，则损害粉末的分散性，且所形成的导电膜通常具有较差的透明性、对基材的粘合力和膜特性。
在本发明的透明导电膜形成用组合物中，对粘合剂组分没有特别限定，只要该粘合剂组分可分散于所使用的溶剂中，可以分散导电性粉末和高折射率粉末，并且可以粘合导电性粉末和高折射率粉末以形成透明导电膜。可使用通常在涂料原料中使用的任何粘合剂组分。在本发明中，粘合剂组分优选可光化辐射固化的粘合剂组分。
粘合剂的实例包括醇酸树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、乙烯基树脂、硅树脂、氟树脂、邻苯二甲酸酯树脂、氨基树脂、聚酰胺树脂、聚丙烯酸-硅树脂、三聚氰胺树脂、脲醛树脂和它们的改性种类。这些粘合剂树脂可单独或两种以上种类组合使用。
如果需要，粘合剂组分可进一步含有交联剂。可使用在其分子中具有2个或更多的反应性官能基团，例如碱性官能基团(例如：氨基)，中性官能基团(例如：OH基团)，酸性官能基团(例如：羧基)，或异氰酸酯基团的任意交联剂。
粘合剂组分可以是可自由基聚合的单体。只要该单体具有可自由基聚合的不饱和基团(α，β-烯不饱和基团)，则可以使用具有碱性官能基团(例如：氨基)，中性官能基团(例如：OH基团)，酸性官能基团(例如：羧基)或不含这些官能基团的任何单体。
可在本发明的透明导电膜形成用组合物中使用的可光化辐射固化的粘合剂组分包括丙烯酸酯化合物和甲基丙烯酸酯化合物。后面，丙烯酸酯化合物和甲基丙烯酸酯化合物统称为(甲基)丙烯酸酯化合物。
除了以上提及的(甲基)丙烯酸酯化合物外，可在本发明的透明导电膜形成用组合物中使用的可光化辐射固化的粘合剂组分的实例进一步包括可自由基聚合的单体和/或寡聚物。对可自由基聚合的单体没有特别的限定，可使用任何这类单体只要该单体均具有可自由基聚合的不饱和基团(α，β-烯不饱和基团)。这类单体的实例包括均具有碱性基团例如氨基的单体，均具有中性基团例如OH基团的单体，均具有酸性基团例如羧基的单体，以及均不含这些官能基团的单体。
可自由基聚合的单体的具体例包括：非(甲基)丙烯酸酯可自由基聚合的单体例如：苯乙烯、乙烯基甲苯、乙酸乙烯酯、N-乙烯吡咯烷酮、丙烯腈和烯丙醇；单官能团(甲基)丙烯酸酯例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、N-乙烯吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、单(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、单(甲基)丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、单(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、单(甲基)丙烯酸聚乙二醇聚丙二醇酯、单(甲基)丙烯酸聚乙二醇聚四亚甲基二醇酯和(甲基)丙烯酸缩水甘油酯；双官能团(甲基)丙烯酸酯例如：二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二甘醇酯、二(甲基)丙烯酸三甘醇酯、二(甲基)丙烯酸四甘醇酯、二(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸烯丙酯、二(甲基)丙烯酸双酚A酯、二(甲基)丙烯酸氧化乙烯-改性双酚A酯、二(甲基)丙烯酸聚氧化乙烯-改性双酚A酯、二(甲基)丙烯酸氧化乙烯-改性双酚S酯、二(甲基)丙烯酸双酚S酯、二(甲基)丙烯酸1，4-丁二醇酯和二(甲基)丙烯酸1，3-丁二醇酯；和具有3个或更多官能团的(甲基)丙烯酸酯例如：三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯、三(甲基)丙烯酸甘油酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯和六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯。
可自由基聚合的寡聚物的具体实例包括均具有至少一个(甲基)丙烯酰基团的预聚物例如：聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、环氧基(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、低聚(甲基)丙烯酸酯、醇酸(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯和硅酮(甲基)丙烯酸酯。它们之中，特别优选聚酯(甲基)丙烯酸酯、环氧基(甲基)丙烯酸酯和聚氨酯(甲基)丙烯酸酯。
为了对本发明的透明导电膜形成用组合物赋予有利的可光化辐射固化性，优选将聚合引发剂(光敏剂)掺入至该组合物中。通过该引发剂的掺入，可使用少量的光化辐射来固化组合物。然而，因为本发明的透明导电膜形成用组合物也可通过加热来固化，因此，也可将适当的自由基聚合引发剂(例如：偶氮双异丁腈)代替光敏剂掺入至该组合物中作为热固化剂。
允许树脂聚合物成为可光化辐射固化的聚合引发剂的实例包括：1-羟基环己基苯基酮、二苯甲酮、苄基二甲基酮、安息香甲基醚、安息香乙醚、对氯二苯甲酮、4-苯甲酰-4-甲基二苯基硫化物、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮-1和2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉基丙酮-1。这些聚合引发剂可单独或两种以上种类组合使用。相对于100质量份粘合剂组分，聚合引发剂优选以0.1-20质量份的量使用，更优选为1-15质量份。
只要不损害本发明的目的，可向本发明的透明导电膜形成用组合物中掺入其它常规使用的添加剂。这类添加剂的实例包括聚合抑制剂、固化催化剂、抗氧化剂和均化剂。
在本发明的透明导电膜形成用组合物中，对溶剂没有特别限定，只要溶剂可溶解或分散粘合剂组分，可分散期望的导电性粉末和高折射率粉末，并且不腐蚀基材即可。可使用在涂料中通常所使用的任何溶剂。可在本发明中使用的溶剂的实例包括：烃例如己烷、庚烷、环己烷、甲苯和间二甲苯；卤代烃例如四氯甲烷和三氯乙烯；酮例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、异佛尔酮和环己酮；醚例如二乙基醚、二
Figure GSB00000669125400071
烷和四氢呋喃；酯例如乙酸乙酯、乙酸丁酯和乙酸异戊酯；醇例如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、2-丁醇、正戊醇、2-乙基己醇、环己醇、双丙酮醇、乙二醇、丙二醇、二甘醇和甘油；醚/醇和醚/酯例如乙二醇单乙基醚、乙二醇单丁基醚、乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚、丙二醇单丙基醚乙酸酯；和它们的混合物。调节溶剂的量以便通过分散期望的组分：导电性粉末、高折射率粉末和确保光透过的微粒而制备的组合物(终产物)具有适于涂覆和印刷的粘度。本发明的导电膜形成用组合物优选具有2-10,000cps(E型粘度计：20℃)的粘度。
可通过例如将导电性粉末和高折射率粉末分散在已任选地用有机溶剂稀释的粘合剂组分中，来制备本发明的导电膜形成用组合物。可选地，可通过将导电性粉末和高折射率粉末分散在有机溶剂中，并向该分散体添加粘合剂组分来制备该组合物。自不必说，该组合物也可通过在单一操作中一起混合物粘合剂组分，期望的组分的导电性粉末、高折射率粉末和确保光透过的微粒，和有机溶剂，从而形成分散体来制备。可通过常规方法借助于涂料摇摆器、球磨机、砂磨机、离心式磨机(centri-mill)、三辊磨机或类似装置来进行该分散工艺。自不必说，可以通过常用的搅拌工艺来进行分散。
将本发明的透明导电膜形成用组合物施加到其上以形成透明导电膜的基材材料的实例包括广泛应用于包括电气和电子的各领域中的合成树脂、玻璃材料和陶瓷材料。基材可具有任意形状，例如片状(sheet)、膜或板状(plate)。合成树脂的非限制性实例包括聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚氯乙烯、聚酯树脂、聚酰胺树脂和酚醛树脂。
可通过下述常规方法进行将本发明的透明导电膜形成用组合物施加(涂覆或印刷)到基材之上：例如辊涂、旋涂或筛涂(screen coating)。随后，当粘合剂组分不是可光化辐射固化的时候，可根据需要，加热施加的组合物以蒸发溶剂，从而干燥并固化涂膜。如果需要，当粘合剂组分是可光化辐射固化的时候，加热施加的组合物以蒸发溶剂，并干燥涂膜。随后，使用光化辐射(UV射线或电子束)照射该涂膜。可在本发明中使用的光化辐射源的实例包括UV源，例如低压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯、氙灯、准分子激光器和染料激光器以及电子束加速器。光化辐射的剂量，在UV射线的情形中优选为50-3,000mJ/cm2，在电子束的情形中优选为0.2-1,000μC/cm2。通过光化辐射的作用，粘合剂组分被聚合，从而形成透明导电膜，其中通过树脂粘合导电性粉末和高折射率粉末。优选该透明导电膜具有0.1-10μm的厚度。
由本发明的透明导电膜形成用组合物在基材上形成的本发明的透明导电膜，具有优异的透明性、导电性和抗刮性，例如优选为106-1011Ω/平方的表面电阻率，更优选为107-1010Ω/平方，优选为85％或更高的光透射率，和1.5％或更低的浊度。此外，可控制该透明导电膜的折射率。具有这些性质的透明导电膜可用于，例如用于电子照相记录器的防尘膜或抗静电膜。该膜也可用在显示器显示屏上。
以下，本发明将通过实施例和比较例进行详细说明。除非特别说明，实施例和比较例中的单位“份”均为“质量份”。实施例和比较例中使用了下述物质。
<氢氧化锡粉末>
该氢氧化锡粉末具有0.05μm的平均原生粒径和1×107Ω·cm的电阻率；
含有磷作为掺杂剂的P-掺杂Sn(OH)4粉末，具有5.0at％的P/(Sn+P)，并且由具有0.05μm平均原生粒径和5×107Ω·cm的电阻率的颗粒构成；
<非氢氧化锡粉末的导电性粉末>
ATO，其具有0.06μm平均原生粒径和10Ω·cm的电阻率；
SnO2，其具有0.06μm平均原生粒径和300Ω·cm的电阻率；
<高折射率粉末>
ZnO2，其具有2.4的折射率；
TiO2，其具有2.76的折射率；
<粘合剂组分>
KAYARAD TMPTA(三丙烯酸三羟甲基丙酯，Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)
KAYARAD DPHA(六丙烯酸二季戊四醇酯，Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)
<引发剂>
IRGACURE 907(2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉基丙-1-酮，Ciba Specialty Chemicals K.K.)。
实施例1
将由TMPTA(20份)和DPHA(10份)构成的粘合剂组分，ATO粉末(37.8份)，氢氧化锡粉末(4.2份)，氧化锆粉末(28份)，异丁醇(150份)和玻璃珠(250份)置于容器中，并借助涂料摇摆器捏合5小时，其中利用粒度计(particle gauge)监测分散状态。捏合后，向捏合产物添加IRGACURE 907(3份)，将该混合物完全溶解。除去玻璃珠，从而获得粘性液体。随后，借助辊式涂布器将该粘性液体施加到PET膜(厚度：100μm，Toyobo A4100)上，并蒸发有机溶剂。用来自高压汞灯UV射线，以500mJ/cm2的剂量对所形成的涂层照射，由此形成了具有5μm厚度的透明固化涂膜。
实施例2
将由TMPTA(30份)构成的粘合剂组分，含有磷作为掺杂剂的氢氧化锡粉末(70份)，异丁醇(150份)和玻璃珠(250份)置于容器中，并借助涂料摇摆器捏合5小时，其中利用粒度计(particle gauge)监测分散状态。捏合后，向捏合产物添加IRGACURE 907(3份)，将该混合物完全溶解。除去玻璃珠，从而获得粘性液体(组合物A)。分别地，重复组合物A的制备程序，但使用ATO粉末(70份)代替氢氧化锡粉末(70份)，从而获得另一种粘性液体(组合物B)。再次重复组合物A的制备程序，但使用氧化锆粉末(70份)代替氢氧化锡粉末(70份)，从而获得另一种粘性液体(组合物C)。将这样制备的组合物A(54份)、组合物B(6份)和组合物C(40份)充分混合，以制备涂层液体。随后，以和实施例1相同的方式，形成了具有5μm厚度的透明固化涂膜。
实施例3
重复实施例2的程序，但使用TMPTA(20份)和DPHA(10份)代替TMPTA(30份)，使用不含掺杂剂的氢氧化锡粉末(70份)代替含磷作为掺杂剂的氢氧化锡粉末(70份)，从而获得组合物A。再重复实施例2的程序，但使用SnO2粉末(70份)代替ATO粉末(70份)，从而获得组合物B。再重复实施例2的程序，但使用氧化钛(70份)代替氧化锆(70份)，从而获得组合物C。将这样制备的组合物A(67.5份)、组合物B(7.5份)和组合物C(25份)充分混合，以制备涂层液体。随后，以和实施例1相同的方式，形成了具有5μm厚度的透明固化涂膜。
比较例1
将由DPHA(20份)和TMPTA(10份)构成的粘合剂组分，氢氧化锡粉末(35份)，氧化锆粉末(35份)，异丁醇(溶剂)(150份)和玻璃珠(250份)置于容器中，并借助涂料摇摆器捏合5小时，其中利用粒度计(particle gauge)监测分散状态。捏合后，向捏合产物添加IRGACURE 907(3份)，将该混合物完全溶解。除去玻璃珠，从而获得粘性液体。随后，借助辊式涂布器将该粘性液体施加到PET膜(厚度：100μm，Toyobo A4100)上，并蒸发有机溶剂。用来自高压汞灯UV射线，以500mJ/cm2的剂量对所形成的涂层照射，由此形成了具有5μm厚度的透明固化涂膜。
比较例2
重复比较例1的程序，但使用ATO(35份)代替氢氧化锡(35份)，由此形成具有5μm厚度的透明固化涂膜。
实施例1-3和比较例1和2中制备的透明固化涂膜的总光透射率(％)和浊度(％)通过TC-HIII DPK(Tokyo Denshoku Technical Center制造)来测定。这些值是在各膜叠层在基材上时测定的。各膜的表面电阻率(Ω/平方)通过表面电阻率仪(Hiresta IP MCP-HT260，MitsubishiChemical Corporation的产品)。抗刮性按下述基准肉眼评测。通过Abbe折射率仪DR-M4(Atago制造)(20℃)，测定实施例和比较例中制备的各种固化涂膜的折射率。结果示于表1中。
<抗刮性评测等级>
将各透明固化涂膜样品的表面在200g负荷下使用钢丝棉(steelwool)(#0000)往复刮擦20次。同样地，将样品的表面在1,000g负荷下使用钢丝棉(#0000)往复刮擦20次。刮擦后的表面状态按下述等级目视评测：
○：无擦伤；
△：轻微擦伤；和
×：擦伤。
Figure GSB00000669125400121
由表1可知，当本发明的透明导电膜形成用组合物，即含有氢氧化锡粉末、非氢氧化锡粉末的导电性粉末和高折射率粉末的组合物施加到基材上时(实施例1-3)，产生了透明导电膜，其具有极其优异的抗刮性和优异的透明性和导电性，例如：106-1011Ω/平方的表面电阻率，85％或更高的光透射率和1.5％或更低的浊度和1.55-1.90的折射率，并且可以控制该膜的折射率。然而，当导电性粉末由氢氧化锡粉末(比较例1)单独或ATO粉末(比较例2)单独构成时，所形成的透明膜表现出出抗刮性不足。

Claims (15)

1.透明导电膜形成用组合物，其特征在于，包含粘合剂组分和分散在该粘合剂组分中的导电性粉末和高折射率粉末，其中，所述导电性粉末由0.1-30质量％的氢氧化锡粉末和70-99.9质量％的由选自氧化锌、氧化锡、ATO、ITO、氧化铟、氧化锌铝、五氧化锑和锑酸锌的至少一种构成的非氢氧化锡粉末的导电性粉末构成。
2.权利要求1所述的透明导电膜形成用组合物，其中，所述氢氧化锡粉末含有选自P、Al、In、Zn和Sb的至少一种作为掺杂剂。
3.权利要求2所述的透明导电膜形成用组合物，其中，相对于掺杂剂和Sn的总量，选自P、Al、In、Zn和Sb的至少一种的掺杂剂的量为0.1-20at％。
4.权利要求1、2或3所述的透明导电膜形成用组合物其中，所述高折射率粉末由选自氧化锆、氧化钛和氧化铈的至少一种构成。
5.权利要求1、2或3所述的透明导电膜形成用组合物，其中，导电性粉末/高折射率粉末的质量比为30/70-90/10。
6.权利要求4所述的透明导电膜形成用组合物，其中，导电性粉末/高折射率粉末的质量比为30/70-90/10。
7.权利要求1、2或3所述的透明导电膜形成用组合物，其中，(导电性粉末+高折射率粉末)/粘合剂组分的质量比为5/95-95/5。
8.权利要求6所述的透明导电膜形成用组合物，其中，(导电性粉末+高折射率粉末)/粘合剂组分的质量比为5/95-95/5。
9.透明导电膜，其特征在于，经涂覆或印刷以施加权利要求1、2或3所述的透明导电膜形成用组合物，并固化所施加组合物以制备所述膜。
10.透明导电膜，其特征在于，经涂覆或印刷以施加权利要求8所述的透明导电膜形成用组合物，并固化所施加组合物以制备所述膜。
11.权利要求9所述的透明导电膜，其具有106-1011Ω/平方的表面电阻率，85％或更高的光透射率，1.5％或更低的浊度和1.55-1.90的折射率。
12.权利要求10所述的透明导电膜，其具有106-1011Ω/平方的表面电阻率，85％或更高的光透射率，1.5％或更低的浊度和1.55-1.90的折射率。
13.显示器，其特征在于，在其显示屏上具有权利要求9所述的透明导电膜。
14.显示器，其特征在于，在其显示屏上具有权利要求10所述的透明导电膜。
15.显示器，其特征在于，在其显示屏上具有权利要求12所述的透明导电膜。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5077950B2 (ja) * 2008-03-19 2012-11-21 大日本塗料株式会社 分散液、透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ
JP5443878B2 (ja) * 2009-07-27 2014-03-19 パナソニック株式会社 透明導電膜付き基材
JP5443881B2 (ja) * 2009-07-28 2014-03-19 パナソニック株式会社 透明導電膜付き基材
US20130143035A1 (en) * 2010-08-27 2013-06-06 Nissan Chemical Industries, Ltd. Hydrophobic-organic-solvent dispersion of surface-modified colloidal particles of anhydrous zinc antimonate, coating composition containing the same, and coated member
US9447492B2 (en) * 2011-06-03 2016-09-20 Graham J. Hubbard Conductive anti-reflective films
KR101688173B1 (ko) * 2011-12-26 2016-12-21 코오롱인더스트리 주식회사 플라스틱 기판
WO2013105646A1 (ja) 2012-01-11 2013-07-18 三菱マテリアル株式会社 赤外線カット材、赤外線カット材の分散液、赤外線カット膜形成用組成物、および赤外線カット膜
US10059622B2 (en) 2012-05-07 2018-08-28 Guardian Glass, LLC Anti-reflection glass with tin oxide nanoparticles
JP5949395B2 (ja) * 2012-09-27 2016-07-06 三菱マテリアル株式会社 Ｉｔｏ粉末の製造方法
US10168626B2 (en) 2016-06-17 2019-01-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Apparatus and a method of forming a particle shield

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1487030A (zh) * 2002-09-30 2004-04-07 江门市江磁电工企业有限公司 一种用于电致发光线的透明水性导电涂料及制造方法
CN1594099A (zh) * 2004-07-13 2005-03-16 武汉大学 掺锑氢氧化锡纳米微粉的制备方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW250618B (zh) * 1993-01-27 1995-07-01 Mitsui Toatsu Chemicals
JPH06278244A (ja) * 1993-01-29 1994-10-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 積層体
US5569412A (en) * 1994-08-18 1996-10-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Tin oxide based conductive powders and coatings
JPH09115334A (ja) * 1995-10-23 1997-05-02 Mitsubishi Materiais Corp 透明導電膜および膜形成用組成物
JPH09124363A (ja) * 1995-10-31 1997-05-13 Mitsubishi Materials Corp Ｉｔｏ焼結体の製造方法
US6013983A (en) * 1995-12-28 2000-01-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Transparent colored conductive film
JPH11170442A (ja) * 1997-12-17 1999-06-29 Tomoegawa Paper Co Ltd 透明性赤外線カットオフフィルム
JPH11181335A (ja) 1997-12-18 1999-07-06 Dainippon Toryo Co Ltd 光硬化性導電膜形成用組成物
JP2000106044A (ja) * 1998-09-30 2000-04-11 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルムの表面抵抗低下方法
JP2001210156A (ja) * 1999-11-17 2001-08-03 Toyo Gosei Kogyo Kk 透明導電性酸化スズ膜形成用塗布溶液及び透明導電性酸化スズ膜の製造方法並びに透明導電性酸化スズ膜
WO2002055612A1 (fr) * 2001-01-15 2002-07-18 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Composition de revêtement, film de revêtement en cette composition, revêtement antireflet, film antireflet, afficheur d'image, et produit intermédiaire
JP4815707B2 (ja) 2001-07-04 2011-11-16 Ｊｓｒ株式会社 光硬化性組成物、その硬化物及び積層体
JP4033646B2 (ja) * 2001-07-18 2008-01-16 触媒化成工業株式会社 導電性金属酸化物粒子、導電性金属酸化物粒子の製造方法、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP4242132B2 (ja) * 2002-09-25 2009-03-18 株式会社クリスタルシステム 透明帯電防止板およびその製造方法
JP4433300B2 (ja) * 2005-01-05 2010-03-17 日本化薬株式会社 感光性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有するフィルム
JP5044099B2 (ja) * 2005-02-23 2012-10-10 パナソニック株式会社 反射防止フィルム及びその製造方法
EP2031030A4 (en) * 2006-06-09 2012-06-06 Jemco Inc COMPOSITION FOR FORMING A TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM AND DISPLAY

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1487030A (zh) * 2002-09-30 2004-04-07 江门市江磁电工企业有限公司 一种用于电致发光线的透明水性导电涂料及制造方法
CN1594099A (zh) * 2004-07-13 2005-03-16 武汉大学 掺锑氢氧化锡纳米微粉的制备方法

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