CA2152231C - Dispositif de coulee continue entre cylindres a parois d'obturation laterale appliquees - Google Patents
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Abstract
.pi. Le dispositif comporte deux cylindres (1) contrarotatifs refroidis, deux parois d'obturation latérale (3) et des moyens de support et d'application en pression des dites parois d'obturation contre les chants (2) des cylindres, une plaque de poussée (10) mobile selon la direction axiale (A) des cylindres et disposée perpendiculairement à cette direction, une platine (19), qui supporte la paroi d'obturation (3) et qui est portée par la plaque de poussée (10) et disposée en face de celle-ci, au moins trois organes de poussée, tels que des ressorts (14), interposés entre la plaque de poussée (10) et la platine (19), ces organes étant répartis sur une zone de forme correspondant à celle de la paroi d'obturation (3), et pouvant exercer sur celle-ci des efforts de poussée indépendamment l'un de l'autre. Application à la coulée continue entre cylindres de bandes minces en acier.
Description
Dispositif de coulée continue entre çvlindres à
pa~:ois d' ob~,uration latérale ap~~,iquées .
La présente invention concerne la coulée continue de produits métalliques mïnces, notamment de bandes minces en acier, selon la technique de coulée continue entre deux cylïndres contra-rotati:Cs refroidis. Elle concerne plus particulièrement les parois d'obturation latérale, appliqu~:es contre les lU extrémités frontales des cylindres, pour délimiter l'espace de coulée défini entre les cylindres, ainsi que leurs moyens de support et d'application contre les dites extrémités frontales.
I1 est connu que les installations de coulée continue entre cylindres comportent deux cylindres d'axes horizontaux et parallèles, vigoureusement refroidis intérieurement par circulation d'eau, entraînês en rotation de sens inverse, et espacés l'un de l'autre d'une distance correspondant â
2U l'épaisseur souhaitée du produit coulé.
Lors de la coulée, le métal en fusion est déversé dans l'espace de coulêe, dêfini entre les cylindres, se solidifie au contact de ceux-ci, et est extrait vers le bas, lors de leur rotation, sous forme d'une bande mince. Pour conten~_r le métal en fusion, les paroïs d'obturation latérale sont plaquées contre les extrémités frontales des cylindres. De telles parois d'obturation latérale sont couramment réalisêes en matêriau réfractaire, au moins dans leur partie amenée â étre en contact avec le métal en fusion.
I1 est donc nécessaire d'assurer l'étanchéitê
entre les cylindres et les parois d'obturation latérales. Pour cela, ces parois d'obturation sont _~ 1 X2231
pa~:ois d' ob~,uration latérale ap~~,iquées .
La présente invention concerne la coulée continue de produits métalliques mïnces, notamment de bandes minces en acier, selon la technique de coulée continue entre deux cylïndres contra-rotati:Cs refroidis. Elle concerne plus particulièrement les parois d'obturation latérale, appliqu~:es contre les lU extrémités frontales des cylindres, pour délimiter l'espace de coulée défini entre les cylindres, ainsi que leurs moyens de support et d'application contre les dites extrémités frontales.
I1 est connu que les installations de coulée continue entre cylindres comportent deux cylindres d'axes horizontaux et parallèles, vigoureusement refroidis intérieurement par circulation d'eau, entraînês en rotation de sens inverse, et espacés l'un de l'autre d'une distance correspondant â
2U l'épaisseur souhaitée du produit coulé.
Lors de la coulée, le métal en fusion est déversé dans l'espace de coulêe, dêfini entre les cylindres, se solidifie au contact de ceux-ci, et est extrait vers le bas, lors de leur rotation, sous forme d'une bande mince. Pour conten~_r le métal en fusion, les paroïs d'obturation latérale sont plaquées contre les extrémités frontales des cylindres. De telles parois d'obturation latérale sont couramment réalisêes en matêriau réfractaire, au moins dans leur partie amenée â étre en contact avec le métal en fusion.
I1 est donc nécessaire d'assurer l'étanchéitê
entre les cylindres et les parois d'obturation latérales. Pour cela, ces parois d'obturation sont _~ 1 X2231
2 pressées contre les extrémités des cylindres. Pour réduire le frottement induit lors de la rotation des cylindres, une lubrification de l'interface cylindre - paroi d'obturation est habituellement prévue, celle-ci s'effectue par apport d'un lubrifiant consommable ou par utilisation, au niveau de cet interface, d'un matériau autolubrifiant.
Cependant, la réalisation effective de cette étanchéité et sa conservation tout au long de la coulée présente encore de nombreuses difficultés, dues notamment .
- aux déformations géométriques des cylindres et des parois d'obturation, en particulier en début de coulée, provoquées par les dilatations des divers éléments de l'ïnstallation, - aux efforts exercés sur ces éléments, notamment les efforts exercés sux- les parois d'obturation, dans la direction des axes des cylindres, par le métal coulé, et qui tendent â
écarter les dites parois d'obturation des cylindres, - â l'usure des parois d'obturation, ou des chants des parois refroidis des cylindres, qui n'est pas toujoux:s réguliëre sur toute la sur_face~ des zones en contact, - aux ëventuelles amorces d'infiltration de métal coulé entre paroi d'obturation et cylindre, et de solidification de ces infiltrations,, qui tendent â
les écarter l'une de l'autre.
Il a déjà été proposé de résoudre ces problêmes en provoquant une usure contrôlée de 1a paroi d'obturation, par frottement des cylindres contre celle-ci, et ceci tout au long de la coulée. Ainsi, on vise à régénérer en permanence l':interface paroi d'obturation - cylindre, de maniêre à uniformiser au ~~~ J2~~1
Cependant, la réalisation effective de cette étanchéité et sa conservation tout au long de la coulée présente encore de nombreuses difficultés, dues notamment .
- aux déformations géométriques des cylindres et des parois d'obturation, en particulier en début de coulée, provoquées par les dilatations des divers éléments de l'ïnstallation, - aux efforts exercés sur ces éléments, notamment les efforts exercés sux- les parois d'obturation, dans la direction des axes des cylindres, par le métal coulé, et qui tendent â
écarter les dites parois d'obturation des cylindres, - â l'usure des parois d'obturation, ou des chants des parois refroidis des cylindres, qui n'est pas toujoux:s réguliëre sur toute la sur_face~ des zones en contact, - aux ëventuelles amorces d'infiltration de métal coulé entre paroi d'obturation et cylindre, et de solidification de ces infiltrations,, qui tendent â
les écarter l'une de l'autre.
Il a déjà été proposé de résoudre ces problêmes en provoquant une usure contrôlée de 1a paroi d'obturation, par frottement des cylindres contre celle-ci, et ceci tout au long de la coulée. Ainsi, on vise à régénérer en permanence l':interface paroi d'obturation - cylindre, de maniêre à uniformiser au ~~~ J2~~1
3 mieux les conditions de contact sur toute la surface de cette interface. Ainsi, le document EP-A-546 20G
décrit une méthode selon laquelle, avant le début de la coulée, on presse fortement les parois d'obturation contre les cylindres, pour effectuer en quelque sorte un rodage de celle-ci par abrasion par les chants des cylindres, puis on réduit. cette pression et, en cours de coulée, <an continue à
déplacer les parois d'obturation vers l.es cylindres â
une vitesse prédéterminée pour assurer continuellement la poursuite de :L'usures volontaire et tenter ainsi de conserver un contact. rêgulier sur toute la surface des interfaces.
Mais cette mêthode conduit â une usure importante du matériau rêfractaire des parois d'obturation, même lorsque les conditions du contact sont satisfaisantes.
Si, au lieu de régênérer l'interface comme indiqué ci-dessus, on se contente d'applïquer la paroi d'obturation avec un effort prédéterminé, il peut se produire une usure plus forte dans certaines zones de l'interface, ou dans d'autres zones des infiltrations localisées entre le chant: des cylindres et la paroi d'obturation, qui conduisent à crêer localement un jeu entre cylindre et paroi d'obturatian. Par exemple, une infiltration entre un cylindre et la dite paroi va tendre, en se solidif Tant, â écarter la paroi d' obturation du chant de ce cylindre, et donc êgalement du chant du deuxiême cylindre, puisque la paroi va alors reculer dans son ensemble, avec le risque de détériorer l'ëtanchëitê au niveau du dit deuxiême cylindre. Le même problême peut survenir si les parois frontales d'extrémitës des cylindres ne sont pas parfaitement
décrit une méthode selon laquelle, avant le début de la coulée, on presse fortement les parois d'obturation contre les cylindres, pour effectuer en quelque sorte un rodage de celle-ci par abrasion par les chants des cylindres, puis on réduit. cette pression et, en cours de coulée, <an continue à
déplacer les parois d'obturation vers l.es cylindres â
une vitesse prédéterminée pour assurer continuellement la poursuite de :L'usures volontaire et tenter ainsi de conserver un contact. rêgulier sur toute la surface des interfaces.
Mais cette mêthode conduit â une usure importante du matériau rêfractaire des parois d'obturation, même lorsque les conditions du contact sont satisfaisantes.
Si, au lieu de régênérer l'interface comme indiqué ci-dessus, on se contente d'applïquer la paroi d'obturation avec un effort prédéterminé, il peut se produire une usure plus forte dans certaines zones de l'interface, ou dans d'autres zones des infiltrations localisées entre le chant: des cylindres et la paroi d'obturation, qui conduisent à crêer localement un jeu entre cylindre et paroi d'obturatian. Par exemple, une infiltration entre un cylindre et la dite paroi va tendre, en se solidif Tant, â écarter la paroi d' obturation du chant de ce cylindre, et donc êgalement du chant du deuxiême cylindre, puisque la paroi va alors reculer dans son ensemble, avec le risque de détériorer l'ëtanchëitê au niveau du dit deuxiême cylindre. Le même problême peut survenir si les parois frontales d'extrémitës des cylindres ne sont pas parfaitement
4 orthogonales aux axes des cylindres, et/ou ne sont pas exactement dans le même plan; dans ce cas, la paroi d'obturation est correctement appliquée contre un cylindre mais pas contre l'autre.
La présente invention a pour but de résoudre ces problèmes, et vise en particulier à garder la meilleure étanchéité possible, pendant toute la coulée, entre une paroi d'obturation et les deux cylindres contre lesquels elle est appliquée.
lo Avec ces objectifs en vue, l'invention a pour objet un dispositif de coulée continue entre cylindres de produits métalliques minces, comportant deux cylindres contrarotatifs refroidis, deux parois d'obturation latérale et des moyens de support et d'application en pression des dites parois d'obturation contre les chants des cylindres caractérisé en ce que les dits moyens de support comportent .
- une plaque de poussée mobile selon la direction axiale des cylindres et disposée perpendiculairement à
2o cette direction, - une platine, qui supporte la paroi d' obturation, et qui est portée par la plaque de poussée et disposée en face de celle-ci, - au moins trois organes de poussée interposés entre la dite plaque de poussée et la dite platine, ces organes étant répartis sur une zone de forme correspondant à celle de la paroi d'obturation, et pouvant exercer sur celle-ci des efforts de poussée indépendamment l'un de l'autre, - la platine est conformée de manière que l'effort de poussée qu'elle transmet soit appliqué
uniquement sur la dite paroi, - la paroi d'obturation est constituée d'une plaque en matériau réfractaire dur entourée d'une ceinture métallique à laquelle elle est liée, la dite ceinture métallique est fixée sur une ceinture refroidie entourant une plaque en matériau réfractaire 4a thermiquement isolant, avec une liberté de déplacement de cette dernière par rapport à la dite ceinture refroidie dans la direction axiale des cylindres, la ceinture refroidie étant supportée sur la dite platine, et la plaque en réfractaire isolant étant conformée de manière que l'effort de poussée transmis par la platine à la dite plaque soit retransmis par celle-ci uniquement à la dite plaque en matériau réfractaire dur.
L'invention a aussi pour objet un dispositif de 1o coulée continue entre cylindres de produits métalliques minces, comportant deux cylindres contrarotatifs et deux parois d'obturation latérales appliquées en pression contre les chants des cylindres, caractérisé que ce que .
- chaque paroi d'obturation est disposée entre le chant d'un cylindre et une plaque de matériau réfractaire isolant, la dite plaque de matériau réfractaire isolant étant entourée à sa périphérie par une première ceinture de manière à ce que la plaque de matériau réfractaire isolant soit mobile par rapport à la première ceinture dans une direction généralement parallèle à un axe (A) de rotation des cylindres, - la dite paroi d'obturation est entourée à sa périphérie par une deuxième ceinture de telle manière que la dite deuxième ceinture est mobile axialement à
l'unisson avec la dite paroi d'obturation, et - la deuxième ceinture est portée par la première ceinture.
La platine est uniquement supportée par la plaque de poussée, c'est-à-dire qu'elle lui est liée 3o mécaniquement uniquement dans la direction verticale et éventuellement horizontalement, ?i~2231 perpendiculairement aux axes des cylindres. Par contre, la platine peut se déplacer par rapport â la plaque de poussée d'une part dans la direction des axes des cylindres, et d'autre part en pivotant par
La présente invention a pour but de résoudre ces problèmes, et vise en particulier à garder la meilleure étanchéité possible, pendant toute la coulée, entre une paroi d'obturation et les deux cylindres contre lesquels elle est appliquée.
lo Avec ces objectifs en vue, l'invention a pour objet un dispositif de coulée continue entre cylindres de produits métalliques minces, comportant deux cylindres contrarotatifs refroidis, deux parois d'obturation latérale et des moyens de support et d'application en pression des dites parois d'obturation contre les chants des cylindres caractérisé en ce que les dits moyens de support comportent .
- une plaque de poussée mobile selon la direction axiale des cylindres et disposée perpendiculairement à
2o cette direction, - une platine, qui supporte la paroi d' obturation, et qui est portée par la plaque de poussée et disposée en face de celle-ci, - au moins trois organes de poussée interposés entre la dite plaque de poussée et la dite platine, ces organes étant répartis sur une zone de forme correspondant à celle de la paroi d'obturation, et pouvant exercer sur celle-ci des efforts de poussée indépendamment l'un de l'autre, - la platine est conformée de manière que l'effort de poussée qu'elle transmet soit appliqué
uniquement sur la dite paroi, - la paroi d'obturation est constituée d'une plaque en matériau réfractaire dur entourée d'une ceinture métallique à laquelle elle est liée, la dite ceinture métallique est fixée sur une ceinture refroidie entourant une plaque en matériau réfractaire 4a thermiquement isolant, avec une liberté de déplacement de cette dernière par rapport à la dite ceinture refroidie dans la direction axiale des cylindres, la ceinture refroidie étant supportée sur la dite platine, et la plaque en réfractaire isolant étant conformée de manière que l'effort de poussée transmis par la platine à la dite plaque soit retransmis par celle-ci uniquement à la dite plaque en matériau réfractaire dur.
L'invention a aussi pour objet un dispositif de 1o coulée continue entre cylindres de produits métalliques minces, comportant deux cylindres contrarotatifs et deux parois d'obturation latérales appliquées en pression contre les chants des cylindres, caractérisé que ce que .
- chaque paroi d'obturation est disposée entre le chant d'un cylindre et une plaque de matériau réfractaire isolant, la dite plaque de matériau réfractaire isolant étant entourée à sa périphérie par une première ceinture de manière à ce que la plaque de matériau réfractaire isolant soit mobile par rapport à la première ceinture dans une direction généralement parallèle à un axe (A) de rotation des cylindres, - la dite paroi d'obturation est entourée à sa périphérie par une deuxième ceinture de telle manière que la dite deuxième ceinture est mobile axialement à
l'unisson avec la dite paroi d'obturation, et - la deuxième ceinture est portée par la première ceinture.
La platine est uniquement supportée par la plaque de poussée, c'est-à-dire qu'elle lui est liée 3o mécaniquement uniquement dans la direction verticale et éventuellement horizontalement, ?i~2231 perpendiculairement aux axes des cylindres. Par contre, la platine peut se déplacer par rapport â la plaque de poussée d'une part dans la direction des axes des cylindres, et d'autre part en pivotant par
5 rapport â celle-ci autour d'un axe quelconque situé
dans le plan gënéral de cette platine, sensiblement orthogonal â la dite direction axiale.
Ces différents déplacements autorisés sont bien sûr limités en amplitude, mais suffisants pour lU permettre à la paroi d'obturatïon de s'appliquer le mieux possible contre les chants des cylindres, même si les chants respectifs des cylindres ne sont pas parfaitement coplanaires. De plus, lorsque la paroi d'obturation est amenée en saurs de coulée à
s'éloigner du chant d'un cylindre, par exemple suite au passage d'une solidification parasite du métal coulê entre ce cylindre et la paroi d'obturation, cette dernière peut légèrement pivoter sur elle-mème et donc garder le meilleur contact possible avec le deuxième cylindre, alors que sans cette liberté de mouvement, une telle solidïfication parasite conduirait â repausser la paroi dans ~~an ensemble et à créer un jeu entre celle-ci et: le deuxième cylindre.
Par ailleurs, lors d'un tel pivotement, les organes de poussée situés du côté oû la paroi d'obturation s'écarte du cylindre sont plus fortement sollïcités, et, en réaction, il est possible d'agir préférentiellement ou uniquement sur ceux-ci sans modifier sensïblement 1a poussée du ccité du deuxiême cylindre.
Les organes de poussée peuvent être des vérins pilotês ou des ressorts.
Dans le cas oû les organes de poussée sont des
dans le plan gënéral de cette platine, sensiblement orthogonal â la dite direction axiale.
Ces différents déplacements autorisés sont bien sûr limités en amplitude, mais suffisants pour lU permettre à la paroi d'obturatïon de s'appliquer le mieux possible contre les chants des cylindres, même si les chants respectifs des cylindres ne sont pas parfaitement coplanaires. De plus, lorsque la paroi d'obturation est amenée en saurs de coulée à
s'éloigner du chant d'un cylindre, par exemple suite au passage d'une solidification parasite du métal coulê entre ce cylindre et la paroi d'obturation, cette dernière peut légèrement pivoter sur elle-mème et donc garder le meilleur contact possible avec le deuxième cylindre, alors que sans cette liberté de mouvement, une telle solidïfication parasite conduirait â repausser la paroi dans ~~an ensemble et à créer un jeu entre celle-ci et: le deuxième cylindre.
Par ailleurs, lors d'un tel pivotement, les organes de poussée situés du côté oû la paroi d'obturation s'écarte du cylindre sont plus fortement sollïcités, et, en réaction, il est possible d'agir préférentiellement ou uniquement sur ceux-ci sans modifier sensïblement 1a poussée du ccité du deuxiême cylindre.
Les organes de poussée peuvent être des vérins pilotês ou des ressorts.
Dans le cas oû les organes de poussée sont des
6 vérins, on peut alors les piloter individuellement soit en pressïon soit en déplacement, ce qui permet d'appliquer une poussée plus importante juste â
l'endroit où un tel surcroît de poussée est requis, par exemple dans le cas indiqué ci-dessus, du côté oû
s'est produit une solidification parasite.
Dans le cas oü les organes de poussée sont des ressorts, c:e surcroît de poussée est ~en fait gênérê
automatiquement par la compression de:; ressorts, du côté oû la paroi d'obturation est écarté des cylindres, et donc par l'augmentation de 1a force exercée par les ressorts comprimés, dans la mesure oû
la position de la plaque de poussée est fixe, Préférentiellement, la raïdeur de chaque ressort et la répartition des ressorts dans la dite zone sont déterminées de maniêre que, pour une méme flêche de ces ressorts, l'effort de poussêe qu'ils exercent dans la partie basse de la paroi d'obturation soit supérieur â l'effort de poussêe exercé dans la partie haute de la paroi. Cette disposition permet de tenir compte du fait que la pression exercée sur la paroi d'obturation par le métal coulé est plus forte en bas de cette paroi que vers le haut, d'une part â cause de la pression hydrostatique du métal liquide, d'autre part â cause de l'effet de laminage exercé par les cylindres sur le mêtal en cours de solidification, â proximité du col entre les cylindres, qui tend â élargir la bande coulée et donc â repousser l.e bas de la paroi d'obturation. Pour obtenir r_ette répartition particulière de l'effort de poussée, on peut jouer soit sur la raideur des ressorts, soit sur le positionnement et la répartition des ressorts dans le plan de la plaque de poussée, ce qui est plus 2 ~ ~~?31 facilement réalisable lorsque le nombre de ressort est suffisamment grand, soit sur ces deux paramêtres à la fois .
Dans le cas de l'utilisation de vérins, le choix de l'emplacement de ceux-ci tiendra êgalement compte de la répartition souhaitée des efforts d'application de la paroi d'obturation sur les cylindres. Ce choix est cependant moin;â contraignant, puisque cette répartition des efforts pourra être réalisée par un pilotage en pression adéquat des vérins.
Outre l'avantage déjà indiqué de pouvoir répartir selon une configuration prédéterminée la poussée exercée sur la paroi d' obturation 3 et de ne pas reculer la totalité de la paroi en cas de solidification parasite, l'invention permet aussi de pouvoir moduler pendant la coulée la force d'appui globale, en dêplaçant la dite plaque de poussée 10 par rapport aux cylindres, tout en conservant l'adaptabil_ité de la position de la paroi d'obturation par rapport aux chants deus cylindres. A
cette fin, la plaque de poussée est portée par un chariot mobile 8 dans la dite direction axiale, et le dispositif comporte des moyens pour déplacer le dit chariot par rapport aux cylindres e:t exercer sur celui-ci un effort dirigé vers les cylindres. Par exemple, en déplaçant la plaque de poussée vers les cylindres, les ressorts 14 subissent tous une compression complêmentaire, qui s'ajoute â celle qu'ils possédaient avant ce déplacerrrent, mais qui conserve une répartition similaire de la poussée sur la surface de la paroi 3, tout en accentuant plus fortement l'effort dans les zones oie les ressorts fournissaient déjà un effort plus grand. Ainsi, par exemple, la position de la plaque des poussée peut être réglée initialement, au moment du démarrage, pour comprimer assez fortement les res:;orts, et ainsi assurer une sorte de rodage de 1a paroi c1' obturation contre les chants des cylindres ; puis 1a force d'appui globale peut être réduite, en régime de coulée stabilisé, pour natamment éviter une usure trop rapide de la paroi d'obturation, et réaugmentée en cas d'incident, par exemple d'infiltration de métal liquide, pour rétablir le plus vita_ possible l'étanchéité.
D'autres caractéristiques Est avantages apparaîtront dans la description qui va être faite d'un dispositif de coulée continue entre cylindres de bandes minces en acier.
On se reportera aux dessins annexës dans lesquels .
- la figure 1 est une vue en coupe de l'ensemble de support de la paroi d'obturation latérale, dans le cas oû les organes de poussée sont des ressortis, - la figure 2 est une vue en coupe selon la ligne II - II de la figure 1, montrant la répartition des ressorts dans le plan de la paroi de poussée.
- la figure 3 est une vue partie:Lle agrandie de la figure 2.
Sur les figures, les mêmes éléments sont désignés par des références identiques.
Sur le dessin de la figure l, on n'a représenté
que l'un des cylïndres 1 de l'installation de coulée, contre le chant 2 duquel est poussée la paroi d'obturation 3, portée par un ensemble de support 4.
Cet ensemble de support comprend un châssis rigide 5, qui porte un premier chariot, ou chariot de ~ ~2~31 prépositionement 6, réglable en position sur le châssis 5, dans la direction axiale A des cylindres, par exemple par un système vis-écrou 7.
Le chariot de prépositionnement 6 porte un second chariot 8, guidé en translation dans la direction axiale A. Le réglage en position du second chariot 8 est assuré par un vérin 9 de positionnement et de poussée.
Le second chariot 8 supporte une plaque de poussée 10, au moyen de deux axes de support 11. Par ailleurs, la plaque de poussée 10 est maintenue contre des appuis 12 liés au chariot 8 et réglables en position, de manière connue en soi, pour assurer la verticalité de la p:Laque de poussée 10.
La plaque de poussée 10 comporte une pluralité
d'alêsages 13, répartis sur une zone de forme triangulaire correspondant à la forme de la paroi d'obturation. Dans chaque alésage 13 est placé un ressort de compression 14 en appui par une extrémitê
au fond de l' alésage, et par l' autre extrêmité sur un piston 15 coulissant dans l'alésage et comportant des moyens de retenue 16 pour maintenïr ressort et piston dans l'alésage.
La plaque de poussée 10 comporte également à sa partie supérieure des blocs d'appui 17, 17', sur lesquels reposent des oreilles 18, 18' d'une platine 19 refroidie intérieurement et dont la face arriêre est en contact avec les pistons 15.
L'un des blocs d'appui 17 comporte une nervure 17B qui s°engage avec un jeu réduit dans une rainure correspondante de l'oreille 18, pour assurer le positionnement. latéral de la platine selon 0x (direction horizontales, tout en la laissant libre en rotation selon Oz (direction verticale). L'autre 152ê.'31 lo oreille 18' repose simplement sur le bloc d'appui 17' . En somme, les plans 17A et 17'A formant sur les blocs d'appui 17 et 17', les surfaces porteuses, fixent l'al.titude selon Oz de la parai. d'obturation, la nervure 17B fixe la position selon Ox et la direction selon Oy est libre. Des moyens 20 de butée latérale de l'extrémité infërieure de la platine 19 par rapport â la plaque d'appui 10 sont êgalement prévus pour ëviter un basculement. sur les appuis 17 l0 et 17 ' .
Une plaque 21 en matériau réfractaire isolant est maintenue contre la face avant de la platine 19, par une ceinture mëtallique refroidie 22 qui l' entoure et qui est suspendue sur la platine par un axe en forme de crochet 23, qui repose dans un berceau 24 de la dite platine, avec une certaine liberté de mouvement. dans la direction axiale Oy. La plaque en réfractaire isolant 21 peur également se déplacer par rapport à la ceinture refroidie 22, dans la direction axiale, et a une épaisseur légêrement supérieure â celle de la dite ceinture 22.
Sur la ceinture refroidie est vissëe une seconde ceinture 25 métallique, entourant la paroi d'obturation 3 qui lui est lïée par un ciment réfractaire et dont l'épaisseur est ëgalement supérieure â celle de la dite seconde ceinture 25, de manière â dépasser de celle-ci du côté des cylindres, pour éviter un contact entre ceux-ci et la ceinture 25, même aprés une usure maximale admise.
Les formes et dimensions des deux plaques réfractaires 3 et 21 et des ceintures 22 et 25 sont telles que même lorsque 1a seconde ceinture 25 est serrée sur la ceinture refroidie 22, la plaque en réfractaire isolant 21 n'est en contact qu'avec la i paroi d'obturation 3, et non avec 1a dite deuxiême ceinture 25.
Comme par ailleurs l'épaisseur de la plaque en réfractaire isolant 21 est supérieure â celle de la ceinture refroidie, l'effort de poussée transmis par la platine 19 est retransmis uniquement â la paroi d'obturation 3, et non â la ceinture 25, ce qui évite de créer des contraintes entre cette ceinture et le matériau rêfractaire de la paroi d'obturation, et donc des risques de déformations de celle-ci ou sa désolidarisation de la ceinture 25.
Lors de la fixation de la seconde ceinture 25 sur la ceinture refroidie 22, il peut se produire un dêplacement de cette derniêre vers lEas cylindres ;
c'est pourquoi la liaison avec la plaque réfractaire isolante 21 n'est pas rigide, et le crochet 23 a aussi une certaine libertë de déplacement dans le berceau 2~, dans la direction axiale.
Préférentiellement, la platine 19 est en acier, de même que la ceïnture refroidie 22, et la seconde ceinture 25 est en un matëriau qui pré;âente de bonnes caractêristiques â chaud tel que de l'acier ou de la fonte d'ac:ier, son refroidissement naturel étant assisté par contact avec la ceinture 2;? refroidie par une circulation interne d'eau.
Avant. le début de la coulée, il est nêcessaire de prêchauffer la paroi d'obturation 3. Pour cela, l'ensemble de support 4 est éloignë des cylindres, le châssis 5 étant à cet effet muni de moîyens, connus en soi, non représentés, permettant d'assurer son déplacements par rapport â la structure de l'installatiorA de coulée.
Un four de préchauffage â rayonnement est alors amenê en face de la paroi d'obturation pour porter celle-ci â une température élevée, :Le réfractaire isolant 21,, la plaque refroidie 19 et la ceinture refroidie 22 limitant. l'échauffement du reste du dispositif.
Juste avant le démarrage, le four et évacué, puis le châssis 5 est ramené en positic>n et bridé sur la structure. Le vérïn 9 est alors commandé pour amener la paroi d'obturation au contact des chants des cylindres et en continuant son mouvement, déplacer la plaque de poussée 10, ce qui a pour effet de comprimer .Les ressorts 14. Le vérin 9 est régulé
en position. L'effort qu'il fournit est. transmis â la plaque de poussée par le chariot 8 et ses appuis 12, et cet effort est ensuite rêpartï sur la platine 19 par les ressorts ; les efforts fournis localement par chacun des dits ressorts 14 sont donc essentiellement fonction de la compression de ceux-ci et donc de la position relative de la platine et dEa la plaque de poussée.
Ainsi, pour une position déterminée du vérin 9, la paroi d'obturation 3 est appliquée contre les cylindres =L dans une position qui assure le meilleur contact possible. En effet, même si, p<~r exemple, les chants des deux cylindres sont légêrement voilés ou décalés axialement l'un par rapport â l'autre, la paroi d'obturation est appliquée contre les deux cylindres, avec un minimum de jeu. Cependant, les efforts de poussée, du côté du cylindre dont le chant déborde par rapport â l'autre, sont plus élevés, ce qui va entraîner une usure plus rapides de ce côté de la paroi d'obturation 3, et donc tendre â ramener son plan général parallêle â celui de la plaque de poussée 10, conduire â une répartition plus homogène des efforts fournis par les ressorts 14, et obtenir ?15223 un contact optimal pour l'étanchéité entre paroi d'obturation 3 et cylindres 1.
Au cours de la coulée, si une solidification parasite apparaît entre un cylindre et la parai d'obturation, celle-ci recule du côté du dit cylindre, mais garde le meilleur contact possible avec le deuxième cylindre. Le dit recul comprime les ressorts du côté où il se produit et augmente spontanément en conséquence l'effort de poussée de ce côté ; il s'ensuit une augmentation du frottement qui conduit plus ou moins rapidement â l'élimination de la dite solidification.
Dans le cas où se produit une usure accentuée d'un côté de la parai d'obturation, les ressorts 14 vont agir de manière que la paroi d'obturation reste cependant en contact avec le cylindre situé de ce côté. Ce déplacement peut être détecté soit par un capteur de déplacement, soit par une réduction de l'effort de poussée, résultant du fait que les ressorts situés du dit côté se trouvent ainsi moins comprimés. Le vérin 9 peut alors être commandé pour avancer la plaque de poussée vers les cylindres, jusqu'à rétablir l'effort sauhaitê d'application de la paroi d'obturation contre le chant du cylindre du côté oû s'est produit l'usure. Ce faisant, les efforts de l'autre côté sont accrus et vont donc conduire â une usure accêlérée de cet autre côté, ce qui aura pour résultat de ramener la paroi d'obturation parallèlement à la plaque de poussée, et donc de retrouver l'étanchéité optimale.
Ainsï, les ressorts 14 permettent non seulement d'absorber des défauts du contact paroi d'obturation - cylindre, mais tendent â assurer une correction automatique, spontanée de ces défauts. Contrairement â la technique antérieure indiquée précédemment où
l'on érode en continu la paroi réfractaire pour assurer le meilleur contact possible avec les cylindres, en la poussant contre ceux-ci avec un effort important, l'invention permet d'une part de réduire cet effort de poussée, et d'autre part de n'user la paroi d'obturation que lorsqu'apparaît une perturbation du contact.
De plus, même en l'absence de telles perturbations, le dispositif selon l'invention permet de régler la force d'appui de la parai d'obturation contre le chant des cylindres, notamment en fonction de chaque étape de la coulée, par une :simple commande du vérin 9. On pourra par exemple exercer une force importante au démarrage de la coulée, pour effectuer une sorte de rodage de la paroi d'obt.uration contre le chant des cylindres, puis réduire cette force en régime de coulée stabilisée, et. l'augmenter volontairement en cas d'incident, par exemple d'infiltration de mëtal liquide.
Dans une variante de réalisation du dispositif dêjâ indiquée, les ressorts peuvent être remplacés par des vérins pilotés qui assurer~ant les mêmes fonctions que les ressorts, â partir d.e la mesure de leur pressïon interne, et de la position de la paroi d'obturation. Chacun des vérins pourra être régulé
individuellement selon des lois pré~définies, pour assurer par exemple soit un effort proportionnel au déplacement, les vérins agissant alors comme des ressorts, soit un effort constant, ou encore selon des lois du type F - Kxiz ou F - Kex, où F est l'effort, K et n des constantes prêdéfinies, x le déplacement, de la tige du vérin, mesurée par exemple indirectement par des capteurs de déplacement de la paroi d'obturation ou de la platine.
De p7~us, une régulation de synchronisation de l'usure de la paroi d'obturation, agissant sur tous les vêrins, pourra être combinêe â la régulation 5 individuelle, par exemple en définissant un des vérins comme pilote et en asservissant les autres sur le vérin ~~ilote.
Pré:Eérentiellement alors, on choisira comme vérin pilote celui sïtuê vers le bas de la paroi 10 d'obturation, c'est-â-dire â proximité du col entre les cylindres, oû l'usure de la paroi d'obturation est gênéralement plus accentuêe.
l'endroit où un tel surcroît de poussée est requis, par exemple dans le cas indiqué ci-dessus, du côté oû
s'est produit une solidification parasite.
Dans le cas oü les organes de poussée sont des ressorts, c:e surcroît de poussée est ~en fait gênérê
automatiquement par la compression de:; ressorts, du côté oû la paroi d'obturation est écarté des cylindres, et donc par l'augmentation de 1a force exercée par les ressorts comprimés, dans la mesure oû
la position de la plaque de poussée est fixe, Préférentiellement, la raïdeur de chaque ressort et la répartition des ressorts dans la dite zone sont déterminées de maniêre que, pour une méme flêche de ces ressorts, l'effort de poussêe qu'ils exercent dans la partie basse de la paroi d'obturation soit supérieur â l'effort de poussêe exercé dans la partie haute de la paroi. Cette disposition permet de tenir compte du fait que la pression exercée sur la paroi d'obturation par le métal coulé est plus forte en bas de cette paroi que vers le haut, d'une part â cause de la pression hydrostatique du métal liquide, d'autre part â cause de l'effet de laminage exercé par les cylindres sur le mêtal en cours de solidification, â proximité du col entre les cylindres, qui tend â élargir la bande coulée et donc â repousser l.e bas de la paroi d'obturation. Pour obtenir r_ette répartition particulière de l'effort de poussée, on peut jouer soit sur la raideur des ressorts, soit sur le positionnement et la répartition des ressorts dans le plan de la plaque de poussée, ce qui est plus 2 ~ ~~?31 facilement réalisable lorsque le nombre de ressort est suffisamment grand, soit sur ces deux paramêtres à la fois .
Dans le cas de l'utilisation de vérins, le choix de l'emplacement de ceux-ci tiendra êgalement compte de la répartition souhaitée des efforts d'application de la paroi d'obturation sur les cylindres. Ce choix est cependant moin;â contraignant, puisque cette répartition des efforts pourra être réalisée par un pilotage en pression adéquat des vérins.
Outre l'avantage déjà indiqué de pouvoir répartir selon une configuration prédéterminée la poussée exercée sur la paroi d' obturation 3 et de ne pas reculer la totalité de la paroi en cas de solidification parasite, l'invention permet aussi de pouvoir moduler pendant la coulée la force d'appui globale, en dêplaçant la dite plaque de poussée 10 par rapport aux cylindres, tout en conservant l'adaptabil_ité de la position de la paroi d'obturation par rapport aux chants deus cylindres. A
cette fin, la plaque de poussée est portée par un chariot mobile 8 dans la dite direction axiale, et le dispositif comporte des moyens pour déplacer le dit chariot par rapport aux cylindres e:t exercer sur celui-ci un effort dirigé vers les cylindres. Par exemple, en déplaçant la plaque de poussée vers les cylindres, les ressorts 14 subissent tous une compression complêmentaire, qui s'ajoute â celle qu'ils possédaient avant ce déplacerrrent, mais qui conserve une répartition similaire de la poussée sur la surface de la paroi 3, tout en accentuant plus fortement l'effort dans les zones oie les ressorts fournissaient déjà un effort plus grand. Ainsi, par exemple, la position de la plaque des poussée peut être réglée initialement, au moment du démarrage, pour comprimer assez fortement les res:;orts, et ainsi assurer une sorte de rodage de 1a paroi c1' obturation contre les chants des cylindres ; puis 1a force d'appui globale peut être réduite, en régime de coulée stabilisé, pour natamment éviter une usure trop rapide de la paroi d'obturation, et réaugmentée en cas d'incident, par exemple d'infiltration de métal liquide, pour rétablir le plus vita_ possible l'étanchéité.
D'autres caractéristiques Est avantages apparaîtront dans la description qui va être faite d'un dispositif de coulée continue entre cylindres de bandes minces en acier.
On se reportera aux dessins annexës dans lesquels .
- la figure 1 est une vue en coupe de l'ensemble de support de la paroi d'obturation latérale, dans le cas oû les organes de poussée sont des ressortis, - la figure 2 est une vue en coupe selon la ligne II - II de la figure 1, montrant la répartition des ressorts dans le plan de la paroi de poussée.
- la figure 3 est une vue partie:Lle agrandie de la figure 2.
Sur les figures, les mêmes éléments sont désignés par des références identiques.
Sur le dessin de la figure l, on n'a représenté
que l'un des cylïndres 1 de l'installation de coulée, contre le chant 2 duquel est poussée la paroi d'obturation 3, portée par un ensemble de support 4.
Cet ensemble de support comprend un châssis rigide 5, qui porte un premier chariot, ou chariot de ~ ~2~31 prépositionement 6, réglable en position sur le châssis 5, dans la direction axiale A des cylindres, par exemple par un système vis-écrou 7.
Le chariot de prépositionnement 6 porte un second chariot 8, guidé en translation dans la direction axiale A. Le réglage en position du second chariot 8 est assuré par un vérin 9 de positionnement et de poussée.
Le second chariot 8 supporte une plaque de poussée 10, au moyen de deux axes de support 11. Par ailleurs, la plaque de poussée 10 est maintenue contre des appuis 12 liés au chariot 8 et réglables en position, de manière connue en soi, pour assurer la verticalité de la p:Laque de poussée 10.
La plaque de poussée 10 comporte une pluralité
d'alêsages 13, répartis sur une zone de forme triangulaire correspondant à la forme de la paroi d'obturation. Dans chaque alésage 13 est placé un ressort de compression 14 en appui par une extrémitê
au fond de l' alésage, et par l' autre extrêmité sur un piston 15 coulissant dans l'alésage et comportant des moyens de retenue 16 pour maintenïr ressort et piston dans l'alésage.
La plaque de poussée 10 comporte également à sa partie supérieure des blocs d'appui 17, 17', sur lesquels reposent des oreilles 18, 18' d'une platine 19 refroidie intérieurement et dont la face arriêre est en contact avec les pistons 15.
L'un des blocs d'appui 17 comporte une nervure 17B qui s°engage avec un jeu réduit dans une rainure correspondante de l'oreille 18, pour assurer le positionnement. latéral de la platine selon 0x (direction horizontales, tout en la laissant libre en rotation selon Oz (direction verticale). L'autre 152ê.'31 lo oreille 18' repose simplement sur le bloc d'appui 17' . En somme, les plans 17A et 17'A formant sur les blocs d'appui 17 et 17', les surfaces porteuses, fixent l'al.titude selon Oz de la parai. d'obturation, la nervure 17B fixe la position selon Ox et la direction selon Oy est libre. Des moyens 20 de butée latérale de l'extrémité infërieure de la platine 19 par rapport â la plaque d'appui 10 sont êgalement prévus pour ëviter un basculement. sur les appuis 17 l0 et 17 ' .
Une plaque 21 en matériau réfractaire isolant est maintenue contre la face avant de la platine 19, par une ceinture mëtallique refroidie 22 qui l' entoure et qui est suspendue sur la platine par un axe en forme de crochet 23, qui repose dans un berceau 24 de la dite platine, avec une certaine liberté de mouvement. dans la direction axiale Oy. La plaque en réfractaire isolant 21 peur également se déplacer par rapport à la ceinture refroidie 22, dans la direction axiale, et a une épaisseur légêrement supérieure â celle de la dite ceinture 22.
Sur la ceinture refroidie est vissëe une seconde ceinture 25 métallique, entourant la paroi d'obturation 3 qui lui est lïée par un ciment réfractaire et dont l'épaisseur est ëgalement supérieure â celle de la dite seconde ceinture 25, de manière â dépasser de celle-ci du côté des cylindres, pour éviter un contact entre ceux-ci et la ceinture 25, même aprés une usure maximale admise.
Les formes et dimensions des deux plaques réfractaires 3 et 21 et des ceintures 22 et 25 sont telles que même lorsque 1a seconde ceinture 25 est serrée sur la ceinture refroidie 22, la plaque en réfractaire isolant 21 n'est en contact qu'avec la i paroi d'obturation 3, et non avec 1a dite deuxiême ceinture 25.
Comme par ailleurs l'épaisseur de la plaque en réfractaire isolant 21 est supérieure â celle de la ceinture refroidie, l'effort de poussée transmis par la platine 19 est retransmis uniquement â la paroi d'obturation 3, et non â la ceinture 25, ce qui évite de créer des contraintes entre cette ceinture et le matériau rêfractaire de la paroi d'obturation, et donc des risques de déformations de celle-ci ou sa désolidarisation de la ceinture 25.
Lors de la fixation de la seconde ceinture 25 sur la ceinture refroidie 22, il peut se produire un dêplacement de cette derniêre vers lEas cylindres ;
c'est pourquoi la liaison avec la plaque réfractaire isolante 21 n'est pas rigide, et le crochet 23 a aussi une certaine libertë de déplacement dans le berceau 2~, dans la direction axiale.
Préférentiellement, la platine 19 est en acier, de même que la ceïnture refroidie 22, et la seconde ceinture 25 est en un matëriau qui pré;âente de bonnes caractêristiques â chaud tel que de l'acier ou de la fonte d'ac:ier, son refroidissement naturel étant assisté par contact avec la ceinture 2;? refroidie par une circulation interne d'eau.
Avant. le début de la coulée, il est nêcessaire de prêchauffer la paroi d'obturation 3. Pour cela, l'ensemble de support 4 est éloignë des cylindres, le châssis 5 étant à cet effet muni de moîyens, connus en soi, non représentés, permettant d'assurer son déplacements par rapport â la structure de l'installatiorA de coulée.
Un four de préchauffage â rayonnement est alors amenê en face de la paroi d'obturation pour porter celle-ci â une température élevée, :Le réfractaire isolant 21,, la plaque refroidie 19 et la ceinture refroidie 22 limitant. l'échauffement du reste du dispositif.
Juste avant le démarrage, le four et évacué, puis le châssis 5 est ramené en positic>n et bridé sur la structure. Le vérïn 9 est alors commandé pour amener la paroi d'obturation au contact des chants des cylindres et en continuant son mouvement, déplacer la plaque de poussée 10, ce qui a pour effet de comprimer .Les ressorts 14. Le vérin 9 est régulé
en position. L'effort qu'il fournit est. transmis â la plaque de poussée par le chariot 8 et ses appuis 12, et cet effort est ensuite rêpartï sur la platine 19 par les ressorts ; les efforts fournis localement par chacun des dits ressorts 14 sont donc essentiellement fonction de la compression de ceux-ci et donc de la position relative de la platine et dEa la plaque de poussée.
Ainsi, pour une position déterminée du vérin 9, la paroi d'obturation 3 est appliquée contre les cylindres =L dans une position qui assure le meilleur contact possible. En effet, même si, p<~r exemple, les chants des deux cylindres sont légêrement voilés ou décalés axialement l'un par rapport â l'autre, la paroi d'obturation est appliquée contre les deux cylindres, avec un minimum de jeu. Cependant, les efforts de poussée, du côté du cylindre dont le chant déborde par rapport â l'autre, sont plus élevés, ce qui va entraîner une usure plus rapides de ce côté de la paroi d'obturation 3, et donc tendre â ramener son plan général parallêle â celui de la plaque de poussée 10, conduire â une répartition plus homogène des efforts fournis par les ressorts 14, et obtenir ?15223 un contact optimal pour l'étanchéité entre paroi d'obturation 3 et cylindres 1.
Au cours de la coulée, si une solidification parasite apparaît entre un cylindre et la parai d'obturation, celle-ci recule du côté du dit cylindre, mais garde le meilleur contact possible avec le deuxième cylindre. Le dit recul comprime les ressorts du côté où il se produit et augmente spontanément en conséquence l'effort de poussée de ce côté ; il s'ensuit une augmentation du frottement qui conduit plus ou moins rapidement â l'élimination de la dite solidification.
Dans le cas où se produit une usure accentuée d'un côté de la parai d'obturation, les ressorts 14 vont agir de manière que la paroi d'obturation reste cependant en contact avec le cylindre situé de ce côté. Ce déplacement peut être détecté soit par un capteur de déplacement, soit par une réduction de l'effort de poussée, résultant du fait que les ressorts situés du dit côté se trouvent ainsi moins comprimés. Le vérin 9 peut alors être commandé pour avancer la plaque de poussée vers les cylindres, jusqu'à rétablir l'effort sauhaitê d'application de la paroi d'obturation contre le chant du cylindre du côté oû s'est produit l'usure. Ce faisant, les efforts de l'autre côté sont accrus et vont donc conduire â une usure accêlérée de cet autre côté, ce qui aura pour résultat de ramener la paroi d'obturation parallèlement à la plaque de poussée, et donc de retrouver l'étanchéité optimale.
Ainsï, les ressorts 14 permettent non seulement d'absorber des défauts du contact paroi d'obturation - cylindre, mais tendent â assurer une correction automatique, spontanée de ces défauts. Contrairement â la technique antérieure indiquée précédemment où
l'on érode en continu la paroi réfractaire pour assurer le meilleur contact possible avec les cylindres, en la poussant contre ceux-ci avec un effort important, l'invention permet d'une part de réduire cet effort de poussée, et d'autre part de n'user la paroi d'obturation que lorsqu'apparaît une perturbation du contact.
De plus, même en l'absence de telles perturbations, le dispositif selon l'invention permet de régler la force d'appui de la parai d'obturation contre le chant des cylindres, notamment en fonction de chaque étape de la coulée, par une :simple commande du vérin 9. On pourra par exemple exercer une force importante au démarrage de la coulée, pour effectuer une sorte de rodage de la paroi d'obt.uration contre le chant des cylindres, puis réduire cette force en régime de coulée stabilisée, et. l'augmenter volontairement en cas d'incident, par exemple d'infiltration de mëtal liquide.
Dans une variante de réalisation du dispositif dêjâ indiquée, les ressorts peuvent être remplacés par des vérins pilotés qui assurer~ant les mêmes fonctions que les ressorts, â partir d.e la mesure de leur pressïon interne, et de la position de la paroi d'obturation. Chacun des vérins pourra être régulé
individuellement selon des lois pré~définies, pour assurer par exemple soit un effort proportionnel au déplacement, les vérins agissant alors comme des ressorts, soit un effort constant, ou encore selon des lois du type F - Kxiz ou F - Kex, où F est l'effort, K et n des constantes prêdéfinies, x le déplacement, de la tige du vérin, mesurée par exemple indirectement par des capteurs de déplacement de la paroi d'obturation ou de la platine.
De p7~us, une régulation de synchronisation de l'usure de la paroi d'obturation, agissant sur tous les vêrins, pourra être combinêe â la régulation 5 individuelle, par exemple en définissant un des vérins comme pilote et en asservissant les autres sur le vérin ~~ilote.
Pré:Eérentiellement alors, on choisira comme vérin pilote celui sïtuê vers le bas de la paroi 10 d'obturation, c'est-â-dire â proximité du col entre les cylindres, oû l'usure de la paroi d'obturation est gênéralement plus accentuêe.
Claims (12)
1. Dispositif de coulée continue entre cylindres de produits métalliques minces, comportant deux cylindres (1) contrarotatifs refroidis, deux parois d'obturation latérale (3) et des moyens de support et d'application en pression des dites parois d'obturation contre les chants (2) des cylindres, caractérisé en ce que les dits moyens de support comportent:
- une plaque de poussée (10) mobile selon la direction axiale (A) des cylindres (1) et disposée perpendiculairement à cette direction, - une platine (19), qui supporte la paroi d'obturation (3) et qui est portée par la plaque de poussée (10) et disposée en face de celle-ci, - au moins trois organes de poussée (14) interposés entre la dite plaque de poussée (10) et la dite platine (19), ces organes étant répartis sur une zone de forme correspondant à celle de la paroi d'obturation (3), et pouvant exercer sur celle-ci des efforts de poussée indépendamment l'un de l'autre, - la platine (19) est conformée de manière que l'effort de poussée qu'elle transmet soit appliqué
uniquement sur la dite paroi (3), - la paroi d'obturation étant constituée d'une plaque (3) en matériau réfractaire dur entourée d'une ceinture (25) métallique à laquelle elle est liée, la dite ceinture métallique (25) est fixée sur une ceinture refroidie (22) entourant une plaque en matériau réfractaire thermiquement isolant (21), avec une liberté
de déplacement de cette dernière par rapport à la dite ceinture refroidie (22) dans la direction axiale des cylindres, la ceinture refroidie (22) étant supportée sur la dite platine (19), et la plaque en réfractaire isolant (21) étant conformée de manière que l'effort de poussée transmis par la platine à la dite plaque (21) soit retransmis par celle-ci uniquement à la dite plaque en matériau réfractaire dur (3).
- une plaque de poussée (10) mobile selon la direction axiale (A) des cylindres (1) et disposée perpendiculairement à cette direction, - une platine (19), qui supporte la paroi d'obturation (3) et qui est portée par la plaque de poussée (10) et disposée en face de celle-ci, - au moins trois organes de poussée (14) interposés entre la dite plaque de poussée (10) et la dite platine (19), ces organes étant répartis sur une zone de forme correspondant à celle de la paroi d'obturation (3), et pouvant exercer sur celle-ci des efforts de poussée indépendamment l'un de l'autre, - la platine (19) est conformée de manière que l'effort de poussée qu'elle transmet soit appliqué
uniquement sur la dite paroi (3), - la paroi d'obturation étant constituée d'une plaque (3) en matériau réfractaire dur entourée d'une ceinture (25) métallique à laquelle elle est liée, la dite ceinture métallique (25) est fixée sur une ceinture refroidie (22) entourant une plaque en matériau réfractaire thermiquement isolant (21), avec une liberté
de déplacement de cette dernière par rapport à la dite ceinture refroidie (22) dans la direction axiale des cylindres, la ceinture refroidie (22) étant supportée sur la dite platine (19), et la plaque en réfractaire isolant (21) étant conformée de manière que l'effort de poussée transmis par la platine à la dite plaque (21) soit retransmis par celle-ci uniquement à la dite plaque en matériau réfractaire dur (3).
2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que les dits organes de poussée sont des ressorts (14).
3. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que la raideur de chaque ressort (14) et la répartition des ressorts dans la dite zone sont déterminées de manière que pour une même flèche de ces ressorts, l'effort de poussée qu'ils exercent dans la partie basse de la paroi d'obturation soit supérieur à
l'effort de poussée exercé dans la partie haute de la paroi.
l'effort de poussée exercé dans la partie haute de la paroi.
4. Dispositif selon la revendication 1 caractérisé en ce que les organes de poussée sont des vérins pilotés.
5. Dispositif selon la revendication 4 caractérisé en ce que les vérins sont régulés en pression.
6. Dispositif selon l'une des revendications 1 à
5, caractérisé en ce que la plaque de poussée (10) est portée par un chariot (8) mobile dans la dite direction axiale, et en ce qu'il comporte des moyens (9) pour déplacer le dit chariot par rapport aux cylindres et exercer sur celui-ci un effort dirigé vers les cylindres.
5, caractérisé en ce que la plaque de poussée (10) est portée par un chariot (8) mobile dans la dite direction axiale, et en ce qu'il comporte des moyens (9) pour déplacer le dit chariot par rapport aux cylindres et exercer sur celui-ci un effort dirigé vers les cylindres.
7. Dispositif de coulée continue entre cylindres de produits métalliques minces, comportant deux cylindres (1) contrarotatifs et deux parois d'obturation (3) latérales appliquées en pression contre les chants des cylindres, caractérisé en ce que :
- chaque paroi d'obturation (3) est disposée entre le chant d'un cylindre et une plaque de matériau réfractaire isolant (21), la dite plaque de matériau réfractaire isolant étant entourée à sa périphérie par une première ceinture (22) de manière à ce que la plaque de matériau réfractaire isolant soit mobile par rapport à
la première ceinture (22) dans une direction généralement parallèle à un axe (A) de rotation des cylindres, - la dite paroi d'obturation (3) est entourée à
sa périphérie par une deuxième ceinture (25) de telle manière que la dite deuxième ceinture 25) est mobile axialement à l'unisson avec la dite paroi d'obturation, et - la deuxième ceinture (25) est portée par la première ceinture (22).
- chaque paroi d'obturation (3) est disposée entre le chant d'un cylindre et une plaque de matériau réfractaire isolant (21), la dite plaque de matériau réfractaire isolant étant entourée à sa périphérie par une première ceinture (22) de manière à ce que la plaque de matériau réfractaire isolant soit mobile par rapport à
la première ceinture (22) dans une direction généralement parallèle à un axe (A) de rotation des cylindres, - la dite paroi d'obturation (3) est entourée à
sa périphérie par une deuxième ceinture (25) de telle manière que la dite deuxième ceinture 25) est mobile axialement à l'unisson avec la dite paroi d'obturation, et - la deuxième ceinture (25) est portée par la première ceinture (22).
8. Dispositif selon la revendication 7, dans laquelle la dite plaque de matériau réfractaire isolant (21) a une épaisseur qui est plus importante que la largeur de la première ceinture (22).
9. Dispositif selon la revendication 7, dans laquelle un liquide de refroidissement circule à
l'intérieur de la première ceinture (22).
l'intérieur de la première ceinture (22).
10. Dispositif selon la revendication 7, dans laquelle un ensemble comprenant la plaque de matériau réfractaire isolant (21), la paroi d'obturation (3) et les deux ceintures (22, 25), est supporté par une platine (19).
11. Dispositif selon l'une des revendications 1 à
10, dans laquelle la dite platine (19) comporte un berceau (24) auquel la première ceinture (22) est accrochée par un crochet (23), de telle sorte que la deuxième ceinture (25) est mobile dans une direction parallèle à l'axe de rotation des rouleaux (A).
10, dans laquelle la dite platine (19) comporte un berceau (24) auquel la première ceinture (22) est accrochée par un crochet (23), de telle sorte que la deuxième ceinture (25) est mobile dans une direction parallèle à l'axe de rotation des rouleaux (A).
12. Dispositif selon la revendication 11, dans laquelle un liquide de refroidissement circule à
l'intérieur de la platine (19).
l'intérieur de la platine (19).
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