CN101038449B - 电子照相感光体以及其制造方法、图像形成方法以及装置以及使用该感光体以及处理卡盒 - Google Patents

电子照相感光体以及其制造方法、图像形成方法以及装置以及使用该感光体以及处理卡盒 Download PDF

Info

Publication number
CN101038449B
CN101038449B CN2007100863307A CN200710086330A CN101038449B CN 101038449 B CN101038449 B CN 101038449B CN 2007100863307 A CN2007100863307 A CN 2007100863307A CN 200710086330 A CN200710086330 A CN 200710086330A CN 101038449 B CN101038449 B CN 101038449B
Authority
CN
China
Prior art keywords
photoreceptor
charge transport
layer
top layer
crosslinked
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2007100863307A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101038449A (zh
Inventor
梁川宜辉
河崎佳明
铃木哲郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Publication of CN101038449A publication Critical patent/CN101038449A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101038449B publication Critical patent/CN101038449B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0532Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
    • G03G5/0542Polyvinylalcohol, polyallylalcohol; Derivatives thereof, e.g. polyvinylesters, polyvinylethers, polyvinylamines
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • G03G5/075Polymeric photoconductive materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/076Polymeric photoconductive materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds having a photoconductive moiety in the polymer backbone
    • G03G5/0763Polymeric photoconductive materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds having a photoconductive moiety in the polymer backbone comprising arylamine moiety
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0532Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
    • G03G5/0546Polymers comprising at least one carboxyl radical, e.g. polyacrylic acid, polycrotonic acid, polymaleic acid; Derivatives thereof, e.g. their esters, salts, anhydrides, nitriles, amides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0532Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
    • G03G5/055Polymers containing hetero rings in the side chain
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0532Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
    • G03G5/0553Polymers derived from conjugated double bonds containing monomers, e.g. polybutadiene; Rubbers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0589Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0592Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0596Macromolecular compounds characterised by their physical properties
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • G03G5/071Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • G03G5/071Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/072Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds comprising pending monoamine groups
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • G03G5/071Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/072Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds comprising pending monoamine groups
    • G03G5/073Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds comprising pending monoamine groups comprising pending carbazole groups
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • G03G5/071Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/072Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds comprising pending monoamine groups
    • G03G5/0732Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds comprising pending monoamine groups comprising pending alkenylarylamine
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • G03G5/071Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/074Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds comprising pending diamine
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • G03G5/071Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/0745Polymeric photoconductive materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds comprising pending hydrazone
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147Cover layers
    • G03G5/14708Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713Macromolecular material
    • G03G5/14717Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/1473Polyvinylalcohol, polyallylalcohol; Derivatives thereof, e.g. polyvinylesters, polyvinylethers, polyvinylamines
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147Cover layers
    • G03G5/14708Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713Macromolecular material
    • G03G5/14717Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/14734Polymers comprising at least one carboxyl radical, e.g. polyacrylic acid, polycrotonic acid, polymaleic acid; Derivatives thereof, e.g. their esters, salts, anhydrides, nitriles, amides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147Cover layers
    • G03G5/14708Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713Macromolecular material
    • G03G5/14717Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G5/14739Polymers containing hereto rings in the side chain
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147Cover layers
    • G03G5/14708Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713Macromolecular material
    • G03G5/14786Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147Cover layers
    • G03G5/14708Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713Macromolecular material
    • G03G5/14791Macromolecular compounds characterised by their structure, e.g. block polymers, reticulated polymers, or by their chemical properties, e.g. by molecular weight or acidity
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147Cover layers
    • G03G5/14708Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713Macromolecular material
    • G03G5/14795Macromolecular compounds characterised by their physical properties

Abstract

一种电子照相感光体,由导电基体以及叠置于导电基体之上的感光层,该感光层包括不具有电荷输送结构的具有三个或三个以上的司能基的自由基聚合性单体以及具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物,感光层的层膜密度为1.0 to 1.4g/cm3

Description

电子照相感光体以及其制造方法、图像形成方法以及装置以及使用该感光体以及处理卡盒
技术领域
本发明涉及电子照相感光体和其制造方法。本发明还涉及图像形成装置、图像形成方法以及使用该感光体以及用于图像形成装置的处理卡盒。 
背景技术
近来,在复印机、传真机、激光打印机以及这些机器的复合机中,有机感光体由于其良好的功能以及各种优点被广泛利用来代替无机感光体。这种趋势的具体原因为(i)良好的光学特性,例如宽的光吸收波长以及光吸收量;(ii)良好的电学性质,例如高感度以及安定的带电性;(iii)材料的选择范围广;(iv)良好的加工制造性;(v)低成本;(vi)无毒性等。 
在另一方面,近来,图像形成装置变得越来越小,感光体的直径也越来越小。另外,感光体被要求具有高的耐久性,这以因为图像形成装置要在更高的速度生成图像,并不需要维护。在此意义上,有机感光体一般具有一层软的表层,该表层主要由低分子量电荷输送材料以及非活性的聚合物组成,由此有机感光体一般说来在电子照相过程中反复被使用时,有易于被显像器以及清洁器机械磨损的缺点。另外,由于高质量的图像要求更小的调色剂粒径,所以就要求清洁刮刀具有更高的橡胶硬度以及更高的接触压力以提高清洁性,这样就进一步加剧了感光体的磨损。这种感光体的磨损会使其电学特性(例如感度以及带电性)变差,并产生非正常图像(例如图像浓度变差以及背景赃污现象)。当感光体被局部磨损时,会产生由于清洁不良而造成的带有黑色条纹的图像。因此现状是只有将磨损以及损伤的感光体加以交换。 
因此,就必须减少有机感光体的磨损量,以使其具有高的耐久性。这是在该领域中要解决的紧要问题。 
作为改善感光体的耐磨性的方法,(1)日本专利申请公开No.56-48637公开了一种在其表层使用硬化粘结剂的感光体;(2)日本专利申请公开No.64-1728公开了使用电荷输送聚合物材料的感光体;以及(3)日本专利申请公开No.4-281461公开了一种感光体,该感光体具有无机填料分散在其中的表层。使用硬化粘结剂(1)的感光体趋向于提高残留电位以及使图像浓度降低,这是由于粘结剂与电荷输送材料的溶解度很差以及诸如聚合引发剂以 及非反应性的残基所造成的。感光体使用电荷输送聚合物材料(2),以及感光体具有在其表层中分散有无机填料(3)可以使感光体具有一定的耐磨性,但是并不令人满意。进一步,感光体具有在其表层分散有无机填料(3)还会趋向于提高残留电位以及降低图像浓度,这是由于在无机填料的表面存在有凹陷的缘故。由此,感光体(1)-(3)不具有完全令人满意的总合耐久性(例如电学耐久性以及机械耐久性)。 
为提高的感光体的耐磨性,日本专利No.3262488公开了一种包括有硬化尿烷丙烯酸酯的感光体。但是,尽管该专利公开了在感光层中包括硬化尿烷丙烯酸酯,但是其仅公开了可以包括电荷输送材料,却没有公开具体的实施例。当仅使低分子量电荷输送材料简单地包含在感光层中的场合,低分子量电荷输送材料不与硬化尿烷丙烯酸酯相溶。由此,低分子量电荷输送材料发生分离,这样得到的感光体的机械强就会变差,例如发生龟裂。另外,日本专利No.3262488公开了使聚碳酸酯树脂包括在感光层中以改善溶解度的方法。但是这样会使硬化尿烷丙烯酸酯的数量减少,从而造成感光体的耐磨性不足。对于感光体不在其表层包括电荷输送材料的方案,该方案虽然记载了由于曝光部分的电位低而将比表层制成薄膜,但是膜厚薄会使感光体的寿命变短。另外,其带电电位的环境稳定性差。 
关于感光层耐磨性,日本专利No.3194392公开了一种使用涂布液来形成电荷输送层的方法,该涂布液是由具有碳-碳双键的单体、具有碳-碳双键的电荷输送材料以及粘结树脂组成的。粘结树脂包括具有碳-碳双键以及可以与电荷输送材料反应的粘结树脂,以及一种既不具有碳-碳双键也不具有可以与电荷输送材料反应的粘结树脂。该感光体具有良好的耐磨性以及电学特性。但是,当粘结树脂是不能与电荷输送材料反应的材料(例如丙烯酸聚合物、苯乙烯聚合物、丙烯酸苯乙烯共聚物、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂以及环氧树脂)时,具有碳-碳双键的单体与具有碳-碳双键的电荷输送材料之间的键合的数量减少,从而造成感光层的交联密度的不足。进一步,由于粘结树脂本身没有硬度,所以得到的感光层并不令人满意。 
日本专利申请公开No.2000-66425公开了一种感光层,其包括硬化的孔穴输送化合物,该化合物在同一分子中,具有二个或二个以上的聚合性官能基。但是,由于该感光层包括大体积的具有二个或二个以上的链聚合性官能基的孔穴输送材料,从而会在硬化化合物中形成扭曲并且使内部应力提高,从而造成表层的凸凹以及龟裂,因而由此得到的感光体没有充足的耐久性。在该文献中没有提及在聚合前控制溶液的的方法,由此,膜密度有时不能得到充分的改善,从而造成耐磨性的不足。膜密度低,就不能形成致密的交联膜,得到的感光体有时就会对氧化气体或潮湿没有安定的特性,从而产生残留图像,即难以在长时间内安定地制成高质量的图像。 
日本专利申请公开Nos.2004-302450,2004-302451以及2004-302452公开了一种交联电荷输送层,其中含有不具有电荷输送结构的具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体以及具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物,并且将它们硬化。其中自由基聚合性化合物具有电荷输送结构可以改善层的机械以及电学耐久性并且可防止层的龟裂。但是,有时其膜密度不能得以充分的改善,造成耐磨性的不足。致密交联的膜不能形成,从而得到的感光体的特性对氧化气体或潮湿不安定,从而形成残余图像。也就是说不能在长时间内安定地形成图像。 
由于这些原因,有必要使感光体在环境地变化中具有良好的耐久性以及在稳定的电学性质,以便在长时间内安定地形成高质量图像。 
发明内容
由此,本发明的目的就是提供一种感光体,其具有良好的耐久性以及对环境的变化具有稳定的电学性质,并且可以在长时间内形成高质量的图像。 
本发明的另一个目的是提供一种制备所述感光体的方法。 
进一步,本发明目的是提供一种使用所述感光体形成图像的方法。 
本发明的另一个目的是提供一种使用所述感光体的图像形成装置。 
进一步,本发明的另一个目的是提供一种使用所述感光体的处理盒。 
本发明的各个目的可以通过使用本发明的电子照相感光体而达成,该感光体包括: 
导电基体; 
在导电基体上形成的感光层,该感光层包括: 
具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体,其不具有电荷输送结构;以及 
自由基聚合性化合物,其具有电荷输送结构, 
其中,感光层具有的层膜密度为1.0-1.4g/cm3
附图说明
图1以及图2是说明本发明的电子照相感光体层结构的横截面的示意图。 
图3以及图4说明本发明的另一例的电子照相感光体的层结构的横截面 
图5是表明本发明的图像形成装置的部分横截面的示意图。 
图6是说明本发明的处理卡盒的示意图。 
具体实施方式
本发明提供一种感光体,该感光体具有良好的耐久性、对于环境的变化 具有稳定的电学性质以及可以在长时间内生成高质量的图像。 
本发明的感光体在其表层包括具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体,该单体可以形成三维网络,因此该表层可变成非常硬的交联层,该层具有高的交联密度和高的耐磨性。如仅使用具有更少的自由基聚合性官能基的单体时,则交联会变差,得到的交联表层就会不具有良好的耐磨性。另外如有聚合物材料包括在其中,就会有害于三维网络的形成,交联会变差,从而造成其耐磨性也不如本发明。进一步,聚合物材料与硬化材料的兼容性差,该硬化材料是通过聚合物材料与自由基聚合性成分(即自由基聚合性单体)以及具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物之间的反应而产生的。这种非兼容性会造成层分离,引起表面的局部磨损和损伤。 
本发明的交联表层包括具有三个或三个以上的官能基的,不具有电荷输送结构的自由基聚合性单体以及具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物。该交联表层在相同的时刻并且在短时间内(一般说来24小时)硬化,形成具有高硬度的交联键合,从而改善了该交联层的耐久性。进一步,硬化速度的改善可以形成一光滑的表层以及可以在长时间内保持良好的清洁性。进一步,可以形成扭曲较少的均匀的交联膜。另外,包括具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物,可以使交联层在长时间内具有稳定的电学性质。如交联表层包括没有官能基的低分子量电荷输送材料时,低分子量电荷输送材料就会析出,变白以及交联表层的机械强度变差。 
本发明的交联表层的层膜密度为1.0-1.4g/cm3,三维网络可以完全形成以及得到的交联表层具有相当高的硬度、弹性以及耐磨性,并且同时可以使对电子照相过程有影响的气体(例如臭氧、氮氧化物以及水蒸气)的透过率降低。因此,得到的电子照相感光体具有改善的环境安定性以及高的可靠性,即具有改善的耐磨性,在长期的使用中也不会发生龟裂,并且具有稳定的电学性质,以及可以长期地生成高质量图像。 
本发明的电子照相感光体,是由导电基体以及感光层组成。该感光层通过使具有三个或三个以上的官能基,不具有电荷输送结构的自由基聚合性单体以及具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物进行聚合而制成。其中感光层膜密度为1.0-1.4g/cm3,并且具有耐磨性、稳定的电学性质、改善的环境稳定性以及可以在长时间内生成具有高可靠性以及高质量图像。 
以下,对用来形成交联表层的涂布液的成分加以说明。 
具有三个或三个以上的官能基的,不具有电荷输送结构的单体是指具有三个或三个以上的自由基聚合性基团以及不具有电荷输送结构(例如孔穴输送结构(例如,三芳基胺结构、腙结构、吡唑啉结构以及咔唑结构)以及电子输送结构(例如,稠合多环奎宁结构、二苯酚并合醌(diphenoquinone)结构、氰基以及硝基))的单体。作为自由基聚合性基团,可以是任何具有碳 -碳双键的自由基聚合性基团。适宜的自由基聚合基包括下列的1-取代的乙烯基以及1,1-取代的乙烯基。 
1-取代的乙烯基的具体例子包括具有下列化学式的官能基: 
CH2=CH-X1
其中X1表示可具有取代基也可没有取代基的亚芳基(例如亚苯基以及亚萘基)、取代的或未取代的亚烯基(在本发明说明说明书中,将“被取代或未被取代”简称为“取代或未取代”)、-CO-基、-COO-基、-CON(R10)基(其中R10表示氢原子、烷基(例如,甲基以及乙基)、芳烷基(例如苄基、萘甲基以及乙氧基苯基)或芳基(例如苯基以及萘基))或-S-基。 
取代基的具体例子包括乙烯基、苯乙烯基、2-甲基-1,3-丁二烯基、乙烯基羰基、丙烯酰氧基,丙烯酰胺基,乙烯基硫醚基等。 
1,1-取代的乙烯基的具体例子包括具有下式的基团: 
CH2=C(Y)-X2
其中Y表示取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳烷基、取代的或未取代的芳基(例如苯基以及萘基)、卤原子、氰基、硝基、烷氧基(例如甲氧基以及乙氧基),或-COOR31(其中R31表示氢原子、取代的或未取代的烷基(例如甲基以及乙基)、取代的或未取代的芳烷基(例如苄基以及苯乙基)、取代的或未取代的芳基(例如苯基以及萘基)或-CONR32R33基(其中R32 以及R33各表示氢原子、取代的或未取代的烷基(例如甲基以及乙基)、取代的或未取代的芳烷基(例如苄基、萘甲基以及苯乙基)、取代的或未取代的芳基(例如苯基以及萘基));以及X2表示选自上述的用于X1的基团以及亚烷基,其中Y以及X2中的至少一个为氧羰基、氰基、亚烯基或芳香基。 
取代基的具体例子包括α-氯丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、α-氰基乙烯基(α-cyanoethylene)、α-氰基丙烯酰氧基、α-氰基亚苯基(α-cyanophenylene)、甲基丙烯酰胺基等。 
用作X1,X2以及Y的取代基的具体例子包括卤原子、硝基、氰基、烷基(例如甲基以及乙基)、烷氧基(例如甲氧基以及乙氧基)、芳氧基(例如苯氧基),芳基(例如苯基以及萘基)、芳烷基(例如苄基以及苯乙基)等。 
丙烯酰氧基以及甲基丙烯酰氧基适宜用作自由基聚合性官能基。自由基聚合性单体具有三个或三个以上的自由基聚合性官能基,即,丙烯酰氧或甲基丙烯酰氧基适宜用来改善制得的表层的耐磨性。 
具有三个或三个以上的丙烯酰氧基的化合物可以这样制备,即使具有三个或三个以上的羟基的(甲基)丙烯酸(盐)、(甲基)丙烯酰卤以及(甲基)丙烯酸酯,进行酯反应或酯交换反应。具有三个或三个以上的自由基聚合性的单体中的自由基聚合性官能基可以相同也可以不同。 
具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体的具体例子包括(但 是不限于)三丙烯酸(三甲基醇丙烷)酯(TMPTA)、三甲基丙烯酸(三甲基醇丙烷)酯、烯烃改性的三丙烯酸(三甲基醇丙烷)酯、乙烯氧-改性的三丙烯酸(三甲基醇丙烷)酯、丙基氧-改性的三丙烯酸(三甲基醇丙烷)酯、己内酯-改性的三丙烯酸(三甲基醇丙烷)酯、烯烃-改性的三甲基丙烯酸(三甲基醇丙烷)酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、甘油三丙烯酸酯、表氯醇-改性的三丙烯酸甘油酯、亚乙氧基改性的三丙烯酸甘油酯、亚丙氧基-改性的三丙烯酸甘油酯、三(丙烯氧基乙基)异三聚氰酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、二季戊四醇己内酯-改性的六丙烯酸酯、二季戊四醇羟基戊丙烯酸酯、烷基化二季戊四醇四丙烯酸酯、烷基化的二季戊四醇三丙烯酸酯、二甲基醇丙烷四丙烯酸酯(DTMPTA)、季戊四醇乙氧基三丙烯酸酯、亚乙氧基-改性的三丙烯基磷酸酯、2,2,5,5-四羟基甲基环戊酮四丙烯酸酯等。这些单体可以单独或混合起来使用。改性的化合物是因为需要减少其粘度以便使其易于处理(在本说明书中,用醇的名称以及酸的名称表示酯时,用二种写法表示,即一种是“某某醇某某酸酯”,另一种是“某某酸某某醇酯”,这两种表示方法意义相同)。 
为了在交联表层形成致密的交联网络,具有三个或三个以上的官能基的单体的分子量(Mw)与包括在单体分子中的官能基的数目(F)的比(Mw/F)不宜大与250。如该数目太大,得到的交联表面层很软,其耐磨性也会稍微变低。在这种情况下,不宜仅使用一种具有长链基团的具有官能基的单体例如氧化乙烯、氧化丙烯以及己内酯。 
在交联表层中从三个或三个以上的官能基的单体得到的单元的量优选为20-80%(重量),以及更优选30-70%(重量)(以表层的总重量为基准)。如该数量太低,三维交联的密度会变低,由此良好的耐磨性就不能赋与表层。另一方面,如该数量太高,电荷输送化合物量减少,良好的电荷输送特性就不能赋与表层。为了交联表面的耐磨性以及电荷输送特性的平衡,从三个或三个以上的官能基的单体得到的单元的量优选为30-70%(重量)(以表层的总重量为基准)。 
本发明的具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物为具有孔穴输送结构的化合物(例如三芳基胺、腙、吡唑啉以及咔唑)或具有电子输送结构的化合物(例如稠合多环醌、二苯酚合苯醌、氰基以及具有硝基的电子吸引芳香环),这些化合物具有自由基聚合性官能基。自由基聚合性官能基的具体例子包括上述的自由基聚合性单体的官能基,特别是丙烯酰氧以及甲基丙烯酰氧可效果良好地被使用。另外,三芳基胺结构可以效果良好被作为电荷输送结构而使用。进一步,如具有下列通式(1)或(2)的化合物被使用,则电学特性(例如感光度以及残留电位)可以良好地被加以保持。 
Figure S07186330720070321D000072
其中, 
R1表示氢原子、卤原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳烷基、取代的或未取代的芳基、氰基、硝基、烷氧基、-COOR2(其中R2表示氢原子,卤原子,取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳烷基以及取代的或未取代的芳基)以及卤代羰基或CONR3R4(其中R3以及R4各自独立地表示氢原子、卤原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳烷基以及取代的或未取代的芳基); 
Ar1以及Ar2各自独立地表示取代的或未取代的亚芳基;Ar3以及Ar4各自独立地表示取代的或未取代的芳基; 
X表示单键、取代的或未取代的亚烷基、取代的或未取代的亚环烷基、取代的或未取代的亚烷醚基、氧、硫原子以及亚乙烯基; 
Z表示取代的或未取代的亚烷基、取代的或未取代的亚烷醚基以及亚烷氧羰基; 
m以及n表示0以及1-3的整数。 
在通式(1)以及(2)中,在R1的取代基中,烷基包括甲基、乙基、丙基、丁基等; 
芳基包括苯基、萘基等; 
芳烷基包括苄基、苯乙基、萘基甲基等; 
烷氧基包括甲氧基、乙氧基、丙氧基等。 
这些基团可以被下列基团所取代:卤原子、硝基、氰基、烷基(例如甲基以及乙基)、烷氧基(例如甲氧基以及乙氧基)、芳氧基(例如苯氧基)、芳基(例如苯基以及萘基)以及芳烷基(例如苄基以及苯乙基)。 
R1的取代基优选氢原子以及甲基。 
Ar3以及Ar4各自独立地表示取代的或未取代的芳基(例如稠合多环烃基、非稠合环烃基以及杂环基)。 
稠合多环烃基宜为具有18或更少的碳原子形成的环的基团(例如芬太尼基、茚基、萘基、奥基、庚间三烯并庚间三烯、亚联苯基、芴基、苊基、蒽基、芘基以及并四苯基等。 
非-稠合环烃的例子以及杂环基的具体例子包括单环烃化合物的一价基 团(例如苯、二苯基醚、聚亚乙基苯基醚、二苯基硫醚以及二苯基砜);非稠和的多环烃基包括例如联苯基,聚苯基,二苯基烷烃,二苯基烯烃,二苯基炔烃,三苯基甲烷,二苯乙烯基苯,1,1-二苯基环烷烃,多苯基烷烃以及多苯基烯;以及环集合(gathering)烃化合物的一价基例如9,9-二苯基芴。 
杂环基的具体例子包括一价基团例如咔唑、氧芴、硫芴、恶二唑以及噻二唑的一价基团。 
Ar3以及Ar4表示的取代的或未取代的芳基的具体例子包括下列基团: 
(1)卤原子、氰基以及硝基; 
(2)具有1-12碳,优选1-8碳,以及更优选为1-4碳原子的直链的或分支的烷基,以及这些烷基可以进一步包括氟原子、羟基、氰基、具有1-4碳原子的烷氧基、苯基或卤原子、具有1-4碳原子的烷基或被1-4个碳的烷氧基取代的苯基。烷基的具体例子包括甲基、乙基、n丁基、i-丙基、t-丁基、s-丁基、n-丙基、三氟甲基、2-羟基乙基、2-乙氧基乙基、2-氰基乙基、2-甲氧基乙基、苄基、4氯苄基、4甲基苄基、4-苯基苄基等。 
(3)烷氧基(-OR2),其中R2表示在(2)中定义的烷基。该烷氧基具体例子包括甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、I-丙氧基、t-丁氧基、s-丁氧基、I-丁氧基、2-羟基乙氧基、苄基氧基、三氟甲氧基等。 
(4)芳基氧基,其中芳基的具体例子包括苯基以及萘基。这些芳基作为其取代基可以包括具有1-4个碳原子的烷氧基、具有1-4个碳原子或卤原子。芳氧基的具体例子包括苯氧基、1-萘基氧基、2-萘基氧基、4-甲氧基苯氧基、4-甲基苯氧基等。 
(5)烷基巯基或芳基巯基例如甲基硫、乙基硫、苯基硫以及p-甲基苯基硫。 
(6) 
Figure S07186330720070321D000081
其中R10以及R11各自独立地表示氢原子、在(2)中定义的烷基以及芳基。芳基的具体例子包括苯基、联苯基以及萘基。这些芳基可以包括作为取代基的具有1-4个碳原子的烷氧基、具有1-4个碳原子的烷基或卤原子,以及R10以及R11可形成环。具有上述通式的基团的具体例子包括氨基、二乙基氨基、N-甲基-N-苯基氨基、N,N-二苯基氨基、N,N-二(甲苯基)氨基、二苄基氨基、哌啶子基、吗啉基、吡咯烷基等。 
(7)亚烷基二氧基(例如亚甲基二氧基)或者亚烷基二硫基(例如亚甲 基二硫基)。 
(8)取代的或未取代的苯乙烯基、取代的或未取代的β-苯基苯乙烯基、二苯基氨基苯基、二甲苯基氨基苯基等。Ar1以及Ar2表示的亚芳基为从Ar3以及Ar4表示的芳香基衍生的二价基。上述的X表示单键、取代的或未取代的亚烷基、取代的或未取代的亚环烷基、取代的或未取代的亚烷基醚基、氧、硫原子以及亚乙烯基。取代的或未取代的亚烷基是直链的或有分支的亚烷基,该亚烷基具有1-12碳原子,优选为1-8,更优选为1-4碳原子。这些亚烷基还可以进一步包括氟原子、羟基、氰基、具有1-4个碳原子的烷氧基、苯基或卤原子、具有1-4个碳原子的烷基或被具有1-4碳原子的烷氧基取代的苯基。亚烷基的具体例子包括亚甲基、亚乙基、n-亚丁基、i-亚丙基、t-亚丁基、s-亚丁基、n-亚丙基、三氟亚甲基、2羟基亚乙基、2-乙氧基亚乙基、2-氰基亚乙基、2-甲氧基乙基、亚苄基、苯基亚乙基、4-氯苯基亚乙基、4-甲基苯基亚乙基、4-联苯基亚乙基。 
取代的或未取代的亚环烷基为具有5-7碳原子的亚环烷基以及这些亚环烷基可包括氟原子、羟基、氰基、具有1-4碳原子的烷氧基。这些亚环烷基的具体例子包括环己叉、环己撑以及3,3-二甲基环己叉等。 
取代的或未取代的亚烷醚基的具体例子包括亚乙基氧基、亚丙基氧基、乙二醇、丙基二醇、二甘醇、四甘醇以及三缩三丙二醇。烷基醚基中的亚烷基可以包括取代基,例如羟基、甲基以及乙基。 
亚乙烯基可用下列通式表示: 
Figure S07186330720070321D000091
Figure S07186330720070321D000092
其中R12表示氢原子、烷基(与(2)中定义相同)、芳基(与Ar3以及Ar4 中的定义相同);a表示1或2;以及b表示1、2或3. 
Z表示取代的或未取代的亚烷基、取代的或未取代的二价烷基醚基以及二价烷基氧基羰基。取代的或未取代的亚烷基具体例子包括上述X的取代或未取代的亚烷基。取代的或未取代二价烷醚基的具体例子包括上述X的取代的或未取代的二价烷醚基。二价烷基氧羰基的具体例子包括己内酯-改性的二价烷氧羰基。 
另外,本发明的具有电荷输送结构的以及具有一个官能基的自由基聚合性化合物宜为具有下列通式(3)的化合物: 
Figure S07186330720070321D000101
其中o,p以及q各自独立地表示0或1;R5表示氢原子或甲基;R6以及R7表示氢原子以及1-6碳原子的烷基,在具有复数的碳原子时,烷基可以不同;s以及t表示0或1-3的整数;Za表示单键、亚甲基、亚乙基、 
-CH2CH2O-、 
Figure S07186330720070321D000102
或 
Figure S07186330720070321D000103
具有通式(3)的化合物优选具有作为R6以及R7的取代基的甲基或乙基的化合物。 
用于本发明的具有通式(1)、(2)以及特别是(3)的电荷输送结构的电荷输送的机理可能是这样的。即具有一个官能团的自由基聚合性化合物由于在向着两边开放的同时进行聚合的碳原子之间的双键,不能成为封端结构,而是成为链状聚合物。在由具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体进行聚合而成的交联聚合物中,出现在主链以及主链之间的交联链(交联链包括一个高分子与另一个高分子之间的交联链以及在处于折叠状态的同一高分子中某一部位与离开该部一定距离的由来于聚合的单体的另一部位之间的交联链)上。不管其出现在主链上还是出现在交联链上,在从链上垂下的有从氮原子上成放射状配置的至少三个芳基的三芳基胺结构,(虽然比较笨重)并不直接与链直接相连接,而是以羰基等为媒介固定于链上并垂下。由此,该结构在立体结构中位置就比较有柔软性。这样一来,三芳基胺结构就可以以恰好的间距相邻接,从而分子中的扭曲就会比较少,这样一来,在作为电子照相感光体的表面层的场合,就不会遮断电子的通道。 
进一步,在本发明中,具有下列通式(4)的特定的丙烯酸酯化合物也适宜作为具有电荷输送结构的具有一个官能自由基聚合性化合物而加以使用: 
B1-Ar5-CH=CH-Ar6-B2             …(4) 
其中Ar5表示取代的或未取代的由芳香烃骨架形成的一价基团或二价基团。 
芳香族烃的具体例子包括例如苯、萘、菲、联苯以及1,2,3,4-四氢化萘。 
芳香烃骨架的取代基的具体例子包括具有1-12碳原子的烷基、具有1-12碳原子的烷氧基、苄基以及卤原子。其中烷基以及烷氧基可以进一步具有作为取代基的卤原子或苯基。 
Ar6表示由具有一个或多个叔胺基的芳香烃骨架或杂环化合物骨架形成的一价或二价的基团。具有一个或多个叔胺基的芳香烃骨架具有下列通式(A): 
Figure S07186330720070321D000111
其中R13以及R14表示酰基、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基或取代的或未取代的链烯基;Ar7表示芳基;h表示1to3整数。 
酰基的具体例子包括乙酰基、丙酰基、苯甲酰基等。取代的或未取代的烷基的具体例子包括具有1-12碳原子的烷基。取代的或未取代的芳基的具体例子包括苯基、萘基、联苯基、三联苯基、芘基、芴基、9,9-二甲基-芴基、奥基、蒽基以及具有下列通式基团: 
Figure S07186330720070321D000112
其中B表示-O-、-S-、-SO、-SO2-、-C0以及下列的二价基团;以及R21 表示氢原子、具有1-12碳原子的烷基、烷氧基、卤原子、上述的取代的或未取代的芳基、氨基、硝基以及氰基; 
Figure S07186330720070321D000121
Figure S07186330720070321D000122
其中R22表示氢原子、具有1-12碳原子烷基以及上述的取代的或未取代的芳基;i表示1-12的整数;以及j表示1-3的整数。 
烷氧基的具体例子包括甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、i-丙氧基、n-丁氧基、i-丁氧基、s-丁氧基、t-丁氧基、2-羟基乙氧基、2-氰基乙氧基、苄基氧基、4-甲基苄基氧基、三氟甲氧基等。 
卤原子的具体例子包括氟、氯、溴以及碘。 
胺基的具体例子包括二苯基胺基、二甲苯基胺基、二苄基胺基、4-甲基苄基胺基等。 
芳基的具体例子包括苯基、萘基、联苯基、三联苯基、芘基、芴基、9,9二甲基芴基、奥基、蒽基、9、10-苯并菲基以及屈基。 
Ar7,R13以及R14可以具有作为其取代基的1-12碳原子的烷基、烷氧基以及卤原子。 
具有一个或多个叔胺基的杂环化合物骨架的具体例子包括具有胺结构的杂环化合物,  例如吡咯、吡唑、咪唑,三唑、二恶唑、吲哚、异吲哚、吲哚啉满、苯并咪唑,苯并三唑以及咔唑等。 
它们可以具有作为取代基的1-12碳原子的烷基,烷氧基以及卤原子。 
至少B1或B2之一为氢原子,其另一个为丙烯酰氧基;甲基丙烯酰氧;乙烯基;具有丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧或乙烯基的烷基;或具有丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基或乙烯基的烷氧基。 
具有通式(4)丙烯酸酯化合物优选具有下列通式(5)的化合物: 
Figure S07186330720070321D000123
其中R8以及R9表示取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的烷氧基以及卤原子;以及Ar7以及Ar8表示取代的或未取代的芳基或亚芳基、以及取代的或未取代的苄基;B1-B4与通式(1)中B1以及B2的所表示的基 团相同以及只出现其中一个;u表示0或1-5的整数;以及v表示0或1-4的整数。 
特定的丙烯酸酯化合物具有下列特征。丙烯酸酯化合物具有发达的1,2-二苯乙烯型的共轭结构的叔胺化合物。如此具有发达的共轭结构的电荷输送化合物交联层会对界面部分的电荷注入有很大的帮助。进一步,即使交联键被固定的场合,也难以阻碍分子间的相互作用,因此具有良好的电荷输送能力。具有高的自由基-聚合性丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基的丙烯酸酯化合物在自由基聚合时,会迅速胶化而不会产生过度的交联扭曲。二苯乙烯型共轭结构双键部分参加聚合,并且丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基相比其聚合性低,从而产生交联的时间差以及交联扭曲不会达到最大值。另外,双键参加聚合可以提高交联反应的数目,形成更高的交联密度。进一步,双键可以通过交联的条件来控制聚合,由此可容易地形成最为适宜的交联膜。这种对自由基聚合的交联参与是本发明的丙烯酸酯化合物的特异的性质。上述的α-苯基1,2-二苯乙烯型的机构是不可能进行这种参与的。 
具有自由基聚合性官能基以及通式(4),特别是通式(5)的电荷输送化合物,可以形成维持良好的电学特性的交联膜,不会发生龟裂,并且可以防止颗粒材料例如二氧化硅对感光体的扎刺,从而减少具有白斑的不良图像的发生。 
自由基聚合性官能基的数目对形成交联结构以以少为好,但是对耐磨性来说是以多为好。在本发明中,其数目可以考虑两者的平衡而加以确定。 
具有电荷输送结构自由基聚合性化合物的例子包括具有下列通式(Nos.1-185)的化合物,但是并不限于此。 
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000021
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000031
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000041
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000051
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000061
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000071
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000081
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000091
Figure DEST_PATH_S07186330720070611D000101
用于本发明的具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物对使交联表层具有电荷输送能力是重要的。其数量宜为20-80%(重量),优选为30-70%(重量)(以总重量计)。如小于20%(重量),交联表层就不能保持电荷输送能力,得到的感光体在反复使用时,其感光性就会变差,残留电位就会提高。如大于80%(重量),不具有电荷输送结构的具有三个或三个以上的官能基的单体减少,从而交联密度就会变差,由此而得到的感光体就不会具有高的耐磨性。尽管根据所需求的耐磨性以及电学特性不同而不同,但是考虑到它们之间的平衡,具有电荷输送结构的一官能基的自由基聚合性化合物的量最优选为30-70%(重量). 
本发明的交联表层的层膜密度为1.0-1.4g/cm3。层膜密度是将交联表层的重量用通过膜厚算出的体积而得到的。在本发明中,交联表层在形成前后的重量变化用AE163电子天平(Mettler-Toledo International Inc.制)进行测定,层厚是用Fischer Scope MMS(Fischer Instruments K.K.)在22℃以及55%RH下测量的。任何与该测量方法类似的方法都可用于本发明。 
具有层膜密度为1.0-1.4g/cm3的交联表层具有致密的结构以及可以形成具有高的-可信性以及长寿命的感光体,并且它具有改善的环境安定性以及可以减少气体例如臭氧、氮氧化物以及水蒸气的透过性。 
本发明的交联表层的残留溶剂宜不大于5,000ppm,优选不大于1,000ppm,以及更优选不大于500ppm(交联时、基于层膜密度)。残留溶剂越少,交联表层的层膜密度越高。 
溶剂的具体例子包括烃类,例如庚烷、辛烷、三甲基戊烷、异辛烷、壬烷,2,2,5-三甲基己烷、葵烷、苯,甲苯,而甲苯、乙苯、异丙基苯、苯乙烯、乙基环己酮以及环己酮;醇类例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、异丁基醇、叔-丁基醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、2-甲基-1-丁醇、叔-戊基醇、3-甲基-1-丁醇、3-甲基-2-丁醇、新戊基醇、1-己醇、2-甲基-1-戊醇、4-甲基-2戊醇、2-乙基-1-丁醇、3-庚醇、烯丙醇、丙二醇、苄基醇、环己醇、1,2-乙二醇以及1,2-丙二醇;酚类例如苯酚以及甲酚;醚例如二丙基醚、二异丙基醚、二丁基醚、丁基乙烯基醚、苄基乙基醚、二恶烷、苯甲醚以及1,2-环氧丁烷;醛类例如乙醛、1,2-二甲氧基乙烷以及1,2-二乙氧基乙烷;酮例如丙酮、甲基乙基酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、二异丁基酮、甲基氧化物、环己酮、甲基环己酮、4-甲基-2-戊酮、乙酰丙酮以及丙酮基丙酮;酯例如乙酸乙基酯、乙酸丙基酯、乙酸丁基酯、乙酸戊基酯、3-甲氧基丁基乙酸酯(在本说明书中,将酯表示为“某某酸某某基酯”以及“某某基某某酸酯”两种形式,其意义相同)、二乙基碳酸酯以及2-甲氧基乙基乙酸酯;卤素例如氯苯;硫化合物例如四羟基噻吩;具有多官能基的化合物例如2甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、糠基醇、四氢糠基醇、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、糠醛、2-甲氧基乙基乙酸酯、2乙氧基乙基乙酸酯、丙二醇丙基醚以及丙二醇1-单甲基醚-2-乙酸酯;环戊烷、乙酸甲酯、四氢呋喃以及甲醇等。 
溶剂宜具有不小于50mm Hg/25℃的饱和蒸气压,优选不小于100mmHg/25℃,更优选不小于150mm Hg/25℃,以便减少残留溶剂。从饱和蒸气压的观点来看,丙酮、环戊烷、乙酸甲酯、四氢呋喃以及甲醇为适用的溶剂。这些溶剂可以单独使用或者混合起来使用。 
溶剂的稀释率依照各成分的溶解度、涂布方法以及层厚来决定。但是、从交联的表层的残留的溶剂的数量以及使其具有足够的粘着性的观点,涂布液中的固体成分宜为3-50%(重量),优选为10-30%(重量)。 
本发明的交联表层是以以下方法形成的: 
即准备溶液(涂布液),其至少包括不具有电荷输送结构的具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体以及具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物;涂布以及干燥;以及硬化(交联)该溶液。另外,涂布液还可以包括具有一个官能基以及二官能基的自由基聚合性单体,功能性单体以及自由基聚合性低聚物,以便控制涂布时的的表层的粘度,减少应力,赋与低的表面能以及减少摩擦系数。已知的自由基聚合性单体以及低聚物都可以适用。 
具有一个官能基单体具体例子包括2-乙基己基丙烯酸酯,2-羟基乙基丙烯酸酯,2-羟基丙基丙烯酸酯、四氢糠基丙烯酸酯、2-乙基己基二甘醇一乙醚丙烯酸酯、3-甲氧基丁基丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、环己基丙烯酸酯、异戊基丙烯酸酯、异丁基丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇丙烯酸酯、苯氧基四乙二醇丙烯酸酯、十六烷基丙烯酸酯、异硬质基丙烯酸酯、硬质基丙烯酸酯、苯乙烯单体等。 
二官能基单体的具体例子包括1,3-丁二醇丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、新戊醇二丙烯酸酯、EO-改性的双酚A二丙烯酸酯、EO-改性的双酚F二丙烯酸酯等。 
功能单体的具体例子包括八氟戊基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基丙烯酸酯、2-全氟辛烷乙基甲基丙烯酸酯、2-全氟异壬基乙基丙烯酸酯等,其中氟被置换了的;具有20-70个硅氧烷重复单元的乙烯基单体公开在日本专利公开Nos.5-60503以及6-45770中,它们为例如丙烯酰聚二甲基硅氧烷乙基、甲基丙烯酰聚二甲基硅氧烷乙基、丙烯酰聚二甲基硅氧烷丙基、丙烯酰聚二甲基硅氧烷丁基以及二丙烯酰聚二甲基硅氧烷二乙基;丙烯酸酯;以及甲基丙烯酸酯。 
自由基聚合性低聚物的具体例子包括环氧丙烯酸酯低聚物、尿烷丙烯酸酯低聚物以及聚酯丙烯酸酯低聚物。 
但是,在交联表层包括大量的具有一个或二官能基的自由基聚合性单体以及自由基聚合性低聚物的场合,三维交联键的密度会产生实质性的降低,造成耐磨性的低下。因此,本发明的表层宜包括的单体以及低聚物的量,宜不大于50份(重量),优选不大于30份(重量)(以每100份(重量)具有三个或三个以上的官能基自由基聚合性单体来计算)。 
本发明的交联表层是如下形成的。即制备溶液(涂布液),其至少包括具有三个或三个以上的官能基并且不具有电荷输送结构的自由基聚合性单体,以及具有一个官能基自由基聚合性化合物,涂布并干燥溶液,以及硬化(交联)溶液。涂布液可以任选地包括聚合引发剂,例如热聚合引发剂以及光聚合引发剂以便高效地进行交联反应。 
热聚合引发剂的具体例子包括过氧化物引发剂例如,2,5-二甲基己烷2,5-二氢过氧化物、苯甲酰过氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(过氧苯甲酰)己炔-3以及月桂酰基过氧化物;以及偶氮引发剂,例如偶氮双异丁基腈、偶氮双环己烷腈、偶氮双异甲基丁酸酯以及4,4’-偶氮双-4-氰基戊酸等。 
光聚合引发剂具体例子包括丙酮或缩酮光聚合引发剂,例如二乙氧基乙酰苯、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基-环己基-苯基-ket酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-(2-羟基-2-丙基)甲酮以及苯基-1,2丙烷二酮2-(o-乙氧基羰基)肟;苯甲酰苯甲醇醚光聚合引发剂,例如苯甲酰苯甲醇、苯甲酰苯甲醇甲基醚、苯甲酰苯甲醇乙基醚、苯甲酰苯甲醇异丁基醚以及苯甲酰苯甲醇异丙基醚;苯并苯酮光聚合引发剂,例如苯并苯酮、4-羟基苯并苯酮、o-苯甲酰甲基苯甲酸酯、2苯甲酰萘、4-苯甲酰苯基醚、丙烯酸化苯并苯酮以及1,4-苯甲酰苯;噻吨酮光聚合引发剂,例如2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮以及2,4-二氯噻吨酮;以及其他的光聚合引发剂,例如乙基蒽醌、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基膦氧化物、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基乙氧基膦氧化物、双(2,4,6-三甲基苯甲酰)苯基膦氧化物、双(2,4-二甲氧基苯甲酰)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、9,10-菲以及咪唑化合物。进一步,具有光聚合效果材料可以单独使用或者与上述的光聚合引发剂混合起来使用。这种材料的具体例子包括三乙醇胺、甲基二乙醇胺、4-二甲基氨基乙基苯甲酸酯、4-二甲基氨基异戊基苯甲酸酯、乙基(2-二甲基氨基)苯甲酸酯以及4,4-二甲基氨基苯并苯酮。 
这些聚合引发剂可以单独使用或者混合起来使用。本发明的交联表层包括聚合引发剂的数量宜为0.5-40份(重量),以及优选为1-20份(重量)(以每100份(重量)的自由基聚合性化合物为基准)。 
进一步,涂布液可以任选性的包括各种添加剂,例如增塑剂(用来缓和应力以及改善粘附度),涂平剂(leveling agents)以及没有自由基反应性低-分子量电荷输送材料。可以使用已知的添加剂。增塑剂的具体例子包括在一般树脂中使用的例如二丁基邻苯二甲酸酯以及二辛基邻苯二甲酸酯的增塑剂。其数量宜不大于20%(重量),以及优选不大于10%(重量)(以涂布液的固体分总重量为基准)。 
涂平剂的具体例子包括硅油(例如二甲基硅油以及甲基苯基硅油);以及在侧链中有全氟烷基的聚合物以及低聚物。其数量以不大于3%(重量)。 
形成交联表层的方法有浸渍涂布方法、喷雾涂布方法、珠涂法以及环涂法等。喷雾涂布方法被优选使用,这是因为可以控制形成交联表层中的残留溶剂的数量。 
在本发明,在涂布液被涂敷成层后,对其继续施加能量使层硬化以形 成交联表层。在使层硬化之前,使层脱溶剂。任何已知的脱溶剂方法的方法都可以使用。但是,优选使用在常压或减压下加热干燥的方法。干燥温度优选不高于170℃。干燥时间决定与干燥温度以及残留溶剂,但是不宜长于24小时,这样交联表层的成分就不会结晶或分离。 
从外部施加的能量包括热、光以及射线。热能使用气体从涂敷的一侧或基体一侧来施加。气体为例如空气、氮、水蒸气以及各种各样的热介质,以及红外线、电磁波等。加热温度宜为100-170℃。如小于100℃,反应速度变慢并难以彻底完成反应;如大于170℃,反应就不会均匀地进行,以至于在交联表层中形成大的扭曲。为了均匀地进行硬化反应,在小于100℃的相对较低的温度下进行加热后,进行加热到不低于100℃以使反应高效地进行。光能的具体例子包括UV辐射例如可放射出UV线的高压水银灯以及卤化金属灯;以及与自由基聚合性化合物以及光聚合引发剂的吸收波长相匹配的可见光源也可以使用。照射的光量宜为50-1,000mW/cm2。当小于50mW/cm2时,硬化反应需要长时间。当大于1,000mW/cm2时,反应就会不均匀的进行,会使交联表层表面凸凹。辐射能还包括使用电子束的辐射能量。在这些能量中,热以及光效率高,这是因为用其可以简单地控制反应速度以及使用简单的装置。 
由于本发明地交联表层层厚根据使用交联表层的感光体的层结构的不同而有所不同,由此在此使用以下的层结构来对层厚加以说明。 
以下参照附图,来对本发明的电子照相感光体进行说明。 
图1以及图2是本发明的电子照相感光体的感光层的截面图。该感光体是单层感光体,其由具有电荷生成功能以及电荷输送功能的并被设置于导电基体(31)之上的感光层(33)构成。在图1中,表示了由交联以及硬化的表面层构成感光体整体的情况。在图2中,交联表层是在感光层的表面上形成的。 
图3以及图4是本发明的电子照相感光体的层的另一个实施形态的截面图像,其为多层感光体,由具有电荷生成功能电荷生成层(35)以及具有电荷输送功能电荷输送层(37)构成,并且被配置在导电基体(31)的上面。在图3中,电荷输送层的全部是由交联以硬化的交联表层构成的。在图4中,交联表层是在电荷输送层表面上形成的。用于导电基体(31)的适宜的材料包括具有体积电阻不大于大于1010Ωcm的材料。其具体例子包括塑料圆筒、塑料膜或纸板,在这些材料的表面上,用蒸镀或溅射的方法将例如,金属(例如铝、镍、铬、镍铬合金、铜、金、银、自金等金属、金属氧化物(例如氧化锡以及氧化铟等)进行涂敷而形成的。或者使用铝、铝合金、镍以及不锈钢的板材,以及,将这些材料用挤出或拉制的方法制成半成品管后,再进行切削、超精加工以及研磨等表面加工而成的管。 
另外,也可以使用在特开昭52-36016号公报中公开的无缝镍带以及无缝不锈钢带来作为导电性基体(31)。 
进一步,作为导电性基体,还可以使用将导电性粉末分散到适当的粘结树脂中并涂敷于上述的基体上而得到的物品。 
导电性粉末的具体例子包括炭黑、乙炔黑、金属粉末(例如铝、镍、铁、镍铬、铜、锌、银等,以及金属的氧化物、例如导电的锡氧化物、ITO等。 
粘结树脂的具体的例子包括已知的热塑性树脂、热固性树脂以及光-交联树脂,例如聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚酯、聚氯乙烯、氯乙烯基-乙酸乙烯基酯共聚物、聚乙酸乙烯基酯、聚二氯乙烯、聚芳基化物、苯氧基树脂、聚碳酸酯、聚乙酸纤维素树脂、乙基纤维素树脂、聚乙烯基丁醛树脂、聚乙烯基甲缩醛树脂、聚乙烯基甲苯、聚-N-乙烯基咔唑、丙烯酸树脂、硅氧烷树脂、环氧树脂、密胺树脂、尿烷树脂、酚醛树脂、醇醛树脂以及类似的树脂。 
这样的导电层可以通过对在适宜的溶剂中使导电性粉末以及粘结树脂分散或溶解而形成的涂布液进行涂布、然后干燥而得到的。所述合适的溶剂例如,四氢呋喃、甲基乙基酮、甲苯等。 
另外,基体上,用由下列的物质与导电材料混合在一起而构成的热收缩性的管子来形成导电树脂膜也可以作为导电性基体适用于本发明。这些物质为例如聚氯乙烯、聚丙烯、聚酯、聚二氯乙烯、聚乙烯、氯化橡胶以及TEFLON(注册商标)。 
以下,对感光层加以说明。感光层可以分单层或多层。多层感光层由具有电荷输送功能电荷输送层以及具有电荷生成功能电荷生成层构成。单层感光层是由同时具有电荷生成功能以及电荷输送功能的层构成。 
以下,将对多层感光层以及单层感光层进行分别说明。 
电荷发生层(CGL)35包括作为主成份的电荷发生物质,并且可选择性地包括粘结树脂。电荷发生物质包括无机材料以及有机材料。 
所述无机材料的例子包括结晶硒、无定形硒、硒锑化合物、硒-锑-卤素化合物以及硒-砷化合物等。 
有机材料的具体例子包括任何已知的可发生电荷的有机材料,例如酞菁颜料(例如含有金属酞菁、不含金属酞菁)、奥嗡盐颜料(azulenium saltpigments)、方形酸次甲基颜料、具有咔唑骨架的偶氮颜料、具有三苯基胺骨架的偶氮颜料、具有二苯基胺骨架的偶氮颜料、具有二苯并噻吩骨架的偶氮颜料、具有芴酮骨架的偶氮颜料、具有氧杂二唑骨架的偶氮颜料、具有双茋(bisstilbene)骨架的偶氮颜料、具有二苯乙烯基氧杂二唑骨架的偶氮颜料、蒽醌颜料、多环醌颜料、醌亚胺颜料、二苯基甲烷颜料、三苯基甲烷颜料、苯醌颜料、萘醌颜料、喹啉蓝颜料、偶氮甲碱颜料、靛类颜料、双苯并 咪唑颜料等。这些电荷发生材料可以单独使用、也可以混合起来使用。 
可以根据需要选择性的包括在CGL(35)中的粘结树脂的具体例子包括聚酰胺、聚尿烷、聚酮、聚碳酸酯、硅氧烷树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯基缩丁醛、聚乙烯剂甲缩醛、聚乙烯基酮、聚苯乙烯、聚-N-乙烯基咔唑、聚丙烯酰胺等。这些粘结树脂可以单独使用,也可以混合起来一起使用。 
另外,在上述粘结树脂之外,电荷输送聚合物材料也可以作为粘结树脂使用在CGL中。它们的具体例子包括下列聚合物料:例如具有芳基胺骨架、联苯胺骨架、腙骨架、咔唑骨架、茋骨架或吡唑啉骨架的聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚尿烷树脂、聚醚树脂、聚硅氧烷树脂以及丙烯酸树脂等;以及具有聚硅烷骨架的聚合物。 
前者的聚合物材料的具体例子包括在下列文献中公开的电荷输送聚合物材料。这些文献为日本专利申请公开Nos.01-001728、01009964、01-013061、01-019049、01-241559、04-011627、04-175337、04-183719、04-225014、04-230767、04-320420、05-232727、05-310904、06-234838、06-234839、06-234840、06-234839、06-234840、06-234841、06-236051、06-295077、07-056374、08-176293、08-208820、08-211640、08-253568、08-269183、09-062019、09-043883、09-71642、09-87376、09-104746、09-110974、09-110976、09-157378、09-221544、09-227669、09-235367、09-241369、09-268226、09-272735、09-302084、09-302085、09-328539等。 
后者的聚合物材料的具体例子包括公开在日本专利中请公开Nos.63-285552、05-19497、05-70595、10-73944中的聚亚甲硅基聚合物等。 
CGL(35)还可包括低分子量的电荷输送材料。该低分子量电荷输送材料包括孔穴输送材料以及电子输送材料。该电子输送材料的具体例子包括电子受体材料例如四氰醌、四溴带苯醌、四氰基乙烯、四氰基醌二甲烷、2,4,7-三硝基-9-芴酮、2,4,5,7-四硝基-9-芴酮、2,4,5,7-四硝基-氧杂蒽酮、2,4,8-三硝基硫杂蒽酮、2,6,8-三硝基-4H-茚并[1,2-b]噻酚-4-酮、1,3,7-三硝基苯并噻酚5,5-二氧、二苯酚合苯醌衍生物等。这些电子输送材料可以单独使用或者混合起来使用。 
孔穴输送材料具体例子包括电子供体材料例如恶唑衍生物、恶二唑衍生物、咪唑衍生物、一芳基胺衍生物、二芳基胺衍生物、三芳基胺衍生物、茋衍生物、α-苯基茋衍生物、联苯胺衍生物、二芳基甲烷衍生物、三芳基甲烷衍生物、9-苯乙烯基蒽衍生物、吡唑啉衍生物、二乙烯基苯衍生物、腙衍生物、茚衍生物、丁二烯衍生物、芘衍生物、双茋衍生物、烯胺衍生物以及其他的已知材料。这些孔穴输送材料可以单独使用或者混合起来使 用。 
电荷生成层(35)的形成方法大体上可以分为真空成膜法以及溶剂分散浇注方法。真空成膜方法的例子包括真空蒸着法,电晕放电分解法,铁板法,溅射方法,反应溅射方法,CVD(chemical vapor deposition)方法等。上述的无机以及有机材料的层可以用这些方法形成。 
形成电荷生成层浇注方法(casting)一般说来包括下列步骤: 
(1)将1种或多种上述的无机有机电荷生成材料与溶剂混合,这些溶剂四氢呋喃、二恶烷、二氧戊环、甲苯、二氯甲烷、单氯苯、二氯乙烷、环己酮、环戊酮、苯甲醚、二甲苯、甲基乙基酮、丙酮,乙酸乙酯、乙酸丁酯等。根据需要涂布液种还可以任选地包粘结树脂以及涂平剂(例如二甲基硅油以及甲基苯基硅油),然后,用球磨、超微磨碎机、沙磨、珠(beads)磨、将混合液混合,从而制得CGL涂布液; 
(2)将CGL涂布液(如需要、可将其稀释)涂布在基体上。涂布方法为例如浸渍涂布、喷雾涂布、珠涂以及环涂;以及 
(3)将涂敷的液体干燥形成CGL。 
CGL的厚度宜为0.01-5μm,以及优选0.05-2μm。 
电荷输送层(CTL)(37)为具有电荷输送能力的层,本发明的交联表层(32)可以有效的使用于CTL。在CTL(37)全部是交联表层(32)时,如上述,将本发明的包括具有三个或三个以上的官能基的,不具有电荷输送结构的自由基聚合性单体以及具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物的涂布液(以下称其为自由基聚合性组合物)涂敷在CGL(35)上,以及依据需要对其进行干燥以便形成涂敷层,以及施加外部能量硬化涂敷层,由此形成交联表层。 
交联表层的厚度优选为10-30μm,以及更优选10-25μm。当其薄于10μm时,就不能维持充分的充电电位。如厚度大与30μm,在硬化时,体积会发生收缩,从而会发生与下层的分离。 
当交联表层在CTL(37)的表面上形成时(如图4所示),CTL(37)是通过将其中包括具有电荷输送能力的电荷输送材料以及粘结树脂分散在合适的溶剂中而形成的溶液涂布在CGL(35)上,形成涂敷层,并对该涂敷层加以干燥。交联表面层是将本发明的包括上述的自由基聚合性组合物涂敷在CTL(37)上,然后用外部能量对涂布层进行交联以及硬化。 
电荷输送物质的具体的例子包括,在上述CGL中使用的电子输送物质、正孔输送物质以及电荷输送聚合物物质。特别是,电荷输送聚合物物质,当在其上涂敷表层时,可以有效的用来去除下层的溶液。 
粘结树脂的具体例子包括,热塑性或热固性树脂,例如,聚苯乙烯树脂、苯乙烯丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚酯树脂、聚乙烯基氯化物树脂、乙烯基氯化物-乙酸乙烯基酯共聚物、聚乙 酸乙烯基酯树脂、聚二氯乙烯基树脂、聚芳基化物树脂、苯氧基树脂、聚碳酸酯树脂、乙酸纤维素树脂、乙基纤维素树脂、聚乙烯基丁醛树脂、聚乙烯基甲缩醛树脂、聚乙烯基甲苯树脂、聚-N-乙烯基咔唑树脂、丙烯酸树脂、硅氧烷树脂、环氧树脂、密胺树脂、尿烷树脂、苯酚树脂以及醇酸树脂. 
在图4中所示的CTL宜包括的电荷输送材料的数量为20-300份(重量),以及优选为40-150份(重量)(以及100份(重量)的粘结树脂为基准)。但是,电荷输送聚合物材料可以单独使用或者与粘结树脂混合起来使用。 
用于对图4中所示的CTL(37)进行图涂布的溶剂包括用来对CGL(35)进行涂布的溶剂,特别是、优选可以很好地将电荷输送材料以及粘结树脂加以溶解的溶剂。这些溶剂可以单独使用或者混合起来使用。在图4中所示的CTL可以通过与CGL(35)的涂布方法相同的方法来制备。 
在图4中所示的CTL(37)可以任选地包括增塑剂以及涂平剂。 
增塑剂的具体例子包括用于典型树脂的增塑剂,例如邻苯二甲酸二丁基酯以及邻苯二甲酸二辛基酯,其数量为宜为0-30份(重量)(每100份(重量)的粘结树脂)。 
涂平剂的具体例子包括硅油例如二甲基硅油以及甲基苯基硅油;以及在其侧链上具有全氟烷基的聚合物低聚物。其数量宜为0-1份(重量)/每100份(重量)的粘结树脂。 
在图4所示的CTL(37)宜具有5-40μm,以及优选10-30μm的厚度。 
在图4中所示的交联表层(32)是CTL(37)的表面上形成时,如在交联表面层的形成方法中所述的那样,是将包括本发明的自由基聚合性组合物的涂布液涂布在CTL上,并且根据需要任选性的进行干燥以形成涂布层,接着,对其施加外部能量,使涂布层硬化形成交联层。该交联表面层的厚度适宜为1-20μm,以及优选为2-10μm。如薄于1μm,则会由于不均匀的层厚而带来不均匀的耐久性,当厚度大于20μm时,CTL(37)以及交联表层的整体厚度变得太厚,会使电荷发生扩散,使感光体的图像再现性变得低下。 
单-层感光层同时具有电荷生成功能以及电荷输送功能。本发明的具有电荷输送结构以及包括具有电荷生成功能的电荷生成材料的交联表层可以有效的用作图1中所示的单层感光层。如在形成CGL的浇注方法中所说的那样,将电荷生成材料分散在包括自由基聚合性组合物的涂布液中,然后将该涂布液涂布在导电基体上,并且可以(选择性地)将其进行干燥以便形成涂布层。然后,使用外部的能量在涂布层中进行硬化反应,形成交联表面层。电荷生成材料可以预先分散在溶剂中,形成分散液,该分散液可以加在涂布液中,来用于交联表面层。该交联表面层的厚度优选为10-30μm,以及更优选 为10-25μm。如该厚度薄于10μm时,充足的充电电位就不能得以保持。如厚度大于30μm,在硬化时,膜的体积就会收缩,就会引起交联表面层与其下一层的分离。 
如图2所示,当交联表面层是单层感光层表面部分时,感光层的下层部分可以通过这样的方法来形成,即将电荷生成性电荷生成材料、电荷输送性电荷输送材料以及粘结树脂溶解或分散在合适的溶剂中,制成溶液或分散液。然后、将该溶液或分散液进行涂布并进行干燥。增塑剂以及涂平剂可以任选性地加在溶液或分散液中。电荷生成材料、电荷输送材料、增塑剂以及涂平剂的分散方法与上述的电荷生成层(35)以及电荷输送层(37)的情况相同。在电荷输送层(37)以及电荷生成层(35)中使用的粘结树脂也可以在此使用。另外,为了降低低层感光层的成分向交联表层的混入,电荷输送聚合物材料也可以效果良好地加以使用。感光层的下层的优选层厚为5-30μm,更优选具有层厚为10-25μm。 
当交联表层为单层感光层的表面部分时,如在交联表面层的形成方法中所提到的那样,是将包括有本发明的自由基聚合性组合物以及粘结树脂的涂布液体涂布在感光层上,并任选地进行干燥,从而形成涂层。然后,施加外部能量使涂层硬化形成交联表面层。该交联表层的厚度优选为1-20μm,以及更优选为2-10μm。如层后小于1μm,层厚就会变得不均匀,从而使其耐久性就变得不均匀。 
单层感光层的电荷生成材料的数量优选为1-30%(重量),粘结树脂为20-80%(重量)以及电荷输送材料为10-70份(重量)(以总重量计)。 
当交联表层处在感光层之上时,本发明的感光体在感光层与交联表层之间可以有中间层。中间层是为了防止下面的感光层的成分混入交联表面从而阻碍硬化反应的进行,以及避免产生凸凹不平。另外,该中间层还改善交联表层与感光层的粘结性的作用。 
中间层包括作为主成份的树脂。树脂的具体的例子包括聚酰胺、醇溶性尼龙、水溶性聚乙烯基丁醛、聚乙烯基丁醛、聚乙烯基醇等。中间层可以用上述的已知的涂布方法的一种来形成。中间层的厚度优选为0.05-2μm。 
本发明的感光体可以在基体(31)以及感光层之间具有衬层。衬层可以包括作为其主成份的树脂。由于感光层一般说来是通过在衬层上将包括有机溶剂的涂布液进行涂布而形成的,所以衬层中的树脂优选具有良好的抗溶剂性。这种树脂的具体例子包括水溶性树脂例如聚乙烯基醇树脂,酪蛋白以及聚丙烯酸的钠盐;醇溶性树脂例如尼龙共聚物以及甲氧基甲基化尼龙树脂;以及可以形成三维网络的热固性树脂,例如聚尿烷树脂、密胺树脂、醇酸树脂、醇酸-密胺树脂、环氧树脂等。衬层可以包括金属氧化物微粒(例如氧化钛、二氧化硅、氧化铝、氧化锡等)、以便防止波纹图像的发生以及减少 感光体的残留电位。 
衬层也可以通过将使用适当的溶剂的涂布液进行涂布而形成。涂布方法可以使用与在形成感光层时的方法相似的方法。形成衬层时,可以使用硅烷耦合剂,钛耦合剂等。另外,在本发明的衬层中,还可以使用阳极氧化法形成氧化铝层,以及有机化合物的层(例如聚对二甲苯)或无机化合物(例如SiO,SnO2,TiO2,ITO or CeO2)的层,这些层可以用真空蒸镀的方法来形成。在这些材料之外,已知的材料也可以使用。衬层的厚度优选0-5μm。 
在本发明中,防氧化剂可以被包括在各层中,也就是存在于交联表层、电荷生成层、电荷输送层、衬层以及中间层中以改善对环境条件的稳定性。即避免感光度的减少以及提高残留电位。 
用于本发明的防氧化剂的具体例子包括下列化合物。 
(苯酚化合物) 
2,6-二-t-丁基-p-甲酚、丁基羟基苯甲醚、2,6-二-t-丁基-4-乙基苯酚、2,2’亚甲基-双-(4-甲基-6-t-丁基苯酚)、2,2’-亚甲基-双-(4-乙基-6-t-丁基苯酚)、4,4’-硫双-(3-甲基-6-t-丁基苯酚)、4,4’-丁二烯双-(3-甲基-6-t-丁基苯酚)、1,1,3-三s-(2-甲基-4-羟基-5-t-丁基苯基)丁烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-t-丁基-4-羟基苄基)苯、四-[亚甲基-3-(3’,5’-二-t-丁基-4’-羟基苯基)丙酸酯]甲烷、双[3,3’-双(4’-羟基-3’-t-丁基苯基)丁酸]乙二醇酯、N-苯基-N’-异丙基-p-亚苯基二胺、N,N’-二-sec-丁基-p-亚苯基二胺、N-苯基-N-sec-丁基-p-亚苯基二胺、N,N’-二-异丙基-p-亚苯基二胺、N,N’-二甲基-N,N’-二t-丁基-p-亚苯基二胺,等。 
(氢醌化合物s) 
2,5-二-t-辛基氢醌、2,6-二(十二烷基)氢醌、2-十二烷基氢醌、2-十二烷基-5-氯氢醌、2-t-辛基-5-甲基氢醌、2-(2-十八碳烷基)-5-甲基氢醌等。 
(有机含硫的化合物) 
二月桂基-3,3’-硫二丙酸酯、二硬质基-3,3’-硫代二丙酸酯,二十四烷基-3,3’-硫代二丙酸酯、等。 
(有机磷化合物) 
三苯基膦、三(壬基苯基)膦、三(二壬基苯基)膦、三(2,4-二丁基苯氧基)膦,等。 
这些化合物是作为橡胶、塑料以及脂肪等的防氧化剂已知的化合物,可以很容易地从市场上得到。 
各层优选包括数量为0.01-10%(重量)(以总重量计)的防氧化剂。 
以下,参照图5对本发明的图像形成方法以及图像形成装置进行说明。 
本发明的图像形成装置具有感光体。该感光体具有平滑的输送交联表面层,该层有低的表面能量。感光体被充电以及被带有图像信息的光照射,而形成静电静电潜像;静电潜像被显像形成调色剂图像;调色剂图像被转印到图像承载体(转印纸)上,以及被定影;并且感光体的表面被清洁。 
图像形成方法并不局限于上述方法。例如,根据情况,静电图像可以直接转印到转印纸上,以及在其上对静电潜影进行显像。 
充电器(3)用来对感光体(1)进行均匀充电。充电器的具体例子包括已知的充电器,例如电晕充电装置、固体充电器、针式电极(needleelectrode)装置、棍充电装置以及电刷充电装置。接触充电器或非接触充电器可以用于本发明。接触充电器包括充电棍、充电刷、充电板等,它们直接接触感光体。非接触充电器包括,例如被设置于紧靠充电棍,其与感光体之间的的充电间隙不大于200μm。如该充电间隙太宽,感光体就不会被稳定充电。如该间隙太小,在有调色剂残留在感光体上的场合,充电部件,例如充电棍回被脏污。因此,该间隙优选为10-200μm,更优选为10-100μm。 
接着,图像曝光部(5)被用来在感光体(1)上形成静电潜像。适宜的光源包括通常的光发生器,例如萤光灯、钨灯、卤素灯、水银灯、钠灯、发光二极管(LED)、激光二极管(LD)、电子发光器(EL),等。另外,为了获得具有希望波长范围的光,可以使用滤光器(例如陡峭切割滤光器(sharp-cutfilter)、通频滤光器(a band pass filter)、近红外切割滤光器(near-infrared cutting filter),二色滤光器(dichroic filter),干涉滤光器(interference filter)以及色温转换滤光器(color temperatureconverting filter)。 
显像单元(6)被用来将感光体(1)上的静电潜影可视化。 
显像方法包括使用调色剂的一组分显像方法以及二组分显像方法调色 剂;以及使用湿式调色剂的湿式显像方法。当被充电为正电或被充电为负电的感光体被带有图像样的光曝光时,就会在感光体上形成带正电的或带负电的静电潜像。当带正电荷的潜像被带负电的调色剂显像时,可以得到正图像。相反,当具有正电荷的潜像被具有正电荷的调色剂显像时,可以得到负的图像。 
转印充电器(10)被用来将在感光体上的可见的调色剂图像转印到转印纸(9)上。可以使用转印前充电器(7)来使转印进行的更好。适宜的转印器包括转印充电器、偏压棍静电转印器、粘附(adhesion)转印器、利用压力的机械式转印器以及磁力转印器。上述的充电器可以作为静电转印器加以使用。 
分离式充电器(11)以及分离爪(12)被用来将转印纸(9)从感光体(1)上分离下来。其他的分离手段包括静电吸收吸收引导分离器、侧端带分离器、尖端抓握搬送器、曲率分离器等。上述的充电器可以用作分离充电器(11)。 
接着,毛刷(14)以及清洁板(15)被用来清除图像转印后残留在感光体上的调色剂。清洁前充电器(13)可用来使清洁进行得效率更高。其他的清洁装置包括网清洁器、磁刷清洁等。这些清洁器可以单独使用或者组合起来使用。 
消电器可以任选地用来消除感光体上的潜像。消电器包括消电灯(2)以及放电器。它们可以分别利用上述的光源以及充电器。 
原件读取过程、供纸过程、定影过程以及纸张搬送过程等可以利用已知的手段。 
上述的图像形成单元可以安装固定在复印机、传真机或打印机中加以使用。但是,图像形成单元可以作为处理卡盒对机器本体可装可卸地加以利用。图6是说明本发明地处理卡盒的实施方式的示意图。 
处理卡盒是指图像形成单元(或装置),其包括感光体(101),以及充电器(102)、显像器(104)、转印器(106)、清洁器(107)以及除电器(图 中未绘出)。 
在感光体(101)按箭头方向旋转的同时,被充电器(102)充电,以及被爆光器(103)爆光,从而在感光体上形成带有图像样的静电潜像。该静电潜像被显像器(104)用调色剂显像,形成调色剂图像。调色剂图像被转印器(106)转印到转印纸(105)上被打印出来。接着,在调色剂图像被转印以后,感光体的表面被清洁器(107)加以清洁,被除电器(图中未绘出)除电。然后,上述的这些过程被重复进行。 
本发明提供一种用于图像形成装置的处理卡盒,其包括具有光滑的可进行电荷输送交联表层的感光体,以及从充电器、显像器、转印器、清洁器以及除电器中选出的至少一个。 
如上述的说明的那样,本发明的电子照相感光体可广泛地用于应用电子照相技术领域,例如,激光打印机、CRT打印机、LED打印机、液晶打印机以及激光制版机。 
<具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物的合成例> 
本发明的具有电荷输送结构的化合物可用例如在日本专利No.3164426.的方法来合成。下列方法就是其一例。 
(1)具有下列通式B的羟基取代的三芳基胺化合物的合成 
将113.85g(0.3mol)具有通式A的甲氧基取代的三芳基胺化合物、138g(0.92mol)的sodium iodide以及240ml的sulfolane混合制备混合物。将混合物在氮气流中加热到60℃。 
Figure S07186330720070321D000381
将99g(0.91mol)的三甲基氯硅烷用1小时的时间滴入混合物,并在约60℃下将混合物搅拌4小时。将约1.5L的甲苯加入,以及将混合物冷却到室温,将混合物用水以及碳酸钠的水溶液进行反复清洗。然后,将溶剂除去,用色谱分离的方法(以硅胶作为吸收介质,以甲苯和乙酸乙酯(20∶1)作为展开溶剂)进行精制得到淡黄色油。向其中加入环己烷分离出结晶。这就制备了88.1g(产率:80.4%)具有下列通式B以及熔点64.0-66.0℃的白色结晶。 
Figure S07186330720070321D000391
元素分析值(%) 
C  H N
实验值 85.06  6.41  3.73
理论值 85.44  6.34  3.83
(2)三芳基氨基取代的丙烯酸酯化合物(化合物No.54)的合成使82.9g(0.227mol)的在(1)中制备的具有通式B羟基取代的三芳基胺化合物溶于400ml的四氢呋喃中制备混合物。将用12.4g的NaOH以及100ml的水制成的氢氧化钠水溶液在氮气流下滴入到混合物中。将混合物冷却到5℃,以及将25.2g(0.272mol)的丙烯酰氯在40分钟内滴入其中。然后,将混合物在5℃搅拌3小时。将混合物放入水中以及用甲苯进行萃取。将萃取液水以及碳酸钠的水溶液进行反复洗涤。然后,将溶剂除去,以及的色谱分离的方法(以硅胶作为吸收介质,以甲苯作为展开溶剂)进行精制,向其中加入N-己烷就制备出无色油并分离出结晶。这就制备了80.73g(产率:84.8%)熔点117.5to119.0℃的化合物No.54的白色结晶。 
元素分析值(%) 
C  H N
实验值 83.13  6.01  3.16
理论值 83.02  6.00  3.33
(3)丙烯酸酯化合物合成例 
(i)二乙基2-羟基苄基膦酸酯的制备 
将38.4g的2-羟基苄基醇(TOKYO KASEI KOGYO Co.,Ltd.制)以及80ml的o-二甲苯放入的具有搅拌器、温度计以及滴管的反应器中。在氮气流下,将62.8g的亚磷酸三乙基酯在80℃下缓慢滴入,反应在相同温度下再进行1小时。接着,通过减压蒸馏将生成的乙醇、o-二甲苯以及未反应的亚磷酸三乙基酯除去,从而制备出66g的二乙基2羟基苄基膦酸酯(产率:90%,熔点:120.0℃/1.5mm Hg)。 
(ii)2-羟基-4’-(二-对(4-甲苯基)氨基)-茋的制备 
将14.8g的tert-丁基氧化钾以及50ml的四氢呋喃放入的具有搅拌器、温度计以及滴管的反应器中。在氮气流下,将9.90g的二乙基2-羟基苄基膦酸酯以及5.44g的4-(二-对甲苯基氨基)苯甲醛溶于四氢呋喃中,并在室温下慢慢滴入,反应在相同温度下进一步进行2小时。然后,在水冷下,将水加入反应产物中,将具有通常浓度的盐酸水溶液加入使反应产物酸化。用蒸发设备将四氢呋喃除去,用甲苯将粗产物萃取出。用水、碳酸氢钠溶液以及饱和食盐水洗涤甲苯相(顺序为水、碳酸氢钠溶液以及饱和食盐)。以及进一步加入硫酸镁使甲苯相脱水。过滤后,除去甲苯,制备出油状粗产物。将油状粗产物进一步用以硅胶为吸附剂的塔进行精馏,在己烷中结晶析出5.09g2-羟基-4’-(二-para-甲苯基氨基)茋(产率:72%,熔点:136.0-138.0℃。 
(iii)制备4’-(二-para-甲苯基氨基)茋-2-基丙烯酸酯 
将14.9g的2-羟基-4’-(二-para-甲苯基氨基)茋、100ml的四氢呋喃以及21.5g的碳酸氢钠液(浓度为12%)的四氢呋喃放入的具有搅拌器、温度计以及滴管的反应器中。在氮气流中,将5.17g的丙烯酰氯在5℃下30分钟内滴入。在相同的温度下,反应进一步进行3小时。将反应液置于水中水,用甲苯进行萃取,浓缩以及用使用硅胶塔进行精制,制备出粗产物。粗产物在乙醇中结晶析出,制备出13.5g4’-(二-para-甲苯基氨基)茋-2-基丙烯酸酯(列举化合物No.2)的针状结晶(产率:79.8%,熔点:104.1-105.2℃)。元素分析结果如下: 
元素分析值(%) 
C  H  N
实验值 83.46  6.06  3.18
理论值 83.57  6.11  3.14
通过使2-羟基苄基膦酸酯衍生物以及各种胺氨基-取代的苯甲醛衍生物相互之间进行反应可以合成出很多2-羟基茋衍生物。通过使2-羟基茋衍生物丙烯酸酯化或甲基丙烯酸酯化,可以合成多种丙烯酸酯化合物。 
以上对本发明进行了大略的说明。通过本发明的以下的实施例可以更进一步地理解本发明。这些具体例子仅仅是为了说明,并不对本发明作任何限制。在下列实施例中,除非另有说明,数字表示的是重量份。 
实施例1 
将具有下列组成的衬层涂布液、电荷生成涂布液以及电荷输送涂布液,涂敷在具有30mm直径的铝制圆筒上(按以衬层涂布液、电荷生成涂布液以及电荷输送涂布液的顺序)并进行干燥,形成3.0μm厚的衬层、0.2μm厚的电荷生成层、以及20μm厚的电荷输送层。在电荷输送层上进一步涂敷具有下列组成的交联表层涂布液。所用的涂布方法是使用喷雾枪近喷雾涂布。喷雾枪为FSA-G05(Meiji Machine Co.,Ltd.)。喷雾压力为0.2 Mpa。从喷雾嘴到CTL的距离为2cm。喷雾后,涂布液在80℃下用热量干燥5分钟,用UP灯(Ushio,Inc.制造)照射120秒,进一步130℃下干燥15分钟,形成8μm厚的交联表层。加热干燥是用的棚式干燥机HPS-222(Tabai EspecCorp.)。残留溶剂浓度使用气相色谱仪15-A(Shimadzu Corp.制造)从光谱的峰值区域面积来测得的。 
衬层涂布液 
醇酸树脂                                6 
(BEKKOZOL 1307-60-EL(from Dainippon Ink & Chemicals,Inc.制) 
密胺树脂                                4 
(SUPER BEKKAMIN G-821-60为Dainippon Ink & Chemicals,Inc.) 
二氧化钛粉末                            40 
甲基乙基酮                              50 
CGL涂布液 
聚乙烯基丁醛树脂             0.5 
(XYHL为Union Carbide Corp.) 
环己酮                       200 
甲基乙基酮                   80 
双偶氮颜料,具有下列通式(I):2.5 
Figure S07186330720070321D000421
CTL涂布液 
双苯酚Z聚碳酸酯              10 
(Panlite TS-2050为TEIJIN CHEMICALS LTD.制) 
四氢呋喃                     100 
硅油的1%四氢呋喃溶液        0.2 
(KF50-100CS为Shin-Etsu Chemical Industry Co.,Ltd.) 
具有下列通式(II)电荷输送材料:7 
Figure S07186330720070321D000431
交联表层涂布液: 
具有一个官能团的以及具有有荷输送结构(上面例举的化合物No.54,分子量为419)的自由基聚合性化合物                              10 
不具有电荷输送结构的三官能基自由基聚合性单体 
(三甲基醇丙烷三丙烯酸酯KAYARAD TMPTA,分子量为296,NIPPON KAYAKU 
co.,LTD.制)                                          10 
光聚合引发剂(IRGACURE184,分子量为204,Nippon KaYaku Co.,Ltd.制)                                                       1 
四氢呋喃(熔点为66℃,饱和蒸汽压为176mm Hg/25℃)       120 
实施例2 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,要形成交联表层时,使喷嘴与CTL距离为5cm。 
实施例3 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液要用上面列举的化合物No.150(分子量为298)来代替具有电荷输送结构的具有一个官能基的自由基聚合性化合物。 
实施例4 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液要用上面列举的化合物No.141(分子量为269)来代替具有电荷输送结构的具有一个官能基的自由基聚合性化合物。 
实施例5 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液要用上面列举的化合物No.109(分子量为445)来代替具有电荷输送结构的具有一个官能基的自由基聚合性化合物。 
实施例6 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液要将120份的四氢呋喃变为60份的四氢呋喃以及60份的环己酮(熔点为156℃以及饱和蒸汽压为13mm Hg/25℃)。喷雾后交联表层中的残留溶剂为4,500ppm。 
实施例7 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液要将120份的四氢呋喃变为60份的四氢呋喃以及60份的丙酮(熔点为56℃以及饱和蒸汽压为300mm Hg/25℃)。喷雾后交联表层中的残留溶剂为4,500ppm。 
实施例8 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液要用上面列举的化合物No.173(分子量为552)来代替具有电荷输送结构的具有一个官能基的自由基聚合性化合物。 
实施例9 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液要用上面列举的化合物No.165(分子量为445,三官能基)来代替具有电荷输送结构的具有一个官能基的自由基聚合性化合物。 
实施例10 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是喷雾后要将涂布液在100℃下干燥5分钟。 
实施例11 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是要将喷嘴与CTL之间的距离变为10cm,并且在喷雾后要将涂布液在25℃下于燥10分钟。 
比较例1 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液中要用具有2个官能基的1,6-己二醇二丙烯酸酯(分子量为226,Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制)来代替具三官能基的自由基聚合性化合物。并且其中没有使用具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体。 
比较例2 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液中要排除具有电荷输送结构1个官能基的自由基聚合性化合物。并且其中没有使用具有具有电荷输送结构具有一个官能基的自由基聚合性单体。 
比较例3 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,在交联表层涂布液中要排除3个官能基的自由基聚合性化合物。并且在交联表层涂布液用20份代替10份的具有电荷输送结构的具有一个官能团的自由基聚合性化合物,并且其中没有使用具有具有电荷输送结构以及三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体。 
比较例4 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,要在交联表层涂布液中,用下列非自由基聚合性电荷输送材料代替具有电荷输送结构的具有一个官能团的自由基聚合性化合物: 
Figure S07186330720070321D000451
并且,其中没有使用具有电荷输送结构具有一个官能团的自由基聚合性化合物。 
比较例5 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是,其中不形成交联表层,并且将CTL的厚度变为28μm。 
比较例6 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是要在喷雾后加热将涂布液在25℃下干燥1分钟,形成交联表层。该交联表层满足本发明的层膜密度的要求。 
比较例7 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是要依据日本专利申请公开No.2004-302451的实施例8形成的厚度为5μm的交联表面,其中喷雾后通过加热将涂布液在25℃下干燥1分钟,形成交联表层。该交联表层满足本发明的层膜密度的要求。 
比较例8 
重复实施例1中的制备电子照相感光体的步骤来制备电子照相感光体,但是要依据日本专利申请公开No.2004-302452的实施例10形成的厚度为5μm的交联表面,其中喷雾后通过加热将涂布液在25℃下干燥1分钟,形成交联表层。该交联表层满足本发明的层膜密度的要求。 
这些感光体用以下测定方法进行评价。 
<交联性> 
交联表层的交联性用其在有机溶剂中的溶解性加以评价。将一滴四氢呋喃滴到感光体上,用目视观察自然干燥后感光体表面形状的变化。没有充分硬化时,会发生部分溶解,产生环状凹凸或雾状表面。 
结果列于表1中。 
表1 
实施例1 不溶
实施例2 不溶
实施例3 不溶
实施例4 不溶
实施例5 不溶
实施例6 不溶
实施例7 不溶
实施例8 不溶
实施例9 不溶
实施例10 不溶
实施例11 不溶
比较例1 溶解
比较例2 不溶
比较例3 溶解
比较例4 溶解
比较例5 溶解
比较例6 不溶
比较例7 不溶
比较例8 不溶
<层膜密度> 
(1)在22℃以及55%RH下,用电子天平测量AE16(Mettler-ToledoInternational Inc.制),测量交联表面形成前后的重量变化。 
(2)22℃以及55%RH下,用膜厚计Fischer Scope MMS(FischerInstruments K.K.制)测量交联膜的厚度。 
(3)层膜密度通过将根据厚度算出的体积去除交联表层,得出层膜的密度。 
<化学疲劳> 
使用NOx暴露装置(Dylec Inc.制)以及在25℃以及湿度45%RH下,将感光体放在具有20ppm的氧化物以及5ppm的二氧化氮的气氛中2天。 
<电位> 
将感光体安装在日本专利申请公开No.60-100167中公开的装置中,使其在+6.0kV以及1,700rpm下,电晕充电20秒,测量暴露于Nox前后的表面电位(Vm)。 
实施例1-11以及比较实施例2以及6-8的试验结果表示于表2中。 
表2 
 层膜密度  (g/cm3)  Vm
 暴露前  暴露后
实施例1  1.27  1,410V  500V
实施例2  1.35  1,390V  650V
实施例3  1.28  1,400V  510V
实施例4  1.35  1,410V  650V
实施例5  1.33  1,410V  640V
实施例6  1.05  1,370V  400V
实施例7  1.38  1,400V  670V
实施例8  1.20  1,380V  470V
实施例9  1.15  1,390V  450V
实施例10  1.30  1,420V  600V
实施例11  1.22  1,400V  520V
比较例2  1.28  1,410V  550V
比较例6  0.95  1,410V  60V
比较例7  0.98  1,400V  80V
比较例8  0.97   1,390V  70V
交联表层具有1.0-1.4g/cm3的层膜密度时,NOx的影响降低,抗环境性得到改善。 
<图像> 
将感光体安装在处理卡盒中,并将该处理卡盒装在复印机imagio Neo1050Pro中,并用其生成图像,设定其开始的暗部电位为-800V,评价暴露于NOx.前后的图像。 
实施例1-11以及比较实施例2以及6-8的结果表示于表3。 
表3 
暴露前 暴露后
实施例1 良好的 良好
实施例2 良好 良好
实施例3 良好 良好
实施例4 良好 良好
实施例5 良好 良好
实施例6 良好 良好
实施例7 良好 良好
实施例8 良好 良好
实施例9 良好 良好
实施例10 良好 良好
实施例11 良好 良好
比较例2 从开始就没有生成图像
比较例6 良好 有残留图像形成
比较例7 良好 有残留图像形成
比较例8 良好 有残留图像形成
比较例2从开始就不能生成图像。比较例6-8在暴露在NOx.之后,有残留图像形成。与此相反,本发明的感光体具有抗环境性,可以生成质量良好的图像,并不产生残留图像。 
至此,对本发明进行了充分的说明,由此本领域的普通技术人员可以对本发明进行各种改进以及改良,但这都在本发明的范围之内。 

Claims (3)

1.一种制造电子照相感光体的方法,其包括:
向导电基体涂敷一种涂布液,该涂布液包括不具有电荷输送结构的具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体、具有电荷输送结构的自由基聚合性化合物以及溶剂;以及
使不具有电荷输送结构的具有三个或三个以上的官能基的自由基聚合性单体和具有电荷输送结构自由基聚合性化合物聚合;
在聚合前使感光层脱溶剂的步骤,其中脱溶剂是通过加热干燥来进行的,所述加热干燥是在20-170℃下进行的;
在聚合反应开始时,感光层包括不大于4500ppm的残留溶剂。
2.根据权利要求1的方法,其中所述加热干燥是在80-170℃下进行的。
3.根据权利要求1的方法,其中对导电基体的涂布是喷雾涂布。
CN2007100863307A 2006-03-13 2007-03-13 电子照相感光体以及其制造方法、图像形成方法以及装置以及使用该感光体以及处理卡盒 Expired - Fee Related CN101038449B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006066947A JP2007241158A (ja) 2006-03-13 2006-03-13 電子写真感光体、その製造方法、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ
JP066947/06 2006-03-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101038449A CN101038449A (zh) 2007-09-19
CN101038449B true CN101038449B (zh) 2011-06-01

Family

ID=38479335

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007100863307A Expired - Fee Related CN101038449B (zh) 2006-03-13 2007-03-13 电子照相感光体以及其制造方法、图像形成方法以及装置以及使用该感光体以及处理卡盒

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20070212627A1 (zh)
JP (1) JP2007241158A (zh)
KR (1) KR100848615B1 (zh)
CN (1) CN101038449B (zh)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5097410B2 (ja) * 2006-04-04 2012-12-12 株式会社リコー 画像形成装置及び画像形成方法
JP5006164B2 (ja) * 2006-11-21 2012-08-22 株式会社リコー 画像形成装置、画像形成方法及びプロセスカートリッジ
US8669030B2 (en) * 2006-12-11 2014-03-11 Ricoh Company, Limited Electrophotographic photoreceptor, and image forming method and apparatus using the same
US7879519B2 (en) * 2007-02-15 2011-02-01 Ricoh Company Limited Image bearing member and image forming apparatus using the same
JP5102646B2 (ja) * 2007-02-21 2012-12-19 株式会社リコー 電子写真感光体とこれを搭載する電子写真用プロセスカートリッジ及び画像形成装置
US8084170B2 (en) 2007-03-13 2011-12-27 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor, electrophotographic process cartridge containing the same and electrophotographic apparatus containing the same
JP5294045B2 (ja) * 2007-06-13 2013-09-18 株式会社リコー 電子写真感光体とこれを搭載するプロセスカートリッジないし電子写真装置
US8927183B2 (en) * 2007-06-19 2015-01-06 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoreceptor, method for preparing the electrophotographic photoreceptor, and image forming method and apparatus and process cartridge using the electrophotographic photoreceptor
JP5382404B2 (ja) * 2007-07-02 2014-01-08 株式会社リコー 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP5205908B2 (ja) * 2007-10-13 2013-06-05 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 電子写真感光体とそれを用いた画像形成方法及び画像形成装置
EP2071411B1 (en) 2007-12-10 2011-04-27 Ricoh Company, Ltd. Corona charger, and process cartridge and image forming apparatus using same
US7855039B2 (en) * 2007-12-20 2010-12-21 Xerox Corporation Photoconductors containing ketal overcoats
JP2009286998A (ja) 2008-05-01 2009-12-10 Seiko Epson Corp インクジェット記録用インク組成物
JP2009301016A (ja) * 2008-05-13 2009-12-24 Konica Minolta Business Technologies Inc 有機感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及びカラー画像形成装置
JP2010235909A (ja) * 2008-07-09 2010-10-21 Ricoh Co Ltd 複合アゾ顔料の製造方法およびそれにより得られた複合アゾ顔料
TWI390005B (zh) * 2008-12-31 2013-03-21 Eternal Chemical Co Ltd 無溶劑導電膠組成物及使用該組成物之太陽能電池元件
JP2011070023A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ、および画像形成装置。
JP5899676B2 (ja) * 2010-08-25 2016-04-06 株式会社リコー 電子写真感光体
US9366978B2 (en) * 2012-06-25 2016-06-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Coated photoconductors
WO2015047001A1 (ko) * 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치
KR101697402B1 (ko) * 2013-09-30 2017-01-17 주식회사 엘지화학 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치
JP6481324B2 (ja) 2013-12-13 2019-03-13 株式会社リコー 電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置及びプロセスカートリッジ
US9933715B2 (en) 2014-10-07 2018-04-03 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Coated photoconductors
KR20180016340A (ko) 2015-06-05 2018-02-14 후지 덴키 가부시키가이샤 전자 사진용 감광체, 그 제조 방법 및 전자 사진 장치
JP6711107B2 (ja) 2016-04-25 2020-06-17 株式会社リコー 感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
JP6769112B2 (ja) 2016-05-25 2020-10-14 株式会社リコー 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
JP6781396B2 (ja) 2016-05-30 2020-11-04 株式会社リコー 感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP7129225B2 (ja) * 2018-05-31 2022-09-01 キヤノン株式会社 電子写真感光体および電子写真感光体の製造方法
JP2023134210A (ja) * 2022-03-14 2023-09-27 キヤノン株式会社 プロセスカートリッジ及び電子写真装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0441937A (ja) * 1990-06-01 1992-02-12 Yanmar Diesel Engine Co Ltd セラミックスガスタービンの未燃焼燃料排出装置
JPH04260051A (ja) * 1991-02-15 1992-09-16 Canon Inc 電子写真感光体
JP3194392B2 (ja) * 1992-01-31 2001-07-30 株式会社リコー 電子写真感光体
JP3262488B2 (ja) * 1996-02-19 2002-03-04 キヤノン株式会社 電子写真感光体、それを用いた電子写真装置および装置ユニット
JP2002006526A (ja) 2000-06-21 2002-01-09 Canon Inc 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP2003098693A (ja) * 2001-09-20 2003-04-04 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体の再生方法、電子写真感光体の再生装置、電子写真感光体、電子写真感光体ユニット及びプロセスカートリッジ
JP4145820B2 (ja) * 2003-03-20 2008-09-03 株式会社リコー 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ
US7175957B2 (en) * 2003-03-20 2007-02-13 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor, and image forming process, image forming apparatus and process cartridge for an image forming apparatus using the same
US7179573B2 (en) * 2003-03-20 2007-02-20 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor, and image forming process, image forming apparatus and process cartridge for an image forming apparatus using the same
JP4266859B2 (ja) * 2003-03-20 2009-05-20 株式会社リコー 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ
JP2005055729A (ja) * 2003-08-06 2005-03-03 Canon Inc 電子写真感光体、その製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP3960606B2 (ja) 2003-09-29 2007-08-15 株式会社リコー 静電潜像現像剤用キャリアとその製造方法及び該キャリアを用いた静電潜像現像剤とプロセスカートリッジ
JP2006010972A (ja) * 2004-06-24 2006-01-12 Ricoh Co Ltd 像担持体及びプロセスカートリッジ、並びに画像形成装置及び画像形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101038449A (zh) 2007-09-19
KR100848615B1 (ko) 2008-07-28
US20070212627A1 (en) 2007-09-13
JP2007241158A (ja) 2007-09-20
KR20070093357A (ko) 2007-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101038449B (zh) 电子照相感光体以及其制造方法、图像形成方法以及装置以及使用该感光体以及处理卡盒
CN101038451B (zh) 图像承载部件、以及使用该图像承载部件的成像装置和处理盒
CN1811605B (zh) 电照相光受体及其制法,使用其的成像方法、装置和处理盒
CN101034264B (zh) 图像承载部件和使用其的成像方法以及成像装置和处理盒
CN101071280B (zh) 电照相感光体、采用该感光体的成像装置以及处理盒
CN101395538B (zh) 电子照相感光体的生产方法
JP5610220B2 (ja) 電子写真感光体、並びにそれを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジ
CN101889248B (zh) 用于电子照相光电导体基底的温度控制单元
JP4523532B2 (ja) 電子写真感光体、並びに画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジ
US20070196749A1 (en) Image bearing member, image forming method, and image forming apparatus
CN101192013A (zh) 感光体、其制备方法、处理卡盒、图像形成方法以及装置
CN102163016B (zh) 电子照相光导体、图像形成方法、图像形成装置和处理墨盒
CN103365129A (zh) 电荷输送膜形成用组合物、感光体、处理盒和图像形成设备
US20120237228A1 (en) Image forming apparatus and image forming method
CN101840168A (zh) 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
CN101320228B (zh) 感光体,图像形成方法,图像形成装置以及处理卡盒
CN1912751B (zh) 电子照相感光体、制法、使用其的成像法、装置及处理盒
JP4887182B2 (ja) 電子写真感光体及びその製造方法、並びに画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
JP2011064734A (ja) 電子写真感光体、並びにそれを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP6212999B2 (ja) 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
JP2002182416A (ja) 電子写真感光体、それを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置
CN101175713A (zh) 丙烯酸酯化合物及其制造中间体,制造丙烯酸酯化合物的方法,以及静电潜像承载部件,成像方法,成像装置及影印卡盒
EP1862858A1 (en) Image bearing member, and process cartridge and image forming apparatus using the same
JP5510101B2 (ja) 電子写真感光体、並びにそれを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP5678412B2 (ja) 電子写真感光体、並びにそれを用いた電子写真形成方法、電子写真形成装置及びプロセスカートリッジ

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110601

Termination date: 20200313