CN101080442B

CN101080442B - 光学用双轴取向聚酯薄膜

Info

Publication number: CN101080442B
Application number: CN2005800435248A
Authority: CN
Inventors: 佐藤嘉记; 古谷健
Original assignee: Mitsubishi Plastics Inc
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp; Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date: 2004-12-20
Filing date: 2005-12-09
Publication date: 2012-03-21
Anticipated expiration: 2025-12-09
Also published as: JP2006169467A; WO2006067978A1; CN101080442A; US20090068401A1; EP1840159A4; KR101254166B1; EP1840159A1; KR20070088658A

Abstract

本发明提供一种光学用双轴取向聚酯薄膜，其由以合计2.0～10.0摩尔％的范围含有第三成分的聚酯构成，该第三成分为主要构成成分以外的构成聚酯的成分，该薄膜的雾度为0～3.0％范围。这样的光学用双轴取向聚酯薄膜，其透明性、低雾度、光学均匀性等光学特性优异，可以有助于光学制品的品质提高和降低能耗，在作为LCD、PDP、有机EL、投影显示器等部件使用时，没有不匀和缺陷，实现高亮度，能够给出高品质的图像。

Description

光学用双轴取向聚酯薄膜

技术领域

本发明涉及光学用双轴取向聚酯薄膜，详细地是在液晶显示器(以下略记为LCD)、等离子体显示器(以下略记为PDP)等中使用的各种光学用部件、和在光学领域制品的制造工序中使用的保护薄膜和脱模薄膜等中可以使用的聚酯薄膜，涉及光学特性优异、可以有助于光学制品品质提高和降低能耗的光学用双轴取向聚酯薄膜。

背景技术

现有，聚酯薄膜、特别是聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯的双轴拉伸薄膜，具有优异的机械性质、耐热性、耐药品性，作为磁带、强磁性薄膜带、相片薄膜、包装用薄膜、电子部件用薄膜、电绝缘薄膜、金属层压薄膜、在玻璃显示器等的玻璃表面贴附的薄膜、各种部件的保护用薄膜等的素材而被广泛使用。

近年来，聚酯薄膜特别被大量用于各种光学用薄膜，在LCD部件的棱镜片、光扩散片、反射板、触摸面板等的基膜(base fiim)，和防止反射用基膜和显示器防爆用基膜、PDP滤光器用薄膜等各种用途中使用。在这些光学制品中，为了得到明亮而鲜艳的图像，作为光学用薄膜而使用的基膜，从其使用形态，必须透明性良好、并且没有在图像中产生有影响的异物和伤等的缺陷。此外，特别是在使用偏光时，没有以聚合物取向的不匀和厚度不匀作为原因的延迟不匀，为了得到没有不匀的图像是必要的。

聚酯薄膜，通常通过将熔融挤压成片状、并急冷固化而得到的无定形片在纵向和横向拉伸、进行热处理而得到。在这些工序中，冷却和拉伸的均匀性不充分时、就残留上述的延迟，在光学用中使用时、有带来图像变差的问题。

在显示器中，重要特性中可以列举亮度，已知作为部件使用的聚酯薄膜对该亮度产生影响(例如参照专利文献1)。特别是在得到高品质图像时，高亮度是必要的，所以，即使对聚酯薄膜、也要求实现高亮度的特性。为此，聚酯薄膜具有高度透明性当然不用说，此外，还必须具有在光学上有利的特性。

专利文献1：特开2003-201357号公报

发明内容

本发明是鉴于上述实际情况而作出的发明，其目的在于提供一种聚酯薄膜，其在作为LCD、PDP、有机EL、投影显示器等的部件使用时，没有不匀和缺陷，实现高亮度，可以给出高品质图像，其光学性能良好。

为了解决上述问题，本发明人等深入研讨的结果，发现由含有特定量的主要构成成分以外的第三成分的聚酯构成、并具有特定雾度(haze)的双轴取向聚酯薄膜可以解决上述问题，至此完成了本发明。

即，本发明的要点在于，提供一种光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于，由以合计2.0～10.0摩尔％的范围含有第三成分的聚酯构成，该第三成分为主要构成成分以外的构成聚酯的成分，该薄膜的雾度为0～3.0％的范围。

本发明的光学用双轴取向聚酯薄膜，其透明性、低雾度、光学均匀性等光学特性优异，可以有助于光学制品的品质提高和降低能耗，在作为LCD、PDP、有机EL、投影显示器等的部件使用时，没有不匀和缺陷，实现高亮度，可以给出高品质的图像，工业价值极高。

具体实施方式

以下，更详细地说明本发明。在本发明中，所谓在聚酯薄膜中使用的聚酯的主要构成成分，指的是使芳香族二羧酸和脂肪族二醇缩聚而得到的物质。作为芳香族二羧酸，可以列举对苯二甲酸、2，6-萘二羧酸等，作为脂肪族二醇，可以列举乙二醇、二甘醇(diethylene glycol)、1，4-环己二甲醇等。代表性的聚酯，例示聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等。

在本发明中，以2.0～10.0摩尔％、优选2.5～10摩尔％、更优选3.0～8.0摩尔％含有上述主要构成成分以外的构成聚酯的第三成分。作为上述第三成分，二羧酸成分可以列举间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2，6-萘二羧酸、己二酸、癸二酸等，另外，作为羟基羧酸(oxycarboxylic acid)，可以列举对羟基苯甲酸等，作为二醇成分，可以列举乙二醇、二甘醇、三甘醇(triethylene glycol)、丙二醇、丁二醇、1，4-环己二甲醇、新戊二醇等。其中，使用二甘醇、三甘醇、1，4-环己二甲醇时，可以有效地减少由聚合物取向和厚度不匀引起的薄膜光学性不匀，而且可以高度地维持薄膜的平面性和耐热性、尺寸稳定性，所以优选。另外，聚酯所含有的第三成分，也包括在聚合中从乙二醇副产的二甘醇。

使之含有这样的第三成分的方法，可以列举：(1)使用1种以上的具有上述第三成分范围的共聚成分的共聚聚酯作为聚酯原料的方法；(2)以满足上述第三成分范围的比率，掺合使用1种以上的含有比上述第三成分范围多的共聚成分的共聚聚酯和1种以上的含有比上述第三成分范围少的共聚成分的共聚聚酯或1种以上的均聚酯的方法；(3)以满足上述第三成分范围的比率，掺合使用2种以上的均聚酯的方法等。

本发明的聚酯可以按如下方法得到：以现有公知的方法、例如以二羧酸和二醇的反应、直接得到低聚合度聚酯的方法；以现有公知的酯交换催化剂使二羧酸的低级烷基酯和二醇反应后，在聚合催化剂的存在下，以进行聚合反应的方法等。聚合催化剂可以使用锑化合物、锗化合物、钛化合物等公知的催化剂，但从减少薄膜发暗的观点出发，优选锑化合物的量为零或锑的量为100ppm以下。

另外，在本发明中使用的聚酯，在熔融聚合后将其切屑，可以根据需要、在加热减压下或在氮气等不活泼气流中再施加固相聚合。得到的聚酯的固有粘度，通常是0.40dl/g以上、优选是0.40～0.90dl/g。

在本发明的聚酯层中，以赋予易滑性为主要目的，也可以配合粒子。配合的粒子种类，如果是能够赋予易滑性的粒子，就没有特别的限定，作为具体例子，例如，可以列举二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、氧化硅、高岭土、氧化铝、氧化钛等的粒子。另外，也可以使用在特公昭59-5216号公报、特开昭59-217755号公报等中记载的耐热性有机粒子。作为其它耐热性有机粒子的例子，可以列举热固化性尿素树脂、热固化性酚醛树脂、热固化性环氧树脂、苯代三聚氰胺(benzoguanamine)树脂等。在聚酯制造工序中，还可以使用使一部分催化剂等金属氧化物沉淀、并微分散而得到的析出粒子。

使用的粒子形状没有特别限制，可以使用球状、块状、棒状、扁平状等任一种。另外，对其硬度、比重、颜色等也没有特别的限制。根据需要，这些粒子可以并用2种以上。粒子的平均粒径，通常是0.01～5μm。粒子的平均粒径小于0.01μm时，粒子容易凝集，有分散性不充分的情况，另一方面，大于5μm时，薄膜的表面粗糙度变得过于粗糙、有透明性差的情况。

聚酯中的上述粒子的含量，通常是0.0003～1.0重量％、优选是0.0005～0.5重量％。在粒子含量小于0.0003重量％时，有薄膜的易滑性不充分的情况，另一方面，在大于1.0重量％进行添加时，有薄膜透明性不充分的情况。

在聚酯中添加粒子的方法，没有特别的限定，可以采用现有公知的方法。例如，可以在制造聚酯的任意阶段添加，特别优选在酯化阶段或酯交换反应结束后添加、进行缩聚反应。另外，可以列举使用带有通风口的混炼挤出机，掺合在乙二醇或水等中分散的粒子的浆料和聚酯原料的方法，使用混炼挤出机、掺合干燥的粒子和聚酯原料的方法等。

在本发明的聚酯薄膜中，根据需要，除上述粒子以外，可以添加现有公知的抗氧化剂、热稳定剂、润滑剂、防静电剂、荧光增白剂、染料、颜料等。另外，根据用途，可以含有紫外线吸收剂、特别是苯并噁嗪酮系紫外线吸收剂等。

本发明的聚酯薄膜的厚度，作为薄膜，如果是能够制膜的范围，就没有特别的限定，通常是9～300μm、优选是20～250μm、更优选是25～200μm的范围。

本发明的薄膜的薄膜雾度是0～3.0％、优选是0～1.5％、更优选是0～1.2％、特别优选是0～1.0％。本发明的薄膜，因为具有优异的透明性而在光学用途中被广泛使用，但在薄膜雾度大于3.0％时，作为光学用就不适合。

在本发明的光学用、特别是在显示器用聚酯薄膜中，用透射法对1片薄膜测定的色调b*值，通常是-5～+3的范围、优选是-4～+2的范围、更优选是-3.5～+1的范围。在b*值大于+3时，黄色调强，作为显示器使用时，图像的色调变差、或亮度变低等不适合方面较多。另一方面，在聚酯薄膜时，通常因为b*值不低于-5，所以，色调b*值低于-5的薄膜使用添加剂，但此时不仅是色调的问题、而且添加剂的渗出和长期使用时的可靠性等也成为问题。为了做为如此色调的薄膜，采用以下方法：选择制造原料的聚酯时的催化剂、助剂，催化剂量尽量少；在聚合和制膜时，聚酯不成为必要以上的高温、或不延长熔融时间；减少再生的原料配合量等。

另外，本发明的薄膜，以180℃热处理10分钟后低聚物(环状三聚物)向薄膜表面的析出量的表里面之和，优选是15mg/m²以下、更优选是10mg/m²以下、特别优选是8mg/m²以下。在低聚物向薄膜表面的析出量大于15mg/m²时，低聚物在表面结晶化，使薄膜的透明性降低，或溶入在薄膜上设置的功能层，容易引起在特性中产生影响等的问题。

将因热处理低聚物向薄膜表面的析出量设为上述范围的方法，可以列举特别是共挤出得到的由至少3层以上构成的叠层薄膜、在构成表层的最外层中使用低聚物含量少的聚酯的方法，由以联机/脱机(inline/offline)设置涂布层、抑制低聚物在薄膜表面析出的方法。

本发明的薄膜，使用共挤出法可以成为叠层结构，但此时最外层的厚度，只是单侧的厚度通常为3μm以上，并且优选为总厚度的1/4以下。在这样的厚度小于3μm时，由加工中的热经历等，在内层所含有的低聚物(环状三聚物)在薄膜表面析出，有可能见到生产线污染和薄膜表面异物量增加，另一方面，当比总厚度1/4的厚度还厚时，有在最外层配合的粒子量增加、损害透明性的担心。另一方面，以单层实施时，在薄膜中尽可能不含有粒子，优选在表里的涂布层中含有粒子。

在制造这样的叠层薄膜时，本发明中的第三成分含量，有必要是相对于全部薄膜的聚酯，全部薄膜所含有的第三成分量为上述范围。在本发明中，应该改良的作为课题的防止光学性不匀，涉及薄膜的透光，因为并非只是薄膜表面和内部、涉及全部特性。

另外，在添加上述紫外线吸收剂、染料等添加剂时，优选在叠层薄膜的中间层配合。

另外，在本发明的薄膜中存在的最大直径150μm以上的异物，通常是0.0个/m²(小于0.05个/m²)，最大直径30μm以上的异物，通常是1.5个/m²以下，优选是1.0个/m²以下。在最大直径150μm以上的异物是0.0个/m²或最大直径30μm以上的异物是1.5个/m²以下的条件不成立时，作为LCD和PDP的部件使用时的图像会产生缺陷、成为使品质下降的原因。在薄膜表面存在的宽度10μm以上的伤的个数是10个/m²以下、优选是5个/m²以下。宽度10μm的伤的个数大于10个/m²时、同样导致LCD和PDP图像的品质下降。作为达到上述条件的方法，采用防止聚酯原料制造时和薄膜制造时异物混入的方法、使用高精度过滤器进行除去异物的方法。另外，为了防止伤，有必要采取在拉伸工序、卷取工序中抑制与各辊接触时的速度不匀，并且防止异物进入辊与薄膜之间等的措施。

这样得到的本发明的薄膜，被用于各种光学，此时，优选是聚合物的取向和厚度不匀引起的薄膜的光学性不匀被减少的膜。具体的，在以后述方法测定的薄膜的面内延迟的最大值和最小值之差，通常是200nm以下、优选是100nm以下、更优选是50nm以下。满足这样的要素时，在光学性用途使用时，可以成为图像的鲜明度、亮度和均匀性优异的物品。

以下，具体说明本发明的聚酯薄膜的制造方法，以满足本发明的要点为限，本发明不限定于以下的例示。首先，由公知的方法，将干燥或未干燥的聚酯屑片供给熔融挤出装置，加热到聚合物熔点以上的温度进行熔融(使用多种共聚聚酯、均聚酯时，是各自的熔点以上)。接着，从模具挤出熔融的聚合物，在旋转冷却筒上急冷固化使得达到玻璃转化温度以下的温度，实质得到非晶状态的未取向片。此时，为了提高片的平面性，优选提高片和旋转冷却筒的密合性，在本发明中，优选采用施加静电密合法和/或液体涂布密合法。

在本发明中，在2轴方向拉伸如此操作得到的片而成膜。具体叙述拉伸条件，优选在纵向以70～145℃将上述未拉伸片拉伸成2～6倍，成为纵向1轴拉伸膜后，在横向以90～160℃进行2～6倍拉伸，以150～240℃进行1～600秒热处理。此时，还优选在热处理的最高温度区域和/或热处理出口的冷却区域中，在纵向和/或横向松弛0.1～20％的方法。另外，根据需要，也可以进行纵向再拉伸、横向再拉伸。

在本发明中，通过使用2台或3台以上聚酯熔融挤出机的所谓共同挤出法，可以制造上述的2层或3层以上的叠层薄膜。作为层的构成，可以列举使用A原料和B原料的A/B构成、A/B/A构成，还有使用C原料的A/B/C构成、和此外的多层结构。例如，作为A原料，使用特定的粒子，设计A层的表面形状，作为B原料，使用不含粒子的原料，可以制成A/B或A/B/A构成的薄膜。此时，因为可以自由选择B层的原料，所以，成本方面的优点大。另外，即使在B层中配合该薄膜的再生原料，因为可以由作为表层的A层设计表面粗度，所以，成本方面的优点变得更大。

特别是本发明的薄膜，因为用于光学用途，所以为了设置硬涂层、防反射层、防眩层等，或为了设置蒸镀层等，而提高形成这些层时的涂布性和粘合性，或者为了将表面保持在清洁状态，而防止带电，以上述为目的，可以设置作为底涂层的涂布层。在形成这样的涂布层时，在制造薄膜的工序内，特别是进行在纵向拉伸后、横向拉伸前的方法，从可以形成极薄的涂布层的方面，和在成膜工序内可以实施涂布液干燥和固化反应等的方面考虑而优选。作为这样的涂布层，优选由交联剂和各种粘合剂树脂的组合构成，作为粘合剂树脂，从粘合性的观点出发，通常采用选自聚酯、丙烯酸系聚合物和聚氨酯中的聚合物。上述聚合物分别包含它们的衍生物。这里所谓的衍生物，指的是与其它聚合物的共聚物、使反应性化合物反应于官能基得到的聚合物。

根据需要，在薄膜制造后也可以由脱机涂布法进行涂布。脱机涂布的面，不论单面、两面。作为涂布的材料，脱机涂布时，可以是水系和/或溶剂系的任意1种，但联机涂布时，优选是水系或水分散系。

本发明的薄膜，因为用于光学，除改善粘合性以外，优选还形成以防止外来光线的照入和由静电引起的尘粒附着、还有电磁波屏蔽为目的的功能性多层薄膜。

在用作涂布剂的上述聚酯、丙烯酸系聚合物、聚氨酯中，优选玻璃转化温度(Tg)是0℃以上、更优选是40℃以上。其中，优选聚氨酯、更优选聚酯聚氨酯。特别优选具有羧酸残基、其至少一部分使用胺或铵而被水性化的聚酯聚氨酯。

作为交联剂树脂，可以列举三聚氰胺系、环氧系、噁唑啉系树脂，从涂布性、耐久粘合性方面考虑，特别优选三聚氰胺系树脂。作为三聚氰胺系树脂，可以列举由单体组成的缩合物、由二聚体以上的聚合物构成的缩合物和它们的混合物。

在本发明中，为了更加改善润滑性、粘结性等，优选在涂布层中含有无机粒子和有机粒子。在涂布剂中的粒子配合量，通常是0.5～10重量％、优选是1～5重量％。这样的配合量小于0.5重量％时，存在耐结块性变得不充分的情况，当大于10重量％时，就影响薄膜的透明性，有图像的鲜艳度下降的情况。

无机粒子可以列举二氧化硅、氧化铝、氧化锆、高岭土、滑石粉、碳酸钙、氧化钛、氧化钡、碳黑、硫化钼、氧化锑等。其中，二氧化硅廉价而且有多种粒径、容易利用。有机粒子可以列举由在1个分子中具有2个以上碳-碳双键的化合物(例如二乙烯基苯)形成交联结构的聚苯乙烯粒子或聚丙烯酸酯聚甲基丙烯酸酯粒子。

上述无机粒子和有机粒子也可以表面处理。作为表面处理剂，例如可以列举表面活性剂、作为分散剂的高分子、有机硅烷偶合剂、钛偶合剂等。涂布层中的粒子含量，从不影响透明性的观点出发，通常是10重量％以下、优选是5重量％以下。

上述涂布层也可以含有防静电剂、消泡剂、涂布性改良剂、增粘剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、发泡剂、染料、颜料等。

上述涂布剂，在限于以水为主要介质时，以改善向水的分散为目的或以改善成膜性能为目的，可以含有少量有机溶剂。有机溶剂以在水中溶解的范围使用。作为有机溶剂，可以列举正丁醇、正丙醇、异丙醇、乙醇、甲醇等的脂肪族或脂环族醇类，丙二醇、乙二醇、二甘醇等的二醇类，正丁基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲基溶纤剂、丙二醇单甲醚等的二醇衍生物，二噁烷、四氢呋喃等的醚类，醋酸乙酯、醋酸戊酯等的酯类，甲乙酮、丙酮等的酮类，N-甲基吡咯烷酮等的酰胺类。这些有机溶剂，根据需要，可以并用2种以上。

作为涂布剂的涂布方法，例如可以使用如原崎勇次著、槙书店、1979年发行、“コ一テイング方式”(涂布方式)所述的反转辊涂布机、照相凹版涂布机、棒式涂布机(rod coater)、气刀涂布机或这些以外的涂布装置。

涂布层既可以只在聚酯薄膜的单面形成、也可以在两面形成。只在单面形成时，也可以在其相反面，根据需要形成与上述涂布层不同的涂布层，赋予其它特性。另外，为了改善涂布剂向薄膜的涂布性和粘合性，在涂布前、在薄膜上施加化学处理和放电处理。另外，为了更加改善表面特性，也可以在形成涂布层后施加放电处理。

涂布层的厚度，作为最终的干燥厚度，通常是0.01～0.5μm、优选是0.015～0.3μm。涂布层的厚度小于0.01μm时，有涂布层的效果不能被充分发挥的担心。涂布层的厚度大于0.5μm时，薄膜相互之间变得容易粘结，特别是为了薄膜的高强度化，再拉伸涂布处理薄膜时，变得容易粘合在工序中的辊上。上述的粘结问题，特别是在薄膜的两面形成同样的涂布层时显著出现。

在光学用途中使用这样的涂布薄膜时，涂布层表面的涂布脱落在该涂布层上另外设置防止反射层等时等会成为问题。涂布脱落产生的原因不是很明确，但考虑是如下情况：薄膜中的异物在薄膜表面形成粗大突起，并成为核，不沾涂布剂，其被拉伸就会产生涂布脱落，或者薄膜表面所附着的低聚物和尘粒成为核，将此作为核不沾涂布剂，而产生脱落的情况等。因此，优选在尽量除去成为这样的核的尘粒和异物的条件下制膜。这样的异物也包括在薄膜上附着或析出的低聚物，因此，减少薄膜所含有的低聚物量也会具有减少涂布脱落的效果。

如此得到的本发明的薄膜，在具有涂布层时，其涂布脱落的个数(N)每30m²薄膜通常是0～20个、优选是0～10个、更优选是0～3个。在光学用薄膜领域，因为该特性今后变得越来越严格，所以，优选涂布脱落尽可能为零。

使用本发明的光学用双轴取向聚酯薄膜的具体部件，作为液晶显示器用，适合使用于后照光用的反射板、扩散板、棱镜片、透镜片、亮度提高薄膜、液晶面板的保护薄膜等，作为面板制造时的工序用，适合使用于脱模薄膜等，作为等离子显示器用，适合使用于所谓称为PDP滤光器的部件用的具有电磁波遮蔽、近红外线遮蔽、色调补正、紫外线遮蔽、防反射等各种功能的薄膜基材，作为面板制造时的工序用或作为投影电视用，适合使用于形成图像的屏幕等，作为使高度透明性成为必要的基材可以适合使用。

实施例

以下，由实施例更详细地说明本发明，但本发明以不超出其要点为限，不限定于以下的实施例。在本发明中使用的测定方法如下。

(1)聚酯的固有粘度的测定：

精密称量1g聚酯，加入100ml的苯酚/四氯乙烷＝50/50(重量比)的混合溶剂，使之溶解，在30℃测定。

(2)第三成分(共聚成分)含量的测定：

在重水化氯仿/六氟异丙醇(重量比7/3)的混合溶剂中溶解树脂试样使之浓度为3重量％，如此配制成溶液。使用核磁共振装置(日本电子社生产、“JNM-EX270型”)，得到该溶液的¹H-NMR光谱，归属各峰，由峰的积分值算出共聚成分的含量。

(3)平均粒径(d₅₀(μm))的测定：

使用离心沉降式粒度分布测定装置(岛津制作所社生产、SA-CP3型)，进行测定，将得到的等价球形分布中的累计(重量基准)50％的值作为平均粒径。

(4)薄膜雾度：

以JIS-K-7105为基准，由日本电色工业社生产的积分球式浊度计“NDH-300A”，测定薄膜雾度。

(5)b*值：

使用东京电色社生产的颜色分析仪TC-1800MK II型，以JISZ-8722的方法为基准，测定色调。

(6)涂布脱落个数的测定：

在宽度1500mm、长度20m(面积30m²)的薄膜表面，由卤灯照射光，目测观察薄膜表面，算出0.5mm以上的涂布脱落个数。在本实施例中，对长尺寸样品，计数宽度10μm以上的脱落个数，即使是与上述同样的A4切版中的测定，也能够推断。

(7)光学部件适应性：

作为光学用部件的代表，评价作为扩散板使用时的特性。即，在薄膜的单面涂布含有粒子的丙烯酸系粘合剂，形成光扩散层。在后照光单元插入得到的扩散片，按以下的观点评价得到的面状发光的品质。

亮度水平(使用亮度计评价，与现有的PET薄膜、即在本发明中使用比较例1的薄膜时进行比较)：

[表1]

A：亮度提高3％以上、可见显著的改善

B：亮度提高1％以上、可见改善

C：亮度提高没有看到、或降低

亮度的不匀：

[表2]

A：几乎看不到不匀

B：或多或少看到一些不匀、但是为可以实用的水平

C：不匀显著、影响液晶显示器的图像

以下说明在实施例和比较例中使用的聚酯的制造方法。

(1)聚酯(A)的制造方法：

以100重量份对苯二甲酸二甲酯和60重量份乙二醇为开始原料，在反应器中取0.09重量份醋酸镁·四水盐作为催化剂，反应开始温度为150℃，随着甲醇的蒸出，使反应温度慢慢上升，3小时后成为230℃。4小时后，使酯交换反应实质结束。在该反应混合物中添加0.04份乙基酸性磷酸酯后，加入0.03份三氧化锑，进行4小时的缩聚反应。即，从230℃慢慢地将温度升温为280℃。另一方面，压力从常压慢慢地减压，最终成为0.3mmHg。反应开始后，由反应槽的搅拌动力的变化，在相当于极限粘度0.68的时刻停止反应，在氮气加压下排出聚合物。得到的聚酯(A)的极限粘度是0.68、二甘醇含量是1.0摩尔％。

(2)聚酯(B)的制造方法：

除在聚酯(A)的制造方法中，添加0.04份乙基酸性磷酸酯后，加入0.4份分散于乙二醇中的平均粒径2.2μm的二氧化硅粒子、0.03份三氧化锑，在相当于极限粘度0.66的时刻停止缩聚反应以外，使用与聚酯(A)的制造方法同样的方法，得到聚酯(B)。得到的聚酯(B)，其极限粘度为0.66，二甘醇含量为1.0摩尔％。

(3)聚酯(C)的制造方法：

除在聚酯(A)的制造方法中，以100重量份对苯二甲酸二甲酯、60重量份乙二醇和2重量份二甘醇为开始原料，使用氧化锗作为聚合催化剂以外，使用与聚酯(A)的制造方法同样的方法，得到聚酯(C)。另外，氧化锗的添加方法采用公知的方法，其添加量，作为锗、相对于原料重量为100ppm。得到的聚酯(C)的固有粘度为0.68、聚合物中的二甘醇含量为4.0摩尔％。

(4)聚酯(D)的制造方法：

以100重量份对苯二甲酸二甲酯、54重量份乙二醇和25重量份1，4-环己二甲醇为开始原料，在反应器中取0.011重量份四丁氧基钛酸酯为催化剂，反应开始温度为150℃，随着甲醇的蒸出，使反应温度慢慢上升，3小时后成为230℃，再继续反应1小时。此后，从230℃慢慢地将温度升温，同时将压力从常压慢慢地减压，最终，温度成为280℃、压力成为0.3mmHg。反应开始后，由反应槽的搅拌动力的变化，在相当于极限粘度0.70的时刻停止反应，在氮气加压下排出聚合物。得到的聚酯(D)的极限粘度为0.70、1，4-环己二甲醇的含量为33摩尔％、二甘醇含量为1.0摩尔％。

(5)聚酯(E)的制造方法：

除在聚酯(A)的制造方法中，将开始原料的二羧酸设为80重量份对苯二甲酸二甲酯和20重量份间苯二甲酸以外，使用与聚酯(A)的制造方法同样的方法，得到聚酯(E)。得到的聚酯(E)的极限粘度为0.67，二甘醇的含量为1.0摩尔％。

实施例1：

将分别以12％、88％的比例混合上述聚酯(B)、(C)而得到的混合原料作为A层的原料，以100％聚酯(C)的原料为B层的原料，将它们分别供给2台排气式双螺杆挤出机，分别以285℃熔融，以A层作为最外层(表层)、B层作为中间层的2种3层(A/B/A)的层构成共挤出，从管口挤出，使用施加静电附着法，在将表面温度设定为40℃的冷却辊上冷却固化，得到未拉伸片。接着，利用辊周向速度差，以薄膜温度81℃、在纵向拉伸3.3倍后，涂布以下所示组成的涂布剂后、导入拉幅器，在横向以120℃拉伸3.6倍，以225℃进行热处理后，在横向松弛2％，得到厚度188μm的叠层聚酯薄膜。得到的薄膜的各层厚度是10/16/8/10μm。涂布层的厚度为0.08μm。

涂布剂的组成(重量比)是a/b/c/d＝47/20/30/3。这里，a是对苯二甲酸/间苯二甲酸/5-钠磺基间苯二甲酸/乙二醇/二甘醇/三甘醇＝31/16/3/22/21(摩尔比)的聚酯分散体，b是甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/丙烯腈/N-羟甲基甲基丙烯酰胺＝45/45/5/5(摩尔比)的乳化聚合物(乳化剂：阴离子系表面活性剂)，c是六甲氧基甲基蜜胺(蜜胺系交联剂)，d是粒径0.06μm的氧化硅的水分散体(无机粒子)。涂布液中的固态成分浓度为6重量％。

实施例2：

在实施例1中，B层的原料使用分别以4％、96％的比例混合聚酯(B)、(C)而得到的原料，各层的厚度成为10/105/10μm，成膜条件、涂布条件与实施例1相同，得到厚度125μm的聚酯薄膜。

实施例3：

除在实施例1中，B层的原料使用分别以5％、95％的比例混合聚酯(D)、(C)而得到的原料，A层的原料使用分别以12％、83％、5％的比例混合聚酯(B)、(C)、(D)而得到的原料以外，与实施例1同样操作，得到厚度188μm的聚酯薄膜。

实施例4：

除在实施例1中，B层的原料使用分别以10％、90％的比例混合聚酯(E)、(C)而得到的原料，A层的原料使用分别以12％、78％、10％的比例混合聚酯(B)、(C)、(E)而得到的原料以外，与实施例1同样操作，得到厚度188μm的聚酯薄膜。

实施例5：

在聚酯(C)的制造中，作为二醇成分，增加二甘醇，得到含有6摩尔％的二甘醇的聚酯。除取代实施例1中的聚酯(C)，使用该聚酯以外，与实施例1同样操作，得到厚度188μm的聚酯薄膜。二甘醇的含量多时，聚酯的热稳定性就稍微变差，得到的薄膜的b*值稍微上升。

实施例6：

除在实施例1中，使在纵向拉伸后涂布的涂布液的固态成分浓度为3重量％(实施例1时的1/2)以外，与实施例1同样操作，得到厚度188μm的聚酯薄膜。在所得到的薄膜的涂布层中，稍微可见涂布脱落，确认由此引起作为光学部件的特性下降。

比较例1：

除在实施例1中，A层的原料使用分别以12％、88％的比例混合聚酯(B)、(A)而得到的原料，B层的原料使用100％聚酯(A)以外，与实施例1同样操作，得到厚度188μm的聚酯薄膜。

比较例2：

除在实施例3中，B层的原料使用分别以35％、65％的比例混合聚酯(D)、(C)而得到的原料，A层的原料使用分别以12％、53％、35％的比例混合聚酯(B)、(C)、(D)而得到的原料以外，与实施例3同样操作，得到厚度188μm的聚酯薄膜。得到的薄膜，因为第三成分的含量过多，所以作为光学用时、其特性下降，另外，耐热性不足，确认在实际使用时的薄膜平面性维持中也不足。

比较例3：

使用分别以10％、90％的比例混合聚酯(B)、(C)的原料，使用1台挤出机、制成单层聚酯薄膜。另外，除将薄膜制成单层以外，成膜条件与实施例1相同，薄膜的厚度为188μm。

以上，在表3中汇总得到的薄膜的物性值和光学部件适应性。满足本发明要素的薄膜，可知作为光学用的适应性高。

[表3]

上述表中，DEG表示二甘醇，1，4-CHDM表示1，4-环己二甲醇，IPA表示间苯二甲酸，实施例3、实施例4、比较例2的第三成分含量包括DEG的量。

以上，在现阶段是最实际的，并且涉及认为是优选的实施方式，说明了本发明，但本发明不限定于在本申请说明书中公开的实施方式，从权力要求范围和全部说明书读取的发明要点或在思想上不相反的范围内能够适当变化，必须理解为伴随那样的变化时也是本发明的技术范围。另外，本申请基于2004年12月20日申请的日本专利申请(特愿2004-367481号)，引用其全部内容。

产业上的可利用性

本发明的薄膜，在例如液晶显示器、等离子体显示器等中使用的各种光学用部件和光学领域的制品的制造工序中，可以适合利用于所使用的保护薄膜和脱模薄膜等中。

Claims

1.一种光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于，由包括下述构成成分的聚酯形成：

由芳香族二羧酸与乙二醇缩聚得到的主要构成成分，其中，所述芳香族二羧酸选自对苯二甲酸和2，6-萘二羧酸，与

至少一种主要构成成分以外的第三成分，该第三成分选自二甘醇、三甘醇、丙二醇、丁二醇、1，4-环己二甲醇和新戊二醇，总含量为3.0～8.0摩尔％，

所述薄膜的雾度为0～3.0％的范围。

2.如权利要求1所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：聚酯是由主要构成成分和第三成分构成的共聚聚酯。

3.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：作为第三成分的二醇为选自二甘醇或1，4-环己二甲醇中的1种以上。

4.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：用透射法对1片薄膜测定的色调b*值为-5～+3。

5.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：以180℃热处理10分钟后，低聚物向薄膜表面的析出量的表里面之和为15mg/m²以下。

6.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：在薄膜中存在的最大直径150μm以上的异物为0.0个/m²，最大直径30μm以上的异物为1.5个/m²以下。

7.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：在薄膜表面存在的宽度10μm以上的伤的个数为10个/m²以下。

8.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：在薄膜面内的延迟的最大值和最小值之差为200nm以下。

9.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：在薄膜的单面或双面还具有涂布层。

10.如权利要求9所述的光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于：每30m²薄膜的涂布脱落的个数N为0～20个。

11.一种光学用双轴取向聚酯薄膜，其特征在于，由包括下述构成成分的聚酯形成：

至少一种主要构成成分以外的第三成分，该第三成分选自二甘醇和1，4-环己二甲醇，总含量为3.0～8.0摩尔％，

所述聚酯薄膜的雾度为0～3.0％的范围。