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Die Erfindung betrifft eine Doppelbandanlage mit einem endlos umlaufenden Oberband sowie einem endlos umlaufenden Unterband, deren einander zugewandte Bandtrums einen Prozessspalt begrenzen, wobei die Höhe des Prozessspaltes durch Kalibrierwalzen einstellbar ist, die sowohl dem Bandtrum des Oberbandes als auch dem Bandtrum des Unterbandes zugeordnet sind.
Doppelbandanlagen zur Verarbeitung von zähflüssigen Schmelzen zu Kunststoffen in Platten- form sind allgemein bekannt. Eine Doppelbandanlage weist ein endlos umlaufendes Oberband sowie ein endlos umlaufendes Unterband auf, deren einander zugewandte Bandtrums einen Pro- zessspalt begrenzen, in den das Schmelzenprodukt unter vorgegebenen Druck- und Temperatur- verhältnissen zu der Plattenform in einem kontinuierlichen Durchlaufverfahren durch die Doppel- bandanlage ausgehärtet wird. Insbesondere die Verarbeitung von hoch fliessfähigen, d. h. relativ dünnflüssigen Schmelzen bereitet bislang jedoch Schwierigkeiten.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Doppelbandanlage der eingangs genannten Art zu schaffen, die eine verbesserte Verarbeitung von hoch fliessfähigen Schmelzen ermöglicht.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, dass an einer vom Prozessspalt abgewandten Rückseite des Bandtrums des Oberbandes mehrere, über zumindest einen Teil der Länge des Prozessspaltes verteilte und sich jeweils über zumindest nahezu die gesamte Breite des Bandtrums erstreckende Ausgleichseinrichtungen vorgesehen sind, die das Bandtrum über die Breite des Prozessspaltes gegen das Eigengewicht des Bandtrums eben positioniert halten. Der erfindungsgemässen Lösung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass bei relativ stark fliessfähigen, d. h. dünnflüssigen Schmelzen der Gegendruck des Schmelzproduktes im Prozessspalt nicht ausreicht, um das Bandtrum des Ober- bandes eben zu halten. Das Bandtrum hängt vielmehr aufgrund seines Eigengewichtes zumindest geringfügig durch, wodurch die Genauigkeit der herzustellenden ausgehärteten Plattenprodukte in Frage gestellt ist.
Die erfindungsgemässe Lösung vermeidet das Durchhängen des Bandtrums über seine Breite, wobei die Ausgleichseinrichtungen das Bandtrum des Oberbandes gegen das Eigen- gewicht des Bandtrums nach oben ziehen. Somit ist es möglich, Plattenmaterial mit äusserst gerin- gen Toleranzen sehr genau herzustellen. Da als Oberband insbesondere ein Stahlband eingesetzt wird, eignen sich als Ausgleichseinrichtungen insbesondere Magnetanordnungen, die entweder rollenartig gestaltet sind und sich somit beim Umlaufen des Oberbandes auf dem Bandtrum abwäl- zen, oder die mit zugehörigen Gleitelementen versehen sind, die eine berührungslose Wirkung der Magnetanordnungen gestatten. Als Ausgleichseinrichtungen sind auch Unterdruckvorrichtungen geeignet, die das Bandtrum ansaugen. Besonders vorteilhaft sind Vakuumleisten einsetzbar.
In gleicher Weise sind als Ausgleichseinrichtungen mechanische Mittel zum Hochziehen bzw. Eben- halten des Bandtrums einsetzbar. Die erfindungsgemässe Lösung ermöglicht somit auch bei relativ stark fliessfähigen Schmelzen eine einwandfreie und genaue Verarbeitung zu Plattenprodukten Die erfindungsgemässe Lösung eignet sich insbesondere zur Herstellung von synthetischem Marmor auf Acryl- oder Polyesterbasis. Ebenfalls gut geeignet ist die erfindungsgemässe Lösung zur Her- stellung anderer thermo- oder duroplastischer Kunststoffplatten.
In Ausgestaltung der Erfindung ist wenigstens ein Magnetelement jeweils an einem sich uber die Breite des Prozessspaltes erstreckenden Tragbalken festgelegt. In weiterer Ausgestaltung ist das wenigstens eine Magnetelement relativ zum Tragbalken höhenverstellbar angeordnet. Da- durch kann die auf das Bandtrum wirkende Anziehungskraft des wenigstens einen Magnetele- mentes verändert werden, indem der Abstand des Magnetelementes relativ zum Bandtrum verän- dert wird.
Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe wird auch dadurch gelöst, dass der Rückseite des Bandtrums des Oberbandes wenigstens eine Aufgabevorrichtung sowie wenigstens eine in Band- laufrichtung beabstandete zugehörige Absaugvorrichtung für ein flüssiges Temperiermedium zuge- ordnet sind, die das Temperiermedium auf das Bandtrum über seine gesamte Breite aufbringen und über die gesamte Breite von dem Bandtrum absaugen. Neben der an sich bekannten Tempe- rierung des dem Prozessspalt zugeordneten Bandtrums des Unterbandes wird durch die erfin- dungsgemässe Lösung auch eine exakte Temperierung des Bandtrums des Oberbandes erzielt, wodurch das im Prozessspalt befindliche Schmelzenprodukt über seine gesamte Höhe wesentlich exakter temperierbar ist, als dies beim Stand der Technik, sei es auf Einfachband- oder auf Dop- pelbandanlagen, möglich ist.
Denn durch die Aufgabe des flussigen Temperiermediums auf die Rückseite des Bandtrums des Oberbandes können beide den Prozessspalt begrenzende Band- trums in identischer Weise temperiert werden, so dass über die gesamte Dicke des Schmelzenpro-
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duktes eine gleichmässige Aushärtung und damit eine gleichmässige Polymerisation, Reaktion und Abkühlung gewährleistet ist. Als flüssiges Temperiermedium ist insbesondere Wasser vorgesehen.
Falls die Aushärtung des Schmelzenproduktes in mehreren Zonen des Prozessspaltes erfolgt, so kann die Zuführung und Absaugung des flüssigen Temperiermediums auch lediglich im Bereich einer einzelnen Zone vorgesehen sein. Das gleichzeitige Aufbringen und Absaugen des Tempe- riermediums über die gesamte Breite des Prozessspaltes ermöglicht auch über die Breite des Schmelzenproduktes eine entsprechend gleichmässige Temperierung.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung sind jeweils eine Aufgabevorrichtung und eine zugehö- rige Absaugvorrichtung in Bandlaufrichtung vor und hinter einer Kalibrierwalze angeordnet. Da- durch ist eine relativ genaue Temperierung des Bandtrums möglich, da bei mehreren Kalibrierwal- zen und jeweils zugeordneten Aufgabe- und Absaugvorrichtungen jeweils neues, definiert tempe- riertes Temperiermedium, insbesondere Wasser, auf das Bandtrum aufgebracht werden kann.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung sind die zwischen den Aufgabe- und Absaugvorrich- tungen positionierten Kalibrierwalzen mit mehreren, über die Breite des Prozessspaltes verteilten und in Bandlaufrichtung ausgerichteten Umfangsprofilierungen versehen. Diese Umfangsprofilie- rungen gewährleisten, dass das flüssige Temperiermedium, insbesondere Wasser, weitgehend ungehindert in Bandlaufrichtung zwischen den Kalibrierwalzen und der Rückseite des Bandtrums hindurch zur jeweiligen Absaugvorrichtung geführt wird.
Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe wird auch dadurch gelöst, dass jeder Kalibrierwal- ze wenigstens ein einstellbarer Positionieranschlag zum Einstellen einer definierten Höhe des Prozessspaltes zugeordnet ist. Die exakte Einstellbarkeit der Höhe des Prozessspaltes ermöglicht auch eine exakte Beherrschung der chemischen Reaktionen bei der Aushärtung des Schmelzen- produktes.
Weitere Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen sowie aus der nachfolgenden Beschreibung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung, das anhand der Zeichnungen dargestellt ist.
Fig. 1 zeigt schematisch in einer Seitenansicht eine Ausführungsform einer erfindungsgemä- #en Doppelbandanlage, die über die Länge des Prozessspaltes in mehrere Temperierzonen unter- teilt ist, Fig. 2 in vergrösserter Darstellung einen Ausschnitt der Doppelbandanlage nach Fig. 1 im Bereich von Aufgabe- und Absaugvorrichtungen für temperiertes Wasser, wobei zusätzlich eine Ausgleichseinrichtung in Form eines Magnetbalkens dargestellt ist, Fig. 3 einen Querschnitt durch die Doppelbandanlage nach den Fig. 1 und 2 auf Höhe der Schnittlinie 111-111 nach Fig. 2, Fig. 4 in schematischer und nicht massstäblich vergrösserter Schnittdarstellung den Magnetbalken nach den Fig. 2 und 3, Fig. 5 in einer Seitenansicht einen weiteren Ausschnitt der Doppelbandanlage nach den Fig. 1 und 2 ähnlich Fig. 2, jedoch gegenüber dieser Fig.
2 vereinfacht dargestellt, Fig. 6 einen Schnitt durch die Doppelbandanlage nach Fig. 5 auf Höhe der Schnittlinie VI-VI in Fig. 5, und Fig. 7 in vergrösserter Darstellung einen Querschnitt durch die Doppelbandanlage nach den Fig. 1 bis 6, wobei die geriffelte Längsprofilierung der Kalibrierwalzen des Oberbandes erkennbar ist.
Eine Doppelbandanlage 1 nach den Fig. 1 bis 7 weist gemäss Fig. 1 ein als Stahlband gestalte- tes, endlos umlaufendes Unterband 2 auf, das um eine Einlauftrommel 3 und um eine Auslauf- trommel 4 herum verlegt ist. Die Einlauftrommel 3 und die Auslauftrommel 4 sind in einem stabilen Untergestell 10 der Doppelbandanlage 1 gelagert. Auf dem Untergestell 10 ist ein Obergestell 11 angeordnet, dem ein endlos umlaufendes, ebenfalls als Stahlband gestaltetes Oberband 5 zuge- ordnet ist. Das Oberband 5 läuft einlaufseitig über eine Einlauftrommel 6 und auslaufseitig über eine Auslauftrommel 7, die jeweils in dem Obergestell 11 gelagert sind. Die Einlauftrommel 6 ist in Bandlaufrichtung gegenüber der Einlauftrommel 3 des Unterbandes 2 zurückversetzt, wo hingegen die beiden Auslauftrommeln 4 und 7 auf gleicher Höhe - in Bandlaufrichtung gesehen - angeordnet sind.
Ein oberes Bandtrum 8 des Unterbandes 2 sowie ein unteres Bandtrum 9 des Oberbandes 5 begrenzen nach oben und nach unten einen Prozessspalt, den ein zu behandelndes Schmelzen- produkt in Bandlaufrichtung von einem Einlaufbereich bis zu einem Auslaufbereich auf Höhe der Auslauftrommeln 4,7 durchläuft.
Der Prozessspalt ist in Bandlaufrichtung in mehrere Zonen unterteilt, um aus einem dünnflüssi- gen Schmelzenprodukt ausgehärtetes Plattenmaterial zu erhalten. Die dargestellte Doppelbandan- lage 1 dient insbesondere zur kontinuierlichen Herstellung von synthetischem Marmor, dessen Schmelze dem Einlaufbereich der Doppelbandanlage 1 sehr dünnflüssig zugeführt wird. Um zu
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verhindern, dass die dünnflüssige Schmelze seitlich aus dem durch die einander zugewandten
Bandtrums 8,9 gebildeten Prozessspalt herausläuft, sind Seitenbegrenzungsstreifen vorgesehen, die den Prozessspalt gemeinsam mit dem Schmelzenprodukt durchlaufen. Der Prozessspalt ist in
Bandlaufrichtung in zwei aneinander anschliessende Bereiche unterteilt, wobei in einem ersten
Bereich das Schmelzenmaterial noch sehr dünnflüssig ist und keine Kräfte aufnehmen kann.
Eine thermische Reaktion sowie eine Polymerisation hat in diesem Bereich noch nicht eingesetzt. Im zweiten Bereich des Prozessspaltes findet die Verfestigung des Schmelzenmateriales, insbesonde- re durch eine exotherme Reaktion statt. Die Verfestigung des monomer vorliegenden Schmelzen- materials erfolgt im Verlauf des Gesamtprozesses innerhalb der Doppelbandanlage 1 durch eine
Polymerisation. Die Prozessführung erfordert mehrere Temperierzonen, wobei in einer ersten Zone eine Vorheizung erfolgt. In einer zweiten Zone findet die exotherme Reaktion statt. In einer dritten, zur Nachbehandlung dienenden Zone erfolgt noch einmal eine Temperaturerhöhung, um verblei- bende Monomere noch auszupolymerisieren. Die letzte Zone stellt eine Nachkühlzone dar.
Um zu verhindern, dass das dünnflüssige Schmelzenmaterial, beim beschriebenen Ausfüh- rungsbeispiel ein MMA-Compound, in Bandrichtung nach vorne oder nach hinten ausfliessen kann, sind zusätzlich zu den beschriebenen Seitenbegrenzungen noch quer zur Bandlaufrichtung verlau- fende Dammbegrenzungen vorgesehen, die den Prozessspalt wie auch die Seitenbegrenzungen gemeinsam mit dem Schmelzenmaterial durchlaufen. Sowohl die Seitenbegrenzungsstreifen als auch die Dammbegrenzungen müssen auf das Schmelzenmaterial sowie auf die jeweiligen Anfor- derungen im Prozessspalt im Hinblick auf thermische und mechanische Belastung ausgelegt sein.
Um die Höhe des Prozessspaltes über seine Länge relativ genau einstellen zu können, sind sowohl dem Bandtrum 8 als auch dem Bandtrum 9 jeweils mehrere, in gleichmässigen Abständen hintereinander angeordnete Kalibrierwalzen 12,14 zugeordnet. Die Anordnung der Kalibrierwalzen
12 und 14 in Fig. 1 ist lediglich schematisch dargestellt und entspricht nicht den tatsächlichen Ver- hältnissen. Wie die praktische Ausführung der Doppelbandanlage 1 gemäss Fig. 2 offenbart, sind dem unteren Bandtrum 8 Kalibrierwalzen 12 zugeordnet, die in gleichmässigen Abständen über die gesamte Länge des Prozessspaltes angeordnet sind. Dabei sind die Kalibrierwalzen 12 unterhalb des Bandtrums 8 quer zur Bandlaufrichtung angeordnet und stützen das Bandtrum 8 von unten.
Die Kalibrierwalzen 12 sind an entsprechenden Längsträgern des Untergestells 10 gelagert. Die
Kalibrierwalzen 14 sind mit doppeltem Abstand - relativ zu dem Abstand der Kalibrierwalzen 12 zueinander - zueinander angeordnet, wobei jede Kalibrierwalze (Fig. 2,7) parallel zu den unteren
Kalibrierwalzen 12 zwischen zwei Schenkeln 15 eines Schwenkbügels 35 gelagert sind, wobei die Schenkel 15 sich von einer Schwenkwelle 35 des Schwenkbügels aus in Bandlaufrichtung und schräg nach unten erstrecken. Die Bügelwelle 35 des Schwenkbügels 15,35 ist an seitlichen, einander gegenüberliegenden Längsträgern des Obergestells 11mit Hilfe von Lagerkonsolen 36 um eine zur Drehachse der zugeordneten Kalibrierwalzen 14 parallele Schwenkachse schwenkbeweglich gelagert.
Wie aus Fig. 2 erkennbar ist, sind die Kalibrierwalzen 14 jeweils auf gleicher Höhe wie korrespondierende untere Kalibrierwalzen 12 angeordnet, so dass sie mit diesen unteren Kalibrierwalzen 12 Druckwalzenpaare für eine Druckbelastung des Prozessspaltes bilden. Auf die Druckbelastung des Prozessspaltes durch die Kalibrierwalzen 14 wird nachfolgend noch näher eingegangen.
Um das zu temperierende Schmelzenmaterial im Prozessspalt sowohl von der Oberseite her als auch von der Unterseite her gleichmässig und gleichzeitig gemäss der vorgesehenen Prozessführung temperieren zu können, wird sowohl das zugeordnete Bandtrum 9 des Oberbandes 5 als auch das entsprechende Bandtrum 8 des Unterbandes 2 temperiert. Als Temperiermedium wird Wasser eingesetzt, wobei das Wasser auf eine Unterseite des unteren Bandtrums 8 durch Sprüheinrichtungen 13 gesprüht wird, die mehrere in gleichmässigen Abständen über die Länge des Prozessspaltes unterhalb des Bandtrums 8 angeordnete Sprühdüsen aufweist.
Auf die vom Prozessspalt abgewandte Rückseite des oberen Bandtrums 9 wird das temperierte Wasser über mehrere Aufgabeund Absaugvorrichtungen 16,17 aufgebracht und abgesaugt, wobei jeweils einer Aufgabevorrichtung 16 auch eine Absaugvorrichtung 17 zugeordnet ist, die so dimensioniert ist, dass das gesamte durch die Aufgabevorrichtung 16 auf die Rückseite des Bandtrums 9 aufgebrachte Wasser wieder abgesaugt werden kann. Um zu verhindern, dass das aufgebrachte Wasser seitlich über die Ränder des Bandtrums 9 nach aussen tritt, weist die Rückseite des Oberbandes 5 im Bereich der gegen- überliegenden Seitenränder Seitenbegrenzungen 23 auf.
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Die Aufgabe- und Absaugvorrichtungen 16,17 sind dem Bandtrum 9 in den Zonen des Pro- zessspaltes zugeordnet, indem eine entsprechende Temperierung, d. h. eine Aufheizung oder eine Abkühlung des Produktes im Prozessspalt benötigt wird. Beim dargestellten Ausführungsbeispiel ist jeweils vor einer Kalibrierwalze 14 - in Bandlaufrichtung gesehen - eine Aufgabevorrichtung 16 und hinter der jeweiligen Kalibrierwalze 14 eine entsprechende Absaugvorrichtung 17 vorgesehen. Bei anderen Ausführungsbeispielen der Erfindung kann jedoch auch eine geringere Anzahl von Aufga- be- und Absaugvorrichtungen vorgesehen sein, die auf lediglich ein oder zwei Temperierzonen beschränkt ist. Die Temperierung der Rückseite des Oberbandes 5 ermöglicht aufgrund der guten Wärmeleitfähigkeit des Stahlbandes eine entsprechende Temperierung des Prozessspaltes.
Um zu verhindern, dass die jeweils auf der Rückseite des Bandtrums 9 aufliegende Kalibrierwalze 14 die Wasserführung gemeinsam mit dem Umlauf des Bandtrums 9 blockiert, ist jede Kalibrierwalze 14 über ihre gesamte Breite mit umlaufenden Längsprofilierungen versehen (Fig. 7). Diese Längsprofi- lierungen 37 ermöglichen eine Hindurchführung des Wassers unter der jeweiligen Kalibrierwalze 14, ohne deren Druckfunktion auf das Bandtrum 9 zu beeinflussen. Die Aufgabevorrichtung 16 weist eine sich über die Breite des Bandtrums 9 erstreckende, nicht näher bezeichnete Düsenleiste auf, durch die das temperierte Wasser gleichzeitig über die gesamte Breite des Prozessspaltes auf die Rückseite des Bandtrums 9 aufgebracht wird.
Die sich quer zur Bandlaufrichtung erstreckende Düsenleiste ist an einem Trägerbügel 33 gehalten, der über Halteböcke 30 mit den Längsträgern des Obergestells 11fest verbunden ist. Um die Festlegung des Tragbügels 33 an den Halteböcken 30 zu verstärken, sind die Trägbügel 33 jeweils an einem Querträger 24 festgelegt, der wiederum fest mit den Halteböcken 30 verbunden ist. Die Wasserzufuhr zu der Düsenleiste erfolgt in nicht näher dargestellter Weise über ein entsprechendes Leitungssystem, in das eine Druckpumpe ein- gebunden ist.
Jede Absaugvorrichtung 17 weist eine auf der Oberfläche der Rückseite des Bandtrums 9 auf- liegende Saugleiste auf, die sich über die Breite des Bandtrums 9 zwischen den Seitenbegrenzun- gen 23 erstreckt. Die Saugleiste saugt Wasser auf der Oberfläche des Bandtrums 9 über die gesamte Breite des Bandtrums 9 zwischen den Seitenbegrenzungen 23 ab. Die Saugleiste steht über ein entsprechendes Leitungssystem mit einer Vakuumpumpe in Verbindung. Die Beheizung und Kühlung des aufgebrachten oder abgesaugten Wassers erfolgt in an sich bekannter Weise, so dass an dieser Stelle hierzu keine nähere Erläuterung gegeben wird.
Jede Saugleiste ist mittels eines Schwenkgestells 31 gehalten, das an dem zugeordneten Tragbügel der korrespondierenden Düsenleiste der Aufgabevorrichtung schwenkbeweglich gela- gert ist. Hierzu sind an dem Tragbügel entsprechende Schwenklagerfortsätze 32 vorgesehen. Jede Saugleiste liegt durch das Eigengewicht des Schwenkgestells 31 und der Saugleiste auf der Rück- seite des Bandtrums 9 auf. Da die nachfolgende Düsenleiste der an die Absaugvorrichtung in Bandlaufrichtung nachfolgenden Aufgabevorrichtung 16 unmittelbar hinter der Saugleiste angeord- net ist, weist jede Saugleiste auf der der Düsenleiste zugewandten Seite eine nicht näher bezeich- nete, schräggestellte Abweisplatte auf, die ebenfalls auf der Rückseite des Bandtrums 9 aufliegt.
Diese Abweisplatte verhindert, dass die vorhergehende Saugleiste zusätzlich zu dem von der korrespondierenden Aufgabevorrichtung aufzunehmenden Waser auch aufgebrachtes Wasser der nachfolgenden Aufgabevorrichtung 16 ansaugt.
Um zu verhindern, dass das obere Bandtrum 9 aufgrund seines Eigengewichtes im Prozessspalt über seine Breite oder auch in Bandlaufrichtung durchhängt, sind dem Bandtrum 9 mehrere nach- folgend näher beschriebene Ausgleichseinrichtungen zugeordnet, die in Bandlaufrichtung zueinan- der beabstandet oberhalb der Rückseite des Bandtrums 9 angeordnet sind. Diese Ausgleichsein- richtungen sind insbesondere in den Bereichen des Prozessspaltes notwendig, in denen das Schmelzenmaterial noch relativ dünnflüssig ist, wodurch das Schmelzenmaterial selbst keinen Gegendruck aufbauen und die durch das Eigengewicht auftretenden Kräfte des Bandtrums 9 aufnehmen kann.
Da das Durchhängen des Bandtrums 9 jedoch in diesen Bereichen, in denen das Schmelzenmaterial noch dünnflüssig ist, zu einer gewölbten und/oder mit Dickentoleranzen behaf- teten Oberfläche des zu dem Plattenmaterial verfestigten Schmelzenmaterials führen kann, sind die nachfolgend beschriebenen Ausgleichsvorrichtungen 18 vorgesehen. Beim dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Ausgleichsvorrichtungen 18 jeweils als Magnetleisten gestaltet (Fig. 3 bis 5), die sich jeweils parallel zum Oberband 5 quer über die Breite des Bandtrums 9 erstrecken.
Jede Magnetleiste 18 ist geradlinig gestaltet und weist ein Trägerprofil 18 auf, das an seinen
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gegenüberliegenden Stirnenden an seitlichen Haltewinkeln einer Trägeranordnung 25 festgelegt ist. An einer Unterseite des Trägerprofiles 18 sind über die Breite des Prozessspaltes verteilt mehrere aus Kunststoff bestehende Gleitschuhe 28 angeordnet, die auf der Oberfläche der Rückseite des Bandtrums 9 aufliegen. Zwischen jeweils zwei benachbarten Gleitschuhen 28 ist jeweils ein als Permanentmagnet gestalteter Magnetblock 27 eingebettet, der mittels Schraubverbindungen 29 an der Unterseite des Trägerprofiles 18 festgelegt ist.
Zwischen jeden Magnetblock 27 und die zugeordnete Unterseite des Trägerprofiles 18 sind auf Höhe der Schraubverbindungen 29 jeweils
Unterlagscheiben eingelegt, durch die der Abstand der dem Bandtrum 9 zugewandten Unterseite jedes Magnetblockes 27 zu der Rückseite des Bandtrums 9 verändert werden kann. Injedem Fall ist die Höhe der Magnetblöcke 27 geringer als die Höhe der benachbarten Gleitschuhe 28, so dass die Magnetblöcke 27 berührungslos zu dem Bandtrum 9 am Trägerprofil 18 angeordnet sind. Je nach der Wahl des Abstandes der Magnetblöcke 27 zum Bandtrum 9 kann die Anziehungskraft auf das Bandtrum 9 verändert werden. Durch die Anziehungskräfte der Magnetblöcke 27 wird das Bandtrum 9 gegen sein Eigengewicht an den Gleitschuhen 28 anliegend eben positioniert gehalten.
Das Bandtrum 9 übt somit keine durch sein Eigengewicht auftretenden Druckkräfte auf das dünnflüssige Schmelzenmaterial aus. Das Trägerprofil 26 jeder Magnetleiste 18 ist über die Haltewinkel sowie zwei Tragstangen der Trägeranordnung 25 an Haltelaschen 34 des Tragbügels 33 für die zugeordnete Aufgabevorrichtung 16 angelenkt. Dabei ist jede Magnetleiste 18 in Bandlaufrichtung unmittelbar hinter einer zugeordneten Saugleiste 17 angeordnet. Die Haltewinkel jeder Trägeranordnung 25 übergreifen zusätzlich auch die gegenüberliegenden Stirnenden der zugeordneten Saugleiste 17. Die Trägeranordnung 25 ist derart gestaltet, dass sich zusammen mit dem Schwenkgestell 31 für die benachbarte Saugleiste 17 ein Parallelogrammgelenk ergibt (Fig. 5).
Dadurch kann jede Magnetleiste 18 gemeinsam mit dem Schwenkgestell 31 der zugeordneten Saugleiste 17 von der Rückseite des Bandtrums 9 abgehoben werden.
Bei einem nicht dargestellten Ausführungsbeispiel der Erfindung sind die Absaugvorrichtungen zum Absaugen des auf das Bandtrum aufgebrachten Wassers so stark ausgelegt, dass sie gleichzeitig auch als Ausgleichseinrichtungen zur Verhinderung des Durchhängens des Bandtrums dienen können. Durch die Saugwirkung der Ansaugvorrichtungen wird das Bandtrum gegen sein Eigengewicht bis zur jeweiligen Ansaugvorrichtung hin hochgezogen und so eben positioniert gehalten. Diese Ausgestaltung eignet sich insbesondere für Oberbänder, die aus einem nicht magnetisierbaren Material, beispielsweise Edelstahl, bestehen.
Um in bestimmten Bereichen des Prozessspaltes Druck auf die den Prozessspalt begrenzenden Bandtrums 8,9 ausüben zu können, sind den jeweils paarweise übereinander angeordneten unteren und oberen Kalibrierwalzen 12,14 gemäss Fig. 2 Zugfederanordnungen 20 zugeordnet, die jeweils an einem festen Anlenkpunkt des Untergestells 10 aufgehängt sind und mit ihren gegen- überliegenden Federenden an Stützarmen 21 angreifen, die starr mit den zugeordneten Schenkeln 15 der Schwenkbügel für die oberen Kalibrierwalzen 14 verbunden sind. Die Zugfederanordnungen 20 sind über entsprechende Schraubgewinde einstellbar mit den Stützarmen 21 verbunden, so dass die auftretenden Zugkräfte verändert werden können.
Um zusätzlich eine exakte Kalibrierung des Prozessspaltes unabhängig von zusätzlichen Zugkräften zu ermöglichen, ist ausserdem jedem Stützarm 21 ein einstellbarer Anschlag 22 zugeordnet, der am Untergestell 10 festgelegt ist. Jeder Anschlag 22 ist kolbenartig in Form eines Mikrometers gestaltet und weist an seinem oberen Stirnende eine ebene, horizontale Stirnfläche auf, auf der in der Funktionsposition der Anschläge jeweils eine stabile Auflageplatte des zugeordneten Stützarmes 21 aufliegt (Fig. 2 und 7). Der die Stirnfläche tragende Auflagekolben jedes Anschlages 22 ist mittels der Mikrometeranordnung durch entsprechende Schraubgewinde in seiner Höhe relativ zum Untergestell 10 und damit relativ zu dem unteren Bandtrum 8 exakt verstellbar.
Die durch Hineinoder Herausschrauben des Auflagekolbens eingestellte Position des Auflagekolbens jedes Anschlages 22 ist über eine mechanische Sicherung fixierbar. Dadurch, dass jeder Stützarm 21, der in der Funktionsposition jedes Anschlages 22 auf dem zugeordneten Auflagekolben jedes Anschlages 22 aufliegt, starr und stabil mit dem zugeordneten Schenkel 15 jedes Schwenkbügels verbunden ist, der jeweils eine Kalibrierwalze 14 trägt, kann durch die Anschläge 22 der Abstand der Kalibierwalzen 14 relativ zum unteren Bandtrum 8 und damit auch die Höhe des Prozessspaltes exakt eingestellt werden.
Inder Funktionsposition der Anschläge 22 dient die jeweils zugeordnete Zugfederanordnung 20 ausschliesslich dazu, den jeweiligen Stützarm 21 in seiner Auflageposition
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auf dem Anschlag 22 zu halten und somit ein unbeabsichtigtes Abheben des Stützarmes 21 und damit der Kalibrierwalze 14 zu verhindern.
Zur Herstellung des synthetischen Marmors als ausgehärtetes Plattenmaterial im kontinuierli- chen Durchlauf durch die Doppelbandanlage 1 wird zunächst der als Schmelzenmaterial dienende, dünnflüssige MMA-Compound abhängig von dem jeweils verwendeten Initiator auf eine Starttem- peratur erwärmt. Diese Starttemperatur liegt vorzugsweise bei ca. 70 C. Dabei kann eine Aufhei- zung bis auf etwa 50 C zunächst relativ schnell erfolgen. Auf diesem Temperaturniveau ist jedoch eine Haltezeit von wenigstens zehn Minuten erforderlich, um bereits auf relativ niedrigem Niveau einen Beginn der Polymerisation zu ermöglichen. Auf diesem relativ niedrigen Niveau können alle Monomere in Oligomere eingebunden werden.
Sollte eine zu schnelle Temperaturerhöhung auf die Starttemperatur erfolgen, so könnte bei der einsetzenden exothermen Reaktion ein zu schnelles Ansteigen der Temperatur innerhalb des Schmelzenmaterials auf über 100 C erfolgen, wodurch eine Blasenbildung und daraus resultierend ein Verdampfen von Monomeren auftreten würde.
Durch die feinfühligen Temperiermöglichkeiten sowohl des Unterbandes als auch des Oberbandes kann - gegebenenfalls auch durch eine Kühlung - der gewünschte Effekt erreicht werden. In einer Nachbehandlungszone wird anschliessend noch einmal eine Temperaturerhöhung auf ein Niveau vorgenommen, das auch die Auspolymerisierung verbliebener Monomere ermöglicht. An diese Zone anschliessend ist eine Temperierzone vorgesehen, die die Nachkühlung des verfestigten Plat- tenmaterials gewährleistet.
In den Bereichen, in denen im Prozessspalt eine starke Viskositätserhöhung und eine anschlie- #ende Verfestigung des Schmelzenmaterials einsetzt, kann das Ebenhalten des oberen Band- trums 9 auch durch eine kontinuierliche Abnahme des Prozessspaltes in Bandlaufrichtung erfolgen, wodurch der im Prozessspalt auftretende Druckaufbau auf das obere Bandtrum wirkt und dieses eben hält. Würde eine solche kontinuierliche Abnahme des Prozessspaltes auch im vorderen Ein- zugsbereich des Prozessspaltes vorgenommen, so würde das dünnflüssige Schmelzenmaterial wieder nach vorne herausgedrückt werden. Insbesondere in diesen vorderen Einzugsbereichen ist somit die Anordnung der beschriebenen Ausgleichseinrichtungen zweckmässig. Das dünnflüssige Schmelzenmaterial wird in einem Aufgabebereich auf das vor das Oberband nach vorne gezogene Unterband aufgegeben und fliesst flächig aus.
Die Füllstandshöhe des Schmelzenmateriales muss im Aufgabebereich vor dem Prozessspalt wesentlich höher sein als die Höhe des Prozessspaltes, um Lufteinschlüsse im späteren Plattenmaterial zu verhindern.
PATENTANSPRÜCHE :
1. Doppelbandanlage mit einem endlos umlaufenden Oberband sowie einem endlos umlau- fenden Unterband, deren einander zugewandte Bandtrums einen Prozessspalt begrenzen, wobei die Höhe des Prozessspaltes durch Kalibrierwalzen einstellbar ist, die sowohl dem
Bandtrum des Oberbandes als auch dem Bandtrum des Unterbandes zugeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, dass an einer vom Prozessspalt abgewandten Rückseite des Bandtrums (9) des Oberban- des (5) mehrere, über zumindest einen Teil der Länge des Prozessspaltes verteilte und sich jeweils über zumindest nahezu die gesamte Breite des Bandtrums (9) erstreckende Aus- gleichseinrichtungen (18) vorgesehen sind, die das Bandtrum (9) über die Breite des Pro- zessspaltes gegen das Eigengewicht des Bandtrums eben positioniert halten.