JP2014505268A - 光拡散ガラスパネルを備える表示機器 - Google Patents

光拡散ガラスパネルを備える表示機器 Download PDF

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Abstract

表示機器(10)は、発光素子のような表示素子(20)、またはMEMSデバイスのような光反射素子と、前記表示素子を覆うガラスタッチパネル(30)と、を有し、外側表面(50)は凹凸状に形成される。前記パネルは薄く、1.1mm以下の厚さを、内側表面(40)と外側表面(50)との間に有する。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2010年11月30日に出願された米国仮特許出願第61/418,023号の優先権の利益を米国特許法第119条(35U.S.C.§119)に基づいて主張するものであり、この仮特許出願の内容は、本明細書で参照することにより、当該出願の内容全体が援用され、そして本明細書に組み込まれる。
本明細書は概して、表示機器に関するものであり、特にガラスパネルを有する電子表示機器に関するものである。
本明細書において開示されるのは、表示素子及び該表示素子を覆うガラスパネルにより構成される表示機器である。当該表示素子は、バックライト素子のような発光素子、または光反射素子(バックライトを持たない素子、例えば周囲光を反射する素子のような、MEMSディスプレイのような、または電気泳動ディスプレイ(EDP)のような)の何れかとすることができ、そして当該表示素子は、画像をガラスパネルに向かって表示するように構成される。当該ガラスパネルは光拡散性であり、そして引っ掻き耐性を有することが好ましく、そして熱的、化学的、かつ機械的に強固であることが好ましい。幾つかの実施形態では、ガラスパネルはガラスタッチパネルである。ガラスパネルは、低アルカリ性とするか、またはアルカリを殆ど含まないかの何れかとすることができ、そして幾つかの実施形態では、アルカリを全く含まない。
幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、90%超の合計透過率、及び75%超のヘイズ率を実現する。
幾つかの実施形態では、表示素子は、微小電気機械システム(MEMS)デバイス、電気泳動ディスプレイ(EDP)、液晶表示デバイス(LCD)、デジタルライト処理(DLP)装置、または液晶オンシリコン(LCOS)デバイスである。
第1の態様では、光反射素子、及び該光反射素子を覆うガラスタッチパネルにより構成される表示機器が本明細書において開示される。一連の実施形態では、当該光反射素子はMEMSデバイスであるので、本明細書に開示される表示機器は、MEMSデバイス、及び該MEMSデバイスを覆うガラスタッチパネルにより構成される。別の一連の実施形態では、当該光反射素子はEDPデバイスであるので、本明細書に開示される表示機器は、EDPデバイス、及び該EDPデバイスを覆うガラスタッチパネルにより構成される。
一連の実施形態では、MEMSデバイス、及び該MEMSデバイスを覆うガラスタッチパネルを備える表示機器が、本明細書において開示される。前記ガラスタッチパネルは、アルカリを全く含まない、50x10−7/℃以下のCTE、及び0.5以上の散乱率(拡散透過率を合計透過率で除算して得られる)を有し、前記パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、前記内側表面は前記MEMSデバイスに対して内側方向に対向しており、そして前記外側表面は、前記MEMSデバイスに対して外側方向に離れた位置で対向しており、前記外側表面は凹凸状に形成され、前記内側表面は凹凸状に形成されず、前記パネルは、1.1mm以下の厚さを、前記内側表面と外側表面との間に有し、前記パネルは、前記外側方向に90%以上の合計順方向透過率を有する。
別の一連の実施形態では、MEMSデバイス、及び該MEMSデバイスを覆うガラスタッチパネルを備える表示機器が、本明細書において開示される。前記ガラスタッチパネルは、アルカリを全く含まない、50x10−7/℃以下のCTE、及び0.75以上の散乱率(拡散透過率を合計透過率で除算して得られる)を有し、前記パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、前記内側表面は前記MEMSデバイスに対して内側方向に対向しており、そして前記外側表面は、前記MEMSデバイスに対して外側方向に離れた位置で対向しており、前記外側表面は凹凸状に形成され、前記内側表面は凹凸状に形成されず、前記パネルは、1.1mm以下の厚さを、前記内側表面と外側表面との間に有し、前記パネルは、前記外側方向に90%以上の合計順方向透過率を有する。
第2の態様では、表示素子、及び該表示素子を覆うカバーガラスにより構成される表示機器が本明細書において開示される。一連の実施形態では、前記表示素子は光反射素子であるので、本明細書において開示される表示機器は、外側を向いた基板表面を有する光反射素子、及び該光反射素子に接合され、かつ該光反射素子を覆うカバーガラスにより構成される。当該カバーガラスは、コーニングインコーポレーテッド社のGorilla(登録商標)ガラスのようなイオン交換強化ガラスとすることができる。
本発明の更に別の特徴及び利点は、以下の詳細な説明において開示され、そしてかなりの程度、この技術分野の当業者であれば、当該説明から容易に理解する、または以下の詳細な説明、請求項だけでなく添付の図面を含む本明細書において記載される実施形態を実施することにより容易に理解することができる。
これまでの概要説明、及び以下の詳細な説明の両方は、種々の実施形態について記載しており、そして請求する主題の本質及び特徴を理解するための概要または概略を提供するために利用される。添付の図面は、種々の実施形態を更に深く理解することができるために取り込まれ、そして本明細書の一部に組み込まれ、そして一部を構成する。これらの図面は、本明細書において開示される種々の実施形態を示し、そして説明と併せて、請求する主題の原理及び動作を説明するために利用される。
本明細書において開示され、かつ発光素子及び当該発光素子を覆うガラスパネルにより構成される表示機器の断面模式図である。 コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより形成されるガラスパネルをメディアブラスト及びエッチングした後の合計透過率を示している。 コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより形成されるガラスパネルに関して選択される4つの異なるヘイズ率の変化(上から下に見たときの超高ヘイズ率、高ヘイズ率、中ヘイズ率、及び低ヘイズ率の変化)を示している。 コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより形成される高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルのヘイズ率測定値(すなわち、拡散透過率を合計透過率で除算して得られる比として定義される散乱率)を示している。 コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより形成される400,600,800,及び1000nmにおける中ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの小角散乱(すなわち、(sr)−1単位で表わされる補正後の双方向透過率分布関数(ccBTDF))を示している。 コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより形成される400,600,800,及び1000nmにおける高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの小角散乱(すなわち、(sr)−1単位で表わされる補正後の双方向透過率分布関数(ccBTDF))を示している。 コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより形成される高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの合計反射率測定値を示している。 本明細書において開示され、かつMEMSデバイスを備える表示機器を製造する様子を模式的に示している。 本明細書において開示され、かつMEMSアレイ及びガラスパネルを含むMEMSデバイスにより構成される表示機器を模式的に示している。 本明細書において開示され、かつEPDデバイス及びガラスパネルにより構成される表示機器を模式的に示しており、ガラスパネルは、EPDデバイスの共通電極基板として機能する。 本明細書において開示され、かつカバーガラスと、そして光反射素子、例えばEPDデバイスのような表示素子と、により構成される表示機器を模式的に示している。
次に、ガラスパネルを備える表示装置、及び同表示装置を製造する方法の種々の実施形態を詳細に参照することとし、これらの実施形態の例は、添付の図面に図示される。
図1を参照するに、表示素子20、及び当該表示素子20を覆うガラスパネル30により構成される表示機器10が本明細書において開示される。表示素子20は、画像をガラスパネル30に向かって表示するように構成される。パネル30は、内側表面40と、そして外側表面50と、を有する、すなわち対向する内側表面40及び外側表面50を有する。内側表面40は表示素子20に対して内側方向に対向し、そして外側表面50は発光素子20に対して、外側方向に離れた位置で対向する。従って、表示素子20は、画像をガラスパネル30の内側表面40に向かって表示するように構成される。外側表面50は、光が拡散するように凹凸状に形成されている。従って、ガラスパネル30は光拡散性である。内側表面40は凹凸状に形成されていない、すなわち非凹凸状にしている。パネル30は厚さ「T」を有する。
幾つかの実施形態では、ガラスパネルの厚さは、約1.1mm以下であり、幾つかの実施形態では、約0.7mm以下であり、そして幾つかの実施形態では、約0.5mm以下である。
幾つかの実施形態では、内側表面40は表示素子20の上に、または表示素子20の近傍に配置される。幾つかの実施形態では、内側表面40を表示素子20に接合させる。幾つかの実施形態では、内側表面40が表示素子20に直接接触する。
好適には、ガラスパネル30は、ガラスパネル30の内側表面40に衝突する光の光透過率を高くし、かつ散乱率を低くする。幾つかの実施形態では、ガラスパネル30は、外側方向に90%以上の合計順方向透過率を有する。
幾つかの実施形態では、ガラスパネルの内側表面40は、表示素子20がMEMSデバイスである実施形態におけるように平坦であり;これらの実施形態のうちの幾つかの実施形態では、ガラスパネル30は、フュージョンドロー法で製造されたガラス、研磨ガラス、またはフュージョンドロー法で製造された研磨ガラスから選択され;幾つかの実施形態では、ガラスパネル30の内側表面40は、研磨内側表面である。
幾つかの実施形態では、ガラスパネル30はコーティングされない。幾つかの実施形態では、ガラスパネル30の外側表面50はコーティングされない。幾つかの実施形態では、反射防止コーティングは、ガラスパネル30の外側表面50に設けない。
幾つかの実施形態では、ガラスパネル30の外側表面50の相関長は、500nm超であり、かつ2マイクロメートル未満である。幾つかの実施形態では、ガラスパネルの外側表面の相関長は、750nm超であり、かつ1.5マイクロメートル未満である。
幾つかの実施形態では、ガラスパネル30の外側表面50のRMS(自乗平均平方根)粗さは、250nm超であり、かつ1.5マイクロメートル未満である。幾つかの実施形態では、ガラスパネルの外側表面のRMS粗さは、500nm超であり、かつ1.25マイクロメートル未満である。
幾つかの実施形態では、ガラスパネルの外側表面は、ガラスパネルの外側表面の法線軸の回りの−30度〜+30度の間で、0.07(sr)−1超の余弦補正双方向透過率分布関数(cosine corrected bidirectional transmittance distribution function:ccBTDF)を示す。
幾つかの実施形態では、ガラスパネルの外側表面は、ガラスパネルの外側表面の法線軸の回りの−20度〜+20度の間で、0.10(sr)−1超のccBTDFを示す。
幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、0.5以上の散乱率を、300〜1200nmの全ての波長に対応して有し;幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、0.75以上の散乱率を、300〜1200nmの全ての波長に対応して有し;幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、0.80以上の散乱率を、300〜1200nmの全ての波長に対応して有し;幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、0.85以上の散乱率を、300〜1200nmの全ての波長に対応して有し;幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、0.90以上の散乱率を、300〜1200nmの全ての波長に対応して有し;そして幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、0.95以上の散乱率を、300〜1200nmの全ての波長に対応して有する。
ガラスパネルは、引っ掻き耐性を有することが好ましく、そして熱的、化学的、かつ機械的に強固であることが好ましい。幾つかの実施形態では、ガラスパネルはガラスタッチパネルである。ガラスパネルは、低アルカリ性であるか、またはアルカリを殆ど含まないかの何れかであり、そして幾つかの実施形態では、アルカリを全く含まない。「low alkali(低アルカリ性)」とは、アルカリが2重量%未満であることを意味する。「alkali−free(無アルカリ)」とは、殆どアルカリが存在せず、微量にしかガラスに含まれていない状態を指す。
幾つかの実施形態では、ガラスパネルのCTEは、表示素子の少なくとも一部のCTEに一致する。幾つかの実施形態では、ガラスパネルのCTEは、表示素子の少なくとも一部のCTEの±10%以内である。幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、60x10−7/℃のCTEを有し、そして幾つかの実施形態では、50.0x10−7/℃以下のCTEを有する。幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、30.0x10−7/℃〜50.0x10−7/℃のCTEを有する。
ガラスパネルの外側表面は、例えばラッピング、サンドブラスティングまたはハイドロブラスティング、化学エッチング、及びこれらの組み合わせによって凹凸状に形成することにより、適切な合計透過率及びヘイズ率を実現することができる。得られる凹凸によって、選択範囲の固有サイズ及び形状が得られるので、所望の光学的特性を実現することができる。幾つかの実施形態では、凹凸は、2ステップ法によって得られるような、なだらかなクレーターを含み、この場合、固有直径サイズは、マイクロメートルの範囲であり、幾つかの実施形態では、1〜5μmであり;この2ステップ法の第1ステップでは、マイクロクラックをガラス表面に発生させるラッピングまたはサンドブラスティングを行ない、そして第2ステップでは、酸エッチングを行ない、このエッチングは、マイクロクラックの縁から始まり、そしてこのエッチングにより、これらの縁を丸めて、よりなだらかなパターンにする。第1ステップでは、ガラス表面を、研磨微粒子流でメディア研磨またはメディアブラストすることができ、これらの研磨微粒子をスラリー内で脱イオン化(DI)水と混合させる。ラッピングの場合、このようなスラリーをガラスとラッピングプレートとの間に滴下するのに対し、サンドブラスティングの場合は、スラリーを圧縮空気で噴出させる。水を研磨剤と混合して、空気のみを用いる場合よりも微細な研磨粒子を用いることができ、これにより、水が減衰媒体として衝突粒子に作用するので、全体的に表面にはより少ない割れしか発生しない。第2ステップ(酸エッチング)では、第1ステップ後に得られる凹凸を部分的に変化させ、そしてマイクロクラックをガラス表面に発生させるメディア研磨またはメディアブラスト後のガラス表面強度を元通りに回復させる。この結果、極めて高い光拡散性を持つ表面が、合計透過率を高く維持したままで得られ、これにより、光利用率を、反射光線の量が減少することにより向上させることができる。
1つの実施形態では、ガラスパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより構成される。別の実施形態では、ガラスパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のGorilla(登録商標)ガラスにより構成される。
図2〜7は、コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより形成され、かつ上に概要説明した2ステップ法によって処理される種々のガラスパネルに関するものであり:微細な網(#600、5〜20μmの粒子サイズに対応し、メジアン径は10μmである)を通過させて得られるアルミナ粒子を用いた研磨溶液を利用し、アルミナは、アルミナの硬度が高いという理由により使用され、そして微細粒子を分散させて微小マイクロクラックをガラス表面に形成し、溶液の含有物は、水に含まれる20〜80%重量のアルミナであり;ブラスト処理条件に関しては、処理時間が、研磨粒材の衝突痕跡が形成される表面の割れに影響し;試料は、サンドブラストステップまたはラッピングステップの後にエッチングすることにより、第1ステップ後に得られる凹凸を部分的に変化させ、そしてメディアブラスト法によってマイクロクラックがガラス表面に発生するので、ガラス表面強度を元通りに回復させ、HF:HCl:HOの1:1:20溶液を利用して5〜15分間のエッチングを行ない;そして全試料をエッチングステップ後に、リンス洗浄し、そしてクリーニングした。
図2は、メディアブラスト及びエッチングを光拡散性ガラスパネルに対して行なった後の合計透過率を示している。
図3は、ガラスパネルに関して選択される4つの異なるヘイズ率の変化(上から下に見て、超高ヘイズ率、高ヘイズ率、中ヘイズ率、及び低ヘイズ率の変化)を示している。
図4は、高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルのヘイズ率測定値(すなわち、拡散透過率を合計透過率で除算した比として定義される散乱率)を示している。
図5は、400,600,800,及び1000nmにおける中ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの小角散乱(すなわち、(sr)−1単位で表わされる補正後の双方向透過率分布関数(ccBTDF))を示している。
図6は、400,600,800,及び1000nmにおける高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの小角散乱(すなわち、(sr)−1単位で表わされる補正後の双方向透過率分布関数(ccBTDF))を示している。
図7は、高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの合計反射率測定値を示している。
一連の実施形態では、MEMSデバイスと、そして当該MEMSデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備える表示機器が本明細書において開示される。ガラスタッチパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより構成され、かつ50x10−7/℃以下のCTE、及び0.5以上の散乱率(拡散透過率を合計透過率で除算して得られる)を有し、当該パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、内側表面はMEMSデバイスに対して内側方向に対向し、そして外側表面はMEMSデバイスに対して、外側方向に離れた位置で対向しており、外側表面は、2ステッププロセスにより凹凸状に形成され、内側表面は凹凸状に形成されず、パネルは、1.1mm以下の厚さを、内側表面と外側表面との間に有し、パネルは、外側方向に90%以上の合計順方向透過率を有する。内側表面は、平坦かつ平滑である。
別の一連の実施形態では、MEMSデバイスと、そして当該MEMSデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備える表示機器が本明細書において開示される。ガラスタッチパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより構成され、かつ50x10−7/℃以下のCTE、及び0.5以上の散乱率(拡散透過率を合計透過率で除算して得られる)を有し、当該パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、内側表面はMEMSデバイスに対して内側方向に対向しており、そして外側表面はMEMSデバイスに対して外側方向に離れた位置で対向しており、外側表面は、2ステッププロセスにより凹凸状に形成され、内側表面は凹凸状に形成されず、パネルは、約0.3mmの厚さを、内側表面と外側表面との間に有し、パネルは、外側方向に90%以上の合計順方向透過率を有する。内側表面は平滑であり、そしてMEMSデバイスは、平滑な内側表面に配置されるMEMSアレイを含む。従って、凹凸状に形成される外側表面は視聴者に対向して、視聴者がガラスパネル(または、基板)を通してアレイを眺めるようになっている。表示機器の外側の周囲光及び/又は前面光は、アレイにより反射されて視聴者の方に戻るようにして進む。
図8は、本明細書において開示され、かつMEMSデバイスを備える表示機器を製造する様子を模式的に示している。MEMSアレイをガラスパネル30の平滑な内側表面40に堆積させ、内側表面40は、凹凸状に形成される外側表面50とは反対側に位置している。図9は、完成品のMEMSデバイス(MEMSアレイを含む)及びガラスパネル30により構成される表示機器10を模式的に示している。
更に別の一連の実施形態では、EPD(電子ペーパーディスプレイ)デバイスと、そして当該EPDデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備える表示機器が本明細書において開示される。ガラスタッチパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスにより構成され、かつ50x10−7/℃以下のCTE、及び0.5以上の散乱率(拡散透過率を合計透過率で除算して得られる)を有し、当該パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、内側表面はEPDデバイスに対して内側方向に対向しており、そして外側表面はEPDデバイスに対して外側方向に離れる位置で対向しており、外側表面は、2ステッププロセスにより凹凸状に形成され、内側表面は凹凸状に形成されず、当該パネルは、約1.1mm未満の厚さを内側表面と外側表面との間に有し、当該パネルは、外側方向に90%以上の合計順方向透過率を有する。幾つかの実施形態では、EPDデバイスは、下側基板に配置されるTFTアレイを備え、TFTアレイは、上側基板に配置される共通電極に対向しており;ガラスパネルのうちの凹凸状に形成されていない方の(平滑な)内側表面は、上側基板に直接接合させて、凹凸状に形成されている外側表面が視聴者に対向して、視聴者がガラスパネルを通してアレイを眺めるようになっており;表示機器の外側の周囲光及び/又は前面光は、アレイにより反射されて視聴者の方に戻るようにして進み;ガラスパネルは従って、カバーガラスとして機能する。他の実施形態では、EPDデバイスは、下側基板に配置されるTFTアレイを備え、TFTアレイは、ガラスパネルのうちの凹凸状に形成されていない方の(平滑な)内側表面に配置される共通電極に対向しているので(ガラスパネルは従って、上側基板として機能する)、凹凸状に形成されている外側表面が視聴者に対向して、視聴者がガラスパネルを通してアレイを眺めるようになっており;表示機器の外側の周囲光及び/又は前面光は、アレイにより反射されて視聴者の方に戻るようにして進み;ガラスパネルは従って、EPDデバイスの上側基板として機能し;このような表示機器は、前面偏光板を持たないのが好ましい。
別の一連の実施形態では、EPDデバイスと、そして当該EPDデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備える表示機器が本明細書において開示される。図10及び11を参照するに、EPDデバイスは、TFT基板90と、当該TFT基板に配置されるTFTアレイ80と、共通電極基板と、当該共通電極基板に配置される共通電極60と、そして共通電極60とTFTアレイ80との間に配置されるインクカプセル70と、により構成される。図10は、本明細書において開示され、かつEPDデバイス及びガラスパネル30により構成される表示機器を模式的に示しており、この場合、ガラスパネル30は、EPDデバイスの共通電極基板として機能する。幾つかの実施形態では、ガラスパネル30は、コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスである。図11は、本明細書において開示され、かつ光反射素子、例えばEPDデバイスのような表示素子と、そしてカバーガラスパネル30と、により構成される表示機器を模式的に示しており、この場合、外側表面50は凹凸状に形成される。カバーガラスパネル30は、コーニングインコーポレーテッド社のGorilla(登録商標)ガラスとすることができ、そして共通電極基板55は、コーニングインコーポレーテッド社のEAGLE XG(登録商標)ガラスとすることができる。カバーガラスパネル30は、共通電極基板55に接合させることができる。
この技術分野の当業者であれば、種々の変形及び変更を本明細書において記載されるこれらの実施形態に、請求する主題の思想及び範囲から逸脱しない限り加えることができることを理解できるであろう。従って、本明細書は、このような変形及び変更が添付の請求項、及びこれらの請求項の均等物の範囲に含まれる場合には、本明細書において記載される種々の実施形態の変形及び変更を包含するものである。
10 表示機器
20 表示素子、発光素子
30 ガラスパネル
40 内側表面
50 外側表面
55 共通電極基板
60 共通電極
70 インクカプセル
80 TFTアレイ
90 TFT基板
T 厚さ

Claims (9)

  1. 表示素子と、
    該表示素子を覆うガラスタッチパネルと、を備え、該ガラスタッチパネルは、アルカリを全く含まない、または2重量%未満のアルカリ含有量、50x10−7/℃以下のCTE、及び0.5以上の散乱率(拡散透過率を合計透過率で除算して得られる)を有し、前記パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、前記内側表面は前記表示素子に対して内側方向に対向しており、そして前記外側表面は前記表示素子に対して外側方向に離れる位置で対向しており、前記外側表面は凹凸状に形成され、前記内側表面は凹凸状に形成されず、前記パネルは、1.1mm以下の厚さを、前記内側表面と外側表面との間に有し、前記パネルは、前記外側方向に90%以上の合計順方向透過率を有する、
    表示機器。
  2. 前記ガラスタッチパネルのCTEは、前記表示素子の少なくとも一部のCTEの±10%以内である、請求項1に記載の表示機器。
  3. 前記ガラスパネルは、300〜1200nmの全ての波長に対応して0.5以上の散乱率を有する、請求項1に記載の表示機器。
  4. 前記ガラスパネルの前記外側表面の相関長は、500nm超かつ2マイクロメートル未満である、請求項1に記載の表示機器。
  5. 前記ガラスパネルの前記外側表面のRMS粗さは、500nm超かつ1.25マイクロメートル未満である、請求項1に記載の表示機器。
  6. 前記ガラスパネルの前記外側表面は、前記ガラスパネルの前記外側表面の法線軸の回りの−30〜+30度の間で0.07(sr)−1超のccBTDF(余弦補正双方向透過率分布関数)を示す、請求項1に記載の表示機器。
  7. 前記ガラスパネルの前記外側表面は、前記ガラスパネルの前記外側表面の法線軸の回りの−20〜+20度の間で0.10(sr)−1超のccBTDFを示す、請求項1に記載の表示機器。
  8. 前記表示素子は、微小電気機械システム(MEMS)デバイス、電気泳動表示(EDP)デバイス、液晶表示(LCD)デバイス、デジタルライト処理(DLP)装置、または液晶オンシリコン(LCOS)デバイスである、請求項1に記載の表示機器。
  9. MEMSデバイスと、
    該MEMSデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備え、該ガラスタッチパネルは、アルカリを全く含まない、または2重量%未満のアルカリ含有量、50x10−7/℃以下のCTE、及び0.5以上の散乱率(拡散透過率を合計透過率で除算して得られる)を有し、前記パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、前記内側表面は前記MEMSデバイスに対して内側方向に対向しており、そして前記外側表面は前記MEMSデバイスに対して外側方向に離れる位置で対向しており、前記外側表面は凹凸状に形成され、前記内側表面は凹凸状に形成されず、前記パネルは、1.1mm以下の厚さを、前記内側表面と外側表面との間に有し、前記パネルは、前記外側方向に90%以上の合計順方向透過率を有する、
    表示機器。
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