WO2022138642A1

WO2022138642A1 - 電磁波抑制体

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Publication number: WO2022138642A1
Application number: PCT/JP2021/047327
Authority: WO
Inventors: 亮正田; 碩芳西山; 美穂今井; 武司池田
Original assignee: 凸版印刷株式会社
Priority date: 2020-12-23
Filing date: 2021-12-21
Publication date: 2022-06-30
Also published as: JPWO2022138642A1; TW202233050A

Abstract

本開示に係る電磁波抑制体は、３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚの周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を反射し且つ３８０ＴＨｚ未満の周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を透過する電磁波透過層と、電磁波透過層を通過した電磁波の少なくとも一部を吸収する電磁波吸収体とを備える。

Description

電磁波抑制体

　本開示は、電磁波抑制体に関し、より詳しくは可視光反射性を有する電磁波抑制体に関する。

　近年、急速な情報量の増加や移動体の高速化、自動運転、ＩｏＴ（Ｉｎｔｅｒｎｅｔ　ｏｆ　Ｔｈｉｎｇｓ）の実用化に向け、各々に対応できる通信、レーダー、セキュリティ用のスキャナ等の需要が益々高まっている。これに伴い５Ｇ、ミリ波、テラヘルツ波を活用した次世代の電磁波を用いた高速無線通信方式に関する技術が急速に進んでいる。

　電磁波を利用した製品は、他の電子機器から発生する電磁波と干渉し、誤作動を引き起こすことがある。これを防止するための技術として、例えば、電磁波抑制シート及びこれに使用するコーティング剤が提案されている（特許文献１～３参照）。電磁波抑制シートのタイプは、透過型と反射型に大別される。透過型は電磁波を吸収する性能を有する磁性体を利用し、これを含む層に電磁波を通過させることで電磁波を低減するものである。反射型は入射する電磁波と反射する電磁波とを干渉させることによって電磁波を低減するものである。

特開２０１０－１５３５４２号公報特開２０１７－１１２２５３号公報特開２０１７－２１６３３７号公報

　ところで、一般的な金属材料は、可視光を含む７９０ＴＨｚ以下の電磁波を反射する性質を有する。このため、吸収又は干渉によって電磁波の反射を低減するシートやフィルムの表面に金属材料を用いることはできない。よって、金属光沢の意匠性が求められる部材や光反射機能が必要な部材に電磁波抑制機能を付与することができなかった。

　本開示は、電磁波を低減する機能と、金属調意匠性又は光反射機能とを兼ね備える電磁波抑制体を提供する。なお、本開示において金属調意匠性は金属質感を意味する。また、金属光沢は、金属特有のツヤ感や光沢感を意味し、例えば光輝性の低いつや消しの金属光沢も含む。金属光沢の有無は正反射率を測定することによって判断することができる。本開示において、正反射率が１０％以上であれば金属光沢があると判断する。

　本開示の第一の態様に係る電磁波抑制体は、３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚの周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を反射し且つ３８０ＴＨｚ未満の周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を透過する電磁波透過層と、電磁波透過層を通過した電磁波の少なくとも一部を吸収する電磁波吸収体とを備える。

　第一の態様に係る電磁波抑制体は、電磁波透過層と、電磁波吸収体とを備える。電磁波透過層は、上述のとおり、３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚの周波数帯に含まれる特定の電磁波（可視光）を反射する一方、３８０ＴＨｚ未満の周波数帯に含まれる電磁波を透過する性質を有する。この性質により、電磁波抑制体に金属光沢の意匠性又は光反射機能が付与される。電磁波吸収体は、電磁波透過層を通過した電磁波の少なくとも一部を吸収する性質を有する。電磁波吸収体は、誘電体及び磁性体の少なくとも一方を含むものであればよい。電磁波吸収体は、例えば、シート状又はフィルム状である。

　第一の態様に係る電磁波抑制体は、電磁波吸収体を通過した電磁波を反射する面を有する反射体を更に備え、電磁波透過層と反射体との間に電磁波吸収体が設けられたものであってもよい。この位置に反射体を設けることで、電磁波吸収体から入射してきた電磁波を再び電磁波吸収体へと至らしめることができる。

　第一の態様に係る電磁波抑制体は、電磁波透過層と電磁波吸収体との間に、抵抗層を更に備えてもよい。抵抗層は、電磁波透過層を通過してきた電磁波を電磁波吸収体に至らしめるための層である。すなわち、本開示における抵抗層は、電磁波抑制体が使用される環境や電磁波抑制体の構成、電磁波吸収体の複素誘電率に応じたインピーダンスマッチングをするための層であり、これにより反射減衰量が大きい電磁波吸収体が得られる。本開示において、抵抗層のシート抵抗値は、２７０Ω／□～６４０Ω／□であることが好ましい。本開示において、電磁波透過層のシート抵抗値が２７０Ω／□～６４０Ω／□であってもよい。この場合、電磁波透過層が抵抗層の役割を担うことができる。

　本開示の第二の態様に係る電磁波抑制体は、３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚの周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を反射し且つ３８０ＴＨｚ未満の周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を透過する電磁波透過層と、電磁波透過層を通過した電磁波を反射する面を有する反射体と、電磁波透過層と反射体との間に設けられた電磁波抑制層とを備える。

　第二の態様に係る電磁波抑制体は、電磁波透過層と、電磁波抑制層と、反射体とをこの順序で備える。電磁波透過層は、上述のとおり、３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚの周波数帯に含まれる特定の電磁波（可視光）を反射する一方、３８０ＴＨｚ未満の周波数帯に含まれる電磁波を透過する性質を有する。この性質により、電磁波抑制体に金属光沢の意匠性又は光反射機能が付与される。電磁波抑制層は、電磁波透過層から入射してきた電磁波と、反射体の表面で反射した電磁波とを干渉させることによって電磁波を減衰させる層である。

　第二の態様に係る電磁波抑制体は、電磁波透過層と電磁波抑制層との間に、抵抗層を更に備えてもよい。抵抗層は、電磁波透過層を通過してきた電磁波を電磁波抑制層に至らしめるための層である。

　本開示において、電磁波透過層は、例えば、金属ナノ粒子を含む層で構成することができる。金属ナノ粒子として、銀ナノ粒子が挙げられる。なお、電磁波透過層は、金属調意匠性を有し且つ電磁波を透過する性質を有する高分子材料（例えば、ポリアニリン誘導体）で構成されていてもよい。

　本開示は上記電磁波抑制体を備える物品に関する。物品に具体例として、建装材（例えば、鏡面化粧板、フロアシート及び化粧フィルム）及びデバイス（例えば、距離センサー、照明機器、無線通信機及び画像スキャナ）が挙げられる。

　本開示によれば、電磁波を低減する機能と、金属光沢の意匠性又は光反射機能とを兼ね備える電磁波抑制体が提供される。

図１は本開示の第一実施形態に係る電磁波抑制体を模式的に示す断面図である。図２は本開示の第二実施形態に係る電磁波抑制体を模式的に示す断面図である。図３は本開示の第三実施形態に係る電磁波抑制体を模式的に示す断面図である。

　以下、図面を参照しながら本開示の複数の実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。

＜第一実施形態＞
　図１は本実施形態に係る電磁波抑制体を模式的に示す断面図である。この図に示す電磁波抑制体１０はフィルム状又はシート状であり、電磁波透過層１と電磁波吸収層２（電磁波吸収体）とによって構成される積層構造を有する。電磁波透過層１は３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚの周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を反射し且つ３８０ＴＨｚ未満の周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を透過する。電磁波吸収層２は電磁波透過層１を通過した電磁波の少なくとも一部を吸収する。つまり、電磁波抑制体１０は透過型に分類される。

（電磁波透過層）
　電磁波透過層１は、可視光（周波数帯：３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚ）を反射し且つ低減すべき電磁波（周波数帯：３８０ＴＨｚ未満）を透過する性質を有する。電磁波透過層１は、このような性質を発現し得る材料で構成されている。かかる材料として、ポリアニリン誘導体などの高分子材料が挙げられる。これらの高分子材料は、金属調意匠性を有し且つ電磁波を透過する性質を有する。電磁波透過層１は、導電性を有していても有していなくてもよい。電磁波透過層１が導電性を有する場合、電磁波透過層１が抵抗層５（図３参照）の役割を担うことができる。電磁波透過層１のシート抵抗値は、２７０Ω／□～６４０Ω／□であることが好ましく、２７０Ω／□～５００Ω／□であってもよい。

　電磁波透過層１は、金属ナノ粒子を含む層で構成することもできる。金属ナノ粒子の粒径は、例えば、１～１００ｎｍである。金属ナノ粒子は、金、銀、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金等、あるいは、銅、ニッケル、ビスマス、インジウム、コバルト、亜鉛、タングステン、クロム、鉄、モリブデン、タンタル、マンガン、スズ、チタン等の１種又は２種以上の金属を含有する。銀ナノ粒子は、可視光反射率が高く、優れた金属調意匠性を有するとともに、１ＧＨｚから少なくとも１００ＧＨｚまで高い電磁波透過性があるため好ましい。電磁波透過層１が金属ナノ粒子を含有することで、可視光は反射するにもかかわらず、ミリ波等は透過するという機能が発現する。

　電磁波透過層１は、上記高分子材料を含む塗液、あるいは、金属ナノ粒子と、樹脂成分とを含む塗液を使用して形成することができる。電磁波透過層１の厚さは、電磁波透過性と金属調意匠性に応じて設定すればよく、例えば、０．１～２．０μｍであり、好ましくは０．３～１．０μｍであり、より好ましくは０．５～０．８μｍである。電磁波透過層１の厚さが２μｍを超えると、電磁波透過性が低下する傾向にあり、他方、０．１μｍ未満であると金属調の可視光反射が不十分となる傾向にある。

　樹脂成分の具体例として、硝酸セルロース、アクリル樹脂等の樹脂が挙げられる。樹脂成分は光硬化性を有するものであってもよい。すなわち、樹脂成分は、重合性化合物である不飽和二重結合を有する化合物（例えば、アクリル酸、メタクリル酸を有する化合物）と、電離放射線によりラジカル種を発生する光重合開始剤とを含んでもよい。不飽和二重結合を有する化合物の具体例として、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、多塩基酸変性アクリレートであるＤＰＥ６Ａ－ＭＳ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートコハク酸変性物）、ＰＥ３Ａ－ＭＳ（ペンタエリスリトールトリアクリレートコハク酸変性物）、ＤＰＥ６Ａ－ＭＰ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートフタル酸変性物）、ＰＥ３Ａ－ＭＳ（ペンタエリスリトールトリアクリレートフタル酸変性物）等を挙げることができるが、この限りではない。樹脂成分は、電離放射線により重合開始種を発生する化合物（重合開始剤）を含んでいてもよい。電離放射線のうち紫外線を照射することにより重合開始種を発生する化合物（光重合開始剤）を使用する場合、その光重合開始剤として、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α－ヒドロキシケトン、ベンジルメチルケタール、α―アミノケトン、モノアシルフォスフィンオキサイド、ビスアシルフォスフィンオキサイド等を単独或いは混合して用いることができる。具体的には、ＢＡＳＦ社、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ、ランバルティ社、Ｅｓａｃｕｒｅ　ＫＩＰ－１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ　ＯＮＥ等を挙げることができるが、この限りではない。

　電磁波吸収層２の表面上に直接塗工してもよいし、基材（不図示）上に塗工によって電磁波透過層１を形成し、基材と電磁波吸収層２とを接着剤又は粘着材で貼り合わせてもよい。この場合、基材、接着剤及び粘着材として、電磁波透過層１の可視光反射性や電磁波透過性を損なわないものを使用すればよい。基材として、例えば、樹脂フィルムを使用すればよく、その材質として、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＴＡＣ（三酢酸セルロース）、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸エステル）、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＥＴＦＥ（エチレンテトラフルオロエチレン）、ＰＣＴＦＥ（ポリクロロテトラフルオロエチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）が挙げられる。

　基材と、その表面上に塗工された電磁波透過層１との積層体を電磁波吸収層２に貼り合わせる場合、塗工面を最表面とすると高い可視光反射性が得られ、他方、塗工面を電磁波吸収層２側にすると電磁波透過層１が基材によって保護されることで高い信頼性が得られる。なお、基材と電磁波透過層１の密着性向上及び塗工均一性向上の観点から、基材の表面に下地層（不図示）を形成してもよい。また、マイグレーション防止及び電磁波透過層１の保護の観点から、電磁波透過層１を覆うオーバーコート層（不図示）を設けてもよい。

（電磁波吸収層）
　電磁波吸収層２は、電磁波透過層１を通過した電磁波の少なくとも一部を吸収することによって電磁波を低減する層である。電磁波吸収層２は、誘電体及び磁性体の少なくとも一方を含むものであればよい。電磁波吸収層２の厚さは、吸収させる周波数又は反射減衰量に応じて設定すればよい。電磁波吸収層２の厚さは、例えば、５～５００μｍであり、５００～１５００μｍ又は１５００～２００００μｍであってもよい。

　電磁波吸収層２が誘電体を含む場合、電磁波吸収層２を構成する材料は、低減すべき周波数における誘電損失（ｔａｎδ）が１×１０^－２以上であることが好ましい。誘電損失（ｔａｎδ）は以下の式で表される。
　　ｔａｎδ＝ε”／ε’
　式中、ε’は複素誘電率の実部を示し、ε”は複素誘電率の虚部を示す。

　電磁波吸収層２に含まれる誘電体は無機材料であっても有機材料であってもよい。無機材料として、例えば、チタン酸バリウム、酸化チタン、酸化亜鉛及びそれらのナノ粒子が挙げられる。有機材料として、例えば、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、クリブタル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルホルマール、メタクリル樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂及びポリクロロブレン樹脂が挙げられる。仕様に応じて、任意の有機材料に上記無機材料を分散させてもよい。上記有機材料に上記無機材料のナノ粒子を分散させると、分散性が高く、表面が均一な膜面が得られる。

　電磁波吸収層２が磁性体を含む場合、電磁波吸収層２を構成する材料は、低減すべき周波数における磁気損失（ｔａｎδ）が１×１０^－２以上であることが好ましい。磁気損失（ｔａｎδ）は以下の式で表される。
　　ｔａｎδ＝μ”／μ’
　式中、μ’は複素透磁率の実部を示し、μ”は複素透磁率の虚部を示す。

　電磁波吸収層２に含まれる磁性体として、例えば、鉄、ニッケル及びコバルトから選ばれる少なくとも一種の元素を含む金属又は化合物が挙げられる。これらの材料の粒子を電磁波吸収層２に分散させてもよい。

　第一実施形態によれば、電磁波が電磁波抑制体１０を透過することで、電磁波を低減することができる。電磁波透過層１が金属光沢の意匠性又は光反射機能を有するため、金属光沢の意匠性が求められる部材や光反射機能が必要な部材に電磁波抑制体１０を適用することができる。

＜第二実施形態＞
　図２は本実施形態に係る電磁波抑制体を模式的に示す断面図である。この図に示す電磁波抑制体２０はフィルム状又はシート状であり、電磁波透過層１と電磁波抑制層３と反射層４（反射体）とをこの順序で備える積層構造を有する。電磁波抑制層３は、電磁波透過層１から入射してきた電磁波と、反射層４の表面４ａで反射した電磁波とを干渉させることによって電磁波を減衰させる層である。つまり、電磁波抑制体２０は反射型に分類される。以下、電磁波抑制層３及び反射層４について説明する。

（電磁波抑制層）
　電磁波抑制層３は、入射する電磁波と反射した電磁波を干渉させるための層である。電磁波抑制層３は、以下の式で表される条件を満たすように厚さ等が設定されている。
　　ｄ＝λ／（４（ε_ｒ）^１／２）
　式中、λは抑制すべき電磁波の波長（単位：ｍ）を示し、ε_rは電磁波抑制層３を構成する材料の複素誘電率の実部、ｄは電磁波抑制層３の厚さ（単位：ｍ）を示す。入射する電磁波の位相と反射した電磁波の位相がπずれることで反射減衰が得られる。

　電磁波抑制層３に誘電体及び磁性体の少なくとも一方を配合することによって電磁波抑制層３の複素誘電率の実部を大きくしてもよい。これにより、電磁波抑制層３を薄くすることができるとともに、電磁波抑制層３において電磁波の少なくとも一部を吸収することができる。なお、誘電体及び磁性体として、第一実施形態において例示したものと同様のものを使用すればよい。電磁波抑制層３の厚さは、例えば、テラヘルツ３００ＧＨｚ帯であれば５０～８０μｍであり、ミリ波帯６０～７９ＧＨｚであれば２００～４００μｍであり、３ＧＨｚ～３０ＧＨｚであれば５００～７０００μｍとすればよい。

　電磁波抑制層３は接着性又は粘着性を有する樹脂材料で構成されていてもよい。これにより、反射層４の表面４ａに対して電磁波抑制層３を効率的に貼り付けることができる。かかる材料として、例えば、シリコーン粘着剤、アクリル粘着剤及びウレタン粘着剤が挙げられる。仕様に応じて、これらの材料に任意の高誘電無機材料を分散させてもよい。電磁波抑制層３を構成する材料として、例えば、誘電率３．０のシリコーン粘着剤を使用した場合、以下のとおり、抑制すべき電磁波の波長に応じて電磁波抑制層３の厚さを設定すればよい。例えば、抑制対象の電磁波がミリ波であって波長１～１０ｍｍである場合、電磁波抑制層３の厚さは０．１４４～１．４ｍｍ程度とすればよい。抑制対象の電磁波がサブミリ波（テラヘルツ波）であって波長１００～１０００μｍ（周波数３．０～０．３ＴＨｚ）である場合、電磁波抑制層３の厚さは１４.４～１４４μｍ程度とすればよい。

（反射層）
　反射層４は電磁波抑制層３から入射してきた電磁波を反射させ、電磁波抑制層３へと至らしめるための層である。反射層４の厚さは、例えば、０．０５～１００μｍであり、１２μｍ以上（例えば、１２～８０μｍ）であってもよい。

　反射層４は、例えば、シート抵抗値が１００Ω／□以下の導電性を有する材料で構成されている。かかる材料は無機材料であっても有機材料であってもよい。導電性を有する無機材料として、例えば、酸化ンジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛アルミニウム（ＡＺＯ）、カーボンナノチューブ、グラフェン、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｉｎ、Ａｇ－Ｃｕ、Ｃｕ－Ａｕ及びＮｉナノ粒子からなる群から選択される１つ以上を含むナノ粒子、又は及びナノワイヤーが挙げられる。導電性を有する有機材料として、例えば、ポリチオフェン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体が挙げられる。導電性を有する無機材料又は有機材料を基材上に製膜してもよい。柔軟性、成膜性、安定性、シート抵抗値及び低コストの観点から、ＰＥＴフィルムと、その表面に蒸着されたアルミニウム層とを備える積層フィルム（Ａｌ蒸着ＰＥＴフィルム）を反射層として用いることが好ましい。

　第二実施形態において、電磁波透過層１のシート抵抗値は２７０Ω／□～６４０Ω／□であることが好ましい。シート抵抗値がこの範囲の電磁波透過層１を使用し且つ電磁波抑制層３としてλ／４型の電磁波吸収体を採用することで、１５ｄＢ以上の大きな反射減衰を達成し得る。電磁波透過層１が金属光沢の意匠性又は光反射機能を有するため、金属光沢の意匠性が求められる部材や光反射機能が必要な部材に電磁波抑制体２０を適用することができる。大きな反射減衰を達成する観点から、電磁波透過層１のシート抵抗値は２７０～５００Ω／□であってもよく、３５０～４００Ω／□又は５２０～６４０Ω／□であってもよい。

＜第三実施形態＞
　図３は本実施形態に係る電磁波抑制体を模式的に示す断面図である。この図に示す電磁波抑制体３０はフィルム状又はシート状であり、電磁波透過層１と抵抗層５と電磁波抑制層３と反射層４とをこの順序で備える積層構造を有する。電磁波抑制体３０は、電磁波透過層１と電磁波抑制層３との間に、抵抗層５を備えることの他は、第二実施形態に係る電磁波抑制体２０と同様の構成である。以下、抵抗層５について説明する。

（抵抗層）
　抵抗層５は外側から入射してきた電磁波を電磁波抑制層３へと至らしめるための層である。すなわち、抵抗層５は、電磁波抑制体３０が使用される環境や、電磁波透過層１の特性に応じてインピーダンスマッチングをするための層である。例えば、電磁波抑制体３０が空気（インピーダンス：３７７Ω／□）中で使用され、且つ電磁波抑制層３の複素誘電率の実部が２．９であり、厚さが２６０μｍの場合、抵抗層５のシート抵抗値を２７０～６４０Ω／□の範囲に設定すると高い反射減衰を得ることができる。大きな反射減衰を達成する観点から、抵抗層５のシート抵抗値は２７０～５００Ω／□であってもよく、３５０～４００Ω／□又は５２０～６４０Ω／□であってもよい。

　抵抗層５は導電性を有する材料で構成される。かかる材料は無機材料であっても有機材料であってもよい。導電性を有する無機材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛アルミニウム（ＡＺＯ）、カーボンナノチューブ、グラフェン、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｉｎ、Ａｇ－Ｃｕ、Ｃｕ－ＡｕおよびＮｉナノ粒子からなる群から選択される１つ以上を含むナノ粒子、又は及びナノワイヤーが挙げられる。導電性を有する有機材料として、例えば、ポリチオフェン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体が挙げられる。柔軟性、成膜性、安定性及びシート抵抗値の観点から、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）を含む導電性ポリマーで抵抗層５を構成することが好ましい。例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルホン酸（ＰＰＳ）との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）で抵抗層５を構成してもよい。

　抵抗層５のシート抵抗値は、例えば、導電性を有する材料の選定、抵抗層５の厚さの調節によって適宜設定することができる。抵抗層５の厚さは０．１～２．０μｍの範囲内とすることが好ましく、０．１～０．４μｍの範囲内とすることがより好ましい。厚さが０．１μｍ以上であると、均一な膜を形成しやすく、抵抗層５としての機能をより十分に果たすことができる傾向がある。一方、厚さが２．０μｍ以下であると、十分なフレキシビリティを保持させることができ、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じることをより確実に抑制できる傾向がある。シート抵抗値は、例えば、ロレスターＧＰ　ＭＣＰ－Ｔ６１０（商品名、株式会社三菱化学アナリテック製）を用いて測定することができる。

　第三実施形態によれば、抵抗層５と、電磁波抑制層３としてλ／４型の電磁波吸収体とを併用することで１５ｄＢ以上の大きな反射減衰を達成し得る。また、電磁波透過層１が金属光沢の意匠性又は光反射機能を有するため、金属光沢の意匠性が求められる部材や光反射機能が必要な部材に電磁波抑制体３０を適用することができる。

　上記実施形態に係る電磁波抑制体１０，２０，３０は、電磁波の低減と、金属光沢の意匠性や光反射機能とを求められる物品に適用可能である。物品に具体例として、建装材（例えば、鏡面化粧板、フロアシート及び化粧フィルム）及びデバイス（例えば、距離センサー、照明機器、無線通信機及び画像スキャナ）が挙げられる。

　以上、本開示の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態においては、シート状又はフィルム状の電磁波抑制体１０，２０，３０を例示したが、電磁波抑制体の形状はこれに限定されるものではない。例えば、図１に示す電磁波吸収層２及び図２，３に示す反射層４は層状でなくてもよい。

　以下、本開示について、実施例及び比較例に基づいて説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

　以下の材料を使用して実施例及び比較例に係る電磁波抑制体を作製した。
（１）電磁波透過層
・金属調高分子色素：ポリアニリン誘導体（住友精化製）
・銀ナノ粒子：シュウ酸銀（東洋化学製）
・バインダー樹脂：アクリル樹脂（サイデン化学製）
（２）抵抗層
・ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルホン酸（ＰＰＳ）との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）（ナガセケムテックス製）
（３）電磁波抑制層
・磁性体：イプシロンナノ酸化鉄粒子（岩谷産業製）
・バインダー樹脂：ブタジエン樹脂（旭化成製）
・アクリル粘着材：ＯＣ－３４０５（商品名、サイデン化学製）
・チタン酸バリウムのナノ粒子（堺化学工業製、平均粒径：１００ｎｍ）
（４）反射体
・Ａｌ蒸着ＰＥＴフィルム

（実施例１）
　表１に示す材料で各層が構成された透過型の電磁波抑制体を以下のようにして作製した。すなわち、磁性体１００質量部に対して３０質量部のバインダー樹脂を含む塗液を使用して電磁波抑制層（厚さ２．５×１０^３μｍ）を形成した。この電磁波抑制層の表面に、塗工によって電磁波透過層（厚さ１００μｍ）を形成した。

（実施例２）
　ポリアニリン誘導体の代わりに、銀ナノ粒子を用いて電磁波透過層（厚さ１μｍ）を形成したことの他は実施例１と同様にして電磁波抑制体を作製した。なお、アクリル樹脂１００質量部に対して３０質量部の銀ナノ粒子を含む塗液を使用して電磁透過層を形成した。

（実施例３）
　表１に示す材料で各層が構成された透過型の電磁波抑制体を以下のようにして作製した。すなわち、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ_４）１００質量部に対して７０質量部のアクリル粘着材を含む塗液を使用して電磁波抑制層（厚さ２６０μｍ）を形成した。この電磁波抑制層の表面に、塗工によって電磁波透過層（厚さ１μｍ）を形成した。電磁波透過層の塗液にＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを配合することによって電磁波透過層に導電性を付与した。なお、アクリル樹脂６０質量部に対して２０質量部のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含む塗液を使用して電磁透過層を形成した。

（実施例４）
　電磁波抑制層と電磁波透過層の間にＰＥＤＯＴ／ＰＳＳからなる抵抗層を設けたことの他は、実施例２と同様にして電磁波抑制体を作製した。

（比較例１）
　実施例の比較対象として、反射体（Ａｌ蒸着ＰＥＴフィルム）を準備した。

（比較例２）
　電磁波透過層を設けなかったことの他は、実施例１と同様にして比較用の試料を作製した。

（比較例３）
　電磁波抑制層を設けなかったことの他は、実施例２と同様にして比較用の試料を作製した。

＜評価結果＞
　実施例及び比較例について以下の項目を評価した。
（１）正反射率
　日立Ｕ４１００分光光度計を用いて入射角が２５°で波長４００～８００ｎｍの光の正反射率（鏡面反射率）を測定した。正反射率（鏡面反射率）が１０％以上であれば、金属調意匠性を備えていると評価した。
（２）シート抵抗値の測定
　高抵抗低効率計（三菱ケミカルアナリテック社製）を用いて、電磁波透過層及び抵抗層のシート抵抗値を測定した。印加電圧は１０００Ｖで測定した。なお、表中における「導電性なし」は、測定装置のレンジオーバー（１×１０^１４Ω／□以上）であったことを意味する。
（３）電磁波の抑制効果の評価
　フリースペースタイプＳパラメータ測定法で電磁波の抑制効果を評価した。以下の装置を使用して測定を行った。
・ベクトルネットワークアナライザ（Ｋｅｙｓｉｇｈｔ　ＰＮＡ　Ｎ５２２２Ｂ　１０ＭＨｚ－２６．５ＧＨｚ、Ｖｉｒｇｉｎｉａ　ＤｉｏｄｅｓＩｎｃ、ＷＲ１２　５５－９５ＧＨｚ）
・高周波ネットワークアナライザー（アジレント・テクノロジー製、Ｅ８３６２Ｃ）
　実施例及び比較例の試料として、一辺１２０ｍｍの正方形の平板状試料を作製した。
（実施例１，２及び比較例２，３）
　送信アンテナからミリ波を試料に照射し、試料を透過して受信アンテナに入射するミリ波の強度を測定して減衰量（ｄＢ）を求めた。６０ＧＨｚ～９０ＧＨｚの範囲における最大反射減衰量の最大値と、この最大値となったときの周波数とを表１及び表２に記載した。

　表１中、ｊは虚数単位である。例えば、実施例１の「０．８－０．３ｊ」は０．８が実部であり、０．３が虚部である。以下の表２についても同様である。

１…電磁波透過層、２…電磁波吸収層（電磁波吸収体）、３…電磁波抑制層、４…反射層（反射体）、４ａ…表面、１０，２０，３０…電磁波抑制体。

Claims

　３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚの周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を反射し且つ３８０ＴＨｚ未満の周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を透過する電磁波透過層と、
　前記電磁波透過層を通過した電磁波の少なくとも一部を吸収する電磁波吸収体と、
を備える、電磁波抑制体。
　前記電磁波吸収体を通過した電磁波を反射する面を有する反射体を更に備え、
　前記電磁波透過層と前記反射体との間に、前記電磁波吸収体が設けられている、請求項１に記載の電磁波抑制体。
　前記電磁波透過層と前記電磁波吸収体との間に、抵抗層を更に備える、請求項１又は２に記載の電磁波抑制体。
　３８０ＴＨｚ～７９０ＴＨｚの周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を反射し且つ３８０ＴＨｚ未満の周波数帯の少なくとも一部の範囲の周波数を有する電磁波を透過する電磁波透過層と、
　前記電磁波透過層を通過した電磁波を反射する面を有する反射体と、
　前記電磁波透過層と前記反射体との間に設けられた電磁波抑制層と、
を備える、電磁波抑制体。
　前記電磁波透過層と前記電磁波抑制層との間に、抵抗層を更に備える、請求項４に記載の電磁波抑制体。
　前記抵抗層のシート抵抗値が２７０Ω／□～６４０Ω／□である、請求項３又は５に記載の電磁波抑制体。
　前記電磁波透過層が金属ナノ粒子を含む、請求項１～６のいずれか一項に記載の電磁波抑制体。
　前記金属ナノ粒子が銀ナノ粒子である、請求項７に記載の電磁波抑制体。
　前記電磁波透過層のシート抵抗値が２７０Ω／□～６４０Ω／□である、請求項１～８のいずれか一項に記載の電磁波抑制体。
　請求項１～９のいずれか一項に記載の電磁波抑制体を備える建装材。
　請求項１～９のいずれか一項に記載の電磁波抑制体を備えるデバイス。