WO2021215115A1 - ガラス物品およびガラス物品の製造方法 - Google Patents

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WO2021215115A1
WO2021215115A1 PCT/JP2021/007736 JP2021007736W WO2021215115A1 WO 2021215115 A1 WO2021215115 A1 WO 2021215115A1 JP 2021007736 W JP2021007736 W JP 2021007736W WO 2021215115 A1 WO2021215115 A1 WO 2021215115A1
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WO
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center
thickness
glass article
glass
glass substrate
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PCT/JP2021/007736
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English (en)
French (fr)
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徹 百瀬
佐藤　修
山本　浩史
暢彦 竹下
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Ａｇｃ株式会社
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/07—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
    • B24B37/08—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for double side lapping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/27—Work carriers
    • B24B37/28—Work carriers for double side lapping of plane surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B49/00—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
    • B24B49/12—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation involving optical means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means

Definitions

  • the present invention relates to a glass article and a method for manufacturing a glass article.
  • a thin glass article having a thickness of about 0.1 mm is widely used in various fields.
  • Such thin glass articles can be produced by polishing both sides of a glass substrate with a double-sided polishing device.
  • Thin glass articles have the problem of being relatively difficult to handle. For example, a thin glass article may bend or warp during transport, which in some cases may cause cracking.
  • the present invention has been made in view of such a background, and an object of the present invention is to provide a glass article which is relatively easy to handle and can significantly suppress warpage and bending. .. Another object of the present invention is to provide a method for producing such a glass article.
  • a glass article having a circular first surface having a circular first surface.
  • the radius R of the glass article is in the range of 50 mm to 150 mm.
  • the thickness at the center Og is to, one end is the first end, the thickness at the first end is t1, and the thickness from the first end to the center Og.
  • a circular carrier holding a circular glass substrate is sandwiched between an upper surface plate and a lower surface plate, and the carrier is rotated with respect to the upper surface plate and the lower surface plate to polish the glass substrate and obtain a glass article.
  • the glass substrate is viewed from above.
  • the center Oct of the carrier is included in the region of the glass substrate,
  • a manufacturing method is provided in which the center Og of the glass substrate is arranged in the carrier so as to be offset from the center Oct of the carrier.
  • the present invention it is possible to provide a glass article that is relatively easy to handle and can significantly suppress warpage and bending. Further, the present invention can provide a method for producing such a glass article.
  • a thin glass article may bend or warp during transportation, and in a remarkable case, there is a problem that cracks occur due to this.
  • the glass article has a circular first surface.
  • the radius R of the glass article is in the range of 50 mm to 150 mm.
  • the thickness at the center Og is to, one end is the first end, the thickness at the first end is t1, and the thickness from the first end to the center Og.
  • the "glass article” means an article obtained by polishing a glass substrate. Therefore, the glass substrate is used as a material to be polished for producing a glass article.
  • the "optical interference type thickness measuring method” means a method of measuring the thickness distribution of the object to be measured by the phase difference of the reflected light from the front and back surfaces.
  • Such measuring devices include, for example, an optical interferometric thickness measuring device (FlatMaster 200) manufactured by Corning-Tropel.
  • the thickness of the glass article in one cross section passing through the center Og of the glass article, is the first end from one end (that is, the first end) to the center Og. It represents that it is between the thickness t1 of the portion and the thickness to of the center Og.
  • the thickness of the glass article in the above condition (c2), in the cross section, from the other end (that is, the second end) to the center Og, is the thickness t2 of the second end and the center Og. Indicates that it is between the thickness to and the thickness of.
  • condition (d1) and the condition (d2) indicate that the cross section has a profile in which the thickness of the glass article monotonically decreases from the central portion toward each end portion.
  • FIG. 1 schematically shows a half portion of a cross section passing through a central Og in a glass article having a circular upper surface.
  • this glass article 1 has an upper surface 2 and a radius of R. Further, the glass article 1 has a thickness to at the center Og and a thickness t1 at the end portion 12. Note that FIG. 1 schematically shows the profile of the upper surface of the glass article 1 from the end portion 12 to the center Og.
  • the radius R is divided into five equal parts from the end portion 12 toward the center Og, and the respective positions are represented by X 1 to X 5.
  • the position X 5 corresponds to the center Og.
  • tx n be the thickness of the glass article 1 at each position X n (where n is an integer of 1 to 5).
  • a straight line Q passing through the position Qo on the upper surface 2 of the center Og is drawn from the point Q1 on the upper surface 2 of the end portion 12.
  • P n be the intersection of the perpendicular at each position X n and the straight line Q.
  • P 1 the intersection of the perpendicular and the straight line Q at position X 1
  • P 2 the intersection of the perpendicular and the straight line Q at position X 2
  • P 5 position Qo.
  • the height of the point P n at each position X n is represented by (to ⁇ t1) ⁇ (n / 5) + t1.
  • the height of the point P n represents the right side under the condition (d1) described above. Therefore, the condition (d1) is that the thickness tx n of the glass article 1 is the height of the point P n at each position X n obtained when the radius R is divided into five equal parts from the end portion 12 toward the center Og. It means equal or greater than that.
  • the upper surface 2 of such a glass article 1 has a profile in which the thickness monotonically decreases from the central portion to the end portion 12.
  • the upper surface 2 of such a glass article 1 has the thickest center position and the thickness from the center position toward the end 12 (first end). It can be said that it has a monotonically decreasing profile.
  • a profile satisfying the conditions (b1) to (d1) and the conditions (b2) to (d2) in one cross section passing through the center Og of the glass article (hereinafter referred to as “maximum cross section") is particularly "specified”. It is called "convex profile”.
  • one maximum cross section satisfies the above-mentioned conditions (b1) to (d1) and conditions (b2) to (d2).
  • the conditions (b1) to (d1) and the conditions (b2) to (d2) are often satisfied even in the other maximum cross sections.
  • the glass article according to the embodiment of the present invention has a specific convex profile on the first surface.
  • the warpage or bending that may occur in the glass article can be significantly suppressed.
  • the glass article according to the embodiment of the present invention can be handled relatively easily even when the thickness is relatively thin.
  • the risk of stains and unevenness due to the cleaning liquid can be easily reduced during or after cleaning the glass article due to the effect of the first surface having the specific convex profile.
  • both surfaces of the glass articles are flat, if a plurality of such glass articles are laminated, the glass articles may come into close contact with each other and it may be difficult to separate them from each other. Further, in order to avoid such adhesion between the glass articles at the time of laminating, when inclusions such as spacers are interposed between the glass articles, there is a risk that the components of the inclusions adhere to the glass articles. It gets higher.
  • the glass articles according to the embodiment of the present invention even if a plurality of glass articles are laminated, the glass articles are less likely to come into close contact with each other. Therefore, the glass articles are separated one by one without using inclusions. Will be easy to do.
  • the glass article according to one embodiment of the present invention has a first surface having a specific convex profile, and a thick central portion is formed in advance. Therefore, in the glass article according to the embodiment of the present invention, the flatness in the chucked state can be significantly increased.
  • the glass article according to the embodiment of the present invention has an advantage that, for example, after the transfer of the nanoimprint treatment, the transferred resin can be easily released from the imprint mold.
  • the position rotated by 90 ° from the first end is set as the third end with the center Og as the center, and the thickness at the third position is t3.
  • ty' be the thickness at an arbitrary position Y (excluding the third end and the center Og) between the third end and the center Og.
  • the end portion opposite to the third end portion is set as the fourth end portion with the center Og as the center, and the thickness at the fourth end portion is set. Let t4 be, and let the thickness at an arbitrary position V (excluding the fourth end and the center Og) between the fourth end and the center Og be ty ”.
  • the first surface having a specific convex profile even in the maximum cross section passing through the third end located at a position rotated by 90 ° from the first end with the center Og as the rotation axis. Can be obtained.
  • Glass article according to one embodiment of the present invention Glass article according to one embodiment of the present invention
  • the glass article according to the embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIG.
  • FIG. 2 schematically shows a form of a cross section of a glass article according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 shows a cross section passing through the center Og of the glass article, that is, a “maximum cross section”.
  • first maximum cross section S1 the maximum cross section shown in FIG. 2 is referred to as "first maximum cross section S1".
  • the glass article (hereinafter referred to as "first glass article") 100 has a first surface 102 and a second surface 104.
  • the first surface 102 and the first glass article 100 have a top view, substantially circular shape.
  • the first glass article 100 has a first end portion 120 and a second end portion 125 at positions symmetrical with respect to the center Og.
  • the first glass article 100 satisfies the above-mentioned conditions (a) to (d1) and (b2) to (d2).
  • the first glass article 100 has a thickness to at the center Og, and the thickness to is more than 0.1 mm and less than 2 mm.
  • the thickness to is preferably in the range of 0.2 mm to 1.1 mm.
  • the first glass article 100 satisfies 1 ⁇ to / t1 ⁇ 1.1 when the thickness at the first end portion 120 is t1.
  • To / t1 is preferably 1.05 or less.
  • the thickness of the first glass article 100 is tx'at an arbitrary position X between the first end 120 and the center Og (however, the first end 120 and the center Og are excluded).
  • n is an arbitrary integer from 1 to 5.
  • the first glass article 100 satisfies 1 ⁇ to / t2 ⁇ 1.1, where t2 is the thickness at the second end 125. To / t2 is preferably 1.05 or less.
  • the thickness of the first glass article 100 at an arbitrary position W between the second end 125 and the center Og is set to tx ”.
  • n is an arbitrary integer from 1 to 5.
  • the first surface 102 of the first glass article 100 has a "specific convex profile" in the first maximum cross section S1 passing through the first end 120 and the second end 125.
  • the warpage or bending that may occur in the glass article during handling can be significantly suppressed. Further, this makes it possible to handle the first glass article 100 relatively easily.
  • the first glass article 100 may further satisfy the above conditions (e1) to (g1) and (e2) to (g2).
  • FIG. 3 schematically shows another form of the maximum cross section of the first glass article 100.
  • FIG. 3 shows the maximum cross section (hereinafter, referred to as “second maximum cross section”) obtained when rotating 90 ° with the center Og as the central axis from the position of the first maximum cross section S1 shown in FIG. It is shown.
  • the second maximum cross section S2 has a third end 130 and a fourth end 135 at positions symmetrical with respect to the center Og.
  • the first glass article 100 satisfies 1 ⁇ to / t3 ⁇ 1.1, where t3 is the thickness at the third end 130. To / t3 is preferably 1.05 or less.
  • the thickness of the first glass article 100 is set to ty'at an arbitrary position Y (excluding the third end 130 and the center Og) between the third end 130 and the center Og.
  • ty'> t1 is satisfied.
  • n is an arbitrary integer from 1 to 5.
  • the first glass article 100 satisfies 1 ⁇ to / t4 ⁇ 1.1, where t4 is the thickness at the fourth end 135. To / t4 is preferably 1.05 or less.
  • the thickness of the first glass article 100 at an arbitrary position W between the fourth end 135 and the center Og is set to ty ”.
  • n is an arbitrary integer from 1 to 5.
  • the first surface 102 of the first glass article 100 also has a "specific convex profile" in the second maximum cross section S2 passing through the third end 130 and the fourth end 135. You may.
  • the first surface 102 can be brought closer to the "ideal convex surface".
  • the glass article according to the embodiment of the present invention may be made of any glass.
  • the glass article according to one embodiment of the present invention may be composed of, for example, soda lime glass, borosilicate glass, or non-alkali glass.
  • the glass may be chemically or physically strengthened.
  • the glass for glass articles preferably has a refractive index of 1.6 or more, more preferably 1.7 or more, and further preferably 1.8 or more.
  • the surface roughness (Ra) of the glass for glass articles is preferably 1 nm or less, more preferably 0.5 nm or less.
  • the glass article according to one embodiment of the present invention has a circular shape when viewed from above, and the radius R is in the range of 50 mm to 150 mm.
  • the radius R is preferably in the range of 75 mm to 150 mm.
  • the second surface 104 of the first glass article 100 is substantially flat.
  • the form of the second surface 104 is not particularly limited in the glass article according to the embodiment of the present invention.
  • the second surface 104 like the first surface 102, may have at least one maximum cross section having a "specific convex profile".
  • the second surface 104 may be an "ideal convex surface”.
  • FIG. 4 schematically shows a flow of a method for manufacturing a glass article (hereinafter, referred to as “first manufacturing method”) according to an embodiment of the present invention.
  • the first manufacturing method is (1) In a step of installing one circular glass substrate on one circular carrier, the glass substrate has a top view, the center Occ of the carrier is included in the region of the glass substrate, and the glass substrate is included. (Step S110), which is arranged in the carrier so that the center Og of the carrier is displaced with respect to the center Occ of the carrier. (2) A step of pressing the carrier with the upper surface plate and the lower surface plate (process S120), and (3) A step of polishing the glass substrate by rotating the carrier with respect to the upper surface plate and the lower surface plate (step S130). Have.
  • FIG. 5 schematically shows the configuration of a double-sided polishing apparatus that can be used when carrying out the first manufacturing method.
  • the double-sided polishing apparatus 201 includes a sun gear 210, an internal gear 220, an upper surface plate 230, and a lower surface plate 250.
  • the sun gear 210 and the internal gear 220 are formed so that their respective rotation axes coincide with the center of the double-sided polishing device 201.
  • the sun gear 210 is arranged at the center of the double-sided polishing device 201 in a top view, and the internal gear 220 is arranged on the outer peripheral side of the double-sided polishing device 201.
  • the upper surface plate 230 and the lower surface plate 250 are arranged so as to face each other, and can rotate in opposite directions or in the same direction.
  • the upper surface plate 230 has a polishing pad (not shown) on the lower surface, that is, on the side facing the lower surface plate 250.
  • the lower surface plate 250 has a polishing pad (not shown) on the upper surface, that is, on the side facing the upper surface plate 230.
  • a carrier 280 that supports the glass substrate 290 to be polished is arranged on the lower platen 250.
  • a plurality of carriers 280 are arranged on the lower platen 250.
  • the carrier 280 has a gear 282 formed on its outer peripheral portion so as to engage with the sun gear 210 and the internal gear 220.
  • Step S110 First, a circular carrier 280 and a circular glass substrate 290 are prepared. Further, the glass substrate 290 is held in the carrier 280.
  • the glass substrate 290 has an upper surface and a lower surface.
  • the diameter (inner diameter) Lc of the carrier 280 is not particularly limited, but may be in the range of, for example, 110 mm to 600 mm. However, the diameter Lc is preferably in the range of 1.1 to 2 times the diameter Lg.
  • the thickness of the glass substrate 290 is not particularly limited, but may be in the range of, for example, 0.1 mm to 2 mm.
  • One glass substrate 290 is supported for each carrier 280.
  • FIG. 6 is a top view schematically showing an example of a mode in which the glass substrate 290 is arranged in the carrier 280.
  • the glass substrate 290 is arranged in the carrier 280 so that the center Occ of the carrier 280 is included in the region of the glass substrate 290 in a top view. Further, the glass substrate 290 is arranged in the carrier 280 so that the center Og of the glass substrate 290 is deviated from the center Occ of the carrier 280 in the top view.
  • the distance d between the center Og of the glass substrate 290 and the center Occ of the carrier 280 is, for example, in the range of 0.05 ⁇ Lg to 0.5 ⁇ Lg.
  • the distance d is preferably 0.1 ⁇ Lg or more and 0.25 ⁇ Lg or less.
  • each carrier 280 is placed on the lower platen 250. Further, the upper surface plate 230 is arranged on each carrier 280, and each carrier 280 is sandwiched between the upper surface plate 230 and the lower surface plate 250.
  • each glass substrate 290 is brought into contact with the upper surface plate 230 and the lower surface plate 250, respectively. Further, pressure is applied to the upper surface and the lower surface of each glass substrate 290.
  • Step S130 Next, by rotating the sun gear 210 and the internal gear 220 at a predetermined rotation ratio, the carrier 280 is rotated, and at the same time, the carrier 280 is revolved along the internal gear 220 (planet drive). Further, the upper surface plate 230 and the lower surface plate 250 are rotated.
  • the upper surface plate 230 and the lower surface plate 250 simultaneously polish the upper surface and the lower surface of each glass substrate 290.
  • a polishing liquid may be supplied to the glass substrate 290 from the side of the upper surface plate 230 and / or the lower surface plate 250, if necessary.
  • the upper surface and the lower surface of the glass substrate 290 can be polished at the same time.
  • the glass substrate 290 is arranged in a state where the center Og is "eccentric" by the distance d from the center Oct of the carrier 280. In this case, the amount of polishing of the glass substrate 290 is relatively small toward the center Og.
  • the carrier 280 is revolved along the internal gear 220 while rotating the carrier 280. Therefore, during the polishing process, the glass substrate 290 held by the carrier 280 revolves around the internal gear 220 while rotating.
  • FIG. 7 is a top view schematically showing different position states (290A to 290C) of the glass substrate 290 in operation of the double-sided polishing apparatus 201 shown in FIG.
  • the upper surface plate 230 is not shown in FIG. 7. Further, in FIG. 7, the sun gear 210 and the internal gear 220 are schematically shown so that the positional relationship with the glass substrate 290 becomes clear.
  • the sun gear 210 is shown to have a generally shown outer peripheral end 212 so that the closest position of the glass substrate 290 to the sun gear 210 is clear.
  • the internal gear 220 is shown to have a generally shown inner peripheral end 222 so that the closest position of the glass substrate 290 to the internal gear 220 is clear.
  • the outer peripheral end 212 of the sun gear 210 shows a virtual limit line when the glass substrate 290 is located on the innermost side with respect to the lower platen 250, and the inner peripheral end 222 of the internal gear 220 is.
  • the virtual limit line of the glass substrate 290 when the glass substrate 290 is located on the outermost side with respect to the lower platen 250 is shown.
  • the glass substrate 290 that rotates and revolves during the polishing process can take the following three positional modes with respect to the lower platen 250: (I) Outermost position; that is, the first position where the outer peripheral end of the glass substrate 290 contacts the inner peripheral end portion 222 of the internal gear 220 (the glass substrate 290 at that position is represented by "glass substrate 290A"). (Ii) Innermost position; that is, a second position where the outer peripheral end of the glass substrate 290 contacts the outer peripheral end portion 212 of the sun gear 210 (the glass substrate 290 at that position is represented by "glass substrate 290B"), and (iii). ) Intermediate position; that is, a third position between (i) and (ii) (the glass substrate 290 at that position is represented by "glass substrate 290C"). Is.
  • the central Og of the glass substrate 290 is arranged only in the shaded area 298 in FIG. 7.
  • the broken line passing through the center of the region 298 represents the locus taken by the center Occ of the carrier 280.
  • the amount of polishing in the central region is smaller than that of the outer peripheral region. Therefore, the amount of polishing of the glass substrate 290 is relatively small in the central region including the central Og.
  • a glass article having at least one of the upper surface and the lower surface having a "specific convex profile" can be relatively easily manufactured.
  • the rotation (rotation) direction of the carrier 280 may be opposite to the rotation direction of the lower platen 250.
  • the relative rotation speed of the glass substrate 290 with respect to the lower platen 250 can be increased. Therefore, a glass article having a "specific convex profile" on the upper surface or the lower surface can be manufactured more efficiently.
  • the maximum thickness of the glass article manufactured by the first manufacturing method is, for example, in the range of 0.1 mm to 2 mm. Further, the glass article produced by the first production method may have a diameter Lg in the range of 100 mm to 300 mm.
  • the glass article according to one embodiment of the present invention is used, for example, for an optical member.
  • the glass article according to one embodiment of the present invention may be used, for example, as a light guide plate for a head-mounted display.
  • Example 1 A glass article was manufactured by polishing both sides of a circular glass substrate having a diameter of 150 mm using a double-sided polishing device.
  • a circular carrier having a diameter Lc of 228.6 mm was used for the carrier.
  • the glass substrate was installed in the carrier so that the distance d between the center Og of the glass substrate and the center Oct of the carrier was 25 mm. Therefore, d / Lg ⁇ 0.17. Further, the top view, the center Oct of the carrier was arranged in the region of the glass substrate.
  • the pressing pressure by the upper surface plate and the lower surface plate was 40 g / cm 2 , and the polishing time was 40 minutes.
  • the rotation speed of the upper surface plate was 8 rpm, and the rotation speed of the lower surface plate was 24 rpm. Further, the rotation speed of the carrier was set to 8 rpm. The upper surface plate and the carrier were rotated in the direction opposite to the rotation direction of the lower surface plate.
  • the thickness of one end (first end) of the obtained glass article (hereinafter referred to as "Sample 1") was about 325 ⁇ m.
  • Example 2 A glass article was produced by the same method as in Example 1. However, in this example 2, the distance d is set to 20 mm. Therefore, d / Lg ⁇ 0.13. Other conditions were the same as in Example 1. The obtained glass article is referred to as "Sample 2".
  • Example 3 A glass article was produced by the same method as in Example 1. However, in this example 3, the distance d is set to 10 mm. Therefore, d / Lg ⁇ 0.067. Other conditions were the same as in Example 1. The obtained glass article is referred to as "Sample 3".
  • Example 11 A glass article was manufactured by polishing both sides of a circular glass substrate having a diameter of 150 mm using a double-sided polishing device.
  • a circular carrier with a diameter Lc of 406.4 mm was used as the carrier.
  • the glass substrate was installed in the carrier so that the distance d between the center Og of the glass substrate and the center Oct of the carrier was 110 mm. Therefore, in top view, the center Oct of the carrier was arranged at a position outside the region of the glass substrate.
  • the pressing pressure by the upper surface plate and the lower surface plate was 40 g / cm 2 , and the polishing time was 60 minutes.
  • the rotation speed of the upper surface plate was 6 rpm, and the rotation speed of the lower surface plate was 18 rpm. Further, the rotation speed of the carrier was set to 6 rpm. The upper surface plate and the carrier were rotated in the direction opposite to the rotation direction of the lower surface plate.
  • the thickness of one end (first end) of the obtained glass article was about 325 ⁇ m.
  • sample 11 The obtained glass article is referred to as "sample 11".
  • Example 12 A glass article was produced by the same method as in Example 11. However, in this example 12, the polishing time was set to 90 minutes. Other conditions were the same as in Example 11. The obtained glass article is referred to as "sample 12".
  • Example 13 A glass article was produced by the same method as in Example 11. However, in this example 13, the polishing time was set to 150 minutes. Other conditions were the same as in Example 11. The obtained glass article is referred to as "sample 13".
  • the thickness profile of each sample was measured by the optical interferometric thickness measurement method.
  • a measuring device (FlatMaster200) manufactured by Corning-Tropel was used.
  • the thickness profile measurement (referred to as "measurement in the X direction") was performed from the first end to the region from the center Og of the sample to the opposite end.
  • the first end is an arbitrarily selected end.
  • the thickness profile extends from the third end, which is 90 ° rotated from the first end, through the center Og of the sample to the opposite end.
  • a measurement (referred to as "measurement in the Y direction") was carried out.
  • FIGS. 8 and 9 show the measurement results in the X direction and the measurement results in the Y direction obtained in Sample 1, respectively.
  • 10 and 11 show the measurement results in the X direction and the measurement results in the Y direction obtained in Sample 2, respectively.
  • 12 and 13 show the measurement results in the X direction and the measurement results in the Y direction obtained in Sample 3, respectively.
  • 14 and 15 show the measurement results in the X direction and the measurement results in the Y direction obtained in the sample 11, respectively.
  • 16 and 17 show the measurement results in the X direction and the measurement results in the Y direction obtained in the sample 12, respectively.
  • FIGS. 18 and 19 show the measurement results in the X direction and the measurement results in the Y direction obtained in the sample 13, respectively.
  • the horizontal axis represents the position (unit: mm) of the sample, and the origin 0 is the center Og of the sample.
  • the vertical axis represents the height displacement (unit: ⁇ m) at each position with respect to the minimum plate thickness of the sample.

Abstract

ガラス物品の製造方法であって、円形のガラス基板が保持された円形のキャリアを、上定盤と下定盤で挟み、前記キャリアを上定盤および下定盤に対して回転させることにより、前記ガラス基板を研磨し、ガラス物品を得る工程を有し、前記ガラス基板は、上面視、前記キャリアの中心Ｏｃが前記ガラス基板の領域に含まれ、前記ガラス基板の中心Ｏｇが前記キャリアの中心Ｏｃに対してずれるように、前記キャリア内に配置される、製造方法。

Description

ガラス物品およびガラス物品の製造方法
　本発明は、ガラス物品およびガラス物品の製造方法に関する。
　例えば、厚さが０．１ｍｍ程度の薄いガラス物品は、各種分野において幅広く利用されている。そのような薄いガラス物品は、両面研磨装置により、ガラス基板の両面を研磨することにより製造され得る。
特開２０１４－１３８９７３号公報
　薄いガラス物品は、ハンドリングが比較的難しいという問題がある。例えば、薄いガラス物品は、搬送中に撓んだり、反ったりすることがあり、顕著な場合、これによりワレが生じてしまうことがある。
　本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、ハンドリングが比較的容易であり、反りや撓みを有意に抑制することが可能なガラス物品を提供することを目的とする。また、本発明では、そのようなガラス物品の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明では、円形の第１の表面を有するガラス物品であって、
　当該ガラス物品の半径Ｒは、５０ｍｍ～１５０ｍｍの範囲であり、
　当該ガラス物品において、中心Ｏｇにおける厚さをｔｏとし、ある一つの端部を第１の端部とし、該第１の端部における厚さをｔ１とし、前記第１の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｘ（ただし前記第１の端部および前記中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｘ’とし、
　光学干渉式厚さ測定法により、当該ガラス物品の前記第１の表面の側から厚さを測定したとき、
 
（ａ）０．１ｍｍ＜ｔｏ＜２ｍｍ　　　　（１）式、
（ｂ１）１＜ｔｏ／ｔ１≦１．１　　　　（２）式、
（ｃ１）ｔｏ＞ｔｘ’＞ｔ１　　　　（３）式、および
（ｄ１）ｔｘｎ≧（ｔｏ－ｔ１）×（ｎ／５）＋ｔ１　　　　（４）式
（ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｘｎは、前記第１の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｘｎにおける厚さを表す）
 
　が成立し、
　前記中心Ｏｇを中心に、前記第１の端部とは反対側にある端部を第２の端部とし、該第２の端部における厚さをｔ２とし、前記第２の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｗ（ただし前記第２の端部および前記中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｘ”とし、
　前記光学干渉式厚さ測定法により、当該ガラス物品の前記第１の表面の側から厚さを測定したとき、
 
（ｂ２）１＜ｔｏ／ｔ２≦１．１　　　　（５）式、
（ｃ２）ｔｏ＞ｔｘ”＞ｔ２　　　　（６）式、および
（ｄ２）ｔｗｎ≧（ｔｏ－ｔ２）×（ｎ／５）＋ｔ２　　　　（７）式、
（ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｗｎは、前記第２の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｗｎにおける厚さを表す）
 
　が成立する、ガラス物品が提供される。
　また、本発明では、ガラス物品の製造方法であって、
　円形のガラス基板が保持された円形のキャリアを、上定盤と下定盤で挟み、前記キャリアを上定盤および下定盤に対して回転させることにより、前記ガラス基板を研磨し、ガラス物品を得る工程を有し、
　前記ガラス基板は、上面視、
　　前記キャリアの中心Ｏｃが前記ガラス基板の領域に含まれ、
　　前記ガラス基板の中心Ｏｇが前記キャリアの中心Ｏｃに対してずれる
　ように、前記キャリア内に配置される、製造方法が提供される。
　本発明では、ハンドリングが比較的容易であり、反りや撓みを有意に抑制することが可能なガラス物品を提供することができる。また、本発明では、そのようなガラス物品の製造方法を提供することができる。
本発明の一実施形態によるガラス物品における一つの特徴を説明するための概略図である。 本発明の一実施形態によるガラス物品の断面の一例を模式的に示した図である。 本発明の一実施形態によるガラス物品の別の断面の一例を模式的に示した図である。 本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法のフローの一例を模式的に示した図である。 本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法を実施する際に使用され得る、両面研磨装置の構成を概略的に示した図である。 キャリア内にガラス基板が配置された態様の一例を模式的に示した上面図である。 ガラス基板の中心をキャリアの中心からずらした際の効果を説明するための概略的な上面図である。 サンプル１において得られたＸ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル１において得られたＹ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル２において得られたＸ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル２において得られたＹ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル３において得られたＸ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル３において得られたＹ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル１１において得られたＸ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル１１において得られたＹ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル１２において得られたＸ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル１２において得られたＹ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル１３において得られたＸ方向の測定結果を示したグラフである。 サンプル１３において得られたＹ方向の測定結果を示したグラフである。
　以下、本発明の一実施形態について説明する。
　前述のように、薄いガラス物品は、搬送中に撓んだり、反ったりすることがあり、顕著な場合、これによりワレが生じてしまうという問題がある。
　これに対して、本発明の一実施形態では、円形の第１の表面を有するガラス物品であって、
　当該ガラス物品の半径Ｒは、５０ｍｍ～１５０ｍｍの範囲であり、
　当該ガラス物品において、中心Ｏｇにおける厚さをｔｏとし、ある一つの端部を第１の端部とし、該第１の端部における厚さをｔ１とし、前記第１の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｘ（ただし前記第１の端部および前記中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｘ’とし、
　光学干渉式厚さ測定法により、当該ガラス物品の前記第１の表面の側から厚さを測定したとき、
 
（ａ）０．１ｍｍ＜ｔｏ＜２ｍｍ　　　　（１）式、
（ｂ１）１＜ｔｏ／ｔ１≦１．１　　　　（２）式、
（ｃ１）ｔｏ＞ｔｘ’＞ｔ１　　　　（３）式、および
（ｄ１）ｔｘｎ≧（ｔｏ－ｔ１）×（ｎ／５）＋ｔ１　　　　（４）式
（ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｘｎは、前記第１の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｘｎにおける厚さを表す）
 
　が成立し、
　前記中心Ｏｇを中心に、前記第１の端部とは反対側にある端部を第２の端部とし、該第２の端部における厚さをｔ２とし、前記第２の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｗ（ただし前記第２の端部および前記中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｘ”とし、
　前記光学干渉式厚さ測定法により、当該ガラス物品の前記第１の表面の側から厚さを測定したとき、
 
（ｂ２）１＜ｔｏ／ｔ２≦１．１　　　　（５）式、
（ｃ２）ｔｏ＞ｔｘ”＞ｔ２　　　　（６）式、および
（ｄ２）ｔｗｎ≧（ｔｏ－ｔ２）×（ｎ／５）＋ｔ２　　　　（７）式、
（ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｗｎは、前記第２の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｗｎにおける厚さを表す）
 
　が成立する、ガラス物品が提供される。
　本願において、「ガラス物品」とは、ガラス基板を研磨処理することにより得られる物品を意味する。従って、ガラス基板は、ガラス物品を製造するための被研磨材料として利用される。
　また、本願において、「光学干渉式厚さ測定法」とは、表裏面からの反射光の位相差により、測定対象物の厚さ分布を測定する方法を意味する。そのような測定装置には、例えば、Ｃｏｒｎｉｎｇ－Ｔｒｏｐｅｌ社の光学干渉式厚さ測定装置（ＦｌａｔＭａｓｔｅｒ２００）などが含まれる。
　ここで、上記条件（ｃ１）は、ガラス物品の中心Ｏｇを通る一つの断面において、一方の端部（すなわち第１の端部）から中心Ｏｇにわたって、ガラス物品の厚さが、第１の端部の厚さｔ１と中心Ｏｇの厚さｔｏとの間にあることを表す。同様に、上記条件（ｃ２）は、前記断面において、他方の端部（すなわち第２の端部）から中心Ｏｇにわたって、ガラス物品の厚さが、第２の端部の厚さｔ２と中心Ｏｇの厚さｔｏとの間にあることを表す。
　また、条件（ｄ１）および条件（ｄ２）は、前記断面において、ガラス物品の厚さが、中心部分からそれぞれの端部に向かって単調に減少するプロファイルを有することを表す。
　以下、図１を参照して、条件（ｄ１）についてより詳しく説明する。
　図１には、円形の上面を有するガラス物品における中心Ｏｇを通る断面の半分の部分を模式的に示す。
　図１に示すように、このガラス物品１は、上面２を有し、半径がＲである。また、ガラス物品１は、中心Ｏｇにおいて厚さｔｏを有し、端部１２において厚さｔ１を有する。なお、図１には、ガラス物品１における端部１２から中心Ｏｇまでの上面のプロファイルが模式的に示されている。
　図１に示すように、端部１２から中心Ｏｇに向かって、半径Ｒを５等分し、それぞれの位置を、Ｘ１～Ｘ５で表す。なお、位置Ｘ５は、中心Ｏｇに対応する。
　各位置Ｘｎ（ただし、ｎは１～５の整数）におけるガラス物品１の厚さをｔｘｎとする。なお、ｎ＝５のときの位置Ｘ５における厚さｔｘ５＝ｔｏである。
　端部１２の上面２における点Ｑ１から、中心Ｏｇの上面２における位置Ｑｏを通る直線Ｑを引く。各位置Ｘｎにおける垂線と、直線Ｑとの交点をＰｎとする。例えば、位置Ｘ１における垂線と直線Ｑとの交点は、Ｐ１で表され、位置Ｘ２における垂線と直線Ｑとの交点は、Ｐ２で表され、以下同様である。ただし、点Ｐ５＝位置Ｑｏである。
　ここで、各位置Ｘｎにおける点Ｐｎの高さは、（ｔｏ－ｔ１）×（ｎ／５）＋ｔ１で表される。係る点Ｐｎの高さは、前述の（ｄ１）の条件における右辺を表す。従って、条件（ｄ１）は、端部１２から中心Ｏｇに向かって半径Ｒを５等分した際に得られる各位置Ｘｎにおいて、ガラス物品１の厚さｔｘｎが、点Ｐｎの高さと等しいか、それよりも大きいことを意味する。
　従って、ガラス物品１が条件（ｄ１）を満たす場合、そのようなガラス物品１の上面２は、中心部分から端部１２に向かって、厚さが単調に減少するプロファイルを有すると言える。
　なお、厳密には、条件（ｄ１）を満たす場合であっても、位置Ｘｎ－１と位置Ｘｎの間に、厚さが単調に変化しない領域が存在することが考えられる。その場合、上面２は、厚さが単調に減少するプロファイルを有するとは言えない可能性がある。しかしながら、本願発明者らによれば、半径Ｒが５０ｍｍ～１５０ｍｍの範囲のガラス物品１の場合、ｎ＝５として条件（ｄ１）が満たされれば、そのような上面２は、厚さが単調に減少するプロファイルを有する蓋然性が高いことが経験的に把握されている。
　従って、ガラス物品１が条件（ｄ１）を満たす場合、そのようなガラス物品１の上面２は、中心位置が最も厚く、中心位置から端部１２（第１の端部）に向かって厚さが単調に減少するプロファイルを有すると言える。
　また、図１には示さないが、条件（ｄ２）から、第２の端部から中心Ｏｇまでの上面のプロファイルについても同様のことが言える。
　以下、ガラス物品の中心Ｏｇを通る一つの断面（以下、「最大断面」と称する）において、条件（ｂ１）～（ｄ１）、ならびに条件（ｂ２）～（ｄ２）を満たすプロファイルを、特に「特定凸状プロファイル」と称する。
　なお、上記条件（ｂ１）～（ｄ１）、ならびに条件（ｂ２）～（ｄ２）は、一つの「最大断面」における第１の表面のプロファイルを定めたものに過ぎない。すなわち、上記条件からは、他の最大断面における第１の表面のプロファイルに関する情報は得られない。
　しかしながら、本願発明者らによれば、両面研磨装置による研磨により製造されたガラス物品では、一つの最大断面が前述の条件（ｂ１）～（ｄ１）、ならびに条件（ｂ２）～（ｄ２）を満たす場合、他の最大断面においても、条件（ｂ１）～（ｄ１）、ならびに条件（ｂ２）～（ｄ２）が満たされる場合が多いことが経験的に把握されている。
　すなわち、一つの最大断面において、前記条件（ｂ１）～（ｄ１）、ならびに条件（ｂ２）～（ｄ２）が満たされる限り、そのようなガラス物品が、任意の最大断面において、「特定凸状プロファイル」を有する蓋然性は高いと言える。以下、全ての最大断面において、「特定凸状プロファイル」を有する表面を、特に「理想凸状表面」とも称する。
　以上のように、本発明の一実施形態によるガラス物品は、第１の表面が特定凸状プロファイルを有する。このようなガラス物品では、例えば、該ガラス物品を、第１の表面の反対側からガラス物品の中央付近で支持することにより、ガラス物品に生じ得る反りまたは撓みを有意に抑制できる。
　従って、本発明の一実施形態によるガラス物品は、厚さが比較的薄い場合であっても、比較的簡単にハンドリングすることができる。
　また、本発明の一実施形態によるガラス物品では、特定凸状プロファイルを有する第１の表面の効果により、ガラス物品の洗浄中または洗浄後に、洗浄液によるシミやムラが生じるリスクを容易に軽減できる。
　また、ガラス物品の両表面が平坦な場合、そのようなガラス物品を複数枚積層すると、ガラス物品同士がぴったりと密着してしまい、相互に分離することが難しくなる場合がある。また、積層の際に、そのようなガラス物品同士の密着を回避するため、ガラス物品同士の間にスペーサのような介在物を介在させた場合、介在物の成分がガラス物品に付着するリスクが高くなる。
　しかしながら、本発明の一実施形態によるガラス物品では、複数枚積層しても、ガラス物品同士が密着することが軽減されるため、介在物を使用しなくても、ガラス物品を一枚ずつ分離することが容易に行えるようになる。
　また、例えば、平坦なガラス物品を、真空吸着方式などで各種装置にチャック固定すると、ガラス物品の両端側が引っぱられ、中央部分が凹状に変形する場合がある。しかしながら、本発明の一実施形態によるガラス物品は、特定凸状プロファイルを有する第１の表面を有し、予め中央部分が厚く形成されている。このため、本発明の一実施形態によるガラス物品では、チャック状態における平坦度を有意に高めることができる。
　さらに、本発明の一実施形態によるガラス物品では、例えば、ナノインプリント処理の転写後に、転写された樹脂をインプリントモールドからリリースすることが容易になるという利点が得られる。
　また、本発明の一実施形態によるガラス物品では、さらに、中心Ｏｇを中心に、第１の端部から９０゜回転した位置を第３の端部とし、該第３の位置における厚さをｔ３とし、第３の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｙ（ただし第３の端部および中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｙ’とし、
　前記光学干渉式厚さ測定法により、第１の表面の側から厚さを測定したとき、
 
（ｅ１）１＜ｔｏ／ｔ３≦１．１　　　　（８）式、
（ｆ１）ｔｏ＞ｔｙ’＞ｔ３　　　　（９）式、および
（ｇ１）ｔｙｎ≧（ｔｏ－ｔ３）×（ｎ／５）＋ｔ３　　　　（１０）式、
（ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｙｎは、前記第３の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｙｎにおける厚さを表す）
 
　が成立することが好ましい。
　さらに、本発明の一実施形態によるガラス物品では、中心Ｏｇを中心に、第３の端部とは反対側にある端部を第４の端部とし、該第４の端部における厚さをｔ４とし、第４の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｖ（ただし第４の端部および中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｙ”とし、
　前光学干渉式厚さ測定法により、第１の表面の側から厚さを測定したとき、
 
（ｅ２）１＜ｔｏ／ｔ４≦１．１　　　　（１１）式、
（ｆ２）ｔｏ＞ｔｙ”＞ｔ４　　　　（１２）式、および
（ｇ２）ｔｖｎ≧（ｔｏ－ｔ４）×（ｎ／５）＋ｔ４　　　　（１３）式、
（ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｖｎは、前記第４の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｖｎにおける厚さを表す）
 
　が成立することが好ましい。
　このようなガラス物品では、中心Ｏｇを回転軸として、第１の端部から９０゜回転された位置にある第３の端部を通る最大断面においても、特定凸状プロファイルを有する第１の表面を得ることができる。
　従って、この場合、ガラス物品における第１の表面を、よりいっそう「理想凸状表面」に近づけることが可能となる。
　（本発明の一実施形態によるガラス物品）
　以下、図２を参照して、本発明の一実施形態によるガラス物品について、より詳しく説明する。
　図２には、本発明の一実施形態によるガラス物品の断面の一形態を模式的に示す。なお、図２には、ガラス物品の中心Ｏｇを通る断面、すなわち「最大断面」が示されている。以下、図２に示した最大断面を、「第１の最大断面Ｓ１」と称する。
　図２に示すように、本発明の一実施形態によるガラス物品（以下、「第１のガラス物品」と称する）１００は、第１の表面１０２および第２の表面１０４を有する。図２からは明確ではないが、第１の表面１０２および第１のガラス物品１００は、上面視、略円形の形態を有する。また、第１のガラス物品１００は、中心Ｏｇに対して対称な位置に、第１の端部１２０および第２の端部１２５を有する。
　ここで、第１のガラス物品１００は、前述の条件（ａ）～（ｄ１）、および（ｂ２）～（ｄ２）を満たす。
　すなわち、第１のガラス物品１００は、中心Ｏｇにおいて厚さｔｏを有し、該厚さｔｏは、０．１ｍｍ超、２ｍｍ未満である。厚さｔｏは、０．２ｍｍ～１．１ｍｍの範囲であることが好ましい。
　また、第１のガラス物品１００は、第１の端部１２０における厚さをｔ１としたとき、１＜ｔｏ／ｔ１≦１．１を満たす。ｔｏ／ｔ１は、１．０５以下であることが好ましい。
　また、第１のガラス物品１００は、第１の端部１２０から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｘ（ただし、第１の端部１２０および中心Ｏｇは除く）における厚さをｔｘ’としたとき、ｔｏ＞ｔｘ’＞ｔ１を満たす。
　また、第１のガラス物品１００において、第１の端部１２０から中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｘｎにおける厚さをｔｘｎとしたとき、
 
　　ｔｘｎ≧（ｔｏ－ｔ１）×（ｎ／５）＋ｔ１　　　　（４）式
 
である。ここで、ｎは、１～５の任意の整数である。
　さらに、第１のガラス物品１００は、第２の端部１２５における厚さをｔ２としたとき、１＜ｔｏ／ｔ２≦１．１を満たす。ｔｏ／ｔ２は、１．０５以下であることが好ましい。
　また、第１のガラス物品１００は、第２の端部１２５から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｗ（ただし、第２の端部１２５および中心Ｏｇは除く）における厚さをｔｘ”としたとき、ｔｏ＞ｔｘ”＞ｔ２を満たす。
　また、第１のガラス物品１００において、第２の端部１２５から中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｗｎにおける厚さをｔｗｎとしたとき、
 
　　ｔｗｎ≧（ｔｏ－ｔ２）×（ｎ／５）＋ｔ２　　　　（７）式
 
である。ここで、ｎは、１～５の任意の整数である。
　このように、第１のガラス物品１００の第１の表面１０２は、第１の端部１２０および第２の端部１２５を通る第１の最大断面Ｓ１において「特定凸状プロファイル」を有する。
　従って、第１のガラス物品１００では、ハンドリングの際にガラス物品に生じ得る反りまたは撓みを有意に抑制できる。また、これにより、第１のガラス物品１００は、比較的簡単にハンドリングすることができる。
　ここで、第１のガラス物品１００は、さらに、前記条件（ｅ１）～（ｇ１）および（ｅ２）～（ｇ２）を満たしてもよい。
　以下、図３を参照して、係る特徴について説明する。
　図３には、第１のガラス物品１００の別の最大断面の一形態を模式的に示す。図３には、図２に示した第１の最大断面Ｓ１の位置から、中心Ｏｇを中心軸として９０゜回転した際に得られる最大断面（以下、「第２の最大断面」と称する）が示されている。
　図３に示すように、第２の最大断面Ｓ２は、中心Ｏｇに対して対称な位置に、第３の端部１３０および第４の端部１３５を有する。
　第１のガラス物品１００は、第３の端部１３０における厚さをｔ３としたとき、１＜ｔｏ／ｔ３≦１．１を満たす。ｔｏ／ｔ３は、１．０５以下であることが好ましい。
　また、第１のガラス物品１００は、第３の端部１３０から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｙ（ただし、第３の端部１３０および中心Ｏｇは除く）における厚さをｔｙ’としたとき、ｔｏ＞ｔｙ’＞ｔ１を満たす。
　また、第１のガラス物品１００において、第３の端部１３０から中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｙｎにおける厚さをｔｙｎとしたとき、
 
　　ｔｙｎ≧（ｔｏ－ｔ３）×（ｎ／５）＋ｔ３　　　　（１０）式
 
である。ここで、ｎは、１～５の任意の整数である。
　さらに、第１のガラス物品１００は、第４の端部１３５における厚さをｔ４としたとき、１＜ｔｏ／ｔ４≦１．１を満たす。ｔｏ／ｔ４は、１．０５以下であることが好ましい。
　また、第１のガラス物品１００は、第４の端部１３５から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｗ（ただし、第４の端部１３５および中心Ｏｇは除く）における厚さをｔｙ”としたとき、ｔｏ＞ｔｙ”＞ｔ４を満たす。
　また、第１のガラス物品１００において、第４の端部１３５から中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｗｎにおける厚さをｔｖｎとしたとき、
 
　　ｔｖｎ≧（ｔｏ－ｔ４）×（ｎ／５）＋ｔ４　　　　（１３）式
 
である。ここで、ｎは、１～５の任意の整数である。
　このように、第１のガラス物品１００の第１の表面１０２は、第３の端部１３０および第４の端部１３５を通る第２の最大断面Ｓ２においても、「特定凸状プロファイル」を有してもよい。
　この場合、第１のガラス物品１００において、第１の表面１０２を、よりいっそう「理想凸状表面」に近づけることが可能となる。
　（本発明の一実施形態によるガラス物品のその他の特徴）
　次に、本発明の一実施形態によるガラス物品のその他の特徴について説明する。
　本発明の一実施形態によるガラス物品は、いかなるガラスで構成されてもよい。本発明の一実施形態によるガラス物品は、例えば、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、または無アルカリガラスで構成されてもよい。
　ガラスは、化学強化または物理強化されていてもよい。
　また、ガラス物品用のガラスは、屈折率が１．６以上であることが好ましく、１．７以上であることがより好ましく、１．８以上であることがさらに好ましい。
　また、ガラス物品用のガラスは、表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以下であることが好ましく、０．５ｎｍ以下であることがより好ましい。
　本発明の一実施形態によるガラス物品は、上面視、円形状であり、半径Ｒは５０ｍｍ～１５０ｍｍの範囲である。半径Ｒは、７５ｍｍ～１５０ｍｍの範囲であることが好ましい。
　なお、図２および図３に示した例では、第１のガラス物品１００の第２の表面１０４は、略平坦である。
　しかしながら、これは単なる一例であって、本発明の一実施形態によるガラス物品において、第２の表面１０４の形態は特に限られない。例えば、第２の表面１０４は、第１の表面１０２と同様、少なくとも一つの最大断面が「特定凸状プロファイル」を有してもよい。特に、第２の表面１０４は、「理想凸状表面」であってもよい。
　（本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法）
　次に、図４～図７を参照して、本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法の一例について説明する。
　図４には、本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）のフローを概略的に示す。
　図４に示すように、第１の製造方法は、
（１）一つの円形のキャリアに、一つの円形のガラス基板を設置する工程であって、前記ガラス基板は、上面視、前記キャリアの中心Ｏｃが前記ガラス基板の領域に含まれ、前記ガラス基板の中心Ｏｇが前記キャリアの中心Ｏｃに対してずれるように、前記キャリア内に配置される、工程（工程Ｓ１１０）と、
（２）前記キャリアを、上定盤および下定盤で押さえつける工程（工程Ｓ１２０）と、
（３）前記キャリアを上定盤および下定盤に対して回転させることにより、前記ガラス基板を研磨する工程（工程Ｓ１３０）と、
　を有する。
　図５には、第１の製造方法を実施する際に使用され得る両面研磨装置の構成を概略的に示す。
　図５に示すように、両面研磨装置２０１は、サンギア２１０と、インターナルギア２２０と、上定盤２３０と、下定盤２５０とを有する。サンギア２１０およびインターナルギア２２０は、それぞれの回転軸が両面研磨装置２０１の中心と一致するように形成される。また、サンギア２１０は、上面視、両面研磨装置２０１の中心に配置され、インターナルギア２２０は、両面研磨装置２０１の外周側に配置される。
　上定盤２３０および下定盤２５０は、相互に対向するように配置され、相互に反対向き、あるいは同じ向きに回転することができる。上定盤２３０は、下面、すなわち下定盤２５０と対向する側に、研磨パッド（図示されていない）を有する。同様に、下定盤２５０は、上面、すなわち上定盤２３０と対向する側に、研磨パッド（図示されていない）を有する。
　下定盤２５０の上には、被研磨対象となるガラス基板２９０を支持するキャリア２８０が配置される。なお、図１の例では、下定盤２５０の上には、複数のキャリア２８０が配置されている。ただし、これは単なる一例に過ぎず、下定盤２５０の上に配置されるキャリア２８０の数は、特に限られない。
　キャリア２８０は、その外周部分に、サンギア２１０およびインターナルギア２２０と係合するように形成されたギア２８２を有する。
　以下、図６および図７も参照して、第１の製造方法における各工程について説明する。
　（工程Ｓ１１０）
　まず、円形のキャリア２８０および円形のガラス基板２９０が準備される。また、ガラス基板２９０がキャリア２８０内に保持される。
　ガラス基板２９０は、上面および下面を有する。
　キャリア２８０の直径（内径）Ｌｃは、特に限られないが、例えば１１０ｍｍ～６００ｍｍの範囲であってもよい。ただし、直径Ｌｃは、直径Ｌｇの１．１倍～２倍の範囲であることが好ましい。
　ガラス基板２９０の厚さは、特に限られないが、例えば、０．１ｍｍ～２ｍｍの範囲であってもよい。
　各キャリア２８０には、一つのガラス基板２９０が支持される。
　図６は、キャリア２８０内にガラス基板２９０が配置された態様の一例を模式的に示した上面図である。
　図６に示すように、ガラス基板２９０は、上面視、前記キャリア２８０の中心Ｏｃがガラス基板２９０の領域に含まれるようにして、キャリア２８０内に配置される。また、ガラス基板２９０は、上面視、ガラス基板２９０の中心Ｏｇがキャリア２８０の中心Ｏｃに対してずれるようにして、キャリア２８０内に配置される。
　上面視、ガラス基板２９０の中心Ｏｇとキャリア２８０の中心Ｏｃの間の距離ｄは、例えば、０．０５×Ｌｇ～０．５×Ｌｇの範囲である。距離ｄは、０．１×Ｌｇ以上であり、０．２５×Ｌｇ以下であることが好ましい。
　（工程Ｓ１２０）
　次に、各キャリア２８０が、下定盤２５０の上に配置される。また、上定盤２３０が各キャリア２８０上に配置され、各キャリア２８０は、上定盤２３０と下定盤２５０の間に挟まれる。
　これにより、各ガラス基板２９０の上面および下面が、それぞれ、上定盤２３０および下定盤２５０に接触される。また、各ガラス基板２９０の上面および下面に、押圧が印加される。
　（工程Ｓ１３０）
　次に、サンギア２１０およびインターナルギア２２０を、所定の回転比率で回転させることにより、キャリア２８０を自転させると同時に、キャリア２８０をインターナルギア２２０に沿って公転させる（遊星駆動）。さらに、上定盤２３０と下定盤２５０を回転させる。
　これにより、上定盤２３０および下定盤２５０によって、各ガラス基板２９０の上面および下面が同時に研磨される。
　なお、各各ガラス基板２９０の研磨中には、必要に応じて、上定盤２３０および／または下定盤２５０の側から、ガラス基板２９０に研磨液が供給されても良い。
　このような両面研磨装置２０１を用いることにより、ガラス基板２９０の上面および下面を同時に研磨することができる。
　ここで、ガラス基板２９０は、キャリア２８０の中心Ｏｃから中心Ｏｇが距離ｄだけ「偏心」した状態で配置される。この場合、ガラス基板２９０は、中心Ｏｇほど、研磨量が相対的に少なくなる。
　以下、図７を参照して、この理由について説明する。
　前述のように、両面研磨装置２０１では、キャリア２８０を自転させながら、キャリア２８０をインターナルギア２２０に沿って公転させる。従って、研磨処理中、キャリア２８０に保持されたガラス基板２９０は、自転しながら、インターナルギア２２０の周囲を公転するように移動する。
　図７は、図５に示した両面研磨装置２０１の稼働中のガラス基板２９０の異なる位置状態（２９０Ａ～２９０Ｃ）を模式的に示した上面図である。
　なお、明確化のため、図７には、上定盤２３０は、示されていない。また、図７には、サンギア２１０およびインターナルギア２２０は、ガラス基板２９０との位置関係が明確になるよう、概略的に示されている。
　すなわち、サンギア２１０は、ガラス基板２９０のサンギア２１０に対する最近接位置が明確となるよう、概略的に示された外周端部２１２を有するように示されている。同様に、インターナルギア２２０は、ガラス基板２９０のインターナルギア２２０に対する最近接位置が明確となるよう、概略的に示された内周端部２２２を有するように示されている。
　換言すれば、サンギア２１０の外周端部２１２は、ガラス基板２９０が下定盤２５０に対して最も内側に位置する場合の仮想的な限界線を示しており、インターナルギア２２０の内周端部２２２は、ガラス基板２９０が下定盤２５０に対して最も外側に位置する場合のガラス基板２９０の仮想的な限界線を示している。
　図７に示すように、研磨処理中に自転および公転するガラス基板２９０は、下定盤２５０に対して、以下の３つの位置態様を取り得る：
（ｉ）最外位置；すなわち、ガラス基板２９０の外周端がインターナルギア２２０の内周端部２２２と接する第１の位置（該位置にあるガラス基板２９０を「ガラス基板２９０Ａ」で表す）、
（ｉｉ）最内位置；すなわち、ガラス基板２９０の外周端がサンギア２１０の外周端部２１２と接する第２の位置（該位置にあるガラス基板２９０を「ガラス基板２９０Ｂ」で表す）、および
（ｉｉｉ）中間位置；すなわち、前記（ｉ）と（ｉｉ）の間の第３の位置（該位置にあるガラス基板２９０を「ガラス基板２９０Ｃ」で表す）
　である。
　その結果、ガラス基板２９０の中心Ｏｇは、図７において、斜線で表した領域２９８にのみ配置されることになる。なお、領域２９８の中心を通る破線は、キャリア２８０の中心Ｏｃが取る軌跡を表す。
　ここで、一般に、ガラス基板２９０の中央領域には、外周領域に比べて研磨剤が供給されにくいため、中央領域の研磨量は、外周領域に比べて少なくなる。従って、ガラス基板２９０は、中心Ｏｇを含む中央領域ほど、研磨量が相対的に少なくなる。
　これにより、第１の製造方法では、上面および下面の少なくとも一方が「特定凸状プロファイル」を有するガラス物品を、比較的容易に製造することができる。
　ここで、キャリア２８０の回転（自転）方向は、下定盤２５０の回転方向とは逆方向であってもよい。この場合、下定盤２５０に対するガラス基板２９０の相対回転速度を大きくすることができる。従って、上面または下面が「特定凸状プロファイル」を有するガラス物品を、より効率的に製造することができる。
　第１の製造方法によって製造されるガラス物品は、最大厚さが、例えば、０．１ｍｍ～２ｍｍの範囲である。また、第１の製造方法によって製造されるガラス物品は、直径Ｌｇが１００ｍｍ～３００ｍｍの範囲であってもよい。
　（用途）
　本発明の一実施形態によるガラス物品は、例えば、光学部材に使用される。本発明の一実施形態によるガラス物品は、例えば、ヘッドマウントディスプレイ用導光板として使用されてもよい。
　以下、本発明の実施例について説明する。
　（例１）
　両面研磨装置を用いて、直径１５０ｍｍの円形のガラス基板の両面を研磨し、ガラス物品を製造した。
　キャリアには、直径Ｌｃが２２８．６ｍｍの円形キャリアを使用した。ガラス基板は、該ガラス基板の中心Ｏｇとキャリアの中心Ｏｃとの間の距離ｄが２５ｍｍとなるようにして、キャリア内に設置した。従って、ｄ／Ｌｇ≒０．１７である。また、上面視、キャリアの中心Ｏｃは、ガラス基板の領域内に配置された。
　上定盤および下定盤による押し付け圧力は、４０ｇ／ｃｍ２とし、研磨時間は、４０分とした。また、上定盤の回転速度は、８ｒｐｍとし、下定盤の回転速度は、２４ｒｐｍとした。さらに、キャリアの回転速度は、８ｒｐｍとした。上定盤およびキャリアは、下定盤の回転方向に対して反対の方向に回転させた。
　得られたガラス物品（以下、「サンプル１」と称する）の一つの端部（第１の端部）の厚さは、約３２５μｍであった。
　（例２）
　例１と同様の方法により、ガラス物品を製造した。ただし、この例２では、距離ｄを２０ｍｍとした。従って、ｄ／Ｌｇ≒０．１３である。その他の条件は、例１の場合と同様とした。得られたガラス物品を、「サンプル２」と称する。
　（例３）
　例１と同様の方法により、ガラス物品を製造した。ただし、この例３では、距離ｄを１０ｍｍとした。従って、ｄ／Ｌｇ≒０．０６７である。その他の条件は、例１の場合と同様とした。得られたガラス物品を、「サンプル３」と称する。
　（例１１）
　両面研磨装置を用いて、直径１５０ｍｍの円形のガラス基板の両面を研磨し、ガラス物品を製造した。
　キャリアには、直径Ｌｃが４０６．４ｍｍの円形キャリアを使用した。ガラス基板は、該ガラス基板の中心Ｏｇとキャリアの中心Ｏｃとの間の距離ｄが１１０ｍｍとなるようにして、キャリア内に設置した。従って、上面視、キャリアの中心Ｏｃは、ガラス基板の領域から外れた位置に配置された。
　上定盤および下定盤による押し付け圧力は、４０ｇ／ｃｍ２とし、研磨時間は、６０分とした。また、上定盤の回転速度は、６ｒｐｍとし、下定盤の回転速度は、１８ｒｐｍとした。さらに、キャリアの回転速度は、６ｒｐｍとした。上定盤およびキャリアは、下定盤の回転方向に対して反対の方向に回転させた。
　得られたガラス物品の一つの端部（第１の端部）の厚さは、約３２５μｍであった。
　得られたガラス物品を、「サンプル１１」と称する。
　（例１２）
　例１１と同様の方法により、ガラス物品を製造した。ただし、この例１２では、研磨時間を９０分とした。その他の条件は、例１１の場合と同様とした。得られたガラス物品を、「サンプル１２」と称する。
　（例１３）
　例１１と同様の方法により、ガラス物品を製造した。ただし、この例１３では、研磨時間を１５０分とした。その他の条件は、例１１の場合と同様とした。得られたガラス物品を、「サンプル１３」と称する。
　（評価）
　光学干渉式厚さ測定法により、各サンプルの厚さプロファイルを測定した。測定には、Ｃｏｒｎｉｎｇ－Ｔｒｏｐｅｌ社の測定装置（ＦｌａｔＭａｓｔｅｒ２００）を使用した。
　各サンプルにおいて、第１の端部から、サンプルの中心Ｏｇを通り、反対側の端部までの領域にわたって、厚さプロファイルの測定（「Ｘ方向の測定」という）を実施した。なお、第１の端部は、任意に選定した一つの端部である。
　また、中心Ｏｇを回転軸として、第１の端部から９０゜回転した位置にある第３の端部から、サンプルの中心Ｏｇを通り、反対側の端部までの領域にわたって、厚さプロファイルの測定（「Ｙ方向の測定」という）を実施した。
　図８および図９には、それぞれ、サンプル１において得られたＸ方向の測定結果およびＹ方向の測定結果を示す。図１０および図１１には、それぞれ、サンプル２において得られたＸ方向の測定結果およびＹ方向の測定結果を示す。図１２および図１３には、それぞれ、サンプル３において得られたＸ方向の測定結果およびＹ方向の測定結果を示す。図１４および図１５には、それぞれ、サンプル１１において得られたＸ方向の測定結果およびＹ方向の測定結果を示す。図１６および図１７には、それぞれ、サンプル１２において得られたＸ方向の測定結果およびＹ方向の測定結果を示す。さらに、図１８および図１９には、それぞれ、サンプル１３において得られたＸ方向の測定結果およびＹ方向の測定結果を示す。
　これらの図において、横軸は、サンプルの位置（単位；ｍｍ）を表しており、原点０は、サンプルの中心Ｏｇである。縦軸は、サンプルの最小板厚を基準とした各位置における高さの変位（単位；μｍ）を表している。
　これらの結果から、サンプル１１およびサンプル１３では、サンプルの中心軸が、厚さが最大となる位置からずれていることがわかる。また、サンプル１２では、図１７に示すように、中心から第３の端部に向かって、厚さが単調減少するプロファイルが得られないことがわかった。
　これに対して、サンプル１～サンプル３では、サンプルの中心軸が、厚さが最大となる位置とほぼ一致しており、Ｘ方向およびＹ方向のいずれの測定においても、中心Ｏｇから端部にわたって、厚さが単調減少するプロファイルが得られることがわかった。
　このように、サンプル１～サンプル３では、Ｘ方向における「最大断面」およびＹ方向における「最大断面」のいずれにおいても、表面に「特定凸状プロファイル」が得られていることが確認された。
　本願は、２０２０年４月２３日に出願した日本国特許出願第２０２０－０７６６４５号に基づく優先権を主張するものであり、同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
　１　　　　　ガラス物品
　２　　　　　上面
　１２　　　　端部
　１００　　　第１のガラス物品
　１０２　　　第１の表面
　１０４　　　第２の表面
　１２０　　　第１の端部
　１２５　　　第２の端部
　１３０　　　第３の端部
　１３５　　　第４の端部
　２０１　　　両面研磨装置
　２１０　　　サンギア
　２１２　　　（サンギアの）外周端部
　２２０　　　インターナルギア
　２２２　　　（インターナルギアの）内周端部
　２３０　　　上定盤
　２５０　　　下定盤
　２８０　　　キャリア
　２８２　　　ギア
　２９０　　　ガラス基板
　２９８　　　領域
　Ｓ１　　　　第１の最大断面
　Ｓ２　　　　第２の最大断面

Claims (8)

  1. 　円形の第１の表面を有するガラス物品であって、
    　当該ガラス物品の半径Ｒは、５０ｍｍ～１５０ｍｍの範囲であり、
    　当該ガラス物品において、中心Ｏｇにおける厚さをｔｏとし、ある一つの端部を第１の端部とし、該第１の端部における厚さをｔ１とし、前記第１の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｘ（ただし前記第１の端部および前記中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｘ’とし、
    　光学干渉式厚さ測定法により、当該ガラス物品の前記第１の表面の側から厚さを測定したとき、
     
    （ａ）０．１ｍｍ＜ｔｏ＜２ｍｍ　　　　（１）式、
    （ｂ１）１＜ｔｏ／ｔ１≦１．１　　　　（２）式、
    （ｃ１）ｔｏ＞ｔｘ’＞ｔ１　　　　（３）式、および
    （ｄ１）ｔｘｎ≧（ｔｏ－ｔ１）×（ｎ／５）＋ｔ１　　　　（４）式
    （ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｘｎは、前記第１の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｘｎにおける厚さを表す）
     
    　が成立し、
    　前記中心Ｏｇを中心に、前記第１の端部とは反対側にある端部を第２の端部とし、該第２の端部における厚さをｔ２とし、前記第２の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｗ（ただし前記第２の端部および前記中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｘ”とし、
    　前記光学干渉式厚さ測定法により、当該ガラス物品の前記第１の表面の側から厚さを測定したとき、
     
    （ｂ２）１＜ｔｏ／ｔ２≦１．１　　　　（５）式、
    （ｃ２）ｔｏ＞ｔｘ”＞ｔ２　　　　（６）式、および
    （ｄ２）ｔｗｎ≧（ｔｏ－ｔ２）×（ｎ／５）＋ｔ２　　　　（７）式、
    （ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｗｎは、前記第２の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｗｎにおける厚さを表す）
     
    　が成立する、ガラス物品。
  2. 　さらに、前記中心Ｏｇを中心に、前記第１の端部から９０゜回転した位置を第３の端部とし、該第３の端部における厚さをｔ３とし、前記第３の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｙ（ただし前記第３の端部および前記中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｙ’とし、
    　前記光学干渉式厚さ測定法により、当該ガラス物品の前記第１の表面の側から厚さを測定したとき、
     
    （ｅ１）１＜ｔｏ／ｔ３≦１．１　　　　（８）式、
    （ｆ１）ｔｏ＞ｔｙ’＞ｔ３　　　　（９）式、および
    （ｇ１）ｔｙｎ≧（ｔｏ－ｔ３）×（ｎ／５）＋ｔ３　　　　（１０）式、
    （ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｙｎは、前記第３の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｙｎにおける厚さを表す）
     
    　が成立し、
    　前記中心Ｏｇを中心に、前記第３の端部とは反対側にある端部を第４の端部とし、該第４の端部における厚さをｔ４とし、前記第４の端部から中心Ｏｇまでの間の任意の位置Ｖ（ただし前記第４の端部および前記中心Ｏｇを除く）における厚さをｔｙ”とし、
    　前記光学干渉式厚さ測定法により、当該ガラス物品の前記第１の表面の側から厚さを測定したとき、
     
    （ｅ２）１＜ｔｏ／ｔ４≦１．１　　　　（１１）式、
    （ｆ２）ｔｏ＞ｔｙ”＞ｔ４　　　　（１２）式、および
    （ｇ２）ｔｖｎ≧（ｔｏ－ｔ４）×（ｎ／５）＋ｔ４　　　　（１３）式、
    （ここで、ｎは、１～５の任意の整数であり、ｔｖｎは、前記第４の端部から前記中心Ｏｇに向かって、Ｒ×（ｎ／５）の位置Ｖｎにおける厚さを表す）
     
    　が成立する、請求項１に記載のガラス物品。
  3. 　ガラス物品の製造方法であって、
    　円形のガラス基板が保持された円形のキャリアを、上定盤と下定盤で挟み、前記キャリアを上定盤および下定盤に対して回転させることにより、前記ガラス基板を研磨し、ガラス物品を得る工程を有し、
    　前記ガラス基板は、上面視、
    　　前記キャリアの中心Ｏｃが前記ガラス基板の領域に含まれ、
    　　前記ガラス基板の中心Ｏｇが前記キャリアの中心Ｏｃに対してずれる
    　ように、前記キャリア内に配置される、製造方法。
  4. 　前記ガラス基板の直径をＬｇとしたとき、
    　前記ガラス基板の上面視、前記中心Ｏｃと中心Ｏｇの間の距離ｄは、０．０５×Ｌｇ≦ｄ≦０．５×Ｌｇを満たす、請求項３に記載の製造方法。
  5. 　前記距離ｄは、０．１×Ｌｇ以上である、請求項４に記載の製造方法。
  6. 　前記距離ｄは、０．２５×Ｌｇ以下である、請求項４または５に記載の製造方法。
  7. 　前記ガラス物品は、最大厚さが０．１ｍｍ～２ｍｍの範囲である、請求項３乃至６のいずれか一項に記載の製造方法。
  8. 　前記ガラス物品は、半径が５０ｍｍ～１５０ｍｍの範囲である、請求項３乃至７のいずれか一項に記載の製造方法。
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KR1020227034744A KR20230008030A (ko) 2020-04-23 2021-03-01 유리 물품 및 유리 물품의 제조 방법
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62232280A (ja) * 1986-03-28 1987-10-12 張　克農 画像拡大投写システム
JPS62278501A (ja) * 1986-05-28 1987-12-03 Hitachi Ltd 屈折率分布型レンズの製造方法とその製造装置
JPH09180264A (ja) * 1995-12-25 1997-07-11 Sony Corp スキュー検査装置の較正治具及び較正方法
JP2015527940A (ja) * 2012-07-23 2015-09-24 ジェイエイチ ローデス カンパニー， インコーポレイテッド 非平面ガラス研磨パッドおよび製造方法
JP2017170588A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 Hoya株式会社 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法
JP2018012613A (ja) * 2016-07-19 2018-01-25 日本電気硝子株式会社 円盤状の板ガラス及びその製造方法
JP2019115952A (ja) * 2017-12-27 2019-07-18 Hoya株式会社 円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010063179B4 (de) * 2010-12-15 2012-10-04 Siltronic Ag Verfahren zur gleichzeitigen Material abtragenden Bearbeitung beider Seiten mindestens dreier Halbleiterscheiben
JP5983422B2 (ja) 2013-01-21 2016-08-31 旭硝子株式会社 ガラス基板の研磨方法及び製造方法
JP2016036857A (ja) * 2014-08-05 2016-03-22 株式会社Sumco ワークの研磨方法およびワークの研磨装置
CN110303423B (zh) * 2018-03-20 2021-10-26 胜高股份有限公司 工件的研磨方法及研磨装置
CN110962039A (zh) * 2018-09-29 2020-04-07 康宁股份有限公司 载体晶片和形成载体晶片的方法
JP7199054B2 (ja) 2018-11-07 2023-01-05 国立大学法人東海国立大学機構 サンプル中の元素の質量分析方法、該質量分析方法に用いる分析用デバイス、および、サンプル捕捉用キット

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62232280A (ja) * 1986-03-28 1987-10-12 張　克農 画像拡大投写システム
JPS62278501A (ja) * 1986-05-28 1987-12-03 Hitachi Ltd 屈折率分布型レンズの製造方法とその製造装置
JPH09180264A (ja) * 1995-12-25 1997-07-11 Sony Corp スキュー検査装置の較正治具及び較正方法
JP2015527940A (ja) * 2012-07-23 2015-09-24 ジェイエイチ ローデス カンパニー， インコーポレイテッド 非平面ガラス研磨パッドおよび製造方法
JP2017170588A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 Hoya株式会社 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法
JP2018012613A (ja) * 2016-07-19 2018-01-25 日本電気硝子株式会社 円盤状の板ガラス及びその製造方法
JP2019115952A (ja) * 2017-12-27 2019-07-18 Hoya株式会社 円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板

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