WO2019189763A1 - 眼鏡レンズおよび眼鏡、ならびに眼鏡レンズの製造方法 - Google Patents

眼鏡レンズおよび眼鏡、ならびに眼鏡レンズの製造方法 Download PDF

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WO2019189763A1
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oxide layer
metal
pattern
spectacle lens
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PCT/JP2019/014001
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鈴木　慶一
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ホヤ レンズ タイランド リミテッド
鈴木　慶一
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    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
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    • G—PHYSICS
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    • B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
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    • G02C7/02—Lenses; Lens systems ; Methods of designing lenses
    • G02C7/021—Lenses; Lens systems ; Methods of designing lenses with pattern for identification or with cosmetic or therapeutic effects
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C2202/00—Generic optical aspects applicable to one or more of the subgroups of G02C7/00
    • G02C2202/16—Laminated or compound lenses

Definitions

  • the present invention relates to a spectacle lens, spectacles, and a method of manufacturing a spectacle lens.
  • Patent Document 1 discloses providing a semi-transmissive thin film in a dot shape on the lens surface.
  • Paragraph 0014 of Patent Document 1 describes that a semi-transmissive thin film (pattern layer) provided in a dot shape is formed using a metal oxide such as ZrO 2 .
  • a metal layer is suitable as a thin film for controlling light incident through the base material because a light diffraction effect can be effectively obtained.
  • a cured layer provided directly on the lens base material or indirectly through a primer or the like in order to improve the durability of the spectacle lens may be mentioned.
  • Such a hardened layer is generally called a hard coat layer.
  • the present inventor has studied to form a metal layer as a pattern layer on a lens substrate provided with a cured layer.
  • the spectacle lens thus manufactured has a problem of a decrease in transmittance due to optical defects such as scratches.
  • One embodiment of the present invention provides a spectacle lens having a metal pattern layer on a hardened layer provided on a lens base material, and the spectacle lens in which the occurrence of optical defects is suppressed is provided.
  • One embodiment of the present invention includes a pattern layer having a cured layer on a lens substrate, and having a stacked structure in which a plurality of layers are stacked on the cured layer, and the pattern layer is a surface of the cured layer.
  • the present invention relates to a spectacle lens including a metal oxide layer directly laminated on a metal layer, a metal layer, and a metal oxide layer located on the outermost layer of the pattern layer.
  • the pattern layer provided on the cured layer on the lens substrate includes a metal oxide layer adjacent to the cured layer, and a metal oxide layer located on the outermost layer of the pattern layer.
  • a metal layer is included between the oxide layers.
  • the metal oxide layer adjacent to the cured layer can enhance the adhesion between the cured layer and the pattern layer, which is considered to contribute to suppressing the occurrence of optical defects due to peeling of the pattern layer.
  • the metal oxide layer located at the outermost layer of the pattern layer contributes to preventing the deterioration of the metal layer and suppressing the generation of scratches on the surface of the pattern layer, and also suppressing the generation of optical defects. Inferred to be connected.
  • a spectacle lens having a pattern layer including a metal layer on a hardened layer provided on a lens substrate.
  • FIG. 1 is a plan view of a spectacle lens 1.
  • FIG. 2 is a part of an A-A ′ sectional view of the spectacle lens 1.
  • 2 is a cross-sectional view showing a layer configuration of a pattern layer 15 in the spectacle lens 1.
  • FIG. 5 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the spectacle lens 1.
  • FIG. It is process drawing of a resist pattern formation process (S2). It is a schematic diagram of the formation process (S3) of the continuous layer 22 which has a laminated structure. It is a part of sectional drawing of the spectacle lens 1 after a peeling process (S4). It is a schematic diagram of the processing apparatus 8 which can be used in a peeling process (S4).
  • the spectacle lens according to one embodiment of the present invention has a cured layer on a lens substrate, and has a pattern layer on the surface of the cured layer.
  • a layer continuously provided without an opening on the surface to be coated is a “continuous layer”.
  • a “pattern layer” is a discontinuous pattern including an opening on the surface to be coated. It is a layer provided.
  • a plan view of an example of a spectacle lens having such a pattern layer is shown in FIG.
  • the spectacle lens 1 has a pattern layer formed as a plurality of fine dots D, and a watermark mark M is formed by these dots D.
  • the mode shown in FIG. 1 is an exemplification, and the shape of the pattern layer, the arrangement of dots, and the like may be determined according to the purpose of providing the pattern layer, and are not limited to the mode shown in FIG.
  • FIG. 2 is a part of an A-A ′ sectional view of the spectacle lens 1 in FIG.
  • the spectacle lens 1 has a lens substrate 11, and has a cured layer 13, a pattern layer 15, an antireflection layer 17, and a water repellent layer 19 in this order on the surface of the lens substrate 11.
  • the pattern layer 15 includes a plurality of openings 20 and is a layer provided discontinuously on the surface of the hardened layer 13.
  • the configuration of the spectacle lens shown in FIG. 1 is an exemplification, and the spectacle lens according to one embodiment of the present invention has a cured layer on a lens substrate, and has a pattern layer described in detail below on the surface of the cured layer. Anything is acceptable.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing the layer configuration of the pattern layer 15 in the spectacle lens 1.
  • the pattern layer 15 includes a first metal oxide layer 15a directly stacked on the surface 113 of the hardened layer 13, and a metal directly stacked on the surface of the first metal oxide layer 15a.
  • This is a pattern layer having a three-layer structure including a layer 15b and a second metal oxide layer 15c directly stacked on the surface of the metal layer 15b.
  • the pattern layer in the spectacle lens according to one embodiment of the present invention is such that the layer adjacent to the hardened layer and the outermost layer are metal oxide layers, and the metal layer is located between these metal oxide layers. What is necessary is just and it is not limited to what has the laminated structure which consists of said 3 layers.
  • the pattern layer may include two or more metal layers, and includes one or more metal oxide layers in addition to the first metal oxide layer and the second metal oxide layer. May be.
  • the metal oxide layer can have, for example, a laminated structure of about 3 to 7 layers composed of a metal layer and a metal oxide layer.
  • the lens substrate various lens substrates generally used for spectacle lenses can be used.
  • the lens substrate can be, for example, a plastic lens substrate or a glass lens substrate.
  • the glass lens substrate can be, for example, a lens substrate made of inorganic glass.
  • a plastic lens base material is preferable from the viewpoint of being lightweight and difficult to break.
  • Plastic lens base materials include (meth) acrylic resins and other styrene resins, polycarbonate resins, allyl resins, allyl carbonate resins such as diethylene glycol bisallyl carbonate resin (CR-39), vinyl resins, polyester resins, and polyether resins.
  • cured material (it is generally called transparent resin) which hardened the curable composition to contain can be mentioned.
  • the curable composition can also be referred to as a polymerizable composition.
  • an unstained one may be used, or a dyed one (stained lens) may be used.
  • the refractive index of the lens substrate can be, for example, about 1.60 to 1.75.
  • the refractive index of the lens base material is not limited to the above range, and may be within the above range or vertically away from the above range.
  • a refractive index shall mean the refractive index with respect to the light of wavelength 500nm.
  • the lens substrate may be a lens having a refractive power (so-called prescription lens) or a lens having no refractive power (so-called prescription lens).
  • the spectacle lens may be various lenses such as a single focus lens, a multifocal lens, and a progressive power lens.
  • the type of lens is determined by the surface shape of both surfaces of the lens substrate.
  • both the object-side surface 111 and the eyeball-side surface 112 are illustrated as planes for the sake of explanation, but the lens substrate surface may be any one of a convex surface, a concave surface, and a flat surface.
  • the object-side surface is convex and the eyeball-side surface is concave.
  • the present invention is not limited to this.
  • the “object side surface” is a surface located on the object side when the spectacles equipped with spectacle lenses are worn by the wearer, and the “eye side surface” is the opposite, that is, spectacles equipped with spectacle lenses. Is a surface located on the eyeball side when worn by the wearer.
  • the spectacle lens has a cured layer obtained by curing the curable composition between the lens substrate and the pattern layer.
  • a hardened layer can be formed using the curable composition for forming the various hardened layers generally called a hard-coat layer.
  • the hardened layer reference can be made to paragraphs 0025 to 0028 and 0030 of JP2012-128135A, for example.
  • a curable composition containing a silane compound and metal oxide particles is applied to the surface of the lens substrate directly or indirectly through another layer to form a coating layer, and the cured layer is cured. It can be formed by curing (heating, light irradiation, etc.).
  • the primer layer reference can be made, for example, to paragraphs 0029 to 0030 of JP2012-128135A.
  • the spectacle lens has a pattern layer on the cured layer.
  • the pattern layer includes a metal layer.
  • the “metal layer” is a component selected from the group consisting of a simple metal element (pure metal) and an alloy of a plurality of metal elements (hereinafter also simply referred to as “metal”). It means a film formed by depositing by any film forming method, and is made of a metal except for impurities inevitably mixed during film forming and known additives optionally used to assist film forming. It is a membrane.
  • the metal layer can be, for example, a film that occupies 90 to 100% by mass of metal with respect to the mass of the film, and can also be a film that occupies 95 to 100% by mass of metal.
  • the metal element include transition elements such as chromium group elements (for example, chromium (Cr), molybdenum (Mo), tungsten (W)), iron group elements (for example, iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni)). ), Noble metal elements (for example, copper (Cu), silver (Ag), gold (Au)) and the like. From the viewpoints of transmittance, film stability, material availability, etc., a chromium group element is preferable, and chromium (Cr) is more preferable. That is, a preferred embodiment of the metal layer is a chromium layer.
  • the thickness of the metal layer is, for example, in the range of 1 to 100 nm, and preferably in the range of 1 to 50 nm.
  • the pattern layer includes the metal layer between the first metal oxide layer adjacent to the cured layer and the second outermost metal oxide layer.
  • the “metal oxide layer” means a film formed by depositing a metal oxide by an arbitrary film formation method, and impurities and film formation inevitably mixed during film formation. It is a film made of a metal oxide, except for known additives that are optionally used to assist.
  • the metal oxide layer may be a film in which, for example, 90 to 100% by mass of the metal oxide occupies the mass of the film, and may be a film in which 95 to 100% by mass of the metal oxide occupies.
  • the metal oxide layer examples include a silicon oxide layer, an aluminum oxide layer, a cerium oxide layer, a chromium oxide layer, a molybdenum oxide layer, a tungsten oxide layer, a zirconium oxide layer, a titanium oxide layer, a niobium oxide layer, a tin oxide layer, and an oxide.
  • a tantalum layer etc. can be mentioned.
  • the first metal oxide layer is a metal oxide layer directly laminated on the surface of the cured layer, and is preferably a silicon oxide layer from the viewpoint of improving the adhesion with the cured layer.
  • the film thickness of the first metal oxide layer is preferably in the range of 1 to 100 nm, and more preferably in the range of 1 to 50 nm, from the viewpoint of improving adhesion to the cured layer and transmittance.
  • the metal layer can be a layer directly stacked on the surface of the first metal oxide layer.
  • a 2nd metal oxide layer is located in the outermost layer of a pattern layer, and can be a layer laminated
  • the second metal oxide layer can play a role of protecting the metal layer in the pattern layer, and can also play a role of suppressing generation of scratches on the surface of the pattern layer.
  • the metal oxide layer located on the outermost layer is composed of a silicon oxide layer, an aluminum oxide layer, a cerium oxide layer, a chromium oxide layer, a molybdenum oxide layer, an oxidation layer.
  • a tungsten layer, a zirconium oxide layer, a titanium oxide layer, a niobium oxide layer, a tin oxide layer, and a tantalum oxide layer are preferable, and a silicon oxide layer is more preferable.
  • the film thickness of the metal oxide layer is preferably in the range of 1 to 100 nm, more preferably in the range of 1 to 50 nm, from the viewpoint of protection and transmittance of the metal layer.
  • the metal oxide constituting the above metal oxide layer may be in a stoichiometric composition, or may be in a state where oxygen is deficient or excessive from the stoichiometric composition. The same applies to the metal oxide layers when the pattern layer includes a metal oxide layer other than one layer in addition to the first metal oxide layer and the second metal oxide layer.
  • the eyeglass lens only needs to include at least the lens substrate, the cured layer, and the pattern layer described above, and can optionally include other layers other than one layer.
  • An example of a layer that can be optionally provided is an antireflection layer.
  • the antireflection layer can be a multilayer film having a laminated structure in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated.
  • “high” and “low” regarding “high refractive index” and “low refractive index” are relative notations. That is, the high refractive index layer is a layer having a higher refractive index than the low refractive index layer included in the same multilayer film.
  • the low refractive index layer refers to a layer having a refractive index lower than that of the high refractive index layer included in the same multilayer film.
  • the refractive index of the high refractive index material constituting the high refractive index layer is, for example, 1.60 or more (for example, in the range of 1.60 to 2.40), and the refractive index of the low refractive index material constituting the low refractive index layer. Can be, for example, 1.59 or less (eg, in the range of 1.37 to 1.59).
  • the expressions “high” and “low” regarding the high refractive index and the low refractive index are relative, so the refractive indexes of the high refractive index material and the low refractive index material are limited to the above ranges. It is not something.
  • the antireflection layer is preferably an inorganic multilayer film.
  • zirconium oxide for example, ZrO 2
  • tantalum oxide for example, Ta 2 O 5
  • titanium oxide for example, TiO 2
  • aluminum oxide for example, one or more oxides selected from the group consisting of Al 2 O 3 ), yttrium oxide (eg, Y 2 O 3 ), hafnium oxide (eg, HfO 2 ), and niobium oxide (eg, Nb 2 O 5 ). Mention may be made of mixtures.
  • the low refractive index material for forming the low refractive index layer is an oxide selected from the group consisting of silicon oxide (eg, SiO 2 ), magnesium fluoride (eg, MgF 2 ), and barium fluoride (eg, BaF 2 ). Or a mixture of two or more kinds of fluorides or fluorides.
  • oxides and fluorides are represented by a stoichiometric composition, but those having a deficiency or excess of oxygen or fluorine from the stoichiometric composition may be a high refractive index material or a low refractive index material. Can be used as
  • the high refractive index layer is a film mainly composed of a high refractive index material
  • the low refractive index layer is a film mainly composed of a low refractive index material.
  • the main component is a component that occupies the most in the film, and is usually a component that occupies about 50% by mass to 100% by mass, and further about 90% by mass to 100% by mass with respect to the mass of the film.
  • Such a film (for example, a vapor deposition film) can be formed by performing film formation using a film formation material (for example, a vapor deposition source) containing the high refractive index material or the low refractive index material as a main component.
  • the main components related to the film forming material are the same as described above.
  • the film and the film forming material may contain impurities inevitably mixed in, and other components such as other inorganic substances and film forming functions may be supported as long as the function of the main component is not impaired.
  • Known additive components may be included.
  • the film formation can be performed by a known film formation method, and it is preferably performed by vapor deposition from the viewpoint of easiness of film formation.
  • the antireflection layer can be, for example, a multilayer film in which a total of 3 to 10 high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked.
  • the film thickness of the high refractive index layer and the film thickness of the low refractive index layer can be determined according to the layer configuration.
  • the combination of layers included in the antireflection layer, and the film thickness of each layer are determined by the refractive index of the film forming material for forming the high refractive index layer and the low refractive index layer, and by providing the antireflection layer. Based on the desired reflection and transmission characteristics desired to be provided to the lens, it can be determined by optical simulation using a known method.
  • the antireflection layer is a conductive oxide formed by vapor deposition using a layer containing a conductive oxide as a main component (conductive oxide layer), preferably a vapor deposition source having a conductive oxide as a main component.
  • One or more of the deposited films may be included in any position of the multilayer film.
  • examples of the layer that can be optionally included in the spectacle lens include various functional layers such as a water-repellent or hydrophilic antifouling layer and an antifogging layer. Any known technology can be applied to these functional layers.
  • a water repellent layer containing a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound can be formed on the surface of the antireflection layer as an antifouling layer.
  • the spectacle lens according to one embodiment of the present invention can be manufactured through a step of forming a pattern layer by patterning using a resist, and is preferably manufactured using a lift-off process.
  • the manufacturing method of the spectacle lens concerning one aspect of the present invention, Forming a resist pattern on the surface of the cured layer provided on the lens substrate, and forming a continuous layer having a laminated structure on the surface of the cured layer on which the resist pattern is formed,
  • the continuous layer having the laminated structure includes a metal oxide continuous layer directly laminated on the surface of the hardened layer on which the resist pattern is formed, a metal continuous layer, and a metal located in the outermost layer of the continuous laminated structure.
  • a continuous layer of oxide, The pattern layer is formed by removing the resist pattern after the formation of the continuous layer having the laminated structure, and peeling the portion formed on the resist pattern of the continuous layer having the laminated structure.
  • FIG. 4 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the spectacle lens 1.
  • the cured layer 13 is formed on the lens substrate 11.
  • the cured layer 13 is formed by applying a curable composition to the surface 111 of the lens substrate 11 by a known application method such as a dipping method, and forming the applied layer, and then heating the formed application layer by a known curing such as light irradiation. It can be formed by curing by treatment.
  • FIG. 5 is a process diagram of a resist pattern forming process.
  • the resist pattern 21 can be formed by applying ink in a pattern on the surface 113 of the hardened layer 13 by the ink jet method using the ink jet device 5.
  • the ink can be cured by performing a curing process (for example, light irradiation or heating) according to the type of the ink.
  • a curing process for example, light irradiation or heating
  • FIG. 5 As a specific aspect of the resist pattern forming step, the aspect shown in FIG. 5 can be exemplified.
  • a plurality of droplets d are ejected from the inkjet nozzle 51.
  • the discharged droplets are combined with other droplets d on the surface 113 of the hardened layer 13 to form one dot portion 21a.
  • the dot portions 21a in which the plurality of droplets d are combined are arranged on the surface of the hardened layer, thereby forming the resist pattern 21.
  • the resist pattern 21 is cured by irradiating the resist pattern 21 with light such as ultraviolet rays using the light irradiation device 6. .
  • the ink preferably contains a (meth) acrylic monomer, and preferably contains a water-soluble polymer and a (meth) acrylic monomer.
  • water-soluble means a property of dissolving 1 g or more in 100 g of water at 25 ° C.
  • water-soluble polymer examples include polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid and the like, and polyvinyl pyrrolidone is preferable.
  • the weight average molecular weight of the water-soluble polymer is preferably 100 or more, more preferably 300 or more, still more preferably 400 or more, still more preferably 1,000 or more, still more preferably 5,000 or more, and preferably 100 Is preferably 30,000 or less, more preferably 30,000 or less, and even more preferably 15,000 or less, from the viewpoint of ink ejection stability in the inkjet method.
  • the content of the water-soluble polymer in the ink is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, still more preferably 3% by mass or more, and preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass. % Or less, more preferably 10% by mass or less, and still more preferably 8% by mass or less. From the viewpoint of obtaining excellent curability, it is more preferably 5% by mass or less, and still more preferably 4% by mass or less.
  • Examples of the (meth) acrylic monomer include monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate. Among these, a combination of monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of curability.
  • (meth) acrylic monomer means at least one selected from the group consisting of acrylic monomer and methacrylic monomer
  • (meth) acrylate” consists of acrylate and methacrylate. It means at least one selected from the group.
  • Examples of the monofunctional (meth) acrylate include polyethylene glycol mono (meth) acrylate and alkoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group of the alkoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and further preferably 1 or 2.
  • Examples of the polyethylene glycol mono (meth) acrylate include diethylene glycol mono (meth) acrylate and triethylene glycol mono (meth) acrylate.
  • Examples of the alkoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate include methoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate and ethoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate.
  • methoxypolyethylene glycol mono (meth) acrylate examples include methoxydiethylene glycol mono (meth) acrylate and methoxytriethylene glycol mono (meth) acrylate.
  • ethoxypolyethylene glycol mono (meth) acrylate examples include ethoxydiethylene glycol mono (meth) acrylate and ethoxytriethylene glycol mono (meth) acrylate.
  • alkoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate is preferable, methoxypolyethylene glycol monoacrylate is more preferable, and methoxytriethylene glycol monoacrylate is still more preferable from the viewpoint of ink ejection stability in the inkjet method.
  • the polyfunctional (meth) acrylate is preferably a bifunctional (meth) acrylate.
  • the bifunctional (meth) acrylate include polyethylene glycol di (meth) acrylate.
  • polyethylene glycol diacrylate is preferable from the viewpoint of curability and the viewpoint of ink ejection stability in the ink jet method.
  • the average added mole number of the polyethylene glycol moiety of the polyethylene glycol diacrylate is preferably 3 or more, more preferably 6 or more, still more preferably 9 or more, preferably 30 or less, more preferably 25 or less, still more preferably. 18 or less.
  • the content of (meth) acrylate in the ink is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more, and preferably 70% by mass or less, more preferably 60% by mass. % Or less, more preferably 50% by mass or less.
  • the content of the monofunctional (meth) acrylate in the ink is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more, and preferably 70% by mass or less, more preferably It is 60 mass% or less, More preferably, it is 50 mass% or less.
  • the content of the polyfunctional (meth) acrylate in the ink is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, and preferably 30% by mass or less, more preferably It is 20 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or less.
  • the mass ratio of polyfunctional (meth) acrylate / monofunctional (meth) acrylate in the ink is preferably 5/95 or more, more preferably 8/92 or more, and even more preferably 10/90 or more.
  • it is preferably 40/60 or less, more preferably 30/70 or less, and still more preferably 20/80 or less.
  • the ink preferably contains a photopolymerization initiator.
  • a known photopolymerization initiator can be used as the photopolymerization initiator, and a photopolymerization initiator having two or more hydroxyl groups is preferable.
  • Examples of the photopolymerization initiator include 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one.
  • the content of the photopolymerization initiator in the ink is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, and preferably 30% by mass from the viewpoint of improving curability.
  • the content of the photopolymerization initiator of the ink is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 8 parts by mass or more, and more preferably 100 parts by mass of the total amount of (meth) acrylate.
  • it is 10 mass parts or more, Preferably it is 40 mass parts or less, More preferably, it is 30 mass parts or less, More preferably, it is 20 mass parts or less.
  • the ink preferably contains a high boiling point solvent from the viewpoint of improving the formability of the resist pattern.
  • the boiling point of the high boiling point solvent is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 160 ° C. or higher, further preferably 170 ° C. or higher, more preferably 180 ° C. or higher, and preferably 350 ° C. or lower, more preferably 330 ° C. or lower. More preferably, it is 300 ° C. or lower.
  • the high boiling point solvent examples include oxyethylene or oxypropylene addition polymers such as diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, and tripropylene glycol; diols such as propylene glycol; triols such as glycerin; thiodiglycol; Examples include lower alkyl glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and triethylene glycol monobutyl ether; lower dialkyl glycol ethers such as triethylene glycol diethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, and tetraethylene glycol diethyl ether. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, propylene glycol is preferable.
  • the content of the high boiling point solvent in the ink is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, still more preferably 15% by mass or more, and preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass. Hereinafter, it is more preferably 20% by mass or less.
  • the ink can contain water from the viewpoint of viscosity adjustment.
  • water examples include tap water, pure water, and ion exchange water.
  • the water content of the ink is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more, and preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less. More preferably, it is 60 mass% or less.
  • the viscosity of the ink is preferably 1 mPa ⁇ s or more, more preferably 5 mPa ⁇ s or more, still more preferably 8 mPa ⁇ s or more, and preferably 40 mPa ⁇ s or less, more preferably from the viewpoint of suitability for the inkjet method. Is 30 mPa ⁇ s or less, more preferably 20 mPa ⁇ s or less, and still more preferably 15 mPa ⁇ s or less.
  • the pH of the ink is preferably 3.0 or more, more preferably 3.5 or more, still more preferably 4.0 or more, and preferably 12 or less, more preferably 11 or less, still more preferably 10 or less. .
  • the contact angle of the ink with respect to the surface 113 of the cured layer is preferably 25 ° or more, more preferably 30 ° or more, and further preferably 45 ° or more, from the viewpoint of making the dot shape of the resist pattern closer to a perfect circle. Preferably it is 65 degrees or less, More preferably, it is 60 degrees or less, More preferably, it is 55 degrees or less, More preferably, it is 53 degrees or less.
  • the contact angle is a value measured by the sessile drop method of JIS R 3257: 1990.
  • the type and method of the ink jet method are not limited, and may be a continuous type or an on-demand type, and may be a piezo method or a thermal method as long as it is an on-demand type.
  • the resist pattern 21 has dot portions 21 a corresponding to the openings 20 formed on the surface 113 of the hardened layer 13.
  • a continuous layer having a laminated structure is formed on the surface 113 of the hardened layer 13 on which the dot portions 21a are thus formed.
  • a continuous layer having a laminated structure is also referred to as a continuous laminated structure.
  • the distance AD between the centers of the dot portions 21a and the adjacent dot portions 21a is, for example, 0.1 mm or more, preferably 0.2 mm or more, more preferably 0.3 mm or more, and, for example, 5.0 mm or less. , Preferably 3.0 mm or less, more preferably 1.0 mm or less.
  • the dot diameter DD is, for example, 0.01 mm or more, more preferably 0.05 mm or more, still more preferably 0.1 mm or more, and, for example, 5.0 mm or less, preferably 2.0 mm or less, more preferably It is 1.0 mm or less, more preferably 0.5 mm or less.
  • the distance AD / diameter DD is preferably more than 1.0, more preferably 1.1 or more, still more preferably 1.2 or more, and preferably 2.0 or less, more preferably 1.8 or less, Preferably it is 1.5 or less.
  • the dot density of the dots formed by the inkjet method is preferably 300 dpi (dots per inch) or more, more preferably 400 dpi or more, still more preferably 500 dpi or more, from the viewpoint of improving resist pattern formability. 1000 dpi or less, more preferably 900 dpi or less, and still more preferably 800 dpi or less.
  • the amount of ink discharged per dot is preferably 600 pl (picoliter) or more, more preferably 1000 pl or more, and still more preferably 2000 pl or more from the viewpoint of improving the curability of the formed dots and improving the resist pattern formability. Also, it is preferably 6000 pl or less, more preferably 5000 pl or less, and still more preferably 4000 pl or less.
  • the continuous layer 22 having a laminated structure is formed on the surface 113 of the cured layer 13 on which the resist pattern 21 is formed.
  • the continuous layer 22 having this laminated structure is composed of a first metal oxide continuous layer, a metal continuous layer, and a second metal oxide continuous layer.
  • the description regarding the metal layer can be referred to.
  • the description about the first metal oxide layer can be referred to, and for the second metal oxide, see the description about the second metal oxide layer. it can.
  • a pattern layer composed of a first metal oxide layer, a metal layer, and a second metal oxide layer is formed.
  • the pattern layer included in the spectacle lens is not limited to the layer configuration.
  • each continuous layer can be formed preferably by vapor deposition.
  • the continuous layer 22 having a laminated structure is formed by the vapor deposition apparatus 7 so as to cover the resist pattern 21 and the opening 20 provided on the surface 113 of the hardened layer 13. be able to.
  • “Vapor deposition” in the present invention and the present specification includes vacuum deposition, ion plating, sputtering, and the like. In the vacuum deposition method, an ion assist method (ion assist deposition) in which an ion beam is simultaneously irradiated during deposition may be used.
  • the resist pattern 21 is peeled off in the peeling step (S4), so that the resist pattern 21 and the portion formed on the resist pattern 21 of the continuous layer 22 having the laminated structure are separated. Can also be removed by peeling (lift-off). Thereby, as shown in FIG. 7, a pattern layer 15 having a plurality of openings 20 can be formed on the surface 113 of the hardened layer 13.
  • the resist pattern can be removed in the peeling process by physical peeling and / or chemical peeling.
  • Physical peeling means removing an object to be peeled by applying an external force.
  • chemical peeling means removing an object to be peeled with a solvent or a chemical solution.
  • the peeling process may be performed by physical peeling, chemical peeling, or a combination of physical peeling and chemical peeling, using a solvent or chemical for chemical peeling. Physical peeling may be performed. If the resist pattern is removed by physical peeling after forming a continuous metal layer (single layer) on the resist pattern, it will remain after the peeling process, and the surface of the pattern layer will be scratched or partly peeled off. May end up.
  • a resist pattern is removed by chemical peeling after a metal continuous layer (single layer) is formed on the resist pattern
  • the surface of the part that becomes the pattern layer after the peeling process is altered or partly peeled off. May end up. Scratches, alterations and partial peeling as described above become optical defects of the spectacle lens and cause the optical characteristics of the spectacle lens to deviate from the target values.
  • the outermost layer is a metal oxide layer
  • the continuous layer having the above laminated structure is less likely to be scratched in physical peeling than in the case where the outermost layer is a metal layer, and is deteriorated in chemical peeling. The inventor speculates that this is difficult.
  • the continuous layer having the above laminated structure is superior in adhesion to the cured layer because the layer adjacent to the cured layer is a metal oxide layer, so compared to the case where the metal layer is adjacent to the cured layer.
  • the present inventor believes that partial peeling hardly occurs in physical peeling or chemical peeling. The inventor speculates that the above contributes to suppressing the occurrence of optical defects.
  • Physical peeling can be performed, for example, by rubbing the resist pattern (that is, the convex portion) 21 in contact with a solid washing material. Thereby, the part formed on the resist pattern 21 of the continuous layer having a laminated structure can be removed together with the resist pattern 21.
  • the pattern layer 15 having a plurality of openings 20 can be formed on the surface 113 of the hardened layer 13 by partially removing the continuous layer 22 having a laminated structure.
  • Solid material means a solid material that removes the object to be treated by an abrasive action.
  • a foam, an elastomer, a cloth, a polishing pad, or a brush can be used as the solid washing material.
  • the foam include melamine resin foam and urethane resin foam.
  • the elastomer include rubber and urethane elastomer.
  • the fabric may be a non-woven fabric or a woven fabric. Among these, a foam is preferable and a melamine resin foam is more preferable.
  • the shape of the solid washing material may be any shape such as a sheet or a glove, for example.
  • Physical peeling may be performed under dry conditions or may be performed under wet conditions. In physical peeling, usually peeling waste is generated. However, when physical peeling is performed under dry conditions, the peeling waste can be generated in a dry state. The peeled debris in a dried state can be easily removed by an adhesive tape, air blow or the like.
  • the physical peeling can be performed by rotating an object to be brought into contact with the solid washing material.
  • FIG. 8 is a schematic diagram illustrating an example of the processing apparatus 8 for performing physical peeling.
  • the lens substrate 11 on which the cured layer 13, the resist pattern 21, and the continuous layer 22 having a laminated structure are formed is held on the stage 82 of the processing apparatus 8. Then, the lens substrate 11 is rotated, and the solid washing material 812 is brought into contact under dry conditions.
  • the processing apparatus 8 includes a chamber 81 having a lid 811 on the top, a stage 82 that is installed in the chamber 81 and holds the lens substrate 11, and a motor 83 that rotates the stage 82.
  • the lid 811 has a solid cleaning material 812 on the inner surface side of the chamber 81. When the chamber 81 is closed by the lid 811, the lid 811 comes into contact with the lens substrate 11 held on the stage 82.
  • the lens substrate 11 is placed on the stage 82, the stage 82 is rotated, and the solid scrubbing material 812 is brought into contact under dry conditions.
  • Part) 21 is slid through the continuous layer 22 having a laminated structure formed thereon, and the portion of the continuous layer 22 formed on the resist pattern 21 is removed together with the resist pattern 21.
  • the spectacle lens 1 in which the pattern layer 15 having the opening 20 is formed is obtained.
  • the lens base material 11 may be rotated as mentioned above, the solid washing material 812 may be rotated, and the lens base material 11 and the solid washing material 812 may be rotated.
  • peeling debris derived from a portion formed on the resist pattern 21 of the peeled resist pattern 21 or the continuous layer 22 having a laminated structure is generated and adheres to the spectacle lens surface.
  • peeling debris can be removed with an adhesive tape, air blow, or the like.
  • washing preferably before or after removing the above-mentioned peeling debris.
  • the washing can be performed using, for example, an aqueous solvent.
  • washing can be performed by washing with water.
  • physical peeling can be performed under wet conditions instead of or before or after washing.
  • a solid scrubbing material containing an aqueous solvent can be used.
  • the aqueous solvent means a solvent containing 60% by mass or more of water.
  • water is preferable.
  • the solvent that can be contained in the aqueous solvent other than water examples include alcohol solvents such as ethanol, methanol, and propanol, and ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone.
  • the water content of the aqueous solvent is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, still more preferably 95% by mass or more, and still more preferably 100% by mass.
  • the functional layer is formed in the functional layer forming step (S5) after the above-described peeling step.
  • the antireflection layer 17 in which the low refractive index layers 17L and the high refractive index layers 17H are alternately laminated is formed.
  • a water repellent layer 19 is formed on the layer 17.
  • surface treatment can be performed on the surface on which the functional layer is formed.
  • the surface treatment include surface cleaning, and specific examples include ion cleaning.
  • ion cleaning By the ion cleaning, the organic substance attached to the surface on which the functional layer is formed can be removed and the surface can be cleaned.
  • the ion cleaning is a process of irradiating the processing surface with ions by an ion gun (IG; Ion gun).
  • IG ion gun
  • oxygen ions are preferable from the viewpoint of cleaning properties.
  • Ion cleaning also irradiates ions on the surface of the pattern layer, but the metal oxide layer is located on the outermost layer of the pattern layer, so that oxidation of the pattern layer by oxygen ions is less likely to occur, and the transmittance changes due to oxidation. Can be suppressed.
  • the surface cleaning may be performed using an inert gas such as argon (Ar) gas, xenon (Xe) gas, or nitrogen (N 2 ) gas, or may be performed by irradiation with oxygen radicals or oxygen plasma. Good.
  • one or more of the various layers described above as layers that can be optionally provided on the spectacle lens can be formed on the surface of the cured layer having the pattern layer.
  • the further aspect of this invention is related with the spectacles provided with the said spectacle lens. Details of the spectacle lens included in the spectacles are as described above. There is no restriction
  • Example 1 Cured layer forming step A curable composition (HOYA Corporation) containing a silane compound and metal oxide particles on the object-side surface (convex surface) of a spectacle lens substrate manufactured with a spectacle lens monomer (MR8 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) A hard coat liquid (trade name: HC60S)) was applied to form a coating layer, and this coating layer was cured by heating to provide a hard coating layer (cured layer).
  • HC60S trade name: HC60S
  • Resist pattern formation process preparation of ink
  • polyethylene glycol diacrylate average number of added moles 14, CAS No. 26570-48-9
  • methoxytriethylene glycol acrylate CAS No. 48067-72-7
  • 16 parts by mass of water Part was added and stirred.
  • 18 parts by mass of propylene glycol was added and further stirred.
  • 1 mass% NaOH aqueous solution was added and pH was adjusted.
  • photopolymerization initiator 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (CAS No.
  • the viscosity of the ink was measured with a tuning fork type vibration viscometer (SV-10 manufactured by A & D Co., Ltd.) under the condition of a temperature of 25 ° C. in accordance with JIS Z 8803: 2011.
  • the contact angle is determined by dropping the ink onto the surface of the hard coat layer formed on the spectacle lens substrate in the same manner as in the cured layer forming step, and JIS R 3257: 1990 6. It measured by the method as described in a sessile drop method.
  • the ink prepared above was applied to the surface of the hard coat layer formed by the ink jet apparatus with a nozzle (KJ4A manufactured by Kyocera Corporation) at a dot density of 9600 ⁇ 600 dpi, a printing width of 108 mm, and a dot interval of 0.432 nm. Then, it was applied to the entire surface of the hard coat layer as a grid-like dot having a dot diameter of 0.323 nm. The amount of droplets per dot was 2400 pl. After the resist pattern was formed, the resist pattern was formed by irradiating ultraviolet rays with an ultraviolet irradiation device (Ushio Electric Co., Ltd. UVX-01212S1CS01) to cure the ink. The resist pattern could be formed as circular dots without lattice defects.
  • an ultraviolet irradiation device Ushio Electric Co., Ltd. UVX-01212S1CS01
  • Peeling process 3. 8 is placed on the stage 82 of the processing apparatus 8 shown in FIG. 8 and rotated, and melamine resin foam 812 is pressed against the surface for 5 seconds under dry conditions. Peeling was performed, and then the rotation was stopped and the peeling debris adhering to the surface where physical peeling was performed was removed with an adhesive tape, and then the surface was washed with water and dried.
  • the first metal oxide layer silicon oxide layer with a thickness of 10 nm
  • the metal layer chrome layer with a thickness of 10 nm
  • the second A pattern layer having a three-layer structure composed of a metal oxide layer (silicon oxide layer having a thickness of 10 nm) was formed.
  • Example 2 The peeling process is rotated on the stage 82 of the eyeglass lens substrate processing apparatus 8 after removing the peeling waste, and the surface is pressed against the melamine resin foam 812 containing water, and finally air is blown to dry.
  • the first metal oxide layer silicon oxide layer with a film thickness of 10 nm
  • metal was formed on the surface of the hard coat layer formed on the spectacle lens substrate.
  • Each spectacle lens of Examples 1 and 2 was placed in a vacuum deposition apparatus, and ion cleaning with oxygen ions was performed on the hard coat layer surface on which the pattern layer was formed in this apparatus.
  • the ion cleaning treatment conditions were an acceleration voltage of 350 V, an acceleration current of 180 mA, an O 2 introduction flow rate of 10 sccm, an Ar introduction flow rate of 10 sccm, and a treatment time of 45 sec.
  • the average transmittance at a wavelength of 380 to 780 nm was obtained before and after ion cleaning, and visible light was expressed as “ ⁇ (average transmittance after ion cleaning ⁇ average transmittance before ion cleaning) / average transmittance before ion cleaning ⁇ ⁇ 100”.
  • the transmittance change rate was calculated, in each of the eyeglass lenses of Examples 1 and 2, the visible light transmittance change rate was 0.5% or less, and the change in transmittance due to oxidation of the pattern layer was suppressed. confirmed.
  • the lens substrate has a cured layer
  • the patterned layer has a laminated structure in which a plurality of layers are laminated on the cured layer, and the patterned layer is directly on the surface of the cured layer.
  • a spectacle lens including a laminated metal oxide layer, a metal layer, and a metal oxide layer located on the outermost layer of the pattern layer.
  • the spectacle lens is a spectacle lens having a pattern layer including a metal layer on a hardened layer provided on a lens base material, and can suppress the occurrence of optical defects.
  • the pattern layer is directly stacked on the surface of the metal layer, the metal oxide layer directly stacked on the surface of the cured layer, the metal layer directly stacked on the surface of the metal oxide layer, and the surface of the metal layer. And a metal oxide layer.
  • the metal layer can be a metal layer selected from the group consisting of a chromium layer, a molybdenum layer, a tungsten layer, an iron layer, a cobalt layer, a nickel layer, a copper layer, a silver layer, and a gold layer.
  • the metal oxide layer directly stacked on the surface of the hardened layer includes a silicon oxide layer, an aluminum oxide layer, a cerium oxide layer, a chromium oxide layer, a molybdenum oxide layer, a tungsten oxide layer, a zirconium oxide layer, and a titanium oxide layer. It can be a metal oxide layer selected from the group consisting of a layer, a niobium oxide layer, a tin oxide layer and a tantalum oxide layer.
  • the thickness of the metal oxide layer directly laminated on the surface of the hardened layer can be in the range of 1 to 100 nm.
  • the metal oxide layer located on the outermost layer of the pattern layer includes a silicon oxide layer, an aluminum oxide layer, a cerium oxide layer, a chromium oxide layer, a molybdenum oxide layer, a tungsten oxide layer, a zirconium oxide layer, and a titanium oxide layer. And a metal oxide layer selected from the group consisting of a niobium oxide layer, a tin oxide layer and a tantalum oxide layer.
  • the thickness of the metal oxide layer located on the outermost layer of the pattern layer may be in the range of 1 to 100 nm.
  • spectacles including the spectacle lens are provided.
  • a method for manufacturing the spectacle lens comprising: forming a resist pattern on a surface of a cured layer provided on a lens substrate; and forming the resist pattern on the surface of the cured layer on which the resist pattern is formed.
  • Forming a continuous layer having a laminated structure wherein the continuous layer having the laminated structure includes a metal oxide continuous layer and a metal continuous layer directly laminated on the surface of the cured layer on which the resist pattern is formed.
  • a continuous layer of a metal oxide located in the outermost layer of the continuous laminated structure, and removing the resist pattern after forming the continuous layer having the laminated structure There is provided a method for producing a spectacle lens, further comprising peeling off a portion of the continuous layer formed on the resist pattern.
  • removal of the resist pattern can include physical stripping.
  • the manufacturing method may include performing ion cleaning with oxygen ions on the surface of the cured layer on which the pattern layer is formed.

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Abstract

レンズ基材上に硬化層を有し、上記硬化層上に複数の層が積層された積層構造を有するパターン層を有し、上記パターン層は、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、金属層と、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層と、を含む眼鏡レンズが提供される。

Description

眼鏡レンズおよび眼鏡、ならびに眼鏡レンズの製造方法
　本発明は、眼鏡レンズおよび眼鏡、ならびに眼鏡レンズの製造方法に関する。
　一般に眼鏡レンズには、レンズ基材上に各種機能性層が設けられることにより様々な性能が付与される。そのような機能性層に関して、特許文献１には、レンズ表面に半透過性の薄膜をドット状に設けることが開示されている。
特開２００８－５５２５３号公報
　特許文献１の段落００１４には、ドット状に設けられる半透過性の薄膜（パターン層）をＺｒＯ２等の金属酸化物を用いて形成することが記載されている。
　一方、基材を通して入射する光をコントロールするための薄膜としては、光の回折効果を効果的に得ることができるため、金属層が適している。
　ところで、眼鏡レンズに設けられる機能性層の一例としては、眼鏡レンズの耐久性を向上するためにレンズ基材上に直接またはプライマー等を介して間接的に設けられる硬化層が挙げられる。かかる硬化層は、一般にハードコート層と呼ばれる。
　以上に鑑み本発明者は、硬化層が設けられたレンズ基材上に金属層をパターン層として形成することを検討した。しかし検討の結果、そのようにして作製された眼鏡レンズには、キズ等の光学的欠陥による透過率低下という課題があることが判明した。
　本発明の一態様は、レンズ基材上に設けられた硬化層上に金属のパターン層を有する眼鏡レンズであって、光学的欠陥の発生が抑制された眼鏡レンズを提供する。
　本発明の一態様は、レンズ基材上に硬化層を有し、上記硬化層上に複数の層が積層された積層構造を有するパターン層を有し、上記パターン層は、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、金属層と、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層と、を含む眼鏡レンズに関する。
　上記眼鏡レンズは、レンズ基材上の硬化層上に設けられたパターン層が、硬化層と隣接する金属酸化物層と、パターン層の最表層に位置する金属酸化物層とを含み、これら金属酸化物層の間に金属層を含む。硬化層と隣接する金属酸化物層が硬化層とパターン層との密着性を高めることでき、このことがパターン層の剥離による光学的欠陥の発生を抑制することに寄与すると考えられる。更に、パターン層の最表層に位置する金属酸化物層が金属層の変質を防ぐことおよびパターン層表面のキズの発生を抑制することに寄与することも、光学的欠陥の発生を抑制することにつながると推察される。
　本発明の一態様によれば、レンズ基材上に設けられた硬化層上に金属層を含むパターン層を有する眼鏡レンズにおける光学的欠陥の発生を抑制することができる。
眼鏡レンズ１の平面図である。 眼鏡レンズ１のＡ－Ａ’断面図の一部である。 眼鏡レンズ１におけるパターン層１５の層構成を示す断面図である。 眼鏡レンズ１の製造方法の一例を示すフロー図である。 レジストパターン形成工程（Ｓ２）の工程図である。 積層構造を有する連続層２２の形成工程（Ｓ３）の模式図である。 剥離工程（Ｓ４）後の眼鏡レンズ１の断面図の一部である。 剥離工程（Ｓ４）において使用可能な処理装置８の模式図である。
［眼鏡レンズおよびその製造方法］
　以下、上記眼鏡レンズおよびその製造方法について、更に詳細に説明する。以下における図面に基づく説明は例示であって、本発明は例示された態様に限定されるものではない。
＜眼鏡レンズの構成＞
　本発明の一態様にかかる眼鏡レンズは、レンズ基材上に硬化層を有し、上記硬化層の表面にパターン層を有する。被被覆面上に開口部を含まずに連続して設けられた層は「連続層」であり、これに対し「パターン層」とは、被被覆面上に、開口部を含んで不連続に設けられた層である。そのようなパターン層を有する眼鏡レンズの一例の平面図を図１に示す。
　図１中、眼鏡レンズ１は、パターン層が複数の微細なドットＤとして形成され、これらドットＤによって透かしマークＭが形成されている。ただし図１に示す態様は例示であって、パターン層の形状、ドットの配置等はパターン層を設ける目的に応じて決定すればよく、図１に示す態様に限定されない。
　図２は、図１中の眼鏡レンズ１のＡ－Ａ’断面図の一部である。眼鏡レンズ１は、レンズ基材１１を有し、レンズ基材１１の表面上に、硬化層１３と、パターン層１５と、反射防止層１７と、撥水層１９とをこの順に有する。パターン層１５は、複数の開口部２０を含み、硬化層１３の表面上に不連続に設けられた層である。図１に示す眼鏡レンズの構成は例示であって、本発明の一態様にかかる眼鏡レンズは、レンズ基材上に硬化層を有し、硬化層の表面に以下に詳述するパターン層を有するものであればよい。
　以下において、硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層を「第１の金属酸化物層」と呼び、パターン層の最表層に位置する金属酸化物層を「第２の金属酸化物層」と呼ぶ。図３は、眼鏡レンズ１におけるパターン層１５の層構成を示す断面図である。図３に示された態様では、パターン層１５は、硬化層１３の表面１１３に直接積層された第１の金属酸化物層１５ａ、第１の金属酸化物層１５ａの表面に直接積層された金属層１５ｂ、および金属層１５ｂの表面に直接積層された第２の金属酸化物層１５ｃからなる３層の積層構造を有するパターン層である。ただし、本発明の一態様にかかる眼鏡レンズにおけるパターン層は、硬化層と隣接する層および最表層が金属酸化物層であって、これら金属酸化物層の間に金属層が位置するものであればよく、上記３層からなる積層構造を有するものに限定されない。例えば、パターン層には、２層以上の金属層が含まれてもよく、第１の金属酸化物層および第２の金属酸化物層に加えて１層以上の金属酸化物層が含まれていてもよい。金属酸化物層は、例えば、金属層および金属酸化物層から構成される３～７層程度の積層構造を有することができる。
　次に、上記眼鏡レンズに含まれる（または含まれ得る）各部について更に詳細に説明する。
＜レンズ基材＞
　レンズ基材としては、眼鏡レンズに一般的に使用される各種レンズ基材を用いることができる。レンズ基材は、例えばプラスチックレンズ基材またはガラスレンズ基材であることができる。ガラスレンズ基材は、例えば無機ガラス製のレンズ基材であることができる。レンズ基材としては、軽量で割れ難いという観点から、プラスチックレンズ基材が好ましい。プラスチックレンズ基材としては、（メタ）アクリル樹脂をはじめとするスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ－３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する硬化性組成物を硬化した硬化物（一般に透明樹脂と呼ばれる。）を挙げることができる。硬化性組成物は、重合性組成物ともいうことができる。レンズ基材としては、染色されていないもの（無色レンズ）を用いてもよく、染色されているもの（染色レンズ）を用いてもよい。レンズ基材の屈折率は、例えば、１．６０～１．７５程度であることができる。ただしレンズ基材の屈折率は、上記範囲に限定されるものではなく、上記の範囲内でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。本発明および本明細書において、屈折率とは、波長５００ｎｍの光に対する屈折率をいうものとする。また、レンズ基材は、屈折力を有するレンズ（いわゆる度付レンズ）であってもよく、屈折力なしのレンズ（いわゆる度なしレンズ）であってもよい。
　上記眼鏡レンズは、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等の各種レンズであることができる。レンズの種類は、レンズ基材の両面の面形状により決定される。図１では、説明のために物体側表面１１１および眼球側表面１１２の両表面は平面として図示されているが、レンズ基材表面は、凸面、凹面、平面のいずれであってもよい。通常のレンズ基材および眼鏡レンズでは、物体側表面は凸面、眼球側表面は凹面である。ただし、本発明は、これに限定されるものではない。「物体側表面」とは、眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に物体側に位置する表面であり、「眼球側表面」とは、その反対、即ち眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に眼球側に位置する表面である。
＜硬化層＞
　上記眼鏡レンズは、レンズ基材とパターン層との間に、硬化性組成物を硬化した硬化層を有する。硬化層は、一般にハードコート層と呼ばれる各種硬化層を形成するための硬化性組成物を用いて形成することができる。硬化層については、例えば特開２０１２－１２８１３５号公報の段落００２５～００２８、００３０を参照できる。硬化層は、例えばシラン化合物と金属酸化物粒子を含む硬化性組成物をレンズ基材表面に直接または他の層を介して間接的に塗布して塗布層を形成し、この塗布層を硬化処理（加熱、光照射等）により硬化させて形成することができる。また、レンズ基材と上記硬化層との間には、密着性向上のためのプライマー層を形成してもよい。プライマー層の詳細については、例えば特開２０１２－１２８１３５号公報の段落００２９～００３０を参照できる。
＜パターン層＞
（金属層）
　上記眼鏡レンズは、上記硬化層上にパターン層を有する。このパターン層は、金属層を含む。本発明および本明細書において、「金属層」は、金属元素の単体（純金属）および複数の金属元素の合金からなる群から選ばれる成分（以下において、単に「金属」とも記載する。）を任意の成膜方法によって堆積させて形成された膜を意味し、成膜時に不可避的に混入する不純物および成膜を補助するために任意に使用される公知の添加剤を除けば、金属からなる膜である。金属層は、膜の質量に対して、例えば９０～１００質量％を金属が占める膜であることができ、９５～１００質量％を金属が占める膜であることもできる。金属元素としては、遷移元素、例えば、クロム族元素（例えばクロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ））、鉄族元素（例えば鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ））、貴金属元素（例えば銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ））等を挙げることができる。透過率、膜安定性、材料の入手容易性等の観点から、クロム族元素が好ましく、クロム（Ｃｒ）がより好ましい。即ち、金属層の好ましい一態様は、クロム層である。金属層の膜厚は、例えば１～１００ｎｍの範囲であり、１～５０ｎｍの範囲であることが好ましい。
（金属酸化物層）
　上記パターン層には、硬化層と隣接する第１の金属酸化物層と最表層の第２の金属酸化物層との間に上記金属層が含まれる。本発明および本明細書において、「金属酸化物層」とは、金属酸化物を任意の成膜方法によって堆積させて形成された膜を意味し、成膜時に不可避的に混入する不純物および成膜を補助するために任意に使用される公知の添加剤を除けば、金属酸化物からなる膜である。金属酸化物層は、膜の質量に対して、例えば９０～１００質量％を金属酸化物が占める膜であることができ、９５～１００質量％を金属酸化物が占める膜であることもできる。金属酸化物層としては、例えば、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層、酸化タンタル層等を挙げることができる。
　第１の金属酸化物層は、硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層であって、硬化層との密着性向上の観点からは、酸化ケイ素層であることが好ましい。第１の金属酸化物層の膜厚は、硬化層との密着性向上および透過率の観点からは、１～１００ｎｍの範囲であることが好ましく、１～５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。一態様では、上記金属層は、第１の金属酸化物層の表面に直接積層された層であることができる。
　一方、第２の金属酸化物層は、パターン層の最表層に位置し、一態様では、上記金属層の表面に直接積層された層であることができる。第２の金属酸化物層は、パターン層において金属層を保護する役割を果たすことができ、パターン層表面のキズの発生を抑制する役割を果たすこともできる。金属層の保護の一態様としては、例えば酸化防止を挙げることができる。金属層の保護およびパターン層表面のキズの発生抑制の観点からは、最表層に位置する金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層、酸化タンタル層であることが好ましく、酸化ケイ素層であることがより好ましい。この金属酸化物層の膜厚は、金属層の保護および透過率の観点からは、１～１００ｎｍの範囲であることが好ましく、１～５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
　以上の金属酸化物層を構成する金属酸化物は、化学量論組成の状態であってもよく、化学量論組成から酸素が欠損または過多の状態にあるものであってもよい。この点は、上記パターン層が第１の金属酸化物層および第２の金属酸化物層以外に１層以外の金属酸化物層を含む場合のそれら金属酸化物層についても同様である。
＜任意に設けられ得る層＞
　上記眼鏡レンズは、以上説明したレンズ基材、硬化層およびパターン層を少なくとも含むものであればよく、１層以外の他の層を任意に含むこともできる。任意に設けられ得る層の一例としては、反射防止層を挙げることができる。
　反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層された積層構造を有する多層膜であることができる。本発明および本明細書において、「高屈折率」および「低屈折率」に関する「高」、「低」とは、相対的な表記である。即ち、高屈折率層とは、同じ多層膜に含まれる低屈折率層より屈折率が高い層をいう。換言すれば、低屈折率層とは、同じ多層膜に含まれる高屈折率層より屈折率が低い層をいう。高屈折率層を構成する高屈折率材料の屈折率は、例えば１．６０以上（例えば１．６０～２．４０の範囲）であり、低屈折率層を構成する低屈折率材料の屈折率は、例えば１．５９以下（例えば１．３７～１．５９の範囲）であることができる。ただし上記の通り、高屈折率および低屈折率に関する「高」、「低」の表記は相対的なものであるため、高屈折率材料および低屈折率材料の屈折率は、上記範囲に限定されるものではない。
　高屈折率材料および低屈折率材料としては、無機材料、有機材料または有機・無機複合材料を用いることができ、成膜性等の観点からは無機材料が好ましい。即ち、反射防止層は、無機多層膜であることが好ましい。具体的には、高屈折率層を形成するための高屈折率材料としては、酸化ジルコニウム（例えばＺｒＯ２）、酸化タンタル（例えばＴａ２Ｏ５）、酸化チタン（例えばＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（例えばＡｌ２Ｏ３）、酸化イットリウム（例えばＹ２Ｏ３）、酸化ハフニウム（例えばＨｆＯ２）、および酸化ニオブ（例えばＮｂ２Ｏ５）からなる群から選ばれる酸化物の一種または二種以上の混合物を挙げることができる。一方、低屈折率層を形成するための低屈折率材料としては、酸化ケイ素（例えばＳｉＯ２）、フッ化マグネシウム（例えばＭｇＦ２）およびフッ化バリウム（例えばＢａＦ２）からなる群から選ばれる酸化物またはフッ化物の一種または二種以上の混合物を挙げることができる。上記の例示では、便宜上、酸化物およびフッ化物を化学量論組成で表示したが、化学量論組成から酸素またはフッ素が欠損もしくは過多の状態にあるものも、高屈折率材料または低屈折率材料として使用可能である。
　好ましくは、高屈折率層は高屈折率材料を主成分とする膜であり、低屈折率層は低屈折率材料を主成分とする膜である。ここで主成分とは、膜において最も多くを占める成分であって、通常は膜の質量に対して５０質量％程度～１００質量％、更には９０質量％程度～１００質量％を占める成分である。上記高屈折率材料または低屈折率材料を主成分とする成膜材料（例えば蒸着源）を用いて成膜を行うことにより、そのような膜（例えば蒸着膜）を形成することができる。なお成膜材料に関する主成分も、上記と同様である。膜および成膜材料には、不可避的に混入する不純物が含まれる場合があり、また、主成分の果たす機能を損なわない範囲で他の成分、例えば他の無機物質や成膜を補助する役割を果たす公知の添加成分が含まれていてもよい。成膜は、公知の成膜方法により行うことができ、成膜の容易性の観点からは、蒸着により行うことが好ましい。反射防止層は、例えば、高屈折率層と低屈折率層が交互に合計３～１０層積層された多層膜であることができる。高屈折率層の膜厚および低屈折率層の膜厚は、層構成に応じて決定することができる。詳しくは、反射防止層に含まれる層の組み合わせ、および各層の膜厚は、高屈折率層および低屈折率層を形成するための成膜材料の屈折率と、反射防止層を設けることにより眼鏡レンズにもたらしたい所望の反射特性および透過特性に基づき、公知の手法による光学的シミュレーションにより決定することができる。また、反射防止層には、導電性酸化物を主成分とする層（導電性酸化物層）、好ましくは導電性酸化物を主成分とする蒸着源を用いる蒸着により形成された導電性酸化物の蒸着膜の一層以上が多層膜の任意の位置に含まれていてもよい。
　更に、上記眼鏡レンズに任意に含まれ得る層としては、撥水性または親水性の防汚層、防曇層等の各種機能性層を挙げることができる。これら機能性層については、いずれも公知技術を適用することができる。例えば、反射防止層の表面に、防汚層としてフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水層を形成することができる。
＜眼鏡レンズの製造方法＞
　上記の本発明の一態様にかかる眼鏡レンズは、レジストを利用したパターニングによりパターン層を形成する工程を経て製造することができ、リフトオフプロセスを利用して製造することが好ましい。
　本発明の一態様にかかる眼鏡レンズの製造方法の好ましい態様としては、
　レンズ基材上に設けられた硬化層の表面にレジストパターンを形成すること、および
　上記レジストパターンが形成された硬化層の表面上に、積層構造を有する連続層を形成すること、を含み、
　上記積層構造を有する連続層は、上記レジストパターンが形成された硬化層の表面に直接積層された金属酸化物の連続層と、金属の連続層と、上記連続積層構造の最表層に位置する金属酸化物の連続層と、を含み、
　上記パターン層を、上記積層構造を有する連続層の形成後に上記レジストパターンを除去することによって、上記積層構造を有する連続層の上記レジストパターン上に形成された部分を剥離することにより形成することを更に含む眼鏡レンズの製造方法、
　を挙げることができる。以下、上記製造方法について、更に詳細に説明する。
（硬化層形成工程Ｓ１）
　図４は、眼鏡レンズ１の製造方法の一例を示すフロー図である。
　硬化層形成工程（Ｓ１）において、レンズ基材１１上に硬化層１３が形成される。硬化層１３は、硬化性組成物をディッピング法等の公知の塗布法によってレンズ基材１１の表面１１１に塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を加熱、光照射等の公知の硬化処理により硬化させることによって形成することができる。
（レジストパターン形成工程Ｓ２）
　レジストパターン形成工程（Ｓ２）では、レンズ基材１１上の硬化層１３の表面１１３にレジストパターンを形成する。図５は、レジストパターン形成工程の工程図である。例えば、インクジェット装置５を用いて、インクジェット法により、硬化層１３の表面１１３にインクをパターン状に塗布することによって、レジストパターン２１を形成することができる。インクが硬化性を有する場合、インクの種類に応じた硬化処理（例えば光照射、加熱）を行うことにより、インクを硬化させることができる。こうしてレジストパターンを形成することにより、硬化層表面の一部はレジストパターン２１により覆われ、一部はインクにより覆われずに露出する。
　レジストパターン形成工程の具体的態様としては、図５に示されている態様を挙げることができる。図５（Ａ）に示されているように、インクジェットノズル５１から複数の液滴ｄを吐出する。図５（Ｂ）に示されているように、吐出された液滴が硬化層１３の表面１１３で他の液滴ｄと結合することにより、１つのドット部２１ａが形成される。このように複数の液滴ｄが結合したドット部２１ａが硬化層表面に配列してレジストパターン２１が形成される。
　上記のレジストパターン形成後には、図５（Ｃ）に示されているように、レジストパターン２１に対して光照射装置６を用いて紫外線等の光を照射することにより、レジストパターン２１を硬化させる。
　インクは、優れた硬化性を得る観点から、（メタ）アクリルモノマーを含むことが好ましく、水溶性ポリマーと（メタ）アクリルモノマーとを含むことが好ましい。本発明および本明細書において、「水溶性」とは、２５℃の水１００ｇに対して、１ｇ以上溶解する性質を意味するものとする。
　水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸等が挙げられ、ポリビニルピロリドンが好ましい。
　水溶性ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは１００以上、より好ましくは３００以上、更に好ましくは４００以上、一層好ましくは１，０００以上、より一層好ましくは５，０００以上であり、また、好ましくは１００，０００以下、インクジェット法におけるインクの吐出安定性の観点から、より好ましくは３０，０００以下、更に好ましくは１５，０００以下である。
　上記インクの水溶性ポリマーの含有量は、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上であり、また、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下、一層好ましくは８質量％以下であり、優れた硬化性を得る観点から、より一層好ましくは５質量％以下、更に一層好ましくは４質量％以下である。
　（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、硬化性の観点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとの組み合わせが好ましい。
　本発明および本明細書において、「（メタ）アクリルモノマー」とは、アクリルモノマーおよびメタクリルモノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種を意味する。
　単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートのアルコキシ基の炭素数は、好ましくは１～４であり、より好ましくは１～３であり、更に好ましくは１または２である。
　ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。エトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、エトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　これらの中でも、インクジェット法におけるインクの吐出安定性の観点から、アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが好ましく、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレートがより好ましく、メトキシトリエチレングリコールモノアクリレートが更に好ましい。
　多官能（メタ）アクリレートは、好ましくは二官能（メタ）アクリレートである。二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、硬化性の観点およびインクジェット法におけるインクの吐出安定性の観点から、ポリエチレングリコールジアクリレートが好ましい。ポリエチレングリコールジアクリレートのポリエチレングリコール部位の平均付加モル数は、好ましくは３以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは９以上であり、また、好ましくは３０以下、より好ましくは２５以下、更に好ましくは１８以下である。
　インクの（メタ）アクリレートの含有量は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、また、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
　インクの単官能（メタ）アクリレートの含有量は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、また、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
　インクの多官能（メタ）アクリレートの含有量は、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上であり、また、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
　インクにおける多官能（メタ）アクリレート／単官能（メタ）アクリレートの質量比は、硬化性の観点から、好ましくは５／９５以上、より好ましくは８／９２以上、更に好ましくは１０／９０以上であり、また、好ましくは４０／６０以下、より好ましくは３０／７０以下、更に好ましくは２０／８０以下である。
　硬化処理を光照射により行う場合、インクは光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができ、水酸基を２以上有する光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］―２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オンが挙げられる。
　インクの光重合開始剤の含有量は、硬化性を高める観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上であり、また、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
　また、硬化性の観点から、インクの光重合開始剤の含有量は、（メタ）アクリレートの合計量の１００質量部に対して、好ましくは５質量部以上、より好ましくは８質量部以上、更に好ましくは１０質量部以上であり、また、好ましくは４０質量部以下、より好ましくは３０質量部以下、更に好ましくは２０質量部以下である。
　インクは、レジストパターンの形成性を向上させる観点から、高沸点溶媒を含むことが好ましい。
　高沸点溶媒の沸点は、好ましくは１５０℃以上、より好ましくは１６０℃以上、更に好ましくは１７０℃以上、一層好ましくは１８０℃以上であり、また、好ましくは３５０℃以下、より好ましくは３３０℃以下、更に好ましくは３００℃以下である。
　高沸点溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のオキシエチレンまたはオキシプロピレン付加重合体；プロピレングリコール等のジオール類；グリセリン等のトリオール類；チオジグリコール；トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の低級アルキルグリコールエーテル類；トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル等の低級ジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられる。これらは単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、プロピレングリコールが好ましい。
　インクの高沸点溶媒の含有量は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、更に好ましくは１５質量％以上であり、また、好ましくは４０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下、更に好ましくは２０質量％以下である。
　インクは、粘度調整の観点から、水を含むことができる。
　水としては、例えば、水道水、純水、イオン交換水等が挙げられる。
　インクの水の含有量は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、また、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下である。
　インクの粘度は、インクジェット法への適性の観点から、好ましくは１ｍＰａ・ｓ以上、より好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上、更に好ましくは８ｍＰａ・ｓ以上であり、また、好ましくは４０ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは３０ｍＰａ・ｓ以下、更に好ましくは２０ｍＰａ・ｓ以下、一層好ましくは１５ｍＰａ・ｓ以下である。
　インクのｐＨは、好ましくは３．０以上、より好ましくは３．５以上、更に好ましくは４．０以上であり、また、好ましくは１２以下、より好ましくは１１以下、更に好ましくは１０以下である。
　硬化層の表面１１３に対するインクの接触角は、レジストパターンのドット形状をより真円に近づける観点から、好ましくは２５°以上、より好ましくは３０°以上、更に好ましくは４５°以上であり、また、好ましくは６５°以下、より好ましくは６０°以下、更に好ましくは５５°以下、更に好ましくは５３°以下である。接触角は、ＪＩＳ　Ｒ　３２５７：１９９０の静滴法により測定される値である。
　インクジェット法は、型式や方式が限定されることはなく、連続型であってもオンデマンド型であってもよく、オンデマンド型であればピエゾ方式であってもサーマル方式であってもよい。
　レジストパターン２１は、硬化層１３の表面１１３上に形成する開口部２０に対応するドット部２１ａを有している。このようにドット部２１ａが形成された硬化層１３の表面１１３上に、積層構造を有する連続層が形成される。以下において、積層構造を有する連続層を、連続積層構造とも記載する。
　ドット部２１ａの中心から隣接するドット部２１ａの中心の間隔ＡＤは、例えば、０．１ｍｍ以上、好ましくは０．２ｍｍ以上、より好ましくは０．３ｍｍ以上であり、また、例えば、５．０ｍｍ以下、好ましくは３．０ｍｍ以下、より好ましくは１．０ｍｍ以下である。
　ドットの直径ＤＤは、例えば、０．０１ｍｍ以上、より好ましくは０．０５ｍｍ以上、更に好ましくは０．１ｍｍ以上であり、また、例えば、５．０ｍｍ以下、好ましくは２．０ｍｍ以下、より好ましくは１．０ｍｍ以下、更に好ましくは０．５ｍｍ以下である。
　間隔ＡＤ／直径ＤＤは、好ましくは１．０超、より好ましくは１．１以上、更に好ましくは１．２以上であり、また、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．８以下、更に好ましくは１．５以下である。
　インクジェット法により形成されるドットのドット密度は、レジストパターン形成性を向上させる観点から、好ましくは３００ｄｐｉ（ｄｏｔｓ　ｐｅｒ　ｉｎｃｈ）以上、より好ましくは４００ｄｐｉ以上、更に好ましくは５００ｄｐｉ以上であり、また、好ましくは１０００ｄｐｉ以下、より好ましくは９００ｄｐｉ以下、更に好ましくは８００ｄｐｉ以下である。
　ドットひとつあたりのインク吐出量は、形成されたドットの硬化性を高め、レジストパターン形成性を向上させる観点から、好ましくは６００ｐｌ（ｐｉｃｏｌｉｔｒｅ）以上、より好ましくは１０００ｐｌ以上、更に好ましくは２０００ｐｌ以上であり、また、好ましくは６０００ｐｌ以下、より好ましくは５０００ｐｌ以下、更に好ましくは４０００ｐｌ以下である。
（連続積層構造形成工程Ｓ３）
　連続積層構造形成工程（Ｓ３）では、レジストパターン２１が形成された硬化層１３の表面１１３上に、積層構造を有する連続層２２が形成される。この積層構造を有する連続層２２は、第１の金属酸化物の連続層、金属の連続層および第２の金属酸化物の連続層から構成される。上記連続層の金属については、先の金属層に関する記載を参照できる。また、上記の第１の金属酸化物については先の第１の金属酸化物層に関する記載を参照でき、上記の第２の金属酸化物については先の第２の金属酸化物層に関する記載を参照できる。図４に示す態様では、第１の金属酸化物層、金属層および第２の金属酸化物層からなるパターン層が形成される。ただし、先に記載したように、上記眼鏡レンズが有するパターン層は、かかる層構成のものに限定されない。
　上記の各連続層の形成（工程Ｓ３１、Ｓ３２およびＳ３３）は、公知の成膜法によって行うことができる。上記の各連続層の形成は、好ましくは蒸着により行うことができる。例えば、図６に示されているように、硬化層１３の表面１１３に設けられたレジストパターン２１および開口部２０を被覆するように、蒸着装置７により、積層構造を有する連続層２２を形成することができる。本発明および本明細書における「蒸着」には、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等が包含される。真空蒸着法では、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンアシスト法（イオンアシスト蒸着）を用いてもよい。
（剥離工程Ｓ４）
　上記の積層構造を有する連続層２２の形成後、剥離工程（Ｓ４）においてレジストパターン２１を剥離することにより、レジストパターン２１とともに、積層構造を有する連続層２２のレジストパターン２１上に形成された部分も剥離して除去することができる（リフトオフ）。これにより、図７に示されているように、硬化層１３の表面１１３上に、複数の開口部２０を有するパターン層１５を形成することができる。
　剥離工程におけるレジストパターンの除去は、物理的剥離および／または化学的剥離によって行うことができる。「物理的剥離」とは、剥離対象を外力を加えることにより除去することである。これに対し、溶媒や薬液により剥離対象を化学的に変質させることによって除去することは、「化学的剥離」である。剥離工程は、物理的剥離により行ってもよく、化学的剥離により行ってもよく、物理的剥離と化学的剥離を組み合わせて行ってもよく、化学的剥離のための溶媒や薬液を使用しながら物理的剥離を行ってもよい。レジストパターン上に金属の連続層（単層）を形成した後に物理的剥離によりレジストパターンを除去すると、剥離工程後に残留させてパターン層となる部分の表面にキズが生じたり、一部が剥離してしまう場合がある。また、レジストパターン上に金属の連続層（単層）を形成した後に化学的剥離によりレジストパターンを除去すると、剥離工程後に残留させてパターン層となる部分の表面が変質したり、一部が剥離してしまう場合がある。以上のようなキズ、変質や部分的な剥離は、眼鏡レンズの光学的欠陥となり眼鏡レンズの光学特性を目標値から逸脱させる原因となる。これに対し、上記の積層構造を有する連続層は、最表層が金属酸化物層であるため、最表層が金属層である場合と比べ、物理的剥離においてキズを生じ難く、化学的剥離において変質し難いと、本発明者は推察している。また、上記の積層構造を有する連続層は、硬化層と隣接する層が金属酸化物層であることにより硬化層との密着性に優れるため、硬化層に金属層が隣接している場合と比べ、物理的剥離または化学的剥離において部分的な剥離が生じ難いと本発明者は考えている。以上のことが、光学的欠陥の発生を抑制することに寄与すると本発明者は推察している。
　物理的剥離は、例えば、レジストパターン（即ち凸部）２１を、固体摺洗材を接触させて擦ることにより行うことができる。これにより、積層構造を有する連続層のレジストパターン２１上に形成された部分を、レジストパターン２１とともに除去することができる。こうして積層構造を有する連続層２２が部分的に除去されることにより、硬化層１３の表面１１３上に、複数の開口部２０を有するパターン層１５を形成することができる。
　「固体摺洗材」とは、研磨的な動作によって処理対象を取り除く固体状の材料を意味する。固体摺洗材としては、例えば、発泡体、エラストマー、布、研磨パット、またはブラシを用いることができる。発泡体としては、例えば、メラミン樹脂フォーム、ウレタン樹脂フォーム等が挙げられる。エラストマーとしては、例えば、ゴム、ウレタンエラストマー等が挙げられる。布は、不織布、織布のいずれであってもよい。これらの中でも、発泡体が好ましく、メラミン樹脂フォームがより好ましい。固体摺洗材の形状は、例えば、シート、手袋等のいずれの形状であってもよい。
　物理的剥離は、乾燥条件下で行ってもよく、湿潤条件下で行ってもよい。物理的剥離では通常剥離屑が発生するが、乾燥条件下で物理的剥離を行うと、剥離屑を乾燥した状態で発生させることができる。乾燥した状態の剥離屑は、粘着テープ、エアブロー等により簡単に除去することができる。
　物理的剥離は、一態様では、固体摺洗材と接触させる対象を回転させて行うことができる。図８は、物理的剥離を行うための処理装置８の一例を示す模式図である。物理的剥離では、例えば、図８に示されているように、処理装置８のステージ８２に、硬化層１３、レジストパターン２１および積層構造を有する連続層２２が形成されたレンズ基材１１を保持し、レンズ基材１１を回転させて、乾燥条件下で、固体摺洗材８１２を接触させる。
　図８に示されるように、処理装置８は、上部に蓋８１１を有するチャンバ８１と、チャンバ８１内に設置され、レンズ基材１１を保持するステージ８２と、ステージ８２を回転させるモータ８３とを備える。
　蓋８１１は、チャンバ８１内面側に固体摺洗材８１２を有し、蓋８１１によりチャンバ８１を閉じると、ステージ８２上に保持されたレンズ基材１１と接触する。
　図８に示されるように、物理的剥離では、ステージ８２にレンズ基材１１を設置して、ステージ８２を回転させ、乾燥条件下で固体摺洗材８１２を接触させることで、レジストパターン（凸部）２１を、その上に形成された積層構造を有する連続層２２を介して摺り、連続層２２のレジストパターン２１上に形成された部分をレジストパターン２１とともに除去する。これにより、図７に示されているように、開口部２０を有するパターン層１５が形成された眼鏡レンズ１が得られる。回転については、上記のようにレンズ基材１１を回転させてもよく、固体摺洗材８１２を回転させてもよく、レンズ基材１１および固体摺洗材８１２を回転させてもよい。
　物理的剥離では、剥離されたレジストパターン２１や積層構造を有する連続層２２のレジストパターン上に形成されていた部分に由来する剥離屑が発生し、眼鏡レンズ表面に付着する場合がある。そのような剥離屑は、粘着テープ、エアブロー等で取り除くことができる。
　更に、好ましくは上記の剥離屑を除去する前または除去した後に、洗浄を行うことができる。洗浄は、例えば水系溶媒を用いて行うことができる。一態様では、洗浄は水洗により行うことができる。または、洗浄に代えて、または洗浄の前もしくは後に、湿潤条件下で物理的剥離を行うこともできる。湿潤条件下での物理的剥離は、例えば、水系溶媒を含ませた固体摺洗材を用いることができる。水系溶媒とは、水を６０質量％以上含有する溶媒を意味する。水系溶媒としては、水が好ましい。水系溶媒に、水以外に含まれ得る溶媒としては、エタノール、メタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒が挙げられる。水系溶媒の水の含有量は、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、更に好ましくは９５質量％以上、一層好ましくは１００質量％である。湿式条件下での物理的剥離により、レジストパターンの残存を防ぎ、レジストパターンをより確実に剥離することができる。
（機能性層形成工程Ｓ５）
　図４にフロー図が示されている態様では、上記の剥離工程後、機能性層形成工程（Ｓ５）において、機能性層が形成される。図２に示されている構成の眼鏡レンズを得る場合、機能性層形成工程では、低屈折率層１７Ｌと高屈折率層１７Ｈとが交互に積層された反射防止層１７が形成され、反射防止層１７上に撥水層１９が形成される。
　機能性層形成工程において、機能性層が形成される表面に対して表面処理を行うことができる。この表面処理として、表面クリーニングを挙げることができ、具体例としてはイオンクリーニングを挙げることができる。イオンクリーニングにより、機能性層が形成される表面に付着した有機物を除去して表面を清浄化することができる。イオンクリーニングは、イオン銃（ＩＧ；Ｉｏｎ　ｇｕｎ）によって処理表面にイオンを照射する処理である。照射されるイオンとしては、クリーニング性の観点から、酸素イオンが好ましい。イオンクリーニングによってパターン層の表面にもイオンが照射されるが、パターン層の最表層に金属酸化物層が位置することにより、酸素イオンによるパターン層の酸化が生じにくくなり、酸化による透過率変化を抑制することができる。また、表面クリーニングは、不活性ガス、例えばアルゴン（Ａｒ）ガスやキセノン（Ｘｅ）ガス、または窒素（Ｎ2）ガスを用いて行ってもよく、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射して行ってもよい。
　機能性層形成工程では、上記眼鏡レンズに任意に設けられ得る層として先に記載した各種層の一層以上を、パターン層を有する硬化層表面に形成することができる。
［眼鏡］
　本発明の更なる態様は、上記眼鏡レンズを備えた眼鏡に関する。この眼鏡に含まれる眼鏡レンズの詳細については、先に記載した通りである。フレーム等の眼鏡の構成については、特に制限はなく、公知技術を適用することができる。
　以下、本発明を実施例により更に説明する。ただし本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。
［実施例１］
１．硬化層形成工程
　眼鏡レンズ用モノマー（三井化学株式会社製ＭＲ８）により製造した眼鏡用レンズ基材の物体側表面（凸面）に、シラン化合物と金属酸化物粒子を含む硬化性組成物（ＨＯＹＡ株式会社製ハードコート液（商品名：ＨＣ６０Ｓ））を塗布して塗布層を形成し、この塗布層を加熱により硬化させてハードコート層（硬化層）を設けた。
２．レジストパターン形成工程
（インクの調製）
　サンプル瓶に、ポリエチレングリコールジアクリレート（平均付加モル数１４，ＣＡＳ　Ｎｏ．２６５７０－４８－９）５質量部、メトキシトリエチレングリコールアクリレート（ＣＡＳ　Ｎｏ.４８０６７－７２－７）３５質量部および水１６質量部を加え、撹拌した。その後、プロピレングリコール１８質量部を加え、更に撹拌した。更に、１質量％ＮａＯＨ水溶液を添加し、ｐＨを調整した。その後更に、光重合開始剤として、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン（ＣＡＳ　Ｎｏ．１０６７９７－５３－９）５質量部を添加して撹拌し、２０質量％のポリビニルピロリドン水溶液（重量平均分子量１０，０００，ＣＡＳ　Ｎｏ．９００３－３９－８）１７．５質量部を添加し撹拌して、フィルタリングを行って不溶分を取り除き、ｐＨ７のインクを得た。得られたインクは、粘度１４．５ｍＰａ・ｓ、接触角５０°であった。
　インクのｐＨは、温度２５℃の条件下、ｐＨメーター（株式会社堀場製作所製Ｆ－５５）を用い、ガラス電極法により測定した。
　インクの粘度は、ＪＩＳ　Ｚ　８８０３：２０１１に準拠して、温度２５℃の条件下、音叉型振動式粘度計（株式会社エー・アンド・ディー製ＳＶ－１０）で測定した。
　上記接触角は、上記の硬化層形成工程と同様に眼鏡用レンズ基材上に形成したハードコート層の表面に上記インクを滴下し、ＪＩＳ　Ｒ　３２５７：１９９０　６．静滴法に記載の方法により測定した。
（レジストパターンの形成）
　上記１．で形成したハードコート層の表面に、上記で調製したインクを、ノズル（京セラ株式会社製ＫＪ４Ａ）を装着したインクジェット装置により、９６００×６００ｄｐｉのドット密度で、印字幅１０８ｍｍで、ドット間隔０．４３２ｎｍ、ドット直径０．３２３ｎｍの格子状のドットとしてハードコート層の表面の全面に塗布した。１ドットあたりの液滴量は、２４００ｐｌとした。レジストパターンの形成後、紫外線照射装置（ウシオ電機株式会社製ＵＶＸ－０１２１２Ｓ1ＣＳ０１）により、紫外線を照射しインクを硬化させてレジストパターンを形成した。レジストパターンは、円状のドットとして、格子欠陥なく形成できた。
３．連続積層構造形成工程
　上記硬化後、真空蒸着装置において、ハードコート層表面に対して、酸素イオンによるイオンクリーニングを実施した。イオンクリーニングの処理条件は、加速電圧３５０Ｖ、電流１８０ｍＡ、Ｏ２導入流量１０ｓｃｃｍ、Ａｒ導入流量１０ｓｃｃｍ、処理時間４５ｓｅｃとした。続いて、酸化ケイ素層を蒸着し（Ｅｍｉ．電流：１５５ｍＡ）、金属層としてクロム層を蒸着し（Ｅｍｉ．電流：３８ｍＡ）、酸化ケイ素層を更に蒸着し（Ｅｍｉ．電流：１５５ｍＡ）、酸化ケイ素層（連続層）、クロム層（連続層）および酸化ケイ素層（連続層）がこの順に積層された連続積層構造を形成した。
４．剥離工程
　上記３．で連続積層構造を形成した眼鏡用レンズ基材を、図８に示す処理装置８のステージ８２に載置し、回転させ、その表面に乾燥条件下でメラミン樹脂フォーム８１２を５秒間押し当て物理的剥離を行い、その後、回転を止め物理的剥離が行われた表面に付着した剥離屑を粘着テープで除去し、続いてその表面を水洗し乾燥させた。
　こうして、眼鏡用レンズ基材上に形成されたハードコート層の表面に、第１の金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）、金属層（膜厚１０ｎｍのクロム層）および第２の金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）からなる３層構成のパターン層を形成した。
［実施例２］
　剥離工程を、上記剥離屑の除去後に眼鏡用レンズ基材処理装置８のステージ８２上で回転させ、その表面に水を含ませたメラミン樹脂フォーム８１２を押し当てて、最後にエアーを吹き付けて乾燥させて行った点以外、実施例１と同様にして、眼鏡用レンズ基材上に形成されたハードコート層の表面に、第１の金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）、金属層（膜厚１０ｎｍのクロム層）および第２の金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）からなる３層構成のパターン層を形成した。
　実施例１、２の各眼鏡レンズのパターン層を光学顕微鏡で観察したところ、パターン層表面にキズや変質は確認されず、パターン層の部分的な剥離も見られなかった。
　実施例１、２の各眼鏡レンズを真空蒸着装置内に配置し、この装置内でパターン層が形成されたハードコート層表面に対して、酸素イオンによるイオンクリーニングを実施した。イオンクリーニングの処理条件は、加速電圧３５０Ｖ、加速電流１８０ｍＡ、Ｏ２導入流量１０ｓｃｃｍ、Ａｒ導入流量１０ｓｃｃｍ、処理時間４５ｓｅｃとした。
　イオンクリーニング前後にそれぞれ波長３８０～７８０ｎｍにおける平均透過率を求め、「｛（イオンクリーニング後の平均透過率－イオンクリーニング前の平均透過率）／イオンクリーニング前の平均透過率｝×１００」として可視光透過率変化率を算出したところ、実施例１、２の各眼鏡レンズにおいて、可視光透過率変化率は０．５％以下であり、パターン層の酸化による透過率変化が抑制されていることが確認された。
［比較例１］
　上記３．で連続層としてクロム層のみを形成した点以外、実施例１と同様にして、眼鏡用レンズ基材上に形成されたハードコート層の表面に、金属層（膜厚１０ｎｍのクロム層）の単層からなるパターン層を形成した。
　比較例１の眼鏡レンズのパターン層を光学顕微鏡で観察したところ、パターン層表面のキズやパターン層の部分的な剥離が見られた。これら光学的欠陥（キズおよび部分的な剥離）は、眼鏡レンズの可視光透過率を変化させる原因となる。
［比較例２］
　上記３．で、クロム層上への酸化ケイ素層の蒸着を行わなかった点以外、実施例１と同様にして、眼鏡用レンズ基材上に形成されたハードコート層の表面に、金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）と金属層（膜厚１０ｎｍのクロム層）の２層からなるパターン層を形成した。
　比較例２の眼鏡レンズのパターン層を光学顕微鏡で観察したところ、パターン層表面にキズが見られた。この光学的欠陥（キズ）は、眼鏡レンズの可視光透過率を変化させる原因となる。
　最後に、前述の各態様を総括する。
　一態様によれば、レンズ基材上に硬化層を有し、上記硬化層上に複数の層が積層された積層構造を有するパターン層を有し、上記パターン層は上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、金属層と、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層とを含む眼鏡レンズが提供される。
　上記眼鏡レンズは、レンズ基材上に設けられた硬化層上に金属層を含むパターン層を有する眼鏡レンズであって光学的欠陥発生の抑制が可能である。
　一態様では、上記パターン層は、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、上記金属酸化物層の表面に直接積層された金属層と、上記金属層の表面に直接積層された金属酸化物層と、からなることができる。
　一態様では、上記金属層は、クロム層、モリブデン層、タングステン層、鉄層、コバルト層、ニッケル層、銅層、銀層および金層からなる群から選択される金属層であることができる。
　一態様では、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層および酸化タンタル層からなる群から選択される金属酸化物層であることができる。
　一態様では、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層の厚みは、１～１００ｎｍの範囲であることができる。
　一態様では、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層および酸化タンタル層からなる群から選択される金属酸化物層であることができる。
　一態様では、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層の厚みは、１～１００ｎｍの範囲であることができる。
　一態様によれば、上記眼鏡レンズを備えた眼鏡が提供される。
　一態様によれば、上記眼鏡レンズの製造方法であって、レンズ基材上に設けられた硬化層の表面にレジストパターンを形成すること、および上記レジストパターンが形成された硬化層の表面上に積層構造を有する連続層を形成することを含み、上記積層構造を有する連続層は、上記レジストパターンが形成された硬化層の表面に直接積層された金属酸化物の連続層と、金属の連続層と、上記連続積層構造の最表層に位置する金属酸化物の連続層とを含み、上記パターン層を、上記積層構造を有する連続層の形成後に上記レジストパターンを除去することによって、上記積層構造を有する連続層の上記レジストパターン上に形成された部分を剥離することにより形成することを更に含む眼鏡レンズの製造方法が提供される。
　一態様では、上記レジストパターンの除去は、物理的剥離を含むことができる。
　一態様では、上記製造方法は、上記パターン層が形成された上記硬化層の表面に、酸素イオンによるイオンクリーニングを施すことを含むことができる。
　本明細書に記載の各種態様は、任意の組み合わせで２つ以上を組み合わせることができる。
　今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

Claims (11)

  1. レンズ基材上に硬化層を有し、
    前記硬化層上に、複数の層が積層された積層構造を有するパターン層を有し、
    前記パターン層は、前記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、金属層と、前記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層と、を含む、眼鏡レンズ。
  2. 前記パターン層は、前記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、前記金属酸化物層の表面に直接積層された金属層と、前記金属層の表面に直接積層された金属酸化物層と、からなる、請求項１に記載の眼鏡レンズ。
  3. 前記金属層は、クロム層、モリブデン層、タングステン層、鉄層、コバルト層、ニッケル層、銅層、銀層および金層からなる群から選択される金属層である、請求項１または２に記載の眼鏡レンズ。
  4. 前記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層および酸化タンタル層からなる群から選択される金属酸化物層である、請求項１～３のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
  5. 前記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層の厚みは、１～１００ｎｍの範囲である、請求項１～４のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
  6. 前記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層および酸化タンタル層からなる群から選択される金属酸化物層である、請求項１～５のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
  7. 前記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層の厚みは、１～１００ｎｍの範囲である、請求項１～６のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
  8. 請求項１～７のいずれか１項に記載の眼鏡レンズを備えた眼鏡。
  9. 請求項１～７のいずれか１項に記載の眼鏡レンズの製造方法であって、
    レンズ基材上に設けられた硬化層の表面にレジストパターンを形成すること、および
    前記レジストパターンが形成された硬化層の表面上に積層構造を有する連続層を形成すること、
    を含み、
    前記積層構造を有する連続層は、前記レジストパターンが形成された硬化層の表面に直接積層された金属酸化物の連続層と、金属の連続層と、前記連続積層構造の最表層に位置する金属酸化物の連続層と、を含み、
    前記パターン層を、前記積層構造を有する連続層の形成後に前記レジストパターンを除去することによって、前記積層構造を有する連続層の前記レジストパターン上に形成された部分を剥離することにより形成することを更に含む眼鏡レンズの製造方法。
  10. 前記レジストパターンの除去は、物理的剥離を含む、請求項９に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  11. 前記パターン層が形成された前記硬化層の表面に、酸素イオンによるイオンクリーニングを施すことを含む、請求項９または１０に記載の眼鏡レンズの製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021108843A1 (en) * 2019-12-01 2021-06-10 Nthalmic Holding Pty Ltd Ophthalmic lens designs with non-refractive features
WO2021174290A1 (en) * 2020-03-01 2021-09-10 Nthalmic Holding Pty Ltd Optical films with non-refractive opaque features to transform single vision ophthalmic lenses into myopia management ophthalmic lenses

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020114527B4 (de) * 2020-05-29 2023-11-30 Infineon Technologies Ag Chipgehäuse und verfahren zum bilden eines chipgehäuses

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09153462A (ja) * 1995-12-01 1997-06-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置製造方法
JP2002214570A (ja) * 2001-01-17 2002-07-31 Sakusan:Kk 眼鏡用レンズ及びその製造方法
JP2003007674A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP2008055253A (ja) 2006-08-29 2008-03-13 Nidek Co Ltd コーティング方法
WO2008080020A1 (en) * 2006-12-22 2008-07-03 Roger Hsu Layered lenses and method of layering lenses
JP2012128135A (ja) 2010-12-15 2012-07-05 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
WO2016125808A1 (ja) * 2015-02-03 2016-08-11 株式会社ジェイアイエヌ 焦点調節補助レンズ
WO2017018299A1 (ja) * 2015-07-30 2017-02-02 日立化成株式会社 感光性エレメント、バリア層形成用樹脂組成物、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3991234A (en) * 1974-09-30 1976-11-09 American Optical Corporation Process for coating a lens of synthetic polymer with a durable abrasion resistant vitreous composition
JP4482971B2 (ja) * 1999-09-08 2010-06-16 株式会社ニコン 反射鏡
EP1354225A2 (en) 2001-01-25 2003-10-22 Jax Holdings, Inc. Multi-layer thin film optical filter arrangement
US6886937B2 (en) * 2003-06-20 2005-05-03 Vision - Ease Lens, Inc. Ophthalmic lens with graded interference coating
JPWO2008133136A1 (ja) * 2007-04-16 2010-07-22 コニカミノルタオプト株式会社 反射鏡
JP5867794B2 (ja) * 2009-03-13 2016-02-24 イーエイチエス レンズ フィリピン インク 眼鏡レンズの製造方法および光学物品の製造方法
WO2012118086A1 (ja) * 2011-02-28 2012-09-07 Hoya株式会社 光学レンズ
JP6113412B2 (ja) * 2011-02-28 2017-04-12 Hoya株式会社 光学レンズの製造方法
CN102529208A (zh) * 2011-12-19 2012-07-04 吴志民 一种镜片及其镀膜制造方法
FR3054043B1 (fr) * 2016-07-18 2018-07-27 Essilor Int Procede de marquage permanent visible d'article optique et article optique marque
CN107664855B (zh) * 2017-08-04 2019-12-24 江苏明月光电科技有限公司 一种隐形网格防眩光镜片制造工艺

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09153462A (ja) * 1995-12-01 1997-06-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置製造方法
JP2002214570A (ja) * 2001-01-17 2002-07-31 Sakusan:Kk 眼鏡用レンズ及びその製造方法
JP2003007674A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP2008055253A (ja) 2006-08-29 2008-03-13 Nidek Co Ltd コーティング方法
WO2008080020A1 (en) * 2006-12-22 2008-07-03 Roger Hsu Layered lenses and method of layering lenses
JP2012128135A (ja) 2010-12-15 2012-07-05 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
WO2016125808A1 (ja) * 2015-02-03 2016-08-11 株式会社ジェイアイエヌ 焦点調節補助レンズ
WO2017018299A1 (ja) * 2015-07-30 2017-02-02 日立化成株式会社 感光性エレメント、バリア層形成用樹脂組成物、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 106797-53-9
See also references of EP3779570A4

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021108843A1 (en) * 2019-12-01 2021-06-10 Nthalmic Holding Pty Ltd Ophthalmic lens designs with non-refractive features
WO2021174290A1 (en) * 2020-03-01 2021-09-10 Nthalmic Holding Pty Ltd Optical films with non-refractive opaque features to transform single vision ophthalmic lenses into myopia management ophthalmic lenses
AU2021229904A1 (en) * 2020-03-01 2022-09-08 Nthalmic Holding Pty Ltd Optical films with non-refractive opaque features to transform single vision ophthalmic lenses into myopia management ophthalmic lenses
AU2021229904B2 (en) * 2020-03-01 2023-04-06 Nthalmic Holding Pty Ltd Optical films with non-refractive opaque features to transform single vision ophthalmic lenses into myopia management ophthalmic lenses

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