JP4409317B2 - 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置 - Google Patents

液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置 Download PDF

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この発明は、液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置に関する。
近年、表示パネルとして液晶表示パネルを用いた様々な機器が供給されており、それらの機器の小型軽量化が求められている。一般に、液晶表示パネルは、アレイ基板と、このアレイ基板に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板と、これら両基板の間に狭持された液晶層と、を備えている。アレイ基板および対向基板は、それぞれガラス基板を備えている。機器の軽量化および薄膜化は、アレイ基板および対向基板を構成したガラス基板の厚みを薄くすることで実現できる。
液晶表示パネルを製造する場合、アレイ基板より寸法の大きいマザーガラス上にアレイパターンを形成し、対向基板より寸法の大きい他のマザーガラス上に所定パターンを形成した後、これらマザーガラスおよび他のマザーガラスを貼り合せることで製造される。
最初から薄いガラス基板を用いて液晶表示パネルを形成しようとする場合、薄いガラス基板は、取り扱いが難しく、液晶表示パネルの製造装置に対する制約が多くなる。特に、ガラス基板の厚みが薄くなるほど、反りやたわみ量、温度に対するガラス基板の変形のしやすさが増大し、液晶表示パネルの生産性が悪くなる。従って、液晶表示パネルを希望通りに薄くしようとする場合、コスト上昇を招く。
そこで、最近、上記したようにマザーガラス同士を貼り合わせた後、これらマザーガラスを機械研磨(メカニカルエッチング)や化学研磨(ケミカルエッチング)の手法により研磨して、薄型化した液晶表示パネルが開発されている(例えば、特許文献1参照)。この方法によれば、製造コストの上昇を招くことなく、液晶表示パネルの軽量化および薄型化を図ることが可能となる。
特開2003−15111号公報
しかしながら、従来の化学研磨において、研磨前のガラス基板の表面に微小なキズやマイクロクラック等がある場合、化学研磨後のガラス基板表面にピットと呼ばれる凹状のキズが発生してしまう問題がある。また、化学研磨を行う際、ガラス基板表面にアレイパターン形成の際に付着した油脂成分の残膜等の残渣がある場合、化学研磨後の基板表面にエッチングムラが発生してしまうという問題がある。凹状のキズやエッチングムラが発生した個所では光の乱反射が生じるため、表示品位は低下してしまう。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、表示品位に優れ、軽量かつ薄型の液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明の態様に係る液晶表示パネルの製造方法は、アレイ基板と、前記アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた液晶表示パネルの製造方法において、アレイ基板を構成する第1基板、および対向基板を構成する第2基板を用意し、前記第1基板および第2基板を接合し、前記第1基板および第2基板の少なくとも一方の基板を界面活性剤に浸漬した後、前記少なくとも一方の基板の表面を化学研磨することを特徴としている。
また、本発明の他の態様に係る液晶表示パネルの製造装置は、アレイ基板と、前記アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた液晶表示パネルの製造装置において、界面活性剤を収容した収容部と、アレイ基板を構成する第1基板および対向基板を構成する第2基板の少なくとも一方の基板を前記界面活性剤に浸漬する基板支持機構と、前記少なくとも一方の基板の表面を化学研磨する化学研磨部と、を備えたことを特徴としている。
上記のように構成された液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置によれば、第1基板および第2基板の少なくとも一方は、界面活性剤に浸漬されるため、浸漬された基板の表面は界面活性剤によりコーティングされ、基板全面に渡って均一な親水性を有する状態となる。この状態で基板を化学研磨を行うと、研磨溶液が基板全面に渡って均一に作用するためムラ無く均一な平坦化が可能となる。
この発明によれば、表示品位に優れ、軽量かつ薄型の液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置を提供することができる。
以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態に係る液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置について詳細に説明する。
始めに、この製造方法および製造装置によって製造される液晶表示パネルの構成を説明する。
図2および図3に示すように、液晶表示パネル10は、アレイ基板11および対向基板13を備えている。アレイ基板11および対向基板13は、透明な絶縁基板として、例えばガラス基板12、14をそれぞれ備えている。アレイ基板11および対向基板13は、これら基板間に設けられた複数本の柱状スペーサ15により所定の隙間をおいて対向配置されている。
ガラス基板12上には、図示しないゲート配線、ソース配線、スイッチング素子、画素電極および配向膜等のアレイパターンが形成され、アレイ基板11を構成している。また、ガラス基板14には、図示しない共通電極および配向膜等の特定パターンが形成され、対向基板13を構成している。
アレイ基板11および対向基板13の周縁部同士は枠状の製品シール材16により接合され、この製品シール材には液晶注入口18が形成されている。アレイ基板11および対向基板13、並びに製品シール材16によって囲まれた領域には、液晶が注入され、液晶層17を形成している。なお、液晶注入口18は、封止材19によって封止されている。アレイ基板11および対向基板13の外面には、図示しない偏光板がそれぞれ配設されている。
次に、上記形成された液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置について詳述する。
図4に示すように、アレイ基板11より大きな寸法の透明な絶縁基板としてガラスからなる第1基板(以下、マザーガラスと称する)2を用意する。この実施の形態によれば、マザーガラス2は、2枚のアレイ基板11を形成するための2つの有効領域r1と、これら有効領域の周囲に位置した非有効領域r2と、を有し、板厚0.7mmに形成されている。続いて、マザーガラス2上の各有効領域r1に、アレイパターンおよび複数本の柱状スペーサ15(図2)を形成する。これにより、マザーガラス2上に2枚分のアレイ基板が形成される。
図5に示すように、対向基板13より大きな寸法の透明な絶縁基板としてガラスからなる第2基板(以下、他のマザーガラスと称する)4を用意する。他のマザーガラス4は、有効領域r1にそれぞれ対応した2つの有効領域r3と、有効領域r3の周囲に位置した非有効領域r4と、を有し、板厚0.7mmに形成されている。他のマザーガラス4の各有効領域r3に、共通電極および配向膜等の特定パターンを形成する。これにより、2枚分の対向基板13が形成される。
次に、図4ないし図6に示すように、マザーガラス2の周縁部に空気抜き口8を有した外周シール材6を塗布するとともに、各有効領域r1の周縁部に液晶注入口18を有した製品シール材16を塗布する。その後、有効領域r1、r3同士が対向するようにマザーガラス2、および他のマザーガラス4を配置する。
続いて、マザーガラス2、および他のマザーガラス4を加圧して、両マザーガラスを外周シール材6および製品シール材16により貼り合わせるとともに、空気抜き口8を通して両マザーガラス間の余分な空気を排気する。次に、外周シール材6および製品シール材16を硬化し、その後、メインシール材として、例えばエポキシ樹脂系からなる封止材9により空気抜き口8を封止する。上記した工程により、2枚のマザーガラス2および4が固着され、2組の空の液晶表示パネルを有した液晶表示セル1が完成する。
次に、製造装置20を用いて液晶表示パネル1を化学研磨する。
図1に示すように製造装置20は、化学研磨室としての研磨チャンバ21を有している。この研磨チャンバ21は、液晶表示セル1やエッチング液51等を収容する研磨室として機能する。研磨チャンバ21内には、液晶表示セル1表面に界面活性剤をコーティングする界面活性部30、化学研磨を行う化学研磨部50、および化学研磨を行った後に液晶表示セルを洗浄する洗浄部60が設けられている。
界面活性部30は、界面活性剤として、例えば中性洗剤31を収容した収容部としての第1槽32、および液晶表示セル1を支持し、中性洗剤に浸漬させる基板支持機構としてのキャリア33を有している。界面活性剤としては例えば中性洗剤であるセルテックス((株)永田製作所)や、T−3000((株)アイテス)等を用いることができる。化学研磨部50は、フッ酸を含有するエッチング液51を収容した第2槽52、および液晶表示セル1を支持しエッチング液51に浸漬させるキャリア53を有している。洗浄部60は、液晶表示セル1の表面に付着した溶液を洗浄するための洗浄装置61を有している。
次に、上記のように構成された製造装置20によって研磨される液晶表示セル1の研磨方法について詳述する。
まず、前述した工程により製造された液晶表示セル1を研磨チャンバ21内に搬入する。研磨前の状態において、液晶表示セル1の表面、より詳しくは、マザーガラス2表面に微小なキズやマイクロクラック等の凹部3を有している可能性があるものである。なお、図1に示した液晶表示セル1は、便宜上、マザーガラス2、および他のマザーガラス4のみ示している。界面活性部30において、キャリア33により搬入された液晶表示セル1全体を中性洗剤31に浸漬する。これにより、マザーガラス2表面は界面活性剤によりコーティングされ、基板全面に渡って均一な親水性を有する状態となる。
表面に界面活性剤がコーティングされた液晶表示セル1は、その後、化学研磨部50に搬送される。化学研磨部50において、キャリア53により搬送された液晶表示セル1全体をエッチング液51に浸漬する。これにより、マザーガラス2、4の表面は化学的に研磨され、マザーガラス2、4合計の板厚は、例えば0.8mmとなる。このため、軽量、かつ薄型の液晶表示セル1が得られる。続いて、液晶表示セル1をエッチング液51から取り出した後、洗浄部60に搬送して洗浄する。洗浄部60で洗浄する際は、洗浄装置61を用いて液晶表示セル1表面に付着したエッチング液51を除去する。その後、液晶表示セル1を研磨チャンバ21外側に搬出する。
続いて、マザーガラス2、4を有効領域r1、r3の周縁に位置したスクライブラインeに沿って分割する。これにより、マザーガラス2、4から2組の空状態の液晶表示セルが得られる。その後、真空注入により、液晶表示セルの液晶注入口18から液晶を注入し、液晶注入口18を封止材19によって封止する。これにより、アレイ基板11および対向基板13の間に液晶が封入され液晶層17が形成される。続いて、アレイ基板11および対向基板13の外面に、偏光板をそれぞれ配置することにより、液晶表示パネル10が完成する。
以上のように構成された液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置によれば、マザーガラス2、4は、エッチング液51に浸漬する前に中性洗剤31に浸漬されている。マザーガラス2の表面は、界面活性剤によりコーティングされ、基板全面に渡って均一な親水性を有する状態となり、化学研磨はその後行われる。このため、たとえ研磨前のマザーガラス2、4の表面に凹部3があったとしても、そこが基点となって拡大してしまういわゆるピットの発生を抑制できる。以上のことから、表示品位に優れ、軽量かつ薄型の液晶表示パネルが得られる。
上述した化学研磨の工程は容易であるため、液晶表示パネルの大量製造が容易となる。マザーガラス2、4を接合した後、化学研磨して薄型化するため、ガラス基板の取扱いが容易であり、製造コスト上昇を抑制できる。
なお、この発明は、上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。例えば、マザーガラス2、4を界面活性剤に浸漬する場合、中性洗剤31に液晶表示セル1全体を浸漬したが、一方のマザーガラスのみを浸漬する構成としても良い。またマザーガラス2、4を化学研磨する場合、エッチング液51に液晶表示セル1全体を浸漬したが、これらマザーガラスの少なくとも一方を浸漬しても良い。これにより、浸漬されたマザーガラスは良好に薄型化される。
マザーガラス2、4の板厚は、0.7mmに限らず、任意の板厚のガラスを用いることができる。化学研磨後の液晶表示セルの厚さは0.8mmに限らず、必要に応じて増減可能であり、エッチング液51に浸漬する時間を調整することにより、任意に調整することができる。
本発明の実施の形態に係る製造装置の平面図。 本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルの断面図。 図2に示した液晶表示パネルの斜視図。 液晶表示パネルの製造方法において、2つの有効領域を有したマザーガラス上に製品シール材および外周シール材を形成した状態を示す平面図。 液晶表示パネルの製造方法において、2つの有効領域を有した他のマザーガラスを示す平面図。 液晶表示パネルの製造方法において、マザーガラスおよび他のマザーガラスが貼り合わされた状態を示す平面図。
符号の説明
1…液晶表示セル、2,4…マザーガラス、3…凹部、6…外周シール材、8…空気抜き口、10…液晶表示パネル、11…アレイ基板、12,14…ガラス基板、13…対向基板、15…柱状スペーサ、16…製品シール材、17…液晶層、18…液晶注入口、19…封止材、20…製造装置、30…界面活性部、31…中性洗剤、32…第1槽、50…化学研磨部、51…エッチング液、52…第2槽、60…洗浄部、61…洗浄装置、r1,r3…有効領域、r2,r4…非有効領域。

Claims (6)

  1. アレイ基板と、前記アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた液晶表示パネルの製造方法において、
    アレイ基板を構成する第1基板、および対向基板を構成する第2基板を用意し、
    前記第1基板および第2基板を接合し、
    前記第1基板および第2基板の少なくとも一方の基板を界面活性剤に浸漬した後、前記少なくとも一方の基板の表面を化学研磨することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
  2. アレイ基板と、前記アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた液晶表示パネルの製造方法において、
    前記アレイ基板を形成する第1有効領域および前記第1有効領域の外側に位置した第1非有効領域を有した第1基板と、前記対向基板を形成する第2有効領域および前記第2有効領域の外側に位置した第2非有効領域を有した第2基板と、を用意し、
    前記第1有効領域および第2有効領域の両周縁部間に設けられた製品シール材、および前記第1非有効領域および第2非有効領域間に設けられ空気抜き口を有した外周シール材により前記第1基板および第2基板を互いに接合した後、前記空気抜き口をメインシール材により封止し、
    前記第1基板および第2基板の少なくとも一方の基板を界面活性剤に浸漬した後、前記少なくとも一方の基板の表面を化学研磨することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
  3. 前記少なくとも一方の基板をエッチング液に浸漬して化学研磨することを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示パネルの製造方法。
  4. 前記前記界面活性剤として中性洗剤を用いることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示パネルの製造方法。
  5. 前記第1基板および第2基板としてのガラス基板を用いることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示パネルの製造方法。
  6. アレイ基板と、前記アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた液晶表示パネルの製造装置において、
    界面活性剤を収容した収容部と、
    アレイ基板を構成する第1基板および対向基板を構成する第2基板の少なくとも一方の基板を前記界面活性剤に浸漬する基板支持機構と、
    前記少なくとも一方の基板を界面活性剤に浸漬した後、前記少なくとも一方の基板の表面を化学研磨する化学研磨部と、
    を備えたことを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
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