JP2009053626A - 表示パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造歩留まりの高い、軽量かつ薄型の表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】表示パネルの製造方法は、第1基板と、第2基板と、を用意し、第1基板及び第2基板を接合し、第1基板及び第2基板の一方の基板に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、第1基板の表面及び第2基板の表面を第1化学研磨し、第1化学研磨された上記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、第1基板及び第2基板の厚みを算出し、第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、上記研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定し、第1基板の表面及び第2基板の表面の少なくとも一方を第2化学研磨する。
【選択図】 図7
【解決手段】表示パネルの製造方法は、第1基板と、第2基板と、を用意し、第1基板及び第2基板を接合し、第1基板及び第2基板の一方の基板に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、第1基板の表面及び第2基板の表面を第1化学研磨し、第1化学研磨された上記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、第1基板及び第2基板の厚みを算出し、第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、上記研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定し、第1基板の表面及び第2基板の表面の少なくとも一方を第2化学研磨する。
【選択図】 図7
Description
この発明は、表示パネルの製造方法に関する。
一般に、表示パネルとして液晶表示パネルを用いた様々な機器が供給されており、それらの機器の小型軽量化が求められている。液晶表示パネルは、アレイ基板と、このアレイ基板に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板と、これら両基板の間に挟持された液晶層と、を備えている。アレイ基板および対向基板は、それぞれガラス基板を備えている。機器の軽量化および薄膜化は、アレイ基板および対向基板を構成したガラス基板の厚みを薄くすることで実現できる。
液晶表示パネルを製造する場合、アレイ基板より寸法の大きいマザーガラス上にアレイパターンを形成し、対向基板より寸法の大きい他のマザーガラス上に所定パターンを形成した後、これらマザーガラスおよび他のマザーガラスを貼り合せることで製造される。
最初から薄いガラス基板を用いて液晶表示パネルを形成しようとする場合、薄いガラス基板は、取り扱いが難しく、液晶表示パネルの製造装置に対する制約が多くなる。特に、ガラス基板の厚みが薄くなるほど、反りやたわみ量、温度に対するガラス基板の変形のしやすさが増大し、液晶表示パネルの生産性が悪くなる。従って、液晶表示パネルを希望通りに薄くしようとする場合、コスト上昇を招く。
最初から薄いガラス基板を用いて液晶表示パネルを形成しようとする場合、薄いガラス基板は、取り扱いが難しく、液晶表示パネルの製造装置に対する制約が多くなる。特に、ガラス基板の厚みが薄くなるほど、反りやたわみ量、温度に対するガラス基板の変形のしやすさが増大し、液晶表示パネルの生産性が悪くなる。従って、液晶表示パネルを希望通りに薄くしようとする場合、コスト上昇を招く。
そこで、最近、上記したようにマザーガラス同士を貼り合わせた後、これらマザーガラスを機械研磨(メカニカルエッチング)や化学研磨(ケミカルエッチング)の手法により研磨して、薄型化した液晶表示パネルが開発されている(例えば、特許文献1、2参照)。この方法によれば、製造コストの上昇を招くことなく、液晶表示パネルの軽量化および薄型化を図ることが可能となる。
そして、アレイ基板の表面及び対向基板の表面間(液晶表示パネル)の厚みが所望の値となるよう研磨するものである。
特開2003−15111号公報
特開2003−43501号公報
そして、アレイ基板の表面及び対向基板の表面間(液晶表示パネル)の厚みが所望の値となるよう研磨するものである。
近年、研磨後の厚みが0.3mmtクラスの液晶表示パネルも開発され始めている。このように、液晶表示パネル(基板)の薄型化が進むと、基板強度が低下する。これに対して、アレイ基板の板厚及び対向基板の板厚のアンバランス化が実施され、アレイ基板の板厚を厚く仕上げている。これにより、製造工程、特に、セル工程及びモジュール実装工程での基板強度の確保を図ることができ、製造歩留まりを高くすることができる。
液晶表示パネルの厚みが0.3mmtまで薄くなると、対向基板の板厚は0.1mmtとなる。また、アレイ基板に実装されるICの高さ等を考慮すると、対向基板の板厚の下限値を設定する必要がある。しかしながら、液晶表示パネルの厚みを所望の値となるよう研磨する方法では、アレイ基板の板厚及び対向基板の板厚をそれぞれ所望の値となるよう研磨することが困難である。
このため、アレイ基板及び対向基板を、同一の時間、研磨する研磨工程において、アレイ基板の板厚と、対向基板の板厚とをそれぞれ所望の値となるよう研磨する研磨方法が望まれている。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、製造歩留まりの高い、軽量かつ薄型の表示パネルの製造方法を提供することにある。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、製造歩留まりの高い、軽量かつ薄型の表示パネルの製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明の態様に係る表示パネルの製造方法は、
アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
前記アレイ基板を形成する第1基板と、前記対向基板を形成する第2基板と、を用意し、
前記第1基板及び第2基板を接合し、
前記第1基板及び第2基板の一方の基板の前記第1基板及び第2基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第1基板及び第2基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第1基板及び第2基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第1基板の表面及び第2基板の表面を第1化学研磨し、
前記第1化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第1基板及び第2基板の厚みを算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定し、前記第1基板の表面及び第2基板の表面の少なくとも一方を第2化学研磨している。
アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
前記アレイ基板を形成する第1基板と、前記対向基板を形成する第2基板と、を用意し、
前記第1基板及び第2基板を接合し、
前記第1基板及び第2基板の一方の基板の前記第1基板及び第2基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第1基板及び第2基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第1基板及び第2基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第1基板の表面及び第2基板の表面を第1化学研磨し、
前記第1化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第1基板及び第2基板の厚みを算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定し、前記第1基板の表面及び第2基板の表面の少なくとも一方を第2化学研磨している。
また、本発明の他の態様に係る表示パネルの製造方法は、
アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
第1有効領域及び前記第1有効領域の外側に位置した第1非有効領域を有し、前記アレイ基板を形成する第1基板と、第2有効領域及び前記第2有効領域の外側に位置した第2非有効領域を有し、前記対向基板を形成する第2基板と、を用意し、
前記第1有効領域及び第2有効領域の周縁部に塗布した製品シール材と、前記第1非有効領域及び第2非有効領域に空気抜き口を設けて塗布した外周シール材により前記第1基板及び第2基板を互いに接合した後、前記空気抜き口をメインシール材により封止し、
前記第1基板及び第2基板の一方の基板の前記第1基板及び第2基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第1基板及び第2基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第1基板及び第2基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第1基板の表面及び第2基板の表面を第1化学研磨し、
前記第1化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第1基板及び第2基板の厚みを算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定し、前記第1基板の表面及び第2基板の表面の少なくとも一方を第2化学研磨している。
アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
第1有効領域及び前記第1有効領域の外側に位置した第1非有効領域を有し、前記アレイ基板を形成する第1基板と、第2有効領域及び前記第2有効領域の外側に位置した第2非有効領域を有し、前記対向基板を形成する第2基板と、を用意し、
前記第1有効領域及び第2有効領域の周縁部に塗布した製品シール材と、前記第1非有効領域及び第2非有効領域に空気抜き口を設けて塗布した外周シール材により前記第1基板及び第2基板を互いに接合した後、前記空気抜き口をメインシール材により封止し、
前記第1基板及び第2基板の一方の基板の前記第1基板及び第2基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第1基板及び第2基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第1基板及び第2基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第1基板の表面及び第2基板の表面を第1化学研磨し、
前記第1化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第1基板及び第2基板の厚みを算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定し、前記第1基板の表面及び第2基板の表面の少なくとも一方を第2化学研磨している。
この発明によれば、製造歩留まりの高い、軽量かつ薄型の表示パネルの製造方法を提供することができる。
以下、図面を参照しながら、この発明の表示パネルの製造方法を液晶表示パネルの製造方法に適用した実施の形態について詳細に説明する。
始めに、この製造方法によって製造される液晶表示パネルの構成を説明する。
始めに、この製造方法によって製造される液晶表示パネルの構成を説明する。
図1および図2に示すように、液晶表示パネル10は、アレイ基板11及び対向基板13を備えている。アレイ基板11は、透明な絶縁基板として、例えばガラス基板12を備えている。対向基板13は、透明な絶縁基板として、例えばガラス基板14を備えている。アレイ基板11及び対向基板13は、これら基板間に設けられた複数本の柱状スペーサ15により所定の隙間をおいて対向配置されている。
ガラス基板12上には、図示しない複数の走査線、複数の信号線、複数のスイッチング素子、複数の画素電極及び配向膜等のアレイパターンが形成され、アレイ基板11を構成している。また、ガラス基板14には、図示しない共通電極および配向膜等の特定パターンが形成され、対向基板13を構成している。
アレイ基板11および対向基板13は、これらの基板これらの周縁部に設けられた枠状の製品シール材16により接合されている。製品シール材16には液晶注入口18が形成されている。アレイ基板11、対向基板13及び製品シール材16によって囲まれた領域には、液晶が注入され、液晶層17を形成している。なお、液晶注入口18は、封止材19によって封止されている。アレイ基板11及び対向基板13の外面には、図示しない偏光板がそれぞれ配設されている。
アレイ基板11及び対向基板13は、矩形状に形成されている。アレイ基板11及び対向基板13は、各々の3辺がほぼ重なるように配置されている。アレイ基板11の残る一辺において、アレイ基板11は、対向基板13よりも外側へ延出している。対向基板13から外れたアレイ基板11上に、IC(集積回路)3が実装されている。
次に、上記形成された液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置について詳述する。
図3及び図6に示すように、まず、アレイ基板11より大きな寸法の透明な絶縁基板としてガラスからなる第1基板(以下、マザーガラスと称する)2を用意する。マザーガラス2は、矩形状に形成されている。マザーガラス2の1つの角部にはオリフラ部2aが形成されている。オリフラ部2aは、例えば、マザーガラス2の角部を三角形状に分断することで形成されている。分断された分断部において、直角を共有する2辺の長さLは10mmである。
図3及び図6に示すように、まず、アレイ基板11より大きな寸法の透明な絶縁基板としてガラスからなる第1基板(以下、マザーガラスと称する)2を用意する。マザーガラス2は、矩形状に形成されている。マザーガラス2の1つの角部にはオリフラ部2aが形成されている。オリフラ部2aは、例えば、マザーガラス2の角部を三角形状に分断することで形成されている。分断された分断部において、直角を共有する2辺の長さLは10mmである。
この実施の形態において、マザーガラス2は、2枚のアレイ基板11を形成するための2つの有効領域R1と、これら有効領域の周囲に位置した非有効領域R2とを有している。マザーガラス2の板厚T1は、0.7mmである。続いて、マザーガラス2上の各有効領域R1に、アレイパターンおよび複数本の柱状スペーサ15(図1)を形成する。これにより、2枚分のアレイ基板11がマザーガラス2を用いて形成される。
図4及び図6に示すように、対向基板13より大きな寸法の透明な絶縁基板としてガラスからなる第2基板(以下、マザーガラスと称する)4を用意する。マザーガラス4は、矩形状に形成されている。マザーガラス4は、マザーガラス2と同一のガラス材で形成されている。なお、マザーガラス4は、オリフラ部を有していない。
マザーガラス4は、有効領域R1にそれぞれ対応した2つの有効領域R3と、有効領域R3の周囲に位置した非有効領域R4とを有している。マザーガラス4の板厚T2は、0.5mmである。マザーガラス4の各有効領域R3に、共通電極および配向膜等の特定パターンを形成する。これにより、2枚分の対向基板13がマザーガラス4を用いて形成される。
次に、図3乃至図6に示すように、マザーガラス2の周縁部に空気抜き口8を有した外周シール材6を塗布するとともに、各有効領域R1の周縁部に液晶注入口18を有した製品シール材16を塗布する。その後、有効領域R1、R3の表示領域同士が対向するようにマザーガラス2及びマザーガラス4を配置する。
続いて、マザーガラス2及びマザーガラス4を加圧して、両マザーガラスを外周シール材6及び製品シール材16により貼り合わせるとともに、空気抜き口8を通して両マザーガラス間の空気を排出する。次いで、外周シール材6及び製品シール材16を硬化し、その後、メインシール材として、例えばエポキシ樹脂系からなる封止材9により空気抜き口8を封止する。上記した工程により、2枚のマザーガラス2、4が固着され、2組の空の液晶表示パネルを有した液晶表示セル1が完成する。
次いで、オリフラ部2a近傍のマザーガラス4上に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部として、塩ビ板(塩化ビニル板)5を設ける。より詳しくは、塩ビ板5は、マザーガラス2と対向したマザーガラス4の面上に設けられている。マザーガラス2、4の平面に平行な方向において、塩ビ板5は、マザーガラス2から外れている。塩ビ板5は、所定の厚みT3(例えば、2mm)を有している。
塩ビ板5を設ける際、例えば、熱硬化型樹脂を用いてマザーガラス4上に塩ビ板5を接着する。ここで用いた熱硬化型樹脂は、加熱することで粘着力が低下するタイプの樹脂である。
続いて、マイクロメータを使用し、液晶表示セル1の厚みを測定する。測定する際、マザーガラス4及び塩ビ板5の総厚みT4と、液晶表示セル1(マザーガラス2の表面及びマザーガラス4の表面間)の厚みT5とを測定する。
次に、製造装置20を用いて液晶表示セル1を化学研磨する。
図7に示すように製造装置20は、化学研磨室としての研磨チャンバ21を有している。この研磨チャンバ21は、液晶表示セル1やエッチング液31等を収容する研磨室として機能する。研磨チャンバ21内には、液晶表示セル1を化学研磨する化学研磨部30及び化学研磨を行った後に液晶表示セルを洗浄する洗浄部50が設けられている。
図7に示すように製造装置20は、化学研磨室としての研磨チャンバ21を有している。この研磨チャンバ21は、液晶表示セル1やエッチング液31等を収容する研磨室として機能する。研磨チャンバ21内には、液晶表示セル1を化学研磨する化学研磨部30及び化学研磨を行った後に液晶表示セルを洗浄する洗浄部50が設けられている。
化学研磨部30は、化学研磨液として、例えばフッ酸を含有するエッチング液31を収容した液槽32と、液晶表示セル1を支持しエッチング液31に浸漬させる基板支持機構としてのキャリア33とを有している。
洗浄部50は、液晶表示セル1の表面に付着した溶液を洗浄するための洗浄装置51を有している。
洗浄部50は、液晶表示セル1の表面に付着した溶液を洗浄するための洗浄装置51を有している。
次に、上記のように構成された製造装置20によって研磨される液晶表示セル1の研磨方法について詳述する。
まず、前述した工程により製造された液晶表示セル1を複数用意し、複数の液晶表示セル1を研磨チャンバ21内に搬入する。なお、図7に示した液晶表示セル1は、便宜上、マザーガラス2、4及び塩ビ板5のみ示している。また、研磨チャンバ21内に搬入された液晶表示セル1において、塩ビ板5は、1つの液晶表示セル1にのみ設けられている。残りの液晶表示セル1は、塩ビ板5を設けない構成としている。
まず、前述した工程により製造された液晶表示セル1を複数用意し、複数の液晶表示セル1を研磨チャンバ21内に搬入する。なお、図7に示した液晶表示セル1は、便宜上、マザーガラス2、4及び塩ビ板5のみ示している。また、研磨チャンバ21内に搬入された液晶表示セル1において、塩ビ板5は、1つの液晶表示セル1にのみ設けられている。残りの液晶表示セル1は、塩ビ板5を設けない構成としている。
化学研磨部30において、キャリア33により搬入された複数の液晶表示セル1全体をエッチング液31に同時に浸漬する。そして、所定時間、第1化学研磨する。これにより、マザーガラス2の表面及びマザーガラス4の表面は化学的に研磨される。言うまでもないが、塩ビ板5は化学的に研磨されない。続いて、複数の液晶表示セル1をエッチング液31から取り出した後、洗浄部50に搬送して洗浄する。
洗浄部50で洗浄する際は、洗浄装置51を用いて液晶表示セル1表面に付着したエッチング液31を除去する。その後、複数の液晶表示セル1を研磨チャンバ21外側に搬出する。なお、第1化学研磨後、複数の液晶表示セル1を洗浄せずに研磨チャンバ21外側に搬出しても良い。
図8に示すように、次いで、第1化学研磨された複数の液晶表示セル1のうち、塩ビ板5が設けられた液晶表示セル1の厚みを測定する。測定する際、マイクロメータを使用し、第1化学研磨されたマザーガラス4及び塩ビ板5の総厚みTa4と、第1化学研磨された液晶表示セル1の厚みTa5とを測定する。
そして、総厚みT4及び総厚みTa4の値を基に、第1化学研磨後のマザーガラス4の板厚Ta2を算出し、マザーガラス4の研磨量を算出する。さらに、マザーガラス4の研磨量及び第1化学研磨の時間を基に、第1化学研磨によるマザーガラス4の研磨速度を算出する。
また、板厚Ta2及び厚みTa5の値を基に、第1化学研磨後のマザーガラス2の板厚Ta1を算出し、マザーガラス2の研磨量を算出する。さらに、マザーガラス2の研磨量及び第1化学研磨の時間を基に、第1化学研磨によるマザーガラス2の研磨速度を算出する。
なお、マザーガラス2及びマザーガラス4は、同一のガラス材で形成されているが、これらの研磨速度に誤差が生じる恐れがある。このため、上記したように、マザーガラス4の研磨速度とは別にマザーガラス2の研磨速度を算出している。
次いで、マザーガラス2の研磨速度及びマザーガラス4の研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定する。これにより、マザーガラス2、4のそれぞれの最終板厚を制御することが可能となる。
続いて、複数の液晶表示セル1を研磨チャンバ21内に再び搬入する。化学研磨部30において、キャリア33により搬入された複数の液晶表示セル1全体をエッチング液31に同時に浸漬する。そして、設定された時間、第2化学研磨する。これにより、マザーガラス2の表面及びマザーガラス4の表面は化学的に研磨される。第2化学研磨終了後、複数の液晶表示セル1をエッチング液31から取り出す。
なお、第1化学研磨により、マザーガラス2及びマザーガラス4の一方のマザーガラスが所望の最終板厚となった場合、第2化学研磨において、エッチング液31に他方のマザーガラスを浸漬し、他方のマザーガラスの表面を化学的に研磨すれば良い。
上記したことから、マザーガラス2、4は、それぞれ所望の最終板厚となる。この実施の形態において、マザーガラス2の最終板厚は0.3mmとなり、マザーガラス4の最終板厚は0.1mmとなる。このため、軽量、かつ薄型の複数の液晶表示セル1が得られる。
続いて、複数の液晶表示セル1を洗浄部50に搬送して洗浄する。洗浄部50で洗浄する際は、洗浄装置51を用いて液晶表示セル1表面に付着したエッチング液31を除去する。その後、複数の液晶表示セル1を研磨チャンバ21外側に搬出する。
次いで、塩ビ板5が設けられた液晶表示セル1において、液晶表示セル1から塩ビ板5を除去する。除去する際、塩ビ板5を接着させるために使用した熱硬化型樹脂を加熱することにより、塩ビ板5を容易に除去することができる。なお、この実施の形態の製造工程において、液晶表示セル1から塩ビ板5を除去したが、これに限らず、液晶表示セル1から塩ビ板5を除去しなくとも良い。
続いて、マザーガラス2、4を有効領域R1、R3の周縁に位置したスクライブラインeに沿って分割する。これにより、各液晶表示セル1から2組の空状態の液晶表示セルが得られる。その後、真空注入により、液晶表示セルの液晶注入口18から液晶を注入し、液晶注入口18を封止材19によって封止する。これにより、アレイ基板11および対向基板13の間に液晶が封入され液晶層17が形成される。
続いて、アレイ基板11および対向基板13の外面に、それぞれ偏光板を配置することにより、液晶表示パネル10が完成する。完成した液晶表示パネル10のアレイ基板11上にはIC3が実装される。
以上のように構成された液晶表示パネルの製造方法によれば、マザーガラス4上には、エッチング液31による化学研磨の影響を受けない塩ビ板5を設けている。塩ビ板5が設けられた液晶表示セル1を第1化学研磨し、総厚みTa4と、厚みTa5とを測定している。これにより、マザーガラス2の板厚Ta1、マザーガラス2の研磨速度、マザーガラス4の板厚Ta2、マザーガラス4の研磨速度を算出することができる。
そして、マザーガラス2の研磨速度及びマザーガラス4の研磨速度を基に、第2化学研磨の時間を設定している。これにより、マザーガラス2、4の板厚を所望の最終板厚とすることができる。
また、上述した化学研磨の工程は容易であるため、液晶表示パネルの大量製造が容易となる。マザーガラス2、4を接合した後、化学研磨して薄型化する手法を採るため、ガラス板の取扱いが容易であり、製造コスト上昇を抑制できる。
また、上述した化学研磨の工程は容易であるため、液晶表示パネルの大量製造が容易となる。マザーガラス2、4を接合した後、化学研磨して薄型化する手法を採るため、ガラス板の取扱いが容易であり、製造コスト上昇を抑制できる。
上記したことから、製造歩留まりの高い液晶表示パネルの製造方法を得ることができる。これにより、表示品位に優れ、軽量かつ薄型の液晶表示パネルを得ることができる。
なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
例えば、化学研磨する際、複数の液晶表示セル1を第1化学研磨及び第2化学研磨したが、これに限らず、1つの液晶表示セル1のみを第1化学研磨及び第2化学研磨しても良い。複数の液晶表示セル1をエッチング液31に同時に浸漬する際、複数の液晶表示セル1の少なくとも1つの液晶表示セル1に塩ビ板5が設けられていれば良い。
マザーガラス4にオリフラ部が形成され、マザーガラス2にオリフラ部が形成されていなくとも良い。この場合、マザーガラス4のオリフラ部近傍のマザーガラス2上に、塩ビ板5を設ければ良い。より詳しくは、塩ビ板5は、マザーガラス4と対向したマザーガラス2の面上に設けられている。マザーガラス2、4の平面に平行な方向において、塩ビ板5は、マザーガラス4から外れている。
上記形状保持部は、塩ビ板5に限定されるものではなく、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない部材で形成されていれば良い。
上記形状保持部は、塩ビ板5に限定されるものではなく、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない部材で形成されていれば良い。
上記液晶表示セル1は、2組の空の液晶表示パネルを有しているが、これに限らず、1組又は3組以上の空の液晶表示パネルを有していても良い。
この発明は、液晶表示パネルの製造方法に限らず、有機EL表示パネルの製造方法等、他の表示パネルの製造方法にも適用することができる。
この発明は、液晶表示パネルの製造方法に限らず、有機EL表示パネルの製造方法等、他の表示パネルの製造方法にも適用することができる。
1…液晶表示セル、2…マザーガラス、2a…オリフラ部、3…IC、4…マザーガラス、5…塩ビ板、6…外周シール材、8…空気抜き口、9…封止材、10…液晶表示パネル、11…アレイ基板、12…ガラス基板、13…対向基板、14…ガラス基板、15…柱状スペーサ、16…製品シール材、17…液晶層、18…液晶注入口、19…封止材、20…製造装置、21…研磨チャンバ、30…化学研磨部、31…エッチング液、32…液槽、R1,R3…有効領域、R2,R4…非有効領域、T1,T2,Ta1,Ta2…板厚、T3,T4,T5,Ta4,Ta5…厚み。
Claims (5)
- アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
前記アレイ基板を形成する第1基板と、前記対向基板を形成する第2基板と、を用意し、
前記第1基板及び第2基板を接合し、
前記第1基板及び第2基板の一方の基板の前記第1基板及び第2基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第1基板及び第2基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第1基板及び第2基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第1基板の表面及び第2基板の表面を第1化学研磨し、
前記第1化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第1基板及び第2基板の厚みを算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定し、前記第1基板の表面及び第2基板の表面の少なくとも一方を第2化学研磨する表示パネルの製造方法。 - 前記第1化学研磨及び第2化学研磨する際、前記第1基板及び第2基板をフッ酸が含有された化学研磨液に浸漬する請求項1に記載の表示パネルの製造方法。
- 前記形状保持部として塩化ビニル板を用いる請求項1又は2に記載の表示パネルの製造方法。
- 前記第1基板及び第2基板としてガラス基板を用いる請求項1乃至3の何れか1項に記載の表示パネルの製造方法。
- アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
第1有効領域及び前記第1有効領域の外側に位置した第1非有効領域を有し、前記アレイ基板を形成する第1基板と、第2有効領域及び前記第2有効領域の外側に位置した第2非有効領域を有し、前記対向基板を形成する第2基板と、を用意し、
前記第1有効領域及び第2有効領域の周縁部に塗布した製品シール材と、前記第1非有効領域及び第2非有効領域に空気抜き口を設けて塗布した外周シール材により前記第1基板及び第2基板を互いに接合した後、前記空気抜き口をメインシール材により封止し、
前記第1基板及び第2基板の一方の基板の前記第1基板及び第2基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第1基板及び第2基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第1基板及び第2基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第1基板の表面及び第2基板の表面を第1化学研磨し、
前記第1化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第1基板及び第2基板の厚みを算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第1基板の研磨速度及び第2基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第2化学研磨の時間を設定し、前記第1基板の表面及び第2基板の表面の少なくとも一方を第2化学研磨する表示パネルの製造方法。
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---|---|---|---|
JP2007222731A JP2009053626A (ja) | 2007-08-29 | 2007-08-29 | 表示パネルの製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2009053626A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013231858A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Panasonic Corp | 表示装置の製造方法 |
KR101370034B1 (ko) * | 2012-11-30 | 2014-03-06 | 주식회사 나래나노텍 | 합착 기판 두께 측정 장치 및 방법, 및 이를 구비한 기판 합착 장치 및 방법 |
-
2007
- 2007-08-29 JP JP2007222731A patent/JP2009053626A/ja active Pending
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KR101370034B1 (ko) * | 2012-11-30 | 2014-03-06 | 주식회사 나래나노텍 | 합착 기판 두께 측정 장치 및 방법, 및 이를 구비한 기판 합착 장치 및 방법 |
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