AT516292A2 - Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einem Lack sowie Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschicht - Google Patents

Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einem Lack sowie Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschicht Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (26) mit einem Lack, mit den folgenden Schritten: - der Lack wird gleichmäßig auf das Substrat (26) aufgebracht, - der Lösungsmittelanteil des auf dem Substrat (26) aufgebrachten Lackes (30) wird verringert, - das beschichtete Substrat (26) wird einer Lösungsmittelatmosphäre ausgesetzt. Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschicht.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einem Lack sowieeine Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschicht auf einem Substrat.
In Mikro- und Nanofabrikationsprozessen kommen üblicherweise Lacke zum Einsatz, die aufdas zu bearbeitende Substrat in einer Schicht aufgetragen werden. Mithilfe dieser Lackekönnen z. B. Masken auf den Substraten erzeugt werden, mit deren Hilfe auf dem Substrat einegewünschte Struktur erzeugt werden oder Bearbeitung erfolgen kann. Zu diesem Zweck sinddie Lacke beispielsweise lichtempfindlich, sodass die gewünschte Struktur mithilfe eineroptischen Abbildung von einer Fotomaske auf den lichtempfindlichen Lack übertragen werdenkann.
Um optimale Ergebnisse zu erzielen, ist es äußerst wichtig, dass die aufgetrageneLackschicht frei von Unebenheiten und Partikeln ist. Neben Rotationsverfahren kommen zumAufbringen des Lackes auf das Substrat auch Sprühverfahren zum Einsatz, bei denen der Lackmittels einer Düse auf das Substrat gesprüht wird. Insbesondere bei Substraten mitTopografien, d.h. Substraten, die selbst bereits vertikale, dreidimensionale Strukturen auf ihrerOberfläche aufweisen, kann eine möglichst homogene Lackschicht wirtschaftlich nur durchAufsprühen des Lackes erreicht werden.
Jedoch bilden sich beim Aufsprühen des Lackes Lackpartikel auf der Lackschicht, da einegewisse Anzahl von Lacktropfen während des Fluges zwischen der Düse und Substrataustrocknet und dann bereits als (fast) ausgehärtete Lackpartikel auf die Oberfläche desSubstrats bzw. des dort vorhandenen Lacks auftreffen. Diese Lackpartikel sammeln sich auf deraufgesprühten Lackschicht und führen zu Problemen beim weiteren Verarbeiten, beispielsweisebeim Belichten, sowie schlussendlich zu lokalen Defekten an den erzeugten Strukturen.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren sowie eine Vorrichtung bereitzustellen, bei demdie auf dem Substrat aufgebrachte Lackschicht eben und frei von Lackpartikeln ist.
Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einemLack, bei dem der Lack gleichmäßig auf das Substrat aufgebracht wird, dann derLösungsmittanteil des auf dem Substrat aufgebrachten Lackes verringert wird und anschließenddas beschichtete Substrat einer Lösungsmittelatmosphäre ausgesetzt wird. Indem dasbeschichtete Substrat einer Lösungsmittelatmosphäre ausgesetzt wird, werden die Lackpartikel,die sich auf dem Substrat gebildet haben, aufgelöst. Da aber vorher der Lösungsmittelanteil desSubstrats verringert wurde, ist sichergestellt, dass der auf dem Substrat aufgebrachte Lackauch bei der Behandlung in einer Lösungsmittelatmosphäre nicht weiter fließt bzw. wieder zu fließen beginnt. So ist gewährleistet, dass das Substrat vollständig, auch an steilen Stellen einereventuell vorhandenen Topografie, mit Lack bedeckt bleibt.
Der Lösungsmittelanteil des aufgetragenen Lacks muss bis und während das Substrat derLösungsmittelatmosphäre ausgesetzt wird, in einem Bereich gehalten werden, in dem dieViskosität des aufgetragenen Lackes genügend groß ist, sodass der Lack nicht mehr fließt.Gleichzeitig darf der Lösungsmittelanteil nicht derart verringert worden sein, dass dieLackpartikel oder Unebenheiten durch die Lösungsmittelatmosphäre nicht mehr aufgelöstwerden können.
Dabei wird unter dem Begriff „Lack“ in diesem Zusammenhang eine Mischung aus einemLösungsmittel und einem für die gewünschte Anwendung passenden Lack verstanden.
Vorzugsweise wird das beschichtete Substrat, nachdem es der Lösungsmittelatmosphäreausgesetzt wurde, erhitzt, wodurch der aufgebrachte Lack einem Softbake unterzogen wird.Durch den Softbake wird der Lösungsmittelanteil des Lackes so weit verringert, dass der Lackvollständig erstarrt und weiterverarbeitet, z. B. belichtet werden kann.
Um den Lösungsmittelanteil des auf das Substrat aufgebrachten Lacks in der gewünschtenWeise zu verringern, kann das beschichtete Substrat einem Vakuum ausgesetzt werden. Aufdiese Weise verdampft ein Teil des flüchtigen Lösungsmittels, sodass die Viskosität des Lackeserhöht wird.
Dabei wird unter einem Vakuum ein Druck von unter 0,3 bar verstanden.
In einer Ausführungsvariante wird das beschichtete Substrat erhitzt, um denLösungsmittelanteil des auf dem Substrat aufgebrachten Lackes zu verringern, wodurchebenfalls die Viskosität des Lackes erhöht wird.
In einer Ausgestaltung der Erfindung weist die Lösungsmittelatmosphäre einenLösungsmittelanteil von wenigstens 50 Mol-%, insbesondere wenigstens 70 Mol-% auf. DieseWerte haben sich als besonders geeignet herausgestellt, um Unebenheiten und Lackpartikelauf dem aufgebrachten Lack aufzulösen und dadurch zu entfernen.
Das Lösungsmittel kann Aceton oder Methylethylketon sein, wodurch preiswerte undbekannte Lösungsmittel verwendet werden können.
In einer Ausgestaltung der Erfindung liegt die Temperatur der Lösungsmittelatmosphäreoberhalb der Siedetemperatur des Lösungsmittels, wodurch eine Kondensation desLösungsmittels verhindert wird, die zu unerwünschten Lösungsmitteltropfen führen kann. Diese
Tropfen sind unerwünscht, da sie unkontrolliert auf den beschichteten Lack tropfen und dieLackschicht zerstören können.
Beispielsweise ist der Druck der Lösungsmittelatmosphäre größer oder gleich 0,5 bar,insbesondere größer oder gleich 0,7 bar, wodurch eine zuverlässige Entfernung derLackpartikel und der Unebenheiten gewährleistet wird.
Das beschichtete Substrat kann der Lösungsmittelatmosphäre für 480 s oder weniger,insbesondere für 420 s oder weniger ausgesetzt sein. Diese Zeitdauer ist lang genug, damitLackpartikel aufgelöst und Unebenheiten ausgeglichen werden, jedoch kurz genug, damit deraufgebrachte Lack nicht wieder angelöst wird und zu fließen beginnt.
In einer Ausführungsvariante der Erfindung wird der Lack durch Sprühen gleichmäßig aufdas Substrat aufgebracht, wodurch das Substrat auf erprobte Weise gleichmäßig beschichtetwerden kann, selbst wenn das Substrat Topografien aufweist.
Die Aufgabe wird ferner gelöst durch eine Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschichtauf einem Substrat, mit einem Behandlungsraum, einer Trocknungsvorrichtung, die dazuausgebildet ist, den Lösungsmittelanteil der Lackschicht zu verringern, und einem Verdampfer,der eine Lösungsmittelatmosphäre im Behandlungsraum erzeugen kann. Durch die Vorrichtungist es möglich, eine Lackschicht zu trocknen, d. h. den Lösungsmittelanteil des Lackes soweit zuverringern, dass er nicht mehr fließt. Zudem können Unebenheiten und Lackpartikel auf derLackschicht durch die Lösungsmittelatmosphäre entfernt werden.
Dabei ist der Begriff „Verdampfer“ nicht auf Vorrichtungen beschränkt, die aus Feststoffenoder Flüssigkeiten ein Gas erzeugen. Der Begriff umfasst auch andere Vorrichtungen, die in derLage sind, eine Lösungsmittelatmosphäre im Behandlungsraum zu erzeugen, wiebeispielsweise einen Gasvorratsbehälter mit passendem Ventil.
Vorzugsweise weist die Vorrichtung eine Beschichtungsvorrichtung auf, die die Lackschichtgleichmäßig auf das Substrat aufbringen kann, insbesondere aufsprühen kann. Dadurch kannauf erprobte Weise eine gleichmäßige Lackschicht auf Substraten erzeugt werden,insbesondere auch auf Substraten mit Topografien.
Beispielsweise weist die Trocknungsvorrichtung eine Vakuumpumpe und/oder wenigstenseine Venturi-Düse auf, die ein Vakuum im Behandlungsraum erzeugen kann, sodassLösungsmittel aus der aufgetragenen Lackschicht verdampft und sich der Lösungsmittelanteilder Lackschicht verringert.
In einer Ausführungsvariante ist die Trocknungsvorrichtung eine Heizvorrichtung, die dieLackschicht erwärmen kann, sodass ebenfalls der Lösungsmittelanteil der aufgetragenenLackschicht verringert wird.
In einer Ausgestaltung der Erfindung weist die Vorrichtung ein Heizsystem auf, das dieAtmosphäre im Behandlungsraum erhitzen kann, wodurch die Temperatur der Atmosphäre imBehandlungsraum kontrolliert werden kann. Zum Beispiel kann durch dieses Heizsystem auchdie aufgetragene Lackschicht erwärmt werden.
In einer Ausführungsform der Erfindung erzeugt der Verdampfer eineLösungsmittelatmosphäre mit einem Lösungsmittelanteil von wenigstens 50 Mol-%,insbesondere wenigstens 70 Mol-%, wodurch eine Lösungsmittelkonzentration in derAtmosphäre gewährleistet ist, die ausreichend hoch ist, um Unebenheiten zu einzuebnen undLackpartikel aufzulösen.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgendenBeschreibung sowie aus den beigefügten Zeichnungen, auf die Bezug genommen wird. In denZeichnungen zeigen:
Figur 1 schematisch eine erfindungsgemäße Vorrichtung gemäß einer erstenAusführungsform der Erfindung,
Figur 2 schematisch eine erfindungsgemäße Vorrichtung gemäß einer zweitenAusführungsform der Erfindung, und
Figuren 3a bis 3c schematisch im Schnitt ein zu beschichtendes Substrat zuverschiedenen Zeitpunkten des erfindungsgemäßen Verfahrens.
In Figur 1 ist schematisch eine Vorrichtung 10 dargestellt, die zur Beschichtung undBehandlung eines Substrats dient. Bei dem Substrat handelt es sich beispielsweise um einenHalbleiter, der später weiterbearbeitet wird.
Die Vorrichtung 10 weist einen Behandlungsraum 12 auf, in dem ein Substrathalter 14vorgesehen ist. Mit dem Behandlungsraum 12 stehen ein Verdampfer 16 und eineTrocknungsvorrichtung 18 in Verbindung.
Zudem kann die Vorrichtung 10 mit einer Beschichtungsvorrichtung 20 versehen sein.
Die Vorrichtung 10 weist auch ein Heizsystem 22 auf, das im Behandlungsraum 12angeordnet ist und das die Atmosphäre innerhalb des Behandlungsraumes 12 erhitzen kann.
Das Heizsystem 22 kann beispielsweise durch Heizstangen oder -wendein imBehandlungsraum 12 gebildet werden.
Die Beschichtungsvorrichtung 20 weist in der gezeigten Ausführungsform eine Düse 24 auf,mit der ein auf dem Substrathalter 14 angeordnetes Substrat 26 gleichmäßig mit Lack besprühtwerden kann.
Die Trocknungsvorrichtung 18 weist in der ersten Ausführungsform eine Vakuumpumpe 28auf, die fluidisch mit dem Behandlungsraum 12 verbunden ist und diesen evakuieren kann.Beispielsweise kann die Vakuumpumpe 28 den Druck im Behandlungsraum 12 auf 0,2 barreduzieren.
Weiterhin kann die Trocknungsvorrichtung 18 wenigstens eine Venturi-Düse zurEvakuierung des Behandlungsraumes 12 aufweisen.
Der Verdampfer 16 ist derart ausgebildet, dass er eine Lösungsmittelatmosphäre imBehandlungsraum 12 erzeugen kann. Zu diesem Zweck steht er ebenfalls mit demBehandlungsraum 12 in fluidischer Verbindung.
Der Verdampfer 16 kann beispielsweise eine mit Lösungsmittel gefüllte Gaswaschflascheaufweisen, durch die ein Gasstrom, insbesondere ein Stickstoffstrom, geleitet wird, wodurch dasLösungsmittel verdampft. Das verdampfte Lösungsmittel wird dann zusammen mit demStickstoff in den Behandlungsraum 12 eingeleitet.
Selbstverständlich sind andere Arten der Bereitstellung einer Lösungsmittelatmosphäredenkbar, beispielsweise das thermische oder mechanische Verdampfen von Lösungsmittel oderdie Verwendung eines Lösungsmittelreservoirs, in dem ein Lösungsmittel bereits in Gasformvorhanden ist.
Der Lösungsmittelanteil der vom Verdampfer 16 erzeugten Lösungsmittelatmosphärebeträgt wenigstens 50 Mol-%, insbesondere wenigstens 70 Mol-%.
Das Lösungsmittel ist beispielsweise Aceton oder Methylethylketon.
Das mithilfe der Vorrichtung ausgeführte Verfahren zum Beschichten eines Substrats miteinem Lack und Planarisieren der auf dem Substrat 26 aufgebrachten Lackschicht wird imFolgenden anhand der Figuren 3a bis 3c beschrieben.
Figur 3a zeigt ausschnittsweise ein zu beschichtendes Substrat 26 schematisch imQuerschnitt. Zu Beginn des Verfahrens ist das Substrat 26 unbeschichtet und frei vonVerschmutzung.
Das gezeigte Substrat 26 ist hier zur Vereinfachung als eben dargestellt. Jedoch kann daserfindungsgemäße Verfahren ebenso auf Substrate angewandt werden, die vertikale,dreidimensionale Topografien aufweisen.
Mithilfe der Beschichtungsvorrichtung 20 wird nun der Lack, welcher ein Gemisch aus demfür die gewünschte Anwendung passenden Lack und einem Lösungsmittel ist, gleichmäßig aufdas Substrat 26 aufgebracht, beispielsweise durch Sprühen.
In Figur 3b ist das Substrat 26 mit aufgebrachter Lackschicht 30 dargestellt.
Zu erkennen ist, dass der Lack hier lokale Unebenheiten 32 aufweist. Auch können sichLackpartikel 34 auf der Lackschicht 30 angesammelt haben. Diese Lackpartikel 34 können sichbeispielsweise dadurch bilden, dass einzelne Lacktropfen, die von der Düse 24 erzeugt wurden,während des Fluges zum Substrat 26 austrocknen und hohle Kugeln bilden.
Sowohl die Lackpartikel 34 als auch die Unebenheiten 32 sind unerwünscht, da sie dieQualität des weiteren Nano- bzw. Mikrofabrikationsprozesses beeinträchtigen können.
Zur Entfernung der Unebenheiten 32 und Lackpartikel 34 wird der auf dem Substrat 26aufgebrachte Lack, also die Lackschicht 30, getrocknet, wodurch sich der Lösungsmittelanteilder Lackschicht 30 verringert.
Dies kann dadurch geschehen, dass der Behandlungsraum 12 mithilfe der Vakuumpumpe28 und/oder Venturi-Düse evakuiert wird. Beispielsweise kann ein Druck von 0,2 bar imBehandlungsraum 12 erzeugt werden. Das beschichtete Substrat 26 wird somit einem Vakuumausgesetzt.
Durch den Unterdrück verdampfen Teile des Lösungsmittels des Lackes, sodass derLösungsmittelanteil der Lackschicht 30 verringert wird. Die Lackschicht 30 mit dem verringertenLösungsmittelanteil weist nun eine vergrößerte Viskosität auf, sodass die Lackschicht 30 nichtmehr fließen kann.
Dies ist insbesondere für Substrate mit Topographien von Bedeutung, da ein zu flüssigerLack in Mulden und Vertiefungen des Substrat fließen würde, sodass höherliegende Ecken undKanten ohne ausreichende Lackschicht verbleiben würden.
Anschließend wird mithilfe des Verdampfers 16 gasförmiges Lösungsmittel, beispielsweiseAceton oder Methylethylketon, in den Behandlungsraum 12 eingebracht, sodass sich eineLösungsmittelatmosphäre im Behandlungsraum 12 ausbildet.
Als besonders geeignet hat sich herausgestellt, einen Lösungsmittelanteil in derLösungsmittelatmosphäre von wenigstens 50 Mol-% und insbesondere wenigstens 70 Mol-% zuverwenden.
Der Druck der Lösungsmittelatmosphäre ist vorzugsweise größer oder gleich 0,5 bar,insbesondere größer oder gleich 0,7 bar.
Falls notwendig, kann mithilfe des Heizsystems 22 der Behandlungsraum 12 beheiztwerden, sodass die Temperatur der Lösungsmittelatmosphäre erhöht wird, beispielsweise aufeine Temperatur oberhalb der Siedetemperatur des Lösungsmittels.
Die Lösungsmittelatmosphäre im Behandlungsraum 12 wirkt auf die Lackschicht für wenigeMinuten ein. Als besonders geeignet hat sich ein Einwirkdauer von nicht mehr als 480 sherausgestellt, besonders bevorzugt von nicht mehr als 420 s.
Dabei kann der Beginn bzw. das Ende der Dauer, für die das Substrat 26 derLösungsmittelatmosphäre ausgesetzt wird, dadurch definiert sein, dass der Lösungsmittelanteilder Lösungsmittelatmosphäre einen bestimmten Wert über- bzw. unterschreitet, beispielsweise50 Mol-% oder 70 Mol-%.
Nachdem das beschichtete Substrat 26 mit der Lackschicht 30 derLösungsmittelatmosphäre ausgesetzt wurde, wird die Lösungsmittelatmosphäre aus demBehandlungsraum 12 entfernt. Dies geschieht beispielsweise dadurch, dass derBehandlungsraum 12 mit einem Inertgas, z.B. Stickstoff, gespült wird. Dieser Schritt kannjedoch auch mithilfe der Vakuumpumpe 28 und/oder Venturi-Düse erfolgen.
Durch das gasförmige Lösungsmittel in der Lösungsmittelatmosphäre wurden dieUnebenheiten 32 eingeebnet und die Lackpartikel 34 auf der Lackschicht 30 aufgelöst, sodassnun eine homogene und planare Oberfläche der Lackschicht 30 entstanden ist. Die Lackschicht30 ist also (nahezu) frei von Unebenheiten 32 und Lackpartikeln 34. Das Substrat 26 nach demAussetzen in der Lösungsmittelatmosphäre ist in Figur 3c dargestellt.
Nun kann das beschichtete Substrat 26 mit der Lackschicht 30 erhitzt werden, sodass dieLackschicht 30 einem Softbake unterzogen wird.
Das beschichtete Substrat 26 mit der Lackschicht 30 kann anschließend weiterverarbeitet,beispielweise belichtet werden.
Der Druck, die Temperatur und der Lösungsmittelanteil der Lösungsmittelatmosphäre sowiedie Dauer, die das Substrat der Lösungsmittelatmosphäre ausgesetzt ist, und weitere
Parameter sind beispielhaft und müssen z.B. an das verwendete Lösungsmittel und an denverwendeten Lack angepasst werden, um optimale Ergebnisse zu erzielen.
In Figur 2 ist eine zweite Ausführungsform der Vorrichtung 10 dargestellt. Sie entspricht imWesentlichen der ersten Ausführungsform gemäß Figur 1, sodass gleiche und funktionsgleicheTeile mit denselben Bezugszeichen bezeichnet werden. Nachfolgend wird lediglich auf dieUnterschiede eingegangen.
Die Trocknungsvorrichtung 18 der Vorrichtung 10 der zweiten Ausführungsform weist keineVakuumpumpe, sondern eine Heizvorrichtung 36 auf.
Die Heizvorrichtung 36 ist beispielsweise im Substrathalter 14 vorgesehen und kann dasSubstrat 26 und eine eventuell darauf aufgebrachte Lackschicht 30 erhitzen.
Das mithilfe der Vorrichtung 10 gemäß der zweiten Ausführungsform durchgeführteVerfahren entspricht ebenfalls im Wesentlichen dem bereits beschriebenen Verfahren. Jedochwird der Lösungsmittelanteil des auf dem Substrat 26 aufgebrachten Lackes, also derLackschicht 30, auf andere Weise verringert.
Die Heizvorrichtung 36 erwärmt das beschichtete Substrat 26 mit der Lackschicht 30,sodass das Lösungsmittel in der Lackschicht 30 teilweise verdampft, wodurch derLösungsmittelanteil der Lackschicht 30 verringert wird.
Außerdem kann die im Behandlungsraum 12 erzeugte Lösungsmittelatmosphäre mittelseines Lüfters 40, der in einem Lüftungsschacht zwischen Behandlungsraum 12 und Umgebungder Vorrichtung 10 vorgesehen ist, aus dem Behandlungsraum 12 abgeführt werden.
Selbstverständlich können die Merkmale der gezeigten Ausführungsformen beliebigmiteinander kombiniert werden. Beispielsweise ist es denkbar, dass die Vorrichtung 10 sowohleine Heizvorrichtung 36 als auch eine Vakuumpumpe 28 aufweist. Dadurch ist es möglich, einesehr reine Lösungsmittelatmosphäre zu erzeugen, da der Behandlungsraum 12 evakuiertwerden kann, bevor die Lösungsmittelatmosphäre in den Behandlungsraum 12 eingebrachtwird.
Ebenfalls ist es denkbar, dass die Heizvorrichtung 36 und das Heizsystem 22 durchdieselben Heizelemente gebildet werden, sodass mit diesen Heizelementen sowohl derBehandlungsraum 12 und somit die Lösungsmittelatmosphäre als auch das beschichteteSubstrat 26 erhitzt werden kann.

Claims (16)

  1. Patentansprüche 1. Verfahren zum Beschichten eines Substrats (26) mit einem Lack, mit den folgendenSchritten: - der Lack wird gleichmäßig auf das Substrat (26) aufgebracht, - der Lösungsmittelanteil des auf dem Substrat (26) aufgebrachten Lackes (30) wirdverringert, - das beschichtete Substrat (26) wird einer Lösungsmittelatmosphäre ausgesetzt.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das beschichtete Substrat,nachdem es der Lösungsmittelatmosphäre ausgesetzt wurde, erhitzt wird und somit deraufgebrachte Lack (30) einem Softbake unterzogen wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das beschichteteSubstrat zur Verringerung des Lösungsmittelanteils des auf dem Substrat (26) aufgebrachtenLackes (30) einem Vakuum ausgesetzt wird.
  4. 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassdas beschichtete Substrat (26) zur Verringerung des Lösungsmittelanteils des auf dem Substrat (26) aufgebrachten Lackes (30) erhitzt wird.
  5. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassdie Lösungsmittelatmosphäre einen Lösungsmittelanteil von wenigstens 50 Mol-%,insbesondere wenigstens 70 Mol-% aufweist.
  6. 6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassdas Lösungsmittel der Lösungsmittelatmosphäre Aceton oder Methylethylketon ist.
  7. 7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassdie Temperatur der Lösungsmittelatmosphäre oberhalb der Siedetemperatur desLösungsmittels liegt.
  8. 8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassder Druck der Lösungsmittelatmosphäre größer oder gleich 0,5 bar, insbesondere größer odergleich 0,7 bar ist.
  9. 9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassdas beschichtete Substrat (26) der Lösungsmittelatmosphäre für 480 s oder weniger,insbesondere für 420 s oder weniger ausgesetzt wird.
  10. 10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassder Lack durch Sprühen gleichmäßig auf das Substrat aufgebracht wird.
  11. 11. Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschicht (30) auf einem Substrat (26), miteinem Behandlungsraum (12), einer Trocknungsvorrichtung (18), die dazu ausgebildet ist, denLösungsmittelanteil der Lackschicht (30) zu verringern, und einem Verdampfer (16), der eineLösungsmittelatmosphäre im Behandlungsraum (12) erzeugen kann.
  12. 12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (10) eineBeschichtungsvorrichtung (20) aufweist, die den Lack gleichmäßig auf das Substrat aufbringenkann, insbesondere aufsprühen kann.
  13. 13. Vorrichtung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass dieTrocknungsvorrichtung (18) eine Vakuumpumpe (28) aufweist, die ein Vakuum imBehandlungsraum (12) erzeugen kann.
  14. 14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass dieTrocknungsvorrichtung (18) eine Heizvorrichtung (36) aufweist, die die Lackschicht (30)erwärmen kann.
  15. 15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass dieVorrichtung (10) ein Heizsystem (22) aufweist, das die Atmosphäre im Behandlungsraum (12)erhitzen kann.
  16. 16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass derVerdampfer (16) eine Lösungsmittelatmosphäre mit einem Lösungsmittelanteil von wenigstens50 Mol-%, insbesondere wenigstens 70 Mol-% erzeugt.
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