TWI650296B - 玻璃薄膜疊層體之製造方法、玻璃薄膜疊層體、電子裝置之製造方法 - Google Patents

玻璃薄膜疊層體之製造方法、玻璃薄膜疊層體、電子裝置之製造方法 Download PDF

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Abstract

提供謀求提升玻璃薄膜之處理性，並且實現提升玻璃薄膜之產出率及良品率之玻璃薄膜疊層體及玻璃薄膜疊層體之製造方法。
係在支撐玻璃(12)上疊層玻璃薄膜(10)而製作出的玻璃薄膜疊層體(1)之製造方法，具備：對玻璃薄膜(10)和支撐玻璃(12)之至少周邊部(10d、12d)施加超音波US之超音波施加工程(STEP-1-1)，和洗淨經超音波施加工程(STEP-1-1)之玻璃薄膜(10)和支撐玻璃(12)的洗淨工程(STEP-1-2)，和在經洗淨工程(STEP-1-2)之支撐玻璃(12)上疊層玻璃薄膜(10)而製作玻璃薄膜疊層體(1)之疊層工程(STEP-1-3)。

Description

玻璃薄膜疊層體之製造方法、玻璃薄膜疊層體、電子裝置之製造方法
本發明係關於玻璃薄膜疊層體之製造方法、玻璃薄膜疊層體、電子裝置之製造方法的技術。
從省空間化之觀點來看，近年來液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器等之平面顯示器普及，以取代以往普及的CRT型顯示器。
然後，在該些平面顯示器中，存在更薄型化之需求。
近年來，平面顯示器等之裝置所使用之基板或蓋玻璃，朝實現更薄型化和高可撓性之需求提高。
為了對玻璃基板賦予可撓性，使玻璃基板薄化為有效，在下述專利文獻1中提案有厚度為200μm以下之玻璃薄膜。
對平面顯示器或太陽電池等之電子裝置所使用之玻璃基板進行加工處理或洗淨處理等之各種製造關連處理。然而，當使該些電子裝置所使用之玻璃基板薄化時，因玻璃為脆性材料，故由於多多少少的應力變化導致 破損，於進行上述各電子裝置之製造關連處理之時，有非常難以處理之問題。
除此之外，厚度為200μm以下之玻璃薄膜由於具有豐富可撓性，故於進行處理之時，也有難以進行定位，於圖案製作時會產生偏離等之問題。
再者，為了提升薄化之玻璃薄膜之處理性，在下述專利文獻1中，提案有使玻璃薄膜疊層在支撐玻璃上之玻璃薄膜疊層體。
若藉由如此之玻璃薄膜疊層體時，由於即使單體使用無強度或剛性之玻璃薄膜，支撐玻璃之剛性亦高，故於處理時玻璃薄膜疊層體全體容易定位。
再者，於處理結束後，可從支撐玻璃剝離玻璃薄膜。
若將玻璃薄膜疊層體之厚度設成與以往之玻璃基板之厚度相同時，亦可共用以往之玻璃基板用之電子裝置製造生產線，製造電子裝置。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2011-183792號公報
使用專利文獻1所示之玻璃薄膜疊層體而製 造液晶面板等之電子裝置之時，一般存在有對玻璃薄膜疊層體塗佈光阻液之工程(光阻工程)。然後，在光阻工程中，被塗佈在玻璃薄膜疊層體之光阻液藉由感光、加熱、乾燥等之手法被固化。
再者，在專利文獻1所示之以往之玻璃薄膜疊層體1中，如圖16所示般，有在玻璃薄膜10和成為支撐體11之支撐玻璃12之界面13形成氣泡14之情形。然後，其氣泡14，有以在玻璃薄膜10之外周緣與大氣連通之型態而被形成者。並且，在下述中，將如此之氣泡14規定成稱為開孔氣泡14a。
然後，在界面13存在有開口氣泡14a之玻璃薄膜疊層體1中，有在光阻工程中塗佈的光阻液進入開口氣泡之問題。
再者，進入開口氣泡14a之光阻液雖然之後被固化，但有藉由其固化之光阻液，存在開口氣泡14a之部位的玻璃薄膜10和支撐玻璃12固定之問題。
而且，以光阻液固定之玻璃薄膜疊層體1當分離支撐玻璃12和玻璃薄膜10時，其固定部位不會順利剝離，導致玻璃薄膜10破損，使得玻璃薄膜10之產出率惡化，並且從玻璃薄膜疊層體1所取得之玻璃薄膜10之良品率也惡化之問題。
在此，以藉由防止由於光阻液使得支撐玻璃和玻璃薄膜之固定，抑制玻璃薄膜之剝離時的破損產生，來謀求玻璃薄膜之產出率及良品率提升為佳。
本發明係鑒於如此之現狀之課題而創作出，其目的為提供謀求提升玻璃薄膜之處理性，並且防止玻璃薄膜疊層體中之疊層界面產生開口氣泡，並實現玻璃薄膜之產出率及良品率之玻璃薄膜疊層體及玻璃薄膜疊層體之製造方法。
本發明之所欲解決之課題如上述，接著說明用以解決該課題之手段。
本案之第1發明為在支撐體上疊層玻璃薄膜而製作出的玻璃薄膜疊層體之製造方法，其特徵在於具備：對上述玻璃薄膜和上述支撐體之至少周邊部施加超音波之超音波施加工程；洗淨經上述超音波施加工程之上述玻璃薄膜和上述支撐體之洗淨工程；及在經上述洗淨工程之上述支撐體上疊層上述玻璃薄膜而製作玻璃薄膜疊層體之疊層工程。
本案之第2發明係以上述支撐體為支撐玻璃作為特徵。
本案之第3發明係以在上述超音波施加工程中，使用喇叭型超音波產生器而施加超音波作為特徵。
本案之第4發明係以在上述超音波施加工程中，使用喇叭型超音波產生器，僅對上述玻璃薄膜和上述支撐玻璃之上述周邊部施加超音波作為特徵。
本案之第5發明係以在上述超音波施加工程 中，將上述玻璃薄膜和上述支撐玻璃在超音波洗淨槽之內部浸漬於液體，並藉由上述超音波洗淨槽，對上述玻璃薄膜和上述支撐玻璃之全體施加超音波作為特徵。
本案之第6發明之發明係以更具備開口氣泡檢查工程，其係用以檢查有無存在於上述玻璃薄膜疊層體之上述玻璃薄膜和上述支撐玻璃之界面的氣泡，且該氣泡為與玻璃薄膜之端邊相接的開口氣泡作為特徵。
本案之第7發明係以在上述開口氣泡檢查工程中，更檢查與上述玻璃薄膜之周邊部對應之上述玻璃薄膜疊層體之周邊部中有無上述開口氣泡之外的氣泡作為特徵。
本案之第8發明係以上述玻璃薄膜疊層體之周邊部係從上述玻璃薄膜之端邊距離10mm以上的寬度作為特徵。
本案之第9發明係以上述玻璃薄膜疊層體之周邊部以外之氣泡之個數為0.1個/m2以上並且10000個/m2以下作為特徵。
本案之第10發明係直接疊層玻璃薄膜和支撐玻璃而製作的玻璃薄膜疊層體，其特徵在於：上述玻璃薄膜所有的端邊無間隙地與上述支撐玻璃相接。
本案之第11發明係以上述玻璃薄膜在從上述玻璃薄膜所有之端邊距離10mm以上之寬度上無間隙地與上述支撐玻璃相接作為特徵。
本案之第12發明係以上述玻璃薄膜疊層體之 上述玻璃薄膜和上述支撐玻璃無間隙地相接之部位以外之部分中的氣泡之個數為大於0.1個/m2以上並且10000個/m2以下。
本案之第13發明係以在上述支撐玻璃設置有薄膜層作為特徵。
本案之第14發明係一種電子裝置之製造方法，具有：在電子裝置製造關連處理前在支撐體上疊層玻璃薄膜而製作玻璃薄膜疊層體之疊層工程；藉由對上述玻璃薄膜疊層體中之上述玻璃薄膜進行電子裝置製造關連處理，在上述玻璃薄膜疊層體之上述玻璃薄膜上形成元件，並以密封基板密封上述元件而製作出之具有支撐體電子裝置之工程；及從上述支撐體剝離上述具有支撐體之電子裝置中之電子裝置製造關連處理後之上述玻璃薄膜而製造電子裝置之工程，其特徵在於：上述疊層工程藉由如請求項1~8中之任一項所記載之玻璃薄膜疊層體之製造方法，製作玻璃薄膜疊層體之工程。
就以本發明之效果而言，可達到以下所述之效果。
若藉由本案之第1發明時，可以防止在玻璃薄膜疊層體之周邊部產生開口氣泡之情形。
依此，可以防止於光阻工程之時，光阻液浸透於玻璃薄膜和支撐體之界面之情形，進而可以防止玻璃薄膜和支 撐體之固定而防止剝離時玻璃薄膜破損之情形。
若藉由本案之第2發明時，可以防止使用支撐玻璃當作支撐體之時，在玻璃薄膜疊層體之周邊部產生開口氣泡之情形。
若藉由本案之第3發明時，可以確實從玻璃薄膜及支撐體之周邊部除去通常成為開口氣泡之主要原因的異物。
若藉由本案之第4發明時，可以縮短除去成為開口氣泡之主要原因的異物所需之時間。
若藉由本案之第5發明時，可以確實從玻璃薄膜及支撐體之周邊部除去成為開口氣泡之主要原因的異物。
再者，藉由除去玻璃薄膜及支撐體之周邊部以外之部位的異物，可以提升玻璃薄膜之良品率。
若藉由本案之第6發明時，可以排除產生開口氣泡之玻璃薄膜疊層體。
依此，能夠提升製造關連處理後之玻璃薄膜之產出率。
若藉由本案之第7發明時，可以防止在檢查有無開口氣泡之後產生開口氣泡之情形。
依此，能夠確實地提升製造關連處理後之玻璃薄膜之產出率。
若藉由本案之第8發明時，可以防止在玻璃薄膜疊層體之周邊部產生開口氣泡之情形。
若藉由本案之第9發明時，可以邊抑制時間或費用，邊確實地抑制在較玻璃薄膜疊層體之周邊部更內側產生閉口氣泡。
若藉由本案之第10發明時，可以防止於光阻工程之時，光阻液浸透於玻璃薄膜和支撐體之界面之情形，進而可以防止玻璃薄膜和支撐體之固定而防止剝離時玻璃薄膜破損之情形。
若藉由本案發明之第11發明時，可以提升玻璃薄膜之產出率。
若藉由本案之第12發明時，可以邊抑制時間或費用，邊確實地抑制在較玻璃薄膜疊層體之周邊部更內側產生閉口氣泡。
若藉由本案發明之第13發明時，玻璃薄膜之剝離變得容易，可以提升玻璃薄膜之產出率。
若藉由本案發明之第14發明時，可以提升電子裝置之產出率。
1‧‧‧玻璃薄膜疊層體
1d‧‧‧周邊部
10‧‧‧玻璃薄膜
10c‧‧‧端邊
10d‧‧‧周邊部
12‧‧‧支撐玻璃
12d‧‧‧周邊部
14‧‧‧氣泡
14a‧‧‧開口氣泡
14b‧‧‧閉口氣泡
30‧‧‧喇叭型超音波產生器
31‧‧‧液體
32‧‧‧槽(超音波洗淨槽)
圖1為表示包含與本發明有關之玻璃薄膜疊層體之製造方法之電子裝置(玻璃薄膜)之製造方法的模式圖。
圖2為表示玻璃薄膜之製作方法(溢流下拉法)之模式圖。
圖3為玻璃薄膜疊層體之製作狀況的斜視模式圖。
圖4為用以說明玻璃薄膜和支撐玻璃之接合機構的模式圖，(a)為表示羥基的氫鍵結之狀況圖，(b)為表示水分子介於中間的氫鍵結之狀況圖。
圖5為表示與本發明有關之玻璃薄膜疊層體之另外實施型態的模式圖。
圖6為表示與本發明有關之玻璃薄膜疊層體之製造方法的流程圖。
圖7為表示與本發明有關之玻璃薄膜疊層體之構成構件之模式圖，(a)為表示玻璃薄膜之平面模式圖，(b)為表示支撐玻璃之平面模式圖。
圖8為表示與本發明有關之玻璃薄膜疊層體之模式圖，(a)為平面模式圖，(b)為側面模式圖。
圖9為表示與本發明有關之玻璃薄膜疊層體之製造方法中藉由喇叭型超音波產生氣施加超音波之狀態的斜視模式圖。
圖10為表示玻璃薄膜疊層體(在周邊部具有開口氣泡之狀態)之平面模式圖。
圖11為表示玻璃薄膜疊層體(在周邊部具有閉口氣泡之狀態)之平面模式圖。
圖12為表示與本發明有關之玻璃薄膜疊層體(在周邊部具有閉口氣泡之狀態)之平面模式圖。
圖13為表示與本發明有關之玻璃薄膜疊層體之一例的具有支撐玻璃之電子裝置的模式圖。
圖14為表示玻璃薄膜疊層體中光阻液對開口氣泡之 浸透狀況的平面模式圖。
圖15為表示確認與本發明有關之玻璃薄膜疊層體中之良品率之改善狀態的實驗結果之圖示。
圖16為表示以往之存在開口氣泡的玻璃薄膜疊層體之平面模式圖。
以下，針對與本發明有關之玻璃薄膜疊層體之較佳實施型態，一面參照圖面一面進行說明。
首先，針對與本發明之玻璃薄膜疊層體1之製造方法進行說明。
在與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，如圖1所示般，在第1工程中，藉由在支撐體11上疊層玻璃薄膜10，製作玻璃薄膜疊層體1。
玻璃薄膜10使用矽酸鹽玻璃、氧化矽玻璃，較佳使用硼矽酸玻璃，更佳為使用無鹼玻璃。
當玻璃薄膜10含有鹼成分時，在表面產生陽離子之脫落，產生所謂的吹鹼之現象，在構造上變粗。此時，當使玻璃薄膜10彎曲而使用時，由於經年劣化，有可能從變粗之部分破損。
並且，在此所指的無鹼玻璃係實質上不含鹼成分(鹼金屬氧化物)之玻璃，具體而言，鹼成分為3000ppm以下之玻璃。
在本發明所使用之無鹼玻璃之鹼成分之含有量較佳為 1000ppm以下，更佳為500ppm以下，更佳為300ppm以下。
玻璃薄膜10之厚度較佳為300μm以下，更佳為5~200μm，最佳為5~100μm。
依此，可以使玻璃薄膜10之厚度更薄，可以賦予適當之可撓性。
雖然使厚度更薄之玻璃薄膜10之處理性困難，並且有容易產生定位錯誤或圖案製作時之撓曲等之問題，但是藉由使用後述之支撐體11，可以容易進行圖案製作等之製造關連處理等。
並且，當玻璃薄膜10之厚度為5μm未滿時，玻璃薄膜10之強度容易不足，有從支撐體11難以剝離玻璃薄膜10之虞。
支撐體11若為可支撐玻璃薄膜10時，針對其材質，並不特別限定，可以使用合成樹脂板、天然樹脂板、木板、金屬板、玻璃板、陶瓷板、結晶化玻璃等之板狀體。再者，即使針對支撐體11之厚度也無特別限定，即使因應作為支撐體所選擇出之材質的剛性，適當選擇支撐體11之厚度亦可。於以改善玻璃薄膜10之處理為目的之時，即使使用PET薄膜等之樹脂薄膜亦可。並且，即使藉由在上述板狀體之表面，為了調整與玻璃薄膜10之黏接性或剝離性，適當設置後述之樹脂層，以當作支撐體11亦可。
以支撐體11使用支撐玻璃12為佳。依此， 因相對於電子裝置製造關連處理之時之熱處理或藥液處理、曝光處理等，玻璃薄膜10及支撐玻璃12其特性或形狀穩定，故可以維持玻璃薄膜疊層體1之穩定的疊層狀態。
支撐玻璃12與玻璃薄膜10相同，使用矽酸鹽玻璃、氧化矽玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃等。
針對支撐玻璃12，以使用與玻璃薄膜10在30~380℃之熱膨脹係數之差為5×10-7/℃以內之玻璃為佳。
然後，從抑制膨脹率之差的觀點來看，支撐玻璃12和玻璃薄膜10以使用具有相同組成之玻璃為最佳。
支撐玻璃12之厚度以400μm以上為佳。當支撐玻璃12之厚度為400μm未滿時，以單體處理支撐玻璃12之時，有在強度之面產生問題之虞。支撐玻璃12之厚度以400~700μm為佳，以500~700μm為最佳。
依此，可以支撐體玻璃112確實地支撐玻璃薄膜10，並且可有效果地抑制於從支撐玻璃12剝離玻璃薄膜10之時產生支玻璃薄膜10的破損。
並且，於後述光阻液之塗佈時(第3工程)等，在無圖示之中心上，載置玻璃薄膜疊層體1之時，支撐玻璃12之厚度即使為400μm未滿(例如，300μm等，與玻璃薄膜10相同之厚度)亦可。
本發明所使用之玻璃薄膜10及支撐玻璃12係以藉由下拉法而成形為佳，以溢流下拉法而成形為更佳。
尤其，圖2所示之溢流下拉法係於成形時玻璃板之兩面不與成形構件接觸之成形法，在所取得之玻璃板之兩面(透光面)難以產生傷痕，即使不研磨亦可取得高的表面品質。無論，本發明所使用之玻璃薄膜10及支撐玻璃12即使藉由浮式法或流孔下引法、轉出法、上拉法、再拉法等而成形者亦可。
在圖2所示之溢流下拉法中，從剖面為楔型之成形體20之下端部21流下之後的玻璃帶G一面藉由冷卻輥22限制寬方向之收縮，一面朝下方拉伸，使薄化至特定厚度。接著，藉由到達至上述特定厚度之玻璃帶G在無圖示之徐冷爐(退火器)漸漸冷卻，除去玻璃帶G之熱應變，並將玻璃帶G切斷成特定尺寸，各成形玻璃薄膜10及支撐玻璃12。
以下，針對採用支撐玻璃12當作支撐體11之實施型態，進行說明。針對支撐玻璃12之材質所引起之特有說明之處外的部分，可適當將支撐玻璃12更換成支撐體11。
如圖3所示般，在玻璃薄膜10設定有接觸面10a和有效面10b。
接觸面10a為與支撐玻璃12疊層之時，與該支撐玻璃12相對且接觸之側的面。
再者，有效面10b係與接觸面10a相反側之面，施有元件之形成等之製造關連處理之側的面。
再者，在支撐玻璃12設定有接觸面12a和搬 運面12b。
接觸面12a為與玻璃薄膜10疊層之時，與該玻璃薄膜10相對且接觸之側的面。
再者，搬運面12b係與接觸面12a相反側之面，即於玻璃薄膜疊層體1在搬運輥上被搬運之時，與該搬運輥相接之側的面。
在圖3中，雖然在支撐玻璃12上疊層略相同面積之玻璃薄膜10，但是支撐玻璃12被疊層成從玻璃薄膜10突出亦可。
此時，支撐玻璃12從玻璃薄膜10突出的突出量以0.5~10mm為佳，以0.5~1mm為更佳。
藉由減少支撐玻璃12之突出量，可以將玻璃薄膜10之有效面10b之面積確保更廣。
再者，在支撐玻璃12上疊層玻璃薄膜10之工程即使在減壓下進行亦可。依此，於疊層玻璃薄膜10和支撐玻璃12之時，可以降低產生在兩者間之氣泡。
玻璃薄膜10之接觸面10a和支撐玻璃12之接觸面12a之表面粗度Ra以2.0nm以下為佳。依此，因玻璃薄膜和支撐玻璃在平滑之表面彼此接觸，故密接性佳，即使不使用黏接劑，亦可緊固安穩地疊層玻璃薄膜和支撐玻璃。
由於無黏接劑緊固地疊層玻璃薄膜10和支撐玻璃12，故在本發明中所使用之玻璃薄膜10及支撐玻璃12之各接觸面10a、12a之表面粗度Ra以1.0nm以下為佳，以 0.5nm以下為更佳，以0.2nm以下為最佳。
在本實施型態中，玻璃玻璃10和支撐玻璃12互相接觸之側之面的表面粗度Ra各設為2.0nm以下，在第1工程中，疊層互相接觸之側之面之表面粗度Ra各為2.0nm以下之玻璃薄膜10和支撐玻璃12，而對支撐玻璃12緊固地固定玻璃薄膜10，依此製作出玻璃薄膜疊層體1。
當玻璃薄膜10和支撐玻璃12之各接觸面10a、12a之表面粗度Ra平滑化成2.0nm以下時，於該些兩個平滑之玻璃基板密接之情況下，玻璃基板彼此固定成無黏接劑可剝離之程度而成為玻璃薄膜疊層體1。該現象推測為藉由下述機構所引起。
可想像如圖4(a)所示般，藉由被形成在玻璃薄膜10之表面(接觸面10a)和支撐玻璃12之表面(接觸面12a)之羥基的氫鍵結而拉引。或是，可想像也有如圖4(b)般，藉由存在於玻璃薄膜10和支撐玻璃12之界面13之水分子介於其中而形成氫鍵結，玻璃薄膜10和支撐玻璃12互相固定之情形。
並且，在本實施型態中，雖然在支撐玻璃12上直接疊層玻璃薄膜10，但是如同圖5所示般，即使在支撐玻璃12上形成薄膜層15之後疊層玻璃薄膜10亦可。以薄膜層15使用ITO、ZrO2等之無機氧化物，或SiNx、TiN、CrN、TiAlN、AlCrN等之氮化物、Ti等之金屬、類鑽碳、TiC、WC等之碳化物、MgF2等之氟化物為佳。再者，此時，薄膜層15之表面粗度Ra依序分別為 2.0nm以下、1.0nm以下、0.5nm以下、0.2nm以下為佳。再者，薄膜層15即使不使用樹脂亦可，此時，因玻璃薄膜10最後被剝離，故被形成在支撐玻璃12上之薄膜層15以使用微黏接性者為佳。此時，可以使用聚乙烯，聚氯乙烯，聚對苯二甲酸乙酯，聚偏二氯乙烯，聚丙烯，聚乙烯醇，聚酯，聚碳酸酯，聚苯乙烯，聚丙烯腈，乙烯-乙酸乙烯酯共聚物，乙烯-乙烯醇共聚物，乙烯-甲基丙烯酸共聚物，尼龍，玻璃紙，聚矽氧烷樹脂等，薄膜層15針對材質本身具有黏接性之時即使僅使用基材亦可，即使使用基材之兩面另外塗佈黏接劑者亦可，即使無基材僅有黏接層亦可。
另外，玻璃薄膜10之有效面10b之表面粗度並不特別限定，由於在後述之第3工程中，進行元件之形成處理等，故表面粗度Ra以2.0nm以下為佳，以0.1nm以下為較佳，以0.5nm以下更佳，以0.2nm以下為最佳。支撐玻璃12之搬運面12b之表面粗度並不特別限定。
與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，如圖1及圖6所示般，在第1工程中，具有直接疊層玻璃薄膜10和支撐玻璃12而製作玻璃薄膜疊層體1之工程的疊層工程(STEP-1-3)之前，分別對玻璃薄膜10及支撐玻璃12施加超音波US之超音波施加工程(STEP-1-1)，洗淨除去附著於經超音波施加工程(STEP-1-1)之玻璃薄膜10及支撐玻璃12之異物的洗淨工程(STEP-1-2)之點具有特徵。
超音波施加工程(STEP-1-1)及洗淨工程(STEP-1-2)係用以防止在玻璃薄膜疊層體1之界面13產生開口氣泡之工程。
如圖16所示般，於疊層玻璃薄膜10和支撐玻璃12之時在界面13具有異物之時，藉由其異物，玻璃薄膜10和支撐玻璃12不會局部性地密接，有在玻璃薄膜疊層體1之界面13形成氣泡14之情形。
即是，若確實地除去玻璃薄膜10之接觸面10a及支撐玻璃12之接觸面12a中之異物時，則可以防止在界面13形成氣泡14。
如圖16所示般，氣泡14存在與玻璃薄膜10之端邊10c相接之氣泡14之開口氣泡14a，和不與玻璃薄膜10之端邊10c相接之氣泡14的閉口氣泡14b。
開口氣泡14a係指玻璃薄膜疊層體1中之玻璃薄膜10和支撐玻璃12之界面13之氣泡14中，與玻璃薄膜10之端邊10c相接之氣泡，與外部連通。
再者，閉口氣泡14b不與玻璃薄膜10之端邊10c相接，也不與外部連通。
在與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，如圖7(a)、(b)所示般對玻璃薄膜10及支撐玻璃12之各表面之至少周邊部10d、12d進行超音波施加工程(STEP-1-1)及洗淨工程(STEP-1-2)中之異物除去。
並且，玻璃薄膜10之周邊部10d如圖7(a)所示般，指從玻璃薄膜10之接觸面10a中之4個各端邊10c‧ 10c‧‧‧距離特定寬度L之範圍(畫有右上斜線之範圍)，支撐玻璃12之周邊部12d係如圖7(b)所示般，從支撐玻璃12之接觸面12a中之4個各端邊12c‧12c‧‧‧距離特定寬度M之範圍(畫有右下之斜線之範圍)。
然後，如圖8(a)所示般，將與周邊部10d、12d重疊之範圍(畫上斜線成為陰影狀的特定寬度N之範圍)規定成玻璃薄膜疊層體1中之周邊部1d。
並且，玻璃薄膜10之周邊部10d和支撐玻璃12之周邊部12d範圍不一定要完全一致，即使玻璃薄膜10之周邊部10d較支撐玻璃12之周邊部12d突出亦可，相反地，即使支撐玻璃12之周邊部12d較玻璃薄膜10之周邊部10d突出亦可。
存在於周邊部1d之異物，成為開口氣泡14d之主要原因的可能性特別高。再者，因存在於周邊10d、12d之異物而引起之閉口氣泡14b由於來自外部之應力時間經過變化等，產生位置偏移，而使得開口氣泡14a產生變化之可能性高。
即是，為了確實防止開口氣泡14a，也必須防止在周邊部1d形成閉口氣泡14b。
因此，在本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，藉由超音波施加工程(STEP-1-1)及洗淨工程(STEP-1-2)，確實除去存在於周邊部10d、12d之異物，成為在周邊部1d無異物之構成。然後，與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1被製作成在周邊部1d不存在開口氣泡14a，如 圖8(b)所示般，玻璃薄膜10之端邊10c‧10c‧‧‧無間隙地與支撐玻璃12之接觸面12a相接。
再者，以周邊部10d以外之閉口氣泡14b少為佳。
具體而言，氣泡之圓換算時直徑為5mm以上，但以10000個/m2以下為佳，以1000個/m2以下為較佳，以100個/m2以下為更佳，以10個/m2以下為最佳。
該係因進行元件(電子裝置)之製造關連處理等之時要求平滑性，故針對周邊部10d以外之閉口氣泡14b以較少為佳之故。
再者，周邊部10d以外之閉口氣泡14b之氣泡個數以0.1個/m2以上為佳。
該係因為當盡可能減少周邊部10d以外之閉口氣泡14b之個數時，洗淨等需要時間之故，玻璃薄膜疊層體之製作時，有成本上升之虞。周邊部10d以外之閉口氣泡14b氣泡個數以0.5個/m2以上為佳，以1個/m2以上為較佳，以2個/m2以上為更佳。
然後，與本實施型態有關之玻璃薄膜疊層體1中之周邊部1d之特定寬度N成為10mm，將與本發明有關之玻璃薄膜疊層體中之特定寬度設為10mm以上為佳。
該係因為產生在從玻璃薄膜10之端邊10c距離10mm未滿之位置的氣泡14，成為閉口氣泡14a之可能性特別高，再者，在其範圍產生之閉口氣泡14b由於來自外部之應力或時間經過變化等使得位置偏離，依此有可能使開口 氣泡14a產生變化之故。
並且，存在於從玻璃薄膜10之端邊10c距離10mm以上內側之異物難以成為開口氣泡14a之主要原因。
再者，在超音波施加工程(STEP-1-1)中施加超音波US之範圍即使為波及到較周邊部10d、12d(如圖7(a)、(b)所示之特定之寬度L或M之範圍)內測之範圍亦可，或即使對玻璃薄膜10及支撐玻璃12之全面(全範圍)施加超音波US亦可。
該係因為藉由除去存在於較周邊部10d、12d更內側之異物，可以有助於提升玻璃薄膜10之良品率之故。
再者，如圖9所示般，在與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之疊層方法中，作為對玻璃薄膜10及支撐玻璃12施加超音波US之手段，以使用喇叭型超音波產生器30之構成。
喇叭型超音波產生器30比起槽型之超音波產生器，以可以局部性施加更強之超音波US之點，適合用於除去附著於玻璃薄膜10及支撐玻璃12之表面的異物。尤其，於使用喇叭型超音波產生器30之時，可以除去在通常之擦洗中無法去除之附著於表面的玻璃粉等。
再者，喇叭型超音波產生器30因作業者可以進行一面選擇施加超音波US之場所一面進行掃描，故在玻璃薄膜10及支撐玻璃12中，可以優先選擇異物成為開口氣泡14a之主要原因之部位(即是，特定寬度L或M之範圍)而施加超音波US。
然後，若成為使用喇叭型超音波產生器30，僅對特定寬度L或M之範圍施加超音波US之構成時，可以謀求超音波US之施加作業所需之時間的短縮，並可以效率佳地防止開口氣泡14a之產生。
再者，在與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，在超音波施加工程(STEP-1-1)中，構成在對玻璃薄膜10及支撐玻璃12施加超音波US之時，將玻璃薄膜10及支撐玻璃12配置在放置有液體31之槽32之內部，在浸漬於液體31之狀態下對玻璃薄膜10及支撐玻璃12施加超音波US。
在本實施型態中，使用純水當作浸漬玻璃薄膜10及支撐玻璃12之液體31。就以浸漬玻璃薄膜10及支撐玻璃12之液體31，亦可使用純粹以外的液體，例如即使使用乙醇等亦可。
再者，在與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，使用超音波洗淨槽當作槽32，即使更具有超音波洗淨工程亦可。即是，以喇叭型超音波產生器30對玻璃薄膜10及支撐玻璃12施加超音波US之前後，或施加之途中，一起在槽(超音波洗淨槽)32對玻璃薄膜10及支撐玻璃12之全體施加超音波亦可。
若設為使用超音波洗淨槽，邊對玻璃薄膜10及支撐玻璃12之全體施加超音波，邊以喇叭型超音波產生器30對特定寬度L或M施加超音波之構成時，因不僅防止周邊部1d中之開口氣泡14a之產生，亦可以除去附 著於玻璃薄膜10及支撐玻璃12之全範圍的異物，故可謀求提升玻璃薄膜10之良品率。
如圖1及圖6所示般，與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，具備於製作玻璃薄膜疊層體1之後，作為檢查玻璃薄膜疊層體1之周邊部1d有無開口氣泡14a之第2工程的開口氣泡檢查工程(STEP-2)。
該開口氣泡檢查工程(STEP-2)中，當在圖10所示之周邊部1d存在氣泡14a之玻璃薄膜疊層體1當作不良品而排除。
就以氣泡檢查工程(STEP-2)而言，除了目視之檢查外，可以適當使用側光、顯微鏡、線攝像機等而使用光學性之檢查等。
即是，與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法更具備開口氣泡檢查工程(STEP-2)，其係檢查有無存在於玻璃薄膜疊層體1之玻璃薄膜10和支撐玻璃12之界面13之氣泡14，即是與玻璃薄膜10之端邊10c相接之開口氣泡14a。
藉由如此之構成，可以排除產生開口氣泡14a之玻璃薄膜疊層體1，再者藉由此，可以提升玻璃薄膜10之產出率。
再者，在與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，即使設為在開口氣泡檢查工程(STEP-2)中，不僅周邊部1d中之開口氣泡14a，亦檢查有無周邊部1d中之閉口氣泡14b的構成亦可。
閉口氣泡14b係在檢查時不與玻璃薄膜10之端邊10c相接，由於時間經過變化或外力等之影響，有可能移動至與端邊10c相接之位置，於檢查後有可能使開口氣泡14a變化者。
因此，在與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法中，設為在(STEP-2)中，將在如圖11所示之周邊部1d存在閉口氣泡14b之玻璃薄膜疊層體1也當作不良品而排除之構成。
另外，在開口氣泡檢查工程(STEP-2)中，針對在較圖12所示之周邊部1d更內側存在氣泡14(閉口氣泡14b)之玻璃薄膜疊層體1，當作良品處置。
並且，在開口氣泡檢查工程(STEP-2)判定成不良品之玻璃薄膜疊層體1係分離成玻璃薄膜10和支撐玻璃12，返回至第1工程，依此分別可以再利用。
在圖1所示之第3工程中，進行電子裝置製造關連處理。圖13為表示具有支撐玻璃之電子裝置40的圖示，但是在玻璃薄膜疊層體1之玻璃薄膜10上形成液晶或有機EL、太陽電池等之元件41。然後，如圖1所示般，於形成元件41之時，為了部分性保護元件41，對玻璃薄膜疊層體1塗佈光阻液42。其光阻液42藉由感光、乾燥、加熱等之手法而被固化。
此時，假設玻璃薄膜疊層體1如圖14所示般，為在其界面13存在開口氣泡14a之玻璃薄膜疊層體1時，在該開口氣泡14a浸透光阻液42，並藉由感光、乾 燥等之手法，之後被固化，玻璃薄膜10和支撐玻璃12被固定。因此，在前述之開口氣泡檢查工程(STEP-2)中，針對具有如此之開口氣泡14a之玻璃薄膜疊層體1，當作不良品被排除。
然後，以蓋玻璃43密封元件41，並且於液晶面板之時，施予液晶之注入(無圖示)等，形成具有支撐玻璃之電子裝置40。
並且，在圖13所示之型態中，雖然直接黏接蓋玻璃43和玻璃薄膜10，但是即使適當使用眾知之玻璃熔料或間隔物等而黏接蓋玻璃43和玻璃薄膜10亦可。
然後，作為元件41之密封所使用之密封基板，與上述玻璃薄膜10相同，使用由矽酸鹽玻璃、氧化矽玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃等所構成之蓋玻璃43。
針對蓋玻璃43，以使用與玻璃薄膜10在30~380℃之熱膨脹係數之差為5×10-7/℃以內之玻璃為佳。
依此，即使所製作出之電子裝置50之周邊環境之溫度變化，亦難以產生膨脹率之差所產生之熱翹曲或玻璃薄膜10及蓋玻璃43之裂紋等，成為難以破損之電子裝置50。
然後，從抑制膨脹率之差的觀點來看，支撐玻璃43和玻璃薄膜10以使用具有相同組成之玻璃為最佳。
玻璃薄膜43之厚度較佳為300μm以下，更佳為5~200μm，最佳為5~100μm。依此，可以使蓋玻璃43之厚度更薄，可以賦予適當之可撓性。
當蓋玻璃43之厚度未滿5μm時，有可能導致蓋玻璃43之強度不足。
接著，具有支撐玻璃之電子裝置40係在第4工程中，製作出玻璃薄膜10從支撐玻璃12被剝離，形成有元件41之態樣的玻璃薄膜10之電子裝置50。
與本發明有關之第4工程如同圖1所示般，將具有支撐玻璃之電子裝置40分離成電子裝置50(玻璃薄膜10)和支撐玻璃12之工程。
當從支撐玻璃12剝離電子裝置50之時，藉由一面在玻璃薄膜10和支撐玻璃12之界面13插入楔體(無圖示)，一面將玻璃薄膜10之端部拉至離開支撐玻璃12之方向，可以剝離電子裝置50(玻璃薄膜10)。
假設，在玻璃薄膜10和支撐玻璃12固定之圖14所示之玻璃薄膜疊層體1中，於玻璃薄膜10從支撐玻璃12剝離之時，應力集中於藉由光阻液42之固定部，以該固定部為起點，導致玻璃薄膜10破損之可能性變高。
另外，如與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1(參照圖8及圖12)般，在防止周邊部1d生成開口氣泡14a之態樣中，因不會有界面13浸透光阻液42之情形，故由於固化之光阻液42不會使玻璃薄膜10和支撐玻璃12固定，而且於剝離時，也不會有玻璃薄膜10破損之情形。
再者，如圖1所示般，在第4工程中剝離之 支撐玻璃12(支撐體11)返回第1工程，可以再利用於再次製作玻璃薄膜疊層體1。
然後，如與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法般，藉由設成抑制玻璃薄膜10之破損的構成，亦可以提升支撐玻璃12之再利用率，並可以有助於玻璃薄膜疊層體1之成本刪減。
如上述說明般，與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法係疊層玻璃薄膜10和支撐玻璃12而製作出之玻璃薄膜疊層體1之製造方法，具備對玻璃薄膜10和支撐玻璃12之至少周邊部10d、12d施加超音波US之超音波施加工程(STEP-1-1)，和洗淨經超音波施加工程(STEP-1-1)之玻璃薄膜10和支撐玻璃12之洗淨工程(STEP-1-2)，和疊層經洗淨工程(STEP-1-2)之玻璃薄膜10和支撐玻璃12而製作出玻璃薄膜疊層體1之疊層工程(STEP-1-3)。
藉由如此之構成，可以在防止在玻璃薄膜疊層體1之周邊部1d產生開口氣泡14a之情形。
依此，可以防止於光阻工程(第3工程)之時，光阻液42浸透於玻璃薄膜10和支撐玻璃12之界面13之情形，進而可以防止玻璃薄膜10和支撐玻璃12之固定而防止剝離時玻璃薄膜10破損之情形。
接著，針對確認與本發明有關之玻璃薄膜疊層體1之製造方法之效果的實驗結果進行說明。
在本實驗中，使用日本電氣硝子股份有限公司製作之 薄板玻璃(製品名：OA-10G)，將350mm×450mm×0.2mm當作玻璃薄膜使用，將360mm×460mm×0.5mm當作支撐玻璃使用。
然後，使用上述規格之玻璃薄膜及支撐玻璃，分別製作100片以任意比例混合與實施例1~實施例3有關之玻璃薄膜疊層體1，和與比較例1有關之玻璃薄膜疊層體1之合計4種類玻璃薄膜疊層體。
再者，各接觸面10a、12a之洗淨係藉由一面對玻璃薄膜10及支撐玻璃12沖洗添加有鹼性洗劑之洗淨液，一面以氨基甲酸乙酯製之海綿進行擦拭。
與實施例1有關之玻璃薄膜疊層體1係以喇叭型超音波產生器(前端面積20×80mm)僅對玻璃薄膜10及支撐玻璃12之各周邊部10d、12d施加30秒超音波(頻率25kHz)之後，洗淨各接觸面10a、12a，之後直接疊層而製作出。
然後，對與實施例1有關之玻璃薄膜疊層體1，藉由僅以界面13內之氣泡14之個數進行良否判定。
並且，在藉由界面13內之氣泡14之個數的檢查中，氣泡14之個數為100個/m2以下之時判定成良品(以下相同)。
再者，與實施例2有關之玻璃薄膜疊層體1係以喇叭型超音波產生器(同上)對玻璃薄膜10及支撐玻璃12之各接觸面10a、12a(全面)施加30秒超音波(頻率25kHz)之後，洗淨各接觸面10a、12a，之後直接疊層而製 作出。
然後，對與實施例2有關之玻璃薄膜疊層體1，藉由僅以界面13內之氣泡14之個數進行良否判定。
又，與實施例3有關之玻璃薄膜疊層體1係以喇叭型超音波產生器(同上)對玻璃薄膜10及支撐玻璃12之各接觸面10a、12a(全面)施加30秒超音波(頻率25kHz)之後，洗淨各接觸面10a、12a，之後直接疊層而製作出。
然後，對與實施例3有關之玻璃薄膜疊層體1，首先計數界面13內之氣泡14之個數，進行良否判定，並且藉由檢查周邊部1d(L=10mm)有無開口氣泡14a及閉口氣泡14b，又進行良否之判定。
另外，與比較例1有關之玻璃薄膜疊層體1不進行超音波之施加，僅進行各接觸面10a、12a之洗淨，之後直接疊層而製作出。然後，對與比較例1有關之玻璃薄膜疊層體1，藉由僅以界面13內之氣泡14之個數進行良否判定。
如此一來，於針對實施例1~實施例3及比較例1有關之各玻璃薄膜疊層體引起良否判定之情況下，於圖15表示整理成為最終製品之面板良品率之差異會成為如何之結果。
於與實施例1有關之玻璃薄膜疊層體1之情況下，僅以界面13有無氣泡14所判定之結果，在最終面板，產生1個不良品，最終面板良品率成為99%。
再者，於與實施例2有關之玻璃薄膜疊層體1之情況下，僅以界面13有無氣泡14所判定之結果，在最終面板，產生2個不良品，最終面板良品率成為98%。
又，於與實施例3有關之玻璃薄膜疊層體1之情況下，藉由界面13有無氣泡14，和周邊部1d有無開口氣泡14a及閉口氣泡14b而進行判定之結果，在最終面板不會產生不良品，最終面板良品率成為100%。
另外，於與實施例1有關之玻璃薄膜疊層體1之情況下，僅以界面13有無氣泡14所判定之結果，在最終面板，產生10個不良品，最終面板良品率成為89%。
然後，若藉由圖15所示之實驗結果時，如與實施例1~實施例3有關之各玻璃薄膜疊層體1．1．1般，可以確認出藉由對玻璃薄膜10及支撐玻璃12施加超音波US，並且可以於之後洗淨才開始製作玻璃薄膜疊層體1，比起不施加超音波US之情況(即是，於比較例1之情況下)，可以更多之最終面板良品片數。
再者，若藉由該實驗結果時，確認出如與實施例3有關之玻璃薄膜疊層體1般，在玻璃薄膜疊層體1之周邊部1d無開口氣泡14a及閉口氣泡14b，依此可以提升最終製品之產出率。

Claims (10)

  1. 一種玻璃薄膜疊層體之製造方法，係在支撐體上疊層玻璃薄膜而製作出的玻璃薄膜疊層體之製造方法，其特徵在於具備：對上述玻璃薄膜和上述支撐體之至少周邊部施加超音波之超音波施加工程；洗淨經上述超音波施加工程之上述玻璃薄膜和上述支撐體之洗淨工程；及在經上述洗淨工程之上述支撐體上疊層上述玻璃薄膜而製作玻璃薄膜疊層體之疊層工程，上述玻璃薄膜疊層體之周邊部係從上述玻璃薄膜之端邊距離10mm以上的寬度，上述玻璃薄膜疊層體之周邊部以外之氣泡之個數為0.1個/m2以上並且10000個/m2以下。
  2. 如請求項1所記載之玻璃薄膜疊層體之製造方法，其中上述支撐體為支撐玻璃。
  3. 如請求項1或2所記載之玻璃薄膜疊層體之製造方法，其中在上述超音波施加工程中，使用喇叭型超音波產生器而施加超音波。
  4. 如請求項3所記載之玻璃薄膜疊層體之製造方法，其中在上述超音波施加工程中，僅對上述玻璃薄膜和上述 支撐體之上述周邊部施加超音波。
  5. 如請求項2或4所記載之玻璃薄膜疊層體之製造方法，其中具有將上述玻璃薄膜和上述支撐體在超音波洗淨槽之內部浸漬於液體，並藉由上述超音波洗淨槽，對上述玻璃薄膜和上述支撐體之全體進行超音波洗淨之超音波洗淨工程。
  6. 如請求項2或4所記載之玻璃薄膜疊層體之製造方法，其中更具備開口氣泡檢查工程，其係用以檢查有無存在於上述玻璃薄膜疊層體之上述玻璃薄膜和上述支撐體之界面的氣泡，且該氣泡為與上述玻璃薄膜之端邊相接的開口氣泡。
  7. 如請求項6所記載之玻璃薄膜疊層體之製造方法，其中在上述開口氣泡檢查工程中，更檢查與上述玻璃薄膜之周邊部對應之上述玻璃薄膜疊層體之周邊部中有無上述開口氣泡之外的氣泡。
  8. 一種玻璃薄膜疊層體，係直接疊層玻璃薄膜和支撐玻璃而製作出之玻璃薄膜疊層體，其特徵在於：上述玻璃薄膜係在從上述玻璃薄膜所有之端邊距離10mm以上的寬度無間隙地與上述支撐玻璃相接，上述玻璃薄膜疊層體之上述玻璃薄膜和上述支撐玻璃無間隙地相接之部位以外之部分中的氣泡之個數為大於 0.1個/m2以上並且10000個/m2以下。
  9. 如請求項8所記載之玻璃薄膜疊層體，其中，在上述支撐玻璃設置有薄膜層。
  10. 一種電子裝置之製造方法，具有：在電子裝置製造關連處理前在支撐體上疊層玻璃薄膜而製作玻璃薄膜疊層體之疊層工程；藉由對上述玻璃薄膜疊層體中之上述玻璃薄膜進行電子裝置製造關連處理，在上述玻璃薄膜疊層體之上述玻璃薄膜上形成元件，並以密封基板密封上述元件而製作出之具有支撐體之電子裝置之工程；及從上述支撐體剝離上述具有支撐體之電子裝置中之電子裝置製造關連處理後之上述玻璃薄膜而製造電子裝置之工程，該電子裝置之製造方法之特徵在於：上述疊層工程係藉由如請求項1~7中之任一項所記載之玻璃薄膜疊層體之製造方法，製作玻璃薄膜疊層體之工程。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102609763B1 (ko) * 2017-12-22 2023-12-05 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 유리판의 제조 방법
EP3831792A4 (en) * 2018-08-02 2022-05-11 BYD Company Limited GLASS COMPOSITE, HOUSING, DISPLAY DEVICE AND TERMINAL DEVICE
KR20210129082A (ko) * 2019-02-28 2021-10-27 닛토덴코 가부시키가이샤 유리 필름
KR20220118994A (ko) * 2019-12-19 2022-08-26 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 유리 물품의 제조 방법 및 유리 물품
CN116457112A (zh) * 2020-11-26 2023-07-18 日本电气硝子株式会社 玻璃膜层叠体的制造方法以及玻璃板的清洗方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201206697A (en) * 2009-10-20 2012-02-16 Asahi Glass Co Ltd Glass laminate, glass laminate manufacturing method, display panel manufacturing method, and display panel obtained by means of display panel manufacturing method

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3002413B2 (ja) * 1995-11-29 2000-01-24 第一金属株式会社 金属材料の表面清浄化方法と装置
JPH1128432A (ja) * 1997-07-11 1999-02-02 Hitachi Ltd 超音波洗浄機
JP5109228B2 (ja) * 2005-02-08 2012-12-26 旭硝子株式会社 薄板ガラス積層体及び薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法
JP5029523B2 (ja) * 2008-07-14 2012-09-19 旭硝子株式会社 ガラス積層体、支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネル、表示装置およびこれらの製造方法
JP5594522B2 (ja) * 2009-07-03 2014-09-24 日本電気硝子株式会社 電子デバイス製造用ガラスフィルム積層体
US9847243B2 (en) * 2009-08-27 2017-12-19 Corning Incorporated Debonding a glass substrate from carrier using ultrasonic wave
KR20120099018A (ko) * 2009-10-20 2012-09-06 아사히 가라스 가부시키가이샤 유리 적층체, 지지체를 구비한 표시 장치용 패널, 표시 장치용 패널, 표시 장치 및 이들의 제조 방법
WO2011065336A1 (ja) * 2009-11-24 2011-06-03 旭硝子株式会社 積層体の製造方法
WO2011086991A1 (ja) * 2010-01-12 2011-07-21 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルム積層体及びその製造方法並びにガラスフィルムの製造方法
JP5540835B2 (ja) * 2010-03-30 2014-07-02 富士通株式会社 洗浄システム及び洗浄方法
JP2013237159A (ja) * 2012-05-11 2013-11-28 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラスフィルム積層体及びその製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201206697A (en) * 2009-10-20 2012-02-16 Asahi Glass Co Ltd Glass laminate, glass laminate manufacturing method, display panel manufacturing method, and display panel obtained by means of display panel manufacturing method

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